JPS6365900B2 - - Google Patents

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JPS6365900B2
JPS6365900B2 JP55049240A JP4924080A JPS6365900B2 JP S6365900 B2 JPS6365900 B2 JP S6365900B2 JP 55049240 A JP55049240 A JP 55049240A JP 4924080 A JP4924080 A JP 4924080A JP S6365900 B2 JPS6365900 B2 JP S6365900B2
Authority
JP
Japan
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pressure
temperature
capsule
level
increasing
Prior art date
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Expired
Application number
JP55049240A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS56148028A (en
Inventor
Aren Buruukusu Maaku
Miraa Jeen
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Bendix Corp
Original Assignee
Bendix Corp
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Publication date
Application filed by Bendix Corp filed Critical Bendix Corp
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Publication of JPS56148028A publication Critical patent/JPS56148028A/en
Publication of JPS6365900B2 publication Critical patent/JPS6365900B2/ja
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  • Measuring Fluid Pressure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は容量型圧力カプセルを真空封じする方
法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for vacuum sealing a capacitive pressure capsule.

圧力センサを自動車の電子式制御装置に組み込
むと、その圧力センサの動作に対していくつかの
厳しい要求が課される。圧力センサがエンジンの
マニホルド圧(MP)またはマニホルド絶対圧
(MAP)を測定するために圧力センサが用いられ
る時は、それらの要求は更に厳しくなる。
The integration of a pressure sensor into a vehicle's electronic control system places some stringent requirements on the operation of the pressure sensor. These requirements become even more stringent when the pressure sensor is used to measure the engine's manifold pressure (MP) or manifold absolute pressure (MAP).

圧力センサは、変化する最高・最低温度、過大
な衝撃と震動、電磁妨害をひき起す高レベルの電
磁波および腐食性の気体と液体などのような諸特
性のいずれかを含む変化しやすくて厳しい環境の
中で動作せねばならない。吸気マニホルド内の圧
力に近い圧力は急変し、しかもその変化の大きさ
大きい(1〜4気圧)。これらの圧力変化は、過
給機すなわちターボチヤージヤーが用いられてい
る自動車において、過給機のブースト動作時に生
じたり、あるいは爆発性のバツクフアイヤの結果
として起る。上記のことがないとしても、本発明
が自動車に用いられる場合には、圧力センサは(1)
安価で、(2)反復性があり、(3)大量生産できるも
の、でなければならない。そのためには、米国特
許第3858097号と第4064550号に開示されているス
パツタ・エツチング技術や、ろう付け製造工程の
ようなイオン−ミーリング、真空蒸着法ではなく
て、新規で低コストの製造技術を使用する必要性
を示しているのである。
Pressure sensors are used in variable and harsh environments that include characteristics such as varying maximum and minimum temperatures, excessive shock and vibration, high levels of electromagnetic waves that cause electromagnetic interference, and corrosive gases and liquids. must operate within. The pressure close to the pressure inside the intake manifold changes suddenly, and the magnitude of the change is large (1 to 4 atmospheres). These pressure changes occur in supercharged or turbocharged vehicles during boost operation of the supercharger or as a result of explosive backfire. Even without the above, when the present invention is used in an automobile, the pressure sensor is (1)
It must be inexpensive, (2) repeatable, and (3) capable of mass production. To this end, new, low-cost manufacturing techniques are needed, rather than the sputter etching techniques disclosed in U.S. Pat. It shows the necessity of using it.

本発明は二重ダイヤフラム石英容量圧力カプセ
ルの製造方法である。この圧力カプセルは(ガラ
スフリツトのような)誘電体材料製の環により分
離されて、決定できる圧力(真空)基準レベルを
保たれる内部チヤンバを形成する一対の平らな可
撓性溶融石英板を備えている。圧力カプセルの内
部チヤンバの中には複数の電極が配置されて、基
準コンデンサCrと圧力検出コンデンサCpとの極
板を構成する。とくに、1つの石英板すなわち上
側の石英板は接地電極を含み、他の石英板すなわ
ち下側の石英板はCpとCrとの電極を含む。下側
の石英板は内部チヤンバに向き合う表面上に電気
シールドを含むこともある。また、この圧力カプ
セルは複数の電気接点を含み、各接点は各電極に
組合わされる。それらの接点は内部チヤンバの外
側で、各石英板の縁部近くに配置される。
The present invention is a method of manufacturing a double diaphragm quartz volumetric pressure capsule. This pressure capsule comprises a pair of flat flexible fused silica plates separated by a ring of dielectric material (such as glass frit) to form an internal chamber in which a determinable pressure (vacuum) reference level is maintained. ing. A plurality of electrodes are arranged in the inner chamber of the pressure capsule, forming the plates of the reference capacitor Cr and the pressure sensing capacitor Cp. In particular, one quartz plate, the upper quartz plate, includes a ground electrode, and the other quartz plate, the lower quartz plate, includes Cp and Cr electrodes. The lower quartz plate may include an electrical shield on the surface facing the internal chamber. The pressure capsule also includes a plurality of electrical contacts, each contact associated with a respective electrode. The contacts are located outside the inner chamber, near the edge of each quartz plate.

本発明の目的は、内部圧力(真空)基準を有す
る圧力カプセルを得るため、および真空チツプ−
オフの必要をなくすために、温度を制御されてい
る圧力(真空)の環境内で圧力カプセルを封じる
ことである。
The object of the invention is to obtain a pressure capsule with an internal pressure (vacuum) reference and a vacuum chip.
To eliminate the need for turn-off, the pressure capsule is sealed in a temperature-controlled pressure (vacuum) environment.

本発明の別の目的は、封じ工程中に用いられる
大きな押し下げ重量と大きな熱質量との必要をな
くすことである。
Another object of the invention is to eliminate the need for large hold-down weights and large thermal masses used during the sealing process.

そのために、ガラス・フリツトを含む誘電体に
より隔てられている一対の板を有する容量型圧力
カプセルを真空封じする方法であつて、カプセル
附近の圧力を大気圧からそれよりも低い第1の圧
力レベルまで低下させる工程と、カプセルの周囲
の温度を室温から、含有ガスを放出できる第2の
温度レベルまで上昇させる工程と、局部圧力を前
記第1の圧力レベルよりも高い第2の圧力レベル
まで上昇させる工程と、局部温度を誘電体を融け
たガラス状態にする第3の温度レベルまで上昇さ
せる工程と、誘電体が前記の融けたガラス状態に
なつた後で、局部圧を第3の圧力レベルまで上昇
させることにより誘電体の厚さを変えて板を互い
に固定する工程とを備える容量型圧力カプセルを
真空封じする方法を本発明は提供するものであ
る。
To this end, a method for vacuum-sealing a capacitive pressure capsule having a pair of plates separated by a dielectric including a glass frit, the pressure in the vicinity of the capsule is reduced from atmospheric pressure to a first pressure level lower than atmospheric pressure. and increasing the temperature surrounding the capsule from room temperature to a second temperature level at which the contained gas can be released, and increasing the local pressure to a second pressure level higher than the first pressure level. raising the local temperature to a third temperature level that brings the dielectric to a molten glass state; and increasing the local pressure to a third pressure level after the dielectric has reached the molten glass state. The present invention provides a method for vacuum sealing a capacitive pressure capsule comprising the steps of: varying the dielectric thickness and fixing the plates to each other by raising the dielectric to a height of 100.degree.

