JPS6383994A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 16
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims abstract description 63
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 30
- 238000005513 bias potential Methods 0.000 abstract description 20
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 abstract description 17
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 7
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- WYROLENTHWJFLR-ACLDMZEESA-N queuine Chemical compound C1=2C(=O)NC(N)=NC=2NC=C1CN[C@H]1C=C[C@H](O)[C@@H]1O WYROLENTHWJFLR-ACLDMZEESA-N 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
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- Manipulation Of Pulses (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的コ
(産業上の利用分野)
この発明は基準電位発生回路を向゛し、外部信号をこの
回路で得られた基桑電位と比較することにより外部信号
の論理レベル判定を行なって内部に取り込むようにした
半導体集積回路に関する。[Detailed Description of the Invention] [Objective of the Invention (Industrial Application Field) The present invention is directed to a reference potential generation circuit, and is capable of generating an external signal by comparing an external signal with a reference potential obtained by this circuit. The present invention relates to a semiconductor integrated circuit that determines the logic level of a semiconductor device and incorporates the result into the semiconductor integrated circuit.
(従来の技術)
近年、半導体集積回路は素子の微細化により高集積化が
急速に進んでおり、それに伴い動作時の過渡電流が増加
する傾向にある。特に、半導体メモリでは、パッケージ
寸法の制約からチップサイズは従来よりもますます縦長
になりつつある。(Prior Art) In recent years, semiconductor integrated circuits have rapidly become highly integrated due to miniaturization of elements, and as a result, transient currents during operation tend to increase. In particular, in semiconductor memories, chip sizes are becoming increasingly longer than before due to restrictions on package dimensions.
この結果、チップ内部の電源配線幅か細くかつ長(なり
、チップ内部のインピーダンス成分か増加する傾向にあ
る。As a result, the width of the power supply wiring inside the chip becomes thinner and longer (and the impedance component inside the chip tends to increase).
このような素子の微細化及び動作時の過渡電流の増加並
びにチップ内部のインピーダンス成分の増加は、半導体
メモリなどのようにセンスアンプを含む回路の動作に大
きな影響を与えている。例えば、1Mビットの記憶容量
を持つダイナミックRAM(以下D RA Mと称する
)を例にしてその問題点を具体的に説明する。いま、1
本のビット線にメモリセルが128個接続され、チップ
は分割動作型を採用しているとする。この分割動作型と
は、ピーク電流とアクセス時の消費電流の低減のため、
メモリセルアレイを複数の領域に分割し、アクセス時に
選択されたメモリセルアレイ領域のみを動作させる方式
である。例えば、4アレイ構成のチップではそのうち2
アレイ領域が選択的に動作状態になるという制御か行な
われる。そして、1MビットのDRAMの場合、ビット
線の零敗は冗長なビット線を除いて4096対の819
2本あるが、このうち半数の2048対の4096本は
分割動作方式のために全く動作せず、動作する残り半数
の4096木のビット線がプリチャージ時に充電され、
さらにアクティブ時に4096本の半数のビット線、す
なわち2048本のビット線がメモリセルからの読み出
しデータに基づいて放電される。The miniaturization of such elements, the increase in transient current during operation, and the increase in impedance components inside the chip are having a significant impact on the operation of circuits including sense amplifiers, such as semiconductor memories. For example, the problems of a dynamic RAM (hereinafter referred to as DRAM) having a storage capacity of 1 Mbit will be specifically explained. Now, 1
It is assumed that 128 memory cells are connected to one bit line and the chip adopts a divided operation type. This split operation type is designed to reduce peak current and current consumption during access.
This method divides the memory cell array into multiple regions and operates only the memory cell array region selected at the time of access. For example, in a chip with 4 array configuration, 2 of them are
Control is performed such that array areas are selectively activated. In the case of a 1M bit DRAM, the number of bit line zero failures is 819 out of 4096 pairs, excluding redundant bit lines.
There are two bit lines, but half of them, 4096 bit lines of 2048 pairs, do not operate at all due to the split operation method, and the remaining half of the 4096 bit lines that operate are charged during precharging.
Further, when active, half of the 4096 bit lines, ie, 2048 bit lines, are discharged based on data read from the memory cells.
ところで、DRAMなどのようなメモリは半導体基板上
に集積化されており、基板内に形成されたMOSトラン
ジスタの閾値電圧の安定化を図るため、通常、基板には
所定のバイアス電圧が印加されている。このような効果
は一般に基板バイアス効果として知られている。By the way, memories such as DRAMs are integrated on semiconductor substrates, and in order to stabilize the threshold voltage of MOS transistors formed within the substrate, a predetermined bias voltage is usually applied to the substrate. There is. Such an effect is generally known as a substrate bias effect.
ところで、DRAMが集積化されている基板は、電源電
圧、接地電圧、ビット線の拡散層それぞれとの間で接合
容量を持っている。このため、動作時に充、放電される
ビット線の電位変化に応じて基板バイアス電位も変動す
る。一般に、ビット線と基板との間の容量結合比rb(
一般にブートストラップ比と称される)は約0.14稈
度である。Incidentally, the substrate on which the DRAM is integrated has junction capacitance between the power supply voltage, the ground voltage, and the diffusion layer of the bit line. Therefore, the substrate bias potential also fluctuates in response to changes in the potential of the bit line that is charged and discharged during operation. In general, the capacitive coupling ratio rb(
The bootstrap ratio (commonly referred to as the bootstrap ratio) is approximately 0.14 culm.
