JPS63295699A - Azeotropic solvent composition - Google Patents

Azeotropic solvent composition

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JPS63295699A
JPS63295699A JP13102787A JP13102787A JPS63295699A JP S63295699 A JPS63295699 A JP S63295699A JP 13102787 A JP13102787 A JP 13102787A JP 13102787 A JP13102787 A JP 13102787A JP S63295699 A JPS63295699 A JP S63295699A
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JP
Japan
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freon
removal
flon
azeotropic
compsn
Prior art date
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Pending
Application number
JP13102787A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Tamura
公司 田村
Yukio Omure
大牟礼 幸雄
Satoru Ide
井手 哲
Naomi Hanatani
花谷 尚美
Hisamasa Fukuzawa
福澤 寿正
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
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Publication date
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Publication of JPS63295699A publication Critical patent/JPS63295699A/en
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Abstract

PURPOSE:To prepare the title compsn. having excellent dissolving power and a low content of 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroethane (flon-113), by mixing 1,2- dichloro-1,1-difluoroethane with flon-113. CONSTITUTION:48.1wt.% 1,2-dichloro-1,1-difluoroethane having a b.p. of 46.8 deg.C (flon-132b) is mixed with 51.9wt.% 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroethane (flon-113) having a b.p. of 47.6 deg.C to prepare the title compsn. having a b.p. of 44.2 deg.C. If necessary, 0.1-10% stabilizer (e.g., nitromethane) is added to the compsn. This compsn. is useful for removal of fats and oils and grease, removal of wax for temporary fixing in cutting or polishing work of a silicon wafer, a ceramic, or the like, removal of a releasing agent, removal of a flux, etc.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は1,2−ジクロロ−1,1−ジフルオロエタン
(以下、フロン−132bという)と1.1.2−トリ
クロロ−1,2,2−トリフルオロエタン(以下、フロ
ン−113という)とからなる共沸溶剤組成物に関する
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to 1,2-dichloro-1,1-difluoroethane (hereinafter referred to as Freon-132b) and 1,1,2-trichloro-1,2,2 - trifluoroethane (hereinafter referred to as Freon-113).

[従来の技術] 従来より、クロロフルオロエタン系化合物であるフロン
−113は不燃性で生体毒性が少ないほか、プラスチッ
クやゴムなどの高分子物質を侵すことなく、油脂、グリ
ース、ワックスなどを溶解するという選択溶解性に優れ
ており、単独または他の有機溶剤との混合あるいは共沸
組成物の形で溶剤、洗浄剤などに広く用いられている。
[Conventional technology] Freon-113, a chlorofluoroethane compound, is nonflammable and has low biotoxicity, and has the ability to dissolve oils, fats, grease, wax, etc. without attacking polymeric substances such as plastics and rubber. It has excellent selective solubility, and is widely used in solvents, cleaning agents, etc., either alone or in mixtures with other organic solvents, or in the form of azeotropic compositions.

[発明が解決しようとする問題点コ 近年、フロン−113などの水素がすべて塩素およびフ
ッ素で置換されたクロロフルオロエタン系化合物(以下
、パーハロエタンという)が地球を取り巻くオゾン層を
破壊するという地球規模の環境汚染が問題となり、そう
したパーハロエタンの使用を低減することが急務となっ
ている。
[Problems to be solved by the invention] In recent years, it has become clear that chlorofluoroethane compounds (hereinafter referred to as perhaloethane) in which all hydrogen has been replaced with chlorine and fluorine, such as Freon-113, are destroying the ozone layer surrounding the earth. Environmental pollution has become a problem, and there is an urgent need to reduce the use of perhaloethane.

そこでフロン−113に代わる物質が種々検討されてい
るが、未だ有効な代替物は見出されていない。一方、フ
ロン−113と他の有機溶剤との混合溶剤も実用化され
ている。
Various substances have been studied to replace Freon-113, but no effective substitute has yet been found. On the other hand, mixed solvents of Freon-113 and other organic solvents have also been put into practical use.

