JPS6375071A - Radiation curable paint - Google Patents

Radiation curable paint

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JPS6375071A
JPS6375071A JP21994386A JP21994386A JPS6375071A JP S6375071 A JPS6375071 A JP S6375071A JP 21994386 A JP21994386 A JP 21994386A JP 21994386 A JP21994386 A JP 21994386A JP S6375071 A JPS6375071 A JP S6375071A
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JP
Japan
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polyurethane
magnetic
group
radiation
weight
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Pending
Application number
JP21994386A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
啓一 別所
武生 原
孝志 宇加地
松村 喜雄
ロバート イー.アンセル
ケヴィン ピー.マーリィ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
DeSoto Inc
Original Assignee
Japan Synthetic Rubber Co Ltd
DeSoto Inc
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Publication date
Application filed by Japan Synthetic Rubber Co Ltd, DeSoto Inc filed Critical Japan Synthetic Rubber Co Ltd
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Publication of JPS6375071A publication Critical patent/JPS6375071A/en
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Abstract] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、放射線硬化性塗料に関し、特に磁性粉を混合
して、磁気テープ、磁気ディスク等の磁気記録媒体を製
造する際に使用される磁性塗料として好適に用いられる
放射線硬化性塗料に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a radiation-curable coating material, which is used in particular when mixed with magnetic powder to produce magnetic recording media such as magnetic tapes and magnetic disks. The present invention relates to a radiation-curable paint that is suitably used as a magnetic paint.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

一般に、磁気記録媒体は、ポリエステルフィルムなどの
支持体上に、磁性粉、重合体、溶剤および各種の添加剤
からなる磁性塗料を塗布して磁性層を形成したものであ
る。
Generally, a magnetic recording medium has a magnetic layer formed by coating a support such as a polyester film with a magnetic paint consisting of magnetic powder, a polymer, a solvent, and various additives.

近年、上記磁性塗料の調製に用いる重合体としてアクリ
ル系二重結合を有する放射線硬化性重合体を用い、これ
を磁性粉、溶剤等と共に混合した放射線硬化性磁性塗料
の塗膜を放射線照射によって硬化する方法が知られてい
る。このような放射線硬化型塗料における磁性粉の分散
性を高めるために、アクリル系二重結合を有する重合体
に含リン化合物を反応させた樹脂を使用した放射線硬化
型塗料が知られている(特開昭61−77134号公報
)。
In recent years, radiation-curable polymers with acrylic double bonds have been used as the polymers used to prepare the above-mentioned magnetic paints, and radiation-curable magnetic paint coatings made by mixing this with magnetic powder, solvents, etc., have been cured by radiation irradiation. There are known ways to do this. In order to improve the dispersibility of magnetic powder in such radiation-curable paints, radiation-curable paints are known that use resins in which phosphorus-containing compounds are reacted with polymers having acrylic double bonds. Publication No. 77134/1983).

また、磁性粉の分散性を向上させるために式で表わされ
る含リン化合物を反応させたポリウレタンを重合体とし
て使用する熱硬化型の磁気記録媒体製造用の塗料も知ら
れている(特開昭59−154634号公報)。
In addition, there is also known a thermosetting coating for producing magnetic recording media that uses polyurethane reacted with a phosphorus-containing compound represented by the formula as a polymer in order to improve the dispersibility of magnetic powder. 59-154634).

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

しかし、特開昭61−77134号公報に記載の放射線
硬化型塗料を用いて製造した磁気記録媒体は実走行耐久
性が不十分であるという問題点を有している。
However, the magnetic recording medium manufactured using the radiation-curable paint described in JP-A-61-77134 has a problem in that its actual running durability is insufficient.

また、特開昭59−15463号公報に記載のポリウレ
タンを成分とする磁性塗料を用いて製造した磁気記録媒
体も実走行耐久性が不十分であるという問題点を有して
いる。
Furthermore, a magnetic recording medium manufactured using a magnetic paint containing polyurethane as a component described in JP-A-59-15463 also has the problem of insufficient actual running durability.

本発明は、優れた放射線硬化性磁性粉の良好な分散性等
の特性に加え、高い実走行耐久性を有する磁気記録媒体
を与える放射線硬化性塗料を提供することを目的とする
An object of the present invention is to provide a radiation-curable coating material that provides a magnetic recording medium that has excellent characteristics such as good dispersibility of radiation-curable magnetic powder and also has high actual running durability.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は前記問題点を解決するものとして、下記一般式
(I): 〔式中、R1およびR1は同一でも異なってもよく、そ
れぞれメチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、オ
クチル基、ドデシル基、ペンタデシル基、エイコシル基
等のC3〜C2Oのアルキル基、好ましくはメチル基、
エチル基、プロピル基、ヘキシル基、オクチル基等のC
I〜C2゜のアルキル基であり、R3はメチレン基、エ
チレン基、プロピレン基、ペンタメチレン基等のC2〜
らのアルキレン基であり、R4およびR%は同一でも異
なってもよく、エチレン基、プロピレン基、ヘキサメチ
レン基、オクタメチレン基、デカメチレン基等の直鎖状
または分岐状のアルキレン基、好ましくはエチレン基、
プロピレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基等
のC1−C&のアルキレン基であり;nおよびβは同一
でも異なってもよく、それぞれ0〜19の数である。〕 で表わされる含リン構造、および 下記一般式(■): 〔ここで、R6はR1およびR2と同様であり;R7お
よびR8は同一でも異なってもより、R4およびR5と
同様であり;mおよびpは、nおよびlと同様である。
The present invention solves the above-mentioned problems by using the following general formula (I): [In the formula, R1 and R1 may be the same or different, and each represents a methyl group, an ethyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, C3 to C2O alkyl groups such as dodecyl group, pentadecyl group, eicosyl group, preferably methyl group,
C such as ethyl group, propyl group, hexyl group, octyl group, etc.
It is an alkyl group of I to C2, and R3 is an alkyl group of C2 to C2, such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a pentamethylene group, etc.
R4 and R% may be the same or different, and are linear or branched alkylene groups such as ethylene group, propylene group, hexamethylene group, octamethylene group, decamethylene group, preferably ethylene group. basis,
It is a C1-C& alkylene group such as a propylene group, a tetramethylene group, a hexamethylene group; n and β may be the same or different, and each is a number from 0 to 19. ] Phosphorus-containing structure represented by and the following general formula (■): [Here, R6 is the same as R1 and R2; R7 and R8 may be the same or different, and are the same as R4 and R5; m and p are the same as n and l.

〕 で表わされる含リン構造から選ばれる少なくとも1種を
、ポリウレタン1g当り10−7〜10−″モル有し、
かつ放射線重合性二重結合を有するポリウレタン(以下
、単に「ポリウレタン」という)を含有する放射線硬化
性塗料を提供するものである。
] At least one type selected from the phosphorus-containing structure represented by 10-7 to 10-'' moles per 1 g of polyurethane,
The present invention also provides a radiation-curable coating material containing a polyurethane having a radiation-polymerizable double bond (hereinafter simply referred to as "polyurethane").

このポリウレタンは、−1式(1)および(II)で表
わされる含リン構造から選ばれる少なくとも1種を、ポ
リウレタン1g当り10−7〜10−3モル、好ましく
は10− h〜10−4モル有する必要がある。一般式
(1)および(II)で表わされる含リン構造がポリウ
レタン1g当り10−3モルを超えると、本発明の放射
線硬化性塗料を磁性塗料として用いる場合に通常使用さ
れる汎用溶媒、例えば、トルエン、メチルエチルケトン
、メチルイソブチルケトン等に対する溶解度が低下する
傾向があり、また放射線によって硬化した塗膜の吸湿性
が増大し塗膜強度の低下を招き易(,10−7モル未満
であると磁性粉を磁性塗料中に十分に分散させにくくな
り、実走行耐久性も低下する。
This polyurethane contains at least one type selected from the phosphorus-containing structures represented by formulas (1) and (II) in an amount of 10-7 to 10-3 mol, preferably 10-h to 10-4 mol, per 1 g of polyurethane. Must have. When the phosphorus-containing structure represented by the general formulas (1) and (II) exceeds 10 −3 mol per 1 g of polyurethane, general-purpose solvents commonly used when the radiation-curable paint of the present invention is used as a magnetic paint, for example, The solubility in toluene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc. tends to decrease, and the hygroscopicity of the coating film cured by radiation increases, which tends to cause a decrease in coating strength (If the amount is less than 10-7 mol, magnetic powder It becomes difficult to sufficiently disperse the magnetic paint in the magnetic paint, and the actual running durability also decreases.

さらに本発明に用いられるポリウレタンは、放射線重合
性二重結合を有することが不可欠であり、このような放
射線重合性二重結合は、例えば、下記の一般式(III
)〜(V)で表わされる構造としてポリウレタン中に包
含される。
Furthermore, it is essential that the polyurethane used in the present invention has a radiation-polymerizable double bond, and such a radiation-polymerizable double bond is, for example, represented by the following general formula (III
) to (V) are included in polyurethane.

C8z =CCOR”−・・・・・・・・・(I[[)
(式中、R9は水素原子またはメチル基であり、RIO
はエチレン基、プロピレン基、ヘキサメチレン基、オク
タメチレン基などのC2〜C3のアルキレン基を示す、
〕 〔式中、R9は、式(DI)と同じである。〕〔式中、
R′は、式(III)と同じである。〕本発明に用いら
れるポリウレタンは、上述した一i式(1)および(I
I)で表わされる含リン構造および一般式(III)〜
(V)等で表わされる放射線重合性二重結合を有する構
造以外に、他の構造を有し、一般式(1)〜(V)で表
わされる基およびその他の構造が主としてウレタン結合
(−N−C−0−) 、を含む構造を介して結合される
が、場合によってはさらにウレア結合(−N−C−N 
−”)を含む構造等を含んでいてもHII よい。
C8z = CCOR”−・・・・・・・・・(I[[)
(In the formula, R9 is a hydrogen atom or a methyl group, RIO
represents a C2-C3 alkylene group such as an ethylene group, a propylene group, a hexamethylene group, an octamethylene group,
] [In the formula, R9 is the same as in formula (DI). ] [During the ceremony,
R' is the same as in formula (III). ] The polyurethane used in the present invention has the above-mentioned formula (1) and (I
The phosphorus-containing structure represented by I) and the general formula (III) ~
In addition to the structure having a radiation-polymerizable double bond represented by (V), etc., it has other structures, and the groups represented by general formulas (1) to (V) and other structures are mainly urethane bonds (-N -C-0-), but in some cases an additional urea bond (-N-C-N
-”) may be included.

本発明で使用されるポリウレタンの典型的な態様として
は、−i式(1)および(II)で表わされる含リン構
造から選ばれる少なくとも1種と、一般式(III)〜
(V)で表わされる放射線二重結合を有する構造から選
ばれる少なくとも1種と、下記一般式(Vl)〜(Xl
l)で表わされる構造から選ばれる少なくとも1種とが
下記一般式(XI[I)で表わされるウレタン結合を含
む構造、場合によってはさらに下記一般式(XIV)で
表わされるウレア結合を含む構造を介して結合されてな
るものが挙げられる。
Typical embodiments of the polyurethane used in the present invention include at least one type selected from the phosphorus-containing structures represented by formulas (1) and (II), and general formulas (III) to
At least one type selected from structures having a radiation double bond represented by (V) and the following general formulas (Vl) to (Xl
At least one selected from the structures represented by l) is a structure containing a urethane bond represented by the following general formula (XI[I), and in some cases further a structure containing a urea bond represented by the following general formula (XIV). Examples include those that are connected via a

+R” 0−C−R’ ”−C−0−)−R目−・・・
・・・ (Vl)〔式中、R11は、エチレン基、プロ
ピレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキ
サメチレン基等の02〜Cい好ましくは02〜C4のア
ルキレン基であり、R12は、 CHI  CH=CHCH2−9CI=CH−CHI3
−C=C11−。
+R"0-C-R'"-C-0-)-Rth-...
... (Vl) [wherein R11 is an alkylene group of 02 to C4, preferably 02 to C4, such as an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, and R12 is CHI CH=CHCH2-9CI=CH-CHI3
-C=C11-.