そこで、ビット線電位が接地電圧VSSから電源電圧V
CCに、または電源電圧VCCから接地電圧VSSに変
化する際の基板電位VSUBの変動分±ΔVSUBは、
VCCを5V、VSSをOVとすると次式で与えられる
。Therefore, the bit line potential changes from the ground voltage VSS to the power supply voltage VSS.
The variation ±ΔVSUB in the substrate potential VSUB when changing to CC or from the power supply voltage VCC to the ground voltage VSS is:
When VCC is 5V and VSS is OV, it is given by the following equation.
±Δvs U B ””±(Vcc Vss)Xrb
−± 5X0. 14
一±0. 7 (V) ・・・ 1他
方、MOSトランジスタで構成されたDRAMにおける
アドレスバッファ、データインバッファなどでは、外部
から入力されるTTLレベルのデータを内部で使用する
MOSレベルに変換する必要かある。そこで、MOSl
−ランジスタて構成されたDRAMでは、これらアドレ
スバッファ、データインバッファなどの初段にはレベル
比較回路か設けられている。これらレベル比較回路にお
いて、レベル比較の見学となる基や電位は基準電位発生
回路で形成されている。さらに、この基準電位発生回路
では、一般にこれらの基準電位を多結晶シリコンで構成
された段数の抵抗による抵抗分割で形成するようにして
いる。±Δvs U B ””±(Vcc Vss)Xrb
-±5X0. 14 1±0. 7 (V)...1 On the other hand, in address buffers, data-in buffers, etc. in DRAMs composed of MOS transistors, it is necessary to convert externally input TTL level data to MOS level data for internal use. Therefore, MOS
- In a DRAM configured with transistors, a level comparison circuit is provided at the first stage of these address buffers, data-in buffers, etc. In these level comparison circuits, the base or potential used for level comparison is generated by a reference potential generation circuit. Furthermore, in this reference potential generation circuit, these reference potentials are generally formed by resistance division using a number of stages of resistors made of polycrystalline silicon.
第5図はDRAMで使用される上記基準電位発生回路を
アドレスバッファ、データインバッファなどとともに示
すD RA Mの一部分の構成を示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing the configuration of a portion of a DRAM, showing the reference potential generation circuit used in the DRAM together with an address buffer, a data in buffer, and the like.
基準電位発生回路60では、電rl+X電圧VCCのノ
ードとアース電圧VSSのノードとの間にはそれぞれ多
結晶シリコンで構成された複数個の抵抗61が直列接続
されている。これら抵抗の各直列接続点と基板62との
間には寄生容量63かそれぞれ吟価的に接続されている
。この基準電位発生回路60て形成された基準電位VR
EFは、例えばアルミニュームなどで構成されている配
線70を介してアドレスバッファ80、データインバッ
ファ 100などに供給されている。上記アドレスバッ
ファ80、データインバッファ 100は一つのアドレ
スバッファ80で例示するように、MOSl−ランジス
タ81ないし84を含み、一対の電位を比較するフリッ
プフロップ回路85、このフリップフロップ回路85に
対し制御信号φに同期して外部アドレス入力信号AIN
を一方入力して供給する2個のMOSトランジスタ8B
、87で構成されたスイッチ回路88、同様にこのフリ
ップフロップ回路85に対しHil制御制御信号同期し
て上記基準電位v、、E Fを他方人力して供給する2
個のMOSトランジスタ89.90て構成されたスイッ
チ回路91、上記フリップフロップ回路85の比較結果
を保持するバッファ回路92などから構成されている。In the reference potential generation circuit 60, a plurality of resistors 61 each made of polycrystalline silicon are connected in series between the node of the voltage rl+X voltage VCC and the node of the ground voltage VSS. A parasitic capacitance 63 is selectively connected between each series connection point of these resistors and the substrate 62. The reference potential VR generated by this reference potential generation circuit 60
The EF is supplied to an address buffer 80, a data in buffer 100, etc. via a wiring 70 made of aluminum or the like. The address buffer 80 and the data-in buffer 100 include MOS1-transistors 81 to 84, as exemplified by one address buffer 80, a flip-flop circuit 85 for comparing a pair of potentials, and a control signal for this flip-flop circuit 85. External address input signal AIN is synchronized with φ.
Two MOS transistors 8B that input and supply
, 87, and similarly, the flip-flop circuit 85 is manually supplied with the reference potentials v, , E F in synchronization with the Hil control signal 2
The circuit includes a switch circuit 91 formed of MOS transistors 89 and 90, a buffer circuit 92 for holding the comparison result of the flip-flop circuit 85, and the like.
