JPS6386238A - 荷電粒子引き込み機構 - Google Patents
荷電粒子引き込み機構Info
- Publication number
- JPS6386238A JPS6386238A JP61230755A JP23075586A JPS6386238A JP S6386238 A JPS6386238 A JP S6386238A JP 61230755 A JP61230755 A JP 61230755A JP 23075586 A JP23075586 A JP 23075586A JP S6386238 A JPS6386238 A JP S6386238A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- electrode
- electric field
- cylinder part
- charged particle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 26
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims abstract description 23
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 4
- 150000002500 ions Chemical group 0.000 description 8
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 7
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
本発明は、二次イオン質量分析装置等において用いられ
る荷電粒子引き込み機構に係り、特には、サンプルと相
対して前記サンプルとの間に電圧がかけられるように引
き込み電極が設けられ、励起ビームが照射された際に前
記サンプルから放出される荷電粒子を引き込み電極側に
引き込むように構成された荷電粒子引き込み機構に関す
る。
る荷電粒子引き込み機構に係り、特には、サンプルと相
対して前記サンプルとの間に電圧がかけられるように引
き込み電極が設けられ、励起ビームが照射された際に前
記サンプルから放出される荷電粒子を引き込み電極側に
引き込むように構成された荷電粒子引き込み機構に関す
る。
（ロ）従来技術とその問題点
従来のこの種の荷電粒子引き込み機構としては、第２図
に示すようなものがある。
に示すようなものがある。
第２図において、１０１が質量分析計の引き込み電極で
、この引き込み電極１０１に相対してサンプル１０２が
設けられ、電源１０３により引き込み電極１０１とサン
プル１０２間に電圧が印加されている。そして、例えば
二次イオン質量分析計の場合、イオン銃からのイオンビ
ーム１０４がサンプル１０２に照射されることにより、
サンプル１０２表面から放出される正電位の二次イオン
を、負電位の引き込み電極１０１側に引き込むように構
成されている。
、この引き込み電極１０１に相対してサンプル１０２が
設けられ、電源１０３により引き込み電極１０１とサン
プル１０２間に電圧が印加されている。そして、例えば
二次イオン質量分析計の場合、イオン銃からのイオンビ
ーム１０４がサンプル１０２に照射されることにより、
サンプル１０２表面から放出される正電位の二次イオン
を、負電位の引き込み電極１０１側に引き込むように構
成されている。
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合で
は、図に示すように、サンプル１０２のイオンビーム１
０４の照射面が、引き込み電極１０１に対して傾いて位
置している場合、電界ａが乱れて放出される二次イオン
１０５の軌道が乱れ、引き込み電極１０１の上段に位置
する収束レンズ系での二次イオン１０５の収束が効率良
く行なわれない欠点があった。
は、図に示すように、サンプル１０２のイオンビーム１
０４の照射面が、引き込み電極１０１に対して傾いて位
置している場合、電界ａが乱れて放出される二次イオン
１０５の軌道が乱れ、引き込み電極１０１の上段に位置
する収束レンズ系での二次イオン１０５の収束が効率良
く行なわれない欠点があった。
また、サンプル１０２面が引き込み電極１０１に正対し
ていても、サンプル１０２が絶縁物であると、サンプル
１０２のチャージアップを補正するために、第３図に示
すように低エネルギーの電子ビーム１０６を照射する場
合があり、この時、サンプル１０２と引き込み電極１０
１間に電界ａが存在すると、電子ビーム１０６の軌道が
曲げられて、電子ビーム１０６がサンプル１０２にうま
く照射できない欠点があった。
ていても、サンプル１０２が絶縁物であると、サンプル
１０２のチャージアップを補正するために、第３図に示
すように低エネルギーの電子ビーム１０６を照射する場
合があり、この時、サンプル１０２と引き込み電極１０
１間に電界ａが存在すると、電子ビーム１０６の軌道が
曲げられて、電子ビーム１０６がサンプル１０２にうま
く照射できない欠点があった。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、サンプルの励起ビームの照射面が引き込み電極に対
してどのような状態であっても、サンプルからの荷電粒
子がその軌道を乱すことなく引き込み電極に引き込まれ
、また、チャージアップ補正のためのサンプル面への電
子ビーム照射が効率良く行えるようにすることを目的と
する。
て、サンプルの励起ビームの照射面が引き込み電極に対
してどのような状態であっても、サンプルからの荷電粒
子がその軌道を乱すことなく引き込み電極に引き込まれ
、また、チャージアップ補正のためのサンプル面への電
子ビーム照射が効率良く行えるようにすることを目的と
する。
（ハ）問題点を解決するだめの手段
本発明は、このような目的を達成するために、冒頭に記
載した荷電粒子引き込み機構において、前記サンプルと
前記引き込み電極間に、前記サンプルと同電位で、しか
も、前記引き込み電極との間に等電位面が平行に位置す
る電界を形成する荷電粒子の導入部を介在する構成とし
た。
載した荷電粒子引き込み機構において、前記サンプルと
前記引き込み電極間に、前記サンプルと同電位で、しか
も、前記引き込み電極との間に等電位面が平行に位置す
る電界を形成する荷電粒子の導入部を介在する構成とし
た。
（ニ）作用
本発明は、上記構成により、荷電粒子の導入部とサンプ