本発明の利点は種々の間隔すなわち種々の容量
を得られることである。これは下記の事からわか
る。すなわち、カプセルの真空封じを行なつてい
る間に、誘電体が融けた粘性のある状態にさせら
れ、局部圧を上昇させることにより両方の石英板
にクランプ力が加えられる。加えられる最高圧力
(力)と、それを加えている時間とともに、両方
の石英板の間隔が変ることがわかるであろう。
An advantage of the invention is that different spacings and therefore different capacities can be obtained. This can be seen from the following. That is, while vacuum sealing the capsule, the dielectric is brought into a molten and viscous state, and a clamping force is applied to both quartz plates by increasing the local pressure. It will be seen that the spacing between both quartz plates changes with the maximum pressure (force) applied and the time it is applied.

以下の説明は前記カプセル100の製造法につ
いてのものである。この製造法は次のような4つ
の主な工程より主として成るものである。(1)石英
板102,104の表面を必要な程度に平滑にす
る表面加工処理、(2)電極と接点および接地シール
ドのシルク・スクリーン印刷および養生、(3)フリ
ツトガラスのシルク・スクリーニングと、フリツ
トガラス材料中に含まれている有機結合剤を追い
出すための予備グレージング(preglazing)、(4)
圧力カプセルの真空シール。
The following description is about the method of manufacturing the capsule 100. This manufacturing method mainly consists of the following four main steps. (1) Surface treatment to smooth the surfaces of the quartz plates 102 and 104 to the required degree, (2) Silk screen printing and curing of the electrodes, contacts and ground shields, (3) Silk screening of the frit glass and frit glass. Preglazing to drive out organic binders contained in the material, (4)
Vacuum sealing of pressure capsules.

圧力カプセルの製造は石英素材を用意すること
から始まる。ここで説明している実施例では、石
英素材は両側すなわち両端が研磨された平らな領
域を有する、直径約2.54cm(インチ)の円板状構
造である。決定できる平面度を得るために、円板
の平行な平面120,122,124,126も
研磨される。これらの表面の平面度からのずれは
表面全体にわたつて500オングストローム以下で
なければならないことが見出されている。研磨が
終つてから石英板を清浄にし、900℃まで空気中
で加熱する。この加熱が終つてから、各石英板の
電気的素子(電極、接点、接地シールド)を石英
板の表面にシルクスクリーンで付着させ、それか
らそれらの電気的素子を養生する。電極と接地シ
ールドに用いる材料は米国ニユーヨーク州ニユー
ヨーク市所在のインゲルハート社(Ingelhart
Corporation)により製造されている金属有機イ
ンキA−1830である。この金属有機インキは有機
結合剤中に懸濁されている白金と金の組合わせで
ある。この金属有機インキの主成分はAu15.0%、
Pt2.0%、Rh0.066%である。
Manufacturing a pressure capsule begins with preparing the quartz material. In the embodiment described herein, the quartz material is a disk-like structure approximately 2.54 cm (inch) in diameter with flat areas polished on both sides or ends. The parallel planes 120, 122, 124, 126 of the disks are also ground to obtain a determinable flatness. It has been found that the deviation from flatness of these surfaces should be less than 500 Angstroms over the entire surface. After polishing, the quartz plate is cleaned and heated to 900℃ in air. After this heating is completed, the electrical elements (electrodes, contacts, ground shields) of each quartz plate are silk screened onto the surface of the quartz plate, and then the electrical elements are cured. The materials used for the electrodes and ground shield were manufactured by Ingelhart, a company located in New York City, New York, USA.
The metal organic ink A-1830 is manufactured by the company A-1830. This metal organic ink is a combination of platinum and gold suspended in an organic binder. The main components of this metal organic ink are Au15.0%,
Pt2.0%, Rh0.066%.

この第1回目のシルク・スクリーン印刷によ
り、石英板104の表面126に接地シールド1
16を形成できる。この接地シールド116を適
当な炉(図示せず)の中で空気乾燥する。この空
気乾燥は100〜150℃の温度で行なうことができ
る。乾燥時間は15分間が適当であることが見出さ
れている。この乾燥炉は簡単な箱形であつて、内
部温度は変えることができ、酸素(O2)を内部
に注入することにより炉内の酸素量を増大させる
ことができる。あるいは、この炉は複数の温度帯
を有し、内部の酸素量を増大でき、処理すべき部
品を炉内の温度帯に出し入れさせるためにそれら
の部品を運ぶコンベヤ機構あるいはベルトを有す
る自動化したベルト炉とすることができる。
By this first silk screen printing, the ground shield 1 is placed on the surface 126 of the quartz plate 104.
16 can be formed. The ground shield 116 is air dried in a suitable oven (not shown). This air drying can be carried out at a temperature of 100-150°C. A drying time of 15 minutes has been found to be suitable. This drying oven has a simple box shape, and the internal temperature can be changed, and the amount of oxygen in the oven can be increased by injecting oxygen (O 2 ) into the oven. Alternatively, the furnace may have multiple temperature zones, an increased amount of oxygen may be present, and an automated belt system may have conveyor mechanisms or belts that transport the parts to be processed in and out of the temperature zones within the furnace. It can be a furnace.

空気乾燥が終つてから、接地シールド116を
まず養生し、あるいは養生の前に石英板をシル
ク・スクリーン印刷機の所へ戻してCp−Cr電極
112,114を平らな表面124の上に印刷
し、この組合わせを空気乾燥する。電極を養生す
るために石英板104を炉へ戻す。この養生は、
電極およびその他の電気的素子を構成しているイ
ンキに含まれている有機結合剤を追い出す第1の
工程と、残つている物質を石英板に固定させる
(すなわち、融着させる)第2の工程との二工程
より成る。この養生工程の間に、残つた電極材料
の厚さは平均18KAの薄膜にまで薄くなる。養生
工程は、第12図に示されているようないくつか
の異なる手順に従つて行なうこともできれば、第
13図に示すように第12図に示す工程よりも長
い単一の手順で行なうこともできる。いずれを用
いるかは使用する炉の種類に応じて主として定め
られる。
After air drying, the ground shield 116 may be first cured, or the quartz plate may be returned to the silk screen printer to print Cp-Cr electrodes 112, 114 on the flat surface 124 before curing. , air dry this combination. The quartz plate 104 is returned to the furnace to cure the electrode. This regimen is
The first step is to drive out the organic binder contained in the ink that constitutes the electrodes and other electrical elements, and the second step is to fix (i.e., fuse) the remaining material to the quartz plate. It consists of two steps. During this curing process, the remaining electrode material thickness is reduced to an average of 18 KA thin film. The curing process can be carried out according to several different steps, as shown in FIG. 12, or in a single step, longer than that shown in FIG. 13, as shown in FIG. You can also do it. Which one to use depends mainly on the type of furnace used.

