JPS63291625A - Treatment of exhaust gas and fluidized bed type adsorption tower used for treatment thereof - Google Patents

Treatment of exhaust gas and fluidized bed type adsorption tower used for treatment thereof

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JPS63291625A
JPS63291625A JP62127588A JP12758887A JPS63291625A JP S63291625 A JPS63291625 A JP S63291625A JP 62127588 A JP62127588 A JP 62127588A JP 12758887 A JP12758887 A JP 12758887A JP S63291625 A JPS63291625 A JP S63291625A
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JP
Japan
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exhaust gas
scrubber
adsorption tower
gas
main body
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JP62127588A
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Japanese (ja)
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Toru Shinagawa
品川 徹
Masahiko Hatano
波多野 正彦
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Toyo Sanso Ltd
Original Assignee
Toyo Sanso Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To prevent the clogging of a gas purification cylinder and a filter and to efficiently treat exhaust gas by passing exhaust gas discharged from a reaction furnace through a scrubber and thereafter passing it through a fluidized bed type adsorption tower in which a purifying agent is floated and removing adhesive substance included in the exhaust gas. CONSTITUTION:Exhaust gas contg. harmful gas such as dischlorosilane discharged from a reaction furnace 1 in a semiconductor manufacturing factory is sucked with a vacuum pump 3 and introduced into a trickle-type scrubber 2 and harmful gas is removed by acting an alkali soln. or the like. Then the exhaust gas incorporating both nonreactive gas incapable of treating in the scrubber and adhesive substance formed in the scrubber is introduced into a fluidized bed type adsorption tower 6 in which a purifying agent such as activated carbon is floated via a pipe 5 and the adhesive substance is adsorbed and removed. Then the exhaust gas is introduced into a gas purification cylinder 9 encapsulated with the purifying agent and the residual harmful substance is throughly made harmless and treated.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は排ガス処理方法及び該処理方法に使用される流
動層式吸着塔に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to an exhaust gas treatment method and a fluidized bed adsorption tower used in the treatment method.

〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by conventional technology and invention]

半導体製造工場の反応炉から出る排ガスの処理方法の一
つとして、スクラバーを使用する方法がある。スクラバ
ーは酸化剤、水、酸、アルカリ等により容易に酸化反応
、加水分解、中和反応等をおこす排ガスに対して使用さ
れるものであり、これら酸化剤等とできるだけ効率よく
接触させて排ガス中のを害物を除害するものであり、代
表的スクラバーとして1液型スクラバー、ペンチエリ−
スクラバー等が使用されている。
One method for treating exhaust gas emitted from reactors in semiconductor manufacturing plants is to use scrubbers. Scrubbers are used for exhaust gas that easily undergoes oxidation reactions, hydrolysis, neutralization reactions, etc. with oxidizing agents, water, acids, alkalis, etc., and scrubbers are used to clean exhaust gases by bringing them into contact with these oxidizing agents as efficiently as possible. It is used to remove harmful substances, and typical scrubbers include one-component scrubbers and pentier scrubbers.
Scrubbers etc. are used.

これらスクラバーを使用する排ガスの処理方法ではスク
ラバー以外の他の処理装置と組み合わせて使用される場
合が多く、例えば、燃焼器とか、浄化剤を封入したガス
処理筒との併用が行われている。これらの併用は単独の
処理装置では充分なる処理が行い難い為の措置であり、
これらを組み合わせることにより排ガスのより良好な無
害化処理を達し得るものである。
In exhaust gas treatment methods using these scrubbers, they are often used in combination with other treatment equipment other than the scrubber, for example, in combination with a combustor or a gas treatment tube containing a purifying agent. The combination of these is a measure because it is difficult to perform sufficient processing with a single processing device.
By combining these, it is possible to achieve better detoxification treatment of exhaust gas.

