JPS6391376A - Sulfonylisothiourea derivative - Google Patents

Sulfonylisothiourea derivative

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JPS6391376A
JPS6391376A JP23879086A JP23879086A JPS6391376A JP S6391376 A JPS6391376 A JP S6391376A JP 23879086 A JP23879086 A JP 23879086A JP 23879086 A JP23879086 A JP 23879086A JP S6391376 A JPS6391376 A JP S6391376A
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JP
Japan
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group
compound
reaction
salt
acid
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JP23879086A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Kuragano
隆 倉賀野
Yoshiyuki Okada
嘉之 岡田
Isao Aoki
勲 青木
Nobuyuki Okajima
伸之 岡島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Takeda Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Takeda Chemical Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

NEW MATERIAL:The compound of formula I [R1 is (substituted)phenyl, (substituted)benzyl or (substituted)pyrazole group; R2 and R3 are lower alkyl or lower alkoxy; Z is CH or N] or its salt. EXAMPLE:N<1>,N<3>-bis(4, 6-dimethoxy-2-pyrimidinyl)-N<2>,N<4>-bis[(2-methoxycarbonyl benzyl)sulfonyl]-alpha,alpha'-dithio-bisformamidine. USE:A herbicide having low toxicity. PREPARATION:The compound of formula III [e.g. N-(4,6-dimethoxy-2- pyrimidinyl))-N'-(2-methoxycarbonylbenzylsulfonyl)thiourea] is made to contact with an oxidizing agent (e.g. halogen) preferably in an inert solvent to effect dehydrogenation reaction.

Description

【発明の詳細な説明】 」」直尖利肛分毀 本発明は、低毒性でしかも優れた除草作用を有する新規
なスルホニルイソチオウレア誘導体に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a novel sulfonylisothiourea derivative having low toxicity and excellent herbicidal activity.

本発明のスルホニルイソチオウレア誘導体(下は、除草
剤として用いられる。
The sulfonylisothiourea derivatives of the present invention (see below) are used as herbicides.

従来技術 これまで除草活性を有するスルホニルイソチオウレア誘
導体が報告されている(例えば特開昭56−65886
、同54−157579など)が、本発明のスルホニル
イソチオウレア誘導体は全く記載されていない。
Prior Art Until now, sulfonylisothiourea derivatives having herbicidal activity have been reported (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-65886).
, No. 54-157579, etc.), but the sulfonylisothiourea derivative of the present invention is not described at all.

発明が解決しようとする間−点 除草剤として多数の薬剤が使用されてきているが、哺乳
動物や魚貝類に対する毒性、雑草に対する殺草効果、環
境汚染の面などでまだ十分とはいえない。したがって毒
性が少なく、しかも雑草に対して殺草効果を示すいわゆ
る低毒性除草剤の出現が望まれている。
While many chemicals have been used as spot herbicides, they are still not sufficient in terms of toxicity to mammals, fish and shellfish, herbicidal effects on weeds, and environmental pollution. Therefore, there is a desire for the emergence of so-called low-toxicity herbicides that are less toxic and exhibit herbicidal effects against weeds.

問題点を解決するための手段 本発明は低毒性でしかも優れた殺草活性を有する一般式 %式% 苦:@されていてtlよいベンジル基または置換されて
いてもよいピラゾール基を、Rs、Rsは低級アルキル
基または低級アルコキシ基を、ZはCHまたはNをそれ
ぞれ示す]で表わされる化合物またはその塩に関する。
Means for Solving the Problems The present invention provides a benzyl group or an optionally substituted pyrazole group having low toxicity and excellent herbicidal activity with the general formula %, Rs, Rs represents a lower alkyl group or a lower alkoxy group, and Z represents CH or N, respectively] or a salt thereof.

本発明の化合物[1]またはその塩は、イソチオウレア
骨格の硫黄原子上でスルホニルイソチオウレアが二分子
縮合した構造を有する点に構造上の特徴が有り、この特
定の化学構造に基づいて、低毒性で水田、畑地、非農耕
地等の雑草に対して優れた除草効果を示す。
The compound [1] of the present invention or a salt thereof has a structural feature in that it has a structure in which two molecules of sulfonylisothiourea are condensed on the sulfur atom of the isothiourea skeleton, and based on this specific chemical structure, it has a low It is toxic and exhibits excellent herbicidal effects against weeds in rice fields, fields, non-agricultural lands, etc.

本発明は、このような優れた特徴を有する化合物[T]
またはその塩を提供するものである。
The present invention provides a compound [T] having such excellent characteristics.
or its salt.

上記一般式中、R3で示される置換されていてもよいフ
ェニル基、置換されていてもよいベンジル基はベンゼン
環の任意の位置で任意の置換基で1ないし5個、好まし
くは1ないし3個置換されていてもよいフェニル基もし
くはベンジル基を示す。
In the above general formula, the optionally substituted phenyl group and the optionally substituted benzyl group represented by R3 are 1 to 5, preferably 1 to 3, optional substituents at any position on the benzene ring. Indicates an optionally substituted phenyl group or benzyl group.

該フェニル基又はベンジル基上の置換基としては、好ま
しくは例えば、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、低級アルコキシ基。
The substituent on the phenyl group or benzyl group is preferably, for example, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, or a lower alkoxy group.

アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アラル
キルオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミ
ノ基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、カルバモ
イルオキシ基、スルファモイル基、スルファモイルオキ
シ基、ハロゲン、カルボキシル基。
Aryl group, aryloxy group, aralkyl group, aralkyloxy group, acyl group, acyloxy group, acylamino group, carbamoyl group, thiocarbamoyl group, carbamoyloxy group, sulfamoyl group, sulfamoyloxy group, halogen, carboxyl group.

ヒドロキシ基、メルカプト基、低級アルキルアミノ基、
アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、低級アルキル
−アリールアミノ基、ニトロ基、シアノ基。
Hydroxy group, mercapto group, lower alkylamino group,
Arylamino group, aralkylamino group, lower alkyl-arylamino group, nitro group, cyano group.

アミノ基、スルホ基。Amino group, sulfo group.

R4は有機残基を、mは0,1.2を示す]で表わされ
る基等が用いられ、ここにおいて、低級アルキル基とは
炭素数1から6の直鎖状9分岐状もしくは環状のアルキ
ル基を意味し、例えばメチル、エチル、n−プロピル、
イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、 5ec−ブ
チル、tert−ブチル、n−ペンチル。
R4 represents an organic residue, m represents 0, 1.2], and the lower alkyl group is a linear, 9-branched or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. means a group such as methyl, ethyl, n-propyl,
Isopropyl, n-butyl, isobutyl, 5ec-butyl, tert-butyl, n-pentyl.

5ec−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、シク
ロペンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル、シクロヘキ
シル等が用いられ、低級アルケニル基とは二重結合を1
ないし2個有する直鎖状1分岐状もしくは環状の炭素数
3から6のアルケニル基を意味し、例えばアリル、イソ
プロペニル、■−ブテニル、2−ペンテニル、2−へキ
セニル、シクロペンテニル。
5ec-pentyl, isopentyl, neopentyl, cyclopentyl, n-hexyl, isohexyl, cyclohexyl, etc. are used, and the lower alkenyl group has one double bond.
means a linear, monobranched or cyclic alkenyl group having 3 to 6 carbon atoms, such as allyl, isopropenyl, -butenyl, 2-pentenyl, 2-hexenyl, and cyclopentenyl.

シクロペンタジェニル、シクロへキセニル等が用いられ
、低級アルキニル基とは炭素数3から6のアルキニル基
を意味し、例えばプロパルギル、2−ブチニル、3−ブ
チニル、3−ペンチニル、3−ヘキシニル等が用いられ
、低級アルコキシ基とは炭素数1から6の直鎖状1分岐
状もしくは環状のアルコキシ基を意味し、例えばメトキ
シ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−
ブトキシ。
Cyclopentadienyl, cyclohexenyl, etc. are used, and the lower alkynyl group means an alkynyl group having 3 to 6 carbon atoms, such as propargyl, 2-butynyl, 3-butynyl, 3-pentynyl, 3-hexynyl, etc. The lower alkoxy group means a linear monobranched or cyclic alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-
Butoxy.

イソブトキシ、5ec−ブトキシ、tert−ブトキシ
、n−ペンチルオキシ、n−へキシルオキシ、シクロプ
ロピルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロへキシル
オキシ等が用いられ、アリール基とは炭素数6から14
のアリール基を意味し、例えばフェニル、ナフチル、ビ
フェニリル等が用いられ、アリールオキシ基とは炭素数
6から14のアリールオキか用いられ、アラルキル基と
は炭素数7から19のアラルキル基を意味し、例えばベ
ンジル、フェネチル、フェニルプロビル、トリチル基等
が用いられ、アラルキルオキシ基とは、炭素数7から1
9のアラルキルオキシ基を意味し、例えばベンジルオキ
シ、フェネチルオキシ2.フェニルプロピルオキシ、ト
リチルオキシ等が用いられ、アシル基とは、有機カルボ
ン酸から誘導されるアシル基を意味し、例えば低級アル
キルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、アリ
ールカルボニル基、アラルキルカルボニル基、低級アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
ラルキルオキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニ
ル−カルボニル基(ここにおいて低級アルキル、低級ア
ルケニル、アリール、低級アルコキシ、アラルキル基は
上記と同意義)、複素環オキシカルボニル基または複素
環カルボニル基(ここにおいて複素環基は例えばチェニ
ル、ベンゾチェニル、ピロリル、オキサシリル、ピペラ
ジニル、チアゾリル2チアジアゾリル。
Isobutoxy, 5ec-butoxy, tert-butoxy, n-pentyloxy, n-hexyloxy, cyclopropyloxy, cyclopentyloxy, cyclohexyloxy, etc. are used, and the aryl group has 6 to 14 carbon atoms.
An aryl group such as phenyl, naphthyl, biphenylyl, etc. is used, an aryloxy group refers to an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, and an aralkyl group refers to an aralkyl group having 7 to 19 carbon atoms. For example, benzyl, phenethyl, phenylprobyl, trityl groups, etc. are used, and the aralkyloxy group has 7 to 1 carbon atoms.
9 aralkyloxy group, such as benzyloxy, phenethyloxy, 2. Phenylpropyloxy, trityloxy, etc. are used, and the acyl group means an acyl group derived from an organic carboxylic acid, such as lower alkylcarbonyl group, lower alkenylcarbonyl group, arylcarbonyl group, aralkylcarbonyl group, lower alkoxy Carbonyl group, aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, lower alkoxycarbonyl-carbonyl group (here, lower alkyl, lower alkenyl, aryl, lower alkoxy, and aralkyl group have the same meanings as above), heterocyclic oxycarbonyl group, or heterocycle Carbonyl group (Heterocyclic group here includes, for example, chenyl, benzothenyl, pyrrolyl, oxasilyl, piperazinyl, thiazolyl 2-thiadiazolyl).

なくとも硫黄原子(オキシド化されていてもよい)。At least a sulfur atom (optionally oxidized).

酸素原子、窒素原子(オキシド化されていてもよい)の
いずれか−個を含む5ないし6員複素環基を示す)が用
いられ、具体的には、例えばアセチル、プロピオニル、
ブチリル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ベンゾイル、
ナフトイル、ベンジルカルボニル。
A 5- to 6-membered heterocyclic group containing either an oxygen atom or a nitrogen atom (which may be oxidized) is used, specifically, for example, acetyl, propionyl,
butyryl, pentanoyl, hexanoyl, benzoyl,
naphthoyl, benzylcarbonyl.

フェネチルカルボニル、メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、n−プロポキシカルボニル、フェノキシカ
ルボニル、ベンジルオキシカルボニル、チェニルカルボ
ニル、ベンゾチェニルカルボニル、チェニルオキシカル
ボニル等が用いられ、アシルオキシ基とは、式A−0−
(Aは上記したアシル基を示す)で表わされる基を意味
し、具体的にはアセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチ
リルオキシ。
Phenethylcarbonyl, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, n-propoxycarbonyl, phenoxycarbonyl, benzyloxycarbonyl, chenylcarbonyl, benzochenylcarbonyl, chenyloxycarbonyl, etc. are used, and the acyloxy group has the formula A-0-
(A represents the above-mentioned acyl group), specifically acetoxy, propionyloxy, butyryloxy.

ペンタノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、ベンジルカ
ルボニルオキシ、フェネチルカルボニルオキシ、ベンゾ
イルオキシ、ナフトイルオキシ、チェニルカルボニルオ
キシ、ベンゾチェニルカルボニルオキシ等が用いられ、
アシルアミノ基とは上記アシル基で1ないし2個置換さ
れたアミノ基を意味し、具体的にはアセチルアミノ、プ
ロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、ベンゾイルアミノ
、ベンジルカルボニルアミノ、チェニルカルボニルアミ
ノ。
Pentanoyloxy, hexanoyloxy, benzylcarbonyloxy, phenethylcarbonyloxy, benzoyloxy, naphthoyloxy, thenylcarbonyloxy, benzothenylcarbonyloxy, etc. are used,
The term acylamino group refers to an amino group substituted with one or two of the above acyl groups, specifically acetylamino, propionylamino, butyrylamino, benzoylamino, benzylcarbonylamino, and thenylcarbonylamino.

ジアセチルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、エトキ
シカルボニルアミノ、メトキシカルボニルカルボニルア
ミノ、エトキシカルボニルカルボニルアミノ、ベンジル
オキシカルボニルアミノ等が用いられハロゲンとは、例
えばフッ素、塩素、臭素。
Diacetylamino, methoxycarbonylamino, ethoxycarbonylamino, methoxycarbonylcarbonylamino, ethoxycarbonylcarbonylamino, benzyloxycarbonylamino, etc. are used, and the halogens include, for example, fluorine, chlorine, and bromine.

ヨウ素等を意味し、低級アルキルアミノ基とは、上記し
た低級アルキル基で1ないし2個置換されたアミノ基を
意味し、例えばメチルアミノ、エチルアミノ、n−ブチ
ルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジ(n−
ブチル)アミノ、シクロへキシルアミノ等が用いられ、
アリールアミノ基とは上記したアリール基で1ないし2
個置換されたアミノ基を意味し、例えばフェニルアミノ
、フェニルメチルアミノ等が用いられ、アラルキルアミ
ノ基とは、上記アラルキル基で1ないし2個置換された
アミノ基を意味し、例えばベンジルアミノ、■−フェニ
ルエチルアミノ、2−フェニルメチルアミノ、ベンズヒ
ドリルアミノ、トリチルアミノ等が用いられ、低級アル
キル−アリールアミノ基とは上記した低級アルキル基及
び上記したアリール基で置換されたアミノ基を意味し、
例えばN−フェニル−N−メチルアミノ、N−フェニル
−N−エチルアミノ等が用いられ、R4で示される有機
残基とは、例えば上記した低級アルキル基、低級アルケ
ニル基、低級アルコキシ基、アリール基、アリールオキ
シ基、アラルキル基、アラルキルオキシ基。
A lower alkylamino group means an amino group substituted with one or two lower alkyl groups as described above, such as methylamino, ethylamino, n-butylamino, dimethylamino, diethylamino, dimethylamino, etc. (n-
butyl) amino, cyclohexylamino, etc. are used,
An arylamino group is one or two of the above-mentioned aryl groups.
The term "aralkylamino group" refers to an amino group substituted with one or two aralkyl groups, such as phenylamino, phenylmethylamino, etc.; -Phenylethylamino, 2-phenylmethylamino, benzhydrylamino, tritylamino, etc. are used, and the lower alkyl-arylamino group means an amino group substituted with the above-mentioned lower alkyl group and the above-mentioned aryl group. ,
For example, N-phenyl-N-methylamino, N-phenyl-N-ethylamino, etc. are used, and the organic residue represented by R4 is, for example, the above-mentioned lower alkyl group, lower alkenyl group, lower alkoxy group, or aryl group. , aryloxy group, aralkyl group, aralkyloxy group.

アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、低級アル
キルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基
、低級アルキル−アリールアミノ基、複素環基等を意味
する。
It means an acyl group, an acyloxy group, an acylamino group, a lower alkylamino group, an arylamino group, an aralkylamino group, a lower alkyl-arylamino group, a heterocyclic group, and the like.

上記の低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキ
ニル基、低級アルコキシ基は、さらに例えば炭素数1か
ら4のアルキルチオ基(例、メチルチオ、エチルチオ、
n−プロピルチオ、イソブチルチオ等)、炭素数6から
14のアリールチオ基(例、フェニルチオ等)、炭素数
7から19のアラルキルチオ基(例−ベンジル千オW:
lハロゲン(例7 ++索、塩素、臭素、ヨウ素等)、
炭素数1から6のアルコキシ基(例、メトキシ、エトキ
シ、n−プロポキシ。
The above lower alkyl group, lower alkenyl group, lower alkynyl group, and lower alkoxy group may further include, for example, an alkylthio group having 1 to 4 carbon atoms (e.g., methylthio, ethylthio,
n-propylthio, isobutylthio, etc.), arylthio groups having 6 to 14 carbon atoms (e.g., phenylthio, etc.), aralkylthio groups having 7 to 19 carbon atoms (e.g., benzylthio W:
l Halogen (Example 7 ++, chlorine, bromine, iodine, etc.),
Alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms (eg, methoxy, ethoxy, n-propoxy).

tert−ブトキシ、n−へキシルオキシ等)、ニトロ
基。
tert-butoxy, n-hexyloxy, etc.), nitro group.

カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、シアノ基。Carbamoyl group, carbamoyloxy group, cyano group.

スルファモイル基、スルファモイルオキシ基、カルボキ
シル基、ヒドロキシ基、上述したと同じアシルアミノ基
等で1ないし3個置換されていてもよい。
It may be substituted with 1 to 3 sulfamoyl groups, sulfamoyloxy groups, carboxyl groups, hydroxy groups, the same acylamino groups as mentioned above, or the like.

上記アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、ア
ラルキルオキシ基は、芳香環上にさらに例えば低級アル
キル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級ア
ルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、ニトロ基、シ
アノ基、ハロゲン、アシルアミノ基、炭素数1から4の
アルキルチオ基(例、メチルチオ、エチルチオ、n−プ
ロピルチオ、tert−ブチルチオ)等で1ないし3個
置換されていてもよい。
The above aryl group, aryloxy group, aralkyl group, and aralkyloxy group further include, for example, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a lower alkoxy group, an acyl group, an acyloxy group, a nitro group, a cyano group, on the aromatic ring. It may be substituted with 1 to 3 halogens, acylamino groups, alkylthio groups having 1 to 4 carbon atoms (eg, methylthio, ethylthio, n-propylthio, tert-butylthio), or the like.

ここにおいて低級アルキル基、低級アルケニル基。Here, lower alkyl group, lower alkenyl group.

低級アルキニル基、低級アルコキシ基、アシル基。Lower alkynyl group, lower alkoxy group, acyl group.

アシルオキシ基、ハロゲン、アシルアミノ基は上記と同
様なものが用いられる。
As the acyloxy group, halogen, and acylamino group, the same ones as above are used.

上記のカルバモイル基、チオカルバモイル基、カルバモ
イルオキシ基、スルファモイル基、スルファモイルオキ
シ基は、さらに例えば低級アルキル基。
The above carbamoyl group, thiocarbamoyl group, carbamoyloxy group, sulfamoyl group, and sulfamoyloxy group further include, for example, a lower alkyl group.

低級アルコキシ基、アリール基、アラルキル基で1ない
し2個置換されていてもよい。ここにおいても低級アル
キル基、低級アルコキシ基、アリール基。
It may be substituted with 1 or 2 lower alkoxy groups, aryl groups, or aralkyl groups. Here too, lower alkyl groups, lower alkoxy groups, and aryl groups.

アラルキル基は上記と同様のものが用いられる。As the aralkyl group, the same ones as above are used.

R,で示される置換されたフェニル基及び置換されたベ
ンジル基における置換基のうち好ましくはアシルアミノ
基、低級アルコキシカルボニル基。
Among the substituents in the substituted phenyl group and substituted benzyl group represented by R, preferred are an acylamino group and a lower alkoxycarbonyl group.

ハロゲンで1ないし3個置換されていてもよい低級アル
キル基、低級アルキル基で1ないし2個置換されていて
もよいスルファモイル基、ハロゲンで1ないし3個置換
されていてもよい低級アルコキシ基、シアノ基、ハロゲ
ン、ニトロ基、低級アルキルスルホニル基である。
Lower alkyl group optionally substituted with 1 to 3 halogens, sulfamoyl group optionally substituted with 1 to 2 lower alkyl groups, lower alkoxy group optionally substituted with 1 to 3 halogens, cyano group, halogen, nitro group, and lower alkylsulfonyl group.

[式中、RAは、アシルアミノ基、低級アルコキシカル
ボニル基、ハロゲンで1ないし3個置換されていてもよ
い低級アルキル基、低級アルキル基でlないし2個置換
されていてもよいスルファモイル基、ハロゲンで1ない
し3個置換されていてもよい低級アルコキシ基、シアノ
基、ハロゲン、ニトロ基、低級アルキルスルホニル基ま
たはアシル基を、RBは水素原子、ハロゲン、低級アル
キル基またはニトロ基を、nは0またはlを示すコで表
わされる基であり、最も好ましくはnh<Oの時RAは
ハロゲンを、RBは水素原子を示し、nが1の時R^は
低級アルコキシカルボニル基又はハロゲンを、RBは水
素原子を示す。
[In the formula, RA is an acylamino group, a lower alkoxycarbonyl group, a lower alkyl group optionally substituted with 1 to 3 halogens, a sulfamoyl group optionally substituted with 1 to 2 lower alkyl groups, or a halogen RB is a hydrogen atom, halogen, lower alkyl group, or nitro group; n is 0 or It is a group represented by co indicating l, most preferably when nh<O, RA represents a halogen and RB represents a hydrogen atom, when n is 1, R^ represents a lower alkoxycarbonyl group or a halogen, and RB represents hydrogen. Indicates an atom.

ここにおいて、RAで示されるアシルアミノ基。Here, an acylamino group represented by RA.

兎 低級アルコキシカルボニル基、ハロゲンで1ないし3個
置換されていてもよい低級アルキル基、低級アルキル基
で1ないし2個置換されていてもよいスルファモイル基
、ハロゲンで1ないし3g置換されていてもよい低級ア
ルコキシ基、ハロゲン、低級アルキルスルホニル基また
はアシル基、及びRBで示されるハロゲン、低級アルキ
ル基はR,で定義されでものと同様のものが用いられる
Rabbit lower alkoxycarbonyl group, lower alkyl group optionally substituted with 1 to 3 halogens, sulfamoyl group optionally substituted with 1 to 2 lower alkyl groups, optionally substituted with 1 to 3 grams of halogen The lower alkoxy group, halogen, lower alkylsulfonyl group or acyl group, and the halogen and lower alkyl group represented by RB are defined by R and the same ones as those defined in R are used.

RIで示される置換されていてもよいピラゾール基にお
けるピラゾール基としては、ピラゾール−3−イル基、
ピラゾール−4−イル基又はピラゾール−5−イル基、
好ましくはピラゾール−5−イル基が用いられ、これら
のピラゾール基は任意の置換基で1ないし3個任意の位
置に置換されていてもよい。
The pyrazole group in the optionally substituted pyrazole group represented by RI includes pyrazol-3-yl group,
pyrazol-4-yl group or pyrazol-5-yl group,
Preferably, pyrazole-5-yl groups are used, and these pyrazole groups may be substituted with 1 to 3 arbitrary substituents at any positions.

これらのピラゾール基土の置換基としては、上記R1で
示される置換されたフェニル基又は置換されたベンジル
基における置換基と同様のものが用いられるが、好まし
くは低級アルキル基、低級アルキル基で1ないし2個置
換されていてもよいカルバモイル基、低級アルコキシカ
ルボニル基、カルボキシル基またはハロゲン、より好ま
しくは、低級アルキル基または低級アルコキシカルボニ
ル基である。このうち特に好ましくは、例えばメチル、
エチル、n−プロピル、n−プロピル、イソプロピル、
n−ブチル、t−ブチルなどの直鎖もしくは分枝状の炭
素数1から4の低級アルキル基又は例えばロボキシカル
ボニル、n−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボ
ニル等の炭素数1から4の低級アルコキシカルボニル等
である。
As the substituent for these pyrazole bases, the same substituents as those for the substituted phenyl group or substituted benzyl group shown in R1 above are used, but preferably lower alkyl groups and lower alkyl groups with 1 or 2-substituted carbamoyl group, lower alkoxycarbonyl group, carboxyl group or halogen, more preferably lower alkyl group or lower alkoxycarbonyl group. Among these, particularly preferred are, for example, methyl,
Ethyl, n-propyl, n-propyl, isopropyl,
Straight chain or branched lower alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms such as n-butyl and t-butyl, or lower alkoxycarbonyl groups having 1 to 4 carbon atoms such as loboxycarbonyl, n-butoxycarbonyl, isobutoxycarbonyl, etc. etc.

R3またはRoで示される低級アルキル基、低級アルコ
キシ基は、R1で定義されたものと同様のものが用いら
れる。このうち1.好ましくはそれぞれ炭素数1から4
の低級アルキル基(例、メチル、エチル。
The lower alkyl group and lower alkoxy group represented by R3 or Ro are the same as those defined for R1. Among these, 1. Preferably each has 1 to 4 carbon atoms.
lower alkyl groups (e.g., methyl, ethyl.

n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、 tert
−ブチル)または炭素数1から4の低級アルコキシ基(
例、好ましくはR,、R3がそれぞれメチル基またはメ
トキシ基である。  Zは好ましくはCHである。
n-propyl, isopropyl, n-butyl, tert
-butyl) or a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms (
For example, preferably R, , R3 are each a methyl group or a methoxy group. Z is preferably CH.

化合物[1]は分子中にたとえばアミノ基のような塩基
性基を有する場合、例えば、トリフルオロ酢酸、メタン
スルホン酸、p−トルエンスルホン酸。
When compound [1] has a basic group such as an amino group in the molecule, for example, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid.

ギ酸等の有機酸、塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸との酸
付加塩を形成していてもよい。
It may form an acid addition salt with an organic acid such as formic acid or an inorganic acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, or phosphoric acid.

化合物[1]は、分子中にメルカプト基、ヒドロ合、例
えばアルカリ金属(例えばナトリウム、カリウムなど)
、アルカリ土類金属(例えばカルシウムなど)などの無
機塩基、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ter
t−ブチルジメチルアミン、ジベンジルメチルアミン、
ベンジルジメチルアミン、N。
Compound [1] has a mercapto group in the molecule, a hydrocarbon, for example, an alkali metal (e.g. sodium, potassium, etc.)
, inorganic bases such as alkaline earth metals (e.g. calcium), trimethylamine, triethylamine, ter
t-butyldimethylamine, dibenzylmethylamine,
Benzyldimethylamine, N.

