JPS6354743A - Method of standard cell layout - Google Patents

Method of standard cell layout

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JPS6354743A
JPS6354743A JP19869986A JP19869986A JPS6354743A JP S6354743 A JPS6354743 A JP S6354743A JP 19869986 A JP19869986 A JP 19869986A JP 19869986 A JP19869986 A JP 19869986A JP S6354743 A JPS6354743 A JP S6354743A
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transistors
standard cell
fundamental
channel
layout
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Tomoaki Tanabe
智明 田邊
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Fujitsu Ltd
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Abstract

PURPOSE:To shorten the time required for a standard cell layout by forming transistors as fundamental elements in the constitution of a logic circuit in several kinds of fundamental transistors according to a P channel, an N channel, the type of electrode wirings, size, etc., previously preparing these transistors and using them as the fundamental units of the layout. CONSTITUTION:Various transistors organizing a standard cell are named accord ing to P and N channels for the transistors, contact-holes for source-drain and size, and the names and patterns are prepared previously as fundamental transis tor groups. When manufacturing the standard cell, each section of the layout of the standard cell is named in said manner, the kinds of respective transistors are determined from the arrangement of the names, the transistors of interest are taken out of said fundamental transistor groups, spaces among the transistors are decided in accordance with design criteria and the transistors are disposed. Names such as ones consisting of three characters are given to respective fundamental transistors, both ends of three characters are displayed by symbols representing the shapes of sources-drains, and contact-hole absence A, contact-hole presence B, a power supply C, etc. are named.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 予め用意した幾種類かの単体トランジスタをレイアウト
の基本単位とする、スタンダードセルのレイアウト方法
[Detailed Description of the Invention] [Summary] A standard cell layout method in which several types of single transistors prepared in advance are used as the basic layout unit.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は、設計基準が変ったときそれに迅速に対応でき
るスタンダードセルのレイアウト方法に関する。
The present invention relates to a standard cell layout method that can quickly respond to changes in design standards.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、LSIのレイアウト手法の一つとして、インバー
タ、アンド、オア、セレクター、アダー。
Traditionally, LSI layout methods include inverter, AND, OR, selector, and adder.

ラッチ、フリップフロップ等の、くりかえし利用する論
理をスタンダードセルとしてあらかじめ用意しておく方
式がある。本方式に利用するスタンダードセルは、同−
論理でも、テクノロジーが異なると、セル寸法、セル内
パターン形状が異なるため、テクノロジー毎に再レイア
ウトしている。
There is a method in which logic that is used repeatedly, such as latches and flip-flops, is prepared in advance as standard cells. The standard cell used in this method is
Even in logic, different technologies have different cell dimensions and internal pattern shapes, so the layout is re-laid out for each technology.

そのため、スタンダードセルの開発に多大な期間を必要
としている。
Therefore, it takes a long time to develop standard cells.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

従来、スタンダードセルのレイアウトは、セル毎に、設
計基準を満足し、セル寸法、入出力端子位置などが最適
になるように行なっている。しかしながらこの従来の方
法では、例えば配線最小幅に更に細いものを用いる等の
新ウェハープロセスの採用で設計基準の大幅変更がある
とき、トランジスタのパターンから設計し直さねばなら
ないので時間がか\す、早急な対応が難しい。−度に多
くのスタンダードセルを作成する必要が生じた場合も同
様である。
Conventionally, standard cell layouts have been carried out so that each cell satisfies design standards and optimizes cell dimensions, input/output terminal positions, etc. However, with this conventional method, when there is a major change in design standards due to the adoption of a new wafer process, such as using a thinner minimum wiring width, the design must be redesigned from the transistor pattern, which is time-consuming. It is difficult to take immediate action. The same applies when it becomes necessary to create many standard cells at once.

本発明は論理回路の構成の基本素子であるトランジスタ
を、pチャネル、nチャネル、電極配線の型・サイズな
どに従って幾種類かの基本トランジスタにしてこれらを
予め用意し、レイアウトの基本単位とすることにより、
スタンダードセルレイアウトの所要時間の短縮化を図ろ
うとするものである。
In the present invention, transistors, which are the basic elements of the configuration of a logic circuit, are prepared in advance into several types of basic transistors according to p-channel, n-channel, type and size of electrode wiring, etc., and are used as the basic unit of layout. According to
This is an attempt to shorten the time required for standard cell layout.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明では、作成しようとするスタンダードセルのテク
ノロジの設計基準に応じた基本トランジスタを群用忘し
、各基本トランジスタには3文字からなる名前を与える
In the present invention, basic transistors are used in groups according to the design criteria of the technology of the standard cell to be created, and each basic transistor is given a name consisting of three letters.