(Clh)−2−、(CI(z)「−(CH2)「(C
ih)r−、(C)Iz)r−C=C−等の02〜C8
の2価の脂肪族基、脂環式基または芳香族であり、qは
、1〜50の数である。〕→R110÷「R11−・・
・・・・・・・(■)〔式中、R1+は、一般式(Vl
)と同じであり、Sは1〜50の数である。〕 〔式中、R11は、一般式(Vl)と同じであり、tお
よびUは同一でも異なってもよく、それぞれ1〜20の
数である。〕 一+−+ClI2光COす「R33→OC÷C)12 
治→マ・・・(IX) 〔式中、R13は、 X     CH3X −CHl−0−べCIItCHg   0h−CHI−
、C11゜ C11x   0−(CIIzCHlCHzCIIzO
+T−CIlt−1CI+3 (式中aはO〜20、好ましくは1〜10の整数であり
、Xはフッ素原子、塩素原子またムj臭素原子を意味す
る)等の置換基を有していてもよい02〜C2゜、好ま
しくは04〜C4%の2価の脂肪族基、脂環式基または
芳香族基を1味し、前記例示のようにこれらの脂肪族基
、脂環式基および芳香族基は、その構造中に一〇−1−
C−0−または−N− 0R24 (R14は水素原子、水酸基または、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、アシ少々フェニル基、ベン
ジル基、シクロヘキシル戸シクロペンチル基等の置換基
を有していてもよいCI”’ Csの脂肪族基、脂環式
基もしくは芳香族基を意味する。)を有していてもよい
)等の脂肪族基、脂環式基または芳香族基でまり、ペテ
ロ原子を含んでいてもよく、■およびWは同一でも異な
ってもよく、それぞれ1〜20の数である。〕 CtlCIIzOR”  C1hCII−〔式中、RI
Sは−(C)IzCHzO)r−Hs または、 CH3 で表わされる基であり、Xは1〜20の数であり、R9
は一般式(I[[)のR′と同様である。〕AR” O
hτR’ヒ ・・・・・・(xI)〔式中、R1は、一
般式(■)と同じであり、yおよび2は、同一でも異な
ってもよ(、それぞれ1〜30の数であり、n゛は1〜
5の数であり、Mはカリウム、ナトリウム等のアルカリ
金属である。〕 〔式中、R11は、一般式(Vl)と同じでありSおよ
びS゛は、同一でも異なってもよ(、それぞれ1〜50
の数であり、R1&は、等で示される02〜C4゜、好
ましくはC,−C,。、特に好ましくは02〜CI3の
4価の脂肪族基、脂環式基または芳香族基である。〕 (式中、R1?は →C1,子等の C1〜C!。の2価の炭化水素基である。〕HH)IH 〔式中、R17は前記一般式〔■〕と同様である。〕 本発明に用いられるポリウレタンは、例えば、次の製法
により製造することができる。
(Clh)-2-, (CI(z)"-(CH2)"(C
ih) r-, (C) Iz) r-02 to C8 such as C=C-
is a divalent aliphatic group, alicyclic group or aromatic group, and q is a number from 1 to 50. ] → R110 ÷ "R11-...
......(■) [In the formula, R1+ is the general formula (Vl
), and S is a number from 1 to 50. [In the formula, R11 is the same as in general formula (Vl), and t and U may be the same or different, and each is a number from 1 to 20. ] 1 + - + ClI2 light CO ``R33 → OC ÷ C) 12
Treatment → Ma... (IX) [In the formula, R13 is X CH3X -CHl-0-beCIItCHg 0h-CHI-
, C11゜C11x 0-(CIIzCHlCHzCIIzO
+T-CIlt-1CI+3 (In the formula, a is an integer of O to 20, preferably 1 to 10, and X means a fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom). Add one divalent aliphatic group, alicyclic group or aromatic group of 02 to C2°, preferably 04 to C4%, and add these aliphatic groups, alicyclic groups and aromatic groups as exemplified above. The group group has 10-1- in its structure.
C-0- or -N-0R24 (R14 has a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a substituent such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an acetic acid phenyl group, a benzyl group, a cyclohexyl group, or a cyclopentyl group) Cs may have an aliphatic group, an alicyclic group or an aromatic group. may contain a petero atom, ■ and W may be the same or different, and each number is from 1 to 20.] CtlCIIzOR" C1hCII- [wherein, RI
S is a group represented by -(C)IzCHzO)r-Hs or CH3, X is a number from 1 to 20, and R9
is the same as R' in the general formula (I[[). ]AR"O
hτR'hi ...... (xI) [In the formula, R1 is the same as the general formula (■), and y and 2 may be the same or different (, each is a number from 1 to 30, , n゛ is 1~
5, and M is an alkali metal such as potassium or sodium. [In the formula, R11 is the same as in the general formula (Vl), and S and S' may be the same or different (1 to 50, respectively)
, and R1& is 02 to C4°, preferably C, -C, etc. , particularly preferably a tetravalent aliphatic group, an alicyclic group, or an aromatic group of 02 to CI3. ] (In the formula, R1? is a divalent hydrocarbon group of →C1, C1 to C!, etc.).]HH)IH [In the formula, R17 is the same as the above general formula [■]. ] The polyurethane used in the present invention can be manufactured, for example, by the following manufacturing method.

第1工程において、下記一般式(alおよび(b):〔
式中、R1,R1、R3、R4、RS、 nおよびlは
、一般式(1)と同じである。〕。
In the first step, the following general formula (al and (b):
In the formula, R1, R1, R3, R4, RS, n and l are the same as in general formula (1). ].

〔式中、R6、R7、R3、mおよびpは、一般式CI
りと同じである。〕 で表わされる含リンジオール化合物から選ばれる少な(
とも1種と、下記一般式(C)〜(1):〔式中、R1
1、RI!およびqは、それぞれ一般式(Vl)と同じ
である。〕 HO+R”O+r−R”  OH・・・・”(di〔式
中、R1およびSは、一般式(■)と同しである。〕。
[wherein R6, R7, R3, m and p are of the general formula CI
It is the same as ] Selected from the phosphorus diol-containing compounds represented by (
and one of the following general formulas (C) to (1): [wherein, R1
1.RI! and q are each the same as in general formula (Vl). ] HO+R"O+r-R"OH..."(di [In the formula, R1 and S are the same as in the general formula (■).]

C)I3 〔式中、R1、tおよびUは、一般式(■)と同じであ
る。〕、 〔式中、R′3、■およびWは、一般式(IX)と同じ
である。〕、 〔式中、RISおよびR1&は、一般式(X)と同じで
ある。〕、 〔式中、R” 、y% 2% n’およびMは、一般式
(XI)と同じである。〕、 0O II       II 〔式中、R目、s、slおよびR1&は、一般式(■)
と同じである。〕 で表わされるジオール化合物から選ばれる少なくとも1
種と、必要に応じて前記以外のジオール化合物とを、下
記一般式(J): OCN  R”  NGO・・・・・・0)〔式中、R
1?は一般式(XI)と同じである。〕で表わされるジ
イソシアネート化合物と反応させる。
C) I3 [wherein R1, t and U are the same as in general formula (■). ], [wherein R'3, ■ and W are the same as in general formula (IX). ], [wherein RIS and R1& are the same as in general formula (X). ], [In the formula, R", y% 2% n' and M are the same as in the general formula (XI).], 0O II II [In the formula, R', s, sl and R1 & are the same as in the general formula (XI) (■)
is the same as ] At least one selected from the diol compounds represented by
The species and, if necessary, a diol compound other than the above, are combined into the following general formula (J): OCN R"NGO...0) [wherein, R
1? is the same as general formula (XI). ] is reacted with a diisocyanate compound represented by

この第1工程の反応においては、弐〇)で表わされるジ
イソシアネート化合物を上記の含リンジオール化合物お
よび他のジオール化合物の総量に対して、化学量論的に
過剰に使用し、ウレタン結合を介して各反応成分を結合
させ、分子末端にイソシアネート基を有する重合体(以
下、「重合体A」という)を生成させる。また、この第
1工程において、鎖延長剤として、脂肪族ジアミン、脂
環式ジアミン、メチル基、エチル基、プロピル基等の置
換基を有するまたは有さない芳香族ジアミン、ポリエー
テルジアミン等を用いてもよい。これらの鎖延長剤の具
体例としては、エチレンジアミン、テトラメチレンジア
ミン、ヘキサメチレンジアミン、シクロへキシルジアミ
ン、パラフェニレンジアミン、ポリオキシエチレンジア
ミン、ポリプロピレンジアミン等を挙げることができる
In the reaction of this first step, the diisocyanate compound represented by 2〇) is used in stoichiometric excess with respect to the total amount of the above-mentioned phosphorus-containing diol compound and other diol compounds, and The reaction components are combined to produce a polymer having an isocyanate group at the end of the molecule (hereinafter referred to as "polymer A"). In addition, in this first step, aliphatic diamine, alicyclic diamine, aromatic diamine with or without substituents such as methyl group, ethyl group, propyl group, polyether diamine, etc. are used as the chain extender. You can. Specific examples of these chain extenders include ethylene diamine, tetramethylene diamine, hexamethylene diamine, cyclohexyl diamine, paraphenylene diamine, polyoxyethylene diamine, polypropylene diamine, and the like.

次に、第2工程において、第1工程で生成した重合体A
に、下記の一般式(k)〜((2):CHz=CCOR
I@OH・・・・・・(k)〔式中、R’lおよびR1
1は、一般式(I[I)と同じである。〕、 cut=c (R’)−C−0−CHz〔式中、R9は
、一般式(I[I)と同じである。〕、〔式中、R9は
一般式(III)と同じである。〕等で表わされる水酸
基を有する(メタ)アクリレート化合物から選ばれる少
なくとも1種を、第1工程で生成した重合体へのイソシ
アネート基に対して化学量論的にほぼ当量で反応させる
ことによって、重合体Aの分子末端に上記一般式(nl
)〜(V)等で表わされる放射線重合性二重結合を有す
る構造がウレタン結合を介して結合した、本発明に用い
るポリウレタンを得ることができる。
Next, in the second step, the polymer A produced in the first step is
, the following general formula (k) ~ ((2): CHz=CCOR
I@OH...(k) [In the formula, R'l and R1
1 is the same as general formula (I[I). ], cut=c (R')-C-0-CHz [wherein, R9 is the same as the general formula (I[I)]. ], [wherein R9 is the same as in general formula (III). By reacting at least one selected from (meth)acrylate compounds having a hydroxyl group represented by The above general formula (nl
It is possible to obtain a polyurethane used in the present invention in which structures having radiation-polymerizable double bonds represented by (V) and the like are bonded via urethane bonds.

また、第2工程としては、上記の方法の代わりに次の方
法を用いることができる。
Moreover, as the second step, the following method can be used instead of the above method.

まず、上記一般式+に1〜tm+等で表わされる(メタ
)アクリレート化合物を、第1工程で生成した重合体A
のイソシアネート基に対して化学量論的にほぼ%当量で
反応させることによって、重合体A分子の二つの末端の
一方に上記−JIQ式(ml)〜(V)等で表わされる
放射線重合性二重結合を有する構造をウレタン結合を介
して結合させ、他方の末端にはイソシアネート基が残存
した重合体(以下、「重合体B」という)を生成させる
。次に、こうして得られた重合体Bに下記一般式(n)
:〔式中、Qは、4価の有機基である。〕で表わされる
4価アルコール化合物を反応させることにより、前記重
合体Bの残存イソシアネート基を4価アルコール化合物
にウレタン結合を介して結合させることができ、この方
法によっても本発明に用いるポリウレタンを得ることが
できる。
First, a (meth)acrylate compound represented by 1 to tm+ etc. in the above general formula + is added to the polymer A produced in the first step.
By reacting the isocyanate groups in a stoichiometrically approximately % equivalent, one of the two terminals of the polymer A molecule is treated with radiation-polymerizable diamides represented by the above -JIQ formulas (ml) to (V), etc. Structures having double bonds are bonded via urethane bonds to produce a polymer (hereinafter referred to as "polymer B") in which an isocyanate group remains at the other end. Next, the following general formula (n) is applied to the polymer B thus obtained.
: [Wherein, Q is a tetravalent organic group. By reacting the tetrahydric alcohol compound represented by ], the remaining isocyanate groups of the polymer B can be bonded to the tetrahydric alcohol compound via a urethane bond, and the polyurethane used in the present invention can also be obtained by this method. be able to.

