JPS63288988A - Substrate conveying mechanism - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
分子線結晶成長装置の基板搬送機構において、基板搬送
室内にトランスファーロッドの移動軸に対し垂直な方向
に設けられ、その方向に移動可能な回転軸と、その回転
軸を中心軸として回転軸に固定させた複数の多角柱形状
部とを設け、該多角柱形状部の側面にマウンティングブ
ロックを嵌挿して保持する基板マウンティングブロック
設置保持体を設けることにより、基板搬送室内の容積を
大きくしない状態で基板を多数設置できるようにする。[Detailed Description of the Invention] [Summary] A substrate transfer mechanism of a molecular beam crystal growth apparatus includes a rotation shaft that is provided in a substrate transfer chamber in a direction perpendicular to the movement axis of a transfer rod and that is movable in that direction; By providing a plurality of polygonal column-shaped parts fixed to the rotation axis with the rotation axis as the central axis, and by providing a substrate mounting block installation holder that fits and holds the mounting block on the side surface of the polygonal column-shaped part, the substrate can be mounted. To enable a large number of substrates to be installed without increasing the volume inside a transfer chamber.
本発明は分子線エピタキシャル成長装置の基板搬送機構
に関する。The present invention relates to a substrate transport mechanism for a molecular beam epitaxial growth apparatus.
近年、分子線エピタキシャル成長方法は、その特徴であ
るすぐれた膜厚制御性を用いて超格子構造や、選択ドー
プ構造等を用いて新デバイスを実現させる成長方法とし
て脚光を浴びている。In recent years, the molecular beam epitaxial growth method has been attracting attention as a growth method that uses its characteristic excellent film thickness controllability to realize new devices using superlattice structures, selective doping structures, etc.
特にこの方法を用いて開発された高電子移動度トランジ
スタ（ＩＩＥＭＴ）等のデバイスは実用化段階に入った
・
更にこれらの半導体装置のＬＳＩ化が促進されている。In particular, devices such as high electron mobility transistors (IIEMTs) developed using this method have entered the stage of practical use.Furthermore, the conversion of these semiconductor devices into LSIs is being promoted.
このような状況に伴い、分子線結晶成長装置は、現状の
研究、実験タイプより新しい量産タイプになる傾向にあ
る。この量産タイプの分子線エピタキシャル成長装置は
、スルーブツトを向上させるため、一度に大量の半導体
基板を結晶成長装置内にセントできる基板搬送機構を持
つことが必要不可欠とされている。Under these circumstances, there is a tendency for molecular beam crystal growth equipment to become a new mass-produced type rather than the current research and experimental type. In order to improve throughput, this mass-produced molecular beam epitaxial growth apparatus must have a substrate transport mechanism that can feed a large amount of semiconductor substrates into the crystal growth apparatus at one time.
このような従来の分子線エピタキシャル成長装置の要部
は、第４図に示すように１０−’ｔｏｒｒの真空度に排
気された基板搬送室１と、この基板搬送室１とゲートバ
ルブ２を介して隣接し、１０− ” ｔｏｒｒの真空度
に排気され、基板上に形成すべきエピタキシャル層形成
用のソース材料を収容した分子線源セル３を備えた結晶
成長室４とより成る。The main parts of such a conventional molecular beam epitaxial growth apparatus are as shown in FIG. It consists of a crystal growth chamber 4 adjacent thereto, evacuated to a vacuum level of 10-'' Torr, and equipped with a molecular beam source cell 3 containing a source material for forming an epitaxial layer to be formed on a substrate.
基板搬送室１内には第５図に示すように、基板５を載置
した基板マウンティングブロック６を多数設置するため
に多数の基板マウンティングブロック設置保持体７が設
けられたモリブデン（Ｍｏ）よりなる円板状の基板搬送
室保持部８（カル−セル）が備えられている。As shown in FIG. 5, inside the substrate transfer chamber 1, a large number of substrate mounting block installation holders 7 made of molybdenum (Mo) are provided in order to install a large number of substrate mounting blocks 6 on which substrates 5 are placed. A disk-shaped substrate transfer chamber holding section 8 (carcell) is provided.