ここで、上記配線70にも直列に寄生抵抗71が接続さ
れており、かつ電源電圧Vcc、アース電圧VSS、基
板62との間にも寄生容−72,73,74がそれぞれ
接続されている。従って、基準電位発生回路60と基板
62との間にも容量結合比が存在し、この値は約0.5
8程Jiである。このため、基板62に印加されている
基板バイアス電位VSUBが変動すると基準電位vRε
Fも変動し、その変動分ΔvRE Fは次のようになる
。Here, a parasitic resistor 71 is also connected in series to the wiring 70, and parasitic capacitors -72, 73, and 74 are also connected between the power supply voltage Vcc, the ground voltage VSS, and the substrate 62, respectively. Therefore, a capacitive coupling ratio also exists between the reference potential generation circuit 60 and the substrate 62, and this value is approximately 0.5.
It is about 8 Ji. Therefore, when the substrate bias potential VSUB applied to the substrate 62 changes, the reference potential vRε
F also varies, and the variation ΔvRE F is as follows.
ΔvRεF =0. 58’X (±0゜7)−±0.
41 (V) ・・・ 2すなわち、ビット線電
位が充電、放電などにより変化すると、これに伴って基
板バイアス電位vs U Bが変動し、さらに基板バイ
アス電位が変動することにより基準電位VRE F’が
変動する。ΔvRεF =0. 58'X (±0°7)-±0.
41 (V) ... 2 That is, when the bit line potential changes due to charging, discharging, etc., the substrate bias potential vs. changes.
典型的な基準電位の変動は±0.41 (V)である。A typical reference potential variation is ±0.41 (V).
第6図はDRAMにおける外部入力信号であるロウアド
レス・ストローブ信号RAS及びカラムアドレス・スト
ローブ信号CASと、L記基板バイアス電位VSUB及
び基準電位〜’REFとの関係を示す波形図である。信
号RASが“L”レベルに低下してアクティブになると
、この後、ビット線の放電が行なわれる。このビット線
の放電により、例えばいままで−3Vであった基板バイ
アス電位VSUBか−3,7Vに低下する。この電位低
下に伴い、例えばいままで1.6■であった基準電位v
RεFが1.19Vに低下する。FIG. 6 is a waveform diagram showing the relationship between the row address strobe signal RAS and column address strobe signal CAS, which are external input signals in the DRAM, and the L substrate bias potential VSUB and the reference potential ~'REF. When the signal RAS falls to the "L" level and becomes active, the bit line is then discharged. Due to this discharge of the bit line, the substrate bias potential VSUB, which was previously -3V, drops to -3.7V, for example. With this potential drop, for example, the reference potential v, which was previously 1.6
RεF drops to 1.19V.
この後、基準電位VREFが第5図の配線70の途中に
存在する寄生抵抗71及び寄生容ニア2.73.74の
影響で、こられ抵抗と容;の時定数で1゜19Vから元
の1.6Vへ戻る。しかし、基板バイアス電位vsua
は、少数キャリアが基板に注入されることにより、ビッ
ト線の充、放電などによる容量結合を受けない限り、元
の一3Vには戻らない。After this, the reference potential VREF changes from 1°19V to the original value due to the influence of the parasitic resistance 71 and the parasitic capacitance 2.73.74 which exist in the middle of the wiring 70 in FIG. Return to 1.6V. However, the substrate bias potential vsua
does not return to its original level of 13V unless minority carriers are injected into the substrate and subjected to capacitive coupling due to charging and discharging of the bit line.
反対に、信号RASが“H”レベルに上昇して非アクテ
ィブになると、この後、ビット線のプリチャージ(充電
)が開始される。この充電により、いままで−3,7■
であった基板バイアス電位VSUBが再び一3Vに上昇
し、さらにこれに伴い、いままで1.6■であった基準
電位VREFか2.01Vに上昇する。On the contrary, when the signal RAS rises to the "H" level and becomes inactive, precharging of the bit line is then started. With this charging, until now -3.7■
The substrate bias potential VSUB, which had been 1.6V, rises again to -3V, and in conjunction with this, the reference potential VREF, which has been 1.6V, rises to 2.01V.
その後、基準電位vRεFは前述と同様に抵抗と容量の
時定数で2.OIVから元の1.6Vへ戻る。Thereafter, the reference potential vRεF is set to 2. Return from OIV to the original 1.6V.
このようにビット線電位が変化すると基準電位vRεF
も変動するため、第5図の回路においてアドレスバッフ
ァ80、データインバッファ 100などにおける外部
信号の論理レベル判定動作に誤動作が生じる。When the bit line potential changes in this way, the reference potential vRεF
As a result, in the circuit shown in FIG. 5, malfunctions occur in the logic level judgment operation of external signals in the address buffer 80, data-in buffer 100, etc.
第7図は上記信号RASの立ち下がりからの経過時間T
(nS)と基準電位vRεF (V)との関係を示
す特性図である。゛毛源電圧VCCの値により異なるが
、信号RASの立ち下がりから30(nS)ないし40
(nS)経過すると、ビット線に接続されたセンスア
ンプが動作し、ビットが放電されて基準電位VREFの
値か低下する。そして、この基準電位VREFの値が低
下したときにカラムアドレスバッファが動作すると、外
部からのカラムアドレス人力信号の論理“L″の判定マ
ージンが減少し、カラムアドレスバッファが誤動作する
。これは、外部アドレス人力信号AIHの論理“L″の
規格VILか−I■から0,8Vの籟囲と決められてい
るためであり、基準電位VRF、Fの値がセンスアンプ
のばらつきも含めて0.8V以下に低下すると誤動作す
る。Figure 7 shows the elapsed time T from the fall of the signal RAS.