上記第1工程の反応は、通常、ナフテン酸銅、ナフテン
酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、ラウリル酸n−ブチルス
ズ、トリエチルアミン等の触媒を用いて実施される。こ
れらの触媒は、第1工程に用いる出発原料の総量100
重量部に対して0.01〜1重量部程置部いるのが好ま
しい。
The reaction in the first step is usually carried out using a catalyst such as copper naphthenate, cobalt naphthenate, zinc naphthenate, n-butyltin laurate, or triethylamine. These catalysts were used in a total amount of 100% of the starting materials used in the first step.
It is preferable that the amount is about 0.01 to 1 part by weight.

上記第2工程の反応は、上記第1工程と同様の触媒の存
在下に実施することができる。触媒は第1工程で生成し
た重合体A100重量部に対して、好ましくは0.01
〜1重量部用いられる。
The reaction in the second step can be carried out in the presence of the same catalyst as in the first step. The catalyst is preferably used in an amount of 0.01 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer A produced in the first step.
~1 part by weight is used.

上記第1、第2工程の反応は各工程の生成物を単離せず
に、逐時的に実施することができ、いずれの工程におい
ても、反応温度は30〜80℃とするのが好ましい。
The reactions in the first and second steps can be carried out sequentially without isolating the products of each step, and the reaction temperature in either step is preferably 30 to 80°C.

上記各工程の反応においては溶媒を用いることができ、
該溶媒は、上記反応を阻害しないものであれば特に制限
されず、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、テトラヒドロフラン、トルエン、メチルイソブチル
ケトン、ジオキサン等が挙げられる。
A solvent can be used in the reactions in each of the above steps,
The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the above reaction, and examples thereof include methyl ethyl ketone, cyclohexanone, tetrahydrofuran, toluene, methyl isobutyl ketone, and dioxane.

上記のポリウレタンの製法において用いられる一I’l
Q式(a)または(b)で表わされる含リンジオール化
合物の使用割合は得られるポリウレタンに対して通常0
.01〜30重量%、特に好ましくは0.1〜10重量
%である。この一般式(a)または(b)で表わされる
含リンジオール化合物の使用割合がポリウレタンに対し
て30重量%を超えると、得られるポリウレタンの極性
が高くなり、溶剤への溶解度が低下し、放射線によって
硬化した後の塗膜の吸湿性が増加し、硬化後の塗膜強度
の低下を招きやすくなる。
I'l used in the above polyurethane manufacturing method
The proportion of the phosphorus diol-containing compound represented by Q formula (a) or (b) is usually 0 to the resulting polyurethane.
.. 01 to 30% by weight, particularly preferably 0.1 to 10% by weight. When the proportion of the phosphorus diol-containing compound represented by the general formula (a) or (b) exceeds 30% by weight based on the polyurethane, the polarity of the resulting polyurethane increases, the solubility in solvents decreases, and radiation This increases the hygroscopicity of the cured coating film, which tends to cause a decrease in coating strength after curing.

一方、該含リンジオール化合物の使用割合がポリウレタ
ンに対して0.01重量%未満の場合、無機化合物に対
する親和性が不十分となり、特に磁性塗料として使用す
る場合、磁性粉の分散が不十分となる。
On the other hand, if the proportion of the phosphorus diol-containing compound used is less than 0.01% by weight based on polyurethane, the affinity for inorganic compounds will be insufficient, and especially when used as a magnetic paint, the dispersion of magnetic powder will be insufficient. Become.

また、上記のポリウレタンの製法において用いられる一
般式(k1〜(ml等で表わされる(メタ)アクリレー
ト化合物の総量の使用割合は、得られるポリウレタンに
対して、好ましくは0.2〜40重量%、特に好ましく
は0.5〜30重量%である。(メタ)アクリレート化
合物の使用割合が40重量%を超えると放射線によって
硬化した塗膜の柔軟性が失われ、塗膜の機械的特性が損
なわれる。一方、一般式(k1〜(m)等で表わされる
(メタ)アクリレート化合物がポリウレタンに対して0
.2重量%未満であると放射線による塗膜の硬化が不十
分となり、磁性塗料として使用した場合、その実走行耐
久性が低下する。
In addition, the proportion of the total amount of the (meth)acrylate compound expressed by the general formula (k1 ~ (ml, etc.) used in the above polyurethane production method is preferably 0.2 to 40% by weight, based on the polyurethane obtained. Particularly preferably, it is 0.5 to 30% by weight.If the proportion of the (meth)acrylate compound used exceeds 40% by weight, the coating film cured by radiation will lose its flexibility and the mechanical properties of the coating film will be impaired. On the other hand, (meth)acrylate compounds represented by general formulas (k1 to (m), etc.)
.. If the amount is less than 2% by weight, the curing of the coating film by radiation will be insufficient, and when used as a magnetic coating material, its actual running durability will be reduced.

また、上記の製法において、−J’G式(C)〜(f)
で表わされる化合物を用いる場合、それらのLgffi
の使用割合は、得られるポリウレタンに対して、好まし
くは60〜95重量%、特に好ましくは75〜90重量
%であり、その使用割合が60重量%未満であると放射
線によって硬化した塗膜の柔軟性が失われ、塗膜の機械
的特性が損なわれる。一方、一般式(C)〜(f)で表
わされる化合物がポリウレタンに対して95重量%を超
えると一般式(k)〜(m)等で表わされる化合物の含
量が少なくなるため放射線による硬化が不十分となる。
In addition, in the above manufacturing method, -J'G formula (C) ~ (f)
When using compounds represented by, their Lgffi
The amount used is preferably 60 to 95% by weight, particularly preferably 75 to 90% by weight, based on the polyurethane obtained. If the amount used is less than 60%, the flexibility of the coating film cured by radiation properties are lost and the mechanical properties of the coating are impaired. On the other hand, if the compound represented by general formulas (C) to (f) exceeds 95% by weight based on the polyurethane, the content of the compounds represented by general formulas (k) to (m), etc. will decrease, making curing by radiation difficult. It becomes insufficient.

上記の製法において、式(glで表わされる化合物を用
いる場合、その使用割合は得られるポリウレタンに対し
て、好ましくは30重世%以下であり、特に好ましくは
20重量%以下であり、その使用割合が30重量%を超
えると放射線で硬化した塗膜の柔軟性が損なわれる。
In the above production method, when a compound represented by the formula (gl) is used, its usage ratio is preferably 30 weight% or less, particularly preferably 20 weight% or less, based on the polyurethane obtained. If it exceeds 30% by weight, the flexibility of the coating film cured by radiation will be impaired.

上記のポリウレタンの製法において、一般式(h)およ
び(1)で表わされる化合物を用いる場合、それらの総
量の使用割合は、得られるポリウレタンに対して、好ま
しくは20重量%以下、特に好ましくは10重量%以下
であり、その使用割合が、20重量%を超えると得られ
るポリウレタンの極性が高くなり、トルエン、メチルエ
チルケト等の汎用の溶剤への溶解度が低下し、また放射
線によって硬化した塗膜の吸湿性が増加し塗膜強度の低
下を招きやすくなる。
In the above method for producing polyurethane, when the compounds represented by general formulas (h) and (1) are used, the total amount used is preferably 20% by weight or less, particularly preferably 10% by weight or less, based on the polyurethane obtained. If the usage ratio exceeds 20% by weight, the polarity of the resulting polyurethane increases, the solubility in general-purpose solvents such as toluene and methyl ethyl keto decreases, and the moisture absorption of the coating film cured by radiation increases. This tends to lead to a decrease in coating film strength.

次に、上述したポリウレタンの製法に用いられる各反応
成分化合物の具体例を示す。
Next, specific examples of each reaction component compound used in the above-mentioned method for producing polyurethane will be shown.

−i式(a)で表わされる化合物としては、例えば式 等で表わされる含リンジオールが挙げられる。-i As a compound represented by the formula (a), for example, the compound represented by the formula Examples include phosphorus-containing diols represented by the following.

一般弐山)で表わされる化合物としては、例えば式 %式% 等で表わされる含リンジオールが挙げられる。For example, compounds represented by the formula %formula% Examples include phosphorus-containing diols represented by the following.

−C式(C)で表わされる化合物としては、例えば、エ
チレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチ
レングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1.
6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1.
4−シクロヘキサンジメタツールのような多価アルコー
ルとフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン
酸、フマール酸、アジピン酸、セパチン酸のような多塩
基酸とを反応して得られるポリエステルジオールが挙げ
られる。
-C Compounds represented by formula (C) include, for example, ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, tetramethylene glycol, polytetramethylene glycol, 1.
6-hexanediol, neopentyl glycol, 1.
Examples include polyester diols obtained by reacting polyhydric alcohols such as 4-cyclohexane dimetatool with polybasic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, maleic acid, fumaric acid, adipic acid, and cepatic acid. It will be done.

−a式(d)で表わされる化合物としては、例えば、ポ
リエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポ
リテトラメチレングリコール等のポリエーテルジオール
が挙げられる。
Examples of the compound represented by the -a formula (d) include polyether diols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polytetramethylene glycol.

−a式(e)で表わされる化合物としては、例えば、ビ
スフェノールAのエチレンオキサイドまたはプロピレン
オキサイドのアルキレンオキサイド付加物等のポリエー
テルジオールが挙げられる。
Examples of the compound represented by the -a formula (e) include polyether diols such as ethylene oxide of bisphenol A or alkylene oxide adducts of propylene oxide.

−1式(f)で表わされる化合物としては、カプロラク
トンと、相当するジオールとを公知の方法、例えば開始
剤としてグリコールを用いたε−カプロラクトンの開環
反応等によって得られるポリカプロラクトンジオールを
挙げることができる。
-1 Examples of the compound represented by formula (f) include polycaprolactone diol obtained by a known method such as ring-opening reaction of ε-caprolactone using glycol as an initiator using caprolactone and a corresponding diol. Can be done.

−1式(g)で表わされる化合物としては、1分子中に
エポキシ基を2個含むジェポキシ化合物1モルに対して
、カルボキシル基を有するアクリル系およびメタクリル
系化合物ならびに水酸基を有するアクリル系およびメタ
クリル系化合物から選ばれる少なくとも1種類の化合物
1モル以上を反応させ、反応系全体のエポキシ基が消失
するまで、付加重合することによって合成されるジオー
ル化合物を挙げることができる。ここにおけるジェポキ
シ化合物としては例えば、ビスフェノールAとエピクロ
ルヒドリンとを反応させて得られる多価フェノールのグ
リシジルエーテル;エチレングリコール、ポリエチレン
グリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレング
リコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチ
レングリコール等の多価アルコールとエピクロルヒドリ
ンとを反応させて得られる多価アルコールのグリシジル
エーテル等を挙げることができる。
-1 As the compound represented by formula (g), acrylic and methacrylic compounds having a carboxyl group and acrylic and methacrylic compounds having a hydroxyl group are used per mole of a jepoxy compound containing two epoxy groups in one molecule. Examples include diol compounds synthesized by reacting 1 mole or more of at least one type of compound selected from the compounds and performing addition polymerization until the epoxy groups in the entire reaction system disappear. Examples of the jepoxy compound here include glycidyl ether of polyhydric phenol obtained by reacting bisphenol A and epichlorohydrin; Examples include glycidyl ether of polyhydric alcohol obtained by reacting alcohol and epichlorohydrin.

−i式(h)で表わされる化合物としては、上記の一般
式(dlで示されるポリエーテルジオール化合物とスル
ホイソフタル酸類とを反応させることによって製造する
ことができるジオール化合物を挙げることができる。ス
ルホイソフタル酸類としては、例えば5−ナトリウム−
スルホ−イソフタル酸、5−カリウム−スルホ−イソフ
タル酸、5−ナトリウム−スルホ−イソフタル酸無水物
、5−ナトリウム−スルホ−イソフタル酸ジ低級アルキ
ル例えばジメチルまたはジエチル、5−カリウム−スル
ホ−イソフタル酸ジ低級アルキル例えばジメチルまたは
ジエチル等を挙げることができる。
Examples of the compound represented by formula (h) include diol compounds that can be produced by reacting the polyether diol compound represented by the above general formula (dl) with sulfoisophthalic acids. Examples of isophthalic acids include 5-sodium-
Sulfo-isophthalic acid, 5-potassium-sulfo-isophthalic acid, 5-sodium-sulfo-isophthalic anhydride, di-lower alkyl 5-sodium-sulfo-isophthalate such as dimethyl or diethyl, di-5-potassium-sulfo-isophthalate. Mention may be made of lower alkyl such as dimethyl or diethyl.

