JPS63278296A - Printed-circuit board and its manufacture - Google Patents

Printed-circuit board and its manufacture

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JPS63278296A
JPS63278296A JP31293587A JP31293587A JPS63278296A JP S63278296 A JPS63278296 A JP S63278296A JP 31293587 A JP31293587 A JP 31293587A JP 31293587 A JP31293587 A JP 31293587A JP S63278296 A JPS63278296 A JP S63278296A
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conductor
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/18Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
    • H05K3/181Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
    • H05K3/182Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating characterised by the patterning method

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Abstract

PURPOSE:To form a conductor part having a sharply square cross section by covering a non-plating region with a prescribed dielectric. CONSTITUTION:Conductor parts 23 are formed on the prescribed surface of a substrate 25 by using a conductive metal material which can be plated non- electrolytically. Plating control phases 24 composed of a derivative of a silane coupling agent are formed in non-plating regions 26. The plating control phases 24 have a function to prevent the non-plating regions 26 from being plated when the conductor parts 23 are formed by a non-electrolytic plating operation. In the conductor parts 23 which are grown on a plating region 27 sandwiched between these non-plating regions 26, their growth in a transverse direction is regulated by the plating control phases 24; accordingly, the conductor parts 23 having sharply square cross sections are formed.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この発明は、プリント基板及びその製造方法に関する。[Detailed description of the invention] <Industrial application field> The present invention relates to a printed circuit board and a method for manufacturing the same.

〈従来の技術〉 従来のプリント基板1は、第14図の如く、基板部3と
導体部5とから成る。一般的なエツチング法では、銅張
り積層板から不用部分を薬品で溶解除去して、導体部5
は形成される。またアディティブ法では、第15図の如
く、基板部13において導体部17を形成しない領域(
以下、「非めっき領域」という)を樹脂層15で被覆し
た構成となる。
<Prior Art> A conventional printed circuit board 1 consists of a board section 3 and a conductor section 5, as shown in FIG. In the general etching method, the unnecessary parts of the copper-clad laminate are dissolved and removed using chemicals, and the conductor parts 5 are removed.
is formed. Furthermore, in the additive method, as shown in FIG.
The structure is such that a resin layer 15 covers a non-plated area (hereinafter referred to as a "non-plated area").

〈発明が解決しようとする問題点〉 かかる従来のプリント基板1.11であっても、今まで
のニーズには対応することができた。
<Problems to be Solved by the Invention> Even with the conventional printed circuit board 1.11, it was possible to meet the needs of the past.

しかしながら、昨今における装置の小型化、高密度化に
ともなう、プリント基板の微細化の傾向に十分な対応が
できなくなって籾た。
However, it has become impossible to adequately respond to the trend of miniaturization of printed circuit boards, which has accompanied the recent miniaturization and increase in density of devices.

特に、エツチング法によって製造する場合、薬品で不用
部分の銅箔を溶解除去するときに、第14図のように、
導体部5の基底部まで逆テーパ状に浸食する(いわゆる
アンダーカット現象)傾向がある。このため、回路の微
細化で導体部5.5どうしの間隔をせばめていった場合
、上記薬品を細部まで循環流動させる必要があるため、
一段とこの傾向が強くなり、導体部5の基底部が著しく
痩せてしまい、導体部5と基板部3との密着強度は極端
に低下する。
In particular, when manufacturing by the etching method, when unnecessary parts of the copper foil are dissolved and removed using chemicals, as shown in Figure 14,
There is a tendency for the conductor portion 5 to erode in a reverse taper shape to the base (so-called undercut phenomenon). For this reason, when the spacing between the conductor parts 5.5 is narrowed due to miniaturization of the circuit, it is necessary to circulate and flow the above-mentioned chemicals to the fine details.
This tendency becomes even stronger, the base portion of the conductor portion 5 becomes noticeably thinner, and the adhesion strength between the conductor portion 5 and the substrate portion 3 is extremely reduced.

また、一般に施されるハンダコーティングのときに、ハ
ンダが基板部3の空白部4に付着して、短絡してしまう
などの欠点がある。
Further, during solder coating, which is generally applied, there is a drawback that the solder adheres to the blank part 4 of the substrate part 3, resulting in a short circuit.

更に、第15図のプリント基板11では、樹脂層15の
存在のため、導体部17.17どうしの間隔をせまくし
ていくと、めっき反応で発生する水素ガスの放散が悪く
なり、導体部17の肉厚に不同ができたり、樹脂層15
が霧状にめっきされたりして、導体部17.17間の絶
縁抵抗を阻害するおそれがある。
Furthermore, in the printed circuit board 11 of FIG. 15, due to the presence of the resin layer 15, as the spacing between the conductor parts 17.17 becomes narrower, hydrogen gas generated in the plating reaction becomes less dissipated, and the conductor parts 17. There may be variations in the thickness of the resin layer 15.
There is a possibility that the conductor portions 17 and 17 may be plated in a mist, thereby impairing the insulation resistance between the conductor portions 17 and 17.

そこでこの発明は、(ア)樹脂層などの障害物をを設け
ないことで、水素ガスの放散を促進しながらメッキする
ことができること、(イ)アンダーカットのない均一な
厚みの微細回路を形成できること、(つ)導体部具外の
部分にハンダが付着しないこと、を達成するプリント基
板とその製造方法を提供することを目的とする。
Therefore, this invention aims to (a) allow plating to be performed while promoting hydrogen gas dissipation by not providing any obstacles such as a resin layer, and (b) form microcircuits with uniform thickness without undercuts. It is an object of the present invention to provide a printed circuit board and a method for manufacturing the same that achieves (1) no adhesion of solder to parts outside conductor parts.

く問題点を解決するための手段〉 本発明者は、上記目的を達成すべく、鋭意検討を重ねて
籾た結果、下記第1の発明のプリント基板に想到した。
Means for Solving the Problems> In order to achieve the above object, the inventor of the present invention has made extensive studies and has come up with the following printed circuit board of the first invention.

この第1の発明のプリント基板は、基板部と無電解めっ
きにより形成された導体部とを備えて成り、基板部の導
体部突設面において、非めっき領域がシランカップリン
グ剤の誘導体で被覆されている構成を特徴とする。
The printed circuit board of the first invention comprises a substrate part and a conductor part formed by electroless plating, and the non-plated area on the protruding surface of the conductor part of the board part is covered with a derivative of a silane coupling agent. It is characterized by its configuration.

第2の発明は、上記第1の発明に係るプリント基板を製
造する方法であって、(ア)所定の樹脂組成物により、
基板部の非めっき領域を被覆する工程と、(イ)基板部
のめつき領域へ触媒を付与する工程と、(つ)樹脂組成
物の被膜を除去する工程と、(1)無電解めっきにより
、基板部のめつき領域へ導体部を形成する工程とを順次
経ることを特徴とする。
A second invention is a method for manufacturing a printed circuit board according to the first invention, comprising: (a) using a predetermined resin composition;
(a) applying a catalyst to the plating area of the substrate; (ii) removing the resin composition film; and (1) electroless plating. , and forming a conductor portion in the plating area of the substrate portion, in order.

第3の発明も、上記第1の発明に係るプリント基板を製
造する方法であって、(ア)基板部表面を全体的に粗化
する工程と、(イ)特定の触媒性インクで、基板部のめ
つき領域へ陽画印刷をする工程と、(つ)触媒性インク
を現像して、剥離するとともに、非めっき領域をシラン
ラップリング剤の誘導体で被覆する工程と、(1)無電
解めっきにより、基板部のめつき領域へ導体部を形成す
る工程とを順次経ることを特徴とする。
A third invention is also a method for manufacturing a printed circuit board according to the first invention, which comprises: (a) roughening the surface of the board as a whole; and (b) using a specific catalytic ink. (1) developing and peeling off the catalytic ink and coating the non-plated areas with a silane wrapping agent derivative; (1) electroless plating. The method is characterized in that the method sequentially includes the step of forming a conductor portion in the plating area of the substrate portion.

く手段の詳細な説明〉 以下、上記手段について詳細に説明をする。Detailed explanation of the method The above means will be explained in detail below.

(1)第1の発明について(第1図参照)基板部25は
、導体部23を支持可能な板状部材であり、その形成材
料は特に限定されない。例えば、プラスチック、セラミ
ックス、ガラス、半導体及びこれらの積層体を挙ること
ができる。また、基板部25における導体部23の突設
面が曲面であってもよい。
(1) Regarding the first invention (see FIG. 1) The substrate portion 25 is a plate-like member capable of supporting the conductor portion 23, and the material from which it is formed is not particularly limited. Examples include plastics, ceramics, glass, semiconductors, and laminates thereof. Furthermore, the protruding surface of the conductor portion 23 on the substrate portion 25 may be a curved surface.

導体部23は、無電解めっきが可能で、かつ導電性の金
属材料により基板部25の所定の表面(これが導体部突
設面である)へ形成される。
The conductor portion 23 is formed on a predetermined surface of the substrate portion 25 (this is the conductor portion protrusion surface) using a conductive metal material that can be electrolessly plated.