N−ジメチルアニリン、ピリジン、キノリンなどの有機
塩基との塩を形成していてもよい。
It may form a salt with an organic base such as N-dimethylaniline, pyridine, or quinoline.

化合物[1]またはその塩は、極めて低薬量で広範囲の
雑草、例えば、タイヌビエ、タマガヤツリ。
Compound [1] or a salt thereof can be applied to a wide range of weeds at extremely low dosages, such as Japanese millet grass and Japanese cypress.

イヌホタルイ、コナギ、ウリカワ、マツバイ、ミズガヤ
ツリ、クログワイ、ヘラオモダカ、オモダカ、タイワン
ヤマイ、アゼナ、キカシグサ、ヒルムシロ、チョウジタ
デ、ミゾハコベ等の水田雑草、メヒシバ、エノコログサ
、アオビユ、イチビ、アカザ、イヌタデ。
Paddy field weeds such as Japanese firefly, Japanese cypress, Japanese cypress, Japanese cypress, Japanese black bream, Japanese yellowtail, Japanese yellowtail, Japanese yamai, Japanese azalea, Japanese staghorn grass, Japanese cypress, clove knotweed, and Japanese chickweed, Japanese knotweed, Japanese foxtail grass, Japanese blueberry, Japanese thornweed, Japanese knotweed, Japanese knotweed.

スベリヒュ、アメリカキンゴジガ、シロ2(ナチョウセ
ンアサガオ、マルバアサガオ、オナモミ、ヒフイヌビエ
1オオクサキビ、セ゛イバンモロコシ、ハマスゲ、カラ
スムギ、ブラックグラス、ウマノチャヒキ。
Common purslane, American king moth, white 2 (natura morning glory, mulva morning glory, Japanese sorghum, Japanese sorghum 1, Japanese sorghum, Japanese commonweed, oat, black grass, Japanese sorghum.

コハコベ、カラシナ類、エビスグサ、カミツレツユクサ
等の畑地雑草に対して優れた殺草力を有し、しかも哺乳
動物や魚貝類に対して極めて低毒性である。又稲、小麦
、大麦、トウモロコシ、大豆等の作物に対して薬害は少
なく、高い安全性を示す。
It has excellent herbicidal activity against upland weeds such as chickweed, mustard, snail weed, and snail weed, and has extremely low toxicity to mammals, fish, and shellfish. It also shows high safety with little phytotoxicity to crops such as rice, wheat, barley, corn, and soybeans.

化合物[1]またはその塩は、水田雑草に優れた殺草効
果を示し、水田用除草剤として好適であり、又畑地雑草
に対しても優れた殺草効果を示し、畑地用除草剤としそ
有用である。
Compound [1] or a salt thereof exhibits an excellent herbicidal effect on paddy field weeds and is suitable as a herbicide for paddy fields.It also exhibits an excellent herbicidal effect on upland weeds and is suitable as a herbicide for upland fields. Useful.

化合物[I]またはその塩は、各種雑草に優れた除草効
果を示し、しかも哺乳動物や魚貝類に対して低毒性で、
環境を汚染することもなく、水田。
Compound [I] or a salt thereof exhibits excellent herbicidal effects on various weeds, and has low toxicity to mammals, fish and shellfish,
Paddy fields without polluting the environment.

畑、果樹園或いは非農耕地用の除草剤として極めて安全
に使用することができる。
It can be used extremely safely as a herbicide in fields, orchards, or non-agricultural fields.

化合物[I]またはその塩を除草剤として使用するにあ
たっては、一般の農薬のとりうる形態、即ち、化合物[
1]またはその塩の1種又は2種以上を使用目的によっ
て適当な液体担体に溶解するか分散させるか、または適
当な固体担体と混合するか吸着させ、乳剤、油剤、噴霧
剤、水和剤、粉剤、DL型粉剤8粒剤、微粒剤、微粒剤
F、Ii剤などの製剤として使用する。これらの製剤は
必要に応じ、乳化剤1分散剤、展着剤、浸透剤、湿潤剤
、粘漿剤、安定剤などを添加してもよく、自体公知の方
法で調製することができる。使用する液体担体(溶剤)
としては、例えば水、アルコール類(例、メタノール、
エタノール、n−プロパツール、イソプロパツール、エ
チレングリコール等)、ケトン類(例、アセトン1メチ
ルエチルケトン等)、エーテル類(例、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテル等)、脂肪族炭化
水素類(例、ケロシン。
When using compound [I] or a salt thereof as a herbicide, the compound
1] or one or more of its salts can be dissolved or dispersed in a suitable liquid carrier depending on the purpose of use, or mixed or adsorbed with a suitable solid carrier to form emulsions, oils, sprays, and wettable powders. , powder, DL type powder 8 grains, fine granules, fine granules F, agent II, etc. These preparations may contain emulsifiers, dispersants, spreading agents, penetrating agents, wetting agents, mucilage agents, stabilizers, etc., as required, and can be prepared by methods known per se. Liquid carrier (solvent) used
For example, water, alcohols (e.g. methanol,
ethanol, n-propanol, isopropanol, ethylene glycol, etc.), ketones (e.g., acetone 1-methyl ethyl ketone, etc.), ethers (e.g., dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, etc.) ), aliphatic hydrocarbons (e.g. kerosene).

灯油、燃料油1機械油等)、芳香族炭化水素類(例、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ。
kerosene, fuel oil 1 machine oil, etc.), aromatic hydrocarbons (e.g. benzene, toluene, xylene, solvent naphtha).

メチルナフタレン等)、ハロゲン化炭化水素類(例、ジ
クロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等)、酸アミ
ド類(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド等)、エステル類(例、酢酸エチルエステル、酢酸ブ
チルエステル、脂肪酸グリセリンニーz卆1t、t、)
−klt+L栢11  ?−)y)、二klルプロピオ
ニトリル等)などの溶媒が適当であり、これらは1種ま
たは2種以上を適当な割合で混合して使用する。
methylnaphthalene, etc.), halogenated hydrocarbons (e.g., dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, etc.), acid amides (e.g., dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.), esters (e.g., ethyl acetate, butyl acetate, Fatty acid glycerin 1 t, t,)
-klt+L Haku11? -) y), 2 kl propionitrile, etc.), and these solvents may be used alone or in combination of two or more in an appropriate ratio.

固体担体(希釈・増量剤)としては、植物性粉末(例、
大豆粉、タバコ粉、小麦粉、木粉等)、鉱物性粉末(例
、カオリン、ベントナイト、酸性白土等のクレイ類、滑
石粉、ロウ石粉等のタルク類、珪凍土、雲母粉などのシ
リカ類等)、アルミナ、硫黄粉末、活性炭などが適当で
あり、これらは1種又は2種以上を適当な割合で混合し
て使用する。
Solid carriers (diluents and bulking agents) include vegetable powders (e.g.
(soybean powder, tobacco powder, wheat flour, wood flour, etc.), mineral powders (e.g., clays such as kaolin, bentonite, acid clay, talcs such as talc powder, waxite powder, silicas such as diatomaceous earth, mica powder, etc.) ), alumina, sulfur powder, activated carbon, etc., and these may be used alone or in a mixture of two or more in an appropriate ratio.

乳化剤、展着剤、浸透剤1分散剤などとして使用される
界面活性剤としては、必要に応じて石けん類、ポリオキ
シエチレンアルキルアリールエーテル類(例、ノイゲン
、イー・ニー142(E、A142)o第一工業製薬(
株)製)、ポリオキシエチレアアリー7.エユテ7.類
(例、7ナー2.■、東邦化学(株)製)、アルキル硫
酸塩類(例、エマール0       ■ 10  、エマール40  、花王石鹸(味)製)、ア
■ 、 IL Aち IL ?  +1/七 ・ノ斤仲Hゴ’M
(薇1   土するF ゛)     スナろFンTO
9第−工業製薬(株)製・ネオペレ・クス■花王石鹸(
株)製)、ポリエチレングリコールエーテル類(例、ノ
ニボール85 、ノニボール100濤)=ボール160
■、三洋化成(株)製)、多価アルコールエステル類(
例、トウィーン20o、)ウィーン800.花王石鹸(
株)製)などの非イオン系剤などは1から90重量%程
度が適当であり、油剤、粉剤、DL型粉剤などとしては
0,01から10重量%程度が適当であり、微粒剤、微
粒剤F1粒剤としては0.05から10重量%程度が適
当であるが、使用目的によっては、これらの濃度を適宜
変更してもよい。乳剤、水和剤などは使用に際して、水
などで適宜希釈増量(たとえば100〜100000倍
)して散布する。
As surfactants used as emulsifiers, spreading agents, penetrating agents, dispersants, etc., soaps, polyoxyethylene alkylaryl ethers (e.g., Neugen, E.N. 142 (E, A142)) may be used as necessary. o Daiichi Kogyo Seiyaku (
Co., Ltd.), polyoxyethylene aryl 7. Eyute 7. (e.g., 7ner 2.■, manufactured by Toho Chemical Co., Ltd.), alkyl sulfates (e.g., Emar 0 ■ 10, Emar 40, manufactured by Kao Soap (Aji)), A■, IL Achi IL? +1/7 ・Nokanaka H Go'M
(Bara 1 Soil F゛) Sunaro FnTO
No. 9 - Neopelle Kusu manufactured by Kogyo Seiyaku Co., Ltd. ■Kao Soap (
Co., Ltd.), polyethylene glycol ethers (e.g. Noni Ball 85, Noni Ball 100 tons) = Ball 160
■, manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.), polyhydric alcohol esters (
For example, Tween 20o,) Vienna 800. Kao soap (
For non-ionic agents such as those manufactured by Co., Ltd., it is appropriate to use 1 to 90% by weight, and for oils, powders, DL type powders, etc., it is appropriate to use 0.01 to 10% by weight, and for fine granules, fine particles, etc. The appropriate concentration for Agent F1 granules is about 0.05 to 10% by weight, but these concentrations may be changed as appropriate depending on the purpose of use. Emulsions, wettable powders, etc., are suitably diluted and increased in volume (for example, 100 to 100,000 times) with water before use, and then sprayed.

化合物[1]またはその塩を除草剤として用いる場合の
使用量は、適用場面、適用時期、施用方法。
When using Compound [1] or its salt as a herbicide, the amount to be used depends on the application situation, application period, and application method.

対象草種、栽培作物等により差異はあるが一般に有効成
分(化合物[1,]またはその塩)として水田1アール
当り0.05から50g程度、好ましくは0.1から5
g程度、畑地1アール当り0.05から20g程度、好
ましくは0.1から5g程度である。
There are differences depending on the target grass species, cultivated crops, etc., but in general, the active ingredient (compound [1,] or its salt) is about 0.05 to 50 g per 1 are of paddy field, preferably 0.1 to 50 g.
The amount is about 0.05 to 20 g, preferably about 0.1 to 5 g per 1 are of farmland.

化合物[I]またはその塩°は水田雑草用としては、発
芽前土壌処理あるいは発芽後茎葉兼土壌処理剤として使
用するのが適当である。
Compound [I] or a salt thereof is suitable for use as a pre-emergence soil treatment or a post-emergence foliage and soil treatment agent for paddy field weeds.

例えば本発明の除草剤は、田植直後或いは田植2〜3週
間後でも安全に使用でき、長期にわたって効果が持続す
る。
For example, the herbicide of the present invention can be safely used immediately after rice transplantation or even 2 to 3 weeks after rice transplantation, and remains effective over a long period of time.

化合物[I]またはその塩は畑地雑草用としては発芽前
土壌処理或いは発芽後茎葉処理するのが適当である。
When compound [I] or a salt thereof is used for upland weeds, it is appropriate to treat it with soil before germination or with foliage after germination.

本発明の除草剤は必要に応じ他種の除草剤、植物成長調
整剤、殺菌剤(例、有機塩素系殺菌剤、有機イオウ系殺
菌剤、アゾール系殺菌剤、抗生物質など)、殺虫剤(例
、ピレスロイド系殺虫剤、有機リン系殺虫剤、カルバメ
ート系殺虫剤など)、その他殺ダニ剤、殺線虫剤、共力
剤、誘引剤、忌避剤1色素、肥料などを配合し、混合使
用することができる。
The herbicide of the present invention may include other types of herbicides, plant growth regulators, fungicides (e.g., organochlorine fungicides, organic sulfur fungicides, azole fungicides, antibiotics, etc.), and insecticides ( For example, pyrethroid insecticides, organophosphorus insecticides, carbamate insecticides, etc.), other acaricides, nematicides, synergists, attractants, repellents, pigments, fertilizers, etc. are mixed and used. can do.

化合物[1]またはその塩は、自体公知の方法、例えば
有機合成化学協会誌第26巻、674頁(1968年)
7日本化学雑誌第91巻、270頁(1970年)に記
載の方法に従って製造することができる。例えば化合物
CI]またはその塩は、一般式[式中の記号は前記と同
意義コで表わされる化合物またはその塩を酸化的に脱水
素反応に付すことにより製造される。化合物[11]の
塩としては化合物[1]の塩と同様のものが用いられる
Compound [1] or a salt thereof can be prepared by a method known per se, for example, Journal of the Society of Organic Synthetic Chemistry, Vol. 26, p. 674 (1968).
It can be produced according to the method described in 7 Nippon Kagaku Zasshi Vol. 91, p. 270 (1970). For example, compound CI] or a salt thereof is produced by subjecting a compound represented by the general formula [where the symbols are as defined above] or a salt thereof to an oxidative dehydrogenation reaction. As the salt of compound [11], the same salt as that of compound [1] can be used.

