JPS6339894A - Production of oligodeoxynucleotide - Google Patents

Production of oligodeoxynucleotide

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JPS6339894A
JPS6339894A JP61180002A JP18000286A JPS6339894A JP S6339894 A JPS6339894 A JP S6339894A JP 61180002 A JP61180002 A JP 61180002A JP 18000286 A JP18000286 A JP 18000286A JP S6339894 A JPS6339894 A JP S6339894A
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祇生 吉田
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Abstract

PURPOSE:To obtain the titled compound useful in the field of genetic engineering, etc., by reacting a deoxynucleotide phosphorsulfide compound with a deoxynucleotide compound in the presence of a trialkylstannylazole compound and a base, followed by oxidation thereof. CONSTITUTION:A deoxynucleotide phosphorsulfide compound expressed by formula I (R<4> and R<5> represent protecting group; R<6> represents aryl; B<2> represents base residue; n<1> >= 0) is reacted with a deoxynucleotide compound expressed by formula II (R<7> represents protecting group; B<3> and B<4> represent base residue; n<2> >= 0) in the presence of both a trialkylstannylazole compound expressed by the formula R<1>3X (R<1> represents alkyl; X represents azolyl) and a base expressed by the formula R<2>NR<3>2 (R<2> represents H, alkyl or aryl; R<3> represents alkyl or two R<3>, together with the adjacent Natom, form a heterocyclic ring optionally containing two or more of N, O and S, etc., as a hetero-atom and then oxidized to afford the aimed compound expressed by formula III.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は遺伝子工学等の分野で有用なオリゴデオキシヌ
クレオチドの製造法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing oligodeoxynucleotides useful in fields such as genetic engineering.

オリゴデオキシヌクレオチFを製造するための方法とし
ては、現在、リン酸トリエステル法(反応式(1))、
ホスホルクロリド法(反応式(2))およびホスホルア
ミダイト法(反応式(3))が広く使用されてhる(リ
ン酸トリエステル法の詳細については、 C,B、Re
eae、 Tatrahedron、 34.3143
(1978)。
Currently, methods for producing oligodeoxynucleotide F include the phosphoric acid triester method (reaction formula (1)),
The phosphorochloride method (reaction formula (2)) and the phosphoramidite method (reaction formula (3)) are widely used (for details on the phosphotriester method, see C, B, Re
eae, Tatrahedron, 34.3143
(1978).

ホスホルクロリド0法については、R,L、Letsi
ngerら、J、Am、Chem、Soc、、 97,
3278(1975)、またホスホルアミダイト法につ
いては、M、H,Carutheraら、Tetrah
edron Lett−+ 22.185’?(198
1)を参照されたい)。
For the phosphorochloride 0 method, R, L, Letsi
Nger et al., J. Am. Chem. Soc., 97.
3278 (1975), and for the phosphoramidite method, M. H. Caruthera et al., Tetrah
edron Lett-+ 22.185'? (198
Please refer to 1).

(式中、R4およびR5は保護基をあられし:R6はア
リール基をあられし、R’  は高分子担体を含有して
いてもよい保護基をあられし、B1  およびB2  
は同一でも異なってもよくかつそれぞれ保護基を有する
こともある塩基残基をあられす・また脱水剤は2 t 
416−1− IJイソグロビルベンゼンスルホニルテ
トラゾリド等をあられす。)R” O””” P\Cl [”IXI         [:■](式中、R’、
R5* R’、B”  およびB2  は前記と同じ意
味をあられす。) RONR2 〔X〕         〔■〕 〔■〕 (式中、R4,R5,R7,B1  およびB2  は
前記と同じ意味をあられし;またR8  はアルキル基
等をあられす。) 発明が解決しようとする問題点 リン酸トリエステル法を用いて、オリゴチオ中ジヌクレ
オチドを製造する場合の利点は、製造中間体である化合
物(Vl)が酸素および水に対して安定である故に、化
合物[VI)の取扱いおよび反応(1)の操作が簡単で
あることである。したがってリン酸トリエステル法がオ
リゴチオ中ジヌクレオチド製造法の主流を占めてきた。
(In the formula, R4 and R5 represent a protecting group: R6 represents an aryl group, R' represents a protective group that may contain a polymeric carrier, B1 and B2
may be the same or different, and each may have a protecting group. Also, the dehydrating agent is 2 t.
416-1- IJ Isoglobilbenzenesulfonyl tetrazolide etc. )R"O""" P\Cl ["IXI [:■] (in the formula, R',
R5* R', B'' and B2 have the same meanings as above.) RONR2 [X] [■] [■] (In the formula, R4, R5, R7, B1 and B2 have the same meanings as above. (Also, R8 is an alkyl group, etc.) Problems to be Solved by the Invention The advantage of producing dinucleotides in oligothio using the phosphotriester method is that the production intermediate compound (Vl) Because it is stable to oxygen and water, the handling of compound [VI] and the operation of reaction (1) are easy.Therefore, the phosphotriester method is the mainstream method for producing dinucleotides in oligothio. It's here.

しかしこの方法には、反応(1)の反応速度がさほど大
きくないために、オリゴ9体の!A造に時間を要すると
いう欠点がある。
However, in this method, because the reaction rate of reaction (1) is not very high, 9 oligos! The disadvantage is that it takes time to build A.

−刀、ホスホルクロリド法およびホスホルアミダイト法
の長所は製造中間体である化合物(IX)およびCXI
がアルコール性水酸基との反応、つまり化合物〔■〕と
の反応およびそれにひきつづいて行うヨウ素水等による
酸化反応がすみやかに進行するために、目的化合物〔■
〕が短時間に得られることである。しかし、上記方法に
は、化合物〔開および〔X〕、とシわけ化合物〔IXI
  が酸素あるいは水に対して不安定であるために、そ
の保存中あるいは反応(2)および(3)の操作中に分
解しないように注意を払う必要があること等の欠点があ
る◎実際、fヒ合物CIXI  は一般に生成系からの
単離が困難であるはどの不安定さであシ、また化合物[
X]は弱酸の存在下でさえもP−N結合が容易に切断さ
れる程度に不安定であることが知られている。
- The advantage of the phosphorochloride method and phosphoramidite method is that compound (IX) and CXI, which are production intermediates,
Because the reaction with the alcoholic hydroxyl group, that is, the reaction with the compound [■], and the subsequent oxidation reaction with iodine water, etc. proceed quickly, the target compound [■]
] can be obtained in a short time. However, in the above method, the compounds [open and [X], and the separated compound [IXI
Since f is unstable to oxygen or water, care must be taken to prevent it from decomposing during storage or during reactions (2) and (3). The compound CIXI is generally difficult to isolate from the production system due to its instability, and the compound [
X] is known to be unstable to such an extent that the PN bond is easily cleaved even in the presence of a weak acid.

本発明者らは、上述のごとき従来技術の状況にかんがみ
、安定な製造中間体を用いてかつすみやかにオリコ0デ
オキシヌクレオチドを与える方法を開発することを目的
として鋭意研究を重ねた結果、反応(4)に示す方法が
この目的を有利に達成することを見い出して本発明を完
成した。
In view of the state of the prior art as described above, the present inventors have conducted extensive research with the aim of developing a method for quickly providing orico-0 deoxynucleotides using stable production intermediates, and as a result, the reaction ( The present invention was completed by discovering that the method shown in 4) advantageously achieves this object.

したがって本発明は、上述したようなオリゴデオ中ジヌ
クレオチドyJ造のための方法の利点、すなわち安定で
堰扱いが容易な躯造中間体を用いかつす入やかな反応に
よるオリゴデオギシヌクレオチドの製造法に関するもの
であシ、具体的には、一般弐B)で示されるトリプルキ
ルスタンニルアゾール化合物および一般式〔■〕で示さ
れる塩基の存在下で、一般式(III)で示されるデオ
キシヌクレオチドホスホルスルフイド化合物と一般式C
IVIで示されるデオギシヌクレオチド化合物とを反応
させた後、酸化反応を行なわせることを特徴とする一般
式〔V〕で示されるオリがデオギシヌクレオチドの製造
法を提供するものである。
Therefore, the present invention utilizes the advantages of the method for constructing dinucleotide yJ in oligodeoxynucleotides as described above, namely, a method for producing oligodeoxynucleotides using a stable and easy-to-handle construction intermediate and through a quick reaction. Specifically, in the presence of a triple kylstannylazole compound represented by general 2B) and a base represented by general formula [■], a deoxynucleotide phosphor represented by general formula (III) is prepared. Rusulfide compounds and general formula C
The present invention provides a method for producing deogysylnucleotides represented by general formula [V], which comprises reacting with a deogysylnucleotide compound represented by IVI and then carrying out an oxidation reaction.