代表的な排ガス処理方法の一例として、反応炉の排ガス
を真空ポンプで1液型スクラバーに送り該スクラバーに
おいて有害物を除去し、その後浄化剤を封入したガス処
理筒に送りここで、ガス中に残存する有毒物を除去して
無害なガスとする方法が挙げられる。
As an example of a typical exhaust gas treatment method, exhaust gas from a reactor is sent to a one-component scrubber using a vacuum pump, and harmful substances are removed in the scrubber, and then sent to a gas treatment cylinder filled with a purifying agent, where the gas is One method is to remove the remaining toxic substances and turn them into harmless gases.

又、シラン等の自然発火性のガスを処理する場合は上記
方法中の1液型スクラバーの代わりに燃焼器、ベンチュ
リースクラバー及びフィルターを使用する方法も行われ
ている。
Furthermore, when treating pyrophoric gases such as silane, a method using a combustor, a venturi scrubber, and a filter instead of the one-component type scrubber in the above method is also used.

従来のこの様な方法において、スクラバーを通過したガ
ス中に粘着状物質が混在する場合があり、これらの粘着
状物質がガス処理筒或いはフィルターに付着してこれら
に目詰りを生じてしまいその結果処理能率を著しく低下
させる等の不具合を生じていた。この様な粘着状物質は
例えば、四ツ・7化ケイ素、ジクロルシラン、トリクロ
ルシラン、四塩化ケイ素等の排ガスをスクラバーにおい
て水等を接触させた場合に発生するものであり、その実
体は明らかではないが、シロキサンやフルオロケイ酸等
であると想像される。
In conventional methods like this, sticky substances may be mixed in the gas that has passed through the scrubber, and these sticky substances may adhere to the gas treatment cylinder or filter, clogging them, resulting in This caused problems such as a significant decrease in processing efficiency. Such sticky substances are generated, for example, when exhaust gases such as silicon tetra-silicon heptide, dichlorosilane, trichlorosilane, and silicon tetrachloride are brought into contact with water, etc. in a scrubber, and its actual nature is not clear. is thought to be siloxane, fluorosilicic acid, etc.