本反応は化合物[n]またはその塩と酸化剤とを接触さ
せることにより行なわれる。適当な酸化剤としては、例
えばハロゲン(例、塩素、臭素、ヨウ素)、N−ハロゲ
ノコハク酸イミド類(例、N−クロルコハク酸イミド、
N−ブロムコハク酸イミド)。
This reaction is carried out by bringing the compound [n] or a salt thereof into contact with an oxidizing agent. Suitable oxidizing agents include, for example, halogens (e.g., chlorine, bromine, iodine), N-halogenosuccinimides (e.g., N-chlorosuccinimide,
N-bromosuccinimide).

N−ハロゲノアセトアミド類(例、N−クロルアゲラフ
タルイミド類(例、N−クロルフタルイミド、N−ブロ
ムフタルイミド)、クロラミンT1次亜ハロゲン酸塩(
例、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウム、次亜
塩素酸カルシウム、次亜臭素酸ナトリウム)等のハロゲ
ン化剤、アリールスルホニルハライド(例、ベンゼンス
ルホニルクロライド、p−トルエンスルホニルクロライ
ド)、アルキルスルホニルハライド(例、メタンスルホ
ニルクロライド、エタンスルホニルクロライド)、塩化
スルフリル等のスルホニルハライド類、過酸化水素。
N-halogenoacetamides (e.g., N-chloragelphthalimides (e.g., N-chlorphthalimide, N-bromphthalimide), chloramine T1 hypohalite (
e.g., halogenating agents such as sodium hypochlorite, potassium hypochlorite, calcium hypochlorite, sodium hypobromite), arylsulfonyl halides (e.g., benzenesulfonyl chloride, p-toluenesulfonyl chloride), alkyl Sulfonyl halides (eg, methanesulfonyl chloride, ethanesulfonyl chloride), sulfonyl halides such as sulfuryl chloride, hydrogen peroxide.

過ギ酸、過酢酸、過プロピオン酸、過安息香酸、モノ過
フタル酸、トリフルオロ過酢酸等の過酸類、過硫酸ナト
リウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫
酸塩類、二酸化セレン、二酸化マンガン、酸化銀、二酸
化鉛、酸化水銀、塩化第二鉄、四酢酸鉛、フェリシアン
化カリウム、過マンガン酸塩類1重クロム酸塩類等の含
金属酸化剤、さらに硝酸、酸素、空気等も用いることが
できる。
Peracids such as performic acid, peracetic acid, perpropionic acid, perbenzoic acid, monoperphthalic acid, trifluoroperacetic acid, persulfates such as sodium persulfate, potassium persulfate, ammonium persulfate, selenium dioxide, manganese dioxide, Metal-containing oxidizing agents such as silver oxide, lead dioxide, mercury oxide, ferric chloride, lead tetraacetate, potassium ferricyanide, permanganates and monobichromates, as well as nitric acid, oxygen, air, and the like can also be used.

本反応に用いる酸化剤の量は反応を完結させる2−?l
ゴナyjlLナー晃☆fコー、ム ンJ し 号、  
 匍;へ病1−?Lズ會(の化合物[II]またはその
塩1モルに対して、0.25モルの活性な酸素を発生す
る量を用いればよいが通常約001モルから0.8モル
の活性な酸素を発生する量を用いる。酸化剤が酸素を発
生しない場合には化合物[n]またはその塩1モルに対
して0.5モルの水素を除去しうる量を用いればよいが
通常約0.2から1.6モルの水素を除去しうる量を用
いる。一般に過剰の酸化剤の使用は副反応を誘起して好
ましくない。
The amount of oxidizing agent used in this reaction is 2-? l
GonayjlLner Akira☆fko, Moon J Shigo,
卍;Hebyou 1-? It is sufficient to use an amount that generates 0.25 mol of active oxygen per 1 mol of compound [II] or its salt, but it usually generates about 0.01 mol to 0.8 mol of active oxygen. If the oxidizing agent does not generate oxygen, it is sufficient to use an amount that can remove 0.5 mol of hydrogen per 1 mol of compound [n] or its salt, but it is usually about 0.2 to 1 mol. An amount that can remove .6 moles of hydrogen is used.Using an excess of the oxidizing agent is generally undesirable as it induces side reactions.

反応は一般に反応を阻害しない溶媒中で行われる。適当
な溶媒としては、反応に不活性な溶媒、例えば、水、メ
タノール、エタノール、n−プロパツール、イソプロパ
ツール、n−ブタノール、 tert −ブタノール等
のアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ニト
ロベンゼン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ジ
クロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン
化炭化水素類、エチルエーテル、ジオキサン、イソプロ
ピルエーテル。
The reaction is generally carried out in a solvent that does not inhibit the reaction. Suitable solvents include solvents inert to the reaction, such as water, alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, and tert-butanol, benzene, toluene, xylene, nitrobenzene, Aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, ethyl ether, dioxane, isopropyl ether.

テトラヒドロフラン(以下THFと略記)等のエーテル
類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、アセ
トニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、ジメチ
ルホルムアミド(以下DMFと略記)、ジメチルアセト
アミド(以下DMACと略記)、ヘキサメチル燐酸トリ
アミド(以下HMP Aと略記)等のアミド類、酢酸メ
チル、酢酸エチル。
Ethers such as tetrahydrofuran (hereinafter abbreviated as THF), ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, dimethylformamide (hereinafter abbreviated as DMF), dimethylacetamide (hereinafter abbreviated as DMAC), hexamethyl phosphoric acid Amides such as triamide (hereinafter abbreviated as HMP A), methyl acetate, and ethyl acetate.

酢酸ブチル等のエステル類°、ジメチルスルホキシド(
以下DMSOと略記)等のスルホキシド類、ギ酸、酢酸
、プロピオン酸等の脂肪族カルボン酸類、ピリジン、γ
−コリジン、キノリン、トリエチルアミン、トリーn−
プロピルアミン、N、N−ジメチルアニリン等の第三級
有機アミン類等が用いられる。
Esters such as butyl acetate, dimethyl sulfoxide (
Sulfoxides such as DMSO), aliphatic carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, and propionic acid, pyridine, γ
-collidine, quinoline, triethylamine, tri-n-
Tertiary organic amines such as propylamine and N,N-dimethylaniline are used.

これらの溶媒は必要に応じ1種あるいは2種以上任意の
割合で混合して用いてもよい。
These solvents may be used alone or in a mixture of two or more in any proportion as required.

本反応は、反応を円滑に進行させるために塩基の存在下
に行なってもよい。適当な塩基としては、例えばアンモ
ニア、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水酸化ア
ルカリ金属、水酸化カルシウム等の水酸化アルカリ土類
金属、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の炭酸アルカリ
金属、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸
水素アルカリ金属、炭酸カルシウム等の炭酸アルカリ土
類金属等の無機塩基、ピリジン、コリジン、キノリン。
This reaction may be carried out in the presence of a base to facilitate the reaction. Suitable bases include, for example, ammonia, alkali metal hydroxides such as potassium hydroxide and sodium hydroxide, alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide, alkali metal carbonates such as potassium carbonate and sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, Inorganic bases such as alkali metal bicarbonates such as sodium bicarbonate, alkaline earth metal carbonates such as calcium carbonate, pyridine, collidine, and quinoline.

トリエチルアミン、トリーn−プロピルアミン、N。Triethylamine, tri-n-propylamine, N.

N−ジメチルベンジルアミン、N、N−ジメチルアニリ
ン、l、8−ジアザビシクロ[5,4,0コー7一ウン
デセン(以下DBUと略記する)、1.4−ジアザビシ
クロ[2,2,2]オクタン(以下DBOと略記する)
、1.5−ジアザビシクロ[4,3,0]ノン塩基は、
原料化合物[1]またはその塩1モルに対し約0.5か
ら3倍モル用いてもよい。酸化剤は上記したものはいず
れも使用できるが、なかでも塩素、臭素、ヨウ素、N−
クロルコハク酸イミド。
N-dimethylbenzylamine, N,N-dimethylaniline, l,8-diazabicyclo[5,4,0-7-undecene (hereinafter abbreviated as DBU), 1,4-diazabicyclo[2,2,2]octane ( (hereinafter abbreviated as DBO)
, 1,5-diazabicyclo[4,3,0] non-base is
It may be used in an amount of about 0.5 to 3 times the mole of the starting compound [1] or its salt. Any of the above-mentioned oxidizing agents can be used, but among them, chlorine, bromine, iodine, N-
Chlorsuccinimide.

N−ブロムコハク酸イミド、N−ブロムアセトアミド、
N−ブロムフタルイミド、クロラミンT等のハロゲン化
剤、塩化スルフリル、ベンゼンスルホニルクロライド、
p−)ルエンスルホニルクロライド、メタンスルホニル
クロライド等のスルホニル本反応を塩基の存在下に行う
場合、原料化合物[II]またはその塩の溶媒に対する
溶解性が増大して反応がより円滑に進行し、副生成物も
少ない。
N-bromosuccinimide, N-bromoacetamide,
N-bromphthalimide, halogenating agents such as chloramine T, sulfuryl chloride, benzenesulfonyl chloride,
p-) Sulfonyl chloride, methanesulfonyl chloride, etc. When the main reaction is carried out in the presence of a base, the solubility of the starting compound [II] or its salt in the solvent increases, the reaction proceeds more smoothly, and the reaction proceeds more smoothly. There are also fewer products.

反応温度は約−60から100℃の範囲で反応が進行す
る温度を選びうるが、一般に約−20から50℃が適当
である。反゛応時間は比較的短く、5分ないし2時間程
度であるが、多くの場合酸化剤の添加終了と共にほぼ反
応は完結する。
The reaction temperature can be selected from a range of about -60 to 100°C at which the reaction proceeds, but generally about -20 to 50°C is suitable. The reaction time is relatively short, about 5 minutes to 2 hours, but in most cases the reaction is almost complete upon completion of the addition of the oxidizing agent.

反応の終了は薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマ
トグラフィー等によって容易に確認することができる。
Completion of the reaction can be easily confirmed by thin layer chromatography, high performance liquid chromatography, etc.

原料化合物[11]またはその塩は塩基の存在下に異性
化して一般式 [式中、M+はアルカリ金属、イオン、 1/2 X”
 (Xはアルカリ土類金属を示す)またはアンモニウム
イオン、伸の2骨は前露Pと同竜碑を示す]で表わされ
る化合物またはその塩として存在することもある。
The raw material compound [11] or a salt thereof is isomerized in the presence of a base to form the general formula [wherein M+ is an alkali metal, an ion, 1/2
(X represents an alkaline earth metal) or an ammonium ion, and the two bones of Shin represent Maero P and Doryuhi], or as salts thereof.

上記式において、M+で表わされるアルカリ金属イオン
におけるアルカリ金属としては例えばリチウム、ナトリ
ウム、カリウム等が用いられ、l/2X++(Xはアル
カリ土類金属を示す)におけるアルカリ土類金属として
は、例えばマグネシウム、カルシウム、バリウム等が用
いられ、アンモニウムイオンとしては、例えば前記した
有機三級アミンにプロトンが結合したアンモニウムイオ
ン等が用いられる。化合物[II[]又はその塩は自体
公知の方法に従って単離した後、本反応の原料化合物と
して用いてもよい。
In the above formula, the alkali metal in the alkali metal ion represented by M+ is, for example, lithium, sodium, potassium, etc., and the alkaline earth metal in l/2X++ (X represents an alkaline earth metal) is, for example, magnesium. , calcium, barium, etc., and as the ammonium ion, for example, an ammonium ion in which a proton is bonded to the above-mentioned organic tertiary amine is used. Compound [II[] or a salt thereof may be isolated according to a method known per se and then used as a raw material compound for this reaction.

また、得られる化合物が遊離酸または遊離塩基である場
合には、常法に従って対応する塩へ変換してもよく、得
られる化合物が塩である場合は常法に従って対応する遊
離酸または遊離塩基へ変換してもよい。
In addition, when the obtained compound is a free acid or free base, it may be converted to the corresponding salt according to a conventional method, and when the obtained compound is a salt, it may be converted to the corresponding free acid or free base according to a conventional method. May be converted.

このようにして得られる化合物[IIまたはその塩は自
体公知の単離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、減圧蒸
留、液性変換、転溶、塩析、溶媒抽出、結晶化、再結晶
、クロアトグラフィー等により単離精製することができ
る。
The thus obtained compound [II or a salt thereof can be purified by isolation and purification methods known per se, such as concentration, vacuum concentration, vacuum distillation, liquid conversion, dissolution transfer, salting out, solvent extraction, crystallization, recrystallization, chromatography, etc. It can be isolated and purified by atography or the like.

原料化合物[11]はまたはその塩は、例えば特願昭6
0−240258.特願昭61−67821等に記載の
方法もしくはこ°れに準する方法により容易に製造する
ことができる。例えば化合物[II]またはその塩は一
般式 %式%[] で表わされる化合物またはその塩と一般式で表わされる
化合物またはその塩 [上記式中、Y’、Y″は一方がアミノ基で他方が、式
−NH−C−OR(式中、Rは炭化水素残基I を示す)で表わされる基もしくは式−N=C=Sで表わ
される基を、他の記号は前記と同意義を示す]とを反応
させることにより製造される。Rで示される炭化水素残
基は、直鎖1分枝状、環状の。
The raw material compound [11] or its salt can be used, for example, in Japanese Patent Application No. 1983.
0-240258. It can be easily produced by the method described in Japanese Patent Application No. 61-67821 or similar methods. For example, compound [II] or a salt thereof is a compound represented by the general formula % [%] or a salt thereof [in the above formula, one of Y' and Y'' is an amino group and the other is an amino group. is a group represented by the formula -NH-C-OR (wherein R represents a hydrocarbon residue I) or a group represented by the formula -N=C=S, and other symbols have the same meanings as above. The hydrocarbon residue represented by R is linear, monobranched, or cyclic.

