JPS6346694A - Dynamic semiconductor memory device - Google Patents

Dynamic semiconductor memory device

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JPS6346694A
JPS6346694A JP61189566A JP18956686A JPS6346694A JP S6346694 A JPS6346694 A JP S6346694A JP 61189566 A JP61189566 A JP 61189566A JP 18956686 A JP18956686 A JP 18956686A JP S6346694 A JPS6346694 A JP S6346694A
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JP
Japan
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bit line
differential amplifier
dummy
node
memory cell
Prior art date
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Application number
JP61189566A
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Japanese (ja)
Inventor
Tsuneaki Fuse
布施 常明
Shigeyoshi Watanabe
重佳 渡辺
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To simultaneously attain a high speed and high grade integration by using a differential amplifier constituted of a CMOS type flip flop. a bipolar transistor and a MOS transistor as a bit line sense amplifier for reading the output data of a memory cell. CONSTITUTION:At the time of an active cycle from an initial potential, a node 15 is lowered, a column signal 9 is selecter after a while, and the differential amplifier is activated. Since the cell data is not transferred to the bit line at that time, an output determined by a base current passed by the transistors Q13-Q20 is outputted to output nodes 11, 12, thereafter, word lines rise, the data of the memory cell and a dummy cell is transferred to the bit line and a dummy bit line. When the different in the potential between the bit line and the dummy bit line goes to several +mV, a node is raised and the MOS flip flop is operated. When the difference in the potential between the bit line and the dummy bit line goes to about 0.5V, a node 15 is raised again and the BICMOS differential amplifier is operated.

Description

【発明の詳細な説明】 C発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明はダイナミック型半導体記憶装置に関する。[Detailed description of the invention] C. Purpose of the invention] (Industrial application field) The present invention relates to a dynamic semiconductor memory device.

(従来の技術) MO8型半導体記憶装置は、微細化、高速化が著しい、
大型コンピュータのキャッシュ・メモリのように高速性
が要求される分野では現在、4にあるいは16にのスタ
ティックRAM(sRAM)が多く使用されている。し
かしMOSトランジスタのゲート長が0.5−程度まで
微細化が進むと、素子の信頼性を確保するために外部f
fi源を下げなければならず、これまでのように微細化
による高速化はもはや不可能になる。そこで、s RA
 MではMOSトランジスタより電流駆動能力の大きい
バイポーラトランジスタを導入することにより高速比を
図ることが行われている。
(Prior art) MO8 type semiconductor memory devices are becoming increasingly finer and faster.
In fields where high speed is required, such as the cache memory of large computers, 4 or 16 static RAMs (sRAMs) are currently widely used. However, as the gate length of MOS transistors progresses to miniaturization to about 0.5-degrees, external f
The fi source must be lowered, and it is no longer possible to increase the speed by miniaturization as in the past. Therefore, sRA
In M, a high speed ratio is achieved by introducing a bipolar transistor which has a larger current driving ability than a MOS transistor.

第3図はその様なs RA Mの一例を示す、メモリセ
ル21は、MOSトランジスタQnzt Q42と負荷
抵抗R,,R2とからなる双安定回路とトランスファゲ
ートとしてのMOSトランジスタQ43 t Q44と
から構゛成される。ワード線23が選択されると、セル
データはビット@24.25が転送され、カラム選択信
号によりMOSトランジスタQ4vおよびQ4゜がオン
になるとこのビット、ii、24.25のデータはI1
0線26.27に転送される。 l10t&26.27
のデータは、バイポーラトランジスタT。、T22をド
ライバとし、負荷抵抗R,,R4を接続して構成された
センスアンプ22により増幅される。Q4.はセンスア
ンプ活性化用MOSトランジスタである。
FIG. 3 shows an example of such an s RAM.The memory cell 21 is composed of a bistable circuit consisting of a MOS transistor QnztQ42 and load resistors R, , R2, and a MOS transistor Q43tQ44 as a transfer gate. It will be done. When the word line 23 is selected, bit @24.25 of the cell data is transferred, and when the column selection signal turns on MOS transistors Q4v and Q4°, the data of this bit, ii, 24.25 is transferred to I1.
Transferred to 0 line 26.27. l10t&26.27
The data for bipolar transistor T. , T22 as a driver, and is amplified by a sense amplifier 22 configured by connecting load resistors R, , R4. Q4. is a MOS transistor for activating the sense amplifier.

このような回路構成はバイポーラトランジスタとCMO
S素子とを組合わせたもので810MO8と呼ばれる。
This kind of circuit configuration uses bipolar transistors and CMO
The combination with S element is called 810MO8.