R’ S nX        CI 〕(式中 R+
  はアルキル基をあられし:Xはアゾリル基をあられ
す0) R2NR’         (■〕 (式中、Rは水素原子、アルキル基またはアリール基を
あられし:R3はアルキル基をあられすか、または2個
のR3が隣接する窒素原子とともにヘテロ原子として1
ないし2個の窒素原子、酸素原子またはイオウ原子を含
有してもよい複素環基をあられすかあるいはR2と2個
のR3が隣接する窒素原子とともにヘテロ原子として1
ないし2個の窒素原子、酸素原子またはイオウ原子を含
有してもよい複素環基をあられす。) (式中、R4およびR5Fi保護基をあられし:R6は
アリール基をあられし:81  およびB2  は同一
でも異なってもよくかつそれぞれ保護基を有することも
ある塩基残基なあられし;nl  は0または正の整数
をあられすが、ただしnl  が2以上の場合にはB2
  は同一の塩基残基に限定されない。)(式中、Rは
前記と同じ意味をあられし:R7は高分子担体を含有し
ていてもよい保護基をあられし;B およびB は同一
でも異なってもよくかつそれぞれ保護基を有することも
ある塩基残基なあられし:n はOまたは正の整数をあ
られすが、ただしn が2以上の場合にはB は同一の
塩基残基に限定されない。) (式中、B4. B5. R7,al、 B2. B3
. B4. nl  およびR2は前記と同じ意味をあ
られす。)、I−′ したがって、本発明に従う反厄は反応式(4)で表わす
ことができる。
R' S nX CI ] (in the formula R+
represents an alkyl group; R3 is 1 as a heteroatom together with the adjacent nitrogen atom
or a heterocyclic group which may contain two nitrogen atoms, oxygen atoms or sulfur atoms, or R2 and two R3 together with the adjacent nitrogen atoms are 1 as a heteroatom.
It refers to a heterocyclic group which may contain one to two nitrogen atoms, oxygen atoms or sulfur atoms. ) (In the formula, R4 and R5Fi represent protective groups: R6 represents an aryl group; 81 and B2 may be the same or different, and each represents a basic residue that may have a protective group; nl is 0 or a positive integer, but if nl is 2 or more, B2
are not limited to the same base residue. ) (In the formula, R has the same meaning as above: R7 represents a protecting group which may contain a polymeric carrier; B and B may be the same or different and each has a protecting group. (In the formula, B4. B5. R7, al, B2. B3
.. B4. nl and R2 have the same meanings as above. ), I-' Therefore, the reaction according to the present invention can be expressed by reaction formula (4).

〔■1〕QV) (V) 一般式CI〕で示されるトリアルキルスタンニルアゾー
ル化合物について説明すると、その有機基R1はアルキ
ル基であればよく、具体的にはメチル基、エチル基、n
−グロビル基、n−ブチル基等の第一級アルΦル基、i
−プロピル基、S−ブチル基等の第二級アルキル基、t
−ブチル基等の第三級アルキル基等を挙げることができ
る。これらのアルキル基のうちで化合物CI)のRとし
てどれを用いるかについてはfヒ合物〔!〕の製造の容
易さおよびその安定性等を考慮して決めればよ(、特に
限定されないが、それが容易で良好な安定性を与えるエ
チル基、n−グロビル基およびn−エチル基が好んで用
いられる。またアゾリル基Xとしては、イミダゾリル基
、3−二)ロイミダゾリクロロヘンソ) IJ 7 /
 IJル基、5−ニトロベンゾトリアゾリル基、テトラ
ゾリル基等を挙げることができる。これらのアゾリル基
のうちで化合物CI)のXとしてどれを用いるかについ
ては限定的ではないが、一般には化合物CI)の製造の
容易さおよび反応(4)を良好に進行させる程度によっ
て決められ、それが容易でかつ良好な進行性を与えるイ
ミダゾリル基、1,2.3−トリアゾリル基。
[■1] QV) (V) To explain the trialkylstannylazole compound represented by the general formula CI], the organic group R1 may be an alkyl group, specifically a methyl group, an ethyl group, n
- Primary alkyl group such as globyl group, n-butyl group, i
- Secondary alkyl group such as propyl group, S-butyl group, t
Examples include tertiary alkyl groups such as -butyl group. Regarding which of these alkyl groups is used as R in the compound CI), the compound [! ] may be determined by taking into account the ease of production and its stability (although there are no particular limitations, ethyl, n-globyl, and n-ethyl groups are preferred because they are easy to produce and provide good stability). In addition, as the azolyl group X, imidazolyl group, 3-2) loimidazolychlorohenso)
Examples include an IJ group, a 5-nitrobenzotriazolyl group, and a tetrazolyl group. Which of these azolyl groups is used as X in compound CI) is not limited, but is generally determined by the ease of production of compound CI) and the degree to which reaction (4) can proceed well. Imidazolyl group, 1,2,3-triazolyl group, which provides easy processability and good processability.

1.2.4〜トリアゾリル基、ベンゾトリアグリル基お
よびテトラゾリル基等が好んで用いられる。
1.2.4 - triazolyl group, benzotriaglyl group, tetrazolyl group, etc. are preferably used.

化合物CIIは本発明者らがすでに示した方法、すなわ
ち反応(5)により容易に製造することができる(特願
昭60−16511t58号明細書参照)。
Compound CII can be easily produced by the method already shown by the present inventors, ie, reaction (5) (see the specification of Japanese Patent Application No. 16511/1988).

(式中、B およびXは前記と同じ意味をあられす。) 本発明方法の反応(4)に用いられる一般式〔■〕で示
される塩基rこついて説明すると、化合物[ff〕はそ
のRが水素原子、アルギル基(たとえばメチル基、エチ
ル基、n−7”ロピルM、i−fロピル基、n−ブチル
基等)またはアリール基(たとえばフェニル基、4−メ
チルフェニル基等)であるときに、Rはアルキル基(た
とえばメチル基。
(In the formula, B and is a hydrogen atom, an argyl group (e.g., methyl group, ethyl group, n-7"ropyl M, if-ropyl group, n-butyl group, etc.) or an aryl group (e.g., phenyl group, 4-methylphenyl group, etc.) Sometimes R is an alkyl group (eg, a methyl group).

エチルg、n−fロピルfi、l−7’ロビル基、n−
ブチル基等)であるかあるいは2個のRが隣接する窒素
原子と一体となって1ないし2個の窒素原子、酸素原子
またはイオウ原子を含有してもよい複累環基(たとえば
ピはリジノ基、2・6−ゾメテ・ルビベリジノ基、ピロ
リル基9モルホリノ基、チオモルホリノ基、イミダゾリ
ル基、2−メチルイミダゾリル基、ベンズイミダゾリル
基。
Ethyl g, n-f lopyl fi, l-7' lovyl group, n-
butyl group, etc.) or a multicyclic group which may contain 1 or 2 nitrogen atoms, oxygen atoms, or sulfur atoms when two R's together with the adjacent nitrogen atoms (for example, pi group, 2,6-zomete rubiberidino group, pyrrolyl group, 9morpholino group, thiomorpholino group, imidazolyl group, 2-methylimidazolyl group, benzimidazolyl group.

1.2.4−トリアゾリル基、3−メチル−I。1.2.4-Triazolyl group, 3-methyl-I.

2 、4− ドリアグリル基等) 、に形成するような
ものを挙げることができ、またさらに化合物CUEとし
てはRと2個のRとが隣接する窒素原子と一体となって
ヘテロ原子として1ないし2個の窒素原子、酸素原子ま
たイオウ原子を含有してもよい複素環(たとえばピリシ
ン、2.6−シメチルピリジン、4−ジメチルアミノ−
ピリジン、オキサゾール、チアゾール、ピリミジン、ピ
ラノン、キノリン、8−トリアジン等)化合物を挙げる
こともできる。これら化合物〔■〕の中から、反応(4
)のためにどれを用いるかについては限定的ではないが
、そのpKaが5〜12の範囲のものが好んで用いられ
る。
2, 4-dolyaglyl group, etc.), and furthermore, as a compound CUE, R and two R's are combined with adjacent nitrogen atoms to form one or more heteroatoms. Heterocycles which may contain two nitrogen, oxygen or sulfur atoms (e.g. pyridine, 2,6-dimethylpyridine, 4-dimethylamino-
Pyridine, oxazole, thiazole, pyrimidine, pyranone, quinoline, 8-triazine, etc.) compounds may also be mentioned. From these compounds [■], reaction (4
) There is no limitation as to which one to use, but those having a pKa in the range of 5 to 12 are preferably used.

つき°に一般式[111〕で示されるデオキシヌクレオ
チドホスホルスルフィド化合物について説明すると、そ
の保護基R4は基本的Vこはすべてのヒドロヤシ保護基
が可能である。具体的Ilこはオリゴデオキシヌクレオ
チドf?:製造する際にその有用性が認められたヒドロ
キシ保飽基、たとえばトリフェニルメチル基、4−ノド
キシトリフェニルメチル基。
To explain the deoxynucleotide phosphorus sulfide compound represented by the general formula [111], the protecting group R4 can be a basic V or any hydrocarbon protecting group. Is this specifically an oligodeoxynucleotide? :Hydroxy-retaining groups whose usefulness in production has been recognized, such as triphenylmethyl group and 4-nodoxytriphenylmethyl group.

4.4′−ゾメトΦシトリフェニルメチルJIFのトリ
アリールメチル基、ピ午シル基(すなわち9−フェニル
キサンチン−9−イル基)、アルコキシカルメニル基、
アリールオキシカルボニル基、アリールチオアルキルオ
キシカルはニル基、さらにt−ブチルジメチルシリル基
のようなトリアルキルシリル基等を挙げることができる
。これらのヒドロヤシ保護基の中から化合物〔1■〕の
丁ζ4 としてどれを選ぶかについては限定的ではない
が、トリアリールメチル基はそれらの導入と脱保護が容
易である点で好ましく使用し得るものである。
4.4'-ZometoΦcitriphenylmethyl JIF triarylmethyl group, pinoyl group (i.e. 9-phenylxanthine-9-yl group), alkoxycarmenyl group,
Examples of the aryloxycarbonyl group and arylthioalkyloxycal include a nyl group and a trialkylsilyl group such as t-butyldimethylsilyl group. There is no restriction as to which one to select as the ζ4 of compound [1■] from among these hydropal protective groups, but triarylmethyl groups can be preferably used since their introduction and deprotection are easy. It is something.