二重結合、三重結合を有することもできる脂肪族基、ア
リール基あるいはアラルキル基を意味する。
It means an aliphatic group, an aryl group, or an aralkyl group that may have a double bond or triple bond.

ここにおいて炭化水素残基は、具体的には低級アルキル
基、低級アルケニル基、低級アルキニル基。
Here, the hydrocarbon residue is specifically a lower alkyl group, a lower alkenyl group, or a lower alkynyl group.

アリール基、アラルキル基を意味し、低級アルキル基と
は炭素数1から6の直鎖状1分枝状もしくは環状のアル
キル基を意味し、例えばメチル、エチル、n−プロピル
、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、5ec−ブ
チル、 tert−ブチル、n−ペンチル。
It means an aryl group or an aralkyl group, and a lower alkyl group means a linear, monobranched or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl. , isobutyl, 5ec-butyl, tert-butyl, n-pentyl.

5ec−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、シク
ロペンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル、シクロヘキ
シル等が用いられ、低級アルケニル基とは二重結合を1
ないし2個有する直鎖状1分枝状もしくは環状の炭素数
3から6のアルケニル基を意味し、例えばアリル、イソ
プロペニル、1−ブテニル、2−ペンテニル、2−ヘキ
セニル、シクロペンテニル。
5ec-pentyl, isopentyl, neopentyl, cyclopentyl, n-hexyl, isohexyl, cyclohexyl, etc. are used, and the lower alkenyl group has one double bond.
means a linear, monobranched or cyclic alkenyl group having 3 to 6 carbon atoms, such as allyl, isopropenyl, 1-butenyl, 2-pentenyl, 2-hexenyl, and cyclopentenyl.

シクロペンタジェニル、シクロへキセニル等が用アルキ
ニル基を意味し、例えばプロパルギル、2−ブチニル、
3−ブチニル、3−ペンチニル、3−ヘキシニル等が用
いられ、アリール基とは炭素数6から14のアリール基
を意味し、例えばフェニル、ナフチル、ビフェニリル等
が用いられ、アラルキル基とは炭素数7から1−9のア
ラルキル基を意味し、例えばベンジル、フェネチル、フ
ェニルプロピル、トリチル基等が用いられる。これらは
適当な置換基で1〜3個置換されていてもよい。
Cyclopentadienyl, cyclohexenyl, etc. mean alkynyl groups, such as propargyl, 2-butynyl,
3-butynyl, 3-pentynyl, 3-hexynyl, etc. are used, and the aryl group means an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, such as phenyl, naphthyl, biphenylyl, etc., and the aralkyl group means an aryl group having 7 to 14 carbon atoms. to 1-9 aralkyl group, such as benzyl, phenethyl, phenylpropyl, trityl group, etc. These may be substituted with 1 to 3 suitable substituents.

このような置換基のうち、好ましくはニトロ。Among such substituents, nitro is preferred.

ハロゲン(例、塩素、臭素等)等である。Halogens (eg, chlorine, bromine, etc.), etc.

化合物[II]またはその塩は下記の製造法1〜5のい
ずれかの方法によって製造することができる。
Compound [II] or a salt thereof can be produced by any of Production Methods 1 to 5 below.

なお下記に示す化合物[1¥’]、[IV″’]、[V
″]。
In addition, the compounds shown below [1\'], [IV''], [V
″].

[Va″]、[■“′]、[■]、[■]の塩としては
上記した化合物[+]の塩と同様のものが用いられる。
As the salts of [Va″], [■“′], [■], and [■], the same salts as those of the above-mentioned compound [+] can be used.

製造法l ↓ 化合物 [■3 [上記式中の記号は前記と同意義を示す]本反応におい
て、化合物[V′]は化合物[IV’]またはその塩1
モルに対して約0.8から3モル、好ましくは約0.9
から1.3モル用いる。
Production method l ↓ Compound [■3 [Symbols in the above formula have the same meanings as above] In this reaction, compound [V'] is compound [IV'] or its salt 1
About 0.8 to 3 moles per mole, preferably about 0.9
1.3 mol is used.

本反応は通常、反応に不活性な溶媒中で行なわれる。適
当な溶媒としては、例えば、ベンゼン。
This reaction is usually carried out in a solvent that is inert to the reaction. Suitable solvents include, for example, benzene.

トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメ
タン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水
素類、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、ジオキ
サン、THF等のエーテル類、アセトニトリル、プロピ
オニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類
、石油エーテル、石油ベンジン、ヘキサン等の炭化水素
類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類が単独
で又は混合して用いられる。
Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, ethers such as ethyl ether, isopropyl ether, dioxane and THF, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, Esters such as ethyl acetate, hydrocarbons such as petroleum ether, petroleum benzene, and hexane, and ketones such as acetone and methyl ethyl ketone are used alone or in combination.

本反応は塩基の存在下に行なってもよい。適当な塩基と
しては、例えばトリメチルアミーン、トリエチルアミン
等のトリ(炭素数1から6のアルキル)置換アミン、ピ
リジン、γ−コリジン、DBU。
This reaction may be carried out in the presence of a base. Suitable bases include, for example, tri(alkyl having 1 to 6 carbon atoms) substituted amines such as trimethylamine and triethylamine, pyridine, γ-collidine, and DBU.

DBO,DBN等の第三級アミン類等の有機塩基、例え
ば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水酸化アル
カリ金属、水酸化カルシウム等の水酸化アルカリ土類金
属、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の炭酸アルカリ金
属、炭酸水素カリウム。
Organic bases such as tertiary amines such as DBO and DBN, alkali metal hydroxides such as potassium hydroxide and sodium hydroxide, alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, etc. Alkali metal carbonate, potassium bicarbonate.

炭酸水素ナトリウム等の炭酸水素アルカリ金属、炭酸カ
ルシウム等の炭酸アルカリ土類金属等の無機塩基が用い
られる。塩基は化合物[V’]1モルに対して約0.8
から1.2モル使用してもよい。
Inorganic bases such as alkali metal hydrogen carbonate such as sodium hydrogen carbonate, alkaline earth metal carbonate such as calcium carbonate, etc. are used. The amount of base is about 0.8 per mole of compound [V']
From 1.2 mol may be used.

反応温度は約Oから150℃の範囲で反応の進行する温
度を選びうるが、一般に約10から60℃が適当である
。反応は30分から10時間程度で完結し、その終了は
薄層クロマトグラフィー。
The reaction temperature can be selected from a range of about 0 to 150°C, but generally about 10 to 60°C is suitable. The reaction is completed in about 30 minutes to 10 hours, and is completed by thin layer chromatography.

高速液体クロマトグラフィー等によって確認することが
できる。
This can be confirmed by high performance liquid chromatography or the like.

製造法2 + 化合物 [I[] [式中の記号は前記と同意義を示す] Rで示される炭化水素残基は好ましくは炭素数lから3
の低級アルキル基(例、メチル、エチル、n−プロピル
、イソプロピル)、炭素数6から12のアリール基(例
、フェニル、クロロフェニル、トリル、ビフェニリル)
等である。本反応は上記製造法lと同様に実施すること
ができる。
Production method 2 + Compound [I[] [Symbols in the formula have the same meanings as above] The hydrocarbon residue represented by R preferably has 1 to 3 carbon atoms.
Lower alkyl groups (e.g., methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl), aryl groups having 6 to 12 carbon atoms (e.g., phenyl, chlorophenyl, tolyl, biphenylyl)
etc. This reaction can be carried out in the same manner as in Production Method 1 above.

本反応においては、原料化合物[V″]の代りに一般式 化合物を用いてもよい。反応は化合物[V″]を用いる
場合と同様に行なうことができる。
In this reaction, a compound of the general formula may be used instead of the starting compound [V'']. The reaction can be carried out in the same manner as when using the compound [V''].

製造法3 ↓ 化合物 [n] [上記式中の記号は前記と同意義を示す]化合物[■″
′]は、例えばトリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、
p−トルエンスルホン酸、ギ酸等の有機酸、塩酸、硫酸
、リン酸等の無機酸との酸付加塩を形成していてもよい
Production method 3 ↓ Compound [n] [Symbols in the above formula have the same meanings as above] Compound [■″
'] is, for example, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid,
Acid addition salts may be formed with organic acids such as p-toluenesulfonic acid and formic acid, and inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid.

本反応において、化合物[■″]は化合物[v″′]ま
たはその塩1モルに対して約0.8から3モル、好まし
くは約0.9から1.3モル用いる。
In this reaction, the compound [■''] is used in an amount of about 0.8 to 3 mol, preferably about 0.9 to 1.3 mol, per 1 mol of the compound [v'''] or its salt.

本反応は通常、反応に不活性な溶媒中で行なわれる。適
当な溶媒としては、例えば、ベンゼン。
This reaction is usually carried out in a solvent that is inert to the reaction. Suitable solvents include, for example, benzene.

ロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のノ10ゲン
化炭化水素類、エチルエーテル、イソプロピルエーテル
、ジオキサン、THP等のエーテル類、アセトニトリル
、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエ
ステル類、石油エーテル、石油ベンジン、ヘキサン等の
炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン
類が単独でまたは混合して用いられる。本反応は塩基の
存在下に行なってもよい。適当な塩基としては、例えば
DBU。
10 Genated hydrocarbons such as lolomethane, chloroform, and carbon tetrachloride; ethers such as ethyl ether, isopropyl ether, dioxane, and THP; nitriles such as acetonitrile and propionitrile; esters such as ethyl acetate; petroleum ether Hydrocarbons such as , petroleum benzine and hexane, and ketones such as acetone and methyl ethyl ketone are used alone or in combination. This reaction may be carried out in the presence of a base. A suitable base is, for example, DBU.

DBO,DBN、)ジエチルアミン。トリーn−プロピ
ルアミン、ピリジン等の有機塩基、ナトリウムアミド、
水素化ナトリウム等の無機塩基が用いられる。塩基は化
合物[V″′]またはその塩1モルに対して通常的0.
8から2.5モル用いてもよい。
DBO, DBN,) diethylamine. tri-n-propylamine, organic bases such as pyridine, sodium amide,
Inorganic bases such as sodium hydride are used. The base is usually used in an amount of 0.0% per mole of compound [V'''] or its salt.
8 to 2.5 moles may be used.

反応温度は約0から150℃の範囲で反応の進行する温
度を選びうるが、一般に約10から100℃が適当であ
る。反応は30分から10時間程度で完結し、その終了
は薄層クロマトグラフィー。
The reaction temperature can be selected from a range of about 0 to 150°C at which the reaction proceeds, but generally about 10 to 100°C is suitable. The reaction is completed in about 30 minutes to 10 hours, and is completed by thin layer chromatography.

高速液体クロマトグラフィー等によって確認することが
できる。
This can be confirmed by high performance liquid chromatography or the like.

製造法4 [式中の記号は前記と同意義を示すコ 本反応は製造法3と同様に実施することができる。Manufacturing method 4 [The symbols in the formula are symbols that have the same meaning as above. This reaction can be carried out in the same manner as Production Method 3.

製造法5 れ低級アルコキシ基を示す) 上記式中、R1は前記と同意義、Halは例えば塩素、
臭素等のハロゲンを示す。
Production method 5 (represents a lower alkoxy group) In the above formula, R1 has the same meaning as above, Hal is, for example, chlorine,
Indicates halogen such as bromine.

反応の第1段階は、化合物[■′]またはその塩と化合
物[VI]との反応による化合物[■]またはその塩の
製造工程である。
The first step of the reaction is a step of producing compound [■] or a salt thereof by reacting compound [■'] or a salt thereof with compound [VI].

原料の化合物[VI]は化合物[■′]またはその塩1
モルに対して約0.8から2モル用いる。本反応は、通
常反応に不活性な溶媒中で行なわれる。
The raw material compound [VI] is compound [■'] or its salt 1
About 0.8 to 2 moles are used per mole. This reaction is usually carried out in a solvent inert to the reaction.

適当な溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホ
ルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、エチルエ
ーテル、イソプロピルエーテル、ジオキサン、THF等
のエーテル類、アセトニトリル、プロピオニトリル等の
ニトリル類、酢酸エチル等のエステル類、石油エーテル
、石油ベンジン、ヘキサン等の炭化水素類等が単独で又
は混合して用いられる。
Suitable solvents include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride, ethers such as ethyl ether, isopropyl ether, dioxane, and THF, and acetonitrile. , nitriles such as propionitrile, esters such as ethyl acetate, hydrocarbons such as petroleum ether, petroleum benzene, hexane, etc. are used alone or in combination.

本反応は塩基の存在下に行なってらよい。適当な塩基と
しては、例えばトリメチルアミン、トリル)置換アミン
、ピリジン、γ−コリジン、DBU。
This reaction may be carried out in the presence of a base. Suitable bases include, for example, trimethylamine, tolyl-substituted amines, pyridine, γ-collidine, DBU.