特に第3図の回路構成は差動増幅器と呼ばれ、バイポー
ラトランジスタのコンダクタンスg11が微少信号入力
の場合CMO3と比較して10倍程度大きい特徴を利用
している。つまり負荷容量の大きいI10線26.27
をCMO5と比較して非常に小さく振巾させるだけで、
前記差動増幅器は高速に動作出来るため、810MO8
の導入によってSRAMはかなり高速化出来る。たとえ
ば日立の64KSRAMでは2μのCMOSのみで構成
した場合アドレスアクセスタイムtAAは28.5ns
であるのに対し、2μの810MO8を利用すると、t
AAは12.1nsと約42%まで高速化される。
In particular, the circuit configuration shown in FIG. 3 is called a differential amplifier, and utilizes the feature that the conductance g11 of the bipolar transistor is about 10 times larger than that of the CMO3 when a small signal is input. In other words, I10 wire 26.27 with large load capacity
Just by shaking it very small compared to CMO5,
Since the differential amplifier can operate at high speed, 810MO8
With the introduction of , SRAM can be made considerably faster. For example, when Hitachi's 64KSRAM is configured with only 2μ CMOS, the address access time tAA is 28.5ns.
On the other hand, when using 2μ 810MO8, t
AA speed is increased to 12.1 ns, about 42%.

(発明が解決しようとする問題点) ところで第3図に示すようにsRAMは6素子でメモリ
セルを構成するため1通常4素子以下でメモリセルが構
成されるダイナミックRAM (dRAM)に比べて、
同じゲート長を用いた場合高集積化ができない0例えば
同じ集積度を実現するためには、sRAMのゲート長は
dRAMのそれの6〜7割にしなければならない。
(Problems to be Solved by the Invention) By the way, as shown in FIG. 3, sRAM has a memory cell made up of six elements, so compared to dynamic RAM (dRAM), which usually has a memory cell made up of four or fewer elements.
High integration cannot be achieved if the same gate length is used.For example, in order to achieve the same degree of integration, the gate length of sRAM must be 60 to 70% that of dRAM.

つまりsRAMは、高速化には向いているが。In other words, sRAM is suitable for increasing speed.

dRAM程に高集積化できない、という本質的な欠点が
あり、キャッシュ・メモリを64に、256に更にIM
と高集積化する場合、1ビット当りのコストが安くしか
も高速であるものをs RA Mにより実現することは
難しい。
It has the essential drawback that it cannot be as highly integrated as dRAM, and the cache memory has been increased to 64, 256, and IM.
In the case of high integration, it is difficult to realize low cost per bit and high speed using sRAM.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

(問題点を解決するための手段) 本発明は1個のMOSトランジスタと1個のキャパシタ
によりメモリセルが構成されるダイナミックRAMにお
いて、個々のビット線に転送されるメモリデータを増幅
するビット線センスアンプとして、ビット線と直接ある
いはMOSトランジスタを介して接続されるCMOSで
構成されたフリップフロップと、ビット線とMOSトラ
ンジスタおよびMOSトランジスタのゲート電極を介し
て接続されるBICMO3で構成された差動増幅器の両
者を合せ持つ構成を用いることによって問題点を解決し
た。
(Means for Solving the Problems) The present invention provides a bit line sensor that amplifies memory data transferred to each bit line in a dynamic RAM in which a memory cell is configured by one MOS transistor and one capacitor. As an amplifier, a differential amplifier consisting of a CMOS flip-flop connected to the bit line directly or via a MOS transistor, and a BICMO3 connected to the bit line via a MOS transistor and the gate electrode of the MOS transistor. The problem was solved by using a configuration that combines both.

(作  用) メモリセルに1個のMOSトランジスタと1個のキャパ
シタを使用しているため、6素子でメモリセルを構成し
ているsRAMと比較して同一デザインルールで2〜4
倍の高集積化が可能となる。
(Function) Since one MOS transistor and one capacitor are used in the memory cell, compared to sRAM where the memory cell is made up of 6 elements, it is possible to use 2 to 4 elements with the same design rule.
This enables twice as high integration.