本発明はこの様な粘着状物質を除外してガス処理筒やフ
ィルターに目詰まりを生じさせることのない、ひいては
排ガスの能率的処理が行える処理方法及びその装置を提
供することを目的とするものである。
It is an object of the present invention to provide a treatment method and apparatus that eliminate such sticky substances and prevent clogging of gas treatment tubes and filters, and that can efficiently treat exhaust gas. It is.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明方法は、上記課題を解決するため、反応炉内から
排出される有毒ガスを含む排ガスを吸引し、吸引した排
ガスをスクラバーに送り、該スクラバーにおいて酸化剤
溶液、水、酸溶液、或いはアルカリ溶液を作用させて大
部分の有害ガスを除去した後浄化剤を封入したガス処理
筒に送り清浄化して無害なガスとする排ガス処理方法に
おいて、スクラバー通過後の排ガスを浄化剤の浮遊する
流動層式吸着塔中を通過させ、該吸着塔においてスクラ
バー通過時に発生し同伴されてくる排ガス中の粘着状物
質を除去するという構成を有するものであり、又、本発
明の装置は、内部に浄化剤を浮遊させるための空間を有
する筒状の吸着塔本体を備え、該本体の底面にはスクラ
バーの排ガス排出口に連結される排ガス導入用の導入口
が設けられ、上面には排ガス排出用の排出口が設けられ
、上記導入口は吸着塔本体底面より突出形成された導入
管の上面を液管の径より大なる径を有するキャップによ
り本体底面と隙間を設けて被覆するとともに上記導入管
の側壁に排ガス流出用の孔を設け、液孔より導入管とキ
ャップの空隙部を通りキャップと本体底面との隙間より
本体内部へ排ガスが導入される様に構成された導入口で
あり、ブロアーにより排ガスを導入口より吸着塔本体を
経て排出口に移送することにより本体内部に載置された
浄化剤が浮遊する襟構成されてなるという構成を有する
ものである。
In order to solve the above problems, the method of the present invention sucks exhaust gas containing toxic gas discharged from the reactor, sends the sucked exhaust gas to a scrubber, and in the scrubber, oxidizer solution, water, acid solution, or alkaline solution is used. In an exhaust gas treatment method in which a solution is applied to remove most of the harmful gases and then the gas is sent to a gas treatment cylinder filled with a purifying agent to be purified and made into harmless gas, the exhaust gas after passing through a scrubber is processed into a fluidized bed in which the purifying agent is suspended. The device of the present invention has a structure in which sticky substances are removed from the exhaust gas that is generated and entrained when passing through a scrubber in the adsorption tower. The main body has a cylindrical adsorption tower body with a space for suspending the gas, and the bottom of the main body is provided with an inlet for introducing exhaust gas that is connected to the exhaust gas outlet of the scrubber. An outlet is provided, and the inlet is covered with a cap having a diameter larger than the diameter of the liquid tube, covering the upper surface of the inlet tube protruding from the bottom surface of the adsorption tower main body, with a gap between the bottom surface of the main body and the side wall of the inlet tube. This is an inlet configured so that exhaust gas is introduced into the main body from the liquid hole through the gap between the introduction pipe and the cap, and from the gap between the cap and the bottom of the main body. It has a structure in which a collar is formed in which the purifying agent placed inside the main body floats by transferring it from the inlet through the adsorption tower main body to the outlet.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図に示すものは本発明方法の一例を実施するための
排ガス処理装置のフローシートを示すものである。第1
図において、反応炉1と1液型スクラバー2が真空ポン
プ3を介してパイプ4により連結され、1液型スクラバ
ー2の上部より突出しているパイプ5を流動層式吸着塔
6底部に連結し、該吸着塔6上部に突出するパイプ7を
ブロアー8を介してガス処理筒9上部に連結する。
What is shown in FIG. 1 is a flow sheet of an exhaust gas treatment apparatus for carrying out an example of the method of the present invention. 1st
In the figure, a reactor 1 and a one-component scrubber 2 are connected by a pipe 4 via a vacuum pump 3, and a pipe 5 protruding from the top of the one-component scrubber 2 is connected to the bottom of a fluidized bed adsorption tower 6. A pipe 7 protruding from the top of the adsorption tower 6 is connected to the top of a gas treatment cylinder 9 via a blower 8.

又、第1図中15は圧力計、16は接点付圧力計、17
は排気ファンを示すものである。
Also, in Fig. 1, 15 is a pressure gauge, 16 is a pressure gauge with contacts, and 17 is a pressure gauge.
indicates an exhaust fan.

本発明における流動層式吸着塔6は第3図に示す如(、
内部に浄化剤18を浮遊させるための空間19を有する
筒状の吸着塔本体20を有しており、該本体20の底面
21にはスクラバーの排ガス排出口に連結される排ガス
導入口22が設けられており、又、吸着塔本体20の上
面23には排ガス排出用の排出口24が設けられている
ものである。排ガス導入口22は吸着塔本体底面21よ
り突出形成された導入管25の上面を液管25の径より
大なる径を有するキャップ26により本体底面21と隙
間27を設けて被覆されている。又、導入管25の側壁
の前後左右には排ガス流出用の孔28が設けられている
The fluidized bed adsorption tower 6 in the present invention is as shown in FIG.
It has a cylindrical adsorption tower main body 20 having a space 19 for suspending the purifying agent 18 therein, and an exhaust gas inlet 22 connected to the exhaust gas outlet of the scrubber is provided on the bottom surface 21 of the main body 20. Further, an exhaust port 24 for exhaust gas is provided on the upper surface 23 of the adsorption tower main body 20. In the exhaust gas inlet 22, the upper surface of an inlet pipe 25 protruding from the bottom surface 21 of the adsorption tower main body is covered with a cap 26 having a diameter larger than the diameter of the liquid pipe 25, with a gap 27 provided between the bottom surface 21 of the main body and a gap 27. Also, holes 28 for exhaust gas outflow are provided on the front, rear, left and right sides of the side wall of the introduction pipe 25.