また化合物On〕の有機基Rとしては、基本的にはすべ
てのリン酸塩保護基が可能である。具体的にはオリがヌ
クレオチドを製造するために開発された保護基、たとえ
ば炭素数が5までの低級アル中ル基、シアノアル中ル基
、ハロアルキル基。
Furthermore, as the organic group R in the compound On], basically all phosphate protecting groups are possible. Specifically, protecting groups developed for the production of nucleotides, such as lower alkyl groups having up to 5 carbon atoms, cyano alkyl groups, and haloalkyl groups.

アリールスルホニルアルキル基、アリル基、アリール基
およびハロアリール基等を挙げることができる。−これ
らのうちで化合物[III]のRとしてどれを選ぶかに
ついては限定的ではないが、オリデヌクレオチド製造の
ためのリン酸塩保護基とし【その有用性が確認されてい
るメチル基、β−シアンエチル基、アリル基およヒ2−
クロロフェニル基が好んで用いられる。
Examples include an arylsulfonylalkyl group, an allyl group, an aryl group, and a haloaryl group. - Among these, there is no restriction as to which one to select as R in compound [III], but the phosphate protecting group for producing oridenucleotides [methyl group whose usefulness has been confirmed], β -Cyanethyl group, allyl group and 2-
A chlorophenyl group is preferably used.

つぎに化合物CI[I]の有機基Rについて説明すると
、それはアリール基であればよく、具体的にはフェニル
基、2−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、2
.4−ツメチルフェニル基。
Next, to explain the organic group R of compound CI[I], it can be any aryl group, specifically phenyl group, 2-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 2-methylphenyl group,
.. 4-tmethylphenyl group.

2.6−シメチルフエニル基、2.4.6−)リメテル
フェニル基、2−10ロフェニル基、4−二トロフェニ
ル!、3.4−ゾクロロフェニル基。
2.6-dimethylphenyl group, 2.4.6-)rimeterphenyl group, 2-10lophenyl group, 4-nitrophenyl! , 3.4-zochlorophenyl group.

α−ナフチル基等を挙げることができる。これらのアリ
ール基のうちで86  としてどれを選ぶかについては
化合物(IV)における保護基Rの種類等によυ異なる
ので限定することはできないが、化合物Cll0の製造
の容易さおよび安定性等を考慮すると、一般にそれが容
易でかつ良好な安定性を与える2−メチルフェニル基、
2.6−ジメチルフェニル基等の2−位に置換基をもつ
アリール基が好んで用いられる。
Examples include α-naphthyl group. The choice of which aryl group to use as 86 from among these aryl groups depends on the type of protecting group R in compound (IV), so it cannot be limited; Considering the 2-methylphenyl group, which generally gives ease and good stability,
An aryl group having a substituent at the 2-position such as 2.6-dimethylphenyl group is preferably used.

つぎに化合物([3における塩基残基、B およびB2
  について説明すると、代表的なものとしては一般式
CXIIで示される3位に保護基を有することもあるチ
ミン残基、一般式[XI[]で示される4位のアミノ基
に保護基を有することもあるシトシン残基、一般式〔訓
〕  で示される6位のアミノ基に保護基を有すること
もあるアデニン残基、一般式CXIVI  で示される
l 、2.6位のアミド基、アミノ基およびケト基に保
護基を有することもあるグアニン残基等を挙げることが
できる。
Next, the compound (base residues in [3, B and B2
To explain, representative examples include a thymine residue, which may have a protecting group at the 3-position, as shown by the general formula CXII, and a thymine residue, which may have a protecting group at the 4-position, as shown in the general formula [XI[ ]. There are also cytosine residues, adenine residues that may have a protecting group on the amino group at the 6-position represented by the general formula CXIVI, amide groups at the 2.6-position, amino groups, and Examples include guanine residues that may have a protecting group on the keto group.

〔M〕            〔■〕これら塩基の保
護基としては、オリゴヌクレオチド製造に際してその有
用性が認められたドリアリールメチル基、トリアルキル
シリルアルキル基。
[M] [■] As protective groups for these bases, doarylmethyl groups and trialkylsilylalkyl groups are recognized as useful in the production of oligonucleotides.

アリールチオアルキル基、フタロイル基、アリールオキ
シカルボニル基、アルコキシカルビニル基。
Arylthioalkyl group, phthaloyl group, aryloxycarbonyl group, alkoxycarvinyl group.

ジアリールカルバモイル基、アリールカル?ニル基、ア
ルキルカルボニル基、アリル基等を挙ケルことができる
(一般式C,’G)〜〔XIV〕  で示される塩基残
基にどの保u基を用いるかVこついては、すでに多(の
和文やa説に示されている。たとえば、畑辻明ら・有機
合成化学協会誌、  42.429(+984)を参照
されたい)。
Diarylcarbamoyl group, arylcar? Nyl group, alkylcarbonyl group, allyl group, etc. can be mentioned (general formulas C, 'G) ~ [XIV] The question of which group to use for the base residue has already been discussed. (For example, see Akira Hatatsuji et al., Journal of the Society of Organic Synthetic Chemistry, 42.429 (+984)).

つぎに化合物(III)のn について説明すると、そ
れは0または正の整数が可能である。オリゴデオキシヌ
クレオチドの製造中間体として化合物〔■〕のn を実
際にどの数にするかということについては限定すること
ができないが、化合物〔■〕の製造の容易さから判断す
ると、それが容易な0あるい1ltlの場合が一般的で
あ)、好んで用いられる。
Next, explaining n in compound (III), it can be 0 or a positive integer. Although it is not possible to limit the actual number of n in compound [■] as an intermediate for the production of oligodeoxynucleotides, judging from the ease of production of compound [■], The case of 0 or 1ltl is common) and is preferably used.

一般式〔■〕で示されるホスホルスルフィド化合物は、
反応式(6)に示すように、一般式(XVI  で示さ
れるチオ午ジヌクレオチドと一般式〔■〕 で示すしる
1、2.4−トリアゾリルホスフィン化合物との反応に
よシ製造することができる(製造性の詳細については本
出願人自身の出Mに係る特題昭60−245326号お
よび昭和61年7月23日付出願の特願昭61−   
 号明細書を参照されたい。)。
The phosphorus sulfide compound represented by the general formula [■] is
As shown in reaction formula (6), it is produced by the reaction of a thiodinucleotide represented by the general formula (XVI) and a 1,2,4-triazolylphosphine compound represented by the general formula [■]. (For details on manufacturability, see Special Title No. 1988-245326, filed by the applicant himself, and Japanese Patent Application No. 1983-245, filed on July 23, 1988.
Please refer to the specification. ).

一一+−」nl 〔W〕       〔溜〕 5/P\ 6 10      SR HI (式中、R’+ R5,R6,B” 、 B2  およ
びnl  は前記と同じ意味をあられす0 ) つぎに一般式(IVIで示されるデオキシヌクレオチド
fヒ合物について説明すると、その有機基R5は上述し
たようなリン酸塩保護基であり、また塩基残基B3  
およびB4  は一般式c加〜c定〕  に示した構造
をもち、上述したような保護基を有することもある塩基
残基である。また化合物〔■〕の有機基Rは基本的には
オリゴデオキシヌクレオチドを製造するため((開発さ
れた3′−ヒドロキシ保護基が可能である。具体的には
アセデル基、ベンゾイル基、レグリニル基、t−ブチル
ツメチルシリル基あるいは一般式〔届〕  で示される
構造をもつ有機基等が挙げられる。
11+-"nl [W] [Tame] 5/P\6 10 SR HI (In the formula, R'+ R5, R6, B", B2 and nl have the same meanings as above.0) Next, general To explain the deoxynucleotide f compound represented by formula (IVI), its organic group R5 is a phosphate protecting group as described above, and the base residue B3
and B4 are basic residues having the structure shown in the general formulas c to c and which may have a protecting group as described above. In addition, the organic group R of the compound [■] is basically used for producing oligodeoxynucleotides ((the developed 3'-hydroxy protecting group is possible. Specifically, an acedel group, a benzoyl group, a regulinyl group, Examples include a t-butyltmethylsilyl group or an organic group having a structure represented by the general formula.

[F]−yl−NHCO−Yl−CO−[XIU(式中
、[F]は高分子担体をあられすし:Y1  およびY
l  は隣接する高分7担体、アミド基およびカルボニ
ル基と共有結合をすることができる有機基tあられす。
[F]-yl-NHCO-Yl-CO-[XIU (wherein [F] represents a polymer carrier: Y1 and Y
1 is an organic group t that can form a covalent bond with the adjacent polymer 7 carrier, amide group, and carbonyl group.