しかしながら、溶剤として使用するためには使用時の液
管理が容易でかつ容易に回収、再使用できることが重要
な要件となり、さらに蒸気洗浄も可能であることが望ま
れる。そうした要件を満たす混合溶剤は単に2成分以上
を混合しただけではえられず、共沸点を有する状態、す
なわち共沸状態の混合物とする必要がある。
However, in order to use it as a solvent, it is important that it be easy to manage the liquid during use, and that it can be easily recovered and reused, and it is also desired that it be able to be cleaned with steam. A mixed solvent that satisfies these requirements cannot be obtained simply by mixing two or more components, but must be a mixture that has an azeotropic point, that is, an azeotropic mixture.

フロン−113との共沸混合物としては、メタノールや
エタノールとの共沸混合物が知られているが、いずれも
アルコール成分は10%(重量%、以下同様)未満であ
り(メタノール:5.7%、エタノール:4%)、シた
がってフロン−113の使用量を低減させるという点に
おいては到底満足のいくものではない。
Azeotropic mixtures with methanol and ethanol are known as azeotropic mixtures with Freon-113, but in both cases the alcohol component is less than 10% (wt%, the same applies hereinafter) (methanol: 5.7%). , ethanol: 4%), which is therefore completely unsatisfactory in terms of reducing the amount of Freon-113 used.

また、フロン−113とメチレンクロライドとの1:1
共沸混合物も実用化されているが、メチレンクロライド
の生体毒性が高いため、望ましいものではない。
Also, 1:1 of Freon-113 and methylene chloride
Although azeotropic mixtures have also been put into practical use, they are not desirable due to the high biotoxicity of methylene chloride.

本発明は充分な溶剤性能を維持したままフロン−113
の使用量を低減化させえた共沸溶剤組成物を提供するも
のである。
The present invention provides a solution to CFC-113 while maintaining sufficient solvent performance.
An object of the present invention is to provide an azeotropic solvent composition that can reduce the amount of azeotropic solvent used.

[問題点を解決するための手段] 本発明の共沸溶剤組成物は、48.1%のフロン−13
2bと51.9%のフロン−113との共沸混合物から
なることを要旨とするものである。
[Means for Solving the Problems] The azeotropic solvent composition of the present invention contains 48.1% Freon-13.
2b and 51.9% Freon-113.

[作用および実施例] 本発明で用いるフロン−132b  (沸点: 4B、
8℃)とフロン−113(%3点: 47.8℃)との
共沸混合物は44.2℃の共沸点を有している。
[Function and Examples] Freon-132b used in the present invention (boiling point: 4B,
An azeotropic mixture of 8°C) and Freon-113 (%3 point: 47.8°C) has an azeotropic point of 44.2°C.

フロン−132bは塩素原子とフッ素原子のほかに水素
原子を2個有する化合物であり、オゾン層を破壊するこ
とはない。しかし、それ単独ではプラスチックやゴムに
対する溶解力が大きすぎ、そうした素材を侵してしまう
ため溶剤として使用されていなかったものである。
Freon-132b is a compound that has two hydrogen atoms in addition to chlorine and fluorine atoms, and does not destroy the ozone layer. However, it has not been used as a solvent because it alone has too much dissolving power for plastics and rubber and corrodes those materials.

本発明によれば、フロン−132bとフロン−113と
を48.1/ 51.9の重量比で含んでいるためフロ
ン−132bの有機系素材に対する溶解力を抑えること
ができると共にフロン−113の使用量を大幅に減らす
ことができるうえ、フロン−132bの溶解力を利用し
てフロン−113単独では除去できなかったような電子
工業分野などにおけるフラックスの除去も可能となる。
According to the present invention, since Freon-132b and Freon-113 are contained in a weight ratio of 48.1/51.9, the dissolving power of Freon-132b for organic materials can be suppressed, and at the same time, Freon-113 can be suppressed. Not only can the amount used be significantly reduced, but also the dissolving power of Freon-132b can be used to remove fluxes in the electronics industry that cannot be removed with Freon-113 alone.