本発明流動層式吸着塔内に浮遊させる浄化剤はスクラバ
ーより排出される排ガス中に混在する粘着状物質を吸着
する粒子状のものであり、その具体例としては、活性炭
、活性アルミナ、シリカゲル、合成ゼオライト等が挙げ
られる。又、浄化剤の粒径は吸着塔内を流動する排ガス
等の気体の流速により多少異なるが、0.5〜3fi程
度であることが好ましい。更に吸着塔本体内部に挿入さ
れる浄化剤の量としては吸着塔のお大きさ等によって適
宜選択されるものであり、例えば、吸着塔内部の空間の
容積が151程度の場合2〜3kg程度の浄化剤を使用
することが好ましい。
The purifying agent suspended in the fluidized bed adsorption tower of the present invention is a particulate agent that adsorbs sticky substances mixed in the exhaust gas discharged from the scrubber. Specific examples thereof include activated carbon, activated alumina, silica gel, Examples include synthetic zeolite. Further, the particle size of the purifying agent varies somewhat depending on the flow rate of gas such as exhaust gas flowing in the adsorption tower, but it is preferably about 0.5 to 3 fi. Furthermore, the amount of purifying agent inserted into the adsorption tower main body is appropriately selected depending on the size of the adsorption tower, etc. For example, if the volume of the space inside the adsorption tower is about 151, approximately 2 to 3 kg of purifying agent is inserted into the adsorption tower main body. Preferably, a cleaning agent is used.

上記の様に構成される本発明流動式吸着塔6を使用した
第1図に示す本発明方法の作用に付いてジクロルシラン
を含有する排ガスの処理を対象として以下説明する。
The operation of the method of the present invention shown in FIG. 1 using the fluidized adsorption column 6 of the present invention constructed as described above will be described below with reference to the treatment of exhaust gas containing dichlorosilane.

反応炉1内の四塩化ケイ素を含有する排ガスを真空ポン
プ3で吸引し、吸引した排ガスを清液型スクラバー2内
に導入し、ここで、排ガスにアルカリ水溶液を作用させ
て排ガス中の四塩化ケイ素を分解除去する。この際排ガ
ス中に粘着状物質が生成される。
The exhaust gas containing silicon tetrachloride in the reactor 1 is sucked by the vacuum pump 3, and the sucked exhaust gas is introduced into the clear liquid type scrubber 2, where an alkaline aqueous solution is applied to the exhaust gas to remove tetrachloride from the exhaust gas. Decomposes and removes silicon. At this time, sticky substances are generated in the exhaust gas.

次ぎにスクラバーで処理できない未反応ガスと、スクラ
バーで生成された粘着状物質を含む排ガスはスクラバー
2の排出口よりバイブ5を通過して流動層式吸着塔6の
導入口22から吸着塔内部に導入される。
Next, unreacted gas that cannot be treated by the scrubber and exhaust gas containing sticky substances generated by the scrubber pass through the vibrator 5 from the exhaust port of the scrubber 2 and enter the adsorption tower from the inlet 22 of the fluidized bed adsorption tower 6. be introduced.

4人される排ガスは吸着塔本体底面21より突出成形さ
れた導入管25より液管25の排ガス流出孔28を経て
導入管25とキャップ26との空隙を通り、キャップ2
6と本体底面21との隙間27より本体内部の空間19
に導入される(第3図矢印A)。
The exhaust gas from the four people passes through the inlet pipe 25 protruding from the bottom surface 21 of the adsorption tower body, passes through the exhaust gas outflow hole 28 of the liquid pipe 25, passes through the gap between the inlet pipe 25 and the cap 26, and passes through the gap between the inlet pipe 25 and the cap 26.
6 and the bottom surface 21 of the main body from the space 19 inside the main body.
(arrow A in Figure 3).