) 1回分子担佑としてはシリカデル。ポリスチレン等が挙
げられる。またYl  とYl  は限定的ではないが
、p’−i数が1〜10までのアルキレン基がしばしば
用いられる。上述の保護基のうちで化合物(IVIのR
としてどれを選ぶかは反応(4)の反応形態によって決
められる。すなわち化合物〔■〕と〔■〕を反応溶媒に
溶解し、いわゆる液相均一反応を行わせてオリゴデオキ
シヌクレオチドを製造する場合には、アセチル基、ベン
ゾイル基、t−ブチルツメチルシリル基等が用いられる
。また化合物〔1■〕と([V)を固相不均一系で反応
さギーてオリゴ体を製造する場合には、有機基〔A1〕
  が用いられる。
) Silicadel is used as a single molecular carrier. Examples include polystyrene. Although Yl and Yl are not limited, alkylene groups having a p'-i number of 1 to 10 are often used. Among the above-mentioned protecting groups, compounds (R of IVI
Which one to choose as the reaction is determined by the reaction form of reaction (4). That is, when producing oligodeoxynucleotides by dissolving compounds [■] and [■] in a reaction solvent and performing a so-called liquid phase homogeneous reaction, acetyl groups, benzoyl groups, t-butyltmethylsilyl groups, etc. used. In addition, when producing an oligo compound by reacting compound [1■] and ([V) in a solid phase heterogeneous system, organic group [A1]
is used.

化合物[IV:lのn  Fi製造しようとするオリゴ
デオキシヌクレオチドの長さにより決まるが一般に上述
した液相法によりオリゴ体を製造する場合は、B2  
はO〜30の範囲が、また固相法によりそれを製造する
際には、O〜200の範囲が一般的である。
The n Fi of compound [IV:l] is determined by the length of the oligodeoxynucleotide to be produced, but generally when producing an oligo by the liquid phase method described above, B2
It is generally in the range of 0 to 30, and in the case of producing it by a solid phase method, the range is generally in the range of 0 to 200.

本発明にしたがう反応(4)は、通常は化合物CI]お
よび化合物1[]の存在下で化合物〔■〕と(IVIと
のカッグIJノグ反広を行わせ、次いでそのカップリン
グ生成物のリン原子を酸化する反応からなる0まず化合
物([113と〔■〕とのカップリング反応について説
明すると、当該反応は有機溶媒中で円滑に進行−、かか
る溶媒としては塩化メチレン、クロロホルム、1.1−
ゾクロロエタン、1.2−ジクロロエタン、テトラヒド
ロフラン、p−ゾオギサン、ベンゼン、トルエン等を挙
げることができる。これらの溶媒は、使用に際して適当
な乾燥剤で乾燥後、蒸留等により精製したものを用いた
方がよい。反応は通常は室温で行わせるが、0°〜35
゜Cの範囲で行ってもよい。また化合物CI)〜化合物
(IVIの各モル比は、化合物CIVIの1当量に対し
て化合物CIIを1〜100倍当量、化合物〔■〕を1
〜200倍当量、化合物CLIIIを1〜40倍当量用
いるのが一般的である。当該反応は概して1時間以内で
終結するが、化合物[IVIの保護基Rが7−にチル基
、ベンゾイル基、レグリニル基あるいはt−ブチルツメ
チルシリル基等の場合、すなわち上述したように液相反
応である場合には、その終結な薄層クロマトグラフィー
(TI、C’)  やI−I NMR等によシ確認する
ことができるので、それt確認してから酸化反応を行う
のがよい。また化合物CIV)のRが一般式〔淘〕  
で示される有機基である場合、つまり上述したように固
相反応系である場合には、TLCJPHNMR等により
反応の終結を知ることができないので、通常は上記カン
プリング反応を一定時間行わせた後に酸化反応を行い、
生成したオリコ9デオキシヌクレオチド化合物(VIE
の保護基Rを脱保護し、その生成量から反応終結時間が
決められる。この際R4がジメトキシトリチル基あるい
はモノメトキシトリチル基等のトリアリールメチル誘導
体の場合は、酸による脱保護の際に生ずるトリチルカチ
オンの吸光度(いわゆるトリチルカチオンテストであり
、ジメトキシトリチルカチオンは4 ’? g nm、
モノメトキシトリチルカチオンは475 nmにおける
もの)を測定することにより、容易にそれを決めること
ができる。
Reaction (4) according to the present invention is usually carried out by carrying out Kag IJ Nog reaction with compound [■] and (IVI) in the presence of compound [CI] and compound 1 [], and then phosphorusing the coupling product. First, to explain the coupling reaction between the compound [113 and [■], which consists of a reaction that oxidizes an atom, the reaction proceeds smoothly in an organic solvent. Such solvents include methylene chloride, chloroform, 1.1 −
Examples include zochloroethane, 1,2-dichloroethane, tetrahydrofuran, p-zoogisane, benzene, and toluene. It is preferable to use these solvents after drying them with a suitable desiccant and then purifying them by distillation or the like. The reaction is usually carried out at room temperature, but between 0° and 35°C.
It may be carried out within the range of °C. The molar ratio of Compound CI) to Compound (IVI) is 1 to 100 times equivalent of Compound CII and 1 equivalent of Compound [■] to 1 equivalent of Compound CIVI.
It is common to use 1 to 40 times equivalent of compound CLIII. The reaction is generally completed within one hour, but when the protecting group R of the compound [IVI is a thyl group, benzoyl group, regulinyl group, or t-butyltmethylsilyl group at 7-, that is, as described above, the reaction is completed in a liquid phase. If it is a reaction, the final reaction can be confirmed by thin layer chromatography (TI, C'), II NMR, etc., and it is best to carry out the oxidation reaction after confirming this. In addition, R in compound CIV) has the general formula [Tao]
In the case of an organic group shown by perform an oxidation reaction,
The generated orico-9 deoxynucleotide compound (VIE
The protective group R of is deprotected, and the reaction termination time is determined from the amount produced. In this case, if R4 is a triarylmethyl derivative such as a dimethoxytrityl group or a monomethoxytrityl group, the absorbance of the trityl cation generated during deprotection with an acid (this is the so-called trityl cation test, and the dimethoxytrityl cation is 4'? g nm,
It can be easily determined by measuring the monomethoxytrityl cation (at 475 nm).

つぎに本発明にしたがう反応(4)における酸化反応に
ついて説明すると、当該反応はヨウ素−水系。
Next, the oxidation reaction in reaction (4) according to the present invention will be explained. The reaction is an iodine-water system.

m−クロロ過安息香酸、ヨードベンゼンノア℃テートあ
るいは酸化窒素等を用いて行うことができる。これらの
試薬のうちで、反応(4)の酸化反応のために、どれを
用いるかについては限定的ではないが、ヨウ素−水系は
その入手が容易でかつ安価であることから好ましく用い
られる。この場合の酸化反応は一78°〜35°Cの範
囲で、化合物〔Iv〕に対して1〜200倍用い、1〜
5分間反応させるのがよい。
This can be carried out using m-chloroperbenzoic acid, iodobenzene no tate, nitrogen oxide, or the like. Among these reagents, there is no limitation as to which one to use for the oxidation reaction of reaction (4), but iodine-water is preferably used because it is easily available and inexpensive. In this case, the oxidation reaction is carried out in the range of -78°C to 35°C, using 1 to 200 times the amount of compound [Iv], and
It is recommended to react for 5 minutes.

このように反応(4)により製造したオリゴデオキシヌ
クレオチド化合物CVIよりもさらに長鎖のオリゴ体を
製造したい場合には、化合物〔V〕の保j基Rを既知の
方法により選択的に脱離させ(R4がジメトキシトリチ
ル基やモノメトキシトリチル基のようなトリアリールメ
チル透導体の場合には、ベンゼンスルホン處、ゾクロロ
16fi、l)クロロ酢酸のようなプロトン酸や臭化亜
鉛のようなルイス酸がしばしば用いられる)、化合物0
GI)  としたのち、これを化合物CIVIの代りに
用、いて反応(4)を行えばよい。
If it is desired to produce an oligo having a longer chain than the oligodeoxynucleotide compound CVI produced by reaction (4), the retaining group R of compound [V] can be selectively removed by a known method. (If R4 is a triarylmethyl transparent conductor such as a dimethoxytrityl group or a monomethoxytrityl group, benzenesulfone, zochloro16fi, l) A protonic acid such as chloroacetic acid or a Lewis acid such as zinc bromide may be used. often used), compound 0
GI) and then use this instead of compound CIVI to carry out reaction (4).

この場合、上述した液相法では、化合物〔氷l〕をシリ
カグルクロマトグラフィー等により単離、精製した後、
これと化合物(111〕とを反応させるのが一般的であ
る。
In this case, in the liquid phase method described above, after the compound [ice 1] is isolated and purified by silica gluchromatography,
This is generally reacted with compound (111).

一万、固相法の場合には、化合物〔肩〕  を単離、精
製することができないので、通常は化合物CV)の保設
基Rを脱離させて化合物〔罵〕  とする前に、反応(
4)で未反応となった化合物CIV)の5’−011基
を適当な方法でいわのるキャッピング(capping
)してから、保護基R4を脱離させた後、化合物(m]
と反応させる方法がとられる。
However, in the case of the solid phase method, it is not possible to isolate and purify the compound, so before removing the retaining group R of the compound CV) to form the compound, reaction(
The 5'-011 group of compound CIV) which became unreacted in 4) was capped using an appropriate method.
) and then, after removing the protecting group R4, the compound (m]
A method is used to react with

(式中% R5,R’* B’+ B2+ B3+ B
’* nl  およびR2は前記と同じ意味をあられす
。) 上記の命ヤンピノグ反応は、基本的には化合物(fV]
の5−〇H基と安定な化学結合を形成するような反応で
あればよくたとえば、無水酢酸−塩基(ヒリソンおるい
は2,6−ノメテルビリゾンと4−ジメチルアミノピリ
ノンの組み合せがしばしば用いられる)系によるエステ
ル化反応がしばしば用いられる。
(In the formula % R5, R'* B'+ B2+ B3+ B
'*nl and R2 have the same meanings as above. ) The above-mentioned life-yampinog reaction is basically a compound (fV)
Any reaction that forms a stable chemical bond with the 5-〇H group of ) system is often used.