(nS) and the reference potential vRεF (V).゛Depending on the value of the hair source voltage VCC, it takes 30 (nS) to 40 seconds from the fall of the signal RAS.
(nS), the sense amplifier connected to the bit line operates, the bit is discharged, and the value of the reference potential VREF decreases. If the column address buffer operates when the value of the reference potential VREF decreases, the margin for determining the logical "L" level of the column address human input signal from the outside decreases, causing the column address buffer to malfunction. This is because the external address human input signal AIH's logic "L" standard VIL -I is determined to be within 0.8V, and the values of the reference potentials VRF and F, including variations in the sense amplifier, are If the voltage drops below 0.8V, it will malfunction.
第8図は上記信号RASの立ち上がりからの経過時間T
(nS)と基$ 71位VREF(V)との関係を示す
特性図である。この場合も電源電圧VCCの値により異
なるか、信号RASの立ち上がりから約40(nS)経
過すると、ビット線の充電が開始され、これに伴い基準
電位VRE Fの値が4−昇する。このため、この基準
電位VREFの上昇中に次のアクティブサイクルが始ま
り、例えば信号RASの立ち上がりから約70 (nS
)経過後に信号RA Sか立ち下がり、ロウアドレスバ
ッファが動作を開始すると、外部からのロウアドレス入
力信号の論理“H”の判定マージンか減少し、ロウアド
レスバッファか誤動作する。これは、外部アドレス人力
信号AIHの論理“H”の規格VIHか2.4■から6
.5Vの範囲と決められているためであり、基準電位v
RεFの値がセンスアンプのばらつきも含めて2.4■
以上に1−昇していると誤動作する。Figure 8 shows the elapsed time T from the rise of the signal RAS.
FIG. 3 is a characteristic diagram showing the relationship between (nS) and radical $71 position VREF (V). In this case as well, charging of the bit line starts, depending on the value of the power supply voltage VCC, or about 40 (ns) after the rise of the signal RAS, and the value of the reference potential VREF increases by 4. Therefore, the next active cycle starts while the reference potential VREF is rising, and for example, about 70 (nS
), when the signal RAS falls and the row address buffer starts operating, the margin for determining the logic "H" level of the row address input signal from the outside decreases, causing the row address buffer to malfunction. This is the standard VIH of the logic “H” of the external address human input signal AIH, or 2.4■ to 6
.. This is because the range is determined to be 5V, and the reference potential v
The value of RεF is 2.4■ including the variation of the sense amplifier.
If it increases by 1 or more, it will malfunction.
(発明か解決しようとする問題点)
このように基準電位発生回路を有し、外部信号をこの回
路で得られた基Q電位と比較することにより外部信号の
論理レベル判定を行なって内部に取り込むようにした従
来の半導体集積回路では、基準電位か一つの値に設定さ
れているため、基板バイアス電位の変動に伴い、ある時
刻では基準電位の低下によりある回路が誤動作し、別の
時刻では基準電位の上昇によりある回路かご1動作する
という問題かある。(Problem to be solved by the invention) As described above, it has a reference potential generation circuit, and by comparing the external signal with the base Q potential obtained by this circuit, the logical level of the external signal is determined and taken into the internal. In conventional semiconductor integrated circuits, the reference potential is set to one value, so as the substrate bias potential fluctuates, a certain circuit may malfunction due to a drop in the reference potential at one time, and the reference potential may malfunction at another time. There is a problem that one circuit cage operates due to a rise in potential.
この発明は上記のような事情を考慮してなされたもので
あり、その目的は、基■電位発生回路で形成される基や
電位を使用する回路の誤動作を防止することができる半
導体集積回路を提供することにある。This invention was made in consideration of the above-mentioned circumstances, and its purpose is to provide a semiconductor integrated circuit that can prevent malfunctions of circuits that use the base and potential formed in the base potential generation circuit. It is about providing.
[発明の構成]
(問題点を解決するための手段と作用)この発明の半導
体集積回路は、少なくとも二つの異なる時刻に外部信号
を取り込み、基準電位と比較してそのときの外部信号の
論理レベルを判定する少なくとも二つのレベル判定手段
と、1−記名時刻で値が異なる基準電位を発生し1−記
名レベル判定手段に供給する基準電位発生手段とから構
成されている。この発明によれば、各時刻で二つのレベ
ル判定手段が正常に動作するような値が異なる基準電位
を発生することにより、基板バイアス電位の変動に伴う
レベル判定手段の誤動作か防止される。[Structure of the Invention] (Means and Effects for Solving the Problems) The semiconductor integrated circuit of the present invention takes in an external signal at at least two different times, compares it with a reference potential, and determines the logic level of the external signal at that time. and a reference potential generating means that generates a reference potential having a different value at 1-marking time and supplies it to the 1-marking level judging means. According to the present invention, by generating reference potentials having different values such that the two level determining means operate normally at each time, malfunction of the level determining means due to fluctuations in the substrate bias potential is prevented.