しかも共沸状態であるため、液管理、回収、再使用が容
易であり、蒸気洗浄にも適用できる。
Moreover, since it is in an azeotropic state, liquid management, recovery, and reuse are easy, and it can also be applied to steam cleaning.

本発明の組成物は化学的に安定であるが、さらに安定剤
を添加してもよい。
Although the composition of the present invention is chemically stable, additional stabilizers may be added.

このような安定剤として好ましい性質としては、本発明
の組成物を安定化する効果の大きいことはもちろんであ
るが、蒸留操作により同伴留出されるものや、さらには
共沸を形成するものが望ましいが、これらに限定される
ものではない。
Preferable properties for such a stabilizer include, of course, having a large stabilizing effect on the composition of the present invention, but also those that are entrained in distillation operations and those that form an azeotrope. These are desirable, but not limited to.

前記のごとき安定剤の具体例としては、たとえばニトロ
メタン、ニトロエタン、ニトロプロパンなどの脂肪族ニ
トロ化合物、8−メチル−1−プチンー3−オール、3
−メチル−1−ペンチン−3−オールなどのアセチレン
アルコール類、グリシドール、メチルグリシジルエーテ
ル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエ
ーテル、■、2−ブチレンオキシド、シクロヘキセンオ
キシド、エピクロルヒドリンなどのエポキシド類、ジメ
トキシメタン、1.2−ジメトキシエタン、1.4−ジ
オキサン、L、3,54リオキサンなどのエーテル類、
ヘキセン、ヘプテン、オクテン、2.4.44リメチル
−1−ペンテン、ペンタジェン、オクタジエン、シクロ
ヘキセン、シクロペンテンなどの不飽和炭化水素類、ア
リルアルコール、1−ブテン−3−オール、3−メチル
−1−ブテン−3−オールなどのオレフィン系アルコー
ル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸ブチルなどのアクリル酸エステル類などがあげられ、
これらは単独で用いてもよく、2種以上併用してもよい
。またこれらとフェノール、トリメチルフェノール、シ
クロヘキシルフェノール、チモール、2.6−ジーt−
ブチル−4−メチルフェノール、ブチルヒドロキシアニ
ソール、イソオイゲノールなどのフェノール類や、ヘキ
シルアミン、ペンチルアミン、ジプロピルアミン、ジイ
ソプロピルアミン、ジイソブチルアミン、トリエチルア
ミン、トリブチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホ
リン、シクロヘキシルアミン、2,2.8.8−テトラ
メチルピリジン、N、N’−ジアリル−p−フェニレン
ジアミンなどのアミン類などと併用してもよく、併用す
るとさらに優れた相乗的安定化効果が発揮される。
Specific examples of the above-mentioned stabilizers include aliphatic nitro compounds such as nitromethane, nitroethane, and nitropropane, 8-methyl-1-butyn-3-ol, 3
- Acetylene alcohols such as methyl-1-pentyne-3-ol, glycidol, methyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, epoxides such as 2-butylene oxide, cyclohexene oxide, epichlorohydrin, dimethoxymethane, 1 .Ethers such as 2-dimethoxyethane, 1,4-dioxane, L, 3,54lioxane,
Unsaturated hydrocarbons such as hexene, heptene, octene, 2.4.44-limethyl-1-pentene, pentadiene, octadiene, cyclohexene, cyclopentene, allyl alcohol, 1-buten-3-ol, 3-methyl-1-butene Examples include olefinic alcohols such as -3-ol, acrylic esters such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, etc.
These may be used alone or in combination of two or more. In addition, these and phenol, trimethylphenol, cyclohexylphenol, thymol, 2.6-di-t-
Phenols such as butyl-4-methylphenol, butylhydroxyanisole, isoeugenol, hexylamine, pentylamine, dipropylamine, diisopropylamine, diisobutylamine, triethylamine, tributylamine, pyridine, N-methylmorpholine, cyclohexylamine, It may be used in combination with amines such as 2,2.8.8-tetramethylpyridine and N,N'-diallyl-p-phenylenediamine, and when used in combination, an even more excellent synergistic stabilizing effect is exhibited.