更に結晶成長室４内には、基板マウンティングプ！ツタ
設置保持体７を先端部に設けた基板マニピュレータ９が
設置されている。Furthermore, inside the crystal growth chamber 4, there is a substrate mounting plate! A substrate manipulator 9 having an ivy installation holder 7 at its tip is installed.
更に基板搬送室１内には、マグネット１０により前進、
後退の移動が可能なトランスファーロッド１１が挿入さ
れ、その先端部には基板マウンティングブロック設置保
持体７が設けられている。Furthermore, inside the substrate transfer chamber 1, the magnet 10 moves the
A transfer rod 11 that can move backward is inserted, and a substrate mounting block installation holder 7 is provided at its tip.
前記した基板搬送室１内の基板搬送室保持部８等に設け
られる基板マウンティングブロック設ｆｆ保持体７には
、第６図に示すように円環状部により第７図のような基
板マウンティングブロック６が嵌挿される凹部１４が構
成されており、円環状部には基板マウンティングブロッ
ク６のビン１２が嵌合する切り欠き部１３が設けられて
いる。また基板搬送室保持部８には、基板マウンティン
グブロック６を設置したトランスファーロッド１１が通
過するための開口部１５が設けられている。As shown in FIG. 6, the substrate mounting block holder 7 provided in the substrate transfer chamber holder 8 and the like in the substrate transfer chamber 1 has an annular portion to support the substrate mounting block 6 as shown in FIG. A recess 14 is formed into which the board mounting block 6 is fitted, and the annular part is provided with a notch 13 into which the pin 12 of the board mounting block 6 is fitted. Further, the substrate transfer chamber holding section 8 is provided with an opening 15 through which the transfer rod 11 on which the substrate mounting block 6 is installed passes.
このような分子線結晶成長装置に於いて、トランスファ
ーロッド１１を用いて、基板搬送室１内の基板搬送室保
持部８上に設置されている基板マウンティングブロック
６を、結晶成長室４内の基板マニピュレータ９に設置す
る場合について述べる。In such a molecular beam crystal growth apparatus, the substrate mounting block 6 installed on the substrate transfer chamber holder 8 in the substrate transfer chamber 1 is moved to the substrate in the crystal growth chamber 4 using the transfer rod 11. The case where it is installed on the manipulator 9 will be described.
マグネット１０を用いてトランスファーロッド１１を前
進させ伸ばして、その先端部に設けられている基板マウ
ンティングブロック設置保持体７の爪状の切り欠き部１
３に、基板搬送室１内に設けた基板マウンティングブロ
ック６のビン１２を嵌合させ、基板マウンティングブロ
ック６を基板搬送室保持部８の保持体より外し、基板マ
ウンティングブロック６を保持した状態でトランスファ
ーロッドを後退させる。The transfer rod 11 is advanced and extended using the magnet 10, and the nail-shaped notch 1 of the substrate mounting block installation holder 7 provided at the tip thereof is
3, fit the bin 12 of the substrate mounting block 6 provided in the substrate transfer chamber 1, remove the substrate mounting block 6 from the holder of the substrate transfer chamber holding part 8, and transfer while holding the substrate mounting block 6. Retract the rod.
次いで基板搬送室保持部８を所定の角度回転させ、トラ
ンスファーロッド１１を再び前進させ、基板搬送室保持
部８の開口部１５を通して結晶室４に基板マウンティン
グブロック６を移動させ、結晶成長室４内の基板マニピ
ュレータ９の先端部に設けた基板マウンティングブロッ
ク設置保持体７に基板マウンティングブロック６を移し
換えて設置する。Next, the substrate transfer chamber holder 8 is rotated by a predetermined angle, the transfer rod 11 is moved forward again, and the substrate mounting block 6 is moved to the crystal chamber 4 through the opening 15 of the substrate transfer chamber holder 8, and the substrate mounting block 6 is moved into the crystal growth chamber 4. The substrate mounting block 6 is transferred and installed on the substrate mounting block installation holder 7 provided at the tip of the substrate manipulator 9.
