JPS644122B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS644122B2
JPS644122B2 JP16791279A JP16791279A JPS644122B2 JP S644122 B2 JPS644122 B2 JP S644122B2 JP 16791279 A JP16791279 A JP 16791279A JP 16791279 A JP16791279 A JP 16791279A JP S644122 B2 JPS644122 B2 JP S644122B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
video signal
mask line
vertical
horizontal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP16791279A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5690202A (en
Inventor
Yasuo Hongo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Electric Co Ltd filed Critical Fuji Electric Co Ltd
Priority to JP16791279A priority Critical patent/JPS5690202A/en
Publication of JPS5690202A publication Critical patent/JPS5690202A/en
Publication of JPS644122B2 publication Critical patent/JPS644122B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Closed-Circuit Television Systems (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、物品の自動外観検査装置、仕分け装
置その他の画像処理装置に好適に使用できるマス
ク線切断情報発生回路に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a mask line cutting information generating circuit that can be suitably used in an automatic visual inspection device for articles, a sorting device, and other image processing devices.

従来、2次元的配列から構成される光学的、電
気的、磁気的その他の2次元画像情報を処理する
画像処理装置が物品の自動外観検査などに使用さ
れている。この種処理装置は一般に、適宜回数の
水平走査を垂直方向に繰返して2次元パターンを
取込む画像入力手段、この画像入力手段からのビ
デオ信号を量子化して量子化ビデオ信号を発生す
る手段及びこの量子化ビデオ信号を処理するため
の処理手段を備えている。さらにこれらの画像処
理装置の多くは、処理精度を高めるためのマスク
領域発生手段を備えている。すなわち、このマス
ク領域発生手段は設定したマスク領域の外側の位
置に対応するビデオ信号又は量子化ビデオ信号を
遮断して、非検査対象による雑音を除去し、処理
精度の向上を図るものである。従来装置はマスク
の適否を検知する回路を有しておらず、物品の位
置がばらついてマスク領域内に非検査対象が入込
んだり、あるいは検査対象がマスク領域からはみ
出したりすると、実際には良品であるにもかゝわ
らず不良品と判断される虞れがあり、検査精度の
低下をきたすという欠点があつた。
2. Description of the Related Art Conventionally, image processing apparatuses that process optical, electrical, magnetic, and other two-dimensional image information constituted by a two-dimensional array have been used for automatic visual inspection of articles and the like. This type of processing device generally includes an image input means for capturing a two-dimensional pattern by repeating horizontal scanning an appropriate number of times in the vertical direction, means for quantizing the video signal from the image input means to generate a quantized video signal, and a means for generating a quantized video signal by quantizing the video signal from the image input means. Processing means are provided for processing the quantized video signal. Furthermore, many of these image processing apparatuses are equipped with mask area generation means to improve processing accuracy. That is, this mask area generating means blocks the video signal or quantized video signal corresponding to a position outside the set mask area, removes noise caused by non-inspection objects, and improves processing accuracy. Conventional equipment does not have a circuit to detect the suitability of the mask, and if the position of the item varies and a non-inspected object enters the mask area, or if the object to be inspected protrudes from the mask area, it may actually be a non-defective item. Despite this, there is a risk that the product will be judged as defective, resulting in a reduction in inspection accuracy.

この発明は上述した従来欠点に鑑みてなされた
ものであり、その目的とするところは、設定され
ているマスクの適否を検知し、さらに必要に応じ
て行うマスクの自動再設定のための判断資料とな
るマスクの不適切さの度合を定量的に表示するこ
とができるマスク線切断情報発生回路を提供する
ことにある。以下本発明の詳細を図面によつて説
明する。
This invention was made in view of the above-mentioned conventional drawbacks, and its purpose is to detect the suitability of a set mask and to provide judgment data for automatically resetting the mask if necessary. An object of the present invention is to provide a mask line cutting information generating circuit that can quantitatively display the degree of inappropriateness of a mask. The details of the present invention will be explained below with reference to the drawings.