またsRAMのセルのように非破壊型で電流増幅型と比
較して810MO8の差動増幅器と結合の戴しいdRA
Mにおいて、ビット線にCMOSのフリップフロップと
BICMO3で構成された差動増幅器と両者を持つセン
スアンプを接続することにより高速化を達成した。つま
り破壊型のメモリセルの再書込みは0MO8のフリップ
フロップにより行ない、ビット線に出したメモリセルの
信号増幅は前記BICMO5差動増幅器により行なう。
Also, compared to non-destructive and current amplification type cells like sRAM cells, 810MO8 differential amplifier and dRA
In M, high speed was achieved by connecting a CMOS flip-flop, a differential amplifier composed of BICMO3, and a sense amplifier having both to the bit line. That is, rewriting of the destructive memory cell is performed by the 0MO8 flip-flop, and signal amplification of the memory cell output to the bit line is performed by the BICMO5 differential amplifier.

(実 施 例) 第1図は本発明の1実施例であるdRAMの要部を示す
等価回路である。メモリセルには現在メモリ素子の中で
一番高集積化に向いている1トランジスタ1キヤパシタ
によりメモリセルが構成されるdRAMセルを用いる。
(Embodiment) FIG. 1 is an equivalent circuit showing a main part of a dRAM which is an embodiment of the present invention. A dRAM cell is used as the memory cell, which is currently the most suitable for high integration among memory devices and is composed of one transistor and one capacitor.

第1図でMOSトランジスタQl、キャパシタC1でメ
モリセルをQ2、C2でダミーセルを構成し、ノード1
にはワード線がノード2にはダミーワ゛−ド線が接続さ
れ机 ところで1トランジスタ1キヤパシタメモリセルは破壊
型で電圧増幅で動作するためビット線に伝達されたメモ
リセルのデータを増幅するビット線センスアンプにBI
C:MO8差動増幅器のみを用いることは出来ない。な
ぜならB I CMOS差動増幅器の入力に使用するバ
イポーラ−トランジスタは入力インピーダンスが数百Ω
と非常に小さいためメモリセルにセルデータを再書込み
することが困難であり、差動増幅器での消費電流が非常
に大きいためメモリ全体の消費電流が大巾に増加(16
MビットdRAMでは5mA近くに達する)してしまう
ためである。そこで第1図では、破壊型のメモリセルの
再書込み(リストア)には、Q3〜Q8のMOSトラン
ジスタによって構成されるフリップフロップを用い、そ
の入力はビット線3とダミービット線4に接続される。
In Figure 1, a MOS transistor Ql and a capacitor C1 constitute a memory cell, Q2 and C2 constitute a dummy cell, and a node 1
A word line is connected to node 2, and a dummy word line is connected to node 2. However, since a one-transistor, one-capacitor memory cell is a destructive type and operates by voltage amplification, the bit line amplifies the data of the memory cell transmitted to the bit line. BI to sense amplifier
C: It is not possible to use only the MO8 differential amplifier. This is because the input impedance of the bipolar transistor used for the input of the B I CMOS differential amplifier is several hundred Ω.
Because it is very small, it is difficult to rewrite cell data to the memory cell, and the current consumption of the differential amplifier is very large, so the current consumption of the entire memory increases significantly (16
This is because M-bit dRAM reaches nearly 5 mA). Therefore, in FIG. 1, a flip-flop composed of MOS transistors Q3 to Q8 is used to rewrite (restore) a destroyed memory cell, and its input is connected to bit line 3 and dummy bit line 4. .

一方ビット線3及びダミービット線4にでたメモリセル
の信号は、Q9.QIOのMOSトランジスタを介し、
Q13、 Q14のゲートに入り、Qll、 Q12.
 Q17〜Q20で構成されるBICMO3差動増幅器
によってs RA’ Mのセンスアンプと同程度に高速
で増幅される。Q9〜Q20のうちQ9.QIO,Q1
3〜Q20はビット線に1組づつあり、Qll、 Q1
2は各工10線に1個だけある。そして差動増巾器の出
力はI10線ノード11とダミーI10線ノード12に
接続される。
On the other hand, the memory cell signals output to bit line 3 and dummy bit line 4 are Q9. Through the QIO MOS transistor,
Enter the gates of Q13 and Q14, Qll, Q12.
The BICMO3 differential amplifier composed of Q17 to Q20 amplifies the signal at a high speed comparable to that of the sense amplifier of s RA'M. Q9 out of Q9-Q20. QIO, Q1
There are one set each of 3 to Q20 on the bit lines, Qll, Q1
There is only one 2 in each 10 lines. The output of the differential amplifier is connected to the I10 line node 11 and the dummy I10 line node 12.