−C式(1)で表わされる化合物としては、上記の一般
式(d)で表わされるポリエーテルジオール化合物から
選ばれる少な(とも1種の化合911モルに対して、1
モル未満のテトラカルボン酸二無水物を反応させエステ
ル化またはアミド化し、系全体の酸価が初期値の2にな
るまで付加重合反応させることによって合成されるジオ
ール化合物を挙げることができる。
-C The compound represented by formula (1) is a small amount selected from the polyether diol compounds represented by the above general formula (d) (with respect to 911 mol of one type of compound, 1
Examples include diol compounds that are synthesized by reacting less than a mole of tetracarboxylic dianhydride, esterifying or amidating it, and conducting an addition polymerization reaction until the acid value of the entire system reaches the initial value of 2.

−m弐〇)で表わされる化合物としては、例えば、2.
4−)ルエンジイソシアネー)2.6−)ルエンジイソ
シアネート、1.3−キシレンジイソシアネート、1.
4−キシレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジ
イソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p
−フェニレンジイソシアネート、3.3′−ジメチル−
4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、4.4
′−ジフェニルメタンジイソシアネート、3.3’−’
;メチルフェニレンジイソシアネート、4.4’−ビフ
ェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシア
ネート、イソフォロンジイソシアネート、ジシクロヘキ
シルメタンジイソシアネート、等が挙げられる。
Examples of the compound represented by -m2〇) include 2.
4-) Luene diisocyanate) 2.6-) Luene diisocyanate, 1.3-Xylene diisocyanate, 1.
4-xylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p
-phenylene diisocyanate, 3,3'-dimethyl-
4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4.4
'-Diphenylmethane diisocyanate, 3.3'-'
Methylphenyl diisocyanate, 4,4'-biphenylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, and the like.

一般式(k)で表わされる化合物としては、例えば、2
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシオ
クチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
Examples of the compound represented by the general formula (k) include 2
-Hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxyoctyl (meth)acrylate, and the like.

一般式+1)で表わされる化合物としては、例えば、グ
リセリンジ(メタ)アクリレートが挙げられる。
Examples of the compound represented by the general formula +1) include glycerin di(meth)acrylate.

−i式+mlで表わされる化合物としては、例えば、ペ
ンタエリスリトールトリ (メタ)アクリレートが挙げ
られる。
Examples of the compound represented by the formula -i+ml include pentaerythritol tri(meth)acrylate.

一般式(nlで表わされる4価アルコール化合物として
は、例えばペンタエリスリトール、N、N。
Examples of the tetrahydric alcohol compound represented by the general formula (nl) include pentaerythritol, N, and N.

N’、N’−テトラヒドロキシプロピルエチレンジアミ
ン等を挙げることができる。
N',N'-tetrahydroxypropylethylenediamine and the like can be mentioned.

上記の製法によって本発明に用いるポリウレタンを得る
ことができるが、該ポリウレタンの製法はこれに限定さ
れるものではない。
Although the polyurethane used in the present invention can be obtained by the above manufacturing method, the method for manufacturing the polyurethane is not limited thereto.

本発明に用いられるポリウレタンの分子量は、通常、2
.000〜100,000、好ましくは4,000〜6
0、000である。この分子量が2.000未満の場合
は、放射線によって硬化した塗膜の強度が低下し、分子
量が100.000を超えると塗料を調製する際、溶液
の粘度が高くなりその取り扱いが困難となるだけでなく
、特に磁性塗料として調製する際には粘度低減のために
必要な溶剤が多量となり経済的でない。
The molecular weight of the polyurethane used in the present invention is usually 2
.. 000-100,000, preferably 4,000-6
It is 0,000. If this molecular weight is less than 2.000, the strength of the coating film cured by radiation will decrease, and if the molecular weight exceeds 100.000, the viscosity of the solution will increase and it will be difficult to handle when preparing the paint. Moreover, especially when preparing a magnetic paint, a large amount of solvent is required to reduce the viscosity, which is not economical.

本発明の放射線硬化性塗料は、通常前記ポリウレタンを
はじめとする配合成分を適当な有機溶媒を媒体として混
合することにより調製される。用いられる有機溶媒とし
ては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン
、テトラヒドロフラン、トルエン、メチルイソブチルケ
トン、ジオキサン等が挙げられる。
The radiation-curable coating material of the present invention is usually prepared by mixing the above-mentioned polyurethane and other ingredients using a suitable organic solvent as a medium. Examples of the organic solvent used include methyl ethyl ketone, cyclohexanone, tetrahydrofuran, toluene, methyl isobutyl ketone, and dioxane.

本発明の放射線硬化性塗料は、必要に応じて本発明に用
いられるポリウレタン以外の放射線重合性二重結合を有
する重合体および/または放射線重合性二重結合を有す
る単量体化合物を含有することもできる。
The radiation-curable coating material of the present invention may optionally contain a polymer having a radiation-polymerizable double bond and/or a monomer compound having a radiation-polymerizable double bond other than the polyurethane used in the present invention. You can also do it.

さらに本発明の放射線硬化性塗料には、前記のポリウレ
タン以外に必要に応じてポリビニルブチラール、ポリビ
ニルアセクール、ポリウレタン、ポリエステル、分子内
にスルホン酸および/または金属塩基を有するポリエス
テル、エポキシ樹脂、エポキシウレタン樹脂、ポリ塩化
ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、水酸基含有
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−プロピ
オン酸ビニル共重合体、水酸基含有塩化ビニル−プロピ
オン酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−アク
リル酸エステル共重合体、水酸基含有塩化ビニル−酢酸
ビニル−アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニリ
デン、マレイン酸含有塩化ビニル−塩化ビニリデン共重
合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニ
リデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニリデンー
メタクリル酸エステル共重合体、フェノキシ樹脂、ニト
ロセルローズ、硝化綿、ケトン樹脂、アクリル酸もしく
はメタクリル酸重合体または共重合体、アクリル酸エス
テルもしくはメタクリル酸エステル重合体または共重合
体、ポリイミド樹脂、1゜3−ペンタジェン樹脂、エポ
キシ化1,3−ペンタジェン樹脂、ヒドロキシル化1,
3−ペンタジェン樹脂、アクリロニトリル重合体または
共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重
合体、メタクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合
体、フェノール−ホルマリン樹脂、フェノール−フルフ
ラール樹脂、キシレン−ホルマリン樹脂、尿素樹脂、メ
ラミン樹脂、アルキッド樹脂、アクリロニトリル−ブタ
ジェンスチレン共重合体等を配合してもよい。
Furthermore, in addition to the above-mentioned polyurethane, the radiation-curable paint of the present invention may also include polyvinyl butyral, polyvinyl acecool, polyurethane, polyester, polyester having sulfonic acid and/or metal base in the molecule, epoxy resin, epoxy urethane. Resin, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, hydroxyl group-containing vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinyl propionate copolymer, hydroxyl group-containing vinyl chloride-vinyl propionate copolymer, vinyl chloride - Vinyl acetate-acrylic ester copolymer, hydroxyl group-containing vinyl chloride-vinyl acetate-acrylic ester copolymer, polyvinylidene chloride, maleic acid-containing vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer , vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, vinylidene chloride-methacrylic acid ester copolymer, phenoxy resin, nitrocellulose, nitrified cotton, ketone resin, acrylic acid or methacrylic acid polymer or copolymer, acrylic acid ester or methacrylic acid ester Polymer or copolymer, polyimide resin, 1°3-pentadiene resin, epoxidized 1,3-pentadiene resin, hydroxylated 1,
3-pentadiene resin, acrylonitrile polymer or copolymer, acrylic ester-acrylonitrile copolymer, methacrylic ester-acrylonitrile copolymer, phenol-formalin resin, phenol-furfural resin, xylene-formalin resin, urea resin, melamine A resin, alkyd resin, acrylonitrile-butadiene styrene copolymer, etc. may be blended.

なお、本発明の放射線硬化性塗料の粘度は、通常、2,
000〜40.000(cps) 、好ましくは4.0
00〜20、000 (cps)であり、固形分濃度は
、通常、20〜80重量%、好ましくは30〜60重量
%である。
Note that the viscosity of the radiation-curable paint of the present invention is usually 2,
000 to 40.000 (cps), preferably 4.0
00 to 20,000 (cps), and the solid content concentration is usually 20 to 80% by weight, preferably 30 to 60% by weight.

本発明の放射線硬化性塗料を硬化させるために使用する
放射線としては、例えば、電子線、r −線、中性子線
、β−線、X線等が挙げられる。これらのうちで放射線
量の制御および放射線照射装置の設置の容易性の点から
、電子線が好ましい。
Examples of the radiation used to cure the radiation-curable paint of the present invention include electron beams, r-rays, neutron beams, β-rays, and X-rays. Among these, electron beams are preferred from the viewpoint of controlling the radiation dose and ease of installing the radiation irradiation device.

電子線の加速電圧は、好ましくは100〜750kV、
特に好ましくは150〜300kVであり、その照射量
は塗膜の吸収線量が0.5〜20メガランドになる様に
制御するのが好ましい。
The accelerating voltage of the electron beam is preferably 100 to 750 kV,
Particularly preferably, it is 150 to 300 kV, and the irradiation amount is preferably controlled so that the absorbed dose of the coating film is 0.5 to 20 megaland.

本発明の放射線硬化性塗料を磁性塗料として使用する際
には、本発明の放射線硬化性塗料にr−FezO1、F
e5Oa 、r−FetOsとFe、0.の中間の酸化
状態の酸化鉄、Co含有r−FetOs 、Co含有F
e5On、Co含有のr−FezO1とFe30aの中
間の酸化状態の酸化鉄、前記酸化鉄をさらに還移金属元
素等の金属元素を含有させたもの、前記酸化鉄にCo酸
化物または水酸化物を主体とした被覆層を形成したもの
、CrOいCragの表面を還元処理してCrzOs層
を形成したもの、F13SCO,Ni等の金属もしくは
これらの合金またはこれらに金属元素もしくは還移金属
元素等の金属元素を含有させたもの等の磁性粉を本発明
の放射線硬化性塗料に対して、通常、75〜85重量%
配重置て用いる。
When using the radiation-curable paint of the present invention as a magnetic paint, r-FezO1, F
e5Oa, r-FetOs and Fe, 0. iron oxide in the intermediate oxidation state, Co-containing r-FetOs, Co-containing F
e5On, iron oxide in an oxidation state intermediate between Co-containing r-FezO1 and Fe30a, the above iron oxide further containing a metal element such as a reduced metal element, the above iron oxide containing Co oxide or hydroxide. Those with a coating layer mainly formed on them, those with a CrzOs layer formed by reducing the surface of CrO Crag, metals such as F13SCO and Ni, or alloys thereof, or metals such as metal elements or reduction metal elements on these. Magnetic powder, such as one containing elements, is usually added in an amount of 75 to 85% by weight based on the radiation-curable coating material of the present invention.
Arrange and use.

さらに、上記磁性粉以外に大豆油レシチン、シリコーン
オイル等の潤滑剤などの添加剤を使用してもよい。
Furthermore, in addition to the above magnetic powder, additives such as lubricants such as soybean oil lecithin and silicone oil may be used.

本発明の放射線硬化性塗料は、特に磁性塗料として被塗
布材(基体:ベースフィルム)、例えば、ポリエチレン
テレフタレート等のポリエステル;ポリプロピレン等の
ポリオレフィン;セルローストリアセテート、セルロー
スジアセテート等のセルロース誘導体;ポリカーボネー
ト;ポリ塩化ビニル:ポリイミド;アルミニウム、銅等
の非磁性金属;紙等に塗布し、磁場配向処理を行ない乾
燥した後、前記の通り放射線を照射し、磁性塗料の塗膜
を硬化させることにより優れた磁気記録媒体を作製する
ことができる。
The radiation-curable coating material of the present invention can be applied particularly as a magnetic coating material to a coated material (substrate: base film), such as polyesters such as polyethylene terephthalate; polyolefins such as polypropylene; cellulose derivatives such as cellulose triacetate and cellulose diacetate; polycarbonate; Vinyl chloride: polyimide; non-magnetic metals such as aluminum and copper; coated on paper, etc., subjected to magnetic field orientation treatment, dried, and then irradiated with radiation as described above to harden the magnetic paint film, resulting in excellent magnetic properties. A recording medium can be produced.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を合成例および実施例によってさらに詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to synthesis examples and examples, but the present invention is not limited to these examples.