シランカップリング剤とは、有機重合体と無機材料とを
化学的に結合する能力をもっているシラン及びその他の
けい素化合物をいう。例えば、トリエトキシメチルシラ
ン、トリメトキシメチルシラン、トリエトキシフェニル
シラン、トリメトキシフェニルシラン、トリエトキシビ
ニルシラン、α−アミノプロピルトリエトキシシラン、
N−(β−アミノエチル)−α−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、α−メタクリルオキシプロピルトリメト
キシシラン、α−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、ウレイドプロピルトリエトキシシラン等を挙ること
ができる。そして、この明細書でいうシランカップリン
グ剤の誘導体とは、この発明が水系の処理方法を用いて
いるため、上記シランカップリング剤が、製造工程の処
理過程でうける水との接触によって加水分解し、主とし
て、シラノールなどに変性したものをいう。
Silane coupling agents refer to silane and other silicon compounds that have the ability to chemically bond organic polymers and inorganic materials. For example, triethoxymethylsilane, trimethoxymethylsilane, triethoxyphenylsilane, trimethoxyphenylsilane, triethoxyvinylsilane, α-aminopropyltriethoxysilane,
Examples include N-(β-aminoethyl)-α-aminopropyltrimethoxysilane, α-methacryloxypropyltrimethoxysilane, α-mercaptopropyltrimethoxysilane, and ureidopropyltriethoxysilane. In this specification, the silane coupling agent derivative refers to the silane coupling agent that is hydrolyzed by contact with water during the manufacturing process because this invention uses an aqueous treatment method. However, it mainly refers to substances modified to silanol, etc.

かかるシランカップリング剤の誘導体により被覆された
第1図のようなめっき制御相24は、導体部23を無電
解めっきで形成するとき、当該非めっき領域26がめっ
きされることを防止する機能を有する。つまり、水素原
子や水素ガス、金属イオン、水分子などを非めっき領域
26から跳ね返す機能がある。この挙動については後記
する(b)で詳しく説明する。
The plating control phase 24 as shown in FIG. 1 coated with such a derivative of a silane coupling agent has a function of preventing the non-plating area 26 from being plated when the conductor portion 23 is formed by electroless plating. have In other words, it has a function of repelling hydrogen atoms, hydrogen gas, metal ions, water molecules, etc. from the non-plating region 26. This behavior will be explained in detail in (b) below.

またこのめっき制御相24は、プリント基板をハンダコ
ーティングのために溶融ハンダ糟に浸漬したときに、非
めっぎ領域26ヘハンをが全く付着させない性質を併せ
持っていることが判明した。これは、非めっき領域26
が、シランカップリング剤の誘導体、又はこれが溶融ハ
ンダ(260℃)により加熱されて変性した酸化けい素
で、被覆されていることによると考えられる。
It has also been found that this plating control phase 24 has the property of not allowing any adhesive to adhere to the non-plating areas 26 when the printed circuit board is immersed in molten solder pot for solder coating. This is the non-plated area 26
This is thought to be due to the fact that it is coated with a derivative of a silane coupling agent or with silicon oxide that has been modified by being heated with molten solder (260° C.).

こ、のような非めっき領域26にはさまれためっき領域
27上に成長する導体部23は、めっき制御相24で横
方向の成長が規制されるため、結果としてシャープな方
形断面を有する導体部23が形成されるものと考えられ
る(第2.3表参照)(2)第2の発明について、 (ア)基板部25の非めっき領域26を特定の樹脂組成
物で被覆する工程 この樹脂組成物は、■酸性めっぎ用メッキレジスト剤、
■ロジン、■シランカップリング剤及び■必要に応じて
添加される硫黄化合物を有効成分としている。
The conductor portion 23 growing on the plating region 27 sandwiched between the non-plating regions 26 like this is regulated in lateral growth by the plating control phase 24, resulting in a conductor with a sharp rectangular cross section. It is considered that the portion 23 is formed (see Table 2.3) (2) Regarding the second invention, (a) Step of coating the non-plated area 26 of the substrate portion 25 with a specific resin composition This resin The composition is: ■ Plating resist agent for acid plating,
The active ingredients are: (1) rosin, (2) a silane coupling agent, and (2) a sulfur compound that is added as necessary.

■酸性めっき用メッキレジスト剤には、例えば山栄化学
株式会社製の(商品名)メッキレジスト剤SPR−53
0CMTを用いることができる。
■For example, plating resist agent SPR-53 (trade name) manufactured by Sanei Chemical Co., Ltd. is used as a plating resist agent for acidic plating.
0CMT can be used.

このめっきレジスト剤には、無機質の充填剤が配合され
ている。
This plating resist agent contains an inorganic filler.

尚、上記酸性めっき用メッキレジスト剤の単体では、下
記(イ)の工程に使用する粗化液等の強酸性溶液に耐え
ることができない。
It should be noted that the above plating resist agent for acidic plating alone cannot withstand the strong acidic solution such as the roughening solution used in the step (a) below.

■ロジンは、一般の称呼ロジン(松脂)と呼ぶものや他
の植物から抽出する多くの種類のロジンが有効で、カナ
ダ産のかえでから抽出されるカナダバルサムが特に好ま
しい。
■As for rosin, what is commonly called rosin (pine resin) and many types of rosin extracted from other plants are effective, and Canadian balsam extracted from Canadian maple is particularly preferred.

ロジンの配合量は、樹脂組成物における重量%で3〜5
0%、好ましくは15〜30%である。
The amount of rosin blended is 3 to 5% by weight in the resin composition.
0%, preferably 15-30%.

3〜50%の範囲を外れると、下記(イ)の工程の粗化
液により当該樹脂組成物が破壊されるおそれがある。
If it is outside the range of 3 to 50%, the resin composition may be destroyed by the roughening liquid in the step (a) below.

■シランカップリング剤は、既述のものを用いることが
できる。その配合量は、樹脂組成物における重量%で0
.1〜15.0%、好ましくは1.5〜5゜0%である
。0.1%未満であると、非めっぎ領域にめっきが析出
するおそれがあり、一方15.0%を越えると、めっき
領域にめっきが析出しないおそれがあるので、それぞれ
好ましくない。
(2) As the silane coupling agent, those mentioned above can be used. Its blending amount is 0% by weight in the resin composition.
.. It is 1 to 15.0%, preferably 1.5 to 5.0%. If it is less than 0.1%, there is a risk that plating will precipitate in non-plated areas, while if it exceeds 15.0%, there is a risk that plating will not be precipitated in plated areas, which are both undesirable.

このシランカップリング剤は、一般的な樹脂組成物用溶
剤(エチレングリコールモノブチルエーテル、2−(2
−エトキシエトキシ)エタノール等)との相溶性が良好
である。また、既述の■ロジンや後述の■硫黄化合物と
の相溶性も良好である。
This silane coupling agent is a general solvent for resin compositions (ethylene glycol monobutyl ether, 2-(2
-Ethoxyethoxy)ethanol, etc.). It also has good compatibility with (1) rosin described above and (2) sulfur compounds described below.

■硫黄化合物には、2−メルカプトベンゾチアゾール、
チオ尿素、メチルブルー、メチレングリーン、2−イミ
ダゾリジンチオン、メチルオレンジ、タウリン等を挙る
ことができる。
■Sulfur compounds include 2-mercaptobenzothiazole,
Examples include thiourea, methyl blue, methylene green, 2-imidazolidinethione, methyl orange, and taurine.

この硫黄化合物を添加することにより、後述する(1)
の無電解めっき工程において、非めっき領域へめっきが
析出することを確実に防止できることとなる。
By adding this sulfur compound, the following (1)
In the electroless plating process, it is possible to reliably prevent plating from depositing on non-plated areas.

これは、硫黄化合物がシランカップリング剤の官能基と
の結合をともなって非めっき領域に転写されることによ
ると考えられる。
This is thought to be due to the fact that the sulfur compound is transferred to the non-plated area along with a bond with the functional group of the silane coupling agent.

このように、硫黄化合物の添加は必要に応じてされる。In this way, sulfur compounds are added as needed.

この硫黄化合物の配合量は、11量で充分であるが、当
該樹脂組成物に対する重量%で、0.005〜0.5%
の範囲である。0.005%未満ては、上記防止機能が
有効に発揮されないおそれがあり、また0、5%を越え
る範囲では、硫黄成分が還元剤のホルマリンに触媒毒と
して働き、めっき境界線を超えてめっき領域にまで影響
を及ぼすために、めっき析出反応が停止するなどの理由
により、無電解めっきができないおそれがあるので、そ
れぞれ好ましくない。
The amount of this sulfur compound blended is 11 amounts, but it is 0.005 to 0.5% by weight based on the resin composition.
is within the range of If it is less than 0.005%, the above-mentioned prevention function may not be effective, and if it exceeds 0.5%, the sulfur component will act as a catalyst poison for formalin, which is a reducing agent, and cause plating to occur beyond the plating boundary line. Each of these is undesirable because electroless plating may not be possible due to reasons such as stopping the plating precipitation reaction because of the effect on the area.

尚、上記■ロジン、■シランカップリング剤、■硫黄化
合物をそれぞれ単体で■酸性めっき用メッキレジスト剤
に添加した場合には、その樹脂組成物は粗化液等の強酸
性溶液に耐えられない(第1表の各比較例参照)。
Furthermore, if each of the above ■rosin, ■silane coupling agent, and ■sulfur compound is added alone to ■plating resist agent for acidic plating, the resin composition will not be able to withstand strong acidic solutions such as roughening solutions. (See each comparative example in Table 1).