まず第12図に示す養生工程について説明する
ことにする。この工程は箱形炉で行なうためのも
ので、希望の電極温度を時間の関数として示して
ある。この養生工程は低温の焼成である第1の工
程(実線)を含む。低温焼成に続いて高温焼成
(破線)を行なう。指定された電極が付着されて
いる石英板を、300℃というような第1の温度に
加熱されている炉の中に入れる。そうすると石英
板(および電極)がこの第1の温度にすみやかに
達する。
First, the curing process shown in FIG. 12 will be explained. The process is intended to be carried out in a box furnace and the desired electrode temperature is shown as a function of time. This curing step includes a first step (solid line) which is low temperature firing. Following low temperature firing, high temperature firing (dashed line) is performed. A quartz plate with designated electrodes attached is placed in a furnace heated to a first temperature, such as 300°C. The quartz plate (and electrode) then quickly reaches this first temperature.

次に炉内の温度を上昇させると、電極温度がこ
の高い温度に徐々に達する(B点)。この温度上
昇中に、電極物質中に含まれている炭化水素の大
部分が燃えてしまう。ついでに言えば、炭化水素
の燃焼によつて生じた煙を逃すために炉内を適切
に通気することに注意すべきである。それから炉
の温度を600℃というような更に高い温度まで上
昇させる。そうすると電極の温度が600℃(C点)
に再び接近する。この温度上昇中に、電極材料中
に含まれている残りの有機物が除去される。この
高温度まで加熱したら、電極を第12図に示すよ
うに徐々に冷却する。後で説明するように、冷却
工程をなくし、高温焼成工程に直接進むこともで
きる。
Next, when the temperature in the furnace is increased, the electrode temperature gradually reaches this high temperature (point B). During this temperature increase, most of the hydrocarbons contained in the electrode material are burned off. Incidentally, care should be taken to properly vent the furnace to remove the smoke produced by the combustion of the hydrocarbons. The temperature of the furnace is then increased to even higher temperatures, such as 600°C. Then the temperature of the electrode will be 600℃ (point C)
approach again. During this temperature rise, remaining organic matter contained in the electrode material is removed. Once heated to this high temperature, the electrode is gradually cooled as shown in FIG. As will be explained later, it is also possible to eliminate the cooling step and proceed directly to the high temperature firing step.

冷却した後で、石英板を約900℃(更に具体的
には884℃)に予熱されている炉の中に入れる。
この温度は電極融着温度に一致する。炉の中に含
まれている温度に応じて、その中の酸素量を増大
させる必要も生ずる。第12図に示した高温焼成
は1〜5トルだけ酸素を濃くした環境の中で行な
つたものである。電極(すなわち、石英板)がこ
の温度に達してから(D点)、炉の温度を低下さ
せることにより石英板を第12図に示すようにし
て冷却させる。
After cooling, the quartz plate is placed in a furnace preheated to approximately 900°C (more specifically, 884°C).
This temperature corresponds to the electrode fusion temperature. Depending on the temperature contained in the furnace, it will also be necessary to increase the amount of oxygen therein. The high temperature firing shown in FIG. 12 was carried out in an environment enriched with oxygen by 1 to 5 torr. After the electrode (i.e., the quartz plate) reaches this temperature (point D), the quartz plate is cooled as shown in FIG. 12 by lowering the temperature of the furnace.

次に第13図を参照する。この図は多重領域ベ
ルト炉用の別の養生工程を示すものである。この
炉(図示せず)は少くとも5ケ所の温度領域を有
し、この炉の内部には処理する石英板を種々の温
度領域へ運ぶための可動ベルトが設けられる。そ
れらの温度領域の温度と、ベルトを動かす速さと
は、前記した区分された養生工程の結果、すなわ
ち、電極を加熱するために十分な時間をとるこ
と、有機物を燃焼させるのに十分な温度まで加熱
すること、それから約900℃の温度に加熱する温
度上昇率を制御することにより、電極物質を石英
に融着させること、を達成できるように選択され
る。第12,13図に示す工程の有機物燃焼温度
と、融着温度と、加熱温度とは相互に関連してい
るから、これらの工程は図示の実際の温度一時間
の輪郭に限定されるものではないことがわかるで
あろう。図示の例のように、有機結合剤の燃焼温
度は、燃焼時間に応じて500〜700℃とすることが
できる。同様に、加熱時間に応じて融着温度を
800〜1000℃とすることができる。また、温度と
加熱時間は、処理される石英板と、石英板を保持
する部材(必要がある時)と、炉の寸法とにより
与えられる変化する熱質量により影響を受ける。
Next, refer to FIG. This figure shows an alternative curing process for a multi-zone belt furnace. This furnace (not shown) has at least five temperature zones, and inside the furnace there is a movable belt for transporting the quartz plates to be treated to the various temperature zones. The temperatures in these temperature ranges and the speed at which the belt is moved are the result of the segmented curing process described above, i.e., allowing sufficient time to heat the electrodes to a temperature sufficient to burn off the organic matter. It is selected to achieve fusing of the electrode material to the quartz by heating and then controlling the rate of temperature rise to a temperature of approximately 900°C. Since the organic matter combustion temperature, fusion temperature, and heating temperature in the steps shown in FIGS. 12 and 13 are interrelated, these steps are not limited to the actual temperature one-hour contours shown. You will find that there is no. As in the illustrated example, the combustion temperature of the organic binder can be between 500 and 700°C, depending on the combustion time. Similarly, the fusion temperature can be adjusted depending on the heating time.
The temperature can be 800-1000℃. The temperature and heating time are also affected by the varying thermal mass provided by the quartz plate being treated, the member holding the quartz plate (if necessary), and the dimensions of the furnace.