ルとは同電位であるのでその間には電界が形成されず、
さらに、導入部と引き込み電極間に形成される電界は等
電位面が平行で全体にわたって電位勾配が等しいので、
サンプルがどのような状態に位置していてもそのサンプ
ルからの荷電粒子を乱すことなく引き込み電極に引き込
み、また、サンプルのチャージアップ補正のための電子
ビームのサンプルへの照射を妨げない。
ルとは同電位であるのでその間には電界が形成されず、
さらに、導入部と引き込み電極間に形成される電界は等
電位面が平行で全体にわたって電位勾配が等しいので、
サンプルがどのような状態に位置していてもそのサンプ
ルからの荷電粒子を乱すことなく引き込み電極に引き込
み、また、サンプルのチャージアップ補正のための電子
ビームのサンプルへの照射を妨げない。
（ホ）実施例
以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。第１図は、本発明の実施例に係る荷電粒子引き込
み機構の簡略構成図である。
する。第１図は、本発明の実施例に係る荷電粒子引き込
み機構の簡略構成図である。
図において、■が引き込み電極、２がサンプルであり、
両者間に電源３により電圧が印加されている。
両者間に電源３により電圧が印加されている。
そして、４が荷電粒子の導入部としての導電性材料より
なる筒部であり、引き込み電極ｌとサンプル２間に介在
され、その下端開口５をサンプル２に相対さけている。
なる筒部であり、引き込み電極ｌとサンプル２間に介在
され、その下端開口５をサンプル２に相対さけている。
この筒部４にも電源３が接続され、筒部４はサンプル２
と同じ正の電位とされている。筒部４は、引き込み電極
ｌとサンプル２間に荷電粒子６の通過路を形成し、しか
も、引き込み電極ｌとの間に、等電位面が平行に位置し
て全体にわたって電位勾配が等しい電界ａが形成される
ように設けられる。等電位面が平行に位置する電界ａを
形成するように、筒部４は、その軸芯位置を引き込み電
極ｌの軸芯位置に合致して、筒部４と引き込み電極１間
の距離が対称位置においてほぼ等しくなるように設けら
れている。引き込み重陽１及び筒部４は、荷電粒子６の
引き込み効率を良くするために、できるだけサンプル２
に近接するように配置されることが好ましい。また、実
際の筒部４の取り付けは、例えば、引き込み電極ｌの構
成部の外周に絶縁的に取り付けて行う。
と同じ正の電位とされている。筒部４は、引き込み電極
ｌとサンプル２間に荷電粒子６の通過路を形成し、しか
も、引き込み電極ｌとの間に、等電位面が平行に位置し
て全体にわたって電位勾配が等しい電界ａが形成される
ように設けられる。等電位面が平行に位置する電界ａを
形成するように、筒部４は、その軸芯位置を引き込み電
極ｌの軸芯位置に合致して、筒部４と引き込み電極１間
の距離が対称位置においてほぼ等しくなるように設けら
れている。引き込み重陽１及び筒部４は、荷電粒子６の
引き込み効率を良くするために、できるだけサンプル２
に近接するように配置されることが好ましい。また、実
際の筒部４の取り付けは、例えば、引き込み電極ｌの構
成部の外周に絶縁的に取り付けて行う。
次に、この実施例の作用について説明する。
今、電源３により電圧を印加すると、引き込み電極１は
負電位となり、筒部４が正電位となり、サンプル２は筒
部４とほぼ同電圧の正電位となる。
負電位となり、筒部４が正電位となり、サンプル２は筒
部４とほぼ同電圧の正電位となる。
従って、引き込み電極ｌと筒部４間に電界ａが形成され
るが、筒部４とサンプル２間には電界は形成されない。
るが、筒部４とサンプル２間には電界は形成されない。
上記電界ａは、筒部４と引き込み電極１間の距離を対称
位置においてほぼ等しくなるようにしているので、図に
示すように筒部４内にほぼ等電位面が平行に位置して全
体にわたって電位勾配が等しくなるように形成される。
位置においてほぼ等しくなるようにしているので、図に
示すように筒部４内にほぼ等電位面が平行に位置して全
体にわたって電位勾配が等しくなるように形成される。
従って、励起ビーム７が照射された際にサンプル２から
放出される荷電粒子６は、電界が存在しないので、直線
的に筒部４に至り、さらに、筒部４内の電界ａが等電位
面が平行に位置して全体の電位勾配が等しいので、乱さ
れることなく引き込み電極ｌに引き込まれる。
放出される荷電粒子６は、電界が存在しないので、直線
的に筒部４に至り、さらに、筒部４内の電界ａが等電位
面が平行に位置して全体の電位勾配が等しいので、乱さ
れることなく引き込み電極ｌに引き込まれる。
また、サンプル２のチャージアップ補正のために照射す
る電子ビームも、電界ａが存在しないので曲がることな
くサンプル２面に至る。
る電子ビームも、電界ａが存在しないので曲がることな
くサンプル２面に至る。
この発明の荷電粒子の引き込み機構は、二次イオン質量
分析計の他に、Ｘ線光電子分析計等にも使用できる。
分析計の他に、Ｘ線光電子分析計等にも使用できる。
（へ）効果
以上のように、本発明によれば、荷電粒子の導入部とサ
ンプルとは同電位であるのでその間には電界が形成され
ず、さらに、導入部と引き込み電極間に形成される電界
はその等電位面が平行に位置して全体にわたって電位勾
配が等しいので、引き込み電極に対しどのような状態に
位置するサンプルからの荷電粒子も、乱れることなく導
入部を通過して引き込み電極へ至り、また、上記したサ
ンプルのチャージアップのための電子ビームも電界が存
在しないのでサンプルに効率良く照射できるようになっ
た。
ンプルとは同電位であるのでその間には電界が形成され
ず、さらに、導入部と引き込み電極間に形成される電界
はその等電位面が平行に位置して全体にわたって電位勾
配が等しいので、引き込み電極に対しどのような状態に
位置するサンプルからの荷電粒子も、乱れることなく導
入部を通過して引き込み電極へ至り、また、上記したサ
ンプルのチャージアップのための電子ビームも電界が存
在しないのでサンプルに効率良く照射できるようになっ
た。
第１図は、本発明の実施例の簡略構成図、第２図、第３
図それぞれは、従来例を示す簡略構成図である。 ■は引き込み電極、２はサンプル、４は筒部（荷電粒子
の導入部）。
図それぞれは、従来例を示す簡略構成図である。 ■は引き込み電極、２はサンプル、４は筒部（荷電粒子
の導入部）。
Claims (1)
- （１）サンプルと相対して前記サンプルとの間に電圧が
かけられるように引き込み電極が設けられ、励起ビーム
が照射された際に前記サンプルから放出される荷電粒子