本体内部の空間19には浄化剤18が載置されており、
排ガスの流動によりそれらが浮遊状態を呈しており、こ
こで排ガス中の粘着状物質が浄化剤18に吸着される。
A purifying agent 18 is placed in a space 19 inside the main body,
Due to the flow of the exhaust gas, they are in a floating state, and the sticky substances in the exhaust gas are adsorbed by the purifying agent 18 here.

又、反応炉からの吸引に真空ポンプを使用する場合、排
ガス中にオイルが混じることがあるがこの様なオイルも
浄化剤18により吸着することができる。
Further, when a vacuum pump is used for suction from the reactor, oil may be mixed in the exhaust gas, but such oil can also be adsorbed by the purifying agent 18.

次ぎに粘着状物質が除去された排ガスは流動層式吸着塔
6の排出口24よりパイプ7を通り処理塔9に導入され
ここで排ガス中に残存する有害物を全て除害し処理する
Next, the exhaust gas from which the sticky substances have been removed is introduced from the outlet 24 of the fluidized bed adsorption tower 6 through the pipe 7 into the treatment tower 9, where all harmful substances remaining in the exhaust gas are removed and treated.

第2図に示すものは、本発明方法の他の一例を実施する
ための排ガス処理装置のフローシートを示すものである
。第2図においては、清液型スクラバーの代わりヘンチ
ュリースクラバ−29を使用したものであり、又、反応
炉1とペンチエリ−スクラバー29の間に燃焼器30を
接続し、更に流動層式吸着等6とブロアー8との間にフ
ィルター31を接続した構成を有するものである。
What is shown in FIG. 2 is a flow sheet of an exhaust gas treatment apparatus for carrying out another example of the method of the present invention. In Fig. 2, a Hentury scrubber 29 is used instead of a clear liquid type scrubber, and a combustor 30 is connected between the reactor 1 and the Pentieri scrubber 29, and a fluidized bed type adsorption, etc. It has a configuration in which a filter 31 is connected between the blower 6 and the blower 8.

ベンチュリースクラバー29は微粉末を含有する排ガス
の処理に利用されるものであり、又、燃焼器30は可燃
性のガスを燃やして熱的に安定な酸化物に変えるもので
ある。この燃焼器30において燃焼された排ガス中には
固体燃焼生成物の微粉末が混在し、これを除外するため
にベンチュリースクラバー29との併用が行われている
。又、フィルター31はヘンチュリースクラバ−29に
おいて除外し得ない微粉末を除くために設けられる。
The venturi scrubber 29 is used to treat exhaust gas containing fine powder, and the combustor 30 burns combustible gas to convert it into thermally stable oxides. The exhaust gas combusted in this combustor 30 contains fine powder of solid combustion products, and in order to remove this powder, a venturi scrubber 29 is used in combination. Further, a filter 31 is provided to remove fine powder that cannot be excluded in the Hentury scrubber 29.

この様に構成された装置の作用を四フッ化ケイ素及びシ
ランを含有する排ガスの処理について説明する。
The operation of the apparatus constructed in this way will be explained with respect to the treatment of exhaust gas containing silicon tetrafluoride and silane.

反応炉1から排出された四フッ化ケイ素及びシランを含
有する排ガスを燃焼器30に導入し、ここで四フッ化ケ
イ素及びシランを燃焼して酸化ケイ素とした後、排ガス
はベンチュリースクラバー29に送られる。
The exhaust gas containing silicon tetrafluoride and silane discharged from the reactor 1 is introduced into the combustor 30, where the silicon tetrafluoride and silane are burned to form silicon oxide, and then the exhaust gas is sent to the venturi scrubber 29. It will be done.