本発明の樹脂組成物は、既述の溶剤で希釈して、基板部
25ヘスクリーン印刷する(第2図参照)。これにより
得られる被膜29の厚さは4〜7μmとする。4μm未
満では、スクリーン印刷ではかすれるおそれがある。7
μmを超える厚みは、樹脂組成物に緻密性があるため、
不要である。
The resin composition of the present invention is diluted with the above-mentioned solvent and screen printed onto the substrate portion 25 (see FIG. 2). The thickness of the coating 29 thus obtained is 4 to 7 μm. If it is less than 4 μm, there is a risk that it will be blurred by screen printing. 7
If the thickness exceeds μm, the resin composition is dense, so
Not necessary.

この樹脂組成物は、後述の工程(イ) 、  (つ)で
使用する強酸性の粗化液、触媒液、活性化液に対する耐
久性を備える。
This resin composition has durability against the strongly acidic roughening liquid, catalyst liquid, and activation liquid used in steps (a) and (v) described below.

その理由を推定するならば、下記(a)〜(c)のよう
になると考えられる。
If we were to estimate the reason for this, it would be as follows (a) to (c).

(a)被膜29の樹脂組成物へシランカップリング剤を
加えないときは、第3図のように、無機質充填剤(メッ
キレジスト剤に配合されている)の粒界はOH基を外側
に向けた親水性を示している。これに対し、シランカッ
プリング剤(例えばトリメトキシ(メチル)シラン;C
H3St (QCH3)3)を加えたときには、本発明
の工程における水をともなう処理によって加水分解し、
第4図のように無機質充填剤の粒界はCH3基を外側へ
向けた疎水性となる。また、CH3基により無機充填剤
と有機成分との結合力が増大する。このため、被膜29
は、内面、外面がともに強力な疎水性と緻密性をもって
造膜され、粗化液や触媒液等の強酸性の溶液に浸漬して
も侵されることがない。このような被膜29の特性によ
り、その膜厚を可及的に薄くすることができる。よって
、微細なパターンを陰画印刷をするのに適したものとな
る。
(a) When a silane coupling agent is not added to the resin composition of coating 29, as shown in Figure 3, the grain boundaries of the inorganic filler (compounded in the plating resist agent) are oriented with the OH groups outward. It shows hydrophilicity. In contrast, silane coupling agents (e.g. trimethoxy(methyl)silane; C
When H3St (QCH3)3) is added, it is hydrolyzed by treatment with water in the process of the present invention,
As shown in FIG. 4, the grain boundaries of the inorganic filler are hydrophobic with the CH3 groups directed outward. Furthermore, the CH3 group increases the bonding strength between the inorganic filler and the organic component. For this reason, the coating 29
The film is formed on both the inner and outer surfaces with strong hydrophobicity and density, and is not attacked even when immersed in strong acidic solutions such as roughening solutions and catalyst solutions. Due to such characteristics of the coating 29, its thickness can be made as thin as possible. Therefore, it is suitable for negative printing of fine patterns.

(b)次に、被膜29には、上記(a)で述べた緻密性
と耐薬品性の性能を有するに足りる量以上のシランカッ
プリング剤が配合されている。この少し余剰のシランカ
ップリング剤が、非めっき領域26の界面へ強固に結合
しており、被膜29をアルカリ水溶液で剥離した後も、
非めっき領域26の界面には、シランカップリング剤が
加水分解して生成したシラノール(シランカップリング
剤の誂導体)の固着膜を残置させることができる。そし
てこのシラノールの最外殻相はH基を外方向に向けてい
るため、疎水性と、水素原子や水素ガス及び金属イオン
を反発する機能があるため、めっきの析出を完全に制御
することが実験から確かめることができた。そしてこの
機能は、立体的に即ち3次元方向にも効力を及ぼしてい
ることも判明した。その状態を推測すると、非めっき領
域26上に、自然界で見られるはすの葉上の水滴の如く
、半楕円の断面形状にめっき制御相24を形成している
と考えられる。
(b) Next, the coating 29 contains a sufficient amount of silane coupling agent to have the denseness and chemical resistance performance described in (a) above. This slightly surplus silane coupling agent is firmly bonded to the interface of the non-plated area 26, and even after the coating 29 is peeled off with an alkaline aqueous solution,
A fixed film of silanol (a conductor of the silane coupling agent) generated by hydrolysis of the silane coupling agent can be left on the interface of the non-plating region 26 . Since the outermost shell phase of this silanol has H groups facing outward, it is hydrophobic and has the ability to repel hydrogen atoms, hydrogen gas, and metal ions, making it possible to completely control plating precipitation. I was able to confirm this through experiment. It has also been found that this function is also effective three-dimensionally, that is, in three-dimensional directions. Presuming this state, it is thought that the plating control phase 24 is formed on the non-plating region 26 in a semi-elliptical cross-sectional shape, like a water droplet on a lotus leaf seen in nature.

(c)乾燥させた被膜29の表面を、塩酸、硫酸等の酸
性水溶液で処理すると一段と疎水機能が高まったり、上
記(b)の特性が高まったり、被膜29の表面が強固に
なる。これは、樹脂組成物が酸基の影響を受けて効果が
促進されることと併せて、被膜29の表面のシラノール
化した相の最外殻の単分子相或いは相の一部がシリカゲ
ル化するか、又は、シラノール−有機成分間の結付きが
一層強固になることが関与しているものと考えられる(
イ)基板部25のめつき領域27へ触媒を付与する工程 まず、基板部25のめつき領域27を、粗化液により粗
化する必要がある。この粗化工程は、上記(ア)の工程
がなされる前に、基板部25の表面を全体的に粗化する
ことによりすることもできる粗化液上しては、基板部2
5が樹脂製のと籾、クロム酸+硫酸、クロム酸+硫酸+
リン酸、硫酸+リン酸などの混合水溶液を用い、基板部
25がセラミックス、ガラス又は半導体製のときには、
ぶつ化水素酸溶液などを用いる。そして、これらの粗化
液へ基板部25を浸漬すると、上記被膜29により保護
されていないめっき領域が粗化されることとなる。
(c) When the surface of the dried coating 29 is treated with an acidic aqueous solution such as hydrochloric acid or sulfuric acid, the hydrophobic function is further enhanced, the characteristics described in (b) above are enhanced, and the surface of the coating 29 is made stronger. This is because the resin composition is influenced by acid groups and the effect is promoted, and the outermost monomolecular phase or a part of the phase of the silanolized phase on the surface of the coating 29 is converted into silica gel. Alternatively, it is thought that the bond between the silanol and the organic component becomes stronger (
B) Step of applying a catalyst to the plating region 27 of the substrate portion 25 First, it is necessary to roughen the plating region 27 of the substrate portion 25 with a roughening liquid. This roughening step can also be performed by roughening the entire surface of the substrate portion 25 before the step (a) above.
5 is resin-made rice, chromic acid + sulfuric acid, chromic acid + sulfuric acid +
When a mixed aqueous solution of phosphoric acid, sulfuric acid + phosphoric acid, etc. is used, and the substrate portion 25 is made of ceramics, glass, or semiconductor,
Use a hydrobutic acid solution, etc. When the substrate portion 25 is immersed in these roughening solutions, the plating area not protected by the coating 29 will be roughened.

次に、めっき領域へ触媒を付与する。Next, a catalyst is applied to the plating area.

例えば、パラジウムを触媒とする場合には、塩化パラジ
ウムと塩酸の混合溶液(触媒液)へ基板部25を浸漬し
、基板部25ヘパラジウムを担持させる工程と、これを
塩化すすと塩酸の混合溶液(活性化液)へ浸漬してパラ
ジウムを活性化する工程で行なう。
For example, when palladium is used as a catalyst, there are two steps: immersing the substrate portion 25 in a mixed solution of palladium chloride and hydrochloric acid (catalyst liquid) to support palladium on the substrate portion 25; This step involves activating palladium by immersing it in (activation solution).

勿論、1液性の触媒液を用いた工程でもよし〜。Of course, a process using a one-component catalyst solution may also be used.

また、触媒の種類については、特に限定されなし)(つ
)非めっき領域26の被膜を除去する工程この工程は、
耐酸性を有する被膜29であっても、アルカリ水溶液に
より分解されので、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム
等のアルカリ水溶液へ基板部25を浸漬して行なう。
In addition, there is no particular limitation on the type of catalyst.) (1) Step of removing the coating on the non-plating area 26 This step is as follows:
Even if the coating 29 has acid resistance, it will be decomposed by an alkaline aqueous solution, so the substrate portion 25 is immersed in an alkaline aqueous solution such as sodium hydroxide or sodium carbonate.

このとき、被膜29と基板部25の非めっき領域26と
の界面の状態は、被膜29中に含まれているシランカッ
プリング剤(被膜29へ既述の特性を付与するのに関与
しないもの)が重要な役割を果たしている。即ち、被膜
29を基板部25に印刷したときに、シランカップリン
グ剤の有機、無機側の双方の官能基のうち何れかの結合
手が、基板部25の材質に応じて選択的に作用し、基板
界面に強固に結合して非めっき領域26を被覆している
。従って、アルカリ水溶液で被膜29を除去したときに
、この界面も同時に加水分解をうけるため、固着してい
るシランカップリング剤の相はシラノールに変性して非
めっき領域26の界面に残置される。かかるシランカッ
プリング剤の言秀導体の相は、単分子の薄い相を形成し
ていれば、十分に既述の(b)のを発揮することができ
る。つまり、非めっき領域26の周辺域を疎水化したり
1水素イオン、水素ガス、金属イオンの接近を阻止する
ことができ、非めっき領域26にめっきが析出すること
を防止することができる。
At this time, the state of the interface between the coating 29 and the non-plating area 26 of the substrate portion 25 is determined by the silane coupling agent contained in the coating 29 (which does not participate in imparting the above-mentioned properties to the coating 29). plays an important role. That is, when the coating 29 is printed on the substrate part 25, one of the bonding groups of the organic and inorganic functional groups of the silane coupling agent acts selectively depending on the material of the substrate part 25. , which is firmly bonded to the substrate interface and covers the non-plated area 26. Therefore, when the coating 29 is removed with an alkaline aqueous solution, this interface is also hydrolyzed at the same time, so that the fixed silane coupling agent phase is denatured into silanol and left at the interface of the non-plated area 26. If the conductor phase of such a silane coupling agent forms a monomolecular thin phase, it can sufficiently exhibit the above-mentioned (b). In other words, the area around the non-plating region 26 can be made hydrophobic and the approach of hydrogen ions, hydrogen gas, and metal ions can be prevented, and deposition of plating on the non-plating region 26 can be prevented.