第1図の回路動作を第2図に示す、ここではセルデータ
が440 Itの場合を考える。プリチャージサイクル
でビット線3.ダミービット線4はある中間電位にプリ
ャージされ、このときノード15は立上っていてノード
13,14はトランジスタQ13〜Q16によっである
初期電位に設定される。アクティブサイクルになると同
時にノード15は立下げられ、少したってからカラム信
号9が選択され差動増幅器が活性化される。そのときま
だセルデータはビット線に転送されていないため、トラ
ンジスタQ13〜Q20によって流されるベース電流に
よって決まる出力が出力ノード11.12に出力される
。その後ワード線1,2が立上りメモリセルとダミーセ
ルのデータがビット線及びダミービット線に転送される
。ビット線とダミービット線の電位差が数十111V程
度ついたとき、ノード8を立上げCMOSフリップフロ
ップを動作させる。ビット線とダミービット線の電位差
がO,SV程度ついたところでノード15を再び立上げ
BICMO8差動増幅器を動作させる。CMOSフリッ
プフロップとBICMO8差動増幅器はMOSトランジ
スタQ13.Q14によって分離されているため、ビッ
ト線データが破壊されることなくセルデータを出力ノー
ドであル工101iA11、ダミーl10m12に?%
速に転送することができる。そしてビット線に接続され
たCMOSフリップフロップによりメモリセルにデータ
を再書込みする。つまりビット線データはロウレベルに
、ダミービット線データはハイレベルとなる。
The circuit operation of FIG. 1 is shown in FIG. 2. Here, consider the case where the cell data is 440 It. Bit line 3 in the precharge cycle. Dummy bit line 4 is precharged to a certain intermediate potential, at this time node 15 is rising and nodes 13 and 14 are set to a certain initial potential by transistors Q13-Q16. At the same time as the active cycle begins, node 15 is pulled down, and after a short time, column signal 9 is selected and the differential amplifier is activated. Since cell data has not yet been transferred to the bit line at that time, an output determined by the base currents flowing through transistors Q13-Q20 is output to output node 11.12. Thereafter, word lines 1 and 2 rise, and data in the memory cells and dummy cells are transferred to the bit lines and dummy bit lines. When the potential difference between the bit line and the dummy bit line reaches several tens of 111 V, node 8 is turned on and the CMOS flip-flop is operated. When the potential difference between the bit line and the dummy bit line reaches approximately O.SV, the node 15 is raised again to operate the BICMO8 differential amplifier. The CMOS flip-flop and BICMO8 differential amplifier are MOS transistors Q13. Because they are separated by Q14, the bit line data is not destroyed and the cell data is sent to the dummy 101iA11 and dummy 110m12 at the output node? %
It can be transferred quickly. Data is then rewritten into the memory cell using a CMOS flip-flop connected to the bit line. In other words, the bit line data becomes low level and the dummy bit line data becomes high level.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明を用いれば、dRAMの高密度化とBICMOS
  SRAM(7)高速性(0MO8(7)み(7)!
+!成の約半分の高速性が実現可能)が同時に実現する
ことが出来る。
By using the present invention, it is possible to increase the density of dRAM and increase the density of BICMOS.
SRAM (7) High speed (0 MO8 (7) Mi (7)!
+! It is possible to achieve speeds that are about half that of the previous generation) at the same time.

つまり第4図に示すように、DRAMのアクセスタイム
tRACのうち、ビット線センスアンプ部分の占める割
合がかなり大きいため、ビット線センスアンプ以外をB
ICMOS化したのではアクセスタイムは0MO8のみ
の約7割にしか高速化されない、そこで、ビット線セン
スアンプもBICMO3化出来る本発明を使用すれば、
第4図に示すようにtRACはCMO5のみの約半分ま
で高速化することが可能となる。前に述べたように、B
ICMOS  SRAMでは0MO8のみの約42%ま
で高速化出来るため本発明により、DRAMにおイテも
、BICMOS  SRAMと同程度の高速性が実現出
来るという効果がある。
In other words, as shown in Fig. 4, the bit line sense amplifier portion accounts for a fairly large proportion of the access time tRAC of the DRAM.
By converting to ICMOS, the access time is only increased to about 70% of that of 0MO8 only. Therefore, by using the present invention, which can also convert the bit line sense amplifier to BICMO3,
As shown in FIG. 4, the speed of tRAC can be increased to about half that of CMO5 alone. As mentioned before, B
Since ICMOS SRAM can increase the speed to about 42% of 0MO8 alone, the present invention has the effect that DRAM can achieve the same high speed as BICMOS SRAM.