ところで、基板搬送室１内に基板５を設置する場合、こ
の基板搬送室１内の真空度が低下し、それを所定の値に
成る迄排気しようとすると、長時間を要し生産性が悪く
なる。By the way, when the substrate 5 is installed in the substrate transfer chamber 1, the degree of vacuum in the substrate transfer chamber 1 decreases, and if it is attempted to evacuate the vacuum to a predetermined value, it takes a long time and productivity is poor. Become.
そのため、基板搬送室内に一変にできるだけ多数の基板
を挿入することが望まれる。Therefore, it is desirable to insert as many substrates as possible into the substrate transfer chamber at the same time.
そのため、第８図に示すように、基板を設置する基板搬
送室保持部８の表面積を大面積にし、基板５を′ｌＲ置
した基板マウンティングブロック６を出来るだけ多く設
置しよるとしたが、このようにすると、基板搬送室１内
の容積を大きくしなければ成らず、そのため、この室内
を排気する時間が多く掛かる問題がある。Therefore, as shown in FIG. 8, the surface area of the substrate transfer chamber holder 8 in which the substrates are installed is made large, and as many substrate mounting blocks 6 on which the substrates 5 are placed are installed as possible. In this case, the volume of the substrate transfer chamber 1 must be increased, which poses a problem in that it takes a long time to evacuate the chamber.
また基板搬送室保持部８の大型化に対して基板マウンテ
ィングブロック設置保持体７も同心円状に配列する必要
があるため、マウント出来る基板マウンティングブロッ
ク６の数は基板搬送室保持部の面積の増大に比して余り
増加しない欠点を有する。In addition, as the substrate transfer chamber holder 8 becomes larger, the substrate mounting block installation holders 7 need to be arranged concentrically, so the number of substrate mounting blocks 6 that can be mounted is limited due to the increase in the area of the substrate transfer chamber holder. It has the disadvantage that it does not increase much compared to the conventional one.
更に、第９図に示すように基板搬送室保持部８を多数個
配設し、この多数設けた基板搬送室保持部８上に基板５
を載置した基板マウンティングブロック６を設置しよう
と試みたが、このような方法ではこの基板搬送室保持部
８を独立して回転させる必要があり、複雑な機構を有す
る。Furthermore, as shown in FIG. 9, a large number of substrate transfer chamber holding sections 8 are provided, and the substrates 5 are placed on the substrate transfer chamber holding sections 8 provided in large numbers.
An attempt has been made to install a substrate mounting block 6 on which a substrate is placed, but such a method requires that the substrate transfer chamber holder 8 be rotated independently and requires a complicated mechanism.
そのため、各基板搬送室保持部８に対して独立した回転
軸１５Ａ、１５Ｂ、 １５Ｃが多数必要となり、装置の
構造が複雑となる問題がある。Therefore, a large number of independent rotating shafts 15A, 15B, and 15C are required for each substrate transfer chamber holder 8, which poses a problem of complicating the structure of the apparatus.
本発明は基板搬送室の容積を大きくしない状態で多数枚
の基板を収容できるような基板搬送機構の提供を目的と
する。An object of the present invention is to provide a substrate transfer mechanism that can accommodate a large number of substrates without increasing the volume of the substrate transfer chamber.