尚、このとき、基板部25の材質が無機質、有機質又は
両者の混合したものであるかに応じて、被膜29中のシ
ランカップリング剤の配合量を混入させなければならな
いが、前記した非めっき領域26の界面に、十分な結合
手の供給と、シランカップリング剤の誘導法相を形成す
るに足りる量が必要で、実験的に決定される(第1表の
各実施例参照)。
At this time, depending on whether the material of the substrate portion 25 is inorganic, organic, or a mixture of both, the amount of silane coupling agent mixed in the coating 29 must be mixed, but the non-plated A sufficient supply of bonding hands and an amount sufficient to form an inductive phase of the silane coupling agent at the interface of region 26 is required and is determined experimentally (see each example in Table 1).

(1)無電解めっきにより、基板部25のめつき領域2
7へ導体部23を形成する工程 この工程は、基板部25を無電解めっき液へ浸漬して行
なう。
(1) Plating area 2 of the substrate portion 25 is formed by electroless plating.
Step of forming conductor portion 23 on substrate 7 This step is performed by immersing substrate portion 25 in an electroless plating solution.

基板部25をめっき液へ浸漬すると、触媒が付与されて
いるめっき領域から水素或いは水素ガスが発生してめっ
きが開始されるが、このとき、非めっき領域26には、
既述のめつき制御相24が形成されている。従って、該
非めっき領域26にはめつきが析出することを防止する
とともに、めっき領域27との境界線において、そのめ
っき制御機能が3次元にわたって影響を及ぼすため、め
っきが非めっき領域26へはみ出して成長することが制
御される。よって、めっき(導体部23)を所定の方形
断面に形成することができる。またこのとき、めっき制
御相24が水素ガス反発機能を有するので、めっき領域
27から発生する過剰の水素ガスの放散を促進する。こ
のため、微細間隔で密接しているめっき領域27へのめ
つぎを効率よく施すことができる。
When the substrate portion 25 is immersed in the plating solution, hydrogen or hydrogen gas is generated from the plating area to which the catalyst is applied, and plating is started. At this time, the non-plating area 26 is
The plating control phase 24 described above is formed. Therefore, the plating is prevented from depositing in the non-plating area 26, and the plating control function has a three-dimensional effect on the boundary with the plating area 27, so that the plating protrudes into the non-plating area 26 and grows. be controlled. Therefore, the plating (conductor portion 23) can be formed into a predetermined rectangular cross section. Further, at this time, since the plating control phase 24 has a hydrogen gas repelling function, it promotes the dissipation of excess hydrogen gas generated from the plating region 27. Therefore, the plating regions 27 that are closely spaced at minute intervals can be efficiently deposited.

尚、めっき金属の種類は特に限定されず、触媒との関係
で決定される。
Note that the type of plating metal is not particularly limited, and is determined depending on the relationship with the catalyst.

第3の発明について (ア)基板部25の導体部突設面を全体的に粗化する工
程 この工程は、第2の発明の(イ)の工程で説明したよう
に、所定の粗化液へ基板部25をデツピング等して行な
う。
Regarding the third invention (a) Process of roughening the entire conductor protruding surface of the substrate part 25 This process is performed by using a predetermined roughening solution as explained in the step (a) of the second invention. This is done by, for example, depping the substrate portion 25.

(イ)特定の触媒性インクで、基板部25のめつき領域
へ陽画印刷をする工程 この触媒性インクは、■銀塩、■澱粉系粘結剤■シラン
カップリング剤、■必要に応じて添加される硫黄化合物
を有効成分とする。
(b) A process of positive printing on the plating area of the substrate part 25 with a specific catalytic ink. The sulfur compound added is the active ingredient.

■銀塩は特に限定されないが、硝酸銀、硫酸銀、酢酸銀
、安息香酸や2−ヒドロキシブタン酸の銀塩等を挙るこ
とができる。
(2) Silver salts are not particularly limited, but include silver nitrate, silver sulfate, silver acetate, silver salts of benzoic acid and 2-hydroxybutanoic acid, and the like.

配合量は、触媒性インクに対する重量%て0.2〜0.
8%、好ましくは0.4〜0.6%である。
The blending amount is 0.2 to 0.0% by weight based on the catalytic ink.
8%, preferably 0.4-0.6%.

■澱粉系粘結剤には、澱粉、デキストリン又はこれらの
混合物を用いることができる。
(2) Starch, dextrin, or a mixture thereof can be used as the starch-based binder.

配合量は、触媒性インクの粘度をスクリーン印刷ができ
る程度にまで調整できる量とする。当該触媒性インクに
対する重量%で、40〜60%、好ましくは45〜55
%である。
The amount to be blended is such that the viscosity of the catalytic ink can be adjusted to a level that allows screen printing. 40-60%, preferably 45-55% by weight relative to the catalytic ink
%.

かかる澱粉系粘結剤において、そのアミロース成分は、
既述の銀塩と後述のシランカップリング剤とで錯体化合
物を形成している。そして、アミロペクチン成分が骨格
となる。銀塩−アミロース−シランカップリング剤の錯
体化合物がアミロペクチン骨格の構造空間に包蔵される
。尚、この澱粉系粘結剤は、印刷時に加えるせん断力に
よって、一時的にその粘度が低下する。
In such a starch-based binder, the amylose component is
A complex compound is formed with the silver salt described above and the silane coupling agent described below. The amylopectin component then becomes the skeleton. A silver salt-amylose-silane coupling agent complex compound is embedded in the structural space of the amylopectin skeleton. Note that the viscosity of this starch-based binder temporarily decreases due to the shearing force applied during printing.

■シランカップリング剤は、既述のような銀塩及びアミ
ロースとの錯体化合物を作るために加えられる。尚、シ
ランカップリング剤は加水分解され、シラノールのかた
ちで錯体を形成していると考えられる。尚、触媒性イン
クの配合を決定する場合、シランカップリング剤の代り
にシラノールをベースとすることも可能であるが、シラ
ンカップリング剤を加水分解させて生成したシラノール
の量と、加水分解に要した水の量との現実的な関係の測
定に正確性を欠くため、この明細書では、シランカップ
リング剤ベースとした。つまり、本触媒性インクを調製
するにあたり、シラノールを配合成分とすることもでき
る。
(2) A silane coupling agent is added to form a complex compound with silver salt and amylose as described above. It is believed that the silane coupling agent is hydrolyzed to form a complex in the form of silanol. When determining the formulation of the catalytic ink, it is possible to use silanol as a base instead of the silane coupling agent, but the amount of silanol produced by hydrolyzing the silane coupling agent and the amount of silanol produced by hydrolysis Due to the lack of accuracy in determining the realistic relationship to the amount of water required, this specification uses a silane coupling agent as the basis. That is, in preparing the present catalytic ink, silanol can also be included as a component.

シランカップリング剤の配合量は、触媒性インクに対す
る重量%で0.2〜1.3%、好ましくは、6.5〜8
.5%である。0.2%未満の少ない量や、錯化過剰が
生じるような1.3%を越える多い量では、めっき領域
27にめっきが析出しなくなるので好ましくない。これ
は、当該めっき領域27に触媒(Ag)の絶対量が吸着
されていないため(0,2%未満の場合)と、錯化過剰
がもたらす銀塩のイオン化されすぎ(1,3%を越える
場合)によると考えられる。つまり、シランカップリン
グ剤の存在により、これの持つ官能基がめつき領域27
の表面(粗化されている)へ強制的に吸着し、もって該
表面へ触媒の前駆物質である銀塩(触媒として機能する
に足り得る量)が移行して固定されると推定される。
The blending amount of the silane coupling agent is 0.2 to 1.3% by weight, preferably 6.5 to 8% by weight based on the catalytic ink.
.. It is 5%. A small amount of less than 0.2% or a large amount of more than 1.3%, which would cause excessive complexation, are not preferred because the plating will not precipitate in the plating region 27. This is because the absolute amount of catalyst (Ag) is not adsorbed in the plating area 27 (less than 0.2%), and because the silver salt is overly ionized due to excessive complexation (more than 1.3%). It is thought that it depends on the case). In other words, due to the presence of the silane coupling agent, the functional groups of this agent are activated in the plating area 27.
It is presumed that silver salt, which is a catalyst precursor (an amount sufficient to function as a catalyst), is transferred and fixed onto the surface (roughened) of the silver salt, which is a catalyst precursor.