前記安定剤の使用量としては、安定剤の種類により異な
るため一概にはきめられないが、通常、本発明の組成物
に対して0.1〜lo%用いるのが好ましく、0.5〜
5%用いるのがさらに好ましい。
The amount of the stabilizer to be used cannot be determined unconditionally since it varies depending on the type of stabilizer, but it is usually preferably used in an amount of 0.1 to 10%, and 0.5 to 10%, based on the composition of the present invention.
It is more preferable to use 5%.

こうした利点を有する本発明の共沸溶剤組成物は、油脂
やグリースの除去のほか、半導体に用いるシリコンウェ
ハーや水晶、セラミックスなどのカッティングや研磨な
どの加工時の仮止め用ワックス類の除去、フォトレジス
トの剥離除去、フラックスの除去などに用いる洗浄剤と
して宵月である。
The azeotropic solvent composition of the present invention, which has these advantages, can be used not only to remove oil and grease, but also to remove waxes used for temporary fixing during processing such as cutting and polishing of silicon wafers, crystals, and ceramics used in semiconductors, and for photo-removal. Yougetsu is a cleaning agent used for peeling off resist, removing flux, etc.

つぎに実施例をあげて本発明の共沸溶剤組成物を説明す
るが、本発明はかかる実施例のみに限定されるものでは
ない。
Next, the azeotropic solvent composition of the present invention will be explained with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

実施例1 フロン−132bとフロン−03とのそれぞれ150g
および150gの混合物300gを蒸溜フラスコに入れ
、理論段数30段の精留塔を用いて常圧下に蒸溜を行な
った。その結果、44.2℃において共沸を呈し、その
留分をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、
組成はフロン−132bが48.1%でフロン−113
が51.9%であった。
Example 1 150g each of Freon-132b and Freon-03
300 g of a mixture of 150 g and 150 g was placed in a distillation flask, and distilled under normal pressure using a rectification column with 30 theoretical plates. As a result, an azeotrope was observed at 44.2°C, and the fraction was analyzed by gas chromatography.
The composition is 48.1% Freon-132b and Freon-113.
was 51.9%.

実施例2 つぎの要領でシリコンウェハー加工において一時仮止め
材として使用されているワックス類の溶解性を調べた。
Example 2 The solubility of waxes used as temporary fixing materials in silicon wafer processing was investigated in the following manner.

第1表に示す溶剤longをそれぞれ容ffi 200
ccのビーカーに入れ40℃に加温した。ついで攪拌し
ながら粉末にしたワックスとしてエレクトロンワックス
およびステッキワックス(いずれも日化精工■製)を徐
々に加えて溶解性を観察した。
Each of the solvents shown in Table 1 has a capacity of 200
The mixture was placed in a cc beaker and heated to 40°C. Then, while stirring, powdered waxes such as electron wax and cane wax (both manufactured by Nikka Seiko ■) were gradually added to the mixture, and the solubility was observed.

結果を第1表に示す。The results are shown in Table 1.

溶解性の評価はっぎの基準に従って行なった。Evaluation of solubility was carried out according to Haggi's standards.