DBO,DBN等Φ第三級アミン類等の有機塩基、例え
ば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水酸化アル
カリ金属、水酸化カルシウム等の水酸化アルカリ土類金
属、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の炭酸アルカリ金
属、炭酸水素カリウム。
Organic bases such as tertiary amines such as DBO and DBN, alkali metal hydroxides such as potassium hydroxide and sodium hydroxide, alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, etc. Alkali metal carbonate, potassium bicarbonate.

炭酸水素ナトリウム等の炭酸水素アルカリ金属、炭酸カ
ルシウム等の炭酸アルカリ土類金属等の無機塩基が用い
られる。塩基は、化合物[■]1モルに対して約0.8
から1.2モル用いてもよい。
Inorganic bases such as alkali metal hydrogen carbonate such as sodium hydrogen carbonate, alkaline earth metal carbonate such as calcium carbonate, etc. are used. The amount of base is approximately 0.8 per mole of compound [■]
1.2 moles may be used.

反応温度は約Oから100℃である。反応時間は1から
lO時時間開である。
The reaction temperature is about 0 to 100°C. The reaction time is from 1 to 10 hours.

このようにして得られる化合物[■]またはその塩は反
応溶液のまま次反応に供してもよく又、自体公知の手段
により単離精製した後、次反応の原料として用いてもよ
い。
The compound [■] or a salt thereof thus obtained may be subjected to the next reaction as a reaction solution, or may be used as a raw material for the next reaction after being isolated and purified by means known per se.

反応の第2段階は化合物[■]またはその塩と低級アル
コールとの反応による化合物[■](但し、R1は前記
と同意義、Rt 、 Rsはそれぞれ低級アル本反応に
おいて、低級アルコールとしては、メタノール、エタノ
ール、n−プロパツール、tert−ブタノール、n−
ヘキサノール等の炭素数1から6のアルコール類が用い
られる。
The second step of the reaction is to form a compound [■] by reacting the compound [■] or a salt thereof with a lower alcohol (where R1 has the same meaning as above, Rt and Rs are each a lower alkyl in the main reaction, and the lower alcohol is: Methanol, ethanol, n-propanol, tert-butanol, n-
Alcohols having 1 to 6 carbon atoms such as hexanol are used.

低級アルコールは、化合物[■]またはその塩1モルに
対して約2から10モル用いるが、大過剰用いても差し
つかえなく、溶媒をかねて用いてもよい。
The lower alcohol is used in an amount of about 2 to 10 moles per mole of the compound [■] or its salt, but it may be used in large excess, and a solvent may also be used.

本反応は、反応に不活性な溶媒中で行なってもよい。適
当な溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、エチルエー
テル、ジオキサン、THE等のエーテル類、アセトン、
メチルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プ
ロピオニトリル等ノニトリル類、DMF’、DMAC,
HMPA等のアミド類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエ
ステル類、DMSO等のスルホキシド類が単独でまたは
混合して用いられる。
This reaction may be carried out in a solvent inert to the reaction. Suitable solvents include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, ethers such as ethyl ether, dioxane and THE, acetone,
Ketones such as methyl ethyl ketone, nonitriles such as acetonitrile and propionitrile, DMF', DMAC,
Amides such as HMPA, esters such as methyl acetate and ethyl acetate, and sulfoxides such as DMSO may be used alone or in combination.

反応温度は約室温から120℃である。反応時間は30
分から10時間程度である。
The reaction temperature is about room temperature to 120°C. Reaction time is 30
It takes about 10 minutes to 10 hours.

このようにして得られる化合物[11]またはその塩は
自体公知の単離精製手段、例えば、濃縮、減圧濃縮、減
圧蒸留、液性変換、転溶、塩析、溶媒抽出。
Compound [11] or a salt thereof thus obtained can be isolated and purified by known isolation and purification means, such as concentration, vacuum concentration, vacuum distillation, liquid conversion, dissolution, salting out, and solvent extraction.

結晶化、再結晶、クロマトグラフィー等により単離精製
することができる。
It can be isolated and purified by crystallization, recrystallization, chromatography, etc.

製造法1〜5の反応により得られる化合物[I[]≠た
≠*#噛は分子中に酸性基(5OyNHC−)を有し、
したがって反応において塩基を用いた場合には塩基との
塩として存在することもある。このような場合には必要
に応じて、たとえば塩酸、″@酸、リン酸、硝酸などの
無機酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエン
スルホン酸などの有機酸を添加することにより遊離型に
導くことができる。化合物[IL]が遊離型で得られる
場合、上記した塩基を加えて塩基塩とすることができ、
又上記した無機酸や有機酸を加えて酸付加塩とすること
もできる。
The compound obtained by the reaction of Production Methods 1 to 5 [I[]≠TA≠*# has an acidic group (5OyNHC-) in the molecule,
Therefore, when a base is used in the reaction, it may exist as a salt with the base. In such cases, if necessary, for example, inorganic acids such as hydrochloric acid, @acid, phosphoric acid, and nitric acid, and organic acids such as formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, and p-toluenesulfonic acid can be added to release the When compound [IL] is obtained in free form, it can be made into a base salt by adding the above-mentioned base,
Moreover, the above-mentioned inorganic acids and organic acids can be added to form acid addition salts.

上記化合物[II]またはその塩の原料化合物である化
合物「■′]またはその塩は自体公知の方法またはこれ
に準する方法により容易に製造される。
Compound "■'", which is a raw material compound for the above-mentioned compound [II] or a salt thereof, or a salt thereof can be easily produced by a method known per se or a method analogous thereto.

例えば化合物[■′]またはその塩は下記の図式で示さ
れる方法により容易に製造することができる。
For example, compound [■'] or a salt thereof can be easily produced by the method shown in the following scheme.

R1−8o、 −Hat    −」b−一÷  化合
物[■′][■] [上記式中の記号は前記と同意義を示すコ本反応は化合
物[■コまたはその塩とアンモニアとを反応させること
により行なわれる。
R1-8o, -Hat-''b-1 ÷ Compound [■'] [■] [Symbols in the above formula have the same meanings as above. This reaction involves reacting the compound [■] or a salt thereof with ammonia. This is done by

アンモニアは化合物[■コまたはその1モルに対して約
1から100モル、好ましくは約2から30モル用いる
Ammonia is used in an amount of about 1 to 100 mol, preferably about 2 to 30 mol, per 1 mol of the compound [1].

反応は通常溶媒中で行なわれる。適当な溶媒としては、
例えば、水、メタノール、プロペノール。
The reaction is usually carried out in a solvent. A suitable solvent is
For example, water, methanol, propenol.

ブタノール等のアルコール類、ジメチルスルホキシド、
DMF1DMA’C,メチルセロソルブ、ジメチルセロ
ソルブ、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のグ
ライム類、ジオキサン、THF’。
Alcohols such as butanol, dimethyl sulfoxide,
DMF1DMA'C, methyl cellosolve, dimethyl cellosolve, glymes such as diethylene glycol dimethyl ether, dioxane, THF'.

混合溶媒、または、これらの極性溶媒とクロロホルム、
ジクロロメタン等の非極性溶媒との混合物を用いること
ができる。反応温度は特に限定されないが、通常−40
から50’C程度にまで加熱して行なわれる。反応時間
は通常、数分ないし24時間程度である。
mixed solvent or these polar solvents and chloroform,
Mixtures with non-polar solvents such as dichloromethane can be used. The reaction temperature is not particularly limited, but is usually -40
This is done by heating the temperature to about 50'C. The reaction time is usually about several minutes to 24 hours.

化合物[■コまたはその塩は、自体公知の方法[例、ジ
ャーナル 才ブ ザ ケミカル ソサイアテイ(Jou
rnal ofThe Chemical 5ocie
ty) 1958年2903頁; ジャーナル 才ブ 
オーガニックケミストリー(Journal  of 
Organic Chemistry)第25巻182
4頁(1960年): オーガニック ファンクショナ
ル グループ プレパレイションズ(Organic 
Functional Group Preparat
ions)第1巻516頁(1972年)、アカデミツ
ク プレス、ニューヨーク アンド ロンドン; 特開
昭60−4556゜ジャーナルオブアメリカンケミカル
ソサイアティ第58巻1348頁(1936年)]また
はこれに準する方法により製造される。
Compounds [■ or salts thereof] can be prepared by methods known per se [e.g.
rnal ofThe Chemical 5ocie
ty) 1958, 2903 pages; Journal Saibu
Organic Chemistry (Journal of
Organic Chemistry) Volume 25, 182
Page 4 (1960): Organic Functional Group Preparations
Functional Group Preparation
ions) Vol. 1, p. 516 (1972), Academic Press, New York and London; JP-A-60-4556゜ Journal of the American Chemical Society, Vol. 58, p. 1348 (1936)] or a method similar thereto. Ru.

lレムAh rX7’1  rtz #]  rNl−
#1TLyc’  −J−1、”  M uで127C
1えば特開昭51−143686.テトラヘドロン(T
etrahedron)第29巻 691頁(1973
年)。
l Rem Ah rX7'1 rtz #] rNl-
#1TLyc'-J-1, 127C at Mu
For example, JP-A-51-143686. Tetrahedron (T
etrahedron) Volume 29, page 691 (1973
Year).

特願昭60−240258等に記載の方法もしくはこれ
に準する方法により容易に製造することができる。
It can be easily produced by the method described in Japanese Patent Application No. 60-240258 or similar methods.

化合物[■″]はアンゲバンデヘミー インターナショ
ナル エディジョン(Angewandte  Che
mie。
The compound [■″] is the Angewandte Chemie International Edition (Angewandte Chemie International Edition).
mie.

International  Edition)第4
巻 430頁(1965年); アルキーフ デアファ
ルマツイ(Archiv derPharmazie)
第299巻174頁(1966年);ケミカルアブスト
ラクツ(Chemical Abstracts)第6
4巻15783e(1966年);ヘミッシェ  ベリ
ヒテ(Chemische Berichte)第99
巻2885頁(1986年)に記載の方法或いはこれに
準する方法により容易に製造される。化合物[V″′コ
またはその塩は自体公知の方法により製造される。
International Edition) No. 4
Volume 430 (1965); Archiv der Pharmazie
Vol. 299, p. 174 (1966); Chemical Abstracts No. 6
Volume 4 15783e (1966); Chemische Berichte No. 99
It is easily produced by the method described in Vol. 2885 (1986) or a similar method. Compound [V''' or a salt thereof is produced by a method known per se.

以下の参考例、実施例で用いられる下記の記号は次のよ
うな意義を有する。
The following symbols used in the following Reference Examples and Examples have the following meanings.

S:シングレット d:ダブレット tニトリプレット
q:カルチット m:マルチプレット br、 :幅広
い参考例1 4.6−シメトキシー2−イソチオシアナトピリミジン アセトニトリル300Mlに4.6−シメトキシー2−
トリメチルシリルアミノピリミジン45.0gとフェニ
ル クロルチオノカーボネート35.0gを加え、10
時間加熱還流す°る。反応液を減圧下濃縮し、アセトニ
トリルを留去した後、残留物にトルエン300艷を加え
る。不溶物をろ過して除き、ろ液を減圧下濃縮し、残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒、
酢酸エチル:ヘキサン= 1 : 1 (V/V))で
精製する。
S: Singlet d: Doublet t Nitriplet q: Cultite m: Multiplet br, : Broad reference example 1 4.6-Simethoxy 2-isothiocyanatopyrimidine 300 ml of acetonitrile to 4.6-Simethoxy 2-
Add 45.0 g of trimethylsilylaminopyrimidine and 35.0 g of phenyl chlorothionocarbonate,
Heat to reflux for an hour. After concentrating the reaction solution under reduced pressure and distilling off acetonitrile, 300 g of toluene was added to the residue. Insoluble matter was removed by filtration, the filtrate was concentrated under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (elution solvent,
Purify with ethyl acetate:hexane=1:1 (V/V).

最初の溶出液から4.6−シメトキシー2−イソチオシ
アナトピリミジン17.0gが得られる。
17.0 g of 4,6-simethoxy 2-isothiocyanatopyrimidine are obtained from the first eluate.

mp、85〜86℃ IRν(液膜)cm−’ :1995 後の溶出液から2・−[N、N−ビス(フェノキシチオ
カルボニル)アミノ]−4,6−シメトキシピリミジン
3.5gが得られる。
mp, 85-86°C IRν (liquid film) cm-': 1995 3.5 g of 2-[N,N-bis(phenoxythiocarbonyl)amino]-4,6-cymethoxypyrimidine was obtained from the subsequent eluate. It will be done.

mp、127〜128℃ IRJ/(ヌジョールルm−’:1600,1295.
1190参考例2 S−(2−メトキシカルボニルベンジル)インチオ尿素
 塩酸塩 2−クロロメチル安息香酸メチル196gとチオ尿素8
3゜7gをエタノール500蔵に溶解し、4時間加熱還
流する。反応液を減圧下濃縮し、得られる残留物にイソ
プロピルアルコール300tdを加え析出する結晶をろ
取、乾燥すると標記化合物112.8gが得られる。
mp, 127-128°C IRJ/(nujoluru m-': 1600, 1295.
1190 Reference Example 2 S-(2-methoxycarbonylbenzyl)thiourea hydrochloride 196 g of methyl 2-chloromethylbenzoate and 8 thiourea
Dissolve 3.7g in 500ml of ethanol and heat under reflux for 4 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, 300 td of isopropyl alcohol was added to the resulting residue, and the precipitated crystals were collected by filtration and dried to obtain 112.8 g of the title compound.

mp、  196〜198°C N M R(da  D M S O)δppm、  
3.86(3H,s)、 4.77(2H,s)、 7
.3〜8.2(48,m)、 9.34(4H,br、
s)参考例3 2−メトキシカルボニルベンジルスルホンアミド 水2.4eと酢酸0.8ρの混合液に参考例2で得られ
る5−(2−メトキシカルボニルベンジル)イソチオ尿
素塩酸塩125gを溶解し、−5〜0°Cで攪拌しなが
ら塩素ガスを飽和になるまで吹き込る。
mp, 196-198°C NMR(daDMSO)δppm,
3.86 (3H, s), 4.77 (2H, s), 7
.. 3-8.2 (48, m), 9.34 (4H, br,
s) Reference Example 3 125 g of 5-(2-methoxycarbonylbenzyl)isothiourea hydrochloride obtained in Reference Example 2 was dissolved in a mixture of 2.4 e of 2-methoxycarbonylbenzyl sulfonamide water and 0.8 ρ of acetic acid, and - While stirring at 5-0°C, chlorine gas is blown into the mixture until it becomes saturated.