■また、銀塩を上記錯体化合物の状態とすることにより
、有機物の存在下で露光するとAgに還元されてしまう
ため、触媒性インクとしての機能がなくなる。よって、
保存性を向上させるためには、遮光性と触媒に対する毒
性で分解防止効果をもった、メチルブルー等の有色硫黄
化合物を添加すると効果がある。尚、かかる硫黄化合物
は配合しなくてもよい。また、触媒性インクに遮光性を
付与する物質(染料等)と、触媒毒性を付与する物質(
ホルマリン等)をそれぞれ別体として、添加することも
できる。
(2) Furthermore, by converting the silver salt into the above-mentioned complex compound, it will be reduced to Ag when exposed to light in the presence of an organic substance, so that it will no longer function as a catalytic ink. Therefore,
In order to improve storage stability, it is effective to add a colored sulfur compound such as methyl blue, which has light shielding properties and toxicity to the catalyst to prevent decomposition. Note that such a sulfur compound may not be blended. In addition, there are substances that impart light-shielding properties (dyes, etc.) to the catalytic ink, and substances that impart catalytic toxicity (such as dyes).
Formalin, etc.) can also be added separately.

硫黄化合物については、第2の発明で示したものを用い
ることができる。そして、配合量は、触媒性インクに対
する重量%で0.5〜3.5%である。0.5重量%未
満では、遮光効果に乏しく、3.5を越える範囲では、
触媒に対する毒性が強くなり過ぎるので、それぞれ好ま
しくない。
As for the sulfur compound, those shown in the second invention can be used. The blending amount is 0.5 to 3.5% by weight relative to the catalytic ink. If it is less than 0.5% by weight, the light shielding effect is poor, and if it exceeds 3.5%,
Each of these is not preferred because the toxicity to the catalyst becomes too strong.

このような触媒性インクの溶剤には水が使用される。ま
た、水の蒸発防止と粘度コントロールのために、ポリビ
ニルアルコール、エチレングリコール、エチレングリコ
ールモノブチルエーテル、2−(2−エトキシエトキシ
)エタノール等を添加して、エマルジョン化すると効果
がある。
Water is used as a solvent for such catalytic inks. Further, in order to prevent water evaporation and control viscosity, it is effective to add polyvinyl alcohol, ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, 2-(2-ethoxyethoxy)ethanol, etc. to form an emulsion.

(つ)触媒性インクを現像して、剥離するとともに、非
めっき領域をシランラップリング剤の誘導体で被覆する
工程 この工程は、上記触媒性インクを印刷した基板部25を
現像液へ浸漬することにより行なう。
(1) A step of developing and peeling off the catalytic ink, and coating the non-plated areas with a silane wrapping agent derivative. This step involves immersing the substrate portion 25 printed with the catalytic ink in a developer solution. This is done by

現像液は、塩酸水溶液ヘシランカツプリング剤、還元剤
を添加したものである。
The developer was an aqueous hydrochloric acid solution to which a Hesilan coupling agent and a reducing agent were added.

このシランカップリング剤には、既述のものが使用でき
、水溶液中でシラノール化している。そして、既に粗化
されている基板部25の非めっき領域へ吸着(物理吸着
+化学吸着)される。これにより、当該非めっき領域が
シランカップリング剤の誘導体で被覆されることとなる
As this silane coupling agent, those mentioned above can be used, and are converted into silanol in an aqueous solution. Then, it is adsorbed (physical adsorption + chemical adsorption) to the non-plating area of the substrate portion 25 that has already been roughened. As a result, the non-plated area is coated with the silane coupling agent derivative.

一方めっき領域27に陽画印刷された触媒性インクは、
銀塩(シランカップリング剤、アミロースと錯体を形成
している)が、シランカップリング剤の官能基の働きに
よりめっき領域27の界面に効率よく移行して結合する
ため、非めっき領域へにじみ出すことなく安定して固定
される。次に、基板部25を塩酸水溶液へ浸漬したとき
に、触媒性インクは膨潤とゲル化する性質をもっている
。これは、触媒性インクのアミロペクチン骨格中に包蔵
されて溶液化している銀塩が、塩酸と反応して塩化銀に
変化して膨潤し、これにより、インク被膜の構造がゲル
化(脆化)する原因になっていると推定される。かかる
ゲル化した触媒性インクの構造体は崩壊又は崩壊し易い
状態となっており、水洗によって完全に基板部25上か
ら除去することができる。このときに粗化面をもつめつ
き領域27に安定して吸着固定されている銀塩は、現像
液中の還元剤によって、触媒基質に変化するものと推定
される。
On the other hand, the catalytic ink positively printed on the plating area 27 is
The silver salt (silane coupling agent, which forms a complex with amylose) efficiently migrates and bonds to the interface of the plating area 27 due to the function of the functional group of the silane coupling agent, so it oozes into the non-plating area. It is stably fixed without any problems. Next, when the substrate portion 25 is immersed in an aqueous hydrochloric acid solution, the catalytic ink has the property of swelling and gelling. This is because the silver salt, which is encapsulated in the amylopectin skeleton of the catalytic ink and becomes a solution, reacts with hydrochloric acid, turns into silver chloride, and swells, causing the structure of the ink film to gel (become brittle). It is presumed that this is the cause. The gelled structure of the catalytic ink is in a state where it collapses or easily collapses, and can be completely removed from the substrate portion 25 by washing with water. At this time, it is presumed that the silver salt stably adsorbed and fixed in the roughened surface area 27 is converted into a catalytic substrate by the reducing agent in the developer.

尚、還元剤には、亜硫酸ナトリウムなどの、銀塩を還元
できる薬剤を用いることができる。現像液に対する配合
量は、亜硫酸ナトリウムを例とした場合では、現像液1
℃当り10〜75g1好ましくは30〜50gである。
Note that, as the reducing agent, an agent capable of reducing silver salt, such as sodium sulfite, can be used. In the case of using sodium sulfite as an example, the amount to be added to the developer is 1
10 to 75 g per °C, preferably 30 to 50 g.

(1)無電解めっきにより、基板部25のめつき領域2
7へ導体部23を形成する工程 この工程は、第2の発明と同様にして行なう。
(1) Plating area 2 of the substrate portion 25 is formed by electroless plating.
Step of forming the conductor portion 23 on the substrate 7 This step is carried out in the same manner as in the second invention.

ただし、めっき金属はCuに限定される。このことは、
触媒性インクの触媒が銀塩であることに起因している。
However, the plating metal is limited to Cu. This means that
This is due to the fact that the catalyst of the catalytic ink is a silver salt.

尚、Niめつき等を行なうときには、予め、Cuめつぎ
層をプライマ一層として形成し、その上へNiめつき層
等を析出させることとなる。
Note that when Ni plating or the like is performed, a Cu plating layer is formed in advance as a single primer layer, and a Ni plating layer or the like is deposited thereon.

〈発明の効果〉 以上説明したように、第1の発明に係るプリント基板は
、基板部と無電解めっきにより形成された導体部とを備
えて成り、基板部の導体部突設面において、非めっき領
域がシランカップリング剤の誘導体で被覆されてい、る
構成である。これにより、導体部形成後に、該導体部の
ハンダメッキや、素子等の部品を架装するために、基板
部を溶融ハンダ槽にディッピングしたときに、非めっき
領域を被覆するシランカップリング剤の誘導体により、
当該ハンダが非めっき領域へ付着することを防止できる
。従って、高密度配線の素線間の短絡等のトラブルを解
消することができる。
<Effects of the Invention> As explained above, the printed circuit board according to the first invention includes a substrate portion and a conductor portion formed by electroless plating, and the conductor portion protruding surface of the substrate portion has a non-conductive surface. The plating area is coated with a silane coupling agent derivative. This allows the silane coupling agent to coat the non-plated areas when dipping the board into a molten solder bath for solder plating the conductor or mounting parts such as elements after forming the conductor. With derivatives,
It is possible to prevent the solder from adhering to non-plated areas. Therefore, troubles such as short circuits between strands of high-density wiring can be eliminated.

かかる第1の発明のプリント基板は、(ア)所定の樹脂
組成物により、基板部の非めっき領域を被覆する工程と
、(イ)基板部のめつき領域へ触媒を付与する工程と、
(つ)樹脂組成物の被膜を除去する工程と、(1)無電
解めっきにより、基板部のめつき領域へ導体部を形成す
る工程とを順次縁ることを特徴とする方法(第2の発明
)と、(ア)基板部表面を全体的に粗化する工程と、(
イ)特定の触媒性インクで、基板部のめつき領域へ陽画
印刷をする工程と、(つ)触媒性インクを現像して、剥
離するとともに、非めっき領域をシランカップリング剤
の誘導体で被覆する工程と、(1)無電解めっきにより
、基板部のめつき領域へ導体部を形成する工程とを順次
縁ることを特徴とする方法(第3の発明)により製造さ
れる。
The printed circuit board of the first invention includes the following steps: (a) coating the non-plated areas of the substrate with a predetermined resin composition; (b) applying a catalyst to the plated areas of the substrate;
(1) a step of removing a film of a resin composition; and (1) a step of forming a conductor part in a plating area of a substrate part by electroless plating (a second method). invention), (a) a step of roughening the entire surface of the substrate portion, and (
b) A process of positive printing on the plated area of the substrate with a specific catalytic ink, and (1) developing and peeling off the catalytic ink, and coating the non-plated area with a silane coupling agent derivative. and (1) forming the conductor portion in the plating area of the substrate portion by electroless plating (third invention).