なお本明細書において用いられる略号の意味はつぎのと
おシである。
The meanings of the abbreviations used in this specification are as follows.

Bt:zチル基、  n−Pr:  n−グロビル基。Bt: z-thyl group, n-Pr: n-globyl group.

n−Bu:n−ブチル基、Bz:  ベンゾイル基。n-Bu: n-butyl group, Bz: benzoyl group.

TBDMS : t−プチルゾメチルシリル基、  D
M’rr: 4.4’−ジメトキシトリチル基1MMT
r:4−モノメトキシトリチル基、 T;チミン残基。
TBDMS: t-butylzomethylsilyl group, D
M'rr: 4.4'-dimethoxytrityl group 1MMT
r: 4-monomethoxytrityl group, T: thymine residue.

1)Z、4 C,N−ベンゾイルシトシンfi基、  A”:N6−
ペン!イルアデニン残基、Glb:N2−イソブチリル
グアニン残基。
1) Z, 4 C,N-benzoylcytosine fi group, A”: N6-
pen! Yladenine residue, Glb: N2-isobutyrylguanine residue.

実施例 以下実施例によって、本発明を具体的に説明するが、本
発明は実施例に限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be specifically explained with reference to Examples, but the present invention is not limited to the Examples.

実施例1 [111〕[IVI 3′−〇−ペンゾイルチミゾン(IVI (1,731
5ミリモル)に、5’−0−ノメトキシトリチルチミシ
ンー3’−0−(2−クロロフェニルオキシ−2−メチ
ルフェニルチオ)ホスフィン[:lII] (s、7g
17ミIJモル)、iJエチルスタノニル−1゜2.4
−1−リアゾールCII(4,1+g、  15ミリモ
ル)および1,2−ノクロロエタン(50ml)をこの
順序で加えた。その後直ちにピリ゛シン(4,0d、 
 50 ミ!7モル)を加えた。室Bで5分間攪拌した
後、ヨウ素(6,359,25ミリモル)をテトラヒド
ロフラン(l OOd)、  ピリジン(5,5mg)
および水(5,5d )に溶解した溶液を加えた。室温
で1分間攪拌し、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液(50−X3)で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。f1過後、r液を減圧下に濃縮し、残
渣をシリカグルカラムクロマトグラフィーに通し、クロ
ロホルム−メタノール(10:I)により溶出した。溶
出液を濃縮乾固し、生成したあわ状固体を減圧下乾燥し
、4.84 g(収率91饅)のP−2−クロロフェニ
ル−5′−〇−ゾメトキシトリチルチミシルー(3′→
5’)−3’−0−ペンジイルチミジン[V)を得た。
Example 1 [111][IVI 3'-〇-penzoylthymizone (IVI (1,731
5 mmol), 5'-0-nomethoxytritylthymisin-3'-0-(2-chlorophenyloxy-2-methylphenylthio)phosphine [:lII] (s, 7 g
17 mmol), iJ ethylstannonyl-1°2.4
-1-Riazole CII (4,1+g, 15 mmol) and 1,2-nochloroethane (50 ml) were added in this order. Immediately afterwards, pyricin (4,0d,
50 mi! 7 mol) was added. After stirring for 5 minutes in chamber B, iodine (6,359,25 mmol) was added to tetrahydrofuran (lOOd), pyridine (5,5 mg)
and a solution in water (5,5d) was added. After stirring at room temperature for 1 minute, the reaction solution was washed with a saturated aqueous sodium bicarbonate solution (50-X3), and the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. After f1 filtration, the r liquid was concentrated under reduced pressure, and the residue was passed through silica gel column chromatography and eluted with chloroform-methanol (10:I). The eluate was concentrated to dryness, and the foamy solid produced was dried under reduced pressure to obtain 4.84 g (yield: 91 pieces) of P-2-chlorophenyl-5'-〇-zomethoxytritylthymicyl (3'→
5')-3'-0-pendiylthymidine [V) was obtained.

Rf(CHC/3 : MeOH= 10 : I )
 = 0−57I’HNMR(CDC/3. TMS)
 :δ1.40 (a+3n+s−c!!、)*1、g
2  (S、3H,5−CR2)、  2.10 − 
2.90  (m、4H,2X2つ。
Rf (CHC/3:MeOH=10:I)
= 0-57I'HNMR (CDC/3.TMS)
: δ1.40 (a+3n+s-c!!,)*1, g
2 (S, 3H, 5-CR2), 2.10 −
2.90 (m, 4H, 2X2.

3.10−3.65 (m、2H,5’)、3.66 
(!l−6H,2XCシo−)。
3.10-3.65 (m, 2H, 5'), 3.66
(!l-6H, 2XC sio-).

4.05−4−70 (m、4H,2X4’および5’
 )、 5.20−5.60  (m、2H,2X3’
 )、  6.38  (t、2H,J=7.OHz、
2X1つ。
4.05-4-70 (m, 4H, 2X4' and 5'
), 5.20-5.60 (m, 2H, 2X3'
), 6.38 (t, 2H, J=7.OHz,
2X one.

6.60−6.90 (m、4H,ph)、 6.90
−8.OO(m、20H。
6.60-6.90 (m, 4H, ph), 6.90
-8. OO(m, 20H.

2×6およびph)および9J8 (s12H,NFI
) ppm 。
2×6 and ph) and 9J8 (s12H, NFI
)ppm.

第1表−人に記載したデオキシヌクレオチドホスホルス
ルフィド化合物([I[:1.)リアルキルスタンニル
アゾール(I)、m基〔■〕およびデオキシヌクレオチ
ド化合物CrV]を用い、実施例1と同様の操作を行い
、第1表−BK記載したジデオキシヌクレオチドまたは
トリデオキシヌクレオチドを得た。
Table 1 - Same as Example 1 using deoxynucleotide phosphorus sulfide compound ([I[:1.) realkylstannylazole (I), m group [■] and deoxynucleotide compound CrV] described in Table 1 The dideoxynucleotides or trideoxynucleotides listed in Table 1-BK were obtained.

実施例6 ([〕[IV] (V) ポリスチレン([F])に担持された5′−〇−ジメト
キシトリチルチミゾン(担持量120マイクロモル/g
、市販品)に1.2−ジクロロエタン中5俤トリクロロ
酢酸を反応させて得たチミジンポリスチレン樹脂(IV
I (l OBi、  1.2マイクロモル)にト樋エ
チルスメンニルイミダゾール(fl (l 。
Example 6 ([][IV] (V) 5'-〇-dimethoxytritylthymizone supported on polystyrene ([F]) (supported amount 120 micromol/g
Thymidine polystyrene resin (IV
Tohi ethylsmennylimidazole (fl (l)) was added to I (l OBi, 1.2 micromol).

″i’IP、36マイクロモル)とジイソプロビルアミ
ン〔■](3,64q、36マイクロモル)の1,2−
ジクロロエタン(0,2−)溶液を加え、直ちに5′−
〇−ジメトキシトリチルチミゾンー3’−0−(2−ク
ロロフェニルオキクー2−メチルフェニルチオ)ホスフ
ィンCl111(20F、24マイクロモル)の1,2
−ジクロロエタン(0,15tnt)溶液を添加した。
"i'IP, 36 micromol) and the 1,2-
Add dichloroethane (0,2-) solution and immediately add 5'-
〇-dimethoxytritylthymizone-3'-0-(2-chlorophenyloxicu-2-methylphenylthio)phosphine Cl111 (20F, 24 micromol) 1,2
-dichloroethane (0.15 tnt) solution was added.