また今までのdRAMのセンスアンプではその感度はビ
ット線容量CBとセル容量C8の比CB/C3で決まり
C8は40fv以下にすることは動作マージンの関係で
出来なかった。それに対して、本発明は、電流増巾で動
作するためにCsは40fyも必要なく、20j’r以
下で十分に動作する。現在4M以上の高密度dRAMに
おいては、40f F以上のCsを確保するためにメモ
リセル工程が複雑になりそれが歩留り低下またはコスト
アップにつながっている。それに対して本発明ではCS
が207’r以下で良いため、メモリセル工程をそれほ
ど複雑にする必要がなく、これがビット当りのコスト低
下につながるというメリットがある。
Furthermore, in conventional dRAM sense amplifiers, the sensitivity is determined by the ratio CB/C3 of the bit line capacitance CB to the cell capacitance C8, and C8 cannot be set below 40 fv due to operating margins. In contrast, the present invention does not require Cs of 40fy to operate with current amplification, and can sufficiently operate with 20j'r or less. Currently, in high-density dRAMs of 4M or more, the memory cell process is complicated in order to secure Cs of 40fF or more, which leads to a decrease in yield or an increase in cost. In contrast, in the present invention, CS
207'r or less, there is no need to make the memory cell process so complicated, which has the advantage of lowering the cost per bit.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図二本発明のビット線センスアンプの回路図、第2
図:本発明のタイミングチャートを説明するための図、
第3図:従来のBICMO8SRAMの回路図、第4図
: 16MDRAMにおけるアクセスタイムt RAG
の詳細を説明するための図である。 1→ワード線、2→ダミーワード線、3→ビット線、4
→ダミービット線、7,8→CMOSブリップフロップ
駆動信号、9→力ラムセレクト信号、 13.14−)
B I CMOS差動増幅器久方信号。 114I10線、12→ダミーI10線、15→ビツト
線デ一タ転送信号、C1,Q2→メモリセル、C2、Q
2−+ダミーセル、Q3〜Q8−+CMOSフリップフ
ロップ、Q9〜Q20−)B ICMOS差動増幅Im
。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同    竹 花 喜久男 第1図 叶r4 第2図
Figure 1.2 Circuit diagram of the bit line sense amplifier of the present invention, Part 2
Diagram: Diagram for explaining the timing chart of the present invention,
Figure 3: Circuit diagram of conventional BICMO8SRAM, Figure 4: Access time tRAG in 16MDRAM
FIG. 2 is a diagram for explaining details. 1 → word line, 2 → dummy word line, 3 → bit line, 4
→ dummy bit line, 7, 8 → CMOS flip-flop drive signal, 9 → input ram select signal, 13.14-)
B I CMOS differential amplifier Kugata signal. 114I10 line, 12→dummy I10 line, 15→bit line data transfer signal, C1, Q2→memory cell, C2, Q
2-+dummy cell, Q3~Q8-+CMOS flip-flop, Q9~Q20-)B ICMOS differential amplifier Im
. Agent Patent Attorney Nori Ken Yudo Takehana Kikuo Figure 1 Kano R4 Figure 2

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)一個のMOSトランジスタと一個のキャパシタに
より構成されるダイナミック型メモリセルを半導体基板
に配列形成してなるダイナミック型半導体記憶装置にお
いて、前記メモリセルの出力データを読み取るビット線
センスアンプとして、CMOS型のフリップフロップと
バイポーラトランジスタとMOSトランジスタで構成さ
れる差動増幅器を用いたことを特徴とするダイナミック
型半導体記憶装置。
(1) In a dynamic semiconductor memory device in which dynamic memory cells each consisting of one MOS transistor and one capacitor are arranged and formed on a semiconductor substrate, CMOS is used as a bit line sense amplifier for reading output data of the memory cells. 1. A dynamic semiconductor memory device characterized by using a differential amplifier composed of a type flip-flop, a bipolar transistor, and a MOS transistor.
(2)前記差動増幅器はカラム選択信号によって制御さ
れ、選択されたカラムに関係するもののみ活性化される
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のダイナミ
ック型半導体記憶装置。
(2) The dynamic semiconductor memory device according to claim 1, wherein the differential amplifier is controlled by a column selection signal, and only those related to the selected column are activated.
(3)前記CMOS型フリップフロップのビット線はM
OSトランジスタのゲートを介し前記差動増幅器に入力
され、ビット線と差動増幅器が常に分離されていること
を特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第2項記載の
ダイナミック型半導体記憶装置。
(3) The bit line of the CMOS type flip-flop is M
3. The dynamic semiconductor memory device according to claim 1, wherein the bit line and the differential amplifier are always separated from each other by being inputted to the differential amplifier through the gate of an OS transistor.
JP61189566A 1986-08-14 1986-08-14 Dynamic semiconductor memory device Pending JPS6346694A (en)

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