このようしてプリント基板を製造するときには、導体部
を形成する前に、非めっき領域がシランカップリング剤
の誘導体により被覆されることにより、めつぎ制御相が
形成されている。このめっき制御相は、非めっき領域上
に、はすの葉上の水玉形状に存在していると考えられ、
めっき制御機能が立体的に、即ち3次元的にわたって効
果を及ぼしているため、めっき領域で成長する導体部は
横方向の成長が規制され、結果としてシャープな方形横
断面を有する導体部が形成されることとなる(第2表参
照)。
When manufacturing a printed circuit board in this manner, a plating control phase is formed by coating the non-plated region with a silane coupling agent derivative before forming the conductor portion. This plating control phase is thought to exist on the non-plated area in the shape of a lotus leaf,
Since the plating control function exerts its effect three-dimensionally, that is, in three dimensions, the lateral growth of the conductor growing in the plating area is restricted, and as a result, a conductor having a sharp rectangular cross section is formed. (See Table 2).

従って、無電解めっきの手法を用いて、導体部を設計ど
うりに形成可能となる。よって、導体部の断面形状が不
安定な従来のプリント基板に比べると、第2.3の発明
により形成されるプリント基板は、導体部のパターンを
より細かくすることが可能となる。
Therefore, the conductor portion can be formed as designed using electroless plating. Therefore, compared to the conventional printed circuit board in which the cross-sectional shape of the conductor section is unstable, the printed circuit board formed according to the 2.3 aspect of the present invention allows the pattern of the conductor section to be made finer.

〈実施例〉 以下、この発明の実施例について説明をする。<Example> Examples of the present invention will be described below.

まず、第2の発明に基づいてプリント基板を製造する方
法を説明する。
First, a method for manufacturing a printed circuit board based on the second invention will be described.

(ア)所定の樹脂組成物により、基板部の非めっき領域
を被覆する工程(第5.6図参照)第1表に示した配合
の樹脂組成物を調製する。
(a) Step of coating the non-plated area of the substrate portion with a predetermined resin composition (see Figure 5.6) A resin composition having the formulation shown in Table 1 is prepared.

一方、基板部35として、厚さ3mmのABS板(第1
表に有機質として表す)と、厚さ0.8 mmのアルミ
ナセラミックス(アル′ミナ純度;96%)板(第1表
に無機質として表す)を準備する。尚、板の縦横の長さ
は特に限定されない。
On the other hand, as the substrate part 35, an ABS plate (first
A 0.8 mm thick alumina ceramic (alumina purity: 96%) plate (represented as an inorganic material in Table 1) was prepared. Note that the vertical and horizontal lengths of the plate are not particularly limited.

かかる基板部35へ、第5図の如く、貫通孔32を穿設
する。その後、第6図の如く、第1表に示した樹脂組成
物でスクリーン印刷をし、被膜39を形成する。基板部
35の表面において、この被膜39で被覆された面が非
めっき領域36となる。
A through hole 32 is bored into the substrate portion 35 as shown in FIG. Thereafter, as shown in FIG. 6, screen printing is performed using the resin composition shown in Table 1 to form a coating 39. On the surface of the substrate portion 35 , the surface covered with this film 39 becomes a non-plating region 36 .

−の被膜39と他の被膜39との間隔は、最小70μm
まで狭くすることができる。被膜39の厚みは少なくと
も4μmあればよい。この厚みは通常のスクリーン印刷
を1回行なって得られる厚さである。このように薄膜の
印刷で済むことは、より鮮明なパターンが得られること
を示す。
- The distance between the coating 39 and other coatings 39 is at least 70 μm.
It can be narrowed to The thickness of the coating 39 should be at least 4 μm. This thickness is the thickness obtained by performing normal screen printing once. The fact that only a thin film can be printed in this way means that a clearer pattern can be obtained.

その後、被膜39が備えられた基板部35を、120℃
×15〜20分の条件で乾燥する。この状態の被膜39
の外面は疎水性を示すようになる(イ)基板部35のめ
つき領域37へ触媒を付与する工程(第7図参照) 触媒を付与するためには、最初にめっき領域37を粗化
する必要がある。
Thereafter, the substrate portion 35 provided with the coating 39 was heated at 120°C.
Dry for 15 to 20 minutes. Coating 39 in this state
(a) Step of applying a catalyst to the plating area 37 of the substrate portion 35 (see Fig. 7) In order to apply a catalyst, the plating area 37 is first roughened. There is a need.

下記配合の粗化液1を調製し、45〜60℃に保った状
態で、これへ有機質の基板部35を10〜20分浸漬す
る。
A roughening liquid 1 having the following composition is prepared, and the organic substrate portion 35 is immersed therein for 10 to 20 minutes while maintaining the temperature at 45 to 60°C.

粗化液1 三酸化クロム酸       30  g硫酸(比重;
 1.84)     500  mflりん酸(比重
;1.7)    100mJl全量を1flとする水
     〜 合計 1 ℃ 一方、基板部35が無機質の場合には、46%ぶつ化水
素酸溶液を室温状態に保って、これへ10〜20分間浸
漬した。
Roughening solution 1 Chromic acid trioxide 30 g Sulfuric acid (specific gravity;
1.84) 500 mfl phosphoric acid (specific gravity: 1.7) 100 mJl of water to make 1 fl - total 1°C On the other hand, when the substrate portion 35 is inorganic, the 46% hydrofluoric acid solution is kept at room temperature. and immersed in this for 10 to 20 minutes.

その後、それぞれの基板部35(被膜39を含めて)を
水洗し、その状態を目視により観察した。尚、被膜39
の無い基板部35の表面は全て粗化されている(めっき
領域37となる)。
Thereafter, each substrate portion 35 (including the coating 39) was washed with water, and its condition was visually observed. In addition, the coating 39
The entire surface of the substrate portion 35 that does not have a rough surface is roughened (becomes a plating region 37).

結果を第1表に示す。The results are shown in Table 1.

第1表の結果から、実施例の樹脂組成物は劣化せず、疎
水性を維持することがわかる。一方、比較例の樹脂組成
物は消失してしまった。
From the results in Table 1, it can be seen that the resin compositions of Examples did not deteriorate and maintained their hydrophobicity. On the other hand, the resin composition of the comparative example disappeared.

尚、本発明者の検討によれば、下記配合の有機質基板部
用粗化液2.3に対しても、実施例の樹脂組成物は耐食
性を有することが確認されている粗化液2 三酸化クロム酸      100 g硫酸(比重; 
1,84)     420  mflりん酸(比重;
1.7)    200mfl全量を1f!、とする水
     〜 合計 iJl 粗化液3 三酸化クロム酸      500 g硫酸(比重; 
1.84)     250  mfl全量を1flと
する水 合計 1 ℃ 次に、下記配合の触媒液へ基板部25を浸漬する。
According to the inventor's study, it has been confirmed that the resin composition of the example has corrosion resistance even with respect to roughening liquid 2.3 for organic substrate parts having the following composition. Chromic acid oxide 100 g Sulfuric acid (specific gravity;
1,84) 420 mfl phosphoric acid (specific gravity;
1.7) 1f for the entire 200mfl! , water ~ Total iJl Roughening liquid 3 Chromic acid trioxide 500 g Sulfuric acid (specific gravity;
1.84) 250 mfl Total amount of water to 1 fl: 1° C. Next, the substrate portion 25 is immersed in a catalyst liquid having the following composition.

触媒液 P d C121,Og SnC12・2H2050g HCI (37%溶液)    400mJ2全量をi
ftとする水 合計 11 浸漬の条件は、25〜b る。これにより、基板部35のめつき領域37へ触媒基
質が吸着されることとなる。
Catalyst liquid P d C121, Og SnC12・2H2050g HCI (37% solution) 400mJ2 total amount i
Total water in ft 11 The conditions for immersion are 25-b. As a result, the catalyst substrate is adsorbed onto the plating region 37 of the substrate portion 35.

被膜39の表面には、触媒基質はほとんど吸着されない
。これは、被膜39を形成する樹脂組成物内のシランカ
ップリング剤に起因する電気化学的な反発力によると推
定される。
Almost no catalyst substrate is adsorbed on the surface of the coating 39. This is presumed to be due to electrochemical repulsion caused by the silane coupling agent in the resin composition forming the coating 39.

そして、基板部35(被膜39を含めて)を水洗した後
、当該基板部35を下記配合の活性化液へ浸漬する。
After washing the substrate portion 35 (including the coating 39) with water, the substrate portion 35 is immersed in an activation liquid having the following composition.

活性化液 MCI (37%溶液)     100mu全量を1
j2とする水     〜 合計  1 ℃ 浸漬の条件は、室温×2分である。これにより、めっき
領域の触媒基質が活性化される。その後、水洗する。
Activation liquid MCI (37% solution) 100mu total amount
Water as j2 ~ Total 1°C The immersion conditions are room temperature x 2 minutes. This activates the catalyst substrate in the plating area. Then wash with water.

(つ)樹脂組成物の被膜39を除去する工程(第8図参
照) 基板部35(被膜39も含めて)を、下記配合の剥離液
へ浸漬する。
(1) Step of removing the coating 39 of the resin composition (see FIG. 8) The substrate portion 35 (including the coating 39) is immersed in a stripping solution having the following composition.

剥離液 NaOH200g 全量を1℃とする水     〜 合計  ifL 浸漬の条件は、室温×2〜3分である。これにより、被
膜39はゲル化され、水洗により、基板部35の非めっ
き領域36から剥離される。
Stripping liquid NaOH 200g Water with a total temperature of 1° C. ~ Total ifL The immersion conditions are room temperature x 2 to 3 minutes. As a result, the coating 39 is gelled and peeled off from the non-plated area 36 of the substrate portion 35 by washing with water.