を引き込み電極側に引き込むように構成された荷電粒子
引き込み機構において、前記サンプルと前記引き込み電
極間に、前記サンプルと同電位で、しかも、前記引き込
み電極との間に等電位面が平行に位置する電界を形成す
る荷電粒子の導入部が介在されてなることを特徴とする
荷電粒子引き込み機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61230755A JP2550033B2 (ja) | 1986-09-27 | 1986-09-27 | 荷電粒子引き込み機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61230755A JP2550033B2 (ja) | 1986-09-27 | 1986-09-27 | 荷電粒子引き込み機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6386238A true JPS6386238A (ja) | 1988-04-16 |
| JP2550033B2 JP2550033B2 (ja) | 1996-10-30 |
Family
ID=16912766
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61230755A Expired - Lifetime JP2550033B2 (ja) | 1986-09-27 | 1986-09-27 | 荷電粒子引き込み機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2550033B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03191148A (ja) * | 1989-12-20 | 1991-08-21 | Misawa Homes Co Ltd | コーナー用パネルの取付方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5124291A (ja) * | 1974-08-23 | 1976-02-27 | Hitachi Ltd |
-
1986
- 1986-09-27 JP JP61230755A patent/JP2550033B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5124291A (ja) * | 1974-08-23 | 1976-02-27 | Hitachi Ltd |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03191148A (ja) * | 1989-12-20 | 1991-08-21 | Misawa Homes Co Ltd | コーナー用パネルの取付方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2550033B2 (ja) | 1996-10-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2456474A (en) | Electric discharge device | |
| ATE29623T1 (de) | Magnetron kathodenzerstauebungssystem. | |
| GB1145107A (en) | Ion beam microanalyser | |
| WO1988009051A1 (en) | Integrated charge neutralization and imaging system | |
| US5780859A (en) | Electrostatic-magnetic lens arrangement | |
| US3887830A (en) | Cathode ray tube with magnetic beam alignment means | |
| JPS6329436A (ja) | 収差を補正する手段を有する荷電粒子光学システム | |
| JPS63308854A (ja) | イオン源装置 | |
| JPS62108438A (ja) | 空間電荷レンズを使用した高電流質量分光計 | |
| JPS6386238A (ja) | 荷電粒子引き込み機構 | |
| JPS5927075B2 (ja) | 走査型電子顕微鏡 | |
| US2509763A (en) | Electric discharge tube with directional electron beam | |
| US2825833A (en) | Electron tube for magnetic induction accelerator | |
| US3046442A (en) | High perveance beam forming system | |
| US3286187A (en) | Ion source utilizing a spherically converging electric field | |
| US2592242A (en) | Electron gun and mounting therefor | |
| US2861208A (en) | Combination focusing and converging lens for multiple beam tubes | |
| US2611878A (en) | Particle source | |
| US3221164A (en) | Ion source for mass filter wherein the electron and ion beam axes are the same | |
| US3857014A (en) | Electron beam generator | |
| Delmore et al. | An autoneutralizing neutral molecular beam gun | |
| US3030506A (en) | X-ray shadow microscope | |
| US2806956A (en) | Mass spectrometry | |
| JPS61263039A (ja) | 質量分析計 | |
| US2939980A (en) | Image reproduction device structure |