第13図に示す養生工程を、ベルトの動く速さ
を1分間に約7.62〜12.7cm(3〜5インチ)と
し、各温度領域の温度を次のように定めることに
よつて実施した。温度領域1と2:250〜625℃、
温度領域3:650〜800℃、温度領域4:950〜
1000℃、温度領域5:925〜950℃。次に示す領域
温度とベルトの動く速さとは品質の良い養生され
た電極を得るために適当なようである。温度領域
1と2:350℃、温度領域3:650℃、温度領域
4:950℃、温度領域5:925℃、ベルトの動く速
さ:1分間に約8.89cm(3.5インチ)。第13図に
示すような温度輪郭を得るために用いる炉は、そ
れぞれの長さが約76.2cm(30インチ)である5個
所の温度領域を有する連続ベルト炉である。この
炉は米国マサチユーセツツ州ノース・ビレリカ
(North Billerica)所在のブルース・インダスト
リアル・コントロールズ社(Bruce Industrial
Controls、Inc.)により製造されている。この炉
は酸素補給を必要としないほど十分に大きい。こ
の炉は5個所の温度領域に加えて、温度領域第5
の後に水冷式の熱交換器も有する。石英板はこの
熱交換部の中に動かされている間に冷却される。
The curing process shown in FIG. 13 was carried out by setting the belt moving speed to approximately 7.62 to 12.7 cm (3 to 5 inches) per minute and determining the temperatures in each temperature range as follows. Temperature range 1 and 2: 250-625℃,
Temperature range 3: 650~800℃, Temperature range 4: 950~
1000℃, temperature range 5: 925-950℃. The following area temperatures and belt moving speeds appear to be adequate to obtain a quality cured electrode. Temperature range 1 and 2: 350°C, Temperature range 3: 650°C, Temperature range 4: 950°C, Temperature range 5: 925°C, Belt movement speed: Approximately 8.89 cm (3.5 inches) per minute. The furnace used to obtain the temperature profile shown in FIG. 13 is a continuous belt furnace having five temperature zones, each approximately 30 inches long. The furnace was manufactured by Bruce Industrial Controls in North Billerica, Massachusetts.
Controls, Inc.). This furnace is large enough that supplemental oxygen is not required. This furnace has five temperature zones and a fifth temperature zone.
It also has a water-cooled heat exchanger after it. The quartz plate is cooled while being moved into this heat exchange section.

完全に自動化された大量生産養生工程を達成す
るための別の一歩は、印刷工程以後、あるいは少
くとも空気乾燥工程と、養生炉の中へ石英板を入
れる工程の後で、石英板を取り扱うことをなくす
ることである。それからコンベヤベルトを空気乾
燥炉の中に延ばす。このようにすると、電極材料
を石英板に印刷してから、石英板をコンベヤの上
に置き、必要とする乾燥時間だけ乾燥炉の中で動
かす。2つの炉の間のスベースを石英板が動かさ
れている間に石英板は多少冷却される。この後で
石英板を養生炉の中で動かし、前記したようにし
て養生を行う。
Another step towards achieving a fully automated mass production curing process is to handle the quartz plates after the printing process, or at least after the air drying process and the process of placing the quartz plates into the curing oven. It is to eliminate. The conveyor belt is then extended into an air drying oven. In this way, after the electrode material is printed on a quartz plate, the quartz plate is placed on a conveyor and moved through a drying oven for the required drying time. While the quartz plate is being moved across the base between the two furnaces, the quartz plate is cooled somewhat. After this, the quartz plate is moved into a curing furnace and cured as described above.

それから、石英板104と102のうち少くと
も一方をシルクスクリーン印刷機の所へ戻し、電
極112,114の周囲に、接地電極110の円
形部分の直径より少し大きな直径のフリツトガラ
ス環を印刷する。ここで説明している実施例は、
米国コネチカツト州ダンベリ(Danbury)所在の
ビツタ社(Vitta Corporation)により製造され
たスラリー・フリツト(P−1015)を用いる。こ
のフリツト材料を選んだ理由は、このフリツト材
料と石英との熱膨張率がほぼ同じだからである。
このフリツト材料の粘度は約200センチ・ストー
クスであり、この粘性によりCp−Cr電極の周囲
にフリツトをシルク・スクリーニングできる。印
刷したフリツトを120℃の温度で約15分間空気乾
燥する。フリツトの厚さは、使用するシルク網の
網目の寸法を調整したり、印刷されるフリツト・
ガラス材料の量を調節したりするような、標準的
なシルク・スクリーニング技術を用いて制御され
る。フリツト・ガラス環106が印刷されている
石英板の乾燥に続いて、石英板104を表面を上
にしてキヤリヤの上に置き、それを酸素に富む雰
囲気を有する炉の中に入れる。この炉の内部温度
を室温から約900℃、とくに884℃まで加熱する。
石英板104の温度が室温から900℃まで6〜7
分間で上昇するように炉の温度を制御する。この
処理によりフリツト材料に含まれている有機結合
剤が除去され、フリツトはガラス相に戻される。
シーリング工程中のある時に石英板が予備ろう付
け工程なしに向い合わせてシールされて置かれて
いるとすると、フリツト中に残留している有機結
合剤は泡構造を生ずる。この泡構造は非均一であ
つて、圧力カプセルごとに異なるから再現性を有
する圧力カプセルを大量生産することはほとんど
不可能である。しかし、カプセル100をシール
する前にフリツト・ガラス材料を予めグレーズ
(preglazing)することにより、フリツト・ガラ
スから放出される有機結合剤の量が増大し、フリ
ツト内に含まれている金属酸化物の減少により生
ずる気泡構造体が減少し、そのためにカプセル間
の一様性が向上する。気泡構造体をできるだけ少
なくすることにより、圧力カプセル100を温度
に対して安定にする手段を得ることができる。上
記予備グレージングに代れる別の予備グレージン
グは、第13図に示されているような時間−温度
輪郭にフリツトをさらすことである。
At least one of the quartz plates 104 and 102 is then returned to the silk screen printer to print a fritted glass ring around the electrodes 112, 114 with a diameter slightly larger than the diameter of the circular portion of the ground electrode 110. The example described here is
A slurry frit (P-1015) manufactured by Vitta Corporation, Danbury, Conn., USA, is used. This frit material was chosen because the coefficient of thermal expansion of this frit material and quartz are almost the same.
The viscosity of this frit material is approximately 200 centistokes, which allows the frit to be silk screened around the Cp-Cr electrode. Air dry the printed frit at a temperature of 120°C for approximately 15 minutes. The thickness of the frit can be determined by adjusting the dimensions of the silk mesh used or by adjusting the thickness of the frit to be printed.
Control is achieved using standard silk screening techniques, such as adjusting the amount of glass material. Following drying of the quartz plate on which the fritted glass ring 106 is printed, the quartz plate 104 is placed face up on a carrier and placed in a furnace with an oxygen-enriched atmosphere. The internal temperature of this furnace is heated from room temperature to approximately 900°C, particularly 884°C.
The temperature of the quartz plate 104 is 6 to 7 from room temperature to 900℃.
Control the furnace temperature so that it rises in minutes. This treatment removes the organic binder contained in the frit material and returns the frit to its glass phase.
If at some point during the sealing process the quartz plates are placed face-to-face sealed without a pre-brazing step, the organic binder remaining in the frit will create a foam structure. Since this foam structure is non-uniform and differs from pressure capsule to pressure capsule, it is almost impossible to mass-produce pressure capsules with reproducibility. However, preglazing the frit glass material prior to sealing the capsule 100 increases the amount of organic binder released from the frit glass and increases the amount of organic binder contained within the frit. The reduction reduces the resulting cell structure, thereby improving the uniformity between capsules. By minimizing the cellular structure, a means of making the pressure capsule 100 temperature stable can be obtained. Another preglazing alternative to the preglazing described above is to subject the frit to a time-temperature profile as shown in FIG.