第1図は、本発明の原理を説明するための概念
図である。最も外側の矩形で囲んだ部分は有効画
面であり、その内部には検査対象1のほかに非検
査対象2及び3が含まれている。従つてこれらの
非検査対象を遮蔽するための適切なマスク領域を
設定する必要がある。しかし図示のように、実際
に設定されているマスク領域ABCDは大きすぎ
て非検査対象2及び3の一部を含んでいる。これ
とは逆にマスク領域ABCDが小さすぎると、検
査対象1がマスク領域からはみ出してしまつて不
適切である。
FIG. 1 is a conceptual diagram for explaining the principle of the present invention. The area surrounded by the outermost rectangle is the effective screen, and the inside thereof includes the inspection object 1 as well as the non-inspection objects 2 and 3. Therefore, it is necessary to set an appropriate mask area to shield these non-inspection objects. However, as shown in the figure, the actually set mask area ABCD is too large and includes part of the non-inspection objects 2 and 3. On the contrary, if the mask area ABCD is too small, the inspection object 1 will protrude from the mask area, which is inappropriate.

本発明は、マスク領域の設定が不適切でありし
かも極端に不適切でなければ、検査対象もしくは
非検査対象によるマスク線の切断又はマスク線へ
の接触が必ず生ずる点に着目したものである。マ
スク領域の設定が大幅にずれてしまつて非検査対
象のすべてを含むときには、このようなマスク線
の切断が生じない。しかし、対象の位置又は寸法
のばらつきは通常比較的小幅であるから、マスク
線の切断情報はマスクの適否を判定するうえで有
効な情報となる。
The present invention focuses on the point that if the setting of the mask area is inappropriate, but not extremely inappropriate, the mask line will inevitably be cut or touched by the object to be inspected or the object not to be inspected. If the setting of the mask area is significantly shifted to include all non-inspection objects, such cutting of the mask line will not occur. However, since the variation in the position or size of the object is usually relatively small, the cutting information of the mask line is effective information in determining the suitability of the mask.

第2図及び第3図は、本発明の一実施例のブロ
ツク図及びこの回路の動作を説明するための波形
図である。マスク線座標ラツチ回路10,11,
12及び13はそれぞれCPU19よりバス20
を介して予じめ与えられるマスク線座標X1、X2
Y1及びY2(第1図参照)をラツチしており、ラツ
チした各マスク線座標をマスク線信号発生回路1
4に供給する。マスク線信号発生回路14は、供
給された各マスク線座標及び基本クロツク回路1
5から供給される基本クロツク信号をカウントす
る水平座標カウンタ40と、この水平座標カウン
タ40から1水平走査分のカウントの終了毎に出
力される信号をカウントする垂直座標カウンタ4
1と、水平座標カウンタ40のカウント値とラツ
チ回路10,11にラツチされているマスク線座
標X1、X2とを比較するコンパレータ42,43
と、垂直座標カウンタ41のカウント値とラツチ
回路12,13にラツチされているマスク線座標
Y1、Y2とを比較するコンパレータ44,45と
から構成されている。各コンパレータ42〜45
はカウンタ40あるいは41のカウント値がラツ
チ回路に入力されている座標値に一致すると第3
図に示すようなマスク線信号AB,BC,CD及び
DAを発生する。マスク線信号BC及びDAは通常
用いられているマスク信号そのものであり、これ
に対してマスク線信号AB及びCDは、それぞれ
通常のマスク信号立上り及び立下り点を表示する
クロツク幅程度の幅を有するパルスである。これ
らの各マスク線信号は、アンドゲート20,2
1,22及び23のそれぞれの第1の入力端子に
供給される。
FIGS. 2 and 3 are a block diagram of an embodiment of the present invention and waveform diagrams for explaining the operation of this circuit. Mask line coordinate latch circuits 10, 11,
12 and 13 are each bus 20 from CPU 19
Mask line coordinates X 1 , X 2 , given in advance via
Y 1 and Y 2 (see Figure 1) are latched, and each latched mask line coordinate is sent to the mask line signal generation circuit 1.
Supply to 4. The mask line signal generation circuit 14 receives the supplied mask line coordinates and the basic clock circuit 1.
a horizontal coordinate counter 40 that counts the basic clock signal supplied from the horizontal coordinate counter 40, and a vertical coordinate counter 4 that counts the signal output from the horizontal coordinate counter 40 every time the count for one horizontal scan is completed.
1, and comparators 42 and 43 that compare the count value of the horizontal coordinate counter 40 and the mask line coordinates X 1 and X 2 latched in the latch circuits 10 and 11.
, the count value of the vertical coordinate counter 41 and the mask line coordinates latched in the latch circuits 12 and 13.
It is composed of comparators 44 and 45 that compare Y 1 and Y 2 . Each comparator 42 to 45
When the count value of the counter 40 or 41 matches the coordinate value input to the latch circuit, the third
Mask line signals AB, BC, CD and
Generate DA. The mask line signals BC and DA are normally used mask signals themselves, whereas the mask line signals AB and CD have a width approximately equal to the clock width that indicates the rise and fall points of the normal mask signal, respectively. It's a pulse. Each of these mask line signals is passed through the AND gates 20, 2
1, 22 and 23, respectively.