さらに、この発明の半導体集積回路は、外部信号を取り
込み、基準電位、と比較してそのときの外部信号の論理
レベルを判定する複数のレベル判定手段と、上記複数の
各レベル判定手段に対応して設けられ、独立して設定さ
れた基準電位をそれぞれのレベル判定手段に供給する複
数の基準電位発生手段とから構成されている。この発明
によれば、各レベル判定手段が正常に動作するような値
に各基準電位発生手段で発生される基/$電位を設定す
ることにより、基数バイアス電位の変動に伴う各レベル
判定手段の誤動作が防止される。Further, the semiconductor integrated circuit of the present invention includes a plurality of level determination means for taking in an external signal and comparing it with a reference potential to determine the logic level of the external signal at that time, and corresponding to each of the plurality of level determination means. and a plurality of reference potential generation means for supplying independently set reference potentials to the respective level determination means. According to this invention, by setting the base/$ potential generated by each reference potential generating means to a value that allows each level determining means to operate normally, each level determining means is adjusted as the base bias potential changes. Malfunctions are prevented.
(実施例) 以下、この発明を実施例の図面を参照して説明する。(Example) Hereinafter, the present invention will be explained with reference to drawings of embodiments.
第1図はこの発明の一実施例回路の構成を示すブロック
図である。FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of a circuit according to an embodiment of the present invention.
図において、IOは例えばDRAMにおけるロウアドレ
スバッファであり、20は同じくカラムアドレスバッフ
ァである。この両アドレスバッファ10.20はそれぞ
れ前記第5図に示されるものと同様に、フリンプフロツ
プ回路、スイッチ回路及びバッファ回路などで構成され
ており、外部アドレス入力信号AINを基準電位VRE
Fと比較することにより、例えばTTLレベルで入力さ
れる外部アドレス人力信号AINの論理判定を行ない、
MOSトランジスタレベルに変換してバッファ回路内に
保持するものである。In the figure, IO is a row address buffer in a DRAM, for example, and 20 is a column address buffer. Each of these address buffers 10 and 20 is composed of a flip-flop circuit, a switch circuit, a buffer circuit, etc., similarly to the one shown in FIG.
By comparing with F, for example, the logic of the external address manual signal AIN input at the TTL level is determined,
It is converted to the MOS transistor level and held in the buffer circuit.
上記両アドレスバッファ10.20でレベル比較のため
に使用される基準電位vRE Fは、両アドレスバッフ
ァ10.20に対して共通に設けられた基準電位発生回
路30から供給される。この基準電位発生回路30も基
本的には前記第5図に示されるものと同様に、多結晶シ
リコンで構成された複数個の抵抗を直列接続し、電源電
圧VCCとアース電圧VSSとの間の電圧を抵抗分割す
ることによって基準電位vRE Fを形成するようにし
ているものであるが、この基準電位発生回路30では、
上記ロウアドレスバッファ10が外部アドレス人力信号
AINCを取り込んで基準電位と比較するときの時刻と
、カラムアドレスバッファ20か外部アドレス入力信号
AINRを取り込んで基準電位と比較するときの時刻と
で基準電位VREFの値か異なるように設定されている
。例えば、従来では、このVRF、Fの値が外部アドレ
ス入力信号AIHの論理“H“の規定値VII(と、1
λ理“L′の規定値VILとの丁度中間の値Vo1すな
わちVo−1/2 (VI H−VI L)に設定され
ているものである。ところか、この実施例の、1Jや電
位発生回路30の場合には第2図の波形図に示されるよ
うに、ロウアドレスバッファ10が外部アドレス人カフ
5号AINRを取り込んで基準電位と比較する時刻T1
近辺では上記VoよりもΔ■だけ低い電位を基準電位v
RεFとして発生し、またカラムアドレスバッファ20
か外部アドレス入力信号AINCを取り込んで基準電位
と比較する時刻T2近辺では、上記VOよりもΔVだけ
高い電位を基準電位VREFとして発生する。なお、上
記両アドレスバッファ10.20における外部アドレス
入力信号の取り込みは、従来と同様にロウアドレス・ス
トローブ信号RAS及びカラムアドレス・ストローブ信
号CASに基づいて行なわれる。The reference potential vREF used for level comparison in both address buffers 10.20 is supplied from a reference potential generation circuit 30 provided in common to both address buffers 10.20. This reference potential generation circuit 30 is also basically similar to the one shown in FIG. The reference potential vREF is generated by dividing the voltage by resistance, and in this reference potential generation circuit 30,
The reference potential VREF is determined by the time when the row address buffer 10 takes in the external address input signal AINC and compares it with the reference potential, and the time when the column address buffer 20 takes in the external address input signal AINR and compares it with the reference potential. are set to different values. For example, conventionally, the value of VRF, F is the specified value VII (and 1
It is set to a value Vo1, that is, Vo-1/2 (VI H-VI L), which is exactly between the specified value VIL of λ principle "L".However, in this embodiment, 1J and potential generation In the case of the circuit 30, as shown in the waveform diagram of FIG. 2, there is a time T1 when the row address buffer 10 takes in the external address cuff No. 5 AINR and compares it with the reference potential.
In the vicinity, a potential lower than Vo above by Δ■ is set as the reference potential v
generated as RεF and column address buffer 20
Near time T2 when the external address input signal AINC is taken in and compared with the reference potential, a potential higher than the above-mentioned VO by ΔV is generated as the reference potential VREF. Note that the external address input signals are taken into the address buffers 10 and 20 based on the row address strobe signal RAS and the column address strobe signal CAS, as in the conventional case.