円形の接地電極110と接触パツド128とを
有する第2の石英板102にも同様に印刷し、空
気乾燥し、空気中で焼成し、養生する。
A second quartz plate 102 having a circular ground electrode 110 and contact pad 128 is similarly printed, air dried, fired in air, and cured.

圧力カプセル100の真空シールは次のように
して行なう。Cp−Cr電極を含む石英板104と、
接地電極110を含む石英板102を第9〜11
図に示す位置合わせ取付具175内に置く。この
位置合わせ取付具によつて2枚の石英板102,
104を向い合わせて、互いにある決定できる角
度(この実施例では90度)だけ回転できるように
して、置くことができる。位置合わせ取付具17
5は、シール工程中に圧力カプセルを吸熱物質で
囲んで、圧力カプセル100の加熱とシールを行
なうために一様な放射パターンを生ずる。1つの
位置合わせ取付具175または複数個の取付具1
75と、それに取りつけられる圧力カプセル10
0とを石英ボートまたは可動トレー(図示せず)
の中に積み重ね、それに熱電対をとりつけてから
拡散乱(図示せず)の中に入れる。
Vacuum sealing of the pressure capsule 100 is performed as follows. A quartz plate 104 including a Cp-Cr electrode,
The 9th to 11th quartz plates 102 including the ground electrode 110
Place in the alignment fixture 175 shown. With this positioning fixture, two quartz plates 102,
104 can be placed facing each other so that they can be rotated by a certain determinable angle (90 degrees in this example) relative to each other. Positioning fixture 17
5 surrounds the pressure capsule with endothermic material during the sealing process to create a uniform radiation pattern for heating and sealing the pressure capsule 100. One alignment fixture 175 or multiple fixtures 1
75 and a pressure capsule 10 attached to it
0 and a quartz boat or movable tray (not shown)
A thermocouple is attached to it, and then placed in a diffusion chamber (not shown).

次に第14図を参照する。この図は各圧力カプ
セル100を真空シールして、カプセルの中を所
定の真空度にするために用いられる温度−圧力輪
郭を示す。第14図は設計された圧力輪郭と2つ
の温度輪郭を示す。両者ともに許容できる結果を
生じた。第1の輪郭(直線A,B)は、所定の時
間だけ温度が単調に上昇し、その後で冷却され
る、ということを必要とする。第2の輪郭(直線
C,B)は不連続温度輪郭と、その後に続く冷却
期間とを示す。
Next, refer to FIG. 14. This figure shows the temperature-pressure profile used to vacuum seal each pressure capsule 100 and create a predetermined vacuum within the capsule. Figure 14 shows the designed pressure profile and two temperature profiles. Both produced acceptable results. The first profile (straight lines A, B) requires that the temperature rise monotonically for a predetermined period of time and then cool down. The second contour (straight lines C, B) shows a discrete temperature contour followed by a cooling period.

適切な数のシールされていない圧力カプセル1
00がとりつけられている取付具175を拡散炉
の第1の室温領域の中に入れてから炉を密閉し、
炉の内部を所定の真空度まで排気する。この第1
の真空度は電極またはフリツト・ガラスの中に残
つている有機物の脱気を促進するのに十分に低く
する。それらのガスと生ずることがある泡を除去
することにより、カプセルの温度係数が安定にさ
れる。第1の真空度はできるだけ低くするべきで
あるが、0.05トルが適切なようである。炉の内部
が第1の真空度に安定した後で、シールされてい
ない圧力カプセル100の中、すなわち、内部チ
ヤンバ148(石英板102,104とフリツト
円板106との間の空間)の中も同様にこの第1
の真空度になる。それから圧力カプセル100と
位置合わせ取付具178を第14図に示す温度輪
郭の1つにさらす。
Appropriate number of unsealed pressure capsules 1
placing the fitting 175 to which 00 is attached into a first room temperature region of the diffusion furnace, and then sealing the furnace;
Evacuate the inside of the furnace to a predetermined degree of vacuum. This first
The vacuum level is low enough to facilitate degassing of any organic matter remaining in the electrode or frit glass. By removing these gases and possible bubbles, the temperature coefficient of the capsule is stabilized. The first vacuum should be as low as possible, but 0.05 torr seems appropriate. After the interior of the furnace has stabilized to the first degree of vacuum, the interior of the unsealed pressure capsule 100, that is, the interior of the interior chamber 148 (the space between the quartz plates 102, 104 and the fritted disk 106) is also Similarly, this first
The degree of vacuum will be . Pressure capsule 100 and alignment fixture 178 are then exposed to one of the temperature profiles shown in FIG.

以下の説明は不連続温度法についてのものであ
る。この方法の説明では、少くとも3つの温度領
域を有する種類の拡散炉の内部でシールが行なわ
れたと仮定している。各温度領域内部の温度は金
属−有機物インキとフリツト・ガラス材料との性
質に関係する。第1の温度領域は室温に保たれ、
第2の温度領域は、フリツト材料と金属−有機イ
ンキとの中に残つているガスを除去できるように
選ばれた温度に保たれ、第3の温度領域フリツト
材料を所定の時間で粘性を有するガラス状態に変
える温度、ここで説明している実施例では約900
℃、に保たれる。この温度ではビツタ(Vitta)
フリツト材料が融けた状態に迅速に達する。
The following description is for the discontinuous temperature method. The description of this method assumes that the sealing is carried out inside a diffusion furnace of the type having at least three temperature zones. The temperature within each temperature range is related to the properties of the metal-organic ink and fritted glass material. the first temperature region is kept at room temperature;
A second temperature zone is maintained at a temperature selected to remove any gas remaining in the frit material and the metal-organic ink, and a third temperature zone is maintained at a temperature selected to remove any gas remaining in the frit material and the metal-organic ink, and a third temperature zone is maintained at a temperature selected to allow the frit material to become viscous for a predetermined period of time. The temperature at which it changes to the glassy state, approximately 900°C in the example described here.
kept at ℃. At this temperature, Vitta
The frit material reaches a molten state quickly.