なお、以下の合成例において、分子量は浸透圧法によっ
て求めた値であり、重合体中の含リン基の含有量はリン
パナトモリブデン酸法により測定した値である。また化
合物の構造は、赤外吸収スペクトルおよび核磁気共鳴(
NMR)スペクトルによって分析した結果である。
In addition, in the following synthesis examples, the molecular weight is the value determined by the osmotic pressure method, and the content of phosphorus-containing groups in the polymer is the value measured by the lymphatomolybdic acid method. The structure of the compound can also be determined by its infrared absorption spectrum and nuclear magnetic resonance (
This is the result of analysis by NMR) spectrum.

合成例1 温度計、攪拌器、還流冷却管および滴下ロートを備えた
容量11のフラスコに、ジシクロヘキシルメタンジイソ
シアネート70.7 g 、ラウリル酸n−ブチルスズ
0.2g、メチルエチルケトン150gおよびシクロへ
キサノン150gを仕込み、60’Cに保温しながら、
滴下ロートより、ポリエステルジオール(日本ポリウレ
タン製ニッポラン4009)215.8gと次式 で表わされる含リンジオール化合物(旭電化工業製FC
450) 7.3gとの混合物を滴下した。滴下終了後
、60℃で4時間攪拌した。その後、ヒドロキシエチル
アクリレート6.3gを加え、さらに60’Cで4時間
反応させ、ポリウレタンlを得た。反応終了後、反応系
中にイソシアネート基が残存してないことを赤外吸収ス
ペクトルにより確認した。
Synthesis Example 1 A flask with a capacity of 11 equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser, and a dropping funnel was charged with 70.7 g of dicyclohexylmethane diisocyanate, 0.2 g of n-butyltin laurate, 150 g of methyl ethyl ketone, and 150 g of cyclohexanone. , while keeping warm at 60'C.
From the dropping funnel, 215.8 g of polyester diol (Nipporan 4009 manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) and a phosphorous diol compound represented by the following formula (FC manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) were added.
450) was added dropwise. After the dropwise addition was completed, the mixture was stirred at 60°C for 4 hours. Thereafter, 6.3 g of hydroxyethyl acrylate was added, and the mixture was further reacted at 60'C for 4 hours to obtain polyurethane I. After the reaction was completed, it was confirmed by infrared absorption spectrum that no isocyanate groups remained in the reaction system.

ポリウレタン1の分子量およびポリウレタン1中の一般
式(i): で表わされる含リン構造の含有量を測定した結果を第1
表に示す。
The molecular weight of polyurethane 1 and the content of the phosphorus-containing structure represented by the general formula (i) in polyurethane 1 were measured.
Shown in the table.

合成例2 合成例1において、ポリエステルジオールの代りにポリ
エーテルジオール(三菱化成製PTMG100O)20
9.6 gを用い、含リンジオール化合物の使用量を0
.09 gとし、主として次式 で表わされる化合物(以下「特定ヒドロキシル化合物」
という) 15.6gを加えた混合物を滴下に使用し、
またヒドロキシエチルアクリレートの使用量を6.1g
に変えた以外は合成例1と同様にしてポリウレタン2を
得た。なお、上記特定ヒドロキシル化合物は、温度計、
攪拌器および還流冷却管を備えた容量IIlのフラスコ
に、アクリル酸144gとビスフェノールAジグリシジ
ルエーテル(油化シェルエポキシ社製エピコー)82B
) 336gを加え、60℃で6時間反応させることに
より得られたものである。
Synthesis Example 2 In Synthesis Example 1, polyether diol (PTMG100O manufactured by Mitsubishi Kasei) was used instead of polyester diol.
Using 9.6 g, the amount of phosphorus diol-containing compound used was 0.
.. 09 g, mainly a compound represented by the following formula (hereinafter referred to as "specific hydroxyl compound")
15.6 g of the mixture was used for dropping,
Also, the amount of hydroxyethyl acrylate used was 6.1g.
Polyurethane 2 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1, except that . In addition, the above-mentioned specific hydroxyl compound can be measured with a thermometer,
In a flask with a capacity of IIl equipped with a stirrer and a reflux condenser, 144 g of acrylic acid and bisphenol A diglycidyl ether (Epicor, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) 82B were added.
) was obtained by adding 336 g and reacting at 60° C. for 6 hours.

ポリウレタン2の分子量および前記一般式(i)で表わ
される含リン構造の含有量の測定結果を第1表に示す。
Table 1 shows the measurement results of the molecular weight of polyurethane 2 and the content of the phosphorus-containing structure represented by the general formula (i).

合成例3 合成例1において、ジシクロヘキシルメタンジイソシア
ネートの使用量を134.4 gとし、ポリエステルジ
オールの代りにポリカプロラクトンジオール(ダイセル
化学工業製プラクセル20ケ) 64.1gを使用し、
含リンジオール化合物の使用量を86.6 gとした混
合物を滴下に使用し、また、ヒドロキシエチルアクリレ
ートの使用量を14.9 gに変えた以外は合成例と同
様にしてポリウレタン3を合成した。
Synthesis Example 3 In Synthesis Example 1, the amount of dicyclohexylmethane diisocyanate used was 134.4 g, and 64.1 g of polycaprolactone diol (Plaxel 20, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) was used instead of polyester diol.
Polyurethane 3 was synthesized in the same manner as in Synthesis Example, except that a mixture in which the amount of the phosphorus diol-containing compound used was 86.6 g was used for dropping, and the amount of hydroxyethyl acrylate used was changed to 14.9 g. .

ポリウレタン3の分子量および前記一般式(i)で表わ
される含リン構造の含有量の測定結果を第1表に示す。
Table 1 shows the measurement results of the molecular weight of polyurethane 3 and the content of the phosphorus-containing structure represented by the general formula (i).

合成例4 合成例1において、ジシクロヘキシルメタンジイソシア
ネートの代りに2.6−トルエンジイソシアネート99
.2gを用い、ポリエステルジオールの代りにポリエー
テルジオール(三井日曹ウレタン製PPG400) 1
42.6gを使用し、含リンジオール化合物の使用量を
9.6gとし、さらにポリオキシエチレンビスフェノー
ルAエーテル(日本油JIW製DA−350F) 32
.1 gを加えた混合物を滴下に使用し、また、ヒドロ
キシエチルアクリレートの使用量を16.5gに変えた
以外は合成例1と同様にしてポリウレタン4を合成した
Synthesis Example 4 In Synthesis Example 1, 2,6-toluene diisocyanate 99 was used instead of dicyclohexylmethane diisocyanate.
.. Using 2g of polyether diol (PPG400 manufactured by Mitsui Nisso Urethane) 1 instead of polyester diol
42.6 g was used, the amount of phosphorus diol-containing compound used was 9.6 g, and polyoxyethylene bisphenol A ether (DA-350F manufactured by Nippon Oil JIW) 32
.. Polyurethane 4 was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1, except that the mixture to which 1 g of hydroxyethyl acrylate was added was used for the dropwise addition, and the amount of hydroxyethyl acrylate used was changed to 16.5 g.

ポリウレタン4の分子量および前記一般式(i)で表わ
される含リン基の含有量の測定結果を第1表に示す。
Table 1 shows the measurement results of the molecular weight of polyurethane 4 and the content of phosphorus-containing groups represented by the general formula (i).

合成例5 温度計、攪拌器、還流冷却管および滴下ロートを備えた
容量21のフラスコに2.6−トルエンジイソシアネー
ト66.9 g 、ラウリル酸n−ブチルスズ0.2g
、メチルエチルケトン150gおよびシクロへキサノン
150gを仕込み、60’Cに保温しながら、滴下ロー
トより、ポリエステルジオール(日本ポリウレタン製ニ
ッポラン4002) 150.4 gとポリオキシエチ
レンビスフェノールAエーテル(日本油脂型D^350
F)20.1 gと合成例2と同様の特定ヒドロキシル
化合物30.1gと主として、次式〔式中、R′はポリ
エチレングリコール(平均分子量400)の両末端の水
酸基を除いた残基であり、nは1.1である。〕 で表わされる化合物(以下、[特定スルホン酸化合物」
という)10gと、ポリエチレングリコール(分子量4
00) 4.5gと次式 で表わされる含リンジオール化合物(モーピル化学型P
EGACOL82)9.9 gとの混合物を滴下した。
Synthesis Example 5 66.9 g of 2.6-toluene diisocyanate and 0.2 g of n-butyltin laurate were placed in a 21-capacity flask equipped with a thermometer, stirrer, reflux condenser, and dropping funnel.
, 150 g of methyl ethyl ketone and 150 g of cyclohexanone were charged, and while keeping the temperature at 60'C, 150.4 g of polyester diol (Nipporan 4002 manufactured by Nippon Polyurethane) and 150.4 g of polyoxyethylene bisphenol A ether (NOF type D^350) were added.
F) 20.1 g, 30.1 g of the same specific hydroxyl compound as in Synthesis Example 2, and the following formula [wherein R' is a residue of polyethylene glycol (average molecular weight 400) excluding the hydroxyl groups at both ends; , n is 1.1. ] The compound represented by (hereinafter referred to as [specific sulfonic acid compound]
), 10 g of polyethylene glycol (molecular weight 4
00) 4.5g and a phosphorus diol compound represented by the following formula (Mopil chemical type P
A mixture with 9.9 g of EGACOL82) was added dropwise.

滴下終了後、60℃で4時間撹拌した。その後、ヒドロ
キシエチルアクリレート7.8gを加え、さらに60℃
で2時間反応させた後、4価アルコール化合物(旭電化
製アデクオドロール)4.9gを加えて60℃で4時間
反応させ、ポリウレタン5を合成した。反応終了後、反
応系中にイソシアネート基が残存していないことを赤外
吸収スペクトルにより確認した。
After the dropwise addition was completed, the mixture was stirred at 60°C for 4 hours. After that, 7.8g of hydroxyethyl acrylate was added and the temperature was further increased to 60°C.
After reacting for 2 hours, 4.9 g of a tetrahydric alcohol compound (adequodrol manufactured by Asahi Denka) was added and reacted at 60° C. for 4 hours to synthesize polyurethane 5. After the reaction was completed, it was confirmed by infrared absorption spectrum that no isocyanate groups remained in the reaction system.

なお、上記特定スルホン酸化合物は、温度計、攪拌器お
よび還流冷却管を備えた容量11のフラスコに、5−ナ
トリウム−スルホ−イソフタル酸ジメチルエステル74
g1ポリエチレングリコール(平均分子量40Q) 4
QQg、酢酸ナトリウム1.0gを加えて130°Cで
6時間反応させることにより得られ、未反応ポリエチレ
ングリコールを45重量%含むものである。
The above specific sulfonic acid compound was prepared by adding 74 ml of 5-sodium-sulfo-isophthalic acid dimethyl ester to a flask with a capacity of 11 equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser.
g1 polyethylene glycol (average molecular weight 40Q) 4
It is obtained by adding QQg and 1.0 g of sodium acetate and reacting at 130°C for 6 hours, and contains 45% by weight of unreacted polyethylene glycol.

ポリウレタン5の分子量およびポリウレタン5中の一般
式(ii): C1+3 C113CH:1 で表わされる含リン構造の含有量を測定した結果を第1
表に示す。
The molecular weight of polyurethane 5 and the content of the phosphorus-containing structure represented by general formula (ii): C1+3 C113CH:1 in polyurethane 5 were measured in the first
Shown in the table.