また、水平座標カウンタ40から1水平走査分
のカウントの終了毎に出力される信号と、垂直座
標カウンタ41から1画面分のカウントの終了毎
に出力される信号とがカメラ外部同期信号発生回
路18に入力され、これらの信号に基づいてカメ
ラ外部同期信号発生回路18は画像入力手段16
に対して水平及び垂直走査の同期信号を出力す
る。
Further, a signal outputted from the horizontal coordinate counter 40 every time the count for one horizontal scan is completed, and a signal outputted from the vertical coordinate counter 41 every time the count for one screen is completed are transmitted to the camera external synchronization signal generation circuit 18. and based on these signals, the camera external synchronization signal generation circuit 18 outputs the image input means 16.
outputs synchronization signals for horizontal and vertical scanning.

一方画像入力装置16に取込まれたビデオ信号
は、量子化回路17によつて量子化されたのち、
アンドゲート20,21,22及び23のそれぞ
れの第2の入力端子に入力する。アンドゲート2
0,21,22及び23の出力は、それぞれカウ
ンタ回路30,31,32及び33に供給され
る。これらのカウンタ回路はいずれも基本クロツ
ク回路15から供給される基本クロツク信号を受
け、対応のアンドゲートの出力が論理の“1”と
なつている期間内に受けたクロツクの個数をカウ
ントする。各カウンタ回路30乃至33は1垂直
走査期間にわたつてカウントしたカウント総数
NX1、NX2、NY1及びNY2を当該マスク線切断
情報発生回路の外部に出力する。上記のカウント
値NX1乃至NY2は対象によるマスク線の切断長
情報となつている。
On the other hand, the video signal taken into the image input device 16 is quantized by the quantization circuit 17, and then
It is input to the second input terminal of each of AND gates 20, 21, 22 and 23. and gate 2
The outputs of 0, 21, 22 and 23 are supplied to counter circuits 30, 31, 32 and 33, respectively. Each of these counter circuits receives a basic clock signal supplied from the basic clock circuit 15, and counts the number of clocks received during the period when the output of the corresponding AND gate is logic "1". Each counter circuit 30 to 33 counts the total number of counts over one vertical scanning period.
Output NX1, NX2, NY1, and NY2 to the outside of the mask line cutting information generation circuit. The above count values NX1 to NY2 are information on the cutting length of the mask line depending on the target.

これらマスク線切断長情報NX1乃至NY2は、
画像処理装置内の他の部分に供給され、設定中の
マスクの適否、マスク再設定の際の判断基準等と
して利用される。例えば、これらマスク線切断長
情報NX1等は画像処理装置内の比較回路に供給
されて予め設定されている許容値との比較が行わ
れる。切断長情報NX1等が許容値を越えたとき、
画像処理装置は処理を中断し、マスク設定不良を
適宜な方法により外部に報知することもできる。
あるいは、画像処理装置は、切断長信号が許容値
を越えると、該切断長の変化を監視しながら試行
錯誤的にマスク線座標を変えることにより、適切
なマスクを再設定することもできる。また、マス
ク切断の有無だけを知りたい場合には、第2図の
カウンタ回路30乃至33のかわりに1ビツトの
ラツチ回路を設け、回路の簡略化を図ることもで
きる。
These mask line cutting length information NX1 to NY2 are
The data is supplied to other parts of the image processing apparatus and used as a criterion for determining whether or not the mask being set is appropriate and when resetting the mask. For example, the mask line cutting length information NX1 and the like are supplied to a comparison circuit within the image processing device and compared with a preset tolerance value. When cutting length information NX1 etc. exceeds the allowable value,
The image processing device can also interrupt the processing and notify the outside of the mask setting defect by an appropriate method.
Alternatively, when the cutting length signal exceeds a permissible value, the image processing device can reset an appropriate mask by changing the mask line coordinates by trial and error while monitoring changes in the cutting length. Furthermore, if it is desired to know only whether or not the mask has been cut, a 1-bit latch circuit can be provided in place of the counter circuits 30 to 33 in FIG. 2 to simplify the circuit.