室温で4分振盪反厄させた後、1,2−ジクロロエタ/
と過剰のfヒ合物[I]、  CII)および[III
]をG−4グラスフイルターを通してr別し、残留した
ポリスチレン樹脂をメタノール(3−)とピリジ/(3
d )で洗浄した。その後テトラヒドロフラン/ピリシ
ン/水(o、a s −/ 0.025−70.025
 * )混合物中のヨウ素(30i1F、+20マイク
ロモル)を加え、室温で2分間振盪反応させた。過剰の
ヨウ素を含むテトラヒドロフラン/ピリシン/水混合液
はG−4グラスフイルターを通して1別され、残留した
ポリスチレン樹、指をピリシン(5dX2)および1,
2−ジクロロエタン(5d)で洗浄した。その樹脂の一
部のトリチルカチオンテス) (4’? g nmにお
ける吸光度測定、このテスト方法の詳細は、たとえばH
,G、Gagsen  ら、” Chemical a
nd EnzymaticSynthesis of 
Gene Fragmenta ”、 Verlag 
Chemie(Weinheim)+ 1982 年と
その引用文献を参照されたい。)は98%の収率で上記
反応が進行していることを示した。この収率は生成物の
保護基を以下に示す方法で脱保題したのち、得られた脱
保護体の高速液体クロマトグラフィー(HPLC)によ
る分析によって確認された。すなわち、上記の樹脂にs
yn −4−ニトロベンズアルド午シム(50■、30
0マイクロモル)と1.1,3.3−テトラメチルグア
ニジン(34,511?、300マイクロモル)をp−
ジオキサン(0,3d )と水(0,3−)に溶解した
溶液を加え、室温に10時間放置して反応させた。その
後、この混合物をr過し、p液を濃縮し、残直に801
s酢rR(+、5fRt)V加え、室温で30分間反応
させた。酢酸および水な減圧下留去し、残渣に水(Iy
)、エーテル(5−)¥加え、脱保護体を水で抽出した
。さらに水層をエーテル(5−x4)で洗浄した後、そ
の水層のHPLC分析(第1図参照)を行った結果、そ
れはチミジンのダイマー(d(TpT) )  とチミ
ジン(dT)  が約98対20割合で生成しているこ
とを示した。なお第1図シよび以下の第2〜4図に示す
結果は、カラムとしてUNISIL PACK (SC
I8−250 A塁、ガスクロ工業5!!りを用い、p
H7,0の0.1M酢酸トリエチルアンモニウム中5〜
25饅アセトニトリルで30分間の傾斜溶離により溶出
して得られたものである。
After shaking at room temperature for 4 minutes, 1,2-dichloroethane/
and excess fH compounds [I], CII) and [III
] was separated through a G-4 glass filter, and the remaining polystyrene resin was mixed with methanol (3-) and pyridine/(3-).
d). Then tetrahydrofuran/pyricine/water (o, a s −/0.025-70.025
*) Iodine (30i1F, +20 micromol) was added to the mixture, and the mixture was shaken and reacted at room temperature for 2 minutes. The tetrahydrofuran/pyricine/water mixture containing excess iodine was separated through a G-4 glass filter, and the remaining polystyrene resin was filtered with pyricine (5dX2) and 1.
Washed with 2-dichloroethane (5d). Absorbance measurements at 4'? g nm, details of this test method can be found for example in H
, G., Gagsen et al., “Chemical a
nd Enzymatic Synthesis of
Gene Fragmenta”, Verlag
See Chemie (Weinheim) + 1982 and references therein. ) showed that the above reaction was proceeding with a yield of 98%. This yield was confirmed by deprotecting the protecting group of the product by the method shown below and then analyzing the obtained deprotected product by high performance liquid chromatography (HPLC). That is, the above resin is
yn-4-nitrobenzaldosim (50■, 30
0 micromol) and 1,1,3,3-tetramethylguanidine (34,511?, 300 micromol) in p-
A solution of dioxane (0,3d) and water (0,3-) was added, and the mixture was left to react at room temperature for 10 hours. Thereafter, this mixture was filtered, the p liquid was concentrated, and the residue was directly
Vinegar rR(+, 5fRt)V was added, and the mixture was allowed to react at room temperature for 30 minutes. Acetic acid and water were distilled off under reduced pressure, and water (Iy
) and ether (5-) were added, and the deprotected product was extracted with water. After further washing the aqueous layer with ether (5-x4), HPLC analysis of the aqueous layer (see Figure 1) revealed that it contained about 98% of thymidine dimer (d(TpT)) and thymidine (dT). It was shown that it was generated at a ratio of 20 to 20%. The results shown in Figure 1 and Figures 2 to 4 below are based on UNISIL PACK (SC) as a column.
I8-250 Base A, Gascro Industry 5! ! p
H7.0 in 0.1M triethylammonium acetate 5~
This was obtained by gradient elution with 25 liters of acetonitrile for 30 minutes.

実施例7 〔■〕00 〔V〕 ポリスチレン([F])IC担持されたノメトキシトリ
チルチミジン(担持量120マイクロモル/g。
Example 7 [■] 00 [V] Nomethoxytritylthymidine supported on polystyrene ([F]) IC (supported amount 120 micromol/g).

市販品)に1,2−ジクロロエタン中5チドリクロロ酢
酸な反応させて得たチミノンボリスチレン樹脂CIVI
 (l Ovq、  1.2マイクロモル)にトリーn
−ブチルスタンニル−1,2,4−トリアゾールCD 
(34,4v、  96マイクロモル)と2−メチルイ
ミダゾール〔■](9,8511F、120マイクロモ
ル)の1.2−ジクロロエタン(0,20d)溶液を加
え、直ちにN4−ベンゾイル−5′−〇−ゾメトキシト
リチルデオギシシチノン−3’−0−(2−クロロフェ
ニルオキシ−2−メチル7zニルチオ)ホスフィンCI
II) (22111P、  24マイクロモル)の1
,2−ジクロロエタン(o、+s−)溶液を添加した。
Thyminone boristyrene resin CIVI obtained by reacting commercially available product) with 5-tidolychloroacetic acid in 1,2-dichloroethane
(l Ovq, 1.2 micromol)
-butylstannyl-1,2,4-triazole CD
(34,4v, 96 micromol) and 2-methylimidazole [■] (9,8511F, 120 micromol) in 1,2-dichloroethane (0,20d) were added immediately. -Zomethoxytrityldeogicithinone-3'-0-(2-chlorophenyloxy-2-methyl7z-nylthio)phosphine CI
II) 1 of (22111P, 24 micromol)
,2-dichloroethane (o,+s-) solution was added.

室温で4分間振盪反応させた後、1.2−ジクロロエタ
ンと過剰の化合物CI) 、 Cn〕および([II]
をG−4グラスフイルタ一?通してr別し、残留したポ
リスチレン樹脂をメタノール(3−)とピリジ/(3y
d )で洗浄した。その後、テトラヒドロフラノ/ピリ
シン/水(0,45W1t10.025 d / 0.
025 d )混合物中のヨウ素(30■。
After a shaking reaction at room temperature for 4 min, 1,2-dichloroethane and excess compounds CI), Cn] and ([II]
Is it the G-4 glass filter? The remaining polystyrene resin was mixed with methanol (3-) and pyridine/(3y
d). Then tetrahydrofurano/pyricin/water (0,45 W1t10,025 d/0.
025 d) Iodine in the mixture (30 ■.

120マイクロモル)を加え、室温で2分間振盪反応嘔
せた。過剰のヨウ素を含むテトラヒドロフラフ/ピリソ
ノ/水混合液はG−4グラスフイ゛ルターを通してr別
され、残ったポリスチレン樹脂をピリシン(5ix2)
および1,2−ジクロロエタン(5gLt)で洗浄した
。その樹脂の一部のトリチルカチオンテストは98−の
収率で上記反応が進行していることを示した。この収率
は生成物の脱保護により生成した脱保護体のHPLC分
析によシ確認された。すなわち、上記の樹脂にayn 
−4−ニトロペ/ズアルドキシム(50119,300
マイクロモル)と1.1.3.3−テトラメチルグアニ
シン(34,5η、300マイクロモル)をp−ジオキ
サン(0,3m/)と水(0,3d )に溶解した溶液
を加え、室温で10時間反応させた。その後、28チア
ンモニア水(1−)を加え、600Cで5時間反応させ
た。この混合物’?if’過し、P液を濃縮し、残渣に
80チ酢酸(1,5m/)を加え、室温で30分反応さ
せた。酢酸および水を誠圧下留去し、残渣に水(1−)
とエーテル(5−)を加え、脱保護体を水で抽出した。
120 micromol) was added and the reaction was incubated with shaking for 2 minutes at room temperature. The tetrahydroflough/pyrison/water mixture containing excess iodine is separated through a G-4 glass filter, and the remaining polystyrene resin is treated with pyricine (5ix2).
and 1,2-dichloroethane (5 gLt). A trityl cation test on a portion of the resin showed that the reaction was proceeding in 98-yield. This yield was confirmed by HPLC analysis of the deprotected product produced by deprotection of the product. That is, ayn
-4-nitrope/dualdoxime (50119,300
A solution of 1.1.3.3-tetramethylguanisine (34.5η, 300 micromol) in p-dioxane (0.3 m/) and water (0.3 d) was added, and the solution was heated to room temperature. The mixture was allowed to react for 10 hours. Thereafter, 28 thiammonia water (1-) was added, and the mixture was reacted at 600C for 5 hours. This mixture'? IF', the P solution was concentrated, 80 thiacetic acid (1.5 m/) was added to the residue, and the mixture was reacted at room temperature for 30 minutes. Acetic acid and water were distilled off under true pressure, and water (1-) was added to the residue.
and ether (5-) were added, and the deprotected product was extracted with water.

さらに水層をエーテル(5iX4)で洗浄した後、その
水層のHP L C分析(第2図参照)を行った結果、
それはデオΦシシチジンとチミジンのダイマー(d(C
pT) 。
After washing the aqueous layer with ether (5iX4), the aqueous layer was subjected to HPLC analysis (see Figure 2).
It is a dimer of deoΦcycytidine and thymidine (d(C
pT).

〔V’) )とチミジン(dT)  が約98対2の割
合で生成していることを示した。
[V')) and thymidine (dT) were shown to be produced at a ratio of approximately 98:2.

H 〔V′〕 実施例8 CIII)        [:[V:]〔V〕 ポリスチレン([F])に担持されたチミジン[、IV
](10り、1,2マイクロモル)、トリーn−プチル
スタンニルベンゾ) U 7 :、’−ル[11(3q
η。
H [V'] Example 8 CIII) [:[V:] [V] Thymidine [, IV
](10, 1,2 micromol), tri-n-butylstannylbenzo) U7:,'-[11(3q
η.