合成例6 温度計、攪拌器、還流冷却管および滴下ロートを備えた
容量21のフラスコに、4..4’−ジフェニルメタン
ジイソシアネート98.3 g 、ラウリル酸n−ブチ
ルスズ0.2g、メチルエチルケトン150gおよびシ
クロへキサノン150gを仕込み、60℃に保温しなが
ら、滴下ロートより、ポリエーテルジオール(デュポン
製テラコール650) 102.2gとポリオキシエチ
レンビスフェノールAエーテル(日本油脂型DA350
) 57.8gと合成例5と同様の含リンジオール化合
物1.1gとの混合物を滴下した。滴下終了後、60℃
で4時間攪拌した。その後、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート10.6gを加え、さらに60℃で2時間
撹拌下反応させた。
Synthesis Example 6 In a flask with a capacity of 21 equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser, and a dropping funnel, 4. .. 98.3 g of 4'-diphenylmethane diisocyanate, 0.2 g of n-butyltin laurate, 150 g of methyl ethyl ketone, and 150 g of cyclohexanone were charged, and while keeping the temperature at 60°C, polyether diol (Teracol 650 manufactured by DuPont) 102 was added through the dropping funnel. .2g and polyoxyethylene bisphenol A ether (NOF type DA350
) A mixture of 57.8 g and 1.1 g of the same phosphorus diol-containing compound as in Synthesis Example 5 was added dropwise. After dropping, 60℃
The mixture was stirred for 4 hours. Thereafter, 10.6 g of pentaerythritol triacrylate was added, and the mixture was further reacted at 60° C. for 2 hours with stirring.

次いで主として次式 %式% 社製テラコール650)の両末端の水酸基を除いた残基
を示す。〕 からなる化合物(以下、「特定カルボキシル化合物」と
いう)29.9gのメチルエチルケト溶液を加え、60
℃で7時間反応させポリウレタン6を合成した。反応終
了後、反応系中にイソシアネート基が残存していないこ
とを赤外吸収スペクトルにより確認した。
Next, the residues of the following formula (% Formula %) (manufactured by Teracol 650) from which the hydroxyl groups at both ends have been removed are mainly shown. ] Add a methyl ethyl keto solution of 29.9 g of a compound consisting of (hereinafter referred to as "specific carboxyl compound"),
Polyurethane 6 was synthesized by reacting at ℃ for 7 hours. After the reaction was completed, it was confirmed by infrared absorption spectrum that no isocyanate groups remained in the reaction system.

なお、上記特定カルボキシル化合物は、温度計、攪拌器
、還流冷却管および滴下ロートを備えた容量11のフラ
スコに、ピロメリット酸二無水物43.6 gおよびメ
チルエチルケトン500gを加え、60℃に加温し、ピ
ロメリット酸二無水物を溶解させたのち、70℃に昇温
し、次いで滴下ロートよりポリエーテルジオール(デュ
ポン社製テラコール650) 195gをゆっくりと滴
下し、滴下終了後、70℃で6時間反応させることによ
り得られたものである。
The above specific carboxyl compound was prepared by adding 43.6 g of pyromellitic dianhydride and 500 g of methyl ethyl ketone to a flask with a capacity of 11 equipped with a thermometer, stirrer, reflux condenser, and dropping funnel, and heating the mixture to 60°C. After dissolving pyromellitic dianhydride, the temperature was raised to 70°C, and then 195 g of polyether diol (Terakol 650 manufactured by DuPont) was slowly added dropwise from the dropping funnel, and after the addition was completed, the temperature was raised to 70°C. It was obtained by reacting for a period of time.

ポリウレタン6の分子量およびポリウレタン6中の前記
一般式(ii)で表わされる含リン構造の含有量を測定
した結果を第1表に示す。
Table 1 shows the results of measuring the molecular weight of polyurethane 6 and the content of the phosphorus-containing structure represented by the general formula (ii) in polyurethane 6.

合成例7 温度計、攪拌器、還流冷却管および滴下ロートを備えた
容121のフラスコに、2.4−1−ルエンジイソシア
ネー)・60.2g、ラウリル酸n−ブチルスズ0.2
g、メチルエチルケトン150gおよびシクロへキサノ
ン150gを仕込み、60℃に保温しながら、滴下ロー
トより、ポリエステルジオール(日本ポリウレタン製ニ
ッポラン4009) 174.9 gとポリオキシエチ
レンビスフェノールAエーテル(日本油脂型D^350
F)36.2 gと合成例2と同様の特定ヒドロキシル
化合物21.0 gと合成例5と同様の特性スルホン酸
化合物5.3gと合成例6と同様の含リンジオール化合
物0.5gとの混合物を滴下した。滴下終了後、60℃
で2時間攪拌した。その後、ヒドロキシエチルアクリレ
ート2.0 gを加え、さらに60℃で1時間反応させ
、ポリウレタン7を合成した。反応終了後、反応系中に
イソシアネート基が残存しないことを赤外吸収スペクト
ルにより確認した。
Synthesis Example 7 In a 121-volume flask equipped with a thermometer, stirrer, reflux condenser, and dropping funnel, 60.2 g of 2.4-1-ruene diisocyanate) and 0.2 n-butyltin laurate were added.
g, 150 g of methyl ethyl ketone and 150 g of cyclohexanone were charged, and while keeping the temperature at 60°C, 174.9 g of polyester diol (Nipporan 4009 manufactured by Nippon Polyurethane) and 174.9 g of polyoxyethylene bisphenol A ether (NOF type D^350) were added.
F) 36.2 g, 21.0 g of the same specific hydroxyl compound as in Synthesis Example 2, 5.3 g of the sulfonic acid compound with the same characteristics as in Synthesis Example 5, and 0.5 g of the same phosphorus diol compound as in Synthesis Example 6. The mixture was added dropwise. After dropping, 60℃
The mixture was stirred for 2 hours. Thereafter, 2.0 g of hydroxyethyl acrylate was added, and the mixture was further reacted at 60° C. for 1 hour to synthesize polyurethane 7. After the reaction was completed, it was confirmed by infrared absorption spectrum that no isocyanate groups remained in the reaction system.

ポリウレタン7の分子量およびポリウレタン7中の前記
一般式(ii )で表わされる含リン構造の含有量を測
定した結果を第1表に示す。
Table 1 shows the results of measuring the molecular weight of polyurethane 7 and the content of the phosphorus-containing structure represented by the general formula (ii) in polyurethane 7.

合成例8 温度計、攪拌器、還流冷却管および滴下ロートを備えた
容量2βのフラスコに、ジシクロヘキシルメタンジイソ
シアネート78.2 g 、ラウリル酸n−ブチルスズ
0.2g、メチルエチルケトン150gおよびシクロヘ
キサノン150gを仕込み、60℃に保温しながら、滴
下ロートより、ポリエーテルジオール(三井日曹ウレタ
ン製pPG1000) 149.2 gとポリカプロラ
クトンジオール(ダイセル化学工業製プラクセル205
)53.7 gと合成例2と同様の特定ヒドロキシル化
合物14.3 gと合成例1と同様の含リンジオール化
合物3.2gとの混合物を滴下した。
Synthesis Example 8 A flask with a capacity of 2β equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser, and a dropping funnel was charged with 78.2 g of dicyclohexylmethane diisocyanate, 0.2 g of n-butyltin laurate, 150 g of methyl ethyl ketone, and 150 g of cyclohexanone. While keeping the temperature at ℃, 149.2 g of polyether diol (pPG1000 manufactured by Mitsui Nisso Urethane) and polycaprolactone diol (Plaxel 205 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) were added through a dropping funnel.
), 14.3 g of the same specific hydroxyl compound as in Synthesis Example 2, and 3.2 g of the phosphorous diol-containing compound as in Synthesis Example 1 was added dropwise.

滴下終了後、60℃で4時間攪拌した。その後、ヒドロ
キシエチルアクリレ−) 1.4gを加え、さらに60
℃で2時間反応させポリウレタン8を合成した。反応終
了後、反応系中にイソシアネート基が残存しないことを
赤外吸収スペクトルにより確認した。
After the dropwise addition was completed, the mixture was stirred at 60°C for 4 hours. Then, 1.4g of hydroxyethyl acrylate was added and an additional 60g of
Polyurethane 8 was synthesized by reacting at ℃ for 2 hours. After the reaction was completed, it was confirmed by infrared absorption spectrum that no isocyanate groups remained in the reaction system.

ポリウレタン8の分子量およびポリウレタン8中の前記
一般式(i)で表わされる含リン構造の含有量を測定し
た結果を第1表に示す。
Table 1 shows the results of measuring the molecular weight of polyurethane 8 and the content of the phosphorus-containing structure represented by the general formula (i) in polyurethane 8.

合成例9 温度計、攪拌器、還流冷却管および滴下ロートを備えた
容量2βのフラスコに、ジシクロヘキシルメタンジイソ
シアネート116.6g、ラウリル酸n−ブチルスズ0
.2g、メチルエチルケトン150gおよびシクロへキ
サノン150gを仕込み、60℃に保温しながら、滴下
ロートより、ポリエステルジオール(日本ポリウレタン
製ニソポラン4009)74.1gとポリオキシエチレ
ンビスフェノールAエーテル(日本油脂型DA350F
)97.9 gと合成例1と同様の含リンジオール化合
物8.0gとの混合物を滴下した。滴下終了後、60℃
で4時間攪拌した。
Synthesis Example 9 Into a 2β flask equipped with a thermometer, stirrer, reflux condenser, and dropping funnel, 116.6 g of dicyclohexylmethane diisocyanate and 0 n-butyltin laurate were added.
.. 2g of polyester diol (Nisoporan 4009 manufactured by Nippon Polyurethane) and 74.1g of polyoxyethylene bisphenol A ether (NOF type DA350F) were added through a dropping funnel while keeping the temperature at 60°C.
) and 8.0 g of the same phosphorus diol-containing compound as in Synthesis Example 1 was added dropwise. After dropping, 60℃
The mixture was stirred for 4 hours.

その後、ヒドロキシエチルアクリレート3.4gを加え
、さらに60℃で2時間反応させ、ポリウレタン9を合
成した。反応終了後、反応系中にイソシアネー)Mが残
存していないことを赤外吸収スペクトルにより確認した
Thereafter, 3.4 g of hydroxyethyl acrylate was added, and the mixture was further reacted at 60° C. for 2 hours to synthesize polyurethane 9. After the reaction was completed, it was confirmed by infrared absorption spectrum that no isocyanate M remained in the reaction system.

ポリウレタン9の分子量およびポリウレタン9中の前記
一般式い)で表わされる含リン構造の含有量を測定した
結果を第1表に示す。
Table 1 shows the results of measuring the molecular weight of polyurethane 9 and the content of the phosphorus-containing structure represented by the general formula (I) in polyurethane 9.

合成例10 温度計、攪拌器、還流冷却管および滴下ロートを備えた
容量21のフラスコにジシクロヘキシルメタンジイソシ
アネート77.8 g 、ラウリル酸n−ブチルスズ0
.2g、メチルエチルケトン150gおよびシクロへキ
サノン150gを仕込み、60℃に保温しながら、滴下
ロートより、ポリエーテルジオール(三菱化成製PTM
G100O) 170.0 gとポリオキシエチレンビ
スフェノールAエーテル(日本油脂型DA350F) 
10.0gと合成例2と同様の特定ヒドロキシル化合物
33.4 gと合成例6と同様の含リンジオール化合物
11.0 gとの混合物を滴下した。滴下終了後、60
℃で4時間攪拌した。その後、ヒドロキシエチルアクリ
レート0.9gを加え、さらに60℃で2時間反応させ
、ポリウレタン10を合成した。
Synthesis Example 10 In a 21-capacity flask equipped with a thermometer, stirrer, reflux condenser, and dropping funnel, 77.8 g of dicyclohexylmethane diisocyanate and 0 n-butyltin laurate were added.
.. 2g of methyl ethyl ketone, 150g of cyclohexanone, and 150g of cyclohexanone.
G100O) 170.0 g and polyoxyethylene bisphenol A ether (NOF type DA350F)
A mixture of 10.0 g of the same specific hydroxyl compound as in Synthesis Example 2, and 11.0 g of the same phosphorous diol compound as in Synthesis Example 6 was added dropwise. After completion of dripping, 60
The mixture was stirred at ℃ for 4 hours. Thereafter, 0.9 g of hydroxyethyl acrylate was added, and the mixture was further reacted at 60° C. for 2 hours to synthesize polyurethane 10.

反応終了後、反応系中にイソシアネー)Mが残存してな
いことを赤外吸収スペクトルにより確認した。
After the reaction was completed, it was confirmed by infrared absorption spectrum that no isocyanate M remained in the reaction system.

ポリウレタン10の分子量およびポリウレタン10中の
前記一般式(ii)で表わされる含リン構造の含有量を
測定した結果を第1表に示す。
Table 1 shows the results of measuring the molecular weight of polyurethane 10 and the content of the phosphorus-containing structure represented by the general formula (ii) in polyurethane 10.