◎:フラックス度2%以上溶解 O:ワックス濃度1%以上2%まで溶解Δ:フラックス
度1%まで溶解 ×:溶解せず 実施例3 電気回路が組み込まれたフェノール樹脂よりなるプリン
ト基板(BOX 50mm)の全面に■タムラ製作所製
のブレフラックス(B−111B)を塗布し、ついでポ
ストフラックス(P−230V)を塗布したのち、約2
50℃の電気炉中で2分間焼成した。焼成後炉からプリ
ント基板を取り出して室温にまで冷却したのち、第1表
に示す溶剤が入っている浸漬−蒸気洗浄タイブの二槽式
洗浄機[ブランソン(Branson)社製モデルUP
−12101で1分間の浸漬洗浄(超音波洗浄)、つい
で30秒間の蒸気洗浄を行なってフラックスの除去の度
合を7011定した。フラックスの除去の度合は肉眼に
より観察した。
◎: Melted to a flux level of 2% or more O: Melted to a wax concentration of 1% to 2% Δ: Melted to a flux level of 1% ×: Not dissolved Example 3 Printed circuit board made of phenolic resin with built-in electric circuit (BOX 50 mm) ) Apply Breflux (B-111B) made by Tamura Manufacturing Co., Ltd. to the entire surface, then apply Postflux (P-230V), and then apply approximately 2
It was fired for 2 minutes in an electric furnace at 50°C. After firing, the printed circuit board was taken out of the furnace and cooled to room temperature, and then washed using a two-tank immersion-steam cleaning machine [Model UP manufactured by Branson Corporation] containing the solvents shown in Table 1.
-12101 for 1 minute immersion cleaning (ultrasonic cleaning) and then steam cleaning for 30 seconds to determine the degree of flux removal at 7011. The degree of flux removal was visually observed.

それらの結果を第1表に示す。The results are shown in Table 1.

第1表中、 0:良 好 △:やや不良(基板表面に白色残渣) ×:不 良 である。In Table 1, 0: Good △: Slightly defective (white residue on the board surface) ×:Poor It is.

実施例4 第1表に示す各溶剤につき、素材(プラスチック)に対
する影響(膨潤度)をっぎの要領で調べた。
Example 4 For each solvent shown in Table 1, the influence (swelling degree) on the material (plastic) was investigated in the manner described below.

100ccの耐圧ガラスビンに第1表に示す溶剤100
gと同表に示すプラスチック試験片(5X50X 21
11)を入れて、温度50’Cの恒温槽中に4時間放置
し、取出したのち、ただちに重量増加および体積増加を
調べた。
100% of the solvent shown in Table 1 in a 100cc pressure-resistant glass bottle
g and the plastic test piece shown in the same table (5X50X21
11) was placed in a constant temperature bath at a temperature of 50'C for 4 hours, and after taking it out, the weight increase and volume increase were immediately examined.

結果を第1表に示す。The results are shown in Table 1.

評価は 02重量または体積増加O〜2% ○:型重量たは体積増加2〜5% Δ:型重量たは体積増加5%以上 X:溶 解 とした。Evaluation 02 Weight or volume increase O ~ 2% ○: Mold weight or volume increase 2-5% Δ: Mold weight or volume increase 5% or more X: Dissolution And so.

[発明の効果コ 本発明の共沸溶剤組成物は、フロン系溶剤のオゾン層の
破壊の原因と考えられているフロン−113の使用量を
大幅に減少させることができるうえ、フロン−113と
フロン−132bの調和のとれた溶解力を発揮し、かつ
不燃性であり、しかも共沸混合物の利点である使用時の
液管理や回収、再使用における取り扱い容易性を兼ね備
えた極めて優れた溶剤組成物であり、さらに被溶解物質
の幅をも拡げることもできるという優れた効果を奏する
ものである。
[Effects of the Invention] The azeotropic solvent composition of the present invention can significantly reduce the amount of fluorocarbon-113 used, which is thought to be the cause of ozone layer destruction in fluorocarbon-based solvents. An extremely excellent solvent composition that exhibits the harmonious dissolving power of Freon-132b, is non-flammable, and also has the advantages of an azeotropic mixture, such as ease of handling during liquid management, recovery, and reuse. Furthermore, it has the excellent effect of expanding the range of substances to be dissolved.