この結晶80.6gをジクロロメタン300−に溶解し
一5〜0℃でアンモニア水(濃アンモニア水70成と水
70蔵の混合液、以下同じ)を滴下し、冷却下2.5時
間攪拌する。反応液に水150dを加え、有機層を分液
し、°冷水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。
80.6 g of the crystals were dissolved in 300 °C of dichloromethane, and aqueous ammonia (a mixed solution of 70 parts of concentrated ammonia water and 70 parts of water, hereinafter the same) was added dropwise at -5 to 0°C, and the mixture was stirred for 2.5 hours under cooling. Add 150 d of water to the reaction solution, separate the organic layer, wash with cold water, and dry over anhydrous sodium sulfate.

ジクロロメタンを留去すると標記化合物45.7gが得
られる。
Dichloromethane is distilled off to obtain 45.7 g of the title compound.

mp、79〜81℃ NMR(CDCl2)δppm、  3.92(3H,
s)、 4.74(2H。
mp, 79-81°C NMR (CDCl2) δppm, 3.92 (3H,
s), 4.74 (2H.

s)、 4.90(2H,s)、 7.2〜8.5(4
H,+++)参考例4 S−(2−クロロベンジル)イソチオ尿素塩酸塩2−ク
ロロベンジルクロライド及びチオ尿素を用いて参考例2
と同様にして標記化合物が得られる。
s), 4.90 (2H, s), 7.2-8.5 (4
H, +++) Reference Example 4 S-(2-chlorobenzyl)isothiourea hydrochloride Reference Example 2 using 2-chlorobenzyl chloride and thiourea
The title compound is obtained in a similar manner.

mp、 185〜187°C IRν(液膜)cm−’: 3300,3050,16
30.14202−クロロベンジルスルホンアミド 5−(2−クロロベンジル)イソチオ尿素塩酸塩から参
考例3と同様にして標記化合物が得られる。
mp, 185-187°C IRν (liquid film) cm-': 3300, 3050, 16
30.14202-Chlorobenzylsulfonamide The title compound is obtained in the same manner as in Reference Example 3 from 5-(2-chlorobenzyl)isothiourea hydrochloride.

mp、  108〜109℃ IRν(液膜)cm−’: 3350,3270.11
2ON M R(da −D M S O)δppt 
 4.43(2H,s)、6.88(2H,s)、 7
.10〜7.52(4H,m)参考例6 5−クロル−1,3−ジメチルピラゾール−4−カルボ
ン酸エチル 濃塩酸90d、酢酸901n1及びリン酸19蔵の混合
液に5−アミノ−1,3−ジメチルピラゾール−4−カ
ルボン酸エチル16.6gを溶解し、−4から一5℃に
冷却する。これに攪拌しながら水16−に溶カルた亜硝
酸ナト1功°ムロ、9gを40分で滴下し、ジアゾニウ
ム塩溶液を調製する(ジアゾ化反応)。一方、濃塩酸1
001R1に3から5℃に冷却下、水23.5−に溶解
した亜硫酸水素ナトリウムt t、tgを滴下し、次い
で硫酸銅・5水塩2.5gを加える。この液を0から3
℃に保ち、先に調製したジアゾニウム塩溶液及び水24
1n1.に溶解した亜硫酸水素ナトリウム4.0gを同
時に滴下する。同温度で1時間攪拌し、ついで反応液を
氷水1(2にあけ、クロロホルムで抽出する。抽出液を
飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で
順次洗浄後無水硫酸ナトリウムで乾燥する。クロロホル
ムを留去すると黄橙色油状物質18.6gが得られる。
mp, 108-109℃ IRν (liquid film) cm-': 3350, 3270.11
2ON MR(da-DMSO)δppt
4.43 (2H, s), 6.88 (2H, s), 7
.. 10-7.52 (4H, m) Reference Example 6 Ethyl 5-chloro-1,3-dimethylpyrazole-4-carboxylate 5-amino-1, 16.6 g of ethyl 3-dimethylpyrazole-4-carboxylate is dissolved and cooled to -4 to -5°C. While stirring, 9 g of sodium nitrite dissolved in water was added dropwise over 40 minutes to prepare a diazonium salt solution (diazotization reaction). On the other hand, concentrated hydrochloric acid 1
While cooling to 001R1 at 3 to 5° C., sodium bisulfite tt,tg dissolved in 23.5° of water is added dropwise, and then 2.5 g of copper sulfate pentahydrate is added. Add this liquid from 0 to 3
℃ and the previously prepared diazonium salt solution and water 24
1n1. At the same time, 4.0 g of sodium bisulfite dissolved in water was added dropwise. Stir at the same temperature for 1 hour, then pour the reaction solution into ice water 1 (2) and extract with chloroform. The extract is washed successively with saturated brine, saturated sodium bicarbonate water, and saturated brine, and then dried over anhydrous sodium sulfate. After distilling off the chloroform, 18.6 g of a yellow-orange oil is obtained.

これを減圧蒸留すると、無色油状の標記化合物が得られ
る。
This is distilled under reduced pressure to obtain the title compound as a colorless oil.

bp、97〜98℃10.3IIIIIIHgIR1J
(液膜)cm−’: 170g、 152g、  12
95.1242゜1122、1085 参考例7 5−ベンジルチオ−1,3−ジメチルピラゾール−4−
カルボン酸エチル 60%(Y/W)油性水素化ナトリウム2.3gをn−
ペンタンで洗浄後DMF30−を加える。10℃以下に
冷却下ベンジルメルカプタン7.2gを滴下し、続いて
0から8℃に保ちなから5−クロル−1,3−ジメチル
ピラゾール−4−カルボン酸エチル11.7gをDMF
 10艷に溶解した液を50分で滴下する。同温度で1
時間、さらに室温で30分攪拌後水300M1にあける
。析出する結晶をろ取し、水洗、乾燥すると標記化合物
15.7gが得られる。
bp, 97-98℃10.3IIIIIIHgIR1J
(Liquid film) cm-': 170g, 152g, 12
95.1242°1122, 1085 Reference Example 7 5-benzylthio-1,3-dimethylpyrazole-4-
2.3 g of ethyl carboxylate 60% (Y/W) oily sodium hydride was added to n-
After washing with pentane, add DMF30-. 7.2 g of benzyl mercaptan was added dropwise while cooling to below 10°C, and then 11.7 g of ethyl 5-chloro-1,3-dimethylpyrazole-4-carboxylate was added in DMF while keeping the temperature between 0 and 8°C.
The solution dissolved in 10 liters was added dropwise over 50 minutes. 1 at the same temperature
After stirring for 30 minutes at room temperature, the mixture was poured into 300M1 water. The precipitated crystals are collected by filtration, washed with water, and dried to obtain 15.7 g of the title compound.

mp、51〜53℃ n−ヘキサンから再結品するとmp、57〜58℃の無
色結晶が得られる。
mp, 51-53°C. When recrystallized from n-hexane, colorless crystals with mp, 57-58°C are obtained.

I R1/(ヌジョール)cm−’: 1700,15
05,1250.1130参考例8 5−クロルスルホニル−1,3−ジメチルピラゾール−
4−カルボン酸エチル 参考例7で得られる5−ベンジルチオ−1,3−ジメチ
ルピラゾール−4−カルボン酸エチル31.5gを酢酸
200−に溶解し、さらに水125滅を加える。1から
4℃に冷却下攪拌しながらこれに塩素ガスを50分間吹
き込む。その後0℃で40分攪拌し、反応液を氷水l1
2にあける。酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄後
無水硫酸マ留物を減圧蒸留するとbp、115〜119
℃70゜25〜0.3mmHgQ標記化合物26.4g
が得られる。
I R1/(nujol) cm-': 1700,15
05,1250.1130 Reference Example 8 5-Chlorsulfonyl-1,3-dimethylpyrazole-
Ethyl 4-carboxylate 31.5 g of ethyl 5-benzylthio-1,3-dimethylpyrazole-4-carboxylate obtained in Reference Example 7 was dissolved in 200 g of acetic acid, and 125 g of water was added. Chlorine gas is blown into the mixture for 50 minutes while stirring and cooling to 1 to 4°C. Thereafter, the mixture was stirred at 0°C for 40 minutes, and the reaction solution was diluted with ice water (l1).
Open on 2. After extraction with ethyl acetate and washing with saturated brine, the anhydrous sulfuric acid residue was distilled under reduced pressure to obtain bp, 115-119.
℃70゜25-0.3mmHgQ Title compound 26.4g
is obtained.

IRν(液膜)clll−’: 1724,1392,
1255,1190.1115参考例9 5−アミノスルホニル−°1.3−ジメチルピラゾール
ー4−カルボン酸エチル 参考例8で得られる5−クロルスルホニル−1゜水25
−に5から7℃で滴下する。同温度で1時間攪拌後減圧
下濃縮乾固し、酢酸エチルを加えて不溶物をろ去し、ろ
液を減圧上濃縮する。n−ヘキサンで希釈後水冷すると
結晶が析出する。これをろ取、乾燥すると標記化合物3
.6gが得られる。
IRν (liquid film) clll-': 1724, 1392,
1255,1190.1115 Reference Example 9 Ethyl 5-aminosulfonyl-1,3-dimethylpyrazole-4-carboxylate 5-chlorosulfonyl-1° water obtained in Reference Example 8 25
- dropwise at 5 to 7°C. After stirring at the same temperature for 1 hour, the mixture was concentrated to dryness under reduced pressure, ethyl acetate was added, insoluble matter was filtered off, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. When diluted with n-hexane and cooled with water, crystals are precipitated. When this is collected by filtration and dried, the title compound 3 is obtained.
.. 6g is obtained.

mp、  112〜113°C ■Rν(ヌジa−ル>cm−’: 3350,3240
,1690,1513゜参考例1O 訃−丁−/Q−#+−++1.−7−−11.”yll
、−1−−+1.’lx+〆−(A−メトキシー6−メ
チルー2−ピリミジニル)チオ尿素 メチル N−(2−クロルフェニルスルホニル)ジチオ
カルバメート5.0gをキシレン20艷に溶解し、14
5℃で3.5時間加熱かくはんする。
mp, 112~113°C ■Rν(Nujia-ru>cm-': 3350,3240
, 1690, 1513° Reference Example 1O 訃-ding-/Q-#+-++1. -7--11. ”yll
, -1--+1. 'lx+〆-(A-methoxy6-methyl-2-pyrimidinyl)thiourea methyl N-(2-chlorophenylsulfonyl) dithiocarbamate (5.0 g) was dissolved in 20 g of xylene,
Heat and stir at 5°C for 3.5 hours.