合成例11 温度計、攪拌器、還流冷却管および滴下ロートを備えた
容ft2I2のフラスコに、ジシクロヘキシルメタンジ
イソシアネート107.4 g 、ラウリル酸n−ブチ
ルスズ0.2g、メチルエチルケトン150gおよびシ
クロへキサノン150gを仕込み、60℃に保温しなが
ら、滴下ロートより、ポリエステルジオール(日本ポリ
ウレタン製ニッポラン4002)91.1gとポリオキ
シエチレンビスフェノールAエーテル(日本油脂型0A
350F) 62.9gと合成例2と同様の特定ヒドロ
キシル化合物21.9 gと合成例1と同様の含リンジ
オール化合物9.8gとの混合物を滴下した。その後、
ヒドロキシエチルアクリレート4.2gを加え、さらに
60℃で2時間反応させたのち、4価アルコール化合物
(旭電化製アデカクオドロール)2.7gを加えて60
℃で4時間反応させ、ポリウレタン11を合成した。反
応終了後、反応系中にイソシアネート基が残存してない
ことを赤外吸収スペクトルにより確認した。
Synthesis Example 11 A ft2I2 flask equipped with a thermometer, stirrer, reflux condenser, and dropping funnel was charged with 107.4 g of dicyclohexylmethane diisocyanate, 0.2 g of n-butyltin laurate, 150 g of methyl ethyl ketone, and 150 g of cyclohexanone. While keeping the temperature at 60°C, 91.1 g of polyester diol (Nipporan 4002 manufactured by Nippon Polyurethane) and polyoxyethylene bisphenol A ether (NOF type 0A) were added through the dropping funnel.
A mixture of 62.9 g of 350F), 21.9 g of the same specific hydroxyl compound as in Synthesis Example 2, and 9.8 g of the same phosphorous diol compound as in Synthesis Example 1 was added dropwise. after that,
After adding 4.2 g of hydroxyethyl acrylate and further reacting at 60°C for 2 hours, 2.7 g of a tetrahydric alcohol compound (Adeka Quadrol manufactured by Asahi Denka) was added and the mixture was heated to 60°C.
The reaction was carried out at ℃ for 4 hours to synthesize polyurethane 11. After the reaction was completed, it was confirmed by infrared absorption spectrum that no isocyanate groups remained in the reaction system.

ポリウシタフ110分子量およびポリウレタン11中の
前記一般式(i)で表わされる含リン構造の含有量を測
定した結果を第1表に示す。
Table 1 shows the results of measuring the molecular weight of Polyushituff 110 and the content of the phosphorus-containing structure represented by the general formula (i) in polyurethane 11.

射線 化 徐;の調11および評価 実施例1 合成例1で得られたポリウレタン1のシクロヘキサノン
−メチルエチルケトン混合溶液を用いて次の組成の磁性
塗料を下記の要領で調製し、基体に塗布して電子線照射
により硬化させた。
Preparation 11 and Evaluation Example 1 A magnetic paint having the following composition was prepared in the following manner using the cyclohexanone-methyl ethyl ketone mixed solution of polyurethane 1 obtained in Synthesis Example 1, and it was applied to a substrate and exposed to electrons. It was cured by radiation.

Co含有r−Fe、0,80重量部 ポリウレタン1       20重量部(固形分換算
) シクロヘキサノンとメチルエチルケトンの混合溶媒  
          200重量部500m lアルミ
製缶に上記組成中の磁性粉、シクロヘキサノンとメトル
エチルケトンの混合溶媒および3 mmmスステンレス
ポール約20m1)を入れ、米国レッドデビル社製ペイ
ントコンディショナーにて2時間振とうした0次いでポ
リウレタン1のシクロヘキサノン−メチルエチルケトン
混合溶液を加えてさらに4時間振とうした後、ステンレ
スポールを取り除き磁性塗料を得た0次いで直ちに厚さ
15μmポリエステルフィルム上に乾燥膜厚が6μmに
なるように上記磁性塗料を塗布し、直ちに磁場配向処理
を行ない室温で一夜乾燥した。その後エレクトロカーテ
ンタイプ電子線加速装置を使用して加速電圧160キロ
ボルト、7メガランドの吸収線量で電子線を塗膜に照射
し、塗膜を硬化させ、磁性硬化塗膜を得た。
Co-containing r-Fe, 0.80 parts by weight Polyurethane 1 20 parts by weight (in terms of solid content) Mixed solvent of cyclohexanone and methyl ethyl ketone
200 parts by weight of the magnetic powder having the above composition, a mixed solvent of cyclohexanone and metholethyl ketone, and about 20 ml of 3 mm stainless steel pole were placed in a 500 ml aluminum can, and the mixture was shaken for 2 hours using a paint conditioner manufactured by Red Devil, USA. Next, a cyclohexanone-methyl ethyl ketone mixed solution of polyurethane 1 was added, and after further shaking for 4 hours, the stainless steel pole was removed to obtain a magnetic paint. A magnetic paint was applied, immediately subjected to magnetic field orientation treatment, and dried overnight at room temperature. Thereafter, the coating film was cured by irradiating the coating film with an electron beam using an electrocurtain type electron beam accelerator at an acceleration voltage of 160 kilovolts and an absorbed dose of 7 Megaland to obtain a magnetic cured coating film.

また、別に上記磁性塗料組成において、磁性粉を除外し
た以外同一の組成の塗料を、ポリウレタン1の乾燥膜厚
が40〜60μmになるようにガラス板上およびポリエ
ステルフィルム上に塗布し、室温で一夜乾燥後、加速電
圧160キロボルト、5メガラツドの吸収線量で電子線
を塗膜に照射して塗膜を硬化させ、非磁性硬化塗膜を形
成した。
Separately, a paint having the same composition as the above magnetic paint composition except for excluding the magnetic powder was coated on a glass plate and a polyester film so that the dry film thickness of polyurethane 1 was 40 to 60 μm, and overnight at room temperature. After drying, the coating film was cured by irradiating the coating film with an electron beam at an accelerating voltage of 160 kilovolts and an absorbed dose of 5 megarads to form a nonmagnetic cured coating film.

得られた磁性硬化塗膜および非磁性硬化塗膜の諸特性を
評価するために下記の(11〜(8)の試験を行なった
。なお、破断強度等の試験(6)およびテトラヒドロフ
ラン(THF)抽出残の試験(7)は、前記のガラス膜
上に形成した非磁性硬化塗膜を用いて行い、屈曲試験(
8)は、ポリエステルフィルム上に塗布した透明硬化薄
膜をポリエステルフィルムと共に用いて行ない、その他
の試験+11〜(5)はすべて磁性硬化塗膜について行
なった。
In order to evaluate the various properties of the obtained magnetic cured coating film and non-magnetic cured coating film, the following tests (11 to (8)) were conducted. The extraction residue test (7) was conducted using a non-magnetic cured coating formed on the glass film described above, and a bending test (
Test 8) was conducted using a transparent cured thin film coated on a polyester film together with the polyester film, and all other tests +11 to (5) were conducted on the magnetic cured coating.

(1)  光沢;ディジタル光沢針(村上色彩技術研究
断裂)を使用して硬化磁性塗膜の反射角45°の光沢を
測定し、光沢が70〜90の場合を◎、50〜70の場
合を○、30〜50の場合を△、30以下の場合を×と
評価した。
(1) Gloss: Measure the gloss of the cured magnetic coating film at a reflection angle of 45° using a digital gloss needle (Murakami Color Technology Research Fragment), and when the gloss is 70 to 90, ◎, and 50 to 70. ○, cases of 30 to 50 were evaluated as Δ, and cases of 30 or less were evaluated as ×.

(2)表面観察:走査型電子顕微鏡を使用して硬化磁性
塗膜の表面を観察し、複数の被検試料全てに磁性粉の凝
集が認められない状態を◎、複数の被検試料のいくつか
に一部の凝集が認められた状態を○、被検試料の全てに
一部の凝集が認められた状態をΔ、そして、被検試料の
全てに、全面にわたる凝集が認められた状態を×と評価
した。
(2) Surface observation: Observe the surface of the cured magnetic coating using a scanning electron microscope. ○ indicates a state in which some aggregation is observed in the crab, Δ indicates a state in which some agglutination is observed in all of the test samples, and Δ indicates a state in which aggregation is observed over the entire surface of all test samples. Rated as ×.

(3)接着テスト;硬化磁性塗膜の表面に粘着テープを
貼りつけ、全面に均一に接着させた後、瞬間的に引き剥
がしたときの状態を観察して行ない、硬化磁性塗膜が基
体から完全に剥離された場合を×、若干剥離された場合
を△、はとんど剥離されない場合を○、全く剥離が認め
られないものを◎と評価した。
(3) Adhesion test: Adhesive tape is pasted on the surface of the cured magnetic coating, and after adhering uniformly to the entire surface, the condition is observed when the cured magnetic coating is peeled off instantly. The evaluation was rated as × when complete peeling was observed, △ when slight peeling was observed, ◯ when hardly peeled off, and ◎ when no peeling was observed.

(4)実走行耐久性:磁性硬化塗膜を基体ごと12、’
hmO幅に切断して磁気テープを作製した。VHSビデ
オテープ規格に基づき、50%グレー信号をVTRを通
して磁気テープに記録した後、40℃、80%RHの条
件下で、再生出力を測定しながら2時間走行させ再生す
る操作を繰り返し、該磁気テープの再生出力が初期出力
の半分以下となるまでの繰返し回数を測定した。
(4) Actual running durability: 12,'
A magnetic tape was prepared by cutting it into hmO width. Based on the VHS videotape standard, a 50% gray signal was recorded on a magnetic tape through a VTR, and then the magnetic tape was run for 2 hours under the conditions of 40°C and 80% RH while measuring the playback output. The number of repetitions until the playback output of the tape became less than half of the initial output was measured.

(5)角型比(Br/8m):東英工業KK製VSM−
3型を用いて外部磁場5.0000eで磁気特性を測定
した。(Br=残留磁束密度、Bm=最大残留磁束密度
) (6)破断強度、伸び、初期モジュラス:硬化塗膜から
短冊状のテストピース(0,5cm X 10cm X
 40〜60μm)を切り出し、室温で50m/lll
1nの引張り速度で測定した。
(5) Square ratio (Br/8m): VSM- manufactured by Toei Kogyo KK
Magnetic properties were measured using a type 3 with an external magnetic field of 5.0000 e. (Br = residual magnetic flux density, Bm = maximum residual magnetic flux density) (6) Breaking strength, elongation, initial modulus: A strip-shaped test piece (0.5 cm x 10 cm x
40-60μm) and cut out 50m/llll at room temperature.
Measurements were made at a tensile speed of 1n.

(7)テトラヒドロフラン(THF)抽出残:硬化塗膜
について、THFソックスレー抽出を24時間行ない、
抽出残の割合を測定した。
(7) Tetrahydrofuran (THF) extraction residue: The cured coating film was subjected to THF Soxhlet extraction for 24 hours,
The percentage of extraction residue was measured.

(8)基板のポリエステルフィルムごと幅1cmの短冊
状に切り、両端を固定して中央部分から屈曲させたのち
ただちにもとの状態に復元する操作を1秒間に20回行
ない、屈曲部位において透明硬化塗膜の剥離あるいは破
壊が起こるかどうかを観察した。500時間の屈曲に耐
えたものを優とし、400時間の屈曲に耐えたものを良
と評価した。
(8) Cut the entire polyester film of the substrate into strips with a width of 1 cm, fix both ends and bend from the center, then immediately restore to the original state 20 times per second, and cure transparent at the bent part. It was observed whether the paint film peeled or broke. Those that withstood flexing for 500 hours were rated as excellent, and those that withstood 400 hours of flexing were rated as good.

実施例2〜11 各実施例において、磁性塗料として、下記の組成を有す
るものを使用した以外は実施例1と同様にして磁性硬化
塗膜を得た。またガラス板上には磁性粉を含まない以外
は同一組成の塗料を用いて実施例1と同様にして非磁性
硬化塗膜を形成した。
Examples 2 to 11 In each example, a magnetic cured coating film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a magnetic coating material having the following composition was used. Further, a non-magnetic cured coating film was formed on a glass plate in the same manner as in Example 1 using a coating material having the same composition except that it did not contain magnetic powder.