96マイクロモル)、1−メチルイミダゾールCITE
 (9,8519,120マイクロモル)および炉−ペ
ンゾイルー5’−0−ノメトギシトリチルデオキシアデ
ノシン−3’−0−(2−クロロフェニルオキシ−2−
メチルフェニルチオ)ホスフィン[:[I] (231
!?、  24マイクロモル)とを実施例7と同様に反
応させ、次いで酸化反応と脱保護反応を実施例7と同様
に行い、トリチルカチオンテストとHPLC分析(第3
図参照)を行った結果、上記反応が99−の収率で進行
していることが確認され、HPLCは生成物の99俤が
デオキシアデノシンとチミジンのダイマー(d(ApT
))  であることt示した。
96 micromol), 1-methylimidazole CITE
(9,8519,120 micromol) and furnace-penzoyl-5'-0-nomethogycitrityldeoxyadenosine-3'-0-(2-chlorophenyloxy-2-
Methylphenylthio)phosphine [:[I] (231
! ? .
As a result, it was confirmed that the above reaction was proceeding with a yield of 99-yield, and HPLC revealed that 99-yield of the product was a dimer of deoxyadenosine and thymidine (d(ApT
)) It was shown that.

実施例9 〔【■〕 〔V〕 ポリスチレン([F])に担持されたチミジン〔■〕(
n2=0の場合、I O”7. 1.2ff(り0モル
)。
Example 9 [[■] [V] Thymidine [■] ([F]) supported on polystyrene ([F])
When n2=0, I O"7.1.2ff (0 mole).

) IJ −It−グロビルスタンニルペンゾi77ゾ
ールCI) C3sη、96マイクロモル)、1−メチ
ルイミダゾール〔■〕CC1,F55f!、120マイ
クロモル)および5’−0−ノメトキシトリチルチミノ
ン−3’−0−(2−クロロフェニルオキシ−2−メチ
ルフェニルチオ)ホスフィンC11l](20m9゜2
4マイクロ阜ル)とを実施例6と同様に反応させた後、
ヨウ素(30XV、+20マイクロモル)を含むテトラ
ヒドロフラン/ビリノン/水(0,45td / 0.
025−/ 0.025 d )混合液で実施例6と同
様に酸化反応を行った。過剰のヨウ素を含む混合液をG
−4グラスフイルターを通して戸別し、残留ポリスチレ
ン樹脂なピリ・シン(5dX2 )で洗浄後、4−ジメ
チルアミノピリジン(12,2Trq。
) IJ -It-globylstanylpenzoi77zole CI) C3sη, 96 micromol), 1-methylimidazole [■] CC1,F55f! , 120 micromol) and 5'-0-nomethoxytritylthyminone-3'-0-(2-chlorophenyloxy-2-methylphenylthio)phosphine C11l] (20 m9°2
4 micrometers) in the same manner as in Example 6,
Tetrahydrofuran/bilinone/water (0,45 td/0.
025-/0.025 d) An oxidation reaction was carried out in the same manner as in Example 6 using the mixed solution. G the mixture containing excess iodine
4-dimethylaminopyridine (12,2Trq).

100マイクロモル)を含む無水41酸(0,18Jと
ピリジノ(+、2−)の混合液を加え、室温で2分間振
盪し、キャッピング反応を行った。過剰の上記混合液を
戸別し、残留樹脂71,2−ソクロロエタy (5r=
e )で洗浄し、これに1,2−ノクロロエタン中5多
トリクロロ酢α(2ml )を加え、案♂で1分間部ζ
だ反応させ、ノメトキシトリチル基を脱保衾した。過剰
の上記試薬なG−4グラスフイルターを通してr別し、
残留樹脂をピリシン(5TI@t)と1,2−ジクロロ
エタン(5−)で洗浄した。この樹脂(上記式〔1■〕
でn2=1の場合)に化合物CI3〜〔■〕を上記と同
量加え、同様にカップリング反応を行った。さらに、酸
化反応とキャッピング反応を上記と同様に行い、残留樹
脂を1.2−ジクロロエタン(s−)で洗浄した。その
後、1.2−ジクロロエタン中5チドリクロロ酢酸でゾ
メト争シトリチル基を脱保護し、上記式IJV)でn2
=2 の場合、すなわちポリスチレンに担持されたチミ
ジンのトリi−を得た。この操作をさらに5回(すなわ
ち上記式CIVIでn=7  まで)くり返し、チミゾ
ンのオクタマーとしたのち、化合物[1〕〜〔1■〕お
よびヨウ素を上記と同量用い、カップリング反応および
酸化反応を同様に行ったGその樹脂をピリシン(5dX
2)および1,2−ジクロロエタン(5−)で洗浄した
のち、トリチルカチオンテストを実施例6と同様に行っ
たところ、化合物CVI (n2= 7  の場合)が
全収率85俤で生成していることが確認された。その後
5yn−4−二トロペンズアルトキシム(150”F。
A mixture of 41 acid anhydride (0.18 J and pyridino (+, 2-) containing 100 micromoles) was added and shaken for 2 minutes at room temperature to perform a capping reaction. Resin 71,2-sochloroethane (5r=
E), add polytrichloroacetic acid α (2 ml) in 1,2-nochloroethane, and stir for 1 minute.
The nomethoxytrityl group was removed by a reaction. Separate excess of the above reagent through a G-4 glass filter,
The residual resin was washed with pyricin (5TI@t) and 1,2-dichloroethane (5-). This resin (formula [1■] above)
When n2=1), the same amount of compounds CI3~[■] as above was added, and the coupling reaction was carried out in the same manner. Furthermore, oxidation reaction and capping reaction were performed in the same manner as above, and the residual resin was washed with 1,2-dichloroethane (s-). The cyclotrityl group was then deprotected with 5-titrichloroacetic acid in 1,2-dichloroethane and n2
=2, ie tri-i- of thymidine supported on polystyrene was obtained. After repeating this operation five more times (that is, up to n=7 in the above formula CIVI) to obtain an octamer of thymizone, using the same amounts of compounds [1] to [1■] and iodine as above, coupling reaction and oxidation reaction were carried out. was carried out in the same manner, and the resin was treated with pyricin (5dX
After washing with 2) and 1,2-dichloroethane (5-), a trityl cation test was performed in the same manner as in Example 6, and compound CVI (when n2 = 7) was produced in a total yield of 85 yen. It was confirmed that there is. Then 5yn-4-nitropenzaltoxime (150”F).

900マイクロモル)と1.1,3.3−テトラメチル
グアニシン(103,5岬、900マイクロモル)を含
むp−ゾオギサン(0,9m)と水(0,9tTlt)
の混合液、さらに80多酢酸(2−)で実施例6と同様
に脱保護した。得られた粗生成物のHPLC分析(第4
図参照)の結果、チミジンのノナマーの存在が確認され
た。
900 micromol) and 1,1,3,3-tetramethylguanisine (103,5 cape, 900 micromol) and p-zoogysan (0,9 m) and water (0,9 tTlt).
The mixture was further deprotected in the same manner as in Example 6 using 80 polyacetic acid (2-). HPLC analysis of the obtained crude product (4th
(see figure), the presence of thymidine nonamer was confirmed.

なお本発明方法の製造中間体として用いたデオΦシヌク
レオチドホスホルスAフィト化合物(III)の物性値
は以下のとおシである。
The physical properties of the deo-Φ-cynucleotide phosphorus A phyto compound (III) used as a production intermediate in the method of the present invention are as follows.

〔実施例1−4.6および9〕 Rf値(CHCl5 :MeOH=go : I ) 
=O−30’HNMR(CDCl3. T局)δ:  
1.46 (8,3H,5−CH5)。
[Example 1-4.6 and 9] Rf value (CHCl5:MeOH=go:I)
=O-30'HNMR (CDCl3.T station) δ:
1.46 (8,3H,5-CH5).

2.20−2.85 (m、5H,2,2gと2.38
に一重線を含む、2′およびCH3C6H45−)、 
3.35−3.65 (m、2H,ダ)、 3.69(
a、3u、c■、QC6H40−)、 3.70 (+
s、3u、c!!3oc6u40−)。
2.20-2.85 (m, 5H, 2,2g and 2.38
2' and CH3C6H45-),
3.35-3.65 (m, 2H, da), 3.69 (
a, 3u, c■, QC6H40-), 3.70 (+
s, 3u, c! ! 3oc6u40-).

4.25−4.50  (m、IH,4’)、  5.
45−5.80  (rn、IH,3’)。
4.25-4.50 (m, IH, 4'), 5.
45-5.80 (rn, IH, 3').

6.49  (t、lH,J=7.0Hz、l’)、6
.65−6.90 (m、4H。
6.49 (t, lH, J=7.0Hz, l'), 6
.. 65-6.90 (m, 4H.

ph)、 6−90−7.75 (m、l8H−6およ
びph)、  10.3 (s。
ph), 6-90-7.75 (m, l8H-6 and ph), 10.3 (s.

H(、N1()  ppm 。H(, N1() ppm.

〔実施例5〕 Rf値(CHCl :MeOH= 20:I ) = 
0.36’HNMR(CDC73,TMS )δ: 1
135 (813H15−Cも)。
[Example 5] Rf value (CHCl:MeOH=20:I)=
0.36'HNMR (CDC73, TMS) δ: 1
135 (also 813H15-C).

