JPS6415927U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6415927U JPS6415927U JP10642187U JP10642187U JPS6415927U JP S6415927 U JPS6415927 U JP S6415927U JP 10642187 U JP10642187 U JP 10642187U JP 10642187 U JP10642187 U JP 10642187U JP S6415927 U JPS6415927 U JP S6415927U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- housing
- concentration distribution
- filter
- laser beam
- distribution filter
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Measurement Of Mechanical Vibrations Or Ultrasonic Waves (AREA)
Description
第1図はこの考案の一実施例を示す部分断面略
線図、第2図は濃度分布フイルタの特性を例示す
る図、第3図は従来例を示す部分断面図である。 11……ハウジング、12……弾性手段、13
……濃度分布フイルタ、14……発光素子、15
,18……光フアイバ、16,19……光コネク
タ、17……受光素子。
線図、第2図は濃度分布フイルタの特性を例示す
る図、第3図は従来例を示す部分断面図である。 11……ハウジング、12……弾性手段、13
……濃度分布フイルタ、14……発光素子、15
,18……光フアイバ、16,19……光コネク
タ、17……受光素子。
Claims (1)
- ハウジング11と、このハウジング内に弾性支
持した濃度分布フイルタ13と、ハウジングに連
結されて、濃度分布フイルタを横切る方向へレー
ザ光線を出力する発光素子14と、これもまたハ
ウジングに連絡され、濃度分布フイルタを通過し
たレーザ光線を受ける受光素子17とを具えてな
る振動センサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10642187U JPS6415927U (ja) | 1987-07-13 | 1987-07-13 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10642187U JPS6415927U (ja) | 1987-07-13 | 1987-07-13 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6415927U true JPS6415927U (ja) | 1989-01-26 |
Family
ID=31339917
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10642187U Pending JPS6415927U (ja) | 1987-07-13 | 1987-07-13 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6415927U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7615132B2 (en) | 2003-10-17 | 2009-11-10 | Hitachi High-Technologies Corporation | Plasma processing apparatus having high frequency power source with sag compensation function and plasma processing method |
-
1987
- 1987-07-13 JP JP10642187U patent/JPS6415927U/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7615132B2 (en) | 2003-10-17 | 2009-11-10 | Hitachi High-Technologies Corporation | Plasma processing apparatus having high frequency power source with sag compensation function and plasma processing method |