第1図Fa)に示すように3文字の両端はMOS)ラン
ジスタの端(ソース、ドレイン)の形状を表わす記号で
、コンタクトホール無しA、同有りB、電Bcのいずれ
かである。中央の文字はMOS)ランジスタの種類を表
わす記号で、標準チャネル幅及びチャネル長のPチャネ
ルトランジスタP、同NチャネルトランジスタN、ラッ
チ形成用のPチャネルトランジスタGまたはS、同Nチ
ャネルトランジスタHまたはT1及びその他(必要に応
じて作成)の7種類ある。基本トランジスタの各種を第
2図および第3図に示す。
As shown in FIG. 1 (Fa), both ends of the three letters are symbols representing the shape of the ends (source, drain) of the MOS transistor, and are either A without contact hole, B with contact hole, or Bc with contact hole. The letter in the center is a symbol representing the type of transistor (MOS); P-channel transistor P with standard channel width and channel length, N-channel transistor N, P-channel transistor G or S for forming a latch, and N-channel transistor H or T1. There are seven types: and others (created as necessary). Various types of basic transistors are shown in FIGS. 2 and 3.

第2図(al〜(klはPチャネルトランジスタ、第3
図(a)〜FklはNチャネルトランジスタであり、十
印はこの位置にコンタクトホールを設けることが可能で
あることを示す。第2図に示すように中央の文字がPで
あるものはチャネル幅が標準長のもの、Gはそれが短い
もの、Sは同様に短くかつチャネル長が長いものを示す
。また第3図に示すように中央の文字がNのものはチャ
ネル幅が標準長のもの、Hはそれが短いもの、Tは同様
に短く且つチャネル長が長いものを示す。ソースドレイ
ン領域のコンタクトマーク+が方形枠で囲まれているの
は、この部分はソースドレインではなく、下部の基板が
出ている、従ってこの所のコンタクトは基板へのコンタ
クトであることを示す。
Figure 2 (al~(kl is a P-channel transistor,
Figures (a) to Fkl are N-channel transistors, and the cross mark indicates that a contact hole can be provided at this position. As shown in FIG. 2, the letter P in the center indicates that the channel width is standard length, G indicates that the channel width is short, and S indicates that the channel width is similarly short and long. Further, as shown in FIG. 3, the letter N in the center indicates that the channel width is standard length, H indicates that the channel width is short, and T indicates that the channel width is similarly short and long. The fact that the contact mark + in the source/drain region is surrounded by a rectangular frame indicates that this portion is not a source/drain, but the underlying substrate is exposed, and therefore the contact at this location is a contact to the substrate.

このようにしておくと、名前を見るだけで、どの様なト
ランジスタか分る。例えばBPBならソース及びドレイ
ンにコンタクトがとれて標準チャネル幅のPチャネルM
OSトランジスタであることが分る。
By doing this, you can tell what type of transistor it is just by looking at its name. For example, in the case of BPB, the source and drain can be contacted and the P channel M has a standard channel width.
It turns out that it is an OS transistor.

本発明では、このような基本トランジスタ群を、前記名
前とそのパターンを表わす例えばベクトルデータの形で
予め用意しておき、それより所要の基本トランジスタを
取出してその組合せでスタンダードセルのレイアウトを
行なう。先ず、作成しようとするスタンダードセルを基
本トランジスタに分解したデータを作り、このデータを
用いて基本トランジスタを選択して配置し、結線する。
In the present invention, such a group of basic transistors is prepared in advance in the form of, for example, vector data representing the above-mentioned name and its pattern, and the required basic transistors are extracted from the group and a standard cell layout is performed by combining them. First, create data that breaks down the standard cell to be created into basic transistors, and use this data to select, arrange, and wire the basic transistors.

設計基準の変更でスタンダードセルレイアウトを変える
場合は、既設計のスタンダードセルを前記基本トランジ
スタに分解し、それを新設計の基本トランジスタで置き
換えるという方法をとる。このようにすれば、設計基準
の変更で基本トランジスタを変更しておけば、あとはそ
れを利用してレイアウトすればよ(、所要時間の大幅な
短縮が可能である。以下実施例について説明する。
When changing the standard cell layout due to changes in design standards, a method is used in which the already designed standard cell is disassembled into the basic transistors and replaced with newly designed basic transistors. In this way, once the basic transistors have been changed due to a change in the design standard, all that is left to do is to use them in the layout (required time can be significantly shortened. An example will be explained below. .

〔実施例〕〔Example〕

第4図はハーフアダー(半加算器)のシンボル図、第5
図は0MO5で構成したその回路図である。
Figure 4 is a symbol diagram of a half adder, and Figure 5 is a symbol diagram of a half adder.
The figure is a circuit diagram of 0MO5.