この間メチルメルカプタンガスが発生する。反応終了後
減圧下キシレンを除去し、淡黄色油状物(2−クロルフ
ェニルスルホニルイソチオシアナート)を得る。(I 
R; 1900cm−’に強い一3O,NC3の吸収を
示す。)この油状物をアセトニトリル50−に溶解し、
2−アミノ−4−メトキシ−6−メチルピリミジン2.
8gを加え50℃で30分間かきまぜる。析出する結晶
をろ取、アセトニトリルより再結晶すると、白色プリズ
ム状結晶の標記化合物5゜6gが得られる。
During this time, methyl mercaptan gas is generated. After the reaction is completed, xylene is removed under reduced pressure to obtain a pale yellow oil (2-chlorophenylsulfonyl isothiocyanate). (I
R: Shows strong -3O,NC3 absorption at 1900 cm-'. ) Dissolve this oil in acetonitrile 50-
2-amino-4-methoxy-6-methylpyrimidine2.
Add 8g and stir at 50°C for 30 minutes. The precipitated crystals were collected by filtration and recrystallized from acetonitrile to obtain 5.6 g of the title compound in the form of white prismatic crystals.

mp、  186.5〜187.5℃ IRν(ヌジロール)cm″″宜、  3180. 1
610. 1525゜1460、1350 参考例11 N−(2−メトキシカルボニルベンジル)スルホニル−
N’−(4,6−シメトキシー2−°ピリミジニル)チ
オ尿素 アセトン400n+1に2−メトキシカルボニルベンジ
ルスルホンアミド25g、4.6−シメトキシー2−イ
ソチオシアナトピリミジン21.5gおよび無水炭酸カ
リウム15.1gを加え55℃で8.5時間攪拌後、析
出する結晶をろ取する。ろ液にさらに2gの無水炭酸カ
リウムを加え60℃で2時間攪拌後、析出する結晶をろ
取する。この結晶をさきの結晶と合わせて1.512の
水に懸濁し、酢酸でpH2とし1時間攪拌後結晶をろ取
、水洗、乾燥する。アセトニトリルから再結晶すると白
色粉末状標記化合物35゜9gが得られる。
mp, 186.5-187.5°C IRν (nujirol) cm″″, 3180. 1
610. 1525° 1460, 1350 Reference Example 11 N-(2-methoxycarbonylbenzyl)sulfonyl-
25 g of 2-methoxycarbonylbenzylsulfonamide, 21.5 g of 4,6-simethoxy 2-isothiocyanatopyrimidine and 15.1 g of anhydrous potassium carbonate were added to 400n+1 of N'-(4,6-simethoxy2-°pyrimidinyl)thiourea acetone. After stirring at 55° C. for 8.5 hours, the precipitated crystals were collected by filtration. After adding 2 g of anhydrous potassium carbonate to the filtrate and stirring at 60° C. for 2 hours, the precipitated crystals were collected by filtration. This crystal, together with the previous crystal, is suspended in 1.512 water, adjusted to pH 2 with acetic acid, stirred for 1 hour, and then the crystal is collected by filtration, washed with water, and dried. Recrystallization from acetonitrile gives 35.9 g of the title compound in the form of a white powder.

mp、  167〜168℃ IRvcヌジョール)cm−’;  3180.171
G、 1610゜1455、1360 、     ・ 参考例12 N−(1,3−ジメチル−4−エトキシカルボニル−5
−ピラゾールスルホニル)−N’−(4,6−シメトキ
シー2−ピリミジニル)チオ尿素5−アミノスルホニル
−1,3−ジメチルピラゾール−4−カルボン酸エチル
1.5g、2−[N。
mp, 167-168°C IRvc Nujol) cm-'; 3180.171
G, 1610°1455, 1360, Reference Example 12 N-(1,3-dimethyl-4-ethoxycarbonyl-5
1.5 g of ethyl 5-aminosulfonyl-1,3-dimethylpyrazole-4-carboxylate, 2-[N.

N−ビス(フェノキシチオカルボニル)アミノ]−4,
6−シメトキシピリミジン2.6g及び無水炭酸カリウ
ム0.8gをアセトン351n1の混合液を4時間加熱
還流する。室温まで冷却後不溶物をろ過して除き、ろ液
を減圧上濃縮乾固する。これを酢酸エチル・トルエン混
合溶媒に溶解後放置すると結晶が析出する。これをろ取
し水50滅に溶解する。ついで塩酸で1)H2とし析出
する結晶をろ取、水洗乾燥すると標記化合物0.4gが
得られる。mp。
N-bis(phenoxythiocarbonyl)amino]-4,
A mixture of 2.6 g of 6-simethoxypyrimidine and 0.8 g of anhydrous potassium carbonate in 351 n1 of acetone is heated under reflux for 4 hours. After cooling to room temperature, insoluble materials are removed by filtration, and the filtrate is concentrated to dryness under reduced pressure. When this is dissolved in a mixed solvent of ethyl acetate and toluene and left to stand, crystals will precipitate. This was filtered and dissolved in 50% water. Then, the crystals are converted to 1) H2 with hydrochloric acid, and the precipitated crystals are collected by filtration, washed with water, and dried to obtain 0.4 g of the title compound. mp.

127〜128℃ I R1/(ヌジジール)Cm−’: 3200,17
15.1605.1528゜1362.1205.11
92.1183参考例10と同様にして得られる化合物
を第1表に示す。
127-128°C I R1/(Nugidyl)Cm-': 3200,17
15.1605.1528゜1362.1205.11
92.1183 Compounds obtained in the same manner as Reference Example 10 are shown in Table 1.

一般式 以下に実施例を示し、本発明をさらに詳細に説明するな
(、本発明は何らこれらに限定されるものではない。
The present invention will be explained in more detail by showing examples below (although the present invention is not limited to these in any way).

実施例1 N’、N’−ビス(4,6−シメトキシー2−ピリミジ
ニル) −N * 、 N 4−ビス[(2−メトキシ
カルボニルベンジル)スルホニル]−α、α′−ジチオ
ービスホルムアミジン(化合物No、 1 )N−(4
,6−シメトキシー2−ピリミジニル)−N’−(2−
メトキシカルボニルベンジルスルホニル)チオ尿素1.
5gをメタノール20−に懸濁し、室温で28%(W/
W)ナトリウムメトキサイド0.68gを加える。つい
でこの溶液に−5から一10℃に冷却下、臭素0.28
gをメタノール1m12に溶解した液を滴下する。同温
度で1時間攪拌後、析出する結晶をろ取し、水及びメタ
ノールで洗浄すると白色結晶の標記化合物1.1gが得
られる。
Example 1 N',N'-bis(4,6-simethoxy2-pyrimidinyl)-N*,N4-bis[(2-methoxycarbonylbenzyl)sulfonyl]-α,α'-dithiobisformamidine (compound No, 1)N-(4
,6-Simethoxy2-pyrimidinyl)-N'-(2-
methoxycarbonylbenzylsulfonyl)thiourea1.
5 g was suspended in methanol 20-28% (W/
W) Add 0.68 g of sodium methoxide. Then, 0.28% of bromine was added to this solution while cooling to -5 to -10°C.
A solution prepared by dissolving g in methanol (1 ml) is added dropwise. After stirring at the same temperature for 1 hour, the precipitated crystals were collected by filtration and washed with water and methanol to obtain 1.1 g of the title compound as white crystals.

mp、187〜189℃ 元素分析値 C5tH34NsOttS+として計算値
(%’)  C,45,1’7; H,4,03: N
、13.02実測値(%)  C,45,08; H,
3,9L N、12.92I Rν(ヌジジール)cm
−’: 32G0.1715.1550゜850、76
0 実施例2 N1. N3−ビス(4,6−シメトキシー2−ピリミ
ジニル)−N*、N4−ビス(1,3−ジメチル−4−
エトキシカルボニル−5−ピラゾールスルホニル)−α
、α′−ジチオービスーホルムアミジン(化合物No、
2) N−(4,6−シメトキシー2−ピリミジニル)−N’
−(1,3−ジメチル−4−エトキシカルボニル−5−
ピラゾールスルホニル)チオ尿素1.1gをメタノール
20−に懸濁し、室温で28%(Y/W)ナトリウムメ
トキサイド0.47gを加える。この溶液に−5から一
10℃に冷却下臭素0.23gをメタノール1M/、に
溶解した液を滴下する。滴下後徐々に反応液の温度を室
温にまで昇温する。析出する結晶をろ取し、アセトニト
リルから再結晶すると白色状結晶の標記化合物0.6g
が得られる。
mp, 187-189°C Elemental analysis value Calculated value as C5tH34NsOttS+ (%') C,45,1'7; H,4,03: N
, 13.02 Actual value (%) C, 45,08; H,
3.9L N, 12.92I Rν cm
-': 32G0.1715.1550°850, 76
0 Example 2 N1. N3-bis(4,6-simethoxy2-pyrimidinyl)-N*, N4-bis(1,3-dimethyl-4-
Ethoxycarbonyl-5-pyrazolesulfonyl)-α
, α′-dithiobis-formamidine (compound No.
2) N-(4,6-simethoxy2-pyrimidinyl)-N'
-(1,3-dimethyl-4-ethoxycarbonyl-5-
1.1 g of pyrazolesulfonyl)thiourea is suspended in 20-methanol and 0.47 g of 28% (Y/W) sodium methoxide is added at room temperature. A solution prepared by dissolving 0.23 g of bromine in 1M methanol is added dropwise to this solution while cooling at -5 to -10°C. After the dropwise addition, the temperature of the reaction solution is gradually raised to room temperature. The precipitated crystals were collected by filtration and recrystallized from acetonitrile to give 0.6 g of the title compound as white crystals.
is obtained.

+11p、147〜148℃ 元素分析値 C,。N3゜N 、、O□S4として計算
値(%)  C,40,62,H,4,32,N、18
.95実測値(%)C,40,48,H,4,18,N
、19.15I Rν(ヌジョール)cm=’: 17
10.1625.1560゜1350、 1260. 
860 実施例1と同様にして得られる化合物を第2表に示す。
+11p, 147-148℃ Elemental analysis value C,. Calculated value (%) as N3゜N,,O□S4 C,40,62,H,4,32,N,18
.. 95 Actual value (%) C, 40, 48, H, 4, 18, N
, 19.15I Rν (nujol) cm=': 17
10.1625.1560°1350, 1260.
860 Compounds obtained in the same manner as in Example 1 are shown in Table 2.

一般式 キシレン           75  重量%ジメチ
ルホルムアミド     18  重量%ポリエチレン
グリコールエーテル(ノニボール85■)      
      5 重量、を混合してなる乳剤。(水に適
宜希釈して使用)製剤例2 水和剤 化合物No、 2         30  重量%リ
グニンスルホン酸ナトリウム 5 重量%ポリオキシエ
チレングリコールエーテル(ノニボール850)   
      5  重量%クレイ          
   55  重量%ホワイトカーボン       
 5 重量%を混合粉砕してなる水和剤。(水に適宜希
釈して使用) 製剤例3 粒剤 化合物N083        0.5重量%リグニン
スルホン酸ナトリウム  2 重量%ベントナイト  
       57.5重量%タルク        
     40  重量%の混合物に水を加えてねり合
せ造粒してなる粒剤。
General formula xylene 75% by weight dimethylformamide 18% by weight polyethylene glycol ether (Noniball 85■)
An emulsion made by mixing 5 weight. (Used after diluting appropriately with water) Formulation Example 2 Wettable powder Compound No. 2 30% by weight Sodium ligninsulfonate 5% by weight Polyoxyethylene glycol ether (Noniball 850)
5 wt% clay
55% by weight white carbon
A wettable powder made by mixing and pulverizing 5% by weight. (Used after appropriately diluting with water) Formulation example 3 Granule compound N083 0.5% by weight Sodium ligninsulfonate 2% by weight Bentonite
57.5% by weight talc
Granules made by adding water to a 40% by weight mixture and kneading and granulating it.

発明の効果 試験例1 1 /10000アールのワグナ−ポットに水田土壌を
つめタマガヤツリを播種し、約1週間栽培後水稲稚苗2
株を移植する。別のポットにはイヌホタルイの種子をま
き、更に他のポットにはマツバイ越冬茎を含む水田土壌
をまき、ウリカワの萌芽塊茎を植付けた後ミズガヤツリ
の萌芽塊茎の芽を地表に露出させて植付ける。いずれの
ポットも湛水3cmとし、水稲移植1週間後(タイヌビ
エ1葉期)に製剤例3と同一の方法で製造された化合物
[1]0.2重量%を含む粒剤を有効成分[化合物[1
]]が1アール当り0.5gになる様に湛水中に施用す
る。
Effect test example 1 of the invention 1/10,000 are Wagner pot was filled with paddy soil and sown cypress, and after about one week of cultivation, paddy rice seedlings 2
Transplant the stock. In another pot, seeds of Inuhotarui are sown, and in another pot, paddy soil containing overwintering stems of Pinus vulgare is sown, and after planting the sprouted tubers of Cyperus japonica, the buds of the sprouted tubers of Cyperus japonica are planted on the ground. Each pot was flooded with 3 cm of water, and granules containing 0.2% by weight of Compound [1] produced in the same manner as Formulation Example 3 were added to the active ingredient [Compound [1
]] is applied in flooded water so that the amount is 0.5 g per are.

対照薬剤としてシフト922.5%粒剤を有効成分が1
アール当り5、Ogとなる様に施用する。薬剤施用21
日後にそれぞれの供試化合物の除草効果を調査する。
As a control drug, Shift 922.5% granules were used as an active ingredient.
Apply at a rate of 5.0g per area. Chemical application 21
After a day, the herbicidal effect of each test compound is investigated.

除草効果は次の指数で表示する(以下の試験例において
も同じ)。
The herbicidal effect is expressed using the following index (the same applies to the test examples below).

指数   効果    抑制率(殺草率)%0    
無        O 1小        0.1〜50 2    中        50.1〜753   
 大       75.1〜87.54   極大 
   87.6〜99.95   完全枯死  100 結果を第3表に示す。
Index Effect Suppression rate (weed killing rate)%0
None O 1 Small 0.1~50 2 Medium 50.1~753
Large 75.1~87.54 Maximum
87.6-99.95 Complete withering 100 The results are shown in Table 3.

第3表 1対照薬剤 上記結果から、本発明の化合物[1]は公知の除草性化
合物に比べ除草活性が高いことが明らかである。
Table 3 1 Control drug From the above results, it is clear that the compound [1] of the present invention has higher herbicidal activity compared to known herbicidal compounds.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R_1は置換されていてもよいフェニル基、置
換されていてもよいベンジル基または置換されていても
よいピラゾール基を、R_2、R_3は低級アルキル基
または低級アルコキシ基を、ZはCHまたはNをそれぞ
れ示す]で表わされる化合物またはその塩。
[Claims] General formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ [In the formula, R_1 is an optionally substituted phenyl group, an optionally substituted benzyl group, or an optionally substituted pyrazole group , R_2 and R_3 represent a lower alkyl group or a lower alkoxy group, and Z represents CH or N, respectively] or a salt thereof.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9803937B2 (en) 2013-01-31 2017-10-31 Hewlett Packard Enterprise Development Lp Liquid cooling
US10571206B2 (en) 2012-09-28 2020-02-25 Hewlett Packard Enterprise Development Lp Cooling assembly

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