被膜39が非めっき領域36から剥離されても、該非め
っき領域36には、既述の如く、シランカップリング剤
の誘導体が転写され、めっき制御相を形成している。
Even if the coating 39 is peeled off from the non-plating area 36, the silane coupling agent derivative is transferred to the non-plating area 36, forming a plating control phase, as described above.

(1)無電解めっきにより、基板部35のめつき領域3
7へ導体部33を形成する工程(第9図参照) 下記配合のめっき液1,2.3を用いて、下記条件で無
電解めっきを行なった。
(1) The plating area 3 of the substrate portion 35 is formed by electroless plating.
7 (see FIG. 9) Electroless plating was performed under the following conditions using plating solutions 1, 2.3 having the following composition.

めつきン夜1  (Cuめつき) CuSO415H2010g EDTA−4Na         35  gHCH
O(37%水溶液)    10mJ12、2°−Bi
py            10mJZK4  Fe
  (CN)a  ・3H2050mfl界面活性剤 
          小量N a OHp H12,4
に調整する量全量を1℃とする水        〜合
計1.Q めつ籾条件 70℃×50時間 めっき液2(アルカリ性Niめつき) NiC12・6H2030g NaH2PO2’ H2010g Na3 c6 Hs O7・2H2075gNH4Cl
            50gN H40Hp H8
,5〜9.5に調整する量全量を1℃とする水    
    〜合計 iIL めつき条件 90℃×10時間 めっき液3(酸性Niめっき) N i C12・6 H2030g NaH2PO2’H2010g Na、、c6Hs 07 ・2H2025gN H4C
1、p H5,0〜6.0に調整する量全量を1flと
する水        〜合計 1ρ めつき条件 90℃×10時間 これにより、第9図の如く、めっき領域37へ導体部3
3が形成される。
Mettsukin Yo 1 (Cu Metsuki) CuSO415H2010g EDTA-4Na 35 gHCH
O (37% aqueous solution) 10mJ12, 2°-Bi
py 10mJZK4 Fe
(CN)a ・3H2050mfl surfactant
Small amount Na OHp H12,4
Amount to be adjusted to 1°C total amount of water ~1. Q Paddy rice condition 70℃ x 50 hours Plating solution 2 (alkaline Ni plating) NiC12・6H2030g NaH2PO2' H2010g Na3 c6 Hs O7・2H2075gNH4Cl
50gN H40Hp H8
, 5 to 9.5 Amount of water whose total temperature is 1℃
~Total iIL Plating condition 90℃ x 10 hours Plating solution 3 (acidic Ni plating) Ni C12・6 H2030g NaH2PO2'H2010g Na,, c6Hs 07 ・2H2025gN H4C
1. Amount to adjust the pH to 5.0 to 6.0. Total amount of water is 1 fl. Plating condition: 90°C x 10 hours. As shown in FIG.
3 is formed.

非めっき領域36は、シランカップリング剤の8導体で
被覆されている。従って、非めっき領域36はハンダ反
発相(=めっき制御相34)を備えることとなる。
The non-plated area 36 is coated with 8 conductors of silane coupling agent. Therefore, the non-plating area 36 is provided with a solder repelling phase (=plating control phase 34).

本発明者の検討によれば、導体部33形成後の基板部3
5を溶融ハンダ槽に10秒浸漬したとき、非めっき領域
36にはハンダが全く付着しなかった。これにより、非
めっき領域36のハンダ反発相のハンダを隔絶する効果
が確認できた。
According to the inventor's study, the substrate portion 3 after the conductor portion 33 is formed.
When No. 5 was immersed in a molten solder bath for 10 seconds, no solder adhered to the non-plated area 36. This confirmed the effect of isolating the solder in the solder repellent phase in the non-plating area 36.

一方、シランカップリング剤で被覆しないプリント基板
について、上記と同様な実験を行なったところ、非めっ
き領域36の随所へハンダが付着してしまった。
On the other hand, when an experiment similar to the above was conducted on a printed circuit board that was not coated with the silane coupling agent, solder adhered to various parts of the non-plated area 36.

このようにして形成された実施例のプリント基板31の
導体部33の断面形状は、めっき領域37から真直に立
ち上った。幅が250μm、500μmの帯状めっき領
域へめっき液2を用いて形成された導体部の横断面の寸
法を、第2表に示した。導体部の各寸法は、導体部の横
断面の顕微鏡写真を撮り、これをノギスで測定して得ら
れたものである。尚、使用した樹脂組成物とは、非めっ
き領域を被覆するものであり、第1表の実施例1.3,
5を用いた。
The cross-sectional shape of the conductor portion 33 of the printed circuit board 31 of the example thus formed rose straight from the plating region 37. Table 2 shows the cross-sectional dimensions of the conductor portions formed using plating solution 2 on strip-shaped plating regions with widths of 250 μm and 500 μm. Each dimension of the conductor part was obtained by taking a microscopic photograph of the cross section of the conductor part and measuring it with a caliper. The resin composition used is one that covers the non-plated area, and is the same as Example 1.3 in Table 1.
5 was used.

このように、導体部の断面形状がめつき領域から真直に
立ち上ったものとなるのは、めっき制御相の作用による
と考えられる。
The reason why the cross-sectional shape of the conductor portion rises straight from the plating region is considered to be due to the action of the plating control phase.

基板部における非めっき領域がシランカップリング剤の
誘導体で被覆されていない状態で、無電解めっきをする
と、めつ籾開始から5〜10分でめっきの幅が増大し、
30〜60分で基板部の全面のいわゆる「べためつき」
へと発展した。
If electroless plating is performed while the non-plated area of the substrate is not coated with the silane coupling agent derivative, the width of the plating will increase within 5 to 10 minutes from the start of plating.
After 30 to 60 minutes, the entire surface of the board will become sticky.
It developed into.

次に、第3の発明に基づいてプリント基板を製造する方
法を説明する。
Next, a method for manufacturing a printed circuit board based on the third invention will be described.

(ア)基板部45の表面を全体的に粗化する工程基板部
45の形成材料及び粗化液及び粗化の条件は、第2の発
明と同様である(第10図参照)。
(A) Process of roughening the entire surface of the substrate portion 45 The material for forming the substrate portion 45, the roughening liquid, and the roughening conditions are the same as those in the second invention (see FIG. 10).

(イ)特定の触媒性インクで、基板部45のめつき領域
47へ陽画印刷をする工程(第11図参照以下のように
して、触媒性インクを調製する。
(a) Step of performing positive printing on the plating area 47 of the substrate portion 45 using a specific catalytic ink (see FIG. 11) The catalytic ink is prepared as follows.

脱イオン水の500[[IJZへ、澱粉を500g及び
、メチルブルー(硫黄化合物成分)2.5gを溶解させ
る。そして、50℃から80℃まで略2時間かけて順次
昇温し、全体の量が750muとなるまで濃縮する。す
ると、濃紺透明な粘性溶液が得られる。これを30〜4
0℃にまで冷却した後、これへ、N−(β−アミノエチ
ル)−α−アミノプロピルトリメトキシシランの7.5
g、硝酸銀5,0g及びエチレングリコール40〜65
gを加える。このようにして得られたものを、触媒性イ
ンクIとする。
Dissolve 500 g of starch and 2.5 g of methyl blue (sulfur compound component) in 500 g of deionized water. Then, the temperature is sequentially raised from 50° C. to 80° C. over approximately 2 hours, and concentrated until the total amount becomes 750 mu. A dark blue transparent viscous solution is then obtained. This is 30-4
After cooling to 0°C, 7.5% of N-(β-aminoethyl)-α-aminopropyltrimethoxysilane was added to this.
g, silver nitrate 5.0 g and ethylene glycol 40-65
Add g. The product thus obtained is referred to as catalytic ink I.

上記において、澱粉500gの代りに、澱粉250gと
デキストリン250gを用いたものを、触媒性インクI
Iとする。
In the above, instead of 500 g of starch, 250 g of starch and 250 g of dextrin were used.
Let it be I.

かかる触媒性インクにより、既に粗化されている基板部
45ヘパターンを陽画状にスクリーン印刷する(第11
図参照)。基板部45において、この触媒性インク53
をのせた部分かめつぎ領域47となる。そして、室温〜
50℃の雰囲気へ放置して、触媒性インク53を乾燥さ
せる。
Using this catalytic ink, a pattern is screen printed in a positive pattern on the already roughened substrate portion 45 (11th step).
(see figure). In the substrate portion 45, this catalytic ink 53
This is the partial hook area 47 on which is placed. And room temperature~
The catalytic ink 53 is left to dry in an atmosphere of 50°C.

(つ)触媒性インク53を現像して、剥離するとともに
、非めっき領域46をシランカップリング剤の誘導体で
被覆する工程(第12図参照)下記配合の現像液を調製
し、その現像液へ有機質製の基板部45(触媒性インク
53も含めて)を5〜15秒間浸漬する。
(1) Step of developing and peeling off the catalytic ink 53 and coating the non-plating area 46 with a silane coupling agent derivative (see Figure 12) Prepare a developer with the following composition and apply it to the developer. The organic substrate portion 45 (including the catalytic ink 53) is immersed for 5 to 15 seconds.