本発明によれば上記目的は、基板を載置した基板マウン
ティングブロックを分子線結晶成長装置の基板搬送室よ
り結晶成長室に搬送する機構に於いて、
該基板搬送室内に設けられ複数の該基板マウンティング
ブロックを保持する基板搬送室保持部と、該基板搬送室
保持部より前記基板マウンティンダブロツタを移し換え
保持する先端部を痔ち所定の軸に沿って後退前進するこ
とで前記基板マウンティングブロックを基板搬送室より
結晶成長室の基板マニュピレータに搬送するトランスフ
ァーロッドとを有し、前記基板搬送室保持部は前記トラ
ンスファーロッドの移動軸に対して垂直な回転軸と、該
回転軸を中心軸として該回転軸に固定された複数の多角
柱形状部と、該多角柱形状部の複数の側面に形成され前
記基板マウンティングブロックを嵌挿して保持する基板
マウンティングブロック設置保持体とを有し、前記該角
柱形状部が前記トランスファーロッドの移動軸上の位置
と、該移動軸上から外れた位置に、前記回転軸の軸方向
に沿って移動可能に形成されて成ることにより達成され
る。According to the present invention, the above object is, in a mechanism for transporting a substrate mounting block on which a substrate is mounted from a substrate transport chamber of a molecular beam crystal growth apparatus to a crystal growth chamber, a plurality of substrates provided in the substrate transport chamber. The substrate mounting block is moved back and forth along a predetermined axis by moving the substrate transfer chamber holding part that holds the mounting block and the tip part that holds the substrate mounting dowel from the substrate transfer chamber holding part and moving it backwards and forwards along a predetermined axis. It has a transfer rod for transporting the substrate from the substrate transport chamber to the substrate manipulator in the crystal growth chamber, and the substrate transport chamber holding section has a rotation axis perpendicular to the movement axis of the transfer rod, and a rotation axis about the rotation axis as a central axis. The prismatic structure has a plurality of polygonal column-shaped parts fixed to a rotating shaft, and a substrate mounting block installation holder formed on a plurality of side surfaces of the polygonal column-shaped part and into which the substrate mounting block is inserted and held, This is achieved by forming shaped parts movably along the axial direction of the rotating shaft at positions on the moving axis of the transfer rod and at positions off the moving axis.
本発明の基板搬送機構は、基板搬送室内に、トランスフ
ァーロッドの移動軸に対して垂直な方向に設けた回転軸
に複数の多角柱形状部を固定して設け、その多角柱形状
部の側面に基板マウンティングブロックを嵌合して設置
する基板マウンティングブロック設置保持体を設けるも
のである。従って本発明によれば、円板状保持部の表面
に基板マウンティングブロック設置保持体を設ける従来
の場合のように基板搬送室を大きくすることなく多数の
基板を収容できる。The substrate transfer mechanism of the present invention has a plurality of polygonal columnar sections fixed to a rotating shaft provided in a direction perpendicular to the movement axis of a transfer rod in a substrate transfer chamber, and a side surface of the polygonal columnar section. A substrate mounting block installation holder is provided in which the substrate mounting block is fitted and installed. Therefore, according to the present invention, a large number of substrates can be accommodated without enlarging the substrate transfer chamber unlike in the conventional case in which a substrate mounting block installation holder is provided on the surface of a disk-shaped holder.
以下、図面を用いながら本発明の一実施例につき詳細に
説明する。Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
第１図は本発明の一実施例の分子線エピタキシャル成長
装置の基板搬送機構を説明するための模式図で、第２図
は第１図の要部を示す斜視図、第３図は第２図を上部よ
り見た平面図である。FIG. 1 is a schematic diagram for explaining the substrate transport mechanism of a molecular beam epitaxial growth apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view showing the main parts of FIG. 1, and FIG. FIG.
第１図に示すように、本実施例の基板搬送機構に於いて
は、基板搬送室２１内に設置されている基板搬送室保持
部２２は、トランスファーロッド２９の移動軸に対して
垂直な回転軸２３と、その回転軸２３が挿入され積み重
ねられた複数の六角柱形状部より構成される。この六角
柱形状部はＭｏを用いて形成されており、その中心部の
貫通孔に第２図の如く回転駆動が可能な回転軸２３が通
され、回転軸２３の途中に設けられたストッパー２６上
で固定される。As shown in FIG. 1, in the substrate transfer mechanism of this embodiment, the substrate transfer chamber holder 22 installed in the substrate transfer chamber 21 rotates perpendicularly to the movement axis of the transfer rod 29. It is composed of a shaft 23 and a plurality of hexagonal prism-shaped parts into which the rotation shaft 23 is inserted and stacked. This hexagonal prism-shaped part is formed using Mo, and a rotating shaft 23 that can be rotated as shown in FIG. fixed on top.
積み重ねられた六角柱形状部の各側面には、それぞれ基
板マウンティングブロック設置保持体２５が設けられて
おり、基板マウンティングブロックが保持される。A substrate mounting block installation holder 25 is provided on each side of the stacked hexagonal columnar sections, and the substrate mounting block is held therein.
次に本実施例の基板搬送機構に於いて、基板を載置せる
基板マウンティングブロック２４を、基板搬送室２１よ
り結晶成長室２７内に搬送する動作について説明する。Next, the operation of transporting the substrate mounting block 24 on which a substrate is placed from the substrate transport chamber 21 into the crystal growth chamber 27 in the substrate transport mechanism of this embodiment will be described.