1.84 (g、3H,5−C旦s)、1−90−2.
85 (m、7H12−34に一重線を含む、CジC6
H,S−および2 X 2’) 、  2.85−3.
65(m、2H,5’)、 3.73 (8,6H,2
XCH,QC6H,−)、 3.95−4.70 (m
、4H,2X4’および5’) 5.05−5.65 
(rn、2H,2X3’)、6−05−6.55  C
m、2H,2Xl’)、6.60−645  (m。
1.84 (g, 3H, 5-C tans), 1-90-2.
85 (m, including singlet in 7H12-34, CdiC6
H,S- and 2X2'), 2.85-3.
65 (m, 2H, 5'), 3.73 (8,6H, 2
XCH,QC6H,-), 3.95-4.70 (m
, 4H, 2X4' and 5') 5.05-5.65
(rn, 2H, 2X3'), 6-05-6.55 C
m, 2H, 2Xl'), 6.60-645 (m.

4H,ph)、  6.85−7.60 (m、23H
,phおよび2X6)。
4H, ph), 6.85-7.60 (m, 23H
, ph and 2X6).

9.28 (s、IH,Nu)、 9.36 (s、I
I、Nu) ppm 。
9.28 (s, IH, Nu), 9.36 (s, I
I, Nu) ppm.

〔実施例7〕 Rf値(CHCts : Meat(= go:l )
 = o、4g’HNMR(CDCl3 、 TMS 
)δ: 2−20−2.70 (m、4H。
[Example 7] Rf value (CHCts: Meat (= go:l)
= o, 4g'HNMR (CDCl3, TMS
) δ: 2-20-2.70 (m, 4H.

2.29と2.36に一重線を含む、 0.5X2’お
よびCH5C6H4S −) *2、gO−3,10(
m、lH,0,5X2’)、3.40−3.’?O(m
el、3.65と3.69に一重線を含む、5′および
2XCH3QC6H,−)。
including singlets at 2.29 and 2.36, 0.5X2' and CH5C6H4S -) *2, gO-3,10 (
m, lH, 0,5X2'), 3.40-3. '? O(m
el, 5' and 2XCH3QC6H,-), including singlets at 3.65 and 3.69.

4−30−4.60 (m、lIl、4’)、5.40
−5.70 (m、I)I、3’)。
4-30-4.60 (m, lIl, 4'), 5.40
-5.70 (m, I) I, 3').

6.36 (t、 IH,J=7.0Hz、I’)、 
 6.65−7.70 (m、26H。
6.36 (t, IH, J=7.0Hz, I'),
6.65-7.70 (m, 26H.

ph)、  7.IE −8,00(m、+H,s)、
 8.10−8.30 (rn。
ph), 7. IE -8,00(m,+H,s),
8.10-8.30 (rn.

IH,6)、  10.6 (8,IH,NH) pp
m。
IH, 6), 10.6 (8, IH, NH) pp
m.

〔実施例8〕 Rf値(C’dC15: !、1eO11=go: l
 ) =O−34’HNMR(cDCt5. TMS 
)δ: 2.3+ (s、1.5H+0−5XCHCH
5−)−2,37(s、1.5H,0,5xCもC6H
45−)。
[Example 8] Rf value (C'dC15: !, 1eO11=go: l
) =O-34'HNMR(cDCt5.TMS
) δ: 2.3+ (s, 1.5H+0-5XCHCH
5-)-2,37(s, 1.5H, 0,5xC is also C6H
45-).

2.55−3.25 (m、2H,2’)、 3.25
−3.60 (rn、2H,5’)。
2.55-3.25 (m, 2H, 2'), 3.25
-3.60 (rn, 2H, 5').

3−70 (’、6H−2XCHsOC6H4”)、4
−35−4.65 (m、IH14’)、 5.45−
5.75 (m、lH,3’)、 6.30−6J5 
(m、5H。
3-70 (', 6H-2XCHsOC6H4"), 4
-35-4.65 (m, IH14'), 5.45-
5.75 (m, lH, 3'), 6.30-6J5
(m, 5H.

1′およびph)、 6−85−7.60 (m、20
H,ph)、 7.75−8.05 (m、2IL、p
h)、  g、os −8,20(m、lH,2)、 
 C55−C75(m、IFI、g)、 F5.gg(
a、lH,NH) pprn。
1' and ph), 6-85-7.60 (m, 20
H, ph), 7.75-8.05 (m, 2IL, p
h), g, os -8,20 (m, lH, 2),
C55-C75 (m, IFI, g), F5. gg(
a, lH, NH) pprn.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

!X1図〜第4図はそれぞれ実施例6,7.8および9
で製造された本発明の目的化合物オリゴデオキシヌクレ
オチド(v)の脱係膜生成物の高速液体クロマトグラフ
ィーの溶離曲線を示し、dT  けチミジンを、d(T
pT)  はチミジンのダイマーを、d(CpT)  
はデオキシシチノンとチミジンのダイマーを、dApT
  はデオキシアデノシンとチミジンのダイマーをそし
てd(Tp)8Tはチミジンのノナマーをそれぞれ意味
する。 第1図 第2図 第3図
! Figures X1 to 4 are Examples 6, 7.8 and 9, respectively.
The elution curve of the high performance liquid chromatography of the uncoupling product of the objective compound oligodeoxynucleotide (v) of the present invention prepared in
pT) is a dimer of thymidine, d(CpT)
is a dimer of deoxycytinone and thymidine, dApT
represents a dimer of deoxyadenosine and thymidine, and d(Tp)8T represents a nonamer of thymidine, respectively. Figure 1 Figure 2 Figure 3

Claims (1)

【特許請求の範囲】 一般式〔 I 〕で示されるトリアルキルスタンニルアゾ
ール化合物および一般式〔II〕で示される塩基の存在下
で、一般式〔III〕で示されるデオキシヌクレオチドホ
スホルスルフイド化合物と一般式〔IV〕で示されるデオ
キシヌクレオチド化合物とを反応させた後、酸化反応を
行なわせることを特徴とする一般式〔V〕で示されるオ
リゴデオキシヌクレオチドの製造法。 R^1_3SnX〔 I 〕 (式中、R^1はアルキル基をあらわし;Xはアゾリル
基をあらわす。) R^2NR^3_2〔II〕 (式中、R^2は水素原子、アルキル基またはアリール
基をあらわし;R^3はアルキル基をあらわすか、また
は2個のR^3が隣接する窒素原子とともにヘテロ原子
として1ないし2個の窒素原子、酸素原子またはイオウ
原子を含有してもよい複素環基をあらわすか、あるいは
R^2と2個のR^3が隣接する窒素原子とともにヘテ
ロ原子として1ないし2個の窒素原子、酸素原子または
イオウ原子を含有してもよい複素環基をあらわす。) ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕 (式中、R^4およびR^5は保護基をあらわし;R^
6はアリール基をあらわし;B^1およびB^2は同一
でも異なつてもよくかつそれぞれ保護基を有することも
ある塩基残基をあらわし;n^1は0または正の整数を
あらわすが、ただしn^1が2以上の場合にはB^2は
同一の塩基残基に限定されない。)▲数式、化学式、表
等があります▼〔IV〕 (式中、R^5は前記と同じ意味をあらわし;R^7は
高分子担体を含有してもよい保護基をあらわし;B^3
およびB^4は同一でも異なつてもよくかつそれぞれ保
護基を有することもある塩基残基をあらわし;n^2は
0または正の整数をあらわすが、ただしn^2が2以上
の場合にはB^4は同一の塩基残基に限定されない。) ▲数式、化学式、表等があります▼〔V〕 (式中、R^4、R^5、R^7、B^1、B^2、B
^3、B^4、n^1およびn^2は前記と同じ意味を
あらわす。)
[Claims] A deoxynucleotide phosphorus sulfide compound represented by the general formula [III] in the presence of a trialkylstannylazole compound represented by the general formula [I] and a base represented by the general formula [II] A method for producing an oligodeoxynucleotide represented by the general formula [V], which comprises reacting the deoxynucleotide compound represented by the general formula [IV] with the deoxynucleotide compound represented by the general formula [IV], and then carrying out an oxidation reaction. R^1_3SnX[I] (In the formula, R^1 represents an alkyl group; X represents an azolyl group.) R^2NR^3_2[II] (In the formula, R^2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. Represents a group; R^3 represents an alkyl group, or a hetero atom in which two R^3s may contain 1 or 2 nitrogen atoms, oxygen atoms, or sulfur atoms as heteroatoms together with adjacent nitrogen atoms. Represents a cyclic group, or R^2 and two R^3 together with adjacent nitrogen atoms represent a heterocyclic group which may contain 1 or 2 nitrogen atoms, oxygen atoms or sulfur atoms as heteroatoms. ) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [III] (In the formula, R^4 and R^5 represent protecting groups; R^
6 represents an aryl group; B^1 and B^2 may be the same or different and each represents a base residue that may have a protecting group; n^1 represents 0 or a positive integer, but When n^1 is 2 or more, B^2 is not limited to the same base residue. ) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [IV] (In the formula, R^5 represents the same meaning as above; R^7 represents a protective group that may contain a polymeric carrier; B^3
and B^4 represent base residues that may be the same or different and each may have a protecting group; n^2 represents 0 or a positive integer, provided that when n^2 is 2 or more, B^4 is not limited to the same base residue. ) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼[V] (In the formula, R^4, R^5, R^7, B^1, B^2, B
^3, B^4, n^1 and n^2 have the same meanings as above. )
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