ここで、前記第8図に示されるように、基準電位VRE
Fの値は信号RASの立ち一ヒがりから、約40(nS
)が経過した後に2.01V程度となり、定常状態の1
.6Vよりも0.41V程度だけ上昇する。そして、こ
の基準電位VREFの」−Hはロウアドレスバッファの
動作開始時刻に一致する。このため、この時刻T1近辺
で基準電位vRB FをVoに対してΔ■たけ低い電位
に設定し、かつこのΔVの値を前記基板バイアス電位の
変動に伴う基準電位の上昇分0.41Vに設定しておけ
ば、基板バイアス電位の変動を考慮した実際の基準電位
VREFの値はVoに一致する。このため、ロウアドレ
スバッファ10か動作するときには、最適な値にされた
基準電位VREFを使用して外部アドレス入力信号のレ
ベル判定を行なうことができ、これにより判定マージン
か従来よりも多くなり、ロウアドレスバッファにおける
論理レベル判定動作に誤動作が発生することが防止され
る。Here, as shown in FIG. 8, the reference potential VRE
The value of F is approximately 40 (nS) from the rise and fall of the signal RAS.
) has passed, it becomes about 2.01V, which is 1 in the steady state.
.. It increases by about 0.41V from 6V. ``-H'' of this reference potential VREF coincides with the operation start time of the row address buffer. Therefore, near time T1, the reference potential vRBF is set to a potential that is Δ■ lower than Vo, and the value of ΔV is set to 0.41 V, which is the increase in the reference potential caused by the fluctuation of the substrate bias potential. If this is done, the actual value of the reference potential VREF in consideration of the fluctuation of the substrate bias potential will match Vo. Therefore, when the row address buffer 10 operates, it is possible to judge the level of the external address input signal using the reference potential VREF set to the optimum value. This prevents malfunctions from occurring in the logic level determination operation in the address buffer.
他方、前記第7図に示されるように、見学電位vRεF
の値は信号RASの立ち下がりから、約30(nS)な
いし40(nS)が経過したときに1.19V程度とな
り、定常状態の1.6Vよりも0.41Vだけ低下する
。そして、この基準電位VREFの低下はカラムアドレ
スバッファの動作開始時刻に一致する。このため、この
時刻T2近辺で基準電位VRE FをVoに対してΔV
だけ高い電位に設定し、かつこのΔVの値を前記基板バ
イアス電位の変動に伴う基準電位の低下分0゜41Vに
設定しておけば、基板バイアス電位の変動を考慮した実
際の基準電位VREFO値はV。On the other hand, as shown in FIG. 7, the observation potential vRεF
The value becomes about 1.19V when approximately 30 (nS) to 40 (nS) have elapsed since the fall of the signal RAS, which is 0.41V lower than the steady state of 1.6V. This decrease in the reference potential VREF coincides with the operation start time of the column address buffer. Therefore, around this time T2, the reference potential VRE F becomes ΔV with respect to Vo.
If the value of ΔV is set to 0°41V, which corresponds to the decrease in the reference potential due to fluctuations in the substrate bias potential, the actual reference potential VREFO value that takes into account fluctuations in the substrate bias potential is V.
に一致する。このため、カラムアドレスバッファ20が
動作するときには、最適な値に、された基準電位vRε
Fを使用して外部アドレス入力信号のレベル判定を行な
うことができ、これにより判定マージンが従来よりも多
くなり、カラムアドレスバッファにおける論理レベル判
定動作に誤動作が発生することが防止される。matches. Therefore, when the column address buffer 20 operates, the reference potential vRε is set to the optimum value.
F can be used to determine the level of an external address input signal, thereby increasing the margin for determination than in the past and preventing malfunctions in logic level determination operations in column address buffers.
このようにに記実施例によれば、ロウアドレスバッファ
lO、カラムアドレスバッファ20のように、外部アド
レス人力信号を基■電位と比較してその論理判定を行な
う回路の複数に対して基準電位発生回路30を共通に設
け、基準電位発生回路30て発生される基準電位の値を
ロウアドレスバッファIO、カラムアドレスバッファ2
0でレベル比較を行なう時刻でそれぞれ異なるように設
定したので、ロウアドレスバッファ10及びカラムアド
レスバッファ20における論理レベル判定時の誤動作を
防止することかできる。As described above, according to the embodiment described above, a reference potential is generated for a plurality of circuits, such as the row address buffer lO and the column address buffer 20, which compare the external address manual signal with the base potential and make a logical judgment. A circuit 30 is provided in common, and the value of the reference potential generated by the reference potential generation circuit 30 is transmitted to the row address buffer IO and the column address buffer 2.
Since the times at which the level comparison is performed at 0 are set to be different, it is possible to prevent the row address buffer 10 and the column address buffer 20 from malfunctioning when determining the logic level.