マグネット２８によりトランスファーロッド２９を前進
させ基板搬送室保持部２２まで伸ばし、トランスファー
ロッド２９の先端部に設けられた基板マウンティングブ
ロック設置保持体２５を、基板搬送室保持部２２に設置
されている基板マウンティングブロック２４Ａに嵌合さ
せ、基板マウンティングブロック２４Ａを基板搬送室保
持部の保持体より外し、基板マウンティングブロック２
４Ａを保持した状態でトランスファーロッド２９を後退
させる。The transfer rod 29 is advanced by the magnet 28 and extended to the substrate transfer chamber holder 22, and the substrate mounting block installation holder 25 provided at the tip of the transfer rod 29 is moved to the substrate mounting block installed in the substrate transfer chamber holder 22. the substrate mounting block 24A, and remove the substrate mounting block 24A from the holder of the substrate transfer chamber holder.
Transfer rod 29 is moved backward while holding 4A.
次いで回転軸２３を下げて基板搬送室保持部２２を下降
させて保持部２２をトランスファーロッド２９の移動軸
上から外し、ゲートバルブ３０を開いた後、トランスフ
ァーロフト２９を再び前進させて結晶成長室２７内に設
置されている基板マニピュレータ３１の先端部まで伸ば
し、そこに設置されている基板マウンティングブロック
設置保持体２５にトランスファーロッド２９より基板マ
ウンティングブロック２４八を移し力）える。Next, the rotating shaft 23 is lowered to lower the substrate transfer chamber holding part 22, removing the holding part 22 from the moving axis of the transfer rod 29, opening the gate valve 30, and moving the transfer loft 29 forward again to move the substrate transfer chamber into the crystal growth chamber. 27, and transfer the substrate mounting block 248 from the transfer rod 29 to the substrate mounting block installation holder 25 installed there.
次いでトランスファーロッド２９を基板搬送室２１まで
後退させた後、ゲートバルブ３０を閉じて基板マニピュ
レータ３１に設置された基板マウンティングブロック２
４Ａの基板上にエピタキシャル成長する。次いでエピタ
キシャル成長が終了した時点で、ゲートバルブ３０を開
き、トランスファーロッド２９を基板マニピュレータ３
１の先端まで前進させ、該トランスファーロッド２９の
基板マウンティングブロック設置保持体２５に基板マウ
ンティングブロック２４Ａを嵌合させた後、トランスフ
ァーロッド２９を後退させて基板搬送室２１の基板搬送
室保持部２２の手前（結晶成長室２７に対して反対側）
まで後退させゲートバルブ３０を閉じる。Next, after retracting the transfer rod 29 to the substrate transfer chamber 21, the gate valve 30 is closed and the substrate mounting block 2 installed on the substrate manipulator 31 is moved.
Epitaxial growth is performed on a 4A substrate. Next, when the epitaxial growth is completed, the gate valve 30 is opened and the transfer rod 29 is moved to the substrate manipulator 3.
1, and the substrate mounting block 24A is fitted into the substrate mounting block installation holder 25 of the transfer rod 29, and then the transfer rod 29 is retreated and the substrate transfer chamber holder 22 of the substrate transfer chamber 21 is moved forward. Front (opposite side to crystal growth chamber 27)
and close the gate valve 30.
次いで回転軸２３を上げて基板搬送室保持部２２を上昇
させた後、トランスファーロッド２９の設置保持体２５
に嵌合されている基板マウンティングブロック２４Ａを
基板搬送室保持部２２の基板マウンティングブロック設
置保持体２５に嵌合させて、基板マウンティングブロッ
ク２４Ａを基板搬送室保持部２２の設置保持体２５に移
し換える。Next, the rotation shaft 23 is raised to raise the substrate transfer chamber holding part 22, and then the installation holder 25 of the transfer rod 29 is moved up.
The board mounting block 24A fitted into the substrate mounting block 24A is fitted into the board mounting block installation holder 25 of the substrate transfer chamber holder 22, and the board mounting block 24A is transferred to the installation holder 25 of the substrate transfer chamber holder 22. .