次に、位置合わせ取付具を第2の温度領域へ迅
速に動かす。その第2の温度領域においてはシー
ルされていない圧力カプセル100の温度が第2
の温度レベルまで上昇する。捕えられているガス
を逃がすために、圧力カプセル100を時T1
け第2の温度領域の中に保持する。脱気時間を12
〜20分間とすると(この時間は熱質量すなわち熱
負荷に応じて変る)適切であることが見出されて
いる。脱気が終つたら位置合わせ取付具を第3の
温度領域まで動かしてそこにT3時間だけ保ち、
その間に炉の中の圧力を酸素で1〜8トルだけ高
くする。この圧力上昇によりフリツト材料内の酸
化物を減少させて、フリツト材料が導電性となる
可能性が減少する。また、この真空度はカプセル
をシールして冷却した後のカプセルの内部の最終
圧力(室温で測定して)を決める。
The alignment fixture is then quickly moved to the second temperature region. In the second temperature range, the temperature of the unsealed pressure capsule 100 is at the second temperature range.
temperature level. The pressure capsule 100 is held in the second temperature region for a time T 1 in order to allow the trapped gas to escape. Degassing time 12
~20 minutes (this time varies depending on the thermal mass or heat load) has been found to be suitable. After degassing, move the alignment fixture to the third temperature range and hold there for 3 hours.
Meanwhile, the pressure in the furnace is increased by 1 to 8 torr with oxygen. This pressure increase reduces the oxides within the frit material, reducing the likelihood that the frit material will become conductive. This vacuum also determines the final pressure inside the capsule (measured at room temperature) after it has been sealed and cooled.

カプセル100の温度上昇率をモニタして、第
3の温度レベルに6〜7分間で達するようにす
る。フリツトが融けた状態になつてから(第14
図のD点)、拡散炉内の圧力を大気圧に近い第3
の圧力レベルまで上昇させる。しかし、炉内の圧
力は大気圧にする必要はなく、700トル程度で十
分である。この圧力レベルでは、上昇した圧力は
圧力カプセル100の平らな各平面に約4.5Kg
(10ポンド)のクランプ力を加えて、フリツト1
06をその最終的な高さにおし縮める。しかし、
炉内の圧力を大気圧以上とすることにより、もつ
と大きなクランプ力を加えることができる。圧力
カプセルにクランプ力を加えるために第14図に
示すような圧力輪郭を利用することにより、炉の
内部の大きな押えつけ重量のような大きな熱質量
を持たせることをなくし、それにより処理時間を
短縮した圧力カプセルの大量生産を迅速に行なう
ことができる。しかし、最も上の位置合わせ取付
具の上面に約270gという小さな押さえつけ重量
を加えて、真空シール作業中に圧力カプセル10
0へ位置合わせ取付具を更に固定し、最初にフリ
ツト・ガラスを圧縮することが望ましい。炉内の
圧力を第3の圧力レベルまで上昇させてから、圧
力を40トルというような中間の第4圧力レベルま
で急速に低下させる。この第4の圧力レベルをカ
プセル100の中の圧力レベルより高くすること
が求められる。次に、位置合わせ取付具175を
第1の温度領域まで動かしてからカプセルを冷却
させる。圧力カプセルを470度より低い温度まで
冷却させると十分である。この温度では炉内の圧
力を大気圧まで上昇させ、シールした圧力カプセ
ルを炉からとり出す。
The rate of temperature rise of capsule 100 is monitored to ensure that the third temperature level is reached in 6-7 minutes. After the frit is in a melted state (No. 14)
point D in the figure), the pressure inside the diffusion furnace is set to a third point close to atmospheric pressure.
pressure level. However, the pressure inside the furnace does not need to be atmospheric pressure; around 700 torr is sufficient. At this pressure level, the increased pressure will be approximately 4.5 Kg on each flat surface of the pressure capsule 100.
Apply a clamping force of (10 pounds) to the frit 1.
06 to its final height. but,
By setting the pressure inside the furnace above atmospheric pressure, a large clamping force can be applied. Utilizing a pressure profile such as that shown in Figure 14 to apply clamping force to the pressure capsule eliminates the need for large thermal masses such as large clamping weights inside the furnace, thereby reducing processing time. Mass production of shortened pressure capsules can be carried out rapidly. However, by adding a small pressing weight of approximately 270 g to the top surface of the topmost alignment fixture, the pressure capsule 10
It is desirable to further secure the alignment fixture to 0 and compress the fritted glass first. The pressure in the furnace is increased to a third pressure level, and then the pressure is rapidly decreased to an intermediate fourth pressure level, such as 40 Torr. It is desired that this fourth pressure level be higher than the pressure level inside the capsule 100. The alignment fixture 175 is then moved to a first temperature region before the capsule is allowed to cool. It is sufficient to cool the pressure capsule to a temperature below 470 degrees. At this temperature, the pressure inside the furnace is increased to atmospheric pressure and the sealed pressure capsule is removed from the furnace.

炉内の圧力が第3の圧力レベルまで上昇させら
れた時は、圧力カプセルの外側の圧力が内部チヤ
ンバ148の内圧より大幅に高いことに注意すべ
きである。この間には、粘性を有するフリツト材
料は大量の酸素が内部チヤンバ148の中に入る
ことを阻止する。前記したように、クランプ圧を
加えた後では炉内の圧力が低い第4の圧力レベル
までただちに低下して、圧力カプセルの中に酸素
が入る可能性を更に小さくする。第3の圧力レベ
ルにおいてはクランプ力はカプセル100を希望
の平行な形状から変形させることが明らかであ
る。カプセルが変形すると、フリツト・ガラスは
それまでに石英板102,104に固着されてい
るから、融けているフリツト・ガラスの一部の厚
さが不均一になることがある。この変形した状態
のままカプセル100が冷却させられたとする
と、カプセルの測定特性が影響を受ける。したが
つて、第4の圧力レベルは石英板102,104
を平行な向きに戻すことができるように選ばれ
る。
It should be noted that when the pressure within the furnace is increased to the third pressure level, the pressure outside the pressure capsule is significantly higher than the pressure inside the inner chamber 148. During this time, the viscous frit material prevents significant amounts of oxygen from entering the interior chamber 148. As mentioned above, after applying the clamp pressure, the pressure within the furnace is immediately reduced to a lower fourth pressure level, further reducing the possibility of oxygen entering the pressure capsule. It is apparent that at the third pressure level the clamping force deforms the capsule 100 from the desired parallel configuration. When the capsule is deformed, the thickness of the portion of the molten frit glass may become non-uniform, since the frit glass was previously affixed to the quartz plates 102, 104. If the capsule 100 is allowed to cool in this deformed state, the measurement characteristics of the capsule will be affected. Therefore, the fourth pressure level is
is chosen so that it can be returned to a parallel orientation.