なお、上記実施例では、基準電位発生回路30で発生さ
れる基準電位を使用する回路かロウアドレスバッファ1
0とカラムアドレスバッファ20の二つである場合につ
いて説明したが、これは二つ以−1−の回路に供給する
ようにしてもよく、これらの回路でレベル比較を行なう
時刻が互いに異なる場合にはそれらの各時刻毎に基準電
位の値が異なるように設定すればよい。In the above embodiment, the circuit using the reference potential generated by the reference potential generation circuit 30 or the row address buffer 1
0 and the column address buffer 20, but it may also be supplied to two or more circuits, and if these circuits perform level comparisons at different times, may be set so that the value of the reference potential is different for each time.
第3図はこの発明の他の実施例回路の構成を示すブロッ
ク図である。図において、IOはロウアドレスバッファ
、20はカラムアドレスバッファである。FIG. 3 is a block diagram showing the configuration of a circuit according to another embodiment of the invention. In the figure, IO is a row address buffer, and 20 is a column address buffer.
上記両アドレスバッファ10.20でレベル比較のため
に使用される基準電位VREFは、両アドレスバッファ
10.20に対応して設けられたu Q ’l−1i位
発生回路40.50からそれぞれ供給される。The reference potential VREF used for level comparison in both address buffers 10.20 is supplied from uQ'l-1i position generation circuits 40.50 provided corresponding to both address buffers 10.20. Ru.
上記一方の基準電位発生回路40は前記第5図に示され
るものと同様に、多結晶シリコンで構成された複数個の
抵抗を直列接続し、電源電圧VCCとアース電圧VSS
との間の電圧を抵抗分割することによって基準電位VR
E F Rを形成するようにしており、その値は外部ア
ドレス入力信号AINの論理″H#の規定値VEHと論
理″L”の規定値VILとの丁度中間の値VoよりもΔ
Vだけ低くされている。他方の基準電位発生回路50も
前記第5図に示されるものと同様に構成されており、基
準電位VRE F Cの値は外部アドレス入力信号AI
Hの論理“H”の規定値VIHと論理”L′の規定値V
ILとの丁度中間の値VOよりもΔ■だけ高くされてい
る。すなわち、上記両基準電位発生回路40.50は互
いに独立してそ゛の値が設定されている。One of the reference potential generation circuits 40 has a plurality of resistors made of polycrystalline silicon connected in series, and has a power supply voltage VCC and a ground voltage VSS, similar to the one shown in FIG.
By dividing the voltage between the reference potential VR and
E F R is formed, and its value is Δ smaller than the value Vo, which is exactly between the specified value VEH of the logic “H#” and the specified value VIL of the logic “L” of the external address input signal AIN.
Only V is lowered. The other reference potential generation circuit 50 is also configured similarly to that shown in FIG. 5, and the value of the reference potential VREFC is determined by the external address input signal AI.
The specified value VIH of logic “H” and the specified value V of logic “L’”
It is set higher than the value VO, which is exactly in the middle with IL, by Δ■. That is, the values of the reference potential generation circuits 40 and 50 are set independently from each other.
この実施例回路では、第4図の波形図の時刻T1でロウ
アドレスバッファ10が動作を開始するとき、前記した
ような基板バイアス電位の変動により基準電位が定常状
態の1.6■から0.41V程度だけ上昇する。ところ
が、基準電位発生回路40で形成されているM、準電位
VRE F RはV。In this embodiment circuit, when the row address buffer 10 starts operating at time T1 in the waveform diagram of FIG. 4, the reference potential changes from the steady state of 1.6 to 0.1 due to the fluctuation of the substrate bias potential as described above. It increases by about 41V. However, the quasi-potential VREFR formed by the reference potential generation circuit 40 is V.
に対し常にΔVだけ低い電位に設定されており、このΔ
Vの値を前記基板バイアス電位の変動に伴う基準電位の
上昇分0.41Vに設定しておけば、時刻T1における
基板バイアス電位の変動を考慮した実際の基準電位VR
E F Rの値はVoに一致する。このため、ロウアド
レスバッフ710か動作するときには、最適な値にされ
た見学電位VRεFを使用して外部アドレス人力信号の
レベル判定を行なうことができ、これにより判定マージ
ンが従来よりも多くなり、ロウアドレスバッフアにおけ
る論理レベル判定動作に誤動作が発生することが防止さ
れる。The potential is always set to ΔV lower than that of ΔV.
If the value of V is set to 0.41 V, which corresponds to the increase in the reference potential due to the variation in the substrate bias potential, the actual reference potential VR takes into account the variation in the substrate bias potential at time T1.
The value of E F R matches Vo. Therefore, when the row address buffer 710 operates, the level of the external address manual signal can be determined using the observation potential VRεF set to the optimum value. This prevents malfunctions from occurring in logic level determination operations in the address buffer.