このハーフアダーのナントゲートG+はPチャネルトラ
ンジスタQl、G2とNチャネルトランジスタQ3.G
4で構成され、オアゲートG2とナントゲートG3はP
チャネルトランジスタQ5〜Q7とNチャネルトランジ
スタQ a = G40で構成される。またインバータ
Ga、 G5はPチャネルトランジスタQl 1 、 
Ql 3とNチャネルトランジスタQ12.Q14で構
成される。
This half-adder Nant gate G+ includes P-channel transistors Ql, G2 and N-channel transistors Q3. G
4, or gate G2 and Nantes gate G3 are P
It is composed of channel transistors Q5 to Q7 and an N-channel transistor Q a = G40. Furthermore, the inverter Ga, G5 is a P-channel transistor Ql 1 ,
Ql 3 and N-channel transistor Q12. Consists of Q14.

第6図は半導体基板上に構成されたこのハーフアダーの
概略平面図である。この図ではコンタクトホールを口印
で示す。この各領域に前記のルールで作業者が又はパタ
ーン認識で自動的にネーミングを行なうと図示の如(な
る。Pチャネル側の記号を左端から並べると CPB / CPB / PC/ PB/ PA/ P
C/ PRとなり、Nチャネル側の記号を左端から並べ
るとCNB / BNA / NG/ NB/ NB/
 NB/ CNBとなる。中央の記号P、Nをベースに
区分して行(と上記の如くなり、記号が2つしかない所
も生じるが、これは隣接トランジスタとソースドレイン
を共用している部分である。これを補うと次のようにな
る。
FIG. 6 is a schematic plan view of this half adder constructed on a semiconductor substrate. In this figure, the contact holes are indicated by stamps. If each area is named by an operator according to the above rules or automatically by pattern recognition, it will look like this (if the symbols on the P channel side are arranged from the left end: CPB / CPB / PC / PB / PA / P
C/PR, and if you arrange the symbols on the N channel side from the left end, it becomes CNB/BNA/NG/ NB/ NB/
NB/CNB. The lines are divided based on the symbols P and N in the center (and as shown above, there are places where there are only two symbols, but this is a part where the source and drain are shared with the adjacent transistor. and becomes as follows.

CPB/CPB /BPC/CPB /BPA /AP
C/CPBおよび CNB/BNA /ANC/CNB /BNB /BN
B /CNBこれらは図示のようにQ1〜Ql 4を構
成し、ひいてはG1−G5を構成する(但し一部の配線
は未結線)ものである。こうしてスタンダードセルの平
面図(レイアウト)に対しネーミングを行なうと、基本
トランジスタに分解することができ、共用部分なども分
る。
CPB/CPB /BPC/CPB /BPA /AP
C/CPB and CNB/BNA /ANC/CNB /BNB /BN
B/CNB These constitute Q1 to Ql4 as shown, and in turn constitute G1 to G5 (however, some wiring is not connected). By naming the plan view (layout) of a standard cell in this way, it is possible to break it down into basic transistors and identify common parts.

基本トランジスタに分解したら、これを第7図の基本ト
ランジスタ(第2図、第3図と同種のものであるが、新
設計のもの)で置き換える。基本トランジスタの各々の
間隔は次のようにする。即ち、基本トランジスタはゲー
トの中心を原点とし、第1図(′b)に示すようにゲー
ト中心間距離Xを基本トランジスタの横方向間隔とする
。基本トランジスタの間隔の最小値は、ソースドレイン
がλ、B。
After disassembling the basic transistor, replace it with the basic transistor shown in FIG. 7 (same type as in FIGS. 2 and 3, but of a new design). The spacing between each basic transistor is as follows. That is, the origin of the basic transistor is the center of the gate, and the distance X between the gate centers is the lateral spacing of the basic transistor, as shown in FIG. 1('b). The minimum spacing between basic transistors is λ, source and drain.

Cのどれかにより、例えば表1.2の如く定めてお(。C, for example, as shown in Table 1.2 (.

表 1  (Pチャネル) 表 2 (Nチャネル) PチャネルトランジスタとNチャネルトランジスタの縦
方向間隔Yは第1図(C)の如くとる。第8図は置き換
えた後の状態を示す。配置などは第6図と同様であるが
、小配線幅の設計基準に依っているので第6図より小型
化されている。
Table 1 (P channel) Table 2 (N channel) The vertical distance Y between the P channel transistor and the N channel transistor is taken as shown in FIG. 1(C). FIG. 8 shows the state after replacement. Although the arrangement is the same as that shown in FIG. 6, it is smaller than that shown in FIG. 6 because it is based on the design standard of small wiring width.