再び第9,10,11図を参照する。これらの
図は位置合わせ取付具175の諸特性を示すと同
時に、複数の圧力カプセル100を大量に真空シ
ールできるようにするために、複数の位置合わせ
取付具を互いに積み重ねる方法を示すものであ
る。位置合わせ取付具175は圧延合金330
(RA330)のような鋼から作られた複数の薄い金
属板176を有する。この金属板は互いに平行な
上面180と下面182を有する。各面には圧力
カプセル受け空胴184,186をそれぞれ有す
る。これらの空胴の寸法は石英板102,104
を密接して受ける寸法で、形は石英板102,1
04の形に一致する。また、電極またはフリツト
が印刷されている石英板が圧力カプセル受け空胴
の中に入れられた時に、石英板の一部がその空胴
から出るように各空胴の深さdを定める。各石英
板の上面180と下面182にそれぞれ設けられ
ている圧力カプセル受け空胴184,186は、
平らな端部132,150(すなわち、切り取り
部)を電気接点120,140,146に整例さ
せることができるように、互いに向きがそろえら
れる。ここで説明している実施例では、圧力カプ
セル受け空胴180,182は、複数の電気接点
を希望に従つて垂直に移動できるように、互いに
90度だけ回転させられる。
Referring again to FIGS. 9, 10, and 11. These figures illustrate the characteristics of the alignment fixture 175 and how the alignment fixtures can be stacked on top of each other to enable vacuum sealing of multiple pressure capsules 100 in large quantities. The alignment fixture 175 is made of rolled alloy 330
It has a plurality of thin metal plates 176 made from steel such as (RA330). This metal plate has an upper surface 180 and a lower surface 182 that are parallel to each other. Each side has a pressure capsule receiving cavity 184, 186, respectively. The dimensions of these cavities are quartz plates 102, 104.
The size is such that the quartz plate 102,1 is closely received.
Matches the shape of 04. Also, the depth d of each cavity is determined such that when the quartz plate on which the electrodes or frits are printed is placed into the pressure capsule receiving cavity, a portion of the quartz plate emerges from the cavity. Pressure capsule receiving cavities 184 and 186 provided on the upper surface 180 and lower surface 182 of each quartz plate, respectively, are
The flat ends 132, 150 (ie, the cutouts) are aligned with each other so that the electrical contacts 120, 140, 146 can be aligned. In the embodiment described herein, the pressure capsule receiving cavities 180, 182 are arranged relative to each other so that the electrical contacts can be moved vertically as desired.
Can only be rotated 90 degrees.

位置合わせ取付具の中への各圧力カプセル10
0の取りつけは次のようにして行なう。石英板1
04のような養生と予備グレージングをされた石
英板を、位置合わせ取りつけ板の一方、たとえば
176a、のカプセル受け空胴182の中に置く。
また、第1の養生ずきの石英板102を第2の位
置合わせ取りつけ板176bの下側圧力カプセル
受け空胴186の中に入れる。電極の表面が突き
出るようにして石英板102,104がそれぞれ
取りつけられている取りつけ板176a,176
bを互いに重ね合わせて置いて、電極110,1
12,114が互いに90度の取りつけ関係となる
ようにする。この積み重ね作業をくり返えすこと
により、位置合わせ取付具175の中に複数の圧
力カプセル100を積み重ねてとりつけることが
できる。
Each pressure capsule 10 into the alignment fixture
0 is installed as follows. Quartz plate 1
A cured and preglazed quartz plate like 04 is placed on one side of the alignment mounting plate, e.g.
176a, into the capsule receiving cavity 182.
The first cured quartz plate 102 is also placed into the lower pressure capsule receiving cavity 186 of the second alignment mounting plate 176b. Mounting plates 176a, 176 to which quartz plates 102, 104 are attached, respectively, so that the surfaces of the electrodes protrude
b are placed on top of each other, and the electrodes 110,1
12 and 114 so that they are mounted at 90 degrees to each other. By repeating this stacking operation, a plurality of pressure capsules 100 can be stacked and mounted in the alignment fixture 175.

各取りつけ板176したがつて各石英板を向い
合う石英板に整列させるために、取りつけ板17
6には整列ピン192を受ける1組の整列穴19
0が設けられる。整列ピン192と取りつけ板1
76は同じ金属を用いて作られる。圧力カプセル
100の一様な加熱を位置合わせ取付具175に
より助長するために、取付具175(すなわち、
とりつけ板)全体に酸化物層を生じさせるために
位置合わせ取付具175を熱処理することが好ま
しい。
Each mounting plate 176 and thus each quartz plate is aligned with the opposing quartz plate by mounting plate 176.
6 has a set of alignment holes 19 for receiving alignment pins 192.
0 is set. Alignment pin 192 and mounting plate 1
76 is made using the same metal. To facilitate uniform heating of pressure capsule 100 by alignment fitting 175, fitting 175 (i.e.
Preferably, the alignment fixture 175 is heat treated to create an oxide layer over the entire mounting plate.