現像液I MCI (35%溶液)     100mfl触媒性
インクに配合されている シランカップリング剤    25  gHCHO(3
7%溶液)     50mA亜硫酸ナトリウム   
     20  g全量を1℃にする脱イオン水  
〜 合計 1 ℃ 基板部が無機質製の場合は、上記配合において、シラン
カップリング剤の量を32gとする(これを現像液2と
する)。
Developer I MCI (35% solution) 100 mfl Silane coupling agent blended in catalytic ink 25 g HCHO (3
7% solution) 50mA sodium sulfite
20 g Deionized water to bring the total amount to 1℃
~Total 1° C. When the substrate portion is made of inorganic material, the amount of silane coupling agent is 32 g in the above formulation (this is referred to as developer 2).

かかる現像液へ浸漬することにより、触媒性インク53
がゲル化するとともに、非めっき領域47ヘシランカツ
ブリング剤の誘導体が吸着し、該領域へめっき制御相4
4を形成することとなる。
By immersing in such a developer, the catalytic ink 53
At the same time, the non-plating area 47 is adsorbed with a derivative of the hesilan coupling agent, and the plating control phase 4 is transferred to the non-plating area 47.
4 will be formed.

その後、水洗すると、ゲル化した触媒性インク53のみ
が剥離される。
Thereafter, when washed with water, only the gelled catalytic ink 53 is peeled off.

尚、本発明者の検討によれば、当該現像液に配合するシ
ランカップリング剤を、触媒性インクに配合したものと
別種とすることができた。
According to the studies of the present inventors, it was possible to use a different type of silane coupling agent to be blended in the developer than that blended in the catalytic ink.

(1)無電解めっきにより、基板部45のめつき領域4
7へ導体部43を形′成する工程(第13図参照) この工程の無電解めっき作業は、第2の発明と同様にし
て行なう。
(1) The plating area 4 of the substrate portion 45 is formed by electroless plating.
7 (see FIG. 13) The electroless plating operation in this step is carried out in the same manner as in the second invention.

これにより得られたプリント基板41は、第2の発明の
製造方法で得られたものと同様に、その非めっき領域が
ハンダに対する忌避能を有する。
The printed circuit board 41 thus obtained has the ability to repel solder in its non-plated region, similar to that obtained by the manufacturing method of the second invention.

また、触媒性インク53を一定幅の帯状に印刷したとき
の、導体部43の横断面形状を、第2表の場合と同様に
して、第3表に示す。
Table 3 also shows the cross-sectional shape of the conductor portion 43 when the catalytic ink 53 is printed in a strip of constant width, in the same manner as in Table 2.

第3表の結果から、第3の発明にかかる製造方法で得ら
れたプリント基板41においても、その導体部は、めっ
き領域から真直に立ち上っていることがわかる。
From the results in Table 3, it can be seen that even in the printed circuit board 41 obtained by the manufacturing method according to the third invention, the conductor portions rise straight from the plating region.

第2表 注)1.比較例は、非めつき領域へめっき制御相を設け
ずにめっきを行なった。
Table 2 Note) 1. In the comparative example, plating was performed without providing a plating control phase to the non-plated area.

2、表中の各幅の単位はμmである。2. The unit of each width in the table is μm.

3、べためつきとは、基板部の表面全域にめっきが析出
したことをいう。
3. Stickiness refers to the precipitation of plating over the entire surface of the substrate.

第3表Table 3

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明のプリント基板21の断面図、第2図
は樹脂組成物を基板部25ヘスクリーン印刷して被膜2
9を形成した状態を示す断面図、第3図はシランカップ
リング剤が配合されないときの、樹脂組成物中の無機質
充填剤を示す模式図、第4図はシランカップリング剤が
配合されているときの、樹脂組成物中の無機質充填剤を
示す模式図、第5図は実施例の基板部35を示す断面図
、第6図は第5図のものへ樹脂組成物をスクリーン印刷
した状態を示す断面図、第7図は第6図のもののめつき
領域37へ触媒を付与した状態を示す断面図、第8図は
第7図のものの被膜39を除去した状態を示す断面図、
第9図は実施例のプリント基板を示す断面図、第10図
は他の実施例の基板部45を示す断面図、第11図は第
10図のものへ触媒性インク53を陽画印刷する工程、
第12図は第11図のものを現像した状態を示す断面図
、第13図は他の実施例のプリント基板を示す断面図で
あり、 第14.15図は従来例のプリント基板1.11の断面
図である。 1.11,21,31.41 ・・・プリント基板、 3.13,25,35.45 ・・・基板部、 5.17,23,33.43 ・・・導体部。 特  許  出  願  人 津    1)   穣 第1o図 第12図 第11図 第 13  図 第14図 第15図
FIG. 1 is a sectional view of a printed circuit board 21 of the present invention, and FIG. 2 is a coating 2 formed by screen-printing a resin composition onto a substrate portion 25.
Figure 3 is a schematic diagram showing the inorganic filler in the resin composition when no silane coupling agent is blended, and Figure 4 is a cross-sectional view showing the state in which 9 is formed. FIG. 5 is a cross-sectional view showing the substrate portion 35 of the example, and FIG. 6 is a schematic diagram showing the inorganic filler in the resin composition. FIG. FIG. 7 is a sectional view showing a state in which a catalyst has been applied to the plating area 37 of the structure shown in FIG. 6, and FIG. 8 is a sectional view showing a state in which the coating 39 of the structure shown in FIG.
FIG. 9 is a sectional view showing the printed circuit board of the embodiment, FIG. 10 is a sectional view showing the board portion 45 of another embodiment, and FIG. ,
FIG. 12 is a cross-sectional view showing the developed state of the one in FIG. 11, FIG. 13 is a cross-sectional view showing a printed circuit board of another embodiment, and FIG. 14.15 is a printed circuit board 1.11 of a conventional example. FIG. 1.11, 21, 31.41... Printed circuit board, 3.13, 25, 35.45... Board section, 5.17, 23, 33.43... Conductor section. Patent application Hitotsu 1) Jo Figure 1O Figure 12 Figure 11 Figure 13 Figure 14 Figure 15

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基板部と無電解めつきにより形成された導体部と
を備えて成り、 前記基板部の前記導体部突設面において、非めつき領域
がシランカップリング剤の誘導体で被覆されていること を特徴とするプリント基板。
(1) Comprising a substrate portion and a conductor portion formed by electroless plating, and a non-plated area of the conductor portion protruding surface of the substrate portion is covered with a derivative of a silane coupling agent. A printed circuit board characterized by:
(2)基板部と無電解めつきにより形成された導体部と
を備えて成り、前記基板部の前記導体部突設面において
、非めつき領域がシランカップリング剤の誘導体で被覆
されているプリント基板の製造方法であつて、 下記工程(ア)〜(エ)を順次経ることを特徴とするプ
リント基板の製造方法; (ア)酸性めつき用メッキレジスト剤、 ロジン、 シランカップリング剤、 及び必要に応じて添加される硫黄化合物 を有効成分とする樹脂組成物により、前記基板部の非め
つき領域を被覆する工程、 (イ)前記基板部のめつき領域へ触媒を付与する工程、 (ウ)前記樹脂組成物の被膜を除去する工程、(エ)無
電解めつきにより、前記基板部のめつき領域へ前記導体
部を形成する工程。
(2) It comprises a substrate part and a conductor part formed by electroless plating, and a non-plated area on the protruding surface of the conductor part of the substrate part is covered with a derivative of a silane coupling agent. A method for manufacturing a printed circuit board, characterized by sequentially passing through the following steps (a) to (d): (a) plating resist agent for acid plating, rosin, silane coupling agent, and a step of coating the non-plated region of the substrate portion with a resin composition containing a sulfur compound as an active ingredient, which is added as necessary; (a) a step of applying a catalyst to the plating region of the substrate portion; (c) a step of removing the film of the resin composition; and (d) a step of forming the conductor portion in the plating region of the substrate portion by electroless plating.
(3)基板部と無電解めつきにより形成された導体部と
を備えて成り、前記基板部の前記導体部突設面において
、非めつき領域がシランカップリング剤の誘導体で被覆
されているプリント基板の製造方法であつて、 下記工程(ア)〜(エ)を順次経ることを特徴とするプ
リント基板の製造方法; (ア)前記基板部の表面を全体的に粗化する工程(イ)
銀塩、 澱粉系粘結剤、 シランカップリング剤、 及び必要に応じて添加される硫黄化合物 を有効成分とする水溶性の触媒性インクで、前記基板部
のめつき領域へ陽画印刷をする工程、(ウ)前記触媒性
インクを現像して、剥離する工程、 (エ)無電解めつきにより、前記基板部のめつき領域へ
前記導体部を形成する工程。
(3) It comprises a substrate part and a conductor part formed by electroless plating, and a non-plated area on the protruding surface of the conductor part of the substrate part is covered with a derivative of a silane coupling agent. A method for manufacturing a printed circuit board, the method comprising sequentially performing the following steps (a) to (d); )
A step of performing positive printing on the plating area of the substrate part with a water-soluble catalytic ink containing as active ingredients a silver salt, a starch-based binder, a silane coupling agent, and a sulfur compound added as necessary. (c) a step of developing and peeling off the catalytic ink; (d) a step of forming the conductor portion in the plating area of the substrate portion by electroless plating.
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JP2010010442A (en) * 2008-06-27 2010-01-14 Fujitsu Ltd Manufacturing method of wiring board

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JP2010010442A (en) * 2008-06-27 2010-01-14 Fujitsu Ltd Manufacturing method of wiring board

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