特許出願人  ダイキン工業株式会社 手続補正書印釦 昭和62年7月8日 特許庁長官 小川邦人 殿         i萱1事
件の表示 昭和62年特許願第131027号 名 称  (285)ダイキン工業株式会社代表者 山
 1) 稔 済 シ 切 5補正の対象 (1)  明細書の「発明の詳細な説明」の欄6補正の
内容 (1)明細書3頁10行の「5.7%」を「6%」と補
正する。
Patent Applicant: Daikin Industries, Ltd. Procedural Amendment Seal: July 8, 1985 Commissioner of the Patent Office: Mr. Kunito Ogawa, Case I 萱1 Indication of Patent Application No. 131027, 1985 Name (285) Representative of Daikin Industries, Ltd. Mountain 1) Subject of the 5th amendment in the completed section (1) Contents of the 6th amendment in the "Detailed Description of the Invention" section of the specification (1) Changed "5.7%" on page 3, line 10 of the specification to "6%" and correct it.

(′2J  同4頁10〜11行の「オゾン層を破壊す
ることはない」を「オゾン層の破壊に殆ど影響を与えな
い」と補正する。
('2J, p. 4, lines 10-11, ``Does not destroy the ozone layer'' is corrected to ``Has almost no effect on the destruction of the ozone layer.''

(3)同4頁17行の「有機系」を「高分子」と補正す
る。
(3) "Organic" on page 4, line 17 is corrected to "polymer."

(4)  同5頁5行の「化学的にJを「化学的には比
較的」と補正する。
(4) "Chemically J" on page 5, line 5 is corrected to "chemically comparative."

(5)同7頁2行の「ピリジン」を「ピペリジン」と補
正する。
(5) Correct “pyridine” in line 2 of page 7 to “piperidine”.

(6)  同7頁3行の「アミン類」を「アミン類、ベ
ンゾトリアゾール、2−(2°−ヒドロキシ−5−メチ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール、クロロベンゾトリア
ゾールなどのトリアゾール類」と補正する。
(6) "Amines" on page 7, line 3 is corrected to "amines, triazoles such as benzotriazole, 2-(2°-hydroxy-5-methylphenyl)benzotriazole, and chlorobenzotriazole."

(7′)同7頁15行の「剥離」を「剥離剤」と補正す
る。
(7') "Removal" on page 7, line 15 is corrected to "removal agent."

(8)  同9頁10〜12行の「約250℃の・・・
・・・冷却したのち」を「約250℃でハンダづけした
(8) On page 9, lines 10-12, “At about 250℃...
...After cooling, it was soldered at about 250°C.

このプリント基板を室温で1時間放冷したのち」と補正
する。
Let this printed circuit board cool for one hour at room temperature.''

(9)  同9頁13〜14行の[蒸気洗浄タイプ・・
・・・・モデルUP−1210]で」を「蒸気洗浄の二
槽式洗浄機で」と補正する。
(9) [Steam cleaning type...] on page 9, lines 13-14.
... model UP-1210] is corrected to "with a two-tank steam cleaning machine."

(財) 同9頁15行の「30秒」を「1分」と補正す
る。
(Foundation) Correct "30 seconds" on page 9, line 15 to "1 minute."

以  上that's all

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 1,2−ジクロロ−1,1−ジフルオロエタン48
.1重量%と1,1,2−トリクロロ−1,2,2−ト
リフルオロエタン51.9重量%とからなる共沸溶剤組
成物。
1 1,2-dichloro-1,1-difluoroethane 48
.. 1% by weight and 51.9% by weight of 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroethane.
JP13102787A 1987-05-27 1987-05-27 Azeotropic solvent composition Pending JPS63295699A (en)

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JP13102787A JPS63295699A (en) 1987-05-27 1987-05-27 Azeotropic solvent composition

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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