得られた磁性硬化塗膜および非磁性硬化塗膜の緒特性を
実施例1と同様にして評価した。結果を第2表に示す。
The magnetic properties of the obtained magnetic cured coating film and non-magnetic cured coating film were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

した石 凛車2の組 実施例2の磁性塗料 Co含有r −Fezes         80重量
部ポリウレタン2       20重量部(固形分換
算) シクロヘキサノンとメチル エチルケトンの混合溶媒   200重量部実施例3の
磁性塗料 CO含有r  FezO380重量部 ポリウレタン3       17重量部(固形分換算
) ペンタエリスリトールトリアクリレート3重量部 シクロヘキサノンとメチルエチルケトンの混合溶媒  
          200重量部実施例4の磁性塗料 Co含有r −FezO=        80重量部
ポリウレタン4       20重量部(固形分換算
) シクロヘキサノンとメチルエチルケトンの混合溶媒  
          200重量部実施例5の磁性塗料 Co含有r  FezO3ao重量部 ポリウレタン5       20重量部(固形分換算
) シクロヘキサノンとメチルエチルケトンの混合溶媒  
          200重量部実施例6の磁性塗料 Co含有T  FezO:+        80重量
部ポリウレタン6        20重世部(固形分
換算) シクロヘキサノンとメチルエチルケトンの混合溶媒  
           200重量部実施例7の磁性塗
料 Co含有r  FezO180重量部 ポリウレタン7       20重量部(固形分換算
) シクロヘキサノンとメチルエチルケトンの混合溶媒  
           200重量部実施例8の磁性塗
料 Co含有r−F+、0,80重量部 ポリウレタン8        20重量部(固形分換
算) シクロヘキサノンとメチルエチルケトンのン昆合溶媒 
           200重量部実施例9の磁性塗
料 Co含有T  FezOa         80重量
部ポリウレタン9       17重量部(固形分換
算) ペンタエリスリトールトリアクリレート3重量部 シクロヘキサノンとメチルエチルケトンの混合溶媒  
          20O7iit部実施例10の磁
性塗料 Co含有T  Feze38o重量部 ポリウレタン1020重量部 (固形分換算) シクロヘキサノンとメチルエチルケトンの混合溶媒  
          200重量部実施例11の磁性塗
料 Co含有r  FezCh         80重量
部ポリウレタン1120重量部 (固形分換算) シクロヘキサノンとメチルエチルケトンの混合溶媒  
           200重量部比較例1 合成例1においてジシクロヘキシルメタンジイソシアネ
ートを82.9 gとし、含リンジオール化合物として
一般式(iii): で表わされる化合物を用い、ヒドロキシエチルアクリレ
ートを7.3gとし、ヒドロキシエチルアクリレート添
加後の反応時間を2時間と、した以外は合成例1と同様
にしてポリウレタン12を得た。
Set of stone Ringuruma 2 Magnetic paint of Example 2 containing Co -Fezes 80 parts by weight Polyurethane 2 20 parts by weight (in terms of solid content) Mixed solvent of cyclohexanone and methyl ethyl ketone 200 parts by weight Magnetic paint of Example 3 containing CO FezO380 Parts by weight Polyurethane 3 17 parts by weight (solid content equivalent) Pentaerythritol triacrylate 3 parts by weight Mixed solvent of cyclohexanone and methyl ethyl ketone
200 parts by weight Magnetic paint of Example 4 containing Co r -FezO = 80 parts by weight Polyurethane 4 20 parts by weight (in terms of solid content) Mixed solvent of cyclohexanone and methyl ethyl ketone
200 parts by weight Magnetic paint of Example 5 Co-containing r FezO3ao parts by weight Polyurethane 5 20 parts by weight (in terms of solid content) Mixed solvent of cyclohexanone and methyl ethyl ketone
200 parts by weight Magnetic paint of Example 6 Co-containing T FezO: + 80 parts by weight Polyurethane 6 20 parts by weight (in terms of solid content) Mixed solvent of cyclohexanone and methyl ethyl ketone
200 parts by weight Magnetic paint of Example 7 Co-containing r FezO 180 parts by weight Polyurethane 7 20 parts by weight (in terms of solid content) Mixed solvent of cyclohexanone and methyl ethyl ketone
200 parts by weight Magnetic paint Co-containing r-F+ of Example 8, 0.80 parts by weight Polyurethane 8 20 parts by weight (in terms of solid content) Solvent for consolidating cyclohexanone and methyl ethyl ketone
200 parts by weight Co-containing magnetic paint of Example 9 T FezOa 80 parts by weight Polyurethane 9 17 parts by weight (in terms of solid content) Pentaerythritol triacrylate 3 parts by weight Mixed solvent of cyclohexanone and methyl ethyl ketone
20O 7iit parts Magnetic paint of Example 10 Co-containing T Feze 38o parts by weight Polyurethane 1020 parts by weight (in terms of solid content) Mixed solvent of cyclohexanone and methyl ethyl ketone
200 parts by weight Co-containing magnetic paint of Example 11 FezCh 80 parts by weight Polyurethane 1120 parts by weight (in terms of solid content) Mixed solvent of cyclohexanone and methyl ethyl ketone
200 parts by weight Comparative Example 1 In Synthesis Example 1, dicyclohexylmethane diisocyanate was used as 82.9 g, a compound represented by the general formula (iii) was used as the phosphorous diol compound, hydroxyethyl acrylate was changed as 7.3 g, and hydroxyethyl acrylate was added as 7.3 g. Polyurethane 12 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the reaction time after addition was 2 hours.

ポリウレタン12の分子量およびポリウレタン12中の
式 で表わされる含リン構造の含有量を測定した結果を第1
表に示す。
The results of measuring the molecular weight of polyurethane 12 and the content of the phosphorus-containing structure represented by the formula in polyurethane 12 are
Shown in the table.

また、得られたポリウレタン12を用いて実施例1と同
様にして試験を行った。結果を第2表に示す。
Further, a test was conducted in the same manner as in Example 1 using the obtained polyurethane 12. The results are shown in Table 2.

第1表 〔発明の効果〕 本発明は、下記の効果を有するものである。Table 1 〔Effect of the invention〕 The present invention has the following effects.

(11本発明の放射線硬化性塗料を磁性塗料として用い
た場合は実走行耐久性および電磁変換特性の優れた磁気
記録媒体を与える。
(11) When the radiation-curable paint of the present invention is used as a magnetic paint, a magnetic recording medium with excellent actual running durability and electromagnetic conversion characteristics can be obtained.

(2)本発明の放射線硬化性塗料を磁性塗料として用い
た場合は磁性粉充填率が高く且つ表面平滑性に優れた磁
気記録媒体を与える。
(2) When the radiation-curable paint of the present invention is used as a magnetic paint, a magnetic recording medium with a high magnetic powder filling rate and excellent surface smoothness can be obtained.

(3)本発明の放射線硬化性塗料は、増加したポットラ
イフを有し、しかも磁性塗料として用いた場合に実走行
耐久性の優れた磁気記録媒体を与える。
(3) The radiation-curable paint of the present invention has an increased pot life and, when used as a magnetic paint, provides a magnetic recording medium with excellent running durability.

(4)本発明の放射線硬化性塗料の硬化塗膜は、機械的
特性においてすぐれているだけでなり、磁気記録媒体等
の基体に対する接着性にもすぐれたものである。
(4) The cured coating film of the radiation-curable paint of the present invention is not only excellent in mechanical properties, but also excellent in adhesiveness to substrates such as magnetic recording media.

(5)本発明の放射線硬化性塗料は、放射線照射による
架橋性にすぐれることにより、低放射線照射量で充分に
架橋硬化し、耐溶剤性にすぐれた硬化塗膜を得ることが
でき、塗膜を硬化させるために要するエネルギーを低減
させることができる。
(5) The radiation-curable paint of the present invention has excellent cross-linking properties upon radiation irradiation, so that it can be sufficiently cross-linked and cured with a low radiation dose, and a cured coating film with excellent solvent resistance can be obtained. The energy required to cure the film can be reduced.

(6)本発明の放射線硬化性塗料を磁性塗料として用い
た場合、配合される磁性粉との親和性にきわめてすぐれ
ており、塗料中への磁性粉の分散が容易であり、かつ塗
料中への磁性粉の配合率を大幅に向上させることができ
る。従って本発明の放射線硬化性塗料は、磁気変換特性
のすぐれた磁気記録媒体を製造しうる磁性塗料を調製す
ることができる。
(6) When the radiation-curable paint of the present invention is used as a magnetic paint, it has extremely good affinity with the magnetic powder blended, and the magnetic powder can be easily dispersed into the paint. The blending ratio of magnetic powder can be significantly improved. Therefore, the radiation-curable coating material of the present invention can be used to prepare a magnetic coating material that can produce a magnetic recording medium with excellent magnetic conversion characteristics.

(7)本発明の放射線硬化性塗料の塗膜は、放射線照射
量を増加させることによって架橋密度を向上させても、
適度な柔軟性と表面硬度とを有する硬化塗膜を得ること
ができ、磁性塗料として磁気記録媒体の1種である磁気
テープの製造に用いた場合に、磁気ヘッドと良好な接触
状態を有し、磁性粉の脱落が少なく、変調ノイズが少な
い耐久性のすぐれた磁気テープを得ることができる。
(7) Even if the coating film of the radiation-curable paint of the present invention improves the crosslinking density by increasing the radiation dose,
A cured coating film with appropriate flexibility and surface hardness can be obtained, and when used as a magnetic coating in the production of magnetic tape, which is a type of magnetic recording medium, it has good contact with the magnetic head. Therefore, it is possible to obtain a highly durable magnetic tape with less magnetic powder falling off and less modulation noise.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 下記一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
( I ) 〔式中、R^1およびR^2は、同一でも異なってもよ
く、それぞれC_1〜C_2_0のアルキル基であり;
R^3は、C_1〜C_6のアルキレン基であり;R^
4およびR^5は、同一でも異なってもよく、それぞれ
C_2〜C_1_0のアルキレン基であり;nおよびl
は、同一でも異なってもよく、それぞれ0〜19の数で
ある。〕 で表わされる含リン構造、および 下記一般式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
(II) 〔ここで、R^6は、R^1およびR^2と同様であり
、R^7およびR^8は、R^4およびR^5と同様で
あり;mおよびpは、nおよびlと同様である。〕 で表わされる含リン構造から選ばれる少なくとも1種を
、ポリウレタン1g当り10^−^7〜10^−^3モ
ル有し、かつ放射線重合性二重結合を有するポリウレタ
ンを含有する放射線硬化性塗料。
[Claims] The following general formula (I): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼・・・・・・・・・
(I) [In the formula, R^1 and R^2 may be the same or different, and each is an alkyl group of C_1 to C_2_0;
R^3 is an alkylene group of C_1 to C_6; R^
4 and R^5 may be the same or different and are each an alkylene group of C_2 to C_1_0; n and l
may be the same or different, each being a number from 0 to 19. ] The phosphorus-containing structure represented by and the following general formula (II): ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. are available▼・・・・・・・・・
(II) [Here, R^6 is the same as R^1 and R^2, R^7 and R^8 are the same as R^4 and R^5; m and p are Same as n and l. ] A radiation-curable paint containing a polyurethane having at least one type selected from the phosphorus-containing structure represented by 10^-^7 to 10^-^3 mol per gram of polyurethane and having a radiation-polymerizable double bond. .
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04288380A (en) * 1991-03-15 1992-10-13 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd Coating resin
WO2011013720A1 (en) * 2009-07-30 2011-02-03 旭硝子株式会社 Unsaturated urethane oligomer, curable resin composition, transparent laminate, and process for producing same
US8231766B2 (en) 2002-06-04 2012-07-31 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Method for producing printed wiring board

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04288380A (en) * 1991-03-15 1992-10-13 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd Coating resin
US8231766B2 (en) 2002-06-04 2012-07-31 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Method for producing printed wiring board
WO2011013720A1 (en) * 2009-07-30 2011-02-03 旭硝子株式会社 Unsaturated urethane oligomer, curable resin composition, transparent laminate, and process for producing same
JP5737180B2 (en) * 2009-07-30 2015-06-17 旭硝子株式会社 Unsaturated urethane oligomer, curable resin composition, transparent laminate and method for producing the same

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