第9図はラッチ回路を示し、(a)はシンボル図、(b
)は回路図である。II、12はフリップフロツプを構
成するインバータ、GIはデータ取込み用のゲートであ
る。QI−G3はPチャネルMOSトランジスタ、Q4
〜Q6はNチャネルMO3)ランジスタで、G2.G5
は11を、G3.G6はI2を、そしてQl、G4はG
1を構成する。
Figure 9 shows a latch circuit, (a) is a symbol diagram, (b)
) is a circuit diagram. Reference numerals II and 12 are inverters constituting a flip-flop, and GI is a gate for data acquisition. QI-G3 is a P-channel MOS transistor, Q4
~Q6 is an N-channel MO3) transistor, G2. G5
11, G3. G6 is I2, and Ql, G4 is G
1.

これを前記の要領で基本トランジスタの組合せを作ると
第10図の如くなり、結線すると第11図の如くなる。
If a combination of basic transistors is made as described above, the result will be as shown in FIG. 10, and if wired, it will be as shown in FIG. 11.

ラッチ用のインパーク■2を構成するトランジスタQ3
.Q6は、チャネル幅の小さなそしてチャネル長の長い
ものにされる。
Transistor Q3 that constitutes impark ■2 for latch
.. Q6 has a small channel width and a long channel length.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明では、スタンダードセルを構
成する各種トランジスタのパターンをP。
As explained above, in the present invention, the patterns of the various transistors constituting the standard cell are P.

Nチャネル別、ソース、ドレインのコンタクトホール有
り無し及び接続先(電源)別、サイズ別にネーミングし
て、基本トランジスタ群として予め用意しておき、スタ
ンダードセルの製作に当っては、既設針のものがあれば
その各部領域にネーミングしてトランジスタの種類を知
り、上記の基本トランジスタ群の中から該当するものを
取り出して配列し、設計基準に従って各トランジスタの
間隔を定め、結線する、という方法で製作するので、設
計基準の変更に迅速に対処することができる。
They are prepared in advance as a basic transistor group by naming them by N channel, with or without contact holes for source and drain, by connection destination (power supply), and by size, and when manufacturing standard cells, the existing needles are used. If so, name each region to know the type of transistor, select and arrange the corresponding transistors from the above basic transistor group, determine the spacing between each transistor according to design standards, and connect them. Therefore, changes in design standards can be dealt with quickly.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は基本トランジスタのネーミングと間隔の説明図
、 第2図および第3図は基本トランジスタの名前とそのパ
ターンの説明図、 第4図および第5図はハーフアダーのシンボル図および
回路図、 第6図は既設針のハーフアダーの概略平面図1、第7図
は新設計基準による基本トランジスタの名前とそのパタ
ーンの説明図、 第8図は第7図で第5図を製作した例を示す概略平面図
、 第9図はラッチ回路のシンボル図および回路図、第10
図および第11図は基本トランジスタで第9図を製作し
た例を示す概略平面図である。 第1図〜第3図で+はコンタクトホール、X。 Yは間隔、A、B、C・・・・・・は名前である。
Fig. 1 is an explanatory diagram of the naming and spacing of basic transistors, Figs. 2 and 3 are explanatory diagrams of the names of basic transistors and their patterns, Figs. 4 and 5 are symbol diagrams and circuit diagrams of a half-adder, Figure 6 is a schematic plan view 1 of the half adder of the existing needle, Figure 7 is an explanatory diagram of the names of basic transistors and their patterns according to the new design standards, and Figure 8 is a schematic diagram showing an example of manufacturing Figure 5 from Figure 7. Plan view, Figure 9 is a symbol diagram and circuit diagram of the latch circuit, Figure 10 is
The figure and FIG. 11 are schematic plan views showing an example of manufacturing the device shown in FIG. 9 using basic transistors. In Figures 1 to 3, + indicates a contact hole, and X indicates a contact hole. Y is the interval and A, B, C... are the names.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 スタンダードセルを構成する各種トランジスタを、その
P、Nチャネル、ソースドレインのコンタクトホール、
サイズに従って名前付けしてその名前とパターンを予め
基本トランジスタ群として用意しておき、 スタンダードセルの製作に当っては、当該スタンダード
セルのレイアウトの各部に前記の名前付けを行ない、そ
の名前の配列から各トランジスタの種類を知り、当該す
るトランジスタを前記基本トランジスタ群より取出し、
設計基準に従ってトランジスタ間の間隔を定めて配列す
ることを特徴としたスタンダードセルのレイアウト方法
[Claims] Various transistors constituting a standard cell are provided with P, N channel, source/drain contact holes,
Name them according to their size and prepare the names and patterns in advance as a basic transistor group. When manufacturing a standard cell, give the above names to each part of the layout of the standard cell, and use the array of names to create a standard cell. Knowing the type of each transistor, extracting the relevant transistor from the basic transistor group,
A standard cell layout method characterized by arranging transistors by determining the spacing between them according to design standards.
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