これと同様に、基準電位発生回路50で形成されている
基準電位vRE F CはVoに対し常にΔVだけ高い
電位に設定されており、このΔVの値を前記基板バイア
ス電位の変動に伴う基準電位の低下分0.41Vに設定
しておけば、時刻T2における基板バイアス電位の変動
を考慮した実際の基準電位VRE、FCの値はVoに一
致する。このため、カラムアドレスバッファ20が動作
するときには、最適な値にされた基準電位vRE F
Cを使用して外部アドレス人力信号のレベル判定を行な
うことができ、これにより判定マージンが従来よりも多
くなり、カラムアドレスバッファにおける論理レベル判
定時の誤動作の発生を防止することができる。なお、第
4図中の実線は従来回路における基準電位の変化を示し
ている。Similarly, the reference potential vREFC generated by the reference potential generation circuit 50 is always set to a potential higher than Vo by ΔV, and the value of this ΔV is set as the reference potential due to fluctuations in the substrate bias potential. If the decrease is set to 0.41V, the actual values of the reference potentials VRE and FC, taking into account the fluctuation of the substrate bias potential at time T2, will match Vo. Therefore, when the column address buffer 20 operates, the reference potential vREF set to the optimum value is
C can be used to determine the level of the external address input signal, thereby increasing the margin for determination than in the past, and preventing malfunctions during logic level determination in the column address buffer. Note that the solid line in FIG. 4 shows the change in reference potential in the conventional circuit.
[発明の効果]
以」−説明したようにこの発明によれば、基り電位発生
回路で形成される基準電位を使用する回路の誤動作を防
止することができる半導体集積回路を提供することがで
きる。[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, it is possible to provide a semiconductor integrated circuit that can prevent malfunctions of a circuit that uses a reference potential formed by a base potential generation circuit. .
第1図はこの発明の一実施例回路の構成を示すブロック
図、第2図は上記実施例回路の波形図、第3図はこの発
明の他の実施例回路の構成を示すブロック図、第4図は
上記第3図の実施例回路の波形図、第5図はDRAMの
一部の構成を示す回路図、第6図はDRAMにおける各
種信号の波形図、第7図及び第8図はそれぞれD RA
Mにおける特性図である。
10・・・ロウアドレスバッファ、20・・・カラムア
ドレスバッファ、30.40.5G・・・基準電位発生
回路。
出願人代理人 弁理士 鈴圧武彦
第1図
第3図
第5図
第6図FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of a circuit according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a waveform diagram of the circuit according to the above embodiment, and FIG. Figure 4 is a waveform diagram of the embodiment circuit shown in Figure 3 above, Figure 5 is a circuit diagram showing a part of the configuration of the DRAM, Figure 6 is a waveform diagram of various signals in the DRAM, and Figures 7 and 8 are Each DRA
It is a characteristic diagram in M. 10... Row address buffer, 20... Column address buffer, 30.40.5G... Reference potential generation circuit. Applicant's representative Patent attorney Takehiko Suzutsuta Figure 1 Figure 3 Figure 5 Figure 6
Claims (1)
、基準電位と比較してそのときの外部信号の論理レベル
を判定する少なくとも二つのレベル判定手段と、上記各
時刻で値が異なる基準電位を発生し上記各レベル判定手
段に並列に供給する基準電位発生手段とを具備したこと
を特徴とする半導体集積回路。 2 外部信号を取り込み、基準電位と比較してそのとき
の外部信号の論理レベルを判定する複数のレベル判定手
段と、上記複数の各レベル判定手段に対応して設けられ
、独立して設定された基準電位をそれぞれのレベル判定
手段に供給する複数の基準電位発生手段とを具備したこ
とを特徴とする半導体集積回路。 3 前記レベル判定手段がロウアドレスバッファ、カラ
ムアドレスバッファ、データインバッファのうちのいず
れかである特許請求の範囲第1項に記載の半導体集積回
路。[Scope of Claims] 1. At least two level determination means that captures an external signal at at least two different times and compares it with a reference potential to determine the logic level of the external signal at that time, and the value is different at each of the times. 1. A semiconductor integrated circuit comprising: reference potential generating means for generating a reference potential and supplying it in parallel to each of the level determining means. 2. A plurality of level judgment means that take in an external signal and compare it with a reference potential to judge the logic level of the external signal at that time, and a plurality of level judgment means provided corresponding to each of the plurality of level judgment means and set independently. 1. A semiconductor integrated circuit comprising a plurality of reference potential generation means for supplying a reference potential to each level determination means. 3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the level determining means is any one of a row address buffer, a column address buffer, and a data-in buffer.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61230614A JPH0810554B2 (en) | 1986-09-29 | 1986-09-29 | Semiconductor integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
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JP61230614A JPH0810554B2 (en) | 1986-09-29 | 1986-09-29 | Semiconductor integrated circuit |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPS6383994A true JPS6383994A (en) | 1988-04-14 |
JPH0810554B2 JPH0810554B2 (en) | 1996-01-31 |
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JP (1) | JPH0810554B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03203091A (en) * | 1989-12-28 | 1991-09-04 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor memory device |
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JPS50107826A (en) * | 1974-01-30 | 1975-08-25 | ||
JPS59104793A (en) * | 1982-12-08 | 1984-06-16 | Hitachi Ltd | Dynamic ram |
JPS62283490A (en) * | 1986-05-31 | 1987-12-09 | Toshiba Corp | Semiconductor integrated circuit |
-
1986
- 1986-09-29 JP JP61230614A patent/JPH0810554B2/en not_active Expired - Fee Related
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JPS62283490A (en) * | 1986-05-31 | 1987-12-09 | Toshiba Corp | Semiconductor integrated circuit |
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JPH03203091A (en) * | 1989-12-28 | 1991-09-04 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor memory device |
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JPH0810554B2 (en) | 1996-01-31 |
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