次に、圧力カプセルの別の実施例を示す第15
図を参照する。これらの図には上部円板156と
下部円板158を有する円形圧力カプセル154
が示されている。これらの円板における電極10
0,112,114の配置は前記実施例における
電極の配置と同様である。しかし電気接点14
0,146は向き合つて設けられておらず、互い
に斜めになつて配置される。円形接地電極110
は接点140と146の間に一様に配置されてい
るただ1つの電気接点128に接続される。ま
た、上側円板156は1つの切り取り部160a
を含むが、下側円板158は複数の切り取り部は
それぞれの円板に設けられて、向い合う円板に向
き合つて配置されている電気接点128,140
または146を露出させる。
Next, No. 15 shows another embodiment of the pressure capsule.
See diagram. These figures show a circular pressure capsule 154 having an upper disk 156 and a lower disk 158.
It is shown. Electrodes 10 in these discs
The arrangement of electrodes 0, 112, and 114 is the same as the arrangement of the electrodes in the previous embodiment. However, electrical contact 14
0 and 146 are not provided facing each other, but are arranged obliquely to each other. Circular ground electrode 110
are connected to a single electrical contact 128 that is uniformly located between contacts 140 and 146. Additionally, the upper disk 156 has one cutout 160a.
The lower disc 158 includes a plurality of cutouts in each disc and electrical contacts 128, 140 disposed facing each other on opposite discs.
or expose 146.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は圧力センサの分解図、第2図は圧力セ
ンサの断面図、第3図は第2図に示す圧力センサ
の一部を除いて示す第2図の3−3線に沿う断面
図、第4図はハウジングを除いて示す第2図の4
−4線に沿う断面図、第5図は第4図の5−5線
に沿う部分断面図、第6図は圧力カプセルの断面
図、第7図は第6図の7−7線に沿う圧力カプセ
ルの上側石英板の底面図、第8図は第6図の8−
8線に沿う圧力カプセルの下側石英板の上面図、
第9図は位置合わせ取付具の断面図、第10図は
第9図の10−10線に沿う断面図、第11図は
第9図の11−11線に沿う断面図、第12図は
電極養生工程を示すグラフ、第13図は別の電極
養生工程を示すグラフ、第14図は温度−圧力シ
ール法を示すグラフ、第15図は圧力カプセルの
別の実施例を示す平面図、第16図は第15図の
16−16線に沿う断面図である。 102,104…石英板、180,182…石
英板の表面、184,186…石英板受け空胴、
190…整列穴、192…整列ピン。
Fig. 1 is an exploded view of the pressure sensor, Fig. 2 is a sectional view of the pressure sensor, and Fig. 3 is a sectional view taken along line 3-3 in Fig. 2, showing the pressure sensor shown in Fig. 2 with a part removed. , FIG. 4 shows 4 in FIG. 2 without the housing.
5 is a partial sectional view along line 5-5 of FIG. 4, FIG. 6 is a sectional view of the pressure capsule, and FIG. 7 is a sectional view along line 7-7 of FIG. 6. The bottom view of the upper quartz plate of the pressure capsule, Figure 8 is 8- in Figure 6.
Top view of the lower quartz plate of the pressure capsule along line 8,
Fig. 9 is a sectional view of the alignment fixture, Fig. 10 is a sectional view taken along line 10-10 in Fig. 9, Fig. 11 is a sectional view taken along line 11-11 in Fig. 9, and Fig. 12 is a sectional view taken along line 11-11 in Fig. 9. FIG. 13 is a graph showing an electrode curing process; FIG. 14 is a graph showing a temperature-pressure sealing method; FIG. 15 is a plan view showing another embodiment of the pressure capsule; FIG. 16 is a sectional view taken along line 16-16 in FIG. 15. 102,104...Quartz plate, 180,182...Surface of quartz plate, 184,186...Quartz plate receiving cavity,
190... Alignment hole, 192... Alignment pin.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 ガラス・フリツトを含む誘電体により隔てら
れる一対の板を有する容量型圧力カプセルを真空
封じする方法であつて、カプセルに近い部分の圧
力を大気圧からそれよりも低い第1の圧力レベル
まで低下させる工程と、カプセルの周囲の温度を
室温から、含有ガスを放出させることができる第
2の温度レベルまで上昇させる工程と、局部圧力
を前記第1の圧力レベルよりも高い第2の圧力レ
ベルまで上昇させる工程と、局部温度を誘電体を
融けたガラス状態にする第3の温度レベルまで上
昇させる工程と、誘電体が前記融けたガラス状態
になつた後で、局部圧を第3の圧力レベルまで上
昇させることにより誘電体の厚さを変えて板を互
いに固定する工程とを備えることを特徴とする容
量型圧力カプセルを真空封じする方法。 2 ガラス・フリツトを含む誘電体により隔てら
れる一対の板を有する容量型圧力カプセルを真空
封じする方法であつて、カプセルに近い部分の圧
力を大気圧からそれよりも低い第1の圧力レベル
まで低下させる工程と、カプセルの周囲の温度を
室温から、含有ガスを放出させることができる第
2の温度レベルまで上昇させる工程と、局部圧力
を前記第1の圧力レベルよりも高い第2の圧力レ
ベルまで上昇させる工程と、局部温度を誘電体を
融けたガラス状態にする第3の温度レベルまで上
昇させる工程と、誘電体が前記融けたガラス状態
になつた後で、局部圧を第3の圧力レベルまで上
昇させることにより誘電体の厚さを変えて板を互
いに固定する工程と、局部圧力を前記第1と第3
の圧力レベルの中間の第4の圧力レベルまで低下
させる工程と、カプセルを冷却する工程と、カプ
セルを冷却した後で前記局部圧を大気圧まで上昇
させる工程とを更に含むことを特徴とする容量型
圧力カプセルを真空封じする方法。
[Scope of Claims] 1. A method for vacuum-sealing a capacitive pressure capsule having a pair of plates separated by a dielectric material containing a glass frit, the method comprising: reducing the pressure in a region near the capsule from atmospheric pressure to a lower pressure; increasing the temperature surrounding the capsule from room temperature to a second temperature level capable of releasing the contained gas; and increasing the local pressure above the first pressure level. increasing the local temperature to a second pressure level; increasing the local temperature to a third temperature level that causes the dielectric to be in the molten glass state; and fixing the plates together by varying the thickness of the dielectric by increasing the pressure to a third pressure level. 2. A method for vacuum sealing a capacitive pressure capsule having a pair of plates separated by a dielectric including a glass frit, the pressure being reduced near the capsule from atmospheric pressure to a first pressure level lower than atmospheric pressure. increasing the temperature surrounding the capsule from room temperature to a second temperature level capable of releasing the contained gas; and increasing the local pressure to a second pressure level higher than the first pressure level. raising the local temperature to a third temperature level that causes the dielectric to be in a molten glass state; and increasing the local pressure to a third pressure level after the dielectric is in the molten glass state. fixing the plates to each other by changing the thickness of the dielectric by increasing the thickness of the dielectric to
cooling the capsule to a fourth pressure level intermediate the pressure level of the capsule, cooling the capsule, and increasing the local pressure to atmospheric pressure after cooling the capsule. How to vacuum seal a mold pressure capsule.
JP4924080A 1980-04-16 1980-04-16 Method of vacuum sealing capacity type pressure capsule Granted JPS56148028A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03294699A (en) * 1990-04-12 1991-12-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd Impeller of blower
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58198739A (en) * 1982-05-14 1983-11-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electrostatic capacity type pressure sensor

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5527992A (en) * 1978-08-14 1980-02-28 Motorola Inc Glass made pressure sensor

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5527992A (en) * 1978-08-14 1980-02-28 Motorola Inc Glass made pressure sensor

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03294699A (en) * 1990-04-12 1991-12-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd Impeller of blower
JP2011519032A (en) * 2008-04-24 2011-06-30 カスタム センサーズ アンド テクノロジーズ インコーポレイテッド Sensing element assembly and method

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