以下このような操作を順次繰り返す。These operations are then repeated one after another.
このようにすれば、基板搬送室２１の容積を増大させる
ことなく、多数枚の基板が基板搬送室２１に収容され、
基板搬送室内へ一度に大量の基板が搬送されるので、基
板搬送室の排気作業を行う回数および時間が従来より減
少して、基板の処理効率が向上する。In this way, a large number of substrates can be accommodated in the substrate transfer chamber 21 without increasing the volume of the substrate transfer chamber 21,
Since a large number of substrates are transferred into the substrate transfer chamber at one time, the number of times and time required for exhausting the substrate transfer chamber is reduced compared to the conventional method, and substrate processing efficiency is improved.
またこの基板搬送室保持部２２は、所定のブロックに分
離できるので、基板マウンティングブロックを設置する
時には、この基板搬送室２１に隣接した室内で基板搬送
室保持部２２を分離した状態で基板マウンティングブロ
ックをセットでき、操作が簡単になる。Further, since this substrate transfer chamber holding section 22 can be separated into predetermined blocks, when installing the substrate mounting block, the substrate transfer chamber holding section 22 is separated from the substrate mounting block in a room adjacent to this substrate transfer chamber 21. can be set, making operation easier.
以上述べたように、本発明の基板搬送機構によれば、基
板搬送室内に一度に大量の基板の収容が可能となり、基
板搬送室の排気時間が減少し、一枚の基板当たりの処理
能率が向上するので、スルーブツトの高い分子線結晶成
長装置が得られる。As described above, according to the substrate transfer mechanism of the present invention, it is possible to accommodate a large number of substrates at once in the substrate transfer chamber, the time required to exhaust the substrate transfer chamber is reduced, and the processing efficiency per substrate is increased. As a result, a molecular beam crystal growth apparatus with high throughput can be obtained.
また機構が簡単であるため、故障等の発生が少なく、ま
た基板搬送室保持部は取り外しが可能で、この保持部を
取り外した状態で、基板マウンティングブロックをセッ
トできるため、基板の設置が容易であるといった利点が
ある。In addition, since the mechanism is simple, failures are less likely to occur, and the board transfer chamber holder is removable, and the board mounting block can be set with this holder removed, making it easy to install the board. There are some advantages.
第１図は本発明の一実施例の基板搬送機構の模式図、
第２図は本発明の一実施例の基板搬送機構に於ける基板
搬送室保持部の斜視図、
第３図は第２図の上面図、
第４図は従来の基板搬送機構の模式図、第５図は従来の
基板搬送室保持部の平面図、第６図は従来の基板マウン
ティングブロック設置保持体の斜視図、
第７図は従来の基板マウンティングブロックの斜視図、
第８図は従来の基板搬送機構の側面図とその平面図、
。
第９図は従来の基Ｆｉ、搬送機構の模式図である。
図に於いて、
２１は基板搬送室、２２は基板搬送室保持部、２３は回
転軸、２４．２４Ａ、２４Ｂは基板マウンティングブロ
ック、２５は基板マウンティングブロック設置保持体、
２６はストッパー、２７は結晶成長室、２８はマグネッ
ト、２９はトランスファーロンド、３０はゲートパルプ
、３１は基板マニピュレータを示す。
特許出願人 工業技術院長 飯塚幸三
第１図
第２図
第４図
１道東＾方ルー乞りめ平面図
第５図
渇す凶 第７図
第８図
第９図FIG. 1 is a schematic diagram of a substrate transfer mechanism according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view of a substrate transfer chamber holding section in a substrate transfer mechanism according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a schematic diagram of a conventional substrate transfer mechanism, FIG. 5 is a plan view of a conventional substrate transfer chamber holder, and FIG. 6 is a perspective view of a conventional substrate mounting block installation holder. Figure 7 is a perspective view of a conventional board mounting block, Figure 8 is a side view and a plan view of a conventional board transport mechanism,
. FIG. 9 is a schematic diagram of a conventional base Fi and a transport mechanism. In the figure, 21 is a substrate transfer chamber, 22 is a substrate transfer chamber holder, 23 is a rotating shaft, 24. 24A and 24B are substrate mounting blocks, 25 is a substrate mounting block installation holder,