燃焼器30で生成した酸化ケイ素の粉体と未反応の四フ
ッ化ケイ素はベンチュリースクラバー29において水を
作用させて洗浄処理されるが、この際排ガス中に粘着状
物質が生成される。スクラバー29において燃焼器30
から送られてきた酸化ケイ素は、水によってスクラバ−
29外部に排出される。
The silicon oxide powder produced in the combustor 30 and the unreacted silicon tetrafluoride are cleaned in a venturi scrubber 29 by the action of water, but at this time a sticky substance is produced in the exhaust gas. The combustor 30 in the scrubber 29
The silicon oxide sent from the
29 is discharged to the outside.

一方排ガスはスクラバ−29排出口よりパイプ5を通過
して流動層式吸着塔6の導入口22から吸着塔6内部に
導入される。この排ガス中にも上記第1図の実施例と同
様粘着状物質が混在しているが、吸着塔6に於いてこの
粘着状物質を除去することができる。従って、吸着塔6
からフィルター31に送られる排ガス中には粘着状物質
は存在せず、フィルター31を目詰まりさせることはな
い、フィルター31を通過した排ガスは上記第1図の実
施例と同様に処理される。
On the other hand, the exhaust gas passes through the pipe 5 from the exhaust port of the scrubber 29 and is introduced into the adsorption tower 6 from the inlet 22 of the fluidized bed adsorption tower 6. This exhaust gas also contains sticky substances as in the embodiment shown in FIG. 1, but this sticky substance can be removed in the adsorption tower 6. Therefore, the adsorption tower 6
There is no sticky substance in the exhaust gas sent from the filter 31 to the filter 31, which will not clog the filter 31.The exhaust gas that has passed through the filter 31 is treated in the same manner as in the embodiment shown in FIG. 1 above.

本発明吸着等を使用した場合にフィルターの詰り具合を
どの程度解消することができるかに付いて第4図にその
試験例を示す。
FIG. 4 shows a test example to see how much clogging of a filter can be eliminated when the adsorption method of the present invention is used.

第4図に示されるグラフはバグフィルタ−の差圧変化を
示すものであり、第4図中Aは反応炉から500ρp蒙
の四塩化ケイ素を含有する排ガスをペンチエリ−スクラ
バー、本発明吸着等を介してバグフィルタ−に排ガスを
導入した際のフィルターの差圧変化を示すのもであり、
Bは同様のガスを反応炉からペンチエリ−スクラバーを
介して直接バグフィルタ−に排ガスを導入した際のフィ
ルターの差圧変化を示すものである。
The graph shown in Fig. 4 shows the change in the differential pressure of the bag filter, and A in Fig. 4 indicates that the exhaust gas containing 500 p of silicon tetrachloride from the reactor is removed using a pentier scrubber, the adsorption method of the present invention, etc. It shows the change in the differential pressure of the filter when exhaust gas is introduced into the bag filter through the filter.
B shows the change in differential pressure across the filter when a similar gas is directly introduced into the bag filter from the reactor via the Pentier scrubber.

この様に本発明の流動層式吸着塔を使用した場合はフィ
ルターの差圧は変化なく、使用しない場合は差圧は時間
の経過とともに単調増加しておりフィルターの目詰まり
が激しいことが明らかである。
In this way, when the fluidized bed adsorption tower of the present invention is used, the differential pressure across the filter does not change, but when it is not used, the differential pressure increases monotonically over time, which clearly indicates that the filter is severely clogged. be.

本発明方法により処理する排ガスはスクラバーを通過さ
せた際に粘着状物質を発生するガスを少なくとも1種含
有するものであり、例えば、四フッ化ケイ素、ジクロル
シラン、トリクロルシラン、四塩化ケイ素等のガスを少
なくとも1種含有するガスが挙げられる。
The exhaust gas treated by the method of the present invention contains at least one gas that generates sticky substances when passed through the scrubber, such as silicon tetrafluoride, dichlorosilane, trichlorosilane, silicon tetrachloride, etc. Examples include gases containing at least one type of.

以上説明してきた様に本発明処理方法及びそれに使用さ
れる流動式吸着塔は種々の態様に使用できるものである
As explained above, the treatment method of the present invention and the fluidized adsorption tower used therein can be used in various embodiments.

本発明方法及び装置は上記した実施例に限定されるもの
ではなく、本発明の要旨を変えることのない範囲でいか
なる構成、材質、形状の変化も可能である。
The method and apparatus of the present invention are not limited to the above-described embodiments, and any changes in structure, material, and shape may be made without departing from the gist of the present invention.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明した様に、本発明装置を使用した本発明排ガス
の処理方法によれば、スクラバー通過後に排ガス中に混
在する粘着状物質を除去することができ、その結果、粘
着状物質が後続するフィルターやガス処理筒とかの処理
装置を目詰まりさせることはなく、その結果、フィルタ
ー或いは洗浄剤の交換等の頻度を極力少なくすることが
でき、能率の良い排ガスの処理が行えるものである。
As explained above, according to the method for treating exhaust gas of the present invention using the device of the present invention, sticky substances mixed in the exhaust gas after passing through the scrubber can be removed, and as a result, the sticky substances follow the filter. As a result, the frequency of replacing filters or cleaning agents can be minimized, and exhaust gas can be treated efficiently.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

図面は本発明の実施例を示すもので、第1図は本発明方
法の一例を実施するための処理装置のフローシート、第
2図は本発明方法の他の一例を実施するための排ガス処
理装置のフローシート、第3図は本発明流動層式吸着等
の一実施例を示す縦断面図、第4図はバグフィルタ−の
差圧変化を示すグラフである。 1・・・反応炉、2・・・溜液型スクラバー。 6・・・流動層式吸着塔、8・・・ブロアー。 9・・・ガス処理筒、18・・・浄化剤。 19・・・空間、20  ・・・吸着塔本体。 21・・・吸着塔本体底面、22・・・排ガス導入口。 23・・・吸着塔本体上面、24  ・・・排出口。 25・・・導入管、26・・・キャンプ。 27・・・隙間、28・・・孔。 29・・・ペンチェリースクラバー 第1図 第2図 第3図 ′1(′I i 第4図 時 te’l  (min、) 手続争甫正書印発) 3、補正をする者 住所 東京都千代田区岩本町2−10−2以上
The drawings show embodiments of the present invention, and FIG. 1 is a flow sheet of a treatment apparatus for implementing one example of the method of the present invention, and FIG. 2 is a flow sheet of an exhaust gas treatment for implementing another example of the method of the present invention. A flow sheet of the apparatus, FIG. 3 is a vertical cross-sectional view showing an embodiment of the fluidized bed adsorption method of the present invention, and FIG. 4 is a graph showing changes in differential pressure of a bag filter. 1... Reactor, 2... Reservoir type scrubber. 6... Fluidized bed adsorption tower, 8... Blower. 9... Gas processing cylinder, 18... Purification agent. 19...Space, 20...Adsorption tower body. 21...Bottom surface of adsorption tower main body, 22...Exhaust gas inlet. 23...Top surface of adsorption tower main body, 24...Discharge port. 25...Introduction pipe, 26...Camping. 27... Gap, 28... Hole. 29...Pencherry Scrubber Figure 1 Figure 2 Figure 3 '1 ('I i Figure 4 time te'l (min,) Procedural dispute official seal) 3. Address of the person making the amendment Tokyo. 2-10-2 and above Iwamotocho, Chiyoda-ku

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)反応炉内から排出される有毒ガスを含む排ガスを
吸引し、吸引した排ガスをスクラバーに送り、該スクラ
バーにおいて酸化剤溶液、水、酸溶液、或いはアルカリ
溶液を作用させて大部分の有害ガスを除去した後浄化剤
を封入したガス処理筒に送り清浄化して無害なガスとす
る排ガス処理方法において、スクラバー通過後の排ガス
を浄化剤の浮遊する流動層式吸着塔中を通過させ、該吸
着塔においてスクラバー通過時に発生し同伴されてくる
排ガス中の粘着状物質を除去することを特徴とする排ガ
ス処理方法。
(1) The exhaust gas containing toxic gas discharged from the reactor is sucked, the sucked exhaust gas is sent to a scrubber, and the scrubber is treated with an oxidizer solution, water, acid solution, or alkaline solution to remove most of the harmful gases. In an exhaust gas treatment method in which after gas is removed, the gas is sent to a gas processing cylinder filled with a purifying agent to be purified and made into harmless gas. An exhaust gas treatment method characterized by removing sticky substances from exhaust gas generated and entrained when passing through a scrubber in an adsorption tower.
(2)内部に浄化剤を浮遊させるための空間を有する筒
状の吸着塔本体を備え、該本体の底面にはスクラバーの
排ガス排出口に連結される排ガス導入用の導入口が設け
られ、上面には排ガス排出用の排出口が設けられ、上記
導入口は吸着塔本体底面より突出形成された導入管の上
面を該管の径より大なる径を有するキャップにより本体
底面と隙間を設けて被覆するとともに上記導入管の側壁
に排ガス流出用の孔を設け、該孔より導入管とキャップ
の空隙部を通りキャップと本体底面との隙間より本体内
部へ排ガスが導入される様に構成された導入口であり、
ブロアーにより排ガスを導入口より吸着塔本体を経て排
出口に移送することにより本体内部に載置された浄化剤
が浮遊する様構成されてなることを特徴とする排ガス処
理方法に使用される流動層式吸着塔。
(2) Equipped with a cylindrical adsorption tower body having a space for suspending the purifying agent inside, the bottom of the body is provided with an inlet for introducing exhaust gas connected to the exhaust gas outlet of the scrubber, and the upper is provided with an exhaust port for discharging exhaust gas, and the above-mentioned inlet is covered with a cap having a diameter larger than that of the main body, with a gap formed between the top surface of the inlet pipe formed protruding from the bottom surface of the adsorption tower main body and the bottom surface of the main body. At the same time, a hole for exhaust gas outflow is provided in the side wall of the introduction pipe, and the exhaust gas is introduced from the hole through the gap between the introduction pipe and the cap into the main body through the gap between the cap and the bottom of the main body. is the mouth;
A fluidized bed used in an exhaust gas treatment method, characterized in that the exhaust gas is transferred by a blower from the inlet, through the adsorption tower body, and to the outlet, so that a purifying agent placed inside the body is suspended. type adsorption tower.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5855651A (en) * 1994-11-29 1999-01-05 Asahi Denka Kogyo K.K. Method for processing waste gas exhausted from chemical vapor and deposition equipment
EP0916388A2 (en) * 1997-11-14 1999-05-19 Hitachi, Ltd. A method for processing perfluorocarbon and an apparatus therefor
US5961695A (en) * 1997-03-26 1999-10-05 Shin-Etsu Chemical Col., Ltd. Method for treating silane-containing gas
US8231851B2 (en) 1997-11-14 2012-07-31 Hitachi, Ltd. Method for processing perfluorocarbon, and apparatus therefor

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5855651A (en) * 1994-11-29 1999-01-05 Asahi Denka Kogyo K.K. Method for processing waste gas exhausted from chemical vapor and deposition equipment
US5961695A (en) * 1997-03-26 1999-10-05 Shin-Etsu Chemical Col., Ltd. Method for treating silane-containing gas
EP0916388A2 (en) * 1997-11-14 1999-05-19 Hitachi, Ltd. A method for processing perfluorocarbon and an apparatus therefor
EP0916388A3 (en) * 1997-11-14 1999-12-08 Hitachi, Ltd. A method for processing perfluorocarbon and an apparatus therefor
US7641867B2 (en) 1997-11-14 2010-01-05 Hitachi, Ltd. Apparatus for processing perfluorocarbon
US8231851B2 (en) 1997-11-14 2012-07-31 Hitachi, Ltd. Method for processing perfluorocarbon, and apparatus therefor

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