以上詳細に説明したように本発明は、マスク線
信号と量子化ビデオ信号とのアンド操作を行うと
いう簡易な構成によつてマスク切断情報を発生す
ることができるので、本発明の装置を画像処理装
置に使用し画像の処理精度の向上に寄与すること
ができる。
As explained in detail above, the present invention can generate mask cutting information with a simple configuration of performing an AND operation between a mask line signal and a quantized video signal, so that the apparatus of the present invention can be used for image processing. It can be used in devices to contribute to improving image processing accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の原理を説明するための概念
図、第2図は本発明の一実施例のブロツク図、第
3図は第2図の動作を説明するための波形図であ
る。 10乃至13……マスク線座標ラツチ回路、1
4……マスク線信号発生回路、15……基本クロ
ツク信号発生回路、16……画像入力手段、17
……量子化回路、20乃至23……アンドゲー
ト、30乃至33……カウンタ回路。
FIG. 1 is a conceptual diagram for explaining the principle of the present invention, FIG. 2 is a block diagram of an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a waveform diagram for explaining the operation of FIG. 10 to 13...Mask line coordinate latch circuit, 1
4... Mask line signal generation circuit, 15... Basic clock signal generation circuit, 16... Image input means, 17
... Quantization circuit, 20 to 23 ... AND gate, 30 to 33 ... Counter circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 適宜回数の水平走査を垂直方向に繰返して2
次元パターンを取込む画像入力手段、該画像入力
手段からのビデオ信号を量子化して量子化ビデオ
信号を発生する手段、前記ビデオ信号又は最子化
ビデオ信号をマスクするためのマスク信号の水平
方向及び垂直方向の端部を表示する水平方向及び
垂直方向のマスク線パルスを発生する手段、垂直
走査期間にわたつて前記量子化ビデオ信号及び前
記水平方向のマスク線パルスの論理積をとる論理
手段、並びに、前記量子化ビデオ信号及び前記垂
直方向のマスク線パルスの論理積をとる論理手段
を具備したことを特徴とするマスク線切断情報発
生回路。
1 Repeat the horizontal scan an appropriate number of times in the vertical direction and 2
an image input means for capturing a dimensional pattern; means for quantizing a video signal from the image input means to generate a quantized video signal; a horizontal direction and a mask signal for masking the video signal or the minimized video signal; means for generating horizontal and vertical mask line pulses indicative of vertical edges; logic means for ANDing the quantized video signal and the horizontal mask line pulses over a vertical scan period; , a mask line cutting information generating circuit comprising logic means for performing a logical product of the quantized video signal and the vertical mask line pulse.
JP16791279A 1979-12-24 1979-12-24 Mask cut information generating circuit Granted JPS5690202A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16791279A JPS5690202A (en) 1979-12-24 1979-12-24 Mask cut information generating circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16791279A JPS5690202A (en) 1979-12-24 1979-12-24 Mask cut information generating circuit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5690202A JPS5690202A (en) 1981-07-22
JPS644122B2 true JPS644122B2 (en) 1989-01-24

Family

ID=15858348

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16791279A Granted JPS5690202A (en) 1979-12-24 1979-12-24 Mask cut information generating circuit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5690202A (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4468695A (en) * 1980-11-20 1984-08-28 Tokico Ltd. Robot

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5690202A (en) 1981-07-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4794647A (en) Automatic optical inspection system
US4056716A (en) Defect inspection of objects such as electronic circuits
JPH02140884A (en) Image processing method and apparatus
JPH03232250A (en) Method and device for inspecting pattern
JPH0799547B2 (en) Automatic inspection method for periodic patterns
EP0488031B1 (en) Method of and apparatus for inspecting a printed circuit board
JPH05505676A (en) web inspection system
JPS644122B2 (en)
US4209830A (en) Fine object having position and direction sensing mark and a system for detecting the position and direction of the sensing mark
EP0610956A2 (en) Container inner surface tester
JP2003203218A (en) Visual inspection device and method
KR100472776B1 (en) Reviewing method of wafer defect
JP2536727B2 (en) Pattern inspection device
JPH0680418B2 (en) Foreign matter inspection device
JPH05231842A (en) Shape pattern inspection method and device
CA1229898A (en) Automatic optical inspection system
SU1718251A1 (en) Object pattern flaw recognizer
JPS62168038A (en) Inspecting method for surface defect
JP2000294139A (en) Method and device for detecting defect of periodic pattern
JPS60250629A (en) Inspecting method of mask
JPH01263774A (en) Omission checking method for picture processing
Hoang et al. Performance evaluation of a low cost vision-based inspection system
JPS62274209A (en) Pattern moving device
JPS62145491A (en) Measuring method for number of holes
JPS6265181A (en) Method for checking nick by picture processing