26 is a stopper, 27 is a crystal growth chamber, 28 is a magnet, 29 is a transfer iron, 30 is a gate pulp, and 31 is a substrate manipulator. Patent applicant: Director of the Agency of Industrial Science and Technology Kozo Iizuka Figure 1 Figure 2 Figure 4 Figure 1 Plan of Eastern Hokkaido Route Beggar Figure 5 Thirsting Evil Figure 7 Figure 8 Figure 9
Claims (1)
分子線結晶成長装置の基板搬送室（２１）より結晶成長
室（２７）に搬送する機構であって、 該基板搬送室（２１）内に設けられ複数の該基板マウン
ティングブロック（２４）を保持する基板搬送室保持部
（２２）と、 該基板搬送室保持部（２２）より前記基板マウンティン
グブロック（２４）を移し換え保持する先端部を持ち所
定の軸に沿って後退前進することで前記基板マウンティ
ングブロック（２４）を基板搬送室（２１）より結晶成
長室（２７）の基板マニュピレータ（３１）に搬送する
トランスファーロッド（２９）とを有し、前記基板搬送
室保持部（２２）は前記トランスファーロッド（２９）
の移動軸に対して垂直な回転軸（２３）と、該回転軸（
２３）を中心軸として該回転軸に固定された複数の多角
柱形状部と、該多角柱形状部の複数の側面に形成され前
記基板マウンティングブロック（２４）を嵌挿して保持
する基板マウンティングブロック設置保持体（２５）と
を有し、 前記該多角柱形状部が前記トランスファーロッド（２９
）の移動軸上の位置と該移動軸上から外れた位置に前記
回転軸（２３）の軸方向に移動可能に形成されて成るこ
とを特徴とする基板搬送機構。[Scope of Claims] A mechanism for transporting a substrate mounting block (24) on which a substrate is mounted from a substrate transport chamber (21) of a molecular beam crystal growth apparatus to a crystal growth chamber (27), comprising: a substrate transfer chamber holding section (22) provided in the substrate transfer chamber holding section (22) for holding a plurality of the substrate mounting blocks (24); and a substrate transfer chamber holding section (22) for transferring and holding the substrate mounting block (24) from the substrate transfer chamber holding section (22). a transfer rod (29) that carries the substrate mounting block (24) from the substrate transfer chamber (21) to the substrate manipulator (31) of the crystal growth chamber (27) by holding the tip and moving backward and forward along a predetermined axis; and the substrate transfer chamber holding section (22) has the transfer rod (29).
a rotation axis (23) perpendicular to the movement axis of the rotation axis (23);
23) installation of a plurality of polygonal prism-shaped parts fixed to the rotating shaft with the central axis as the central axis; and board mounting blocks formed on the plurality of side surfaces of the polygonal prism-shaped parts to fit and hold the board mounting block (24); a holder (25), the polygonal column shaped portion is connected to the transfer rod (29);
), the substrate transport mechanism is formed to be movable in the axial direction of the rotating shaft (23) at a position on the moving axis and at a position off the moving axis.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62122530A JPS63288988A (en) | 1987-05-21 | 1987-05-21 | Substrate conveying mechanism |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62122530A JPS63288988A (en) | 1987-05-21 | 1987-05-21 | Substrate conveying mechanism |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63288988A true JPS63288988A (en) | 1988-11-25 |
| JPH0352436B2 JPH0352436B2 (en) | 1991-08-09 |
Family
ID=14838132
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62122530A Granted JPS63288988A (en) | 1987-05-21 | 1987-05-21 | Substrate conveying mechanism |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63288988A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100927730B1 (en) * | 2008-01-16 | 2009-11-18 | 세메스 주식회사 | Buffer system of sheet type substrate processing apparatus and substrate transfer method using same |
-
1987
- 1987-05-21 JP JP62122530A patent/JPS63288988A/en active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100927730B1 (en) * | 2008-01-16 | 2009-11-18 | 세메스 주식회사 | Buffer system of sheet type substrate processing apparatus and substrate transfer method using same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0352436B2 (en) | 1991-08-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |