JPS63271445A - Image forming method - Google Patents
Image forming methodInfo
- Publication number
- JPS63271445A JPS63271445A JP10756987A JP10756987A JPS63271445A JP S63271445 A JPS63271445 A JP S63271445A JP 10756987 A JP10756987 A JP 10756987A JP 10756987 A JP10756987 A JP 10756987A JP S63271445 A JPS63271445 A JP S63271445A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- general formula
- acid
- nitro
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 61
- -1 silver halide Chemical class 0.000 claims abstract description 259
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 77
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 71
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 46
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 46
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 29
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 19
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims abstract description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 111
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 57
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 50
- 150000003819 basic metal compounds Chemical class 0.000 claims description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 16
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 8
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 7
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 claims description 5
- 230000009918 complex formation Effects 0.000 claims description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 claims description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 2
- 230000007017 scission Effects 0.000 claims description 2
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 claims 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 abstract 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 55
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 48
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 46
- 238000011161 development Methods 0.000 description 41
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 description 36
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 29
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 29
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 22
- 239000012992 electron transfer agent Substances 0.000 description 20
- 230000008569 process Effects 0.000 description 20
- 239000010408 film Substances 0.000 description 19
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 17
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 16
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 16
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 11
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 11
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 11
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 10
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 10
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 10
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 10
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 10
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 10
- ZJAOAACCNHFJAH-UHFFFAOYSA-N phosphonoformic acid Chemical compound OC(=O)P(O)(O)=O ZJAOAACCNHFJAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 9
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical class NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 8
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical class O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 7
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 7
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 7
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 7
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 6
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 description 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 238000011160 research Methods 0.000 description 6
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 6
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 6
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 5
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 5
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 5
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910001447 ferric ion Inorganic materials 0.000 description 5
- 229960005102 foscarnet Drugs 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 5
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 5
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 5
- 125000003396 thiol group Chemical class [H]S* 0.000 description 5
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 4
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N Guanidine Chemical compound NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N N,N-bis{2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl}glycine Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(=O)O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 4
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-N benzenesulfinic acid Chemical class O[S@@](=O)C1=CC=CC=C1 JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 229960003330 pentetic acid Drugs 0.000 description 4
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 4
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 4
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XNCSCQSQSGDGES-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]propyl-(carboxymethyl)amino]acetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)C(C)CN(CC(O)=O)CC(O)=O XNCSCQSQSGDGES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RNMCCPMYXUKHAZ-UHFFFAOYSA-N 2-[3,3-diamino-1,2,2-tris(carboxymethyl)cyclohexyl]acetic acid Chemical compound NC1(N)CCCC(CC(O)=O)(CC(O)=O)C1(CC(O)=O)CC(O)=O RNMCCPMYXUKHAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N Diammonium sulfite Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])=O PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical class OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 3
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 3
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 3
- NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N iminodiacetic acid Chemical compound OC(=O)CNCC(O)=O NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 3
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 150000004989 p-phenylenediamines Chemical class 0.000 description 3
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L persulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])OOS(=O)(=O)[O-] JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 150000004986 phenylenediamines Chemical class 0.000 description 3
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N picolinic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=N1 SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N pyrimidine-2-thiol Chemical class SC1=NC=CC=N1 HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 3
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 3
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 3
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 3
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 3
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 3
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 3
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 3
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- 150000005206 1,2-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 2
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVJPLZNMCJQWPJ-UHFFFAOYSA-N 1-(4-methylphenyl)pyrazolidin-3-one Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1N1NC(=O)CC1 SVJPLZNMCJQWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole Chemical compound SC1=NN=NN1C1=CC=CC=C1 GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CARFETJZUQORNQ-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrrole-2-thiol Chemical class SC1=CC=CN1 CARFETJZUQORNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SGWZVZZVXOJRAQ-UHFFFAOYSA-N 2,6-Dimethyl-1,4-benzenediol Chemical compound CC1=CC(O)=CC(C)=C1O SGWZVZZVXOJRAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 2-(3-bromo-2-fluorophenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC(Br)=C1F PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XWSGEVNYFYKXCP-UHFFFAOYSA-N 2-[carboxymethyl(methyl)amino]acetic acid Chemical compound OC(=O)CN(C)CC(O)=O XWSGEVNYFYKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-3,3-dimethyl-7-nitro-4h-isoquinolin-1-one Chemical class C1=C([N+]([O-])=O)C=C2C(=O)N(O)C(C)(C)CC2=C1 NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004105 2-pyridyl group Chemical group N1=C([*])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- OWIRCRREDNEXTA-UHFFFAOYSA-N 3-nitro-1h-indazole Chemical compound C1=CC=C2C([N+](=O)[O-])=NNC2=C1 OWIRCRREDNEXTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003349 3-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(C)CN1C1=CC=CC=C1 SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJWJYHHBUMICTP-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethylpyrazolidin-3-one Chemical compound CC1(C)CNNC1=O FJWJYHHBUMICTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)-4-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(CO)CN1C1=CC=CC=C1 DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNBNBTIDJSKEAM-UHFFFAOYSA-N 4-[7-hydroxy-2-[5-[5-[6-hydroxy-6-(hydroxymethyl)-3,5-dimethyloxan-2-yl]-3-methyloxolan-2-yl]-5-methyloxolan-2-yl]-2,8-dimethyl-1,10-dioxaspiro[4.5]decan-9-yl]-2-methyl-3-propanoyloxypentanoic acid Chemical compound C1C(O)C(C)C(C(C)C(OC(=O)CC)C(C)C(O)=O)OC11OC(C)(C2OC(C)(CC2)C2C(CC(O2)C2C(CC(C)C(O)(CO)O2)C)C)CC1 ZNBNBTIDJSKEAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USGNZHHNWYDCTC-UHFFFAOYSA-N 4-amino-1,4-dihydropyrazol-5-one Chemical class NC1C=NNC1=O USGNZHHNWYDCTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBTWVJKPQPQTDW-UHFFFAOYSA-N 4-n,4-n-diethyl-2-methylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(N)C(C)=C1 XBTWVJKPQPQTDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNGVNLMMEQUVQK-UHFFFAOYSA-N 4-n,4-n-diethylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(N)C=C1 QNGVNLMMEQUVQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N Benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N Silver ion Chemical compound [Ag+] FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001409 amidines Chemical class 0.000 description 2
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 2
- AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L barium carbonate Chemical compound [Ba+2].[O-]C([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000001556 benzimidazoles Chemical class 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 2
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 2
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- HHSPVTKDOHQBKF-UHFFFAOYSA-J calcium;magnesium;dicarbonate Chemical compound [Mg+2].[Ca+2].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O HHSPVTKDOHQBKF-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 2
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002228 disulfide group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002357 guanidines Chemical class 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940042795 hydrazides for tuberculosis treatment Drugs 0.000 description 2
- 150000002443 hydroxylamines Chemical class 0.000 description 2
- 229910000378 hydroxylammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 2
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 2
- VCJMYUPGQJHHFU-UHFFFAOYSA-N iron(3+);trinitrate Chemical compound [Fe+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O VCJMYUPGQJHHFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004957 nitroimidazoles Chemical class 0.000 description 2
- 238000010534 nucleophilic substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 2
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 2
- RLEBKHAOAHYZHT-UHFFFAOYSA-M sodium;pyridine-2-carboxylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=N1 RLEBKHAOAHYZHT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 2
- 235000000346 sugar Nutrition 0.000 description 2
- FDDDEECHVMSUSB-UHFFFAOYSA-N sulfanilamide Chemical compound NC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 FDDDEECHVMSUSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 2
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000003549 thiazolines Chemical class 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 150000003567 thiocyanates Chemical class 0.000 description 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 2
- 150000004764 thiosulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000006276 transfer reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- UGZADUVQMDAIAO-UHFFFAOYSA-L zinc hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Zn+2] UGZADUVQMDAIAO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910021511 zinc hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940007718 zinc hydroxide Drugs 0.000 description 2
- DYDBYLPYXBCNDO-UHFFFAOYSA-N (2-butoxy-2-oxoethyl) 2h-benzotriazole-5-carboxylate Chemical compound C1=C(C(=O)OCC(=O)OCCCC)C=CC2=NNN=C21 DYDBYLPYXBCNDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical class OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- CYXJEHCKVOQFOV-UHFFFAOYSA-N (4-amino-2-methylphenyl) hydrogen sulfate Chemical compound CC1=CC(N)=CC=C1OS(O)(=O)=O CYXJEHCKVOQFOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEZZTBSDJQZJEN-UHFFFAOYSA-N (4-amino-3-methylphenyl) hydrogen sulfate Chemical compound CC1=CC(OS(O)(=O)=O)=CC=C1N SEZZTBSDJQZJEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFPKLWVNKAMAPE-UHFFFAOYSA-N (4-aminophenyl)azanium;hydrogen sulfate Chemical compound OS(O)(=O)=O.NC1=CC=C(N)C=C1 UFPKLWVNKAMAPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUZWVVAOELVLMB-UHFFFAOYSA-N (4-cyanophenyl) 2h-benzotriazole-5-carboxylate Chemical compound C1=CC2=NNN=C2C=C1C(=O)OC1=CC=C(C#N)C=C1 IUZWVVAOELVLMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVUREXIKOSWJEZ-UHFFFAOYSA-N (4-methyl-3-oxo-1-phenylpyrazolidin-4-yl)methyl dodecanoate Chemical compound N1C(=O)C(COC(=O)CCCCCCCCCCC)(C)CN1C1=CC=CC=C1 XVUREXIKOSWJEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTGNAAWKCGHEBE-UHFFFAOYSA-N (4-methyl-3-oxo-1-phenylpyrazolidin-4-yl)methyl octadecanoate Chemical compound N1C(=O)C(COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)(C)CN1C1=CC=CC=C1 OTGNAAWKCGHEBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006569 (C5-C6) heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- LUMLZKVIXLWTCI-NSCUHMNNSA-N (e)-2,3-dichloro-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\Cl)=C(/Cl)C=O LUMLZKVIXLWTCI-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- XBYRMPXUBGMOJC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydropyrazol-3-one Chemical class OC=1C=CNN=1 XBYRMPXUBGMOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazole Chemical class C1=CC=C2[se]C=NC2=C1 AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQDMCDIRPZVTFZ-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydropyrazol-2-amine Chemical compound NN1CC=CN1 OQDMCDIRPZVTFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 1,3-selenazole Chemical class C1=C[se]C=N1 ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRHUHDUEXWHZMA-UHFFFAOYSA-N 1,4-dihydropyrazol-5-one Chemical compound O=C1CC=NN1 ZRHUHDUEXWHZMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLVACWCCJCZITJ-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxane-2,3-diol Chemical compound OC1OCCOC1O YLVACWCCJCZITJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBDMBBKKGFKNCA-UHFFFAOYSA-N 1,5-diphenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)CC(C=2C=CC=CC=2)N1C1=CC=CC=C1 CBDMBBKKGFKNCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMMCRYPQEBQYKZ-UHFFFAOYSA-N 1-(2h-benzotriazol-5-ylmethyl)pyrrolidine-2,5-dione Chemical compound O=C1CCC(=O)N1CC1=CC2=NNN=C2C=C1 SMMCRYPQEBQYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STENCEYZPYSPCE-UHFFFAOYSA-N 1-(3-chlorophenyl)-4-methylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)CN1C1=CC=CC(Cl)=C1 STENCEYZPYSPCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBTOSMSBNFLZQJ-UHFFFAOYSA-N 1-(3-hydroxyphenyl)-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound OC1=CC=CC(N2C(N=NN2)=S)=C1 MBTOSMSBNFLZQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PASQTEDKDMHJPQ-UHFFFAOYSA-N 1-(4-chlorophenyl)-4-methylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)CN1C1=CC=C(Cl)C=C1 PASQTEDKDMHJPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HULJXMCAQUUEKF-UHFFFAOYSA-N 1-(4-nitrophenyl)-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1N1C(=S)N=NN1 HULJXMCAQUUEKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIQZJFKTROUNPI-UHFFFAOYSA-N 1-(hydroxymethyl)-5,5-dimethylhydantoin Chemical compound CC1(C)N(CO)C(=O)NC1=O SIQZJFKTROUNPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFENYQUGXYCFOI-UHFFFAOYSA-N 1-[3-(5-sulfanylidene-2h-tetrazol-1-yl)phenyl]prop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)C1=CC=CC(N2C(N=NN2)=S)=C1 LFENYQUGXYCFOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBBRDGHVXLFFFS-UHFFFAOYSA-N 1-[3-(5-sulfanylidene-2h-tetrazol-1-yl)phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC(N2C(N=NN2)=S)=C1 KBBRDGHVXLFFFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLQLTELAOKOFBV-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound CCN1N=NN=C1S JLQLTELAOKOFBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2,4-dioxo-1,3-diazinane-5-carboximidamide Chemical compound CN1CC(C(N)=N)C(=O)NC1=O IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALAVMPYROHSFFR-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-[3-(5-sulfanylidene-2h-tetrazol-1-yl)phenyl]urea Chemical compound CNC(=O)NC1=CC=CC(N2C(=NN=N2)S)=C1 ALAVMPYROHSFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJAOGUFAAWZWNI-UHFFFAOYSA-N 1-n,1-n,4-n,4-n-tetramethylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CN(C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 CJAOGUFAAWZWNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUFRGNOIJAGRFY-UHFFFAOYSA-N 1-naphthalen-1-yl-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound S=C1N=NNN1C1=CC=CC2=CC=CC=C12 QUFRGNOIJAGRFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000530 1-propynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- KPVMVJXYXFUVLR-UHFFFAOYSA-N 12-ethyltetradecan-1-amine Chemical compound CCC(CC)CCCCCCCCCCCN KPVMVJXYXFUVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 1H-indazole Chemical compound C1=CC=C2C=NNC2=C1 BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REHRQXVEAXFIML-UHFFFAOYSA-N 1h-indazole-3-carbonitrile Chemical compound C1=CC=C2C(C#N)=NNC2=C1 REHRQXVEAXFIML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAAIPIWKKXCNOC-UHFFFAOYSA-N 1h-tetrazol-1-ium-5-thiolate Chemical class SC1=NN=NN1 JAAIPIWKKXCNOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAZJTCQWIDBCCE-UHFFFAOYSA-N 1h-triazine-6-thione Chemical class SC1=CC=NN=N1 HAZJTCQWIDBCCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMPSXRYVXUPCOS-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichlorophenol Chemical compound OC1=CC=CC(Cl)=C1Cl UMPSXRYVXUPCOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXWPLAQHZMBYPU-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloropropyl 2h-benzotriazole-5-carboxylate Chemical compound C1=C(C(=O)OCC(Cl)CCl)C=CC2=NNN=C21 BXWPLAQHZMBYPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEUMBMHMMCOFAG-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrooxadiazole Chemical compound N1NC=CO1 VEUMBMHMMCOFAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001473 2,4-thiazolidinediones Chemical class 0.000 description 1
- SUVZGLSQFGNBQI-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(sulfanyl)hexanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(S)CCC(S)C(O)=O SUVZGLSQFGNBQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKEGGSPWBGCPNF-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydroxy-5-methyl-3-(piperidin-1-ylamino)cyclopent-2-en-1-one Chemical compound O=C1C(C)(O)CC(NN2CCCCC2)=C1O ZKEGGSPWBGCPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKQCSJBQLWJEPU-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydroxybenzenesulfonic acid Chemical compound OC1=CC=C(O)C(S(O)(=O)=O)=C1 IKQCSJBQLWJEPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-difluorophenoxy)pyridin-3-amine Chemical compound NC1=CC=CN=C1OC1=CC=C(F)C=C1F LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTNVDKBRTXEWQE-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-6-butan-2-yl-4-tert-butylphenol Chemical group CCC(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O RTNVDKBRTXEWQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJHHFSUMGWLPMI-UHFFFAOYSA-N 2-(carboxymethylamino)-2-hydroxyacetic acid Chemical compound OC(=O)C(O)NCC(O)=O KJHHFSUMGWLPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZXYQEHISUMZAT-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(CC=2C(=CC=C(C)C=2)O)=C1 XZXYQEHISUMZAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMSDCGXQALIMLM-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(carboxymethyl)amino]acetic acid;iron Chemical compound [Fe].OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O LMSDCGXQALIMLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQZNVNZWXYTPJM-UHFFFAOYSA-N 2-[carboxymethyl(2-hydroxyethoxy)amino]acetic acid Chemical compound OCCON(CC(O)=O)CC(O)=O OQZNVNZWXYTPJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWXISJJRNIVDIP-UHFFFAOYSA-N 2-[carboxymethyl-[2-[carboxymethyl(hydroxymethyl)amino]ethyl]amino]acetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CO)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O WWXISJJRNIVDIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCYDZZBQYRCILB-UHFFFAOYSA-N 2-acetyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound C1CC(=O)N(C(=O)C)N1C1=CC=CC=C1 GCYDZZBQYRCILB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPKNFEVLZVJGBM-UHFFFAOYSA-N 2-aminonaphthalen-1-ol Chemical class C1=CC=CC2=C(O)C(N)=CC=C21 QPKNFEVLZVJGBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004174 2-benzimidazolyl group Chemical group [H]N1C(*)=NC2=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C12 0.000 description 1
- PHPYXVIHDRDPDI-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1h-benzimidazole Chemical class C1=CC=C2NC(Br)=NC2=C1 PHPYXVIHDRDPDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYPSHJCKSDNETA-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-1h-benzimidazole Chemical class C1=CC=C2NC(Cl)=NC2=C1 AYPSHJCKSDNETA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFHPIGCKSAVNPH-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl 4-(2-sulfanylidene-1h-imidazol-3-yl)benzoate Chemical compound C1=CC(C(=O)OCCCl)=CC=C1N1C(=S)NC=C1 YFHPIGCKSAVNPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002941 2-furyl group Chemical group O1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- IXCVSBRAVBUTKL-UHFFFAOYSA-N 2-hexyldecanamide Chemical compound CCCCCCCCC(C(N)=O)CCCCCC IXCVSBRAVBUTKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOXDGMSQFFMNHA-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybenzenesulfonamide Chemical class NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1O MOXDGMSQFFMNHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVRYCPZDHKLBNR-UHFFFAOYSA-N 2-mercaptoindole Chemical class C1=CC=C2NC(S)=CC2=C1 FVRYCPZDHKLBNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GECAASVELDWYOU-UHFFFAOYSA-N 2-methylsulfonylethyl 2-sulfanylidene-3h-1,3-benzothiazole-5-carboxylate Chemical compound CS(=O)(=O)CCOC(=O)C1=CC=C2SC(=S)NC2=C1 GECAASVELDWYOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRTDQDCPEZRVGC-UHFFFAOYSA-N 2-nitro-1h-benzimidazole Chemical class C1=CC=C2NC([N+](=O)[O-])=NC2=C1 KRTDQDCPEZRVGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- BPSNETAIJADFTO-UHFFFAOYSA-N 2-pyridinylacetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC=N1 BPSNETAIJADFTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGWULZWUXSCWPX-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylideneimidazolidin-4-one Chemical class O=C1CNC(=S)N1 UGWULZWUXSCWPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSIAIROWMJGMQZ-UHFFFAOYSA-N 2h-triazol-4-amine Chemical class NC1=CNN=N1 JSIAIROWMJGMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBHTTYDJRXOHHL-UHFFFAOYSA-N 2h-triazolo[4,5-c]pyridazine Chemical class N1=NC=CC2=C1N=NN2 CBHTTYDJRXOHHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCABLKFGYPIVFC-UHFFFAOYSA-N 3-(1-benzofuran-2-yl)-3-oxopropanenitrile Chemical compound C1=CC=C2OC(C(CC#N)=O)=CC2=C1 GCABLKFGYPIVFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKZLVXLDRQUFHT-UHFFFAOYSA-N 3-(5-sulfanylidene-2h-tetrazol-1-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCN1N=NN=C1S BKZLVXLDRQUFHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJIWVACHHXLDQV-UHFFFAOYSA-N 3-[(2-sulfanylidene-3h-1,3,4-thiadiazol-5-yl)sulfanyl]propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCSC1=NNC(=S)S1 GJIWVACHHXLDQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYJDIUEHHCHCZ-UHFFFAOYSA-N 3-[2-[bis(2-carboxyethyl)amino]ethyl-(2-carboxyethyl)amino]propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCN(CCC(O)=O)CCN(CCC(O)=O)CCC(O)=O KWYJDIUEHHCHCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTIBPIVCKUAHK-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2-carboxyethyl)amino]propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCN(CCC(O)=O)CCC(O)=O IWTIBPIVCKUAHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOWPRWCAMGTPHI-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-5-nitro-2h-indazole Chemical compound C1=C([N+](=O)[O-])C=CC2=NNC(Cl)=C21 UOWPRWCAMGTPHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004179 3-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(Cl)=C1[H] 0.000 description 1
- FPFSGDXIBUDDKZ-UHFFFAOYSA-N 3-decyl-2-hydroxycyclopent-2-en-1-one Chemical compound CCCCCCCCCCC1=C(O)C(=O)CC1 FPFSGDXIBUDDKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004208 3-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C([H])C(*)=C1[H] 0.000 description 1
- OPJHSIGWOCINER-UHFFFAOYSA-N 3-methylsulfonyl-5-nitro-2h-indazole Chemical compound C1=CC([N+]([O-])=O)=CC2=C(S(=O)(=O)C)NN=C21 OPJHSIGWOCINER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRZDIHADHZSFBB-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-n,3-diphenylpropanamide Chemical class C=1C=CC=CC=1NC(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 XRZDIHADHZSFBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAIUFBWHERIJIH-UHFFFAOYSA-N 3MC7 Natural products CCCCC(C)CC LAIUFBWHERIJIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCVLSHAVSIYKLI-UHFFFAOYSA-N 3h-1,3-thiazole-2-thione Chemical class SC1=NC=CS1 OCVLSHAVSIYKLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKTARWJRPRKGIE-UHFFFAOYSA-N 4,4-bis(hydroxymethyl)-1-(2-methylphenyl)pyrazolidin-3-one Chemical compound CC1=CC=CC=C1N1NC(=O)C(CO)(CO)C1 FKTARWJRPRKGIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJKLCDRWGVLVSH-UHFFFAOYSA-N 4,4-bis(hydroxymethyl)-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(CO)(CO)CN1C1=CC=CC=C1 AJKLCDRWGVLVSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATMWIFZMMKMFRN-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-1-(2-methylphenyl)pyrazolidin-3-one Chemical compound CC1=CC=CC=C1N1NC(=O)C(C)(C)C1 ATMWIFZMMKMFRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCMSEZVJBZRRHL-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-1-(3-methylphenyl)pyrazolidin-3-one Chemical compound CC1=CC=CC(N2NC(=O)C(C)(C)C2)=C1 WCMSEZVJBZRRHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXVONLUNISGICL-UHFFFAOYSA-N 4,6-dinitro-o-cresol Chemical group CC1=CC([N+]([O-])=O)=CC([N+]([O-])=O)=C1O ZXVONLUNISGICL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLNKRLLYLJYWEN-UHFFFAOYSA-N 4-(2,2-dibutoxyethoxy)-4-oxobutanoic acid Chemical compound CCCCOC(OCCCC)COC(=O)CCC(O)=O YLNKRLLYLJYWEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZTVIVQQYCNWHY-UHFFFAOYSA-N 4-(5-sulfanylidene-2h-tetrazol-1-yl)benzenesulfonamide Chemical compound C1=CC(S(=O)(=O)N)=CC=C1N1C(=S)N=NN1 NZTVIVQQYCNWHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDVFHEXRJFFDDB-UHFFFAOYSA-N 4-(5-sulfanylidene-2h-tetrazol-1-yl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1N1C(=S)N=NN1 GDVFHEXRJFFDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLVCXTAJLMMZHF-UHFFFAOYSA-N 4-(dibutylamino)phenol Chemical compound CCCCN(CCCC)C1=CC=C(O)C=C1 FLVCXTAJLMMZHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXJOQCFWCWVVDU-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)-4-methyl-1-(2-methylphenyl)pyrazolidin-3-one Chemical compound CC1=CC=CC=C1N1NC(=O)C(C)(CO)C1 CXJOQCFWCWVVDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALZFJOYKLHLSBW-UHFFFAOYSA-N 4-(piperidin-1-ylamino)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1NN1CCCCC1 ALZFJOYKLHLSBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYKBEIDPRRYKKQ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(diethylamino)-2-methylphenyl]imino-1-oxo-n-phenylnaphthalene-2-carboxamide Chemical compound CC1=CC(N(CC)CC)=CC=C1N=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C(C(=O)NC=2C=CC=CC=2)=C1 ZYKBEIDPRRYKKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFYPXERYZGFDBD-UHFFFAOYSA-N 4-amino-2,6-dibromophenol Chemical compound NC1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 HFYPXERYZGFDBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDGMAACKJSBLMW-UHFFFAOYSA-N 4-amino-2-methylphenol Chemical compound CC1=CC(N)=CC=C1O HDGMAACKJSBLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABJQKDJOYSQVFX-UHFFFAOYSA-N 4-aminonaphthalen-1-ol Chemical class C1=CC=C2C(N)=CC=C(O)C2=C1 ABJQKDJOYSQVFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVVRCYWZTJLJSG-UHFFFAOYSA-N 4-dimethylaminophenol Chemical compound CN(C)C1=CC=C(O)C=C1 JVVRCYWZTJLJSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- VHVBDNDZNOOFQV-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-(4-methylphenyl)pyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)CN1C1=CC=C(C)C=C1 VHVBDNDZNOOFQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZEYCGJAYIHIAZ-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)CN1C1=CC=CC=C1 ZZEYCGJAYIHIAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 4-methylaminophenol Chemical compound CNC1=CC=C(O)C=C1 ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVRRTSAWVKTSSW-UHFFFAOYSA-N 4-methylpyrazolidin-3-one Chemical compound CC1CNNC1=O XVRRTSAWVKTSSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVYWUQOTMZEJRJ-UHFFFAOYSA-N 4-n-methylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CNC1=CC=C(N)C=C1 VVYWUQOTMZEJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000339 4-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- ACEIBVGIYJKQBL-UHFFFAOYSA-N 5,5-diphenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1NC(=O)CC1(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ACEIBVGIYJKQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPRDZAMUYMOJTA-UHFFFAOYSA-N 5,6-dichloro-1h-benzimidazole Chemical compound C1=C(Cl)C(Cl)=CC2=C1NC=N2 IPRDZAMUYMOJTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHEBHJLYNLALHM-UHFFFAOYSA-N 5,6-dichloro-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(Cl)C(Cl)=CC2=NNN=C21 HHEBHJLYNLALHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVPKIPGHRNIOPT-UHFFFAOYSA-N 5,6-dimethyl-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC2=NNN=C21 MVPKIPGHRNIOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPSQQAGVARBNR-UHFFFAOYSA-N 5-[2-(dimethylazaniumyl)ethylsulfanyl]-1,3,4-thiadiazole-2-thiolate Chemical compound CN(C)CCSC1=NNC(=S)S1 FBPSQQAGVARBNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGOZRIZXELGVHK-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-2,3-dihydro-1,4-benzodioxine Chemical compound O1CCOC2=C1C=CC=C2Br NGOZRIZXELGVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCFMGIGLXOKMJC-UHFFFAOYSA-N 5-butyl-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(CCCC)C=CC2=NNN=C21 ZCFMGIGLXOKMJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOJYRIGIRHPGRU-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-6-nitro-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(Cl)C([N+](=O)[O-])=CC2=NNN=C21 AOJYRIGIRHPGRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPSFAUIWDRKKZ-UHFFFAOYSA-N 5-methoxy-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(OC)C=CC2=NNN=C21 SUPSFAUIWDRKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIARATPVIIDWJT-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound CC1CC(=O)NN1C1=CC=CC=C1 FIARATPVIIDWJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYVJDRGXWOXCCH-UHFFFAOYSA-N 5-methylpyrazolidin-3-one Chemical compound CC1CC(=O)NN1 WYVJDRGXWOXCCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFWGYKRJMYXYND-UHFFFAOYSA-N 5-methylsulfanyl-3h-1,3,4-thiadiazole-2-thione Chemical compound CSC1=NN=C(S)S1 CFWGYKRJMYXYND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1h-indazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2NN=CC2=C1 WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOCDQWRMYHJTMY-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C([N+](=O)[O-])C=CC2=NNN=C21 AOCDQWRMYHJTMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOHWXVBZGSVUGO-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-3h-1,3,4-oxadiazole-2-thione Chemical compound O1C(S)=NN=C1C1=CC=CC=C1 FOHWXVBZGSVUGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCVNWXZRBBCASB-UHFFFAOYSA-N 6-nitro-3h-1,3-benzoxazole-2-thione Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2NC(=S)OC2=C1 GCVNWXZRBBCASB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SACRINBGNIWUIP-UHFFFAOYSA-N 6-propyl-1h-pyrimidine-2-thione Chemical compound CCCC1=CC=NC(=S)N1 SACRINBGNIWUIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJUCBOIXAMPUQL-UHFFFAOYSA-N 7-aminothieno[2,3-b]pyrazine-6-carboxylic acid Chemical compound C1=CN=C2C(N)=C(C(O)=O)SC2=N1 UJUCBOIXAMPUQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDDLHHRCDSJVKV-UHFFFAOYSA-N 7028-40-2 Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O BDDLHHRCDSJVKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLENKVQTZCLNQS-UHFFFAOYSA-N 9-propylheptadecan-9-yl dihydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCC(CCC)(OP(O)(O)=O)CCCCCCCC CLENKVQTZCLNQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZCLKYGREBVARF-UHFFFAOYSA-N Acetyl tributyl citrate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(C(=O)OCCCC)(OC(C)=O)CC(=O)OCCCC QZCLKYGREBVARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000009027 Albumins Human genes 0.000 description 1
- 108010088751 Albumins Proteins 0.000 description 1
- RGCKGOZRHPZPFP-UHFFFAOYSA-N Alizarin Natural products C1=CC=C2C(=O)C3=C(O)C(O)=CC=C3C(=O)C2=C1 RGCKGOZRHPZPFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004254 Ammonium phosphate Substances 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical class NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 1
- 240000004307 Citrus medica Species 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJLJMEJHUUYSSY-UHFFFAOYSA-L Copper hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Cu+2] JJLJMEJHUUYSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000005750 Copper hydroxide Substances 0.000 description 1
- 241000195493 Cryptophyta Species 0.000 description 1
- FCKYPQBAHLOOJQ-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane-1,2-diaminetetraacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)C1CCCCC1N(CC(O)=O)CC(O)=O FCKYPQBAHLOOJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODBLHEXUDAPZAU-ZAFYKAAXSA-N D-threo-isocitric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](C(O)=O)CC(O)=O ODBLHEXUDAPZAU-ZAFYKAAXSA-N 0.000 description 1
- 229940090898 Desensitizer Drugs 0.000 description 1
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 1
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNKUSGQVOMIXLU-UHFFFAOYSA-N Formamidine Chemical compound NC=N PNKUSGQVOMIXLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVXLIZQNSVLKPO-UHFFFAOYSA-N Glucosereductone Chemical compound O=CC(O)C=O NVXLIZQNSVLKPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N Glycidol Chemical compound OCC1CO1 CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O Imidazolium Chemical compound C1=C[NH+]=CN1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- ODBLHEXUDAPZAU-FONMRSAGSA-N Isocitric acid Natural products OC(=O)[C@@H](O)[C@H](C(O)=O)CC(O)=O ODBLHEXUDAPZAU-FONMRSAGSA-N 0.000 description 1
- 229910010199 LiAl Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-M Methanesulfonate Chemical compound CS([O-])(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWGBHCRJGXAGEU-UHFFFAOYSA-N Methylthiouracil Chemical compound CC1=CC(=O)NC(=S)N1 HWGBHCRJGXAGEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- YZBOVSFWWNVKRJ-UHFFFAOYSA-N Monobutylphthalate Chemical group CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O YZBOVSFWWNVKRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSVCELGFZIQNCK-UHFFFAOYSA-N N,N-bis(2-hydroxyethyl)glycine Chemical compound OCCN(CCO)CC(O)=O FSVCELGFZIQNCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZORFPDSXLZWJF-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethyl-1,4-phenylenediamine Chemical compound CN(C)C1=CC=C(N)C=C1 BZORFPDSXLZWJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZTPOMIFAFKKSK-UHFFFAOYSA-N O-phosphonohydroxylamine Chemical class NOP(O)(O)=O JZTPOMIFAFKKSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-O Pyrrolidinium ion Chemical compound C1CC[NH2+]C1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241000282887 Suidae Species 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N Tert-Butylhydroquinone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=CC=C1O BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical class [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMRLDPWIRHBCCC-UHFFFAOYSA-L Zinc carbonate Chemical compound [Zn+2].[O-]C([O-])=O FMRLDPWIRHBCCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RMIMKIGZIYTMRZ-UHFFFAOYSA-N [2-(butylamino)-2-oxoethyl] 2h-benzotriazole-5-carboxylate Chemical compound C1=C(C(=O)OCC(=O)NCCCC)C=CC2=NNN=C21 RMIMKIGZIYTMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCOHNPINDNQRJA-UHFFFAOYSA-N [4-(5-sulfanylidene-2h-tetrazol-1-yl)phenyl] benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OC(C=C1)=CC=C1N1NN=NC1=S ZCOHNPINDNQRJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N [Ag].Cl[IH]Br Chemical compound [Ag].Cl[IH]Br XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFRUBEOIWWEFOL-UHFFFAOYSA-N [N].[S] Chemical compound [N].[S] PFRUBEOIWWEFOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N [Nitrilotris(methylene)]trisphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYUAHXONXBDCQO-UHFFFAOYSA-M [O-]C(CN(CCN(CC(O)=O)CC(O)=O)CC(O)=O)=O.N.[Fe+] Chemical compound [O-]C(CN(CCN(CC(O)=O)CC(O)=O)CC(O)=O)=O.N.[Fe+] VYUAHXONXBDCQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YDHWWBZFRZWVHO-UHFFFAOYSA-N [hydroxy(phosphonooxy)phosphoryl] phosphono hydrogen phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(=O)OP(O)(=O)OP(O)(O)=O YDHWWBZFRZWVHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYTBPJNGNGMRFH-UHFFFAOYSA-N acetic acid;azane Chemical compound N.N.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O VYTBPJNGNGMRFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRSAWRZHGQQHBJ-UHFFFAOYSA-N acetic acid;benzene-1,2-diamine Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.NC1=CC=CC=C1N LRSAWRZHGQQHBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- HFVAFDPGUJEFBQ-UHFFFAOYSA-M alizarin red S Chemical compound [Na+].O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C(S([O-])(=O)=O)C(O)=C2O HFVAFDPGUJEFBQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005599 alkyl carboxylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- 229940045714 alkyl sulfonate alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940037003 alum Drugs 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000004202 aminomethyl group Chemical group [H]N([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKMRRTOUMJRJIA-UHFFFAOYSA-N ammonia nh3 Chemical compound N.N XKMRRTOUMJRJIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N ammonium bromide Chemical compound [NH4+].[Br-] SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940107816 ammonium iodide Drugs 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000148 ammonium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019289 ammonium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- SOIFLUNRINLCBN-UHFFFAOYSA-N ammonium thiocyanate Chemical compound [NH4+].[S-]C#N SOIFLUNRINLCBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 230000000843 anti-fungal effect Effects 0.000 description 1
- 239000002260 anti-inflammatory agent Substances 0.000 description 1
- 229940121363 anti-inflammatory agent Drugs 0.000 description 1
- 229940088710 antibiotic agent Drugs 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 229940121375 antifungal agent Drugs 0.000 description 1
- SZOADBKOANDULT-UHFFFAOYSA-K antimonous acid Chemical compound O[Sb](O)O SZOADBKOANDULT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- DKFFVMCMYIVCMK-UHFFFAOYSA-N azane 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(carboxymethyl)amino]acetic acid dihydrate Chemical compound O.[OH-].[NH4+].C(CN(CC(=O)O)CC(=O)O)N(CC(=O)O)CC(=O)O DKFFVMCMYIVCMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003851 azoles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L barium(2+);oxomethanediolate Chemical compound [Ba+2].[O-][14C]([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L 0.000 description 1
- 150000008331 benzenesulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzothiazole Chemical class C1=CC=C2C(N=CS3)=C3C=CC2=C1 KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoxazole Chemical class C1=CC=C2C(N=CO3)=C3C=CC2=C1 WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- GFCYWFJIUYJNSB-UHFFFAOYSA-N benzyl 2h-benzotriazole-5-carboxylate Chemical compound C1=CC2=NNN=C2C=C1C(=O)OCC1=CC=CC=C1 GFCYWFJIUYJNSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001621 bismuth Chemical class 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940036348 bismuth carbonate Drugs 0.000 description 1
- 229940049676 bismuth hydroxide Drugs 0.000 description 1
- TZSXPYWRDWEXHG-UHFFFAOYSA-K bismuth;trihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Bi+3] TZSXPYWRDWEXHG-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000019658 bitter taste Nutrition 0.000 description 1
- UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N borane Chemical compound [10BH3] UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N 0.000 description 1
- 229910000085 borane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940063013 borate ion Drugs 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- MOOAHMCRPCTRLV-UHFFFAOYSA-N boron sodium Chemical compound [B].[Na] MOOAHMCRPCTRLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001661 cadmium Chemical class 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFWJKVMFIVXPKK-UHFFFAOYSA-N calcium;oxido(oxo)alumane Chemical compound [Ca+2].[O-][Al]=O.[O-][Al]=O XFWJKVMFIVXPKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K chromium(3+);triacetate Chemical compound [Cr+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OBWXQDHWLMJOOD-UHFFFAOYSA-H cobalt(2+);dicarbonate;dihydroxide;hydrate Chemical compound O.[OH-].[OH-].[Co+2].[Co+2].[Co+2].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O OBWXQDHWLMJOOD-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- JAWGVVJVYSANRY-UHFFFAOYSA-N cobalt(3+) Chemical compound [Co+3] JAWGVVJVYSANRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000002872 contrast media Substances 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940116318 copper carbonate Drugs 0.000 description 1
- 229910001956 copper hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- GEZOTWYUIKXWOA-UHFFFAOYSA-L copper;carbonate Chemical compound [Cu+2].[O-]C([O-])=O GEZOTWYUIKXWOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- UAMZXLIURMNTHD-UHFFFAOYSA-N dialuminum;magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Mg+2].[Al+3].[Al+3] UAMZXLIURMNTHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMZOPRQQINFLPQ-UHFFFAOYSA-H dibismuth;tricarbonate Chemical compound [Bi+3].[Bi+3].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O GMZOPRQQINFLPQ-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 150000005205 dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000002012 dioxanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- ASMQGLCHMVWBQR-UHFFFAOYSA-M diphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(=O)([O-])OC1=CC=CC=C1 ASMQGLCHMVWBQR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003623 enhancer Substances 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- DEFVIWRASFVYLL-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol bis(2-aminoethyl)tetraacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCOCCOCCN(CC(O)=O)CC(O)=O DEFVIWRASFVYLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N gallic acid Chemical class OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002496 gastric effect Effects 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 1
- 150000002344 gold compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- ISNICOKBNZOJQG-UHFFFAOYSA-O guanidinium ion Chemical class C[NH+]=C(N(C)C)N(C)C ISNICOKBNZOJQG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 1
- 229940081141 hexadecanamide Drugs 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- AKCUHGBLDXXTOM-UHFFFAOYSA-N hydroxy-oxo-phenyl-sulfanylidene-$l^{6}-sulfane Chemical compound SS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 AKCUHGBLDXXTOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-NJFSPNSNSA-N hydroxyformaldehyde Chemical compound O[14CH]=O BDAGIHXWWSANSR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- ICPGNGZLHITQJI-UHFFFAOYSA-N iminosilver Chemical compound [Ag]=N ICPGNGZLHITQJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-BUHFOSPRSA-N indigo dye Chemical compound N\1C2=CC=CC=C2C(=O)C/1=C1/C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-BUHFOSPRSA-N 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002473 indoazoles Chemical class 0.000 description 1
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine group Chemical group N1=CCC2=CC=CC=C12 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000001013 indophenol dye Substances 0.000 description 1
- 229940079865 intestinal antiinfectives imidazole derivative Drugs 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002505 iron Chemical class 0.000 description 1
- 235000014413 iron hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- RUTXIHLAWFEWGM-UHFFFAOYSA-H iron(3+) sulfate Chemical compound [Fe+3].[Fe+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O RUTXIHLAWFEWGM-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229910000360 iron(III) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- NCNCGGDMXMBVIA-UHFFFAOYSA-L iron(ii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Fe+2] NCNCGGDMXMBVIA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N isothiazole Chemical compound C=1C=NSC=1 ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007759 kiss coating Methods 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVALZJMUIHGIMD-UHFFFAOYSA-H magnesium phosphate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O GVALZJMUIHGIMD-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000004137 magnesium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000157 magnesium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960002261 magnesium phosphate Drugs 0.000 description 1
- 235000010994 magnesium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- IPJKJLXEVHOKSE-UHFFFAOYSA-L manganese dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mn+2] IPJKJLXEVHOKSE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 1
- DOTMOQHOJINYBL-UHFFFAOYSA-N molecular nitrogen;molecular oxygen Chemical compound N#N.O=O DOTMOQHOJINYBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 description 1
- ZAKLKBFCSHJIRI-UHFFFAOYSA-N mucochloric acid Natural products OC1OC(=O)C(Cl)=C1Cl ZAKLKBFCSHJIRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXXTWAUAIGLCCG-UHFFFAOYSA-N n-(2h-benzotriazol-5-yl)-3-phenylprop-2-enamide Chemical compound C1=CC2=NNN=C2C=C1NC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 PXXTWAUAIGLCCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEZKSSBZDHMUHN-UHFFFAOYSA-N n-(2h-benzotriazol-5-yl)acetamide Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C2NN=NC2=C1 GEZKSSBZDHMUHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQSOCBWRGQBAJC-UHFFFAOYSA-N n-(4-methyl-5-sulfanylidene-1h-1,2,4-triazol-3-yl)acetamide Chemical compound CC(=O)NC1=NNC(=S)N1C OQSOCBWRGQBAJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWOUQJSJOIEEIW-UHFFFAOYSA-N n-[3-(5-sulfanylidene-2h-tetrazol-1-yl)phenyl]hexanamide Chemical compound CCCCCC(=O)NC1=CC=CC(N2C(N=NN2)=S)=C1 YWOUQJSJOIEEIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- HNHULXNWXJKDCM-UHFFFAOYSA-N n-hexyl-4-(2-sulfanylidene-1h-imidazol-3-yl)benzamide Chemical compound C1=CC(C(=O)NCCCCCC)=CC=C1N1C(=S)NC=C1 HNHULXNWXJKDCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000008 nickel(II) carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- ZULUUIKRFGGGTL-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) carbonate Chemical compound [Ni+2].[O-]C([O-])=O ZULUUIKRFGGGTL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000001005 nitro dye Substances 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 150000002832 nitroso derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N o-dicarboxybenzene Natural products OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VECVSKFWRQYTAL-UHFFFAOYSA-N octyl benzoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1 VECVSKFWRQYTAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002897 organic nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002898 organic sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002916 oxazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002918 oxazolines Chemical class 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000005691 oxidative coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004043 oxo group Chemical group O=* 0.000 description 1
- QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N oxymethurea Chemical compound OCNC(=O)NCO QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950005308 oxymethurea Drugs 0.000 description 1
- 125000000636 p-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)[N+]([O-])=O 0.000 description 1
- 239000006179 pH buffering agent Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- UOURRHZRLGCVDA-UHFFFAOYSA-D pentazinc;dicarbonate;hexahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O UOURRHZRLGCVDA-UHFFFAOYSA-D 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- XVZFXCWDIKQLAS-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-[(2-sulfanylidene-3h-1,3,4-thiadiazol-5-yl)sulfanyl]acetate Chemical compound S1C(S)=NN=C1SCC(=O)OC1=CC=CC=C1 XVZFXCWDIKQLAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSKKKYHHGDANMF-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-sulfanylidene-1,3-dihydrobenzimidazole-5-carboxylate Chemical compound C=1C=C2NC(=S)NC2=CC=1C(=O)OC1=CC=CC=C1 ZSKKKYHHGDANMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTZIZASRQDOVKK-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-sulfanylidene-3h-1,3-benzoxazole-6-carboxylate Chemical compound C=1C=C2NC(=S)OC2=CC=1C(=O)OC1=CC=CC=C1 VTZIZASRQDOVKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZBGAMJVNYEBLF-UHFFFAOYSA-N phenyl 2h-benzotriazole-5-carboxylate Chemical compound C1=CC2=NNN=C2C=C1C(=O)OC1=CC=CC=C1 AZBGAMJVNYEBLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTULKOYQXCVEQE-UHFFFAOYSA-N phenyl 3-(5-sulfanylidene-2h-tetrazol-1-yl)benzoate Chemical compound C=1C=CC(N2C(N=NN2)=S)=CC=1C(=O)OC1=CC=CC=C1 KTULKOYQXCVEQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZNRQBAXZXHQOA-UHFFFAOYSA-N phenyl 4-(5-sulfanylidene-2h-tetrazol-1-yl)benzoate Chemical compound C=1C=C(N2C(N=NN2)=S)C=CC=1C(=O)OC1=CC=CC=C1 YZNRQBAXZXHQOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEDIDZDKYLFQTK-UHFFFAOYSA-N phenyl 4-nitroimidazole-1-carboxylate Chemical compound C1=NC([N+](=O)[O-])=CN1C(=O)OC1=CC=CC=C1 HEDIDZDKYLFQTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- PWXJULSLLONQHY-UHFFFAOYSA-N phenylcarbamic acid Chemical class OC(=O)NC1=CC=CC=C1 PWXJULSLLONQHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- FVZVCSNXTFCBQU-UHFFFAOYSA-N phosphanyl Chemical group [PH2] FVZVCSNXTFCBQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229940085991 phosphate ion Drugs 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-N phosphoramidic acid Chemical compound NP(O)(O)=O PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 229940081066 picolinic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000191 poly(N-vinyl pyrrolidone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002006 poly(N-vinylimidazole) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HJIGRHPMRXZAEJ-UHFFFAOYSA-M potassium;pyridine-2-carboxylate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=N1 HJIGRHPMRXZAEJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 235000018102 proteins Nutrition 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- MCSKRVKAXABJLX-UHFFFAOYSA-N pyrazolo[3,4-d]triazole Chemical compound N1=NN=C2N=NC=C21 MCSKRVKAXABJLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- CWMRFSSMSXQUJC-UHFFFAOYSA-N pyrrole-2-thione Chemical class S=C1C=CC=N1 CWMRFSSMSXQUJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003233 pyrroles Chemical class 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- LOAUVZALPPNFOQ-UHFFFAOYSA-N quinaldic acid Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C(=O)O)=CC=C21 LOAUVZALPPNFOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N rhodanine Chemical class O=C1CSC(=S)N1 KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 1
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 1
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 description 1
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 1
- 235000017709 saponins Nutrition 0.000 description 1
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 150000003349 semicarbazides Chemical class 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000661 sodium alginate Substances 0.000 description 1
- 235000010413 sodium alginate Nutrition 0.000 description 1
- 229940005550 sodium alginate Drugs 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M sodium hydrosulfide Chemical compound [Na+].[SH-] HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NVIFVTYDZMXWGX-UHFFFAOYSA-N sodium metaborate Chemical compound [Na+].[O-]B=O NVIFVTYDZMXWGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L sodium persulfate Substances [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M sodium thiocyanate Chemical compound [Na+].[S-]C#N VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- QWSDEEQHECGZSL-UHFFFAOYSA-M sodium;acetaldehyde;hydrogen sulfite Chemical compound [Na+].CC=O.OS([O-])=O QWSDEEQHECGZSL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 150000003431 steroids Chemical class 0.000 description 1
- 229910000018 strontium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 150000008163 sugars Chemical class 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003475 thallium Chemical class 0.000 description 1
- JJJPTTANZGDADF-UHFFFAOYSA-N thiadiazole-4-thiol Chemical class SC1=CSN=N1 JJJPTTANZGDADF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000005323 thioketone group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004886 thiomorpholines Chemical class 0.000 description 1
- ODBLHEXUDAPZAU-UHFFFAOYSA-N threo-D-isocitric acid Natural products OC(=O)C(O)C(C(O)=O)CC(O)=O ODBLHEXUDAPZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- CVNKFOIOZXAFBO-UHFFFAOYSA-J tin(4+);tetrahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Sn+4] CVNKFOIOZXAFBO-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical group 0.000 description 1
- 239000001003 triarylmethane dye Substances 0.000 description 1
- NJPOTNJJCSJJPJ-UHFFFAOYSA-N tributyl benzene-1,3,5-tricarboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC(C(=O)OCCCC)=CC(C(=O)OCCCC)=C1 NJPOTNJJCSJJPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N trihydridoboron Substances B UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFMWFGXCDDYTEG-UHFFFAOYSA-N trimagnesium;diborate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[O-]B([O-])[O-].[O-]B([O-])[O-] NFMWFGXCDDYTEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003639 trimesic acids Chemical class 0.000 description 1
- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-N triphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(=O)OP(O)(O)=O UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000012463 white pigment Substances 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
- 239000011667 zinc carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000010 zinc carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000004416 zinc carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C7/00—Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
- G03C7/30—Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
- G03C7/305—Substances liberating photographically active agents, e.g. development-inhibiting releasing couplers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
工 発明の背景
技術分野
本発明はハロゲン化銀感光材料を用いた画像形成方法に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION Technical Field The present invention relates to an image forming method using a silver halide photosensitive material.
先行技術とその問題点
写真要素中にあって、本来不動性であるか、またはバラ
スト安定化されているか、あるいは活性位をブロックさ
れている写真用試薬を結合している写真的有用化合物を
提供する化合物は、ベルギー国特許第810,195号
、米国特許第4,199,354号、米国特許第3゜9
80.479号、米国特許第4.139,379号、特
開昭54−130927号などに開示されているような
ポジ形成型化合物を包含する。 このような化合物は不
動性であるか、あるいは写真的に不活性であるが、分子
内求核置換反応あるいは分子内の電子移動反応を起こし
て可動性の写真的に有用な基を放出することが出来る。PRIOR ART AND PROBLEMS THEREOF Provides photographically useful compounds that incorporate photographic reagents in photographic elements that are immobile in nature, or are ballast stabilized, or are blocked at active sites. The compounds described in Belgian Patent No. 810,195, U.S. Pat.
80.479, U.S. Pat. No. 4,139,379, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 130927/1983, the positive-forming compounds are included. Such compounds are immobile or photographically inert, but are capable of undergoing intramolecular nucleophilic substitution or intramolecular electron transfer reactions to release a mobile, photographically useful group. I can do it.
今述べたような機能を有する化合物は、それぞれ多くの
利点を有してはいるが、その多くは、通常のハロゲン化
銀感光材料の処理条件のもとでは十分に機能し得す、よ
り高いpHやより高い処理温度を要する。 そのため、
使用する処理液、特に現像液の経時安定性と安全性が十
分に確保できないという欠点があった。Although the compounds having the functions just described each have many advantages, many of them can function satisfactorily under normal processing conditions for silver halide photosensitive materials, but many of them have higher Requires pH and higher processing temperatures. Therefore,
There was a drawback that the stability and safety over time of the processing solution used, especially the developer solution, could not be sufficiently ensured.
■ 発明の目的
本発明の目的は、処理液、特に現像液の経時安定性と安
全性が確保でき、かつ必要な時に高いpHを得ることが
でき、その結果写真性に優れた画像形成方法を提供する
ことにある。■ Purpose of the Invention The purpose of the present invention is to provide an image forming method that can ensure stability and safety over time of a processing solution, especially a developer, and can obtain a high pH when necessary, resulting in an image forming method with excellent photographic properties. It is about providing.
■ 発明の開示 このような目的は、下記の本発明によって達成される。■Disclosure of invention Such objects are achieved by the invention described below.
すなわち、本発明は支持体上に感光性ハロゲン化銀乳剤
、下記一般式(I)で表わされる化合物、および水に難
溶な塩基性金属化合物を有するハロゲン化銀感光材料を
、上記水に難溶な塩基性金属化合物を構成する金属イオ
ンを錯形成反応を起こして塩基を放出する化合物と含有
する処理液で現像処理することを特徴とする画像形成方
法である。That is, the present invention provides a silver halide photosensitive material having a photosensitive silver halide emulsion, a compound represented by the following general formula (I), and a basic metal compound that is sparingly soluble in water on a support. This image forming method is characterized by developing with a processing solution containing a compound that causes a complex formation reaction with metal ions constituting a soluble basic metal compound and releases a base.
一般式(I)
PWR+T i me+1 PUG
(上記一般式(I)において、PWRは逼元されること
によって−(Time)−tPUGを放出する基を表わ
し、TimeはPWRから+T i me+tIiUG
として放出された後、後続する反応を介してPUGを放
出する基を表わす。 tはOまたは1を表わし、PUG
は写真有用基を表わす。)
■ 発明の具体的構成
以下、本発明の具体的構成について、詳細に説明する。General formula (I) PWR+T i me+1 PUG (In the above general formula (I), PWR represents a group that releases -(Time)-tPUG by being concentrated, and Time represents +T i me+tIiUG from PWR.
represents a group that releases PUG through a subsequent reaction after being released as PUG. t represents O or 1, PUG
represents a photographically useful group. ) ■Specific structure of the invention The specific structure of the present invention will be explained in detail below.
本発明の画像形成方法においては、ハロゲン化銀感光材
)1中には水に難溶な1:A基性金属化合物を含有させ
、処理液中に上記の水に難溶な塩基性金属化合物を構成
する金属イオンと錯形成反応し得る化合物(以下、錯形
成化合物という)を含有させ、処理中に両者が錯形成反
応を行うことにより感光材料の膜中で塩基を発生させて
いる。In the image forming method of the present invention, a 1:A basic metal compound that is sparingly soluble in water is contained in the silver halide photosensitive material 1, and the above-mentioned basic metal compound that is sparingly soluble in water is contained in the processing liquid. A base is generated in the film of the photosensitive material by containing a compound (hereinafter referred to as a complex-forming compound) that can undergo a complex-forming reaction with the metal ions constituting the photosensitive material, and the two perform a complex-forming reaction during processing.
本発明において感光材料に含有させる水に難溶な塩基性
金属化合物の例としては、水に対する溶解度(水1 o
og中に溶解する物質のダラムa)が0.5以下で
式 TJn xn
で表わされるものが好ましい。In the present invention, examples of basic metal compounds that are sparingly soluble in water and contained in the light-sensitive material include water solubility (water 1 o
It is preferable that the durham a) of the substance dissolved in og is 0.5 or less and is represented by the formula TJn xn.
ここでTは遷移金属、例えばZn、Ni。Here, T is a transition metal, such as Zn or Ni.
Cu%C01Fe%Mn等、アルカリ土類金属、例えば
Ca、Ba、Mg等を表わし、Xとしては水の中で後述
する錯形成化合物の説明に出てくるMの対イオンとなる
ことができ、かつアルカリ性を示すもの、例えば炭酸イ
オン、リン酸イオン、ケイ酸イオン、ホウ酸イオン、ア
ルミン酸イオン、ヒドロキシイオン、酸素原子を表わす
。 mとnは、それぞれ、TとXの各々の原子価が均衡
を保てるような整数を表わす。Cu%C01Fe%Mn, etc., represents an alkaline earth metal such as Ca, Ba, Mg, etc., and X can serve as a counter ion for M, which will appear in the explanation of complex-forming compounds described later in water, It also represents something that is alkaline, such as carbonate ion, phosphate ion, silicate ion, borate ion, aluminate ion, hydroxyl ion, and oxygen atom. m and n represent integers such that the valences of T and X are balanced, respectively.
以下に好ましい具体例を列挙する。Preferred specific examples are listed below.
炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭
酸亜鉛、炭酸ストロンチウム、炭酸マグネシウムカルシ
ウム((:aMg((:03 ) 2 )、酸化マグネ
シウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化コバルト、水酸化亜
鉛、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化
カルシウム、水酸化アンチモン、水酸化スズ、水酸化鉄
、水酸化ビスマス、水酸化マンガン、リン酸カルシウム
、リン酸マグネシウム、ホウ酸マグネシウム、ケイ酸カ
ルシウム、ケイ酸マグネシウム、アルミン酸亜鉛、アル
ミン酸カルシウム、塩基性炭酸亜鉛(Slr+tl:0
.−3Zn(Oil)2−t120)、塩基性炭酸マグ
ネシウム(:1Mg11:03・Mg(01り2・3+
120) 、塩基性炭酸ニッケル(Ni(:(h・2N
i (OH)2 ) 、塩基性炭酸ビスマス(Bi2(
COa)02 ・1120)、塩基性炭酸コバルト(2
(:o(:03 ・3Co(011) 2 ) 、酸化
アルミニウムマグネシウム、水酸化銅、塩基性炭酸銅な
ど。Calcium carbonate, barium carbonate, magnesium carbonate, zinc carbonate, strontium carbonate, magnesium calcium carbonate ((:aMg((:03) 2 ), magnesium oxide, zinc oxide, tin oxide, cobalt oxide, zinc hydroxide, aluminum hydroxide, Magnesium hydroxide, calcium hydroxide, antimony hydroxide, tin hydroxide, iron hydroxide, bismuth hydroxide, manganese hydroxide, calcium phosphate, magnesium phosphate, magnesium borate, calcium silicate, magnesium silicate, zinc aluminate, Calcium aluminate, basic zinc carbonate (Slr+tl:0
.. -3Zn(Oil)2-t120), basic magnesium carbonate (:1Mg11:03・Mg(01ri2・3+
120), basic nickel carbonate (Ni(:(h・2N
i (OH)2 ), basic bismuth carbonate (Bi2(
COa)02 ・1120), basic cobalt carbonate (2
(:o(:03 ・3Co(011) 2 ), aluminum magnesium oxide, copper hydroxide, basic copper carbonate, etc.
これらの化合物の中で、着色していないものが特に好ま
しい。Among these compounds, uncolored compounds are particularly preferred.
本発明において処理液に含有させる錯形成化合物は、前
記塩基性金属化合物を構成する金属イオンと、安定度定
数がlogにで1以上の値を示す錯塩を生成するもので
ある。In the present invention, the complex-forming compound contained in the treatment liquid forms a complex salt having a stability constant of 1 or more in logarithm with the metal ion constituting the basic metal compound.
これらの錯形成化合物については、例えばニーイー マ
ーチル、アール エム ス ミ ス(A、[i、Mar
Lell、R,M、Sm1th)共著、“クリティカル
スタビリテイ コンスタンツ((:riticalS
tability Con5tants)、第1〜5巻
”、プレナムプレス(Plenua+ Press)に
詳述されている。These complex-forming compounds are described, for example, by N.E. Martyr, R.M. Smith (A, [i, Mar
Lell, R, M, Sm1th), “Critical Stability Constance” ((:riticalS
"Tability Con5tants", Volumes 1-5, Plenua+ Press.
具体的にはアミノカルボン酸類、イミノジ酢酸およびそ
の話導体、アニリンカルボン酸類、ピリジンカルボン酸
類、アミノリン酸類、カルボン酸類(モノ、ジ、トリ、
テトラカルボン酸およびさらにフォスフォノ、ヒドロキ
シ、オキソ、エステル、アミド、アルコキシ、メルカプ
ト、アルキルチオ、フォスフイノなどの置換基をもつ化
合物)、
ヒドロキサム酸類、ポリアクリレート類、ポリリン酸類
等のアルカリ金属、グアニジン類、アミジン類もしくは
4級アンモニウム塩等の塩か挙げられる。Specifically, aminocarboxylic acids, iminodiacetic acid and its derivatives, aniline carboxylic acids, pyridine carboxylic acids, aminophosphoric acids, carboxylic acids (mono, di, tri,
Tetracarboxylic acids and compounds with substituents such as phosphono, hydroxy, oxo, ester, amide, alkoxy, mercapto, alkylthio, and phosphino), alkali metals such as hydroxamic acids, polyacrylates, and polyphosphoric acids, guanidines, and amidines. Alternatively, salts such as quaternary ammonium salts may be mentioned.
好ましい具体例゛としては、ピコリン酸、2゜6−ピリ
ジンジカルボン酸、2.5−とリジンジカルボン酸、4
−ジメチルアミノピリジン−2,6−ジカルボン酸、キ
ノリン−2−カルボン酸、2−ピリジル酢酸、シュウ酸
、クエン酸、酒石酸、イソクエン酸、リンゴ酸、グルコ
ン酸、EDTA%NTA、CDTA%ヘキサメタリン酸
、トリポリリン酸、テトラリン酸、ポリアクリル酸、
1102 (:C1l 20GII 2 [1120[
:ll 2 C02It 。Preferred specific examples include picolinic acid, 2.6-pyridinedicarboxylic acid, 2.5- and lysinedicarboxylic acid, 4.
-dimethylaminopyridine-2,6-dicarboxylic acid, quinoline-2-carboxylic acid, 2-pyridylacetic acid, oxalic acid, citric acid, tartaric acid, isocitric acid, malic acid, gluconic acid, EDTA% NTA, CDTA% hexametaphosphoric acid, Tripolyphosphoric acid, tetraphosphoric acid, polyacrylic acid, 1102 (:C1l 20GII 2 [1120[
:ll2C02It.
1102 CC112(Ll:112 CO2H。1102 CC112 (Ll: 112 CO2H.
等のアルカリ金属塩、グアニジン類の塩、アミジン類の
塩、4級アンモニウム塩などが挙げられる。Examples include alkali metal salts such as guanidine salts, amidine salts, and quaternary ammonium salts.
なかでも、−CO2Mを少なくとも1つ有し、かつ環の
中に窒素原子を1つ有する芳香族複素環化合物が好まし
い。 環としては単環でも縮合環でもよく、例えばピリ
ジン環、キノリン環などが挙げられる。 そして、−C
O2Mが環に結合する位置は、N原子に対してα位であ
ることが特に好ましい。 Mはアルカリ金属、グアニジ
ン、アミジンおよび4級アンモニウムイオンのうちのい
ずれかである。Among these, aromatic heterocyclic compounds having at least one -CO2M and one nitrogen atom in the ring are preferred. The ring may be a single ring or a condensed ring, and examples thereof include a pyridine ring and a quinoline ring. And -C
The position where O2M is bonded to the ring is particularly preferably α-position with respect to the N atom. M is any one of an alkali metal, guanidine, amidine and quaternary ammonium ion.
さらに好ましい化合物としては、下記式で表わされるも
のが挙げられる。More preferable compounds include those represented by the following formula.
式
上記式において、Rは水素原子、アリール基、ハロゲン
原子、アルコキシ基、
−CO2M、ヒドロキシカルボニル基、およびアミノ基
、置換アミノ基、アルキル基等の電子供与性基のうちの
いずれかを表わす。 2つのRは同一でも異なっていて
もよい。Formula In the above formula, R represents any one of a hydrogen atom, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, -CO2M, a hydroxycarbonyl group, and an electron-donating group such as an amino group, a substituted amino group, and an alkyl group. Two R's may be the same or different.
Zlと22は、それぞれRにおける定義と同じであり、
またZlと22は結合してピリジン環に縮合する環を形
成してもよい。Zl and 22 are each the same as defined in R,
Further, Zl and 22 may be combined to form a ring condensed to the pyridine ring.
次に最も好ましい水に難溶な塩基性金属化合物と錯形成
化合物との組み合わせ例を列挙する(ここで、M■はア
ルカリ金属イオン、置換もしくは非置換のグアニジニウ
ムイオン、アミジニウムイオンもしくは4級アンモニウ
ムイオンを表わす)。Next, the most preferred examples of combinations of slightly water-soluble basic metal compounds and complex-forming compounds are listed (here, M is an alkali metal ion, a substituted or unsubstituted guanidinium ion, an amidinium ion, or a quaternary (represents ammonium ion).
塩基性炭酸マグネシウム−
塩基性炭酸亜鉛−
塩基性炭酸マグネシウム−
炭酸カルシウム−
酸化亜鉛−
ee ee
炭酸カルシウム−MO2C−C02M
炭酸カルシウム−
ee ee
炭酸バリウム−M 02 C−CO2M炭酸カルシウム
−
酸化マグネシウム−
水酸化亜鉛−
水酸化スズ−
II 3 (: C113
水酸化マグネシウム−ヘキサメタリン酸のM■炭酸カル
シウム−
塩基性炭酸マグネシウム−
炭酸カルシウム−
塩基性炭酸亜鉛−
これらの組合せのものは、単独でも、2組以−ヒを併用
しても使用できる。Basic magnesium carbonate - Basic zinc carbonate - Basic magnesium carbonate - Calcium carbonate - Zinc oxide - ee ee Calcium carbonate - MO2C-C02M Calcium carbonate - ee ee Barium carbonate - M 02 C-CO2M Calcium carbonate - Magnesium oxide - Hydroxide Zinc - Tin hydroxide - II 3 (: C113 Magnesium hydroxide - M of hexametaphosphoric acid Calcium carbonate - Basic magnesium carbonate - Calcium carbonate - Basic zinc carbonate - These combinations can be used alone or in combinations of two or more. It can also be used in combination with h.
ここで、本発明において感光材料の膜中で塩基を発生さ
せる機構について、ピコリン酸カリウムと水酸化亜鉛の
組合せを例に挙げて説明する。Here, the mechanism for generating a base in the film of a photosensitive material in the present invention will be explained using a combination of potassium picolinate and zinc hydroxide as an example.
両者の反応は例えば次式で示される。The reaction between the two is shown, for example, by the following formula.
すなわち、処理液中の水が関与すると、ピコリン酸イオ
ンが!■鉛イオンと錯形成反応を起こして上記式で示さ
れる反応が進行する結果、塩基を発生することになる。In other words, when water in the treatment liquid is involved, picolinate ions! (2) A complex formation reaction occurs with lead ions and the reaction represented by the above formula proceeds, resulting in the generation of a base.
この反応の進行は、生成する錯体の安定性に起因してい
るが、ピコリン酸イオン(Le)と亜鉛イオン(M■)
より生成するML、ML2.ML3で表わされる錯体
の安定度定数は下記の通り非常に大きなものであり、こ
の反応の進行をよく説明している。The progress of this reaction is due to the stability of the complex formed, but the progress of this reaction is due to the stability of the complex formed, and
ML generated from ML2. The stability constant of the complex represented by ML3 is very large as shown below and explains the progress of this reaction well.
M L M L 2 M L :5
11ozK 5.30 9.62 12.
92塩基性金属化合物は特開昭59−174830号、
同53−102733号等に記載の方法で調製された微
粒子分散物として含有するのが望ましく、その平均粒子
サイズは50μ以下、特に5μ以下が好ましい。M L M L 2 M L :5
11ozK 5.30 9.62 12.
92 basic metal compounds are disclosed in JP-A-59-174830;
It is desirable to contain it in the form of a fine particle dispersion prepared by the method described in Japanese Patent No. 53-102733, and the average particle size thereof is preferably 50 μm or less, particularly 5 μm or less.
本発明における塩基性金属化合物の感光材料中での添加
位置は、乳剤層、中間層、保護層、ハレーション防止層
、白色顔料層、バック層等、いずれの層でもよい。また
、1層に含有させても2層以上に含有させてもよい。The basic metal compound in the present invention may be added to any layer such as an emulsion layer, an intermediate layer, a protective layer, an antihalation layer, a white pigment layer, and a back layer. Moreover, it may be contained in one layer or in two or more layers.
添加量は、錯形成化合物様、塩基性金属化合物の化合物
種、粒子サイズ、処理温度等あるいは、浸漬処理、塗り
付は処理などの処理方法によって異なるが、要は、感光
層の中のpHが十分にアルカリ性になる量であればよく
、一般的には、 0.01〜20g/m2 、好ましく
は0.1〜5g/m2程度とするのがよい。The amount added varies depending on the type of complex-forming compound, basic metal compound type, particle size, processing temperature, etc., or depending on the processing method such as immersion processing or coating processing, but the important thing is that the pH in the photosensitive layer is The amount may be sufficient as long as it becomes sufficiently alkaline, and is generally about 0.01 to 20 g/m2, preferably about 0.1 to 5 g/m2.
現像液中に含有させる錯形成化合物の添加量は現像液の
感光材料への適用方法、現像液のpH,錯形成化合物の
種類等によって異なるが、反応する塩基性金属化合物の
モル数の1/10以上とするのが好ましい。 一般に0
.01〜10o+ol/42程度とするのがよい。The amount of the complex-forming compound added to the developer varies depending on the method of applying the developer to the photosensitive material, the pH of the developer, the type of complex-forming compound, etc. It is preferable to set it as 10 or more. Generally 0
.. It is preferable to set it to about 01 to 10o+ol/42.
本発明においては、前記の錯形成化合物を処理液中に添
加して、面記感光材料をこの処理液に接触させて塩基性
金属化合物と錯形成化合物を反応させ、塗布膜中のpH
を上昇させる。In the present invention, the above-mentioned complex-forming compound is added to the processing solution, and the photosensitive material is brought into contact with this processing solution to cause the basic metal compound and the complex-forming compound to react, and the pH in the coating film is
to rise.
錯形成化合物の処理液への添加量は、処理液の感光材料
への適用方法、処理液のpH1錯形成化合物の種類等に
よって異なるが、反応する塩基性金属化合物のモル数の
1/10以上とするのが好ましい。 一般に0.01〜
10モル/Itとするのがよい。The amount of the complex-forming compound added to the processing solution varies depending on the method of applying the processing solution to the photosensitive material, the pH of the processing solution, the type of complex-forming compound, etc., but it should be at least 1/10 of the number of moles of the basic metal compound to be reacted. It is preferable that Generally 0.01~
It is preferable to set it to 10 mol/It.
この処理液は現像液であってもよいし、その前またはそ
の後に適用される液体であってもよい。 この処理液は
、本発明の一般式(1)の化合物を機能させる(PUG
またはTime−PUGを放出させる)v:!Aに、ま
たはそれ以前に本発明の感光材料に付与されるものであ
る。This processing liquid may be a developer, or a liquid applied before or after it. This treatment liquid allows the compound of general formula (1) of the present invention to function (PUG
or release Time-PUG) v:! A or previously applied to the photosensitive material of the present invention.
本発明の処理液の感光材料への適用方法には制限はなく
、最も汎用されている処理液タンクの中に感光材料を浸
消する方法(浸漬処理)、処理液を感光材料とウェッブ
シートの間隙へ展開する方法(展開処理)、処理液を感
光材料の膜面に吹き付ける方法(噴霧処理または吹き付
は処理、その詳細は特開昭61−80150号に記載さ
れている)、処理液を層流状液膜に作用させる方法(層
流薄層処理)、処理液を感光材料に塗布して液膜状に作
用させる方法(塗り付は薄層処理、その詳細は特開昭6
1−80149号に記載されている)などの任意の方法
が適用できる。There are no restrictions on the method of applying the processing solution of the present invention to the photosensitive material, and the most commonly used method is to immerse the photosensitive material in a processing solution tank (immersion processing), or to apply the processing solution to the photosensitive material and the web sheet. A method of spreading the processing liquid into the gap (development processing), a method of spraying the processing liquid onto the film surface of the photosensitive material (spraying processing or spraying is a process, the details of which are described in JP-A-61-80150), a method of spraying the processing liquid onto the film surface of the photosensitive material A method in which the processing liquid acts on a laminar liquid film (laminar flow thin layer processing), a method in which the processing liquid is applied to the photosensitive material and it acts in the form of a liquid film (application is a thin layer process, details of which can be found in JP-A No. 6)
1-80149) can be applied.
この中でも塗り付は薄膜処理法が好適である。 この塗
り付は薄膜処理法の塗布工程にはローラーコート、ディ
ップコート、スライドホッパーコート、ホッパーコート
、キスコート、フェルト布やスポンジシートのような処
理液を吸蔵する材料に含ませた液を塗りつける方法等に
既知の任意の方法を用いることができる。Among these, the thin film processing method is suitable for coating. The coating process of the thin film treatment method includes roller coating, dip coating, slide hopper coating, hopper coating, kiss coating, and a method of applying a solution impregnated in a material that absorbs the processing solution, such as felt cloth or a sponge sheet. Any known method can be used.
詳細については、原崎勇次著”コーティング学” (特
に2253〜255)朝倉書店(昭和46年)、紙業タ
イムズ社編”紙加工便覧”P129〜138(昭和48
年)等に記載されており、具体的には次の方法があげら
れる。For details, please refer to "Coating Science" by Yuji Harasaki (especially 2253-255), Asakura Shoten (1971), "Paper Processing Handbook" edited by Shigyo Times, P129-138 (1978).
), etc., and specifically the following methods are listed.
(1)エアドクターコーター
(air doctor coater)(2)ブレー
ドコーター (1)lade coaLer)(3)ロ
ッドコーター (rod coatcr)(4)ナイフ
コーター (knife coater)(5)スクイ
ズコーター (squeeze coater)(6)
含浸コーター (impregnation coat
er)())リバースロールコータ−
(reverse roll coaLer)(8)ト
ランスファーロールコータ−
(transfer roll coater)(9)
グラビアコーター (gravure coater)
(lO)キスロールコーター
(kiss roll coater)(11) キャ
ストコーター (cast coaLer)(12)ス
プレーコーター (spray coater)(13
)カーテンコーター’(curtain coaLer
)(14)カレンダーコーター (calender
coater)(15)押出コーター (extrus
ion coater)処理液の粘度は、所望の塗布液
厚みや塗り付は方法によって適当に調節する。 増粘さ
せる必要のない場合もあるが、場合によっては若干の増
粘剤(例えば、カルボキシメチルセルロース等)を加え
る方が好ましい。(1) air doctor coater (2) blade coater (1) lade coater (3) rod coater (4) knife coater (5) squeeze coater ( 6)
impregnation coater
er) ()) Reverse roll coater (8) Transfer roll coater (9)
gravure coater
(lO) Kiss roll coater (11) Cast coater (12) Spray coater (13)
) Curtain coater'
)(14) Calendar coater
coater) (15) Extrusion coater (extrus
ion coater) The viscosity of the treatment liquid is appropriately adjusted depending on the desired coating liquid thickness and application method. Although there may be no need to increase the viscosity, in some cases it is preferable to add some thickener (for example, carboxymethylcellulose).
この場合、粘度は、20℃で1〜10センチポアズ、よ
り好ましくは1〜5センチポアズある。In this case the viscosity is between 1 and 10 centipoise at 20°C, more preferably between 1 and 5 centipoise.
いずれの方法を用いても、全液膜厚み(膜の膨潤分も含
む)が1000μm以下であることが好ましく、より好
ましくは50〜500μmであり、少ない場合でも10
μm以上の厚みとする必要がある。No matter which method is used, the total liquid film thickness (including the swelling part of the film) is preferably 1000 μm or less, more preferably 50 to 500 μm, and even if it is less than 10 μm.
It is necessary to have a thickness of μm or more.
300μmを越すと、増粘しなければ液膜として感光材
料上に塗布するのが不可能となり、300μm程度では
、塗布可能であるが、感光材料面上に液1漠として静置
させるのが困難となり、逆に10μm以下では、塗布を
均一に行うことが困難となるからである。If the thickness exceeds 300 μm, it will be impossible to coat the photosensitive material as a liquid film unless the viscosity increases, and if the thickness is around 300 μm, coating is possible, but it will be difficult to leave the liquid still on the surface of the photosensitive material. On the other hand, if the thickness is less than 10 μm, it becomes difficult to apply the coating uniformly.
層流薄層処理も本発明の好適な適用法の一つである。
この方法は下記に若干の説明を加えるが、特開昭61−
77851号に詳記されている。 層流状態の程度は感
光材料表面の液の流動が少ないほど良く、レイノルズ数
2000以下であることが望ましく、特に500以下が
好都合である。Laminar flow thin layer processing is also one of the preferred application methods of the present invention.
This method will be explained in detail below, but
It is detailed in No. 77851. The degree of laminar flow state is better as the flow of the liquid on the surface of the photosensitive material is smaller, and a Reynolds number of 2,000 or less is desirable, and a Reynolds number of 500 or less is particularly convenient.
レイノルズ数Reは、液層の実効厚みをD、速度をV、
密度をρおよび粘度をμとすると、DVρ/μ
で与えられる。The Reynolds number Re is the effective thickness of the liquid layer D, the velocity V,
If the density is ρ and the viscosity is μ, it is given by DVρ/μ.
ここで実効厚みDとは、感光材料面と容器壁面との間、
あるいは感光材料面同士の間などの液室間の厚みを指す
。 また、速度Vは、感光材料に対する処理液の相対速
度であると考えられるが、液層の実効厚みDが小さくな
ると処理液と器壁との相対速度も影響を及ぼすので、実
haにはこれら2つの相対速度の平均なVとして用いる
。Here, the effective thickness D is the distance between the photosensitive material surface and the container wall surface;
Alternatively, it refers to the thickness between liquid chambers, such as between surfaces of photosensitive materials. In addition, the speed V is considered to be the relative speed of the processing liquid to the photosensitive material, but as the effective thickness D of the liquid layer becomes smaller, the relative speed between the processing liquid and the vessel wall also affects the actual ha. It is used as the average V of the two relative velocities.
このレイノルズ数が臨界値を超えない範囲では液流は層
流状態を保っている。As long as the Reynolds number does not exceed a critical value, the liquid flow remains laminar.
本発明では、液層の実効厚みDは0.5〜10mm程度
であり、密度ρは、アルカリ水溶液であるため水の密度
とほとんど変わりなく、常温で1.0〜1.1程度であ
る。 また、粘度μは、20℃で0.9〜2センチポア
ズである。In the present invention, the effective thickness D of the liquid layer is about 0.5 to 10 mm, and the density ρ is almost the same as the density of water since it is an alkaline aqueous solution, and is about 1.0 to 1.1 at room temperature. Further, the viscosity μ is 0.9 to 2 centipoise at 20°C.
粘度は増粘剤を使用すれば大きくなり、その分でけ層流
を保ち得る流速範囲は広がるが、−浴現像補力処理では
そのメリットより処理後の付着液を除去するのが困難で
あるなど新たな問題が生じるため、増粘剤の試料は好ま
しくない。The viscosity increases when a thickener is used, which expands the flow rate range in which laminar flow can be maintained.However, the advantage of bath development intensification processing is that it is difficult to remove the adhered liquid after processing. Samples with thickeners are not preferred because new problems such as
速度Vは、層流を保つためのレイノルズ数Reから計算
すると、理論的には液層の実効厚みDが0.5mmなら
ば2 m / sまで、またDが10mmならば0 、
1 m/ sまで高めることが可能である。 しかし
、実際は、速度Vが大きいと試料や器壁のわずかな凹凸
が、液の乱れを与え易いので、速度Vは小さいほど安全
であり、液層の実効厚みDが小さくても0.1m/s以
下が好ましく、10−”〜10−’m/ s程度である
ことがより好ましい。The velocity V is calculated from the Reynolds number Re to maintain laminar flow, and theoretically it is up to 2 m/s if the effective thickness D of the liquid layer is 0.5 mm, and 0 if D is 10 mm.
It is possible to increase the speed up to 1 m/s. However, in reality, if the speed V is large, slight irregularities on the sample or vessel wall will easily disturb the liquid, so the smaller the speed V is, the safer it is, and even if the effective thickness D of the liquid layer is small, it is 0.1 m/ s or less, and more preferably about 10-'' to 10-' m/s.
層流状態を具現する実施態様には、種々の形態がある。There are various embodiments that implement laminar flow conditions.
例えば、同心円状の2つのドラムの円周面で囲まれたリ
ング上の液膜と、この中に円周面に沿ってロール上の感
光材料を浸漬する方法である。For example, there is a method in which a liquid film is formed on a ring surrounded by the circumferential surfaces of two concentric drums, and a photosensitive material on a roll is immersed into the liquid film along the circumferential surface.
これには感光材料をドラムに固定して処理液を迅速にフ
ィードした後、液も静止させるバツヂ式処理法やドラム
の一方から感光材料と処理液とをフィードし、両者の相
対速度を十分に遅くして、ドラムの他端から感光材料を
取り出すと共に、使われた処理液もオーバーフローさせ
る連続式処理法がある。This can be achieved by fixing the photosensitive material on a drum and rapidly feeding the processing solution, and then using the batch processing method, in which the solution is also stationary, or by feeding the photosensitive material and the processing solution from one side of the drum to maintain a sufficient relative speed between the two. There is a continuous processing method in which the photosensitive material is taken out from the other end of the drum at a slower rate and the used processing solution also overflows.
後者の場合、並流タイプのフィード方式が向流タイプに
比較してはるかにすぐれた結果を与える。 これは、単
にレイノルズ数を小さく保つことができるためだけでは
なく、感光材料の初めに接する液が使われた液ではなく
、同時にフィードされた新鮮な液である点に大きな意味
があるためである。In the latter case, a co-current type feed system gives much better results than a counter-current type. This is not only because the Reynolds number can be kept small, but also because it is significant that the liquid that comes into contact with the photosensitive material at the beginning is not a used liquid, but a fresh liquid that is fed at the same time. .
次に、本発明に使用する一般式(I)で表わされる化合
物について説明する。Next, the compound represented by general formula (I) used in the present invention will be explained.
一般式(I)
PWR(−T i me−)−1PUG上記一般式(I
)において、PWRは還元されることによって
(Time−)IPUGを放出する基を表わす。General formula (I) PWR(-T i me-)-1PUG General formula (I)
), PWR represents a group that releases (Time-)IPUG upon reduction.
TimeはPWRから(Time+1−PUGとして放
出されたのち後続する反応を介してPUGを放出する基
を表わす。Time represents a group that is released from PWR as (Time+1-PUG) and then releases PUG through a subsequent reaction.
tは0またはrの整数を表わす。t represents an integer of 0 or r.
PUGは放出された後写真性有用基となる基を表わす。PUG represents a group which becomes a photographically useful group after being released.
最初にPWRについて詳しく説明する。First, PWR will be explained in detail.
PWRは米国特許第4,139,389号あるいは米国
特許第4,139,379号、同第4.564,577
号、特開昭59−185333号、同57−84453
号に開示されたように還元された後に分子内の求核置換
反応によって写真用試薬を放出する化合物における電子
受容性中心と分子内求核置換反応中心を含む部分に相当
するものであっても良いし、米国特許第4,232,1
07号、特開昭59−101649号、リサーチディス
クロージャー(1984)rV、24025号、あるい
は特開昭61−88257号に開示されたように、還元
された後に分子内の電子移動反応による写真用試薬を脱
離させる化合物における電子受容性のキノノイド中心お
よびそれと写真用試薬を結びつけている炭素原子を含む
部分に相当するものであっても良い。 また特開昭56
−142530号、米国特許第4,343,893号、
米国特許第4,619,884号に開示されたような還
元後に一重結合が開裂し写真用試薬を放出する化合物中
の電子吸引性基で置換されたアリール基およびそれと写
真用試薬を連結する原子(イオウ原子または炭素原子ま
たは窒素原子)を含む部分に相当するものであっても良
い。 また米国特許第4,450,223号に開示され
ているような電子受容後に写真用試薬を放出するニトロ
化合物中のニトロ基およびそれと写真用試薬を連結する
炭素原子を含む部分に相当するものであっても良いし、
米国特許第4.609.610号に記載された電子受容
後に写真用試薬をβ脱離するジニトロ化合物中のジェミ
ナルジニトロ部分およびそれを写真用試薬と連結する炭
素原子を含む部分に相当するものであっても良い。 し
かし本発明の■的をより充分に達成するためには一般式
(I)の化合物の中でも一般式(II)で表わされるも
のが好ましい。PWR is based on U.S. Pat. No. 4,139,389 or U.S. Pat. No. 4,139,379, U.S. Pat.
No., JP-A-59-185333, JP-A No. 57-84453
Even if it corresponds to a moiety containing an electron-accepting center and an intramolecular nucleophilic substitution reaction center in a compound that releases a photographic reagent by an intramolecular nucleophilic substitution reaction after being reduced as disclosed in No. Good, U.S. Patent No. 4,232,1
No. 07, JP-A-59-101649, Research Disclosure (1984) rV, 24025, or JP-A-61-88257, photographic reagents that undergo intramolecular electron transfer reaction after being reduced. It may correspond to a moiety containing an electron-accepting quinonoid center and a carbon atom that connects it to a photographic reagent in a compound that is eliminated. Also, JP-A-56
-142530, U.S. Patent No. 4,343,893,
An aryl group substituted with an electron-withdrawing group in a compound whose single bond is cleaved to release a photographic reagent after reduction as disclosed in U.S. Pat. No. 4,619,884 and the atom linking it to the photographic reagent. (a sulfur atom, a carbon atom, or a nitrogen atom). It also corresponds to a moiety containing a nitro group in a nitro compound that releases a photographic reagent after electron acceptance and a carbon atom that connects it to the photographic reagent, as disclosed in U.S. Pat. No. 4,450,223. It's okay to have,
Corresponds to the geminal dinitro moiety in the dinitro compound that β-eliminates the photographic reagent after electron acceptance and the carbon atom-containing moiety that links it to the photographic reagent described in U.S. Pat. No. 4,609,610. It may be. However, in order to more fully achieve the object (1) of the present invention, among the compounds of general formula (I), those represented by general formula (II) are preferred.
一般式(II)
E A G−一
上記一般式(II)においては
■
EAG
(Time+1−PUGはR1%R2あるいはEAGの
少なくとも一つと結合する。General formula (II) E A G-- In the above general formula (II), ■EAG (Time+1-PUG is bonded to at least one of R1%R2 or EAG.
一般式(II)のpwkに相当する部分について説明す
る。The portion corresponding to pwk in general formula (II) will be explained.
Xは酸素原子(−0−)、イオウ原子 わす。X is oxygen atom (-0-), sulfur atom Was.
R1、R2およびR3は水素原子以外の基、または単な
る結合を表わす。R1, R2 and R3 represent groups other than hydrogen atoms or simple bonds.
R1、R2SよびR3で表わされる水素原子以外の基を
以下に列挙する。Groups other than hydrogen atoms represented by R1, R2S and R3 are listed below.
M もしくは−胃 のアルキル基
メチル基、トルフルオロメチル基、ベンジル基、クロロ
メチル基、ジメチルアミノメチルノ^、エトキシカルボ
ニルメチル基、アミノメチル基、アセチルアミノメチル
基、エチル基、2−(4−ドデカノイルアミノフェニル
)エチル基、カルボキシエチル基、アリル基、3,3゜
3−トリクロロプロピル基、n−プロピル基、1so−
プロピル基、n−ブチル基、1so−ブチル基、5ec
−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチルーjJ4.5
ec−ペンチル基、t−ペンチル基、シクロペンチル基
、n−ヘキシル基、5ec−ヘキシル基、t−ヘキシル
基、シクロヘキシル基、n−オクチル基、5ec−オク
チル基、t−才・ブチル基、n−デシル基、n−ウンデ
シル基、n−ドデシル基、n−テトラデシル基、n−ペ
ンタデシル基、n−ヘキサデシル基、5ec−ヘキサデ
シル基、t−ヘキサデシル基、n−オクタデシル基、t
−オクタデシル基など。M or - Gastric alkyl group Methyl group, trifluoromethyl group, benzyl group, chloromethyl group, dimethylaminomethylno^, ethoxycarbonylmethyl group, aminomethyl group, acetylaminomethyl group, ethyl group, 2-(4- dodecanoylaminophenyl) ethyl group, carboxyethyl group, allyl group, 3,3゜3-trichloropropyl group, n-propyl group, 1so-
Propyl group, n-butyl group, 1so-butyl group, 5ec
-Butyl group, t-butyl group, n-pentyl group J4.5
ec-pentyl group, t-pentyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, 5ec-hexyl group, t-hexyl group, cyclohexyl group, n-octyl group, 5ec-octyl group, t-butyl group, n- Decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, 5ec-hexadecyl group, t-hexadecyl group, n-octadecyl group, t
-octadecyl group, etc.
7す し、くは置 のアルケニルJ
ビニル基、2−クロロビニル基、1−メチルビニル基、
2−シアノビニル基、シクロヘキセン−1−イル基など
。7. Alkenyl J vinyl group, 2-chlorovinyl group, 1-methylvinyl group,
2-cyanovinyl group, cyclohexen-1-yl group, etc.
1負 しくは−1のアルキニル基
エチニル基、1−プロピニル基、2−エトキシカルボニ
ルエチニル基など。1 negative or -1 alkynyl group, ethynyl group, 1-propynyl group, 2-ethoxycarbonylethynyl group, etc.
苦 もし は ′ξ のアリール基
フェニル基、ナフチル基、3−ヒドロキシフェニル基、
3−クロロフェニル基、4−アセチルアミノフェニル基
、4−ヘキサデカンスルホニルアミノフェニル基、2−
メタンスルホニ)Lt−4−ニートロフェニル基、3−
ニトロフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−アセ
チルアミノフェニル基、4−メタンスルホニルフェニル
基、2.4−ジメチルフェニル基、4−テトラデシルオ
キシフェニル基など。 ′習 もしくは〜苦
の −二r基
1−イミダゾリル基、2−フリル基、2−ピリジル基、
5−ニトロ−2−ピリジル基、3−ピリジル基、3.5
−ジシアノ−2−ピリジル基、5−テトラゾリル基、5
−フェニル−1−テトラゾリル基、2−ベンツチアゾリ
ル基、2−ベンツイミダゾリル基、2−ベンツオキサシ
リル基、2−才キサシリン−2−イル基、モルホリノ基
など。If the aryl group of ′ξ is phenyl group, naphthyl group, 3-hydroxyphenyl group,
3-chlorophenyl group, 4-acetylaminophenyl group, 4-hexadecanesulfonylaminophenyl group, 2-
methanesulfony) Lt-4-nitrophenyl group, 3-
Nitrophenyl group, 4-methoxyphenyl group, 4-acetylaminophenyl group, 4-methanesulfonylphenyl group, 2,4-dimethylphenyl group, 4-tetradecyloxyphenyl group, etc. 'Xi or ~ bitterness
-2r group 1-imidazolyl group, 2-furyl group, 2-pyridyl group,
5-nitro-2-pyridyl group, 3-pyridyl group, 3.5
-dicyano-2-pyridyl group, 5-tetrazolyl group, 5
-phenyl-1-tetrazolyl group, 2-benzthiazolyl group, 2-benzimidazolyl group, 2-benzoxasilyl group, 2-xacillin-2-yl group, morpholino group, etc.
苦 しくは Wt のアシル1−
アセチル基、プロピオニル基、ブチロイル基、1so−
ブチロイル基、2.2−ジメチルプロピオニル基、ベン
ゾイル基、3,4−ジクロロベンゾイル基、3−アセチ
ルアミノ−4−メトキシベンゾイル基、4−メチルベン
ゾイル基、4−メトキシ−3−スルホベンゾイル基など
。Wt acyl 1-acetyl group, propionyl group, butyroyl group, 1so-
butyroyl group, 2,2-dimethylpropionyl group, benzoyl group, 3,4-dichlorobenzoyl group, 3-acetylamino-4-methoxybenzoyl group, 4-methylbenzoyl group, 4-methoxy-3-sulfobenzoyl group, etc.
置 しくは;習 のカルバモイル−・カルバモイル基
、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、ビ
ス−(2−メトキシエチル)カルバモイル基、ジエチル
カルバモイル基、シクロへキシルカルバモイル基、ジ−
n−オクチルカルバモイル基、3−ドデシルプロピルカ
ルバモイル基、ヘキサデシルカルバモイル基、3− (
2,4−ジ−t−ペンチルフェノキシ)プロピルカルバ
モイル基、3−オクタンスルホニルアミノフェニルカル
バモイル基、ジ−n−オクタデジルカルバモイル基など
。Alternatively; carbamoyl group, methylcarbamoyl group, dimethylcarbamoyl group, bis-(2-methoxyethyl)carbamoyl group, diethylcarbamoyl group, cyclohexylcarbamoyl group, di-
n-octylcarbamoyl group, 3-dodecylpropylcarbamoyl group, hexadecylcarbamoyl group, 3-(
2,4-di-t-pentylphenoxy)propylcarbamoyl group, 3-octanesulfonylaminophenylcarbamoyl group, di-n-octadecylcarbamoyl group, etc.
舌 し ま−習 のスルフ モ ル
スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチル
スルファモイル基、ジエチルスルファモイル基、ビス−
(2−メトキシエチル)スルファモイル基、ジ−n−ブ
チルスルファモイル基、メチル−n−オクチルスルファ
モイル基、n−ヘキサデシルメチルスルファモイル基、
3−エトキシプロピルメチルスルファモイル基、N−フ
ェニル−N−メチルスルファモイル基、4−デシルオキ
シフェニルスルファモイル基、メチルオクタデシルスル
ファモイル基など。Sulfamoyl group, methylsulfamoyl group, dimethylsulfamoyl group, diethylsulfamoyl group, bis-
(2-methoxyethyl)sulfamoyl group, di-n-butylsulfamoyl group, methyl-n-octylsulfamoyl group, n-hexadecylmethylsulfamoyl group,
3-ethoxypropylmethylsulfamoyl group, N-phenyl-N-methylsulfamoyl group, 4-decyloxyphenylsulfamoyl group, methyloctadecylsulfamoyl group, etc.
メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、クロルメタ
ンスルホニル
ル基、ブタンスルホニル3% n−オクタンスルホニル
基、n−ドデカンスルホニル基、n−へキサデカンスル
ホニル基、ベンゼンスルホニル基、4−トルエンスルホ
ニル基、4−n−ドデシルオキシベンゼンスルホニル基
など。Methanesulfonyl group, ethanesulfonyl group, chloromethanesulfonyl group, butanesulfonyl 3% n-octanesulfonyl group, n-dodecanesulfonyl group, n-hexadecanesulfonyl group, benzenesulfonyl group, 4-toluenesulfonyl group, 4- n-dodecyloxybenzenesulfonyl group, etc.
R1およびR3は置換もしくは非置換のアルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環残基
、アシル基、スルホニル基などが好ましい。 R1およ
びR3の炭素数は1〜40が好ましい。R1 and R3 are preferably substituted or unsubstituted alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, heterocyclic residues, acyl groups, sulfonyl groups, and the like. The number of carbon atoms in R1 and R3 is preferably 1 to 40.
R2は置換もしくは非置換のアシル基、スルホニル基が
好ましい。 炭素数は1〜40が好ましい。R2 is preferably a substituted or unsubstituted acyl group or sulfonyl group. The number of carbon atoms is preferably 1 to 40.
R1、R2、R3およびEAGは互いに結合して5〜8
員の環を形成しても良い。R1, R2, R3 and EAG are bonded to each other to form 5-8
A ring of members may be formed.
EAGについては後述する。EAG will be described later.
さらに本発明の目的を達成するためには一般式(II)
で表わされる化合物の中でも一般式(III)で表わさ
れるものが好ましい。Furthermore, in order to achieve the object of the present invention, general formula (II)
Among the compounds represented by formula (III), those represented by general formula (III) are preferred.
一般式(III) 上記一般式(I[I)においては EAG が一般式(1)で示したPWRに相当する。General formula (III) In the above general formula (I[I), EAG corresponds to the PWR shown in general formula (1).
(Ti me+1−PUGはR4,EAGの少なくとも
一方に結合する。(Time+1-PUG binds to at least one of R4 and EAG.
一般式(III)のPWRに相当する部分について説明
する。The portion corresponding to PWR in general formula (III) will be explained.
円
Yは二価の連結基であり好ましくは−C−あるいは−5
02−である。 Xは前記と同じ意味を表わす。Circle Y is a divalent linking group, preferably -C- or -5
It is 02-. X has the same meaning as above.
R4はX、Yと結合し、窒素原子を含めて5〜8員の単
環あるいは縮環のへテロ環を形成する原子群を表わす。R4 represents an atomic group that combines with X and Y to form a 5- to 8-membered monocyclic or condensed heterocycle including a nitrogen atom.
以下にこの複素環にあたる部分について好ましい例を列
挙する。Preferred examples of the portion corresponding to this heterocycle are listed below.
ここでR8、)t9 、RIGは水素原子、アルキル基
、アリール基またはへテロ環基等が好ましい。 R”は
アルキル基、アリール基、アシル基またはスルホニル基
を表わす。 (Time −)EPLJG&;tRa、
R9,R”j、:結合シテイテモ良い。Here, R8, )t9 and RIG are preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, or the like. R” represents an alkyl group, an aryl group, an acyl group, or a sulfonyl group. (Time −) EPLJG&;tRa,
R9, R"j: Good binding.
EGAは、還元性物質から電子を受は取る芳香族基を表
わし、窒素原子に結合する。 EGAとしては次の一般
式[A]で表わされる基が好ましい。EGA represents an aromatic group that accepts or takes electrons from a reducing substance and is bonded to a nitrogen atom. As EGA, a group represented by the following general formula [A] is preferable.
一般式(A) ε 上記一般式(八)において、 を表わす。General formula (A) ε In the above general formula (8), represents.
Vnはzl 、z2とともに三ないし六員の芳香族を形
成する原子団を表わし、nは三からへの整数を表わす。Vn represents an atomic group forming a three- to six-membered aromatic group together with zl and z2, and n represents an integer from 3 to 3.
V3ニー23−1V4 ;−23−24−1V5 ;
−z3−z4−z5−1v6;、z3−24−z、、
−za−1V7 ニー23−24−Zs −za −
27−1Va ;−z3−z4−25−26 27−
Zg −である。 ココテ、−0−1−S−1あるいは
一5o2−を表わし、Subはそれぞれが単なる結合(
π結合)、水素原子あるいは以下に記した置換基を表わ
す。’ Subはそれぞれが同じであっても、またそ
れぞれが異なっていても良く、またそれぞれ互いに結合
して三ないし六員の飽和あるいは不飽和の炭素環あるい
は複素環を形成してもよい。V3 knee 23-1V4;-23-24-1V5;
-z3-z4-z5-1v6;, z3-24-z,,
-za-1V7 knee 23-24-Zs -za -
27-1Va ;-z3-z4-25-26 27-
Zg -. Kokote, -0-1-S-1 or -5o2-, Sub represents a simple combination (
π bond), a hydrogen atom, or a substituent described below. 'Sub may be the same or different, or may be bonded to each other to form a 3- to 6-membered saturated or unsaturated carbocyclic or heterocyclic ring.
一般式(A)では、置換基のハメット置換基定数σPの
総和が+0.50以上、さらに好ましくは+0.70以
上、最も好ましくは+0.85以上になるようにSub
を選択する。In general formula (A), Sub
Select.
EAGについてさらに詳しく述べる。EAG will be described in more detail.
EAGは、還元性物質から電子を受は取る基を表わし、
窒素原子に結合する。 EAGは、好ましくは、少なく
とも一つの電子吸引性基によって置換されたアリール基
、あるいは複素環基である。 EAGのアリール基ある
いは複素環基に結合する置換基は化合物全体の物性を調
節するために利用することが出来る。 化合物′ 全
体の物性の例としては、電子の受は取り易さを調節でき
る他、例えば水溶性、油溶性、拡散性、昇華性、融点、
ゼラチンなどのバインダーに対する分散性、求核性基に
対する反応性、親電子性基に対する反応性等を調節する
のに利用することが出来る。EAG represents a group that accepts and takes electrons from reducing substances,
Bonds to nitrogen atoms. EAG is preferably an aryl group or a heterocyclic group substituted with at least one electron-withdrawing group. Substituents bonded to the aryl group or heterocyclic group of EAG can be used to adjust the physical properties of the entire compound. Examples of the overall physical properties of the compound' include, in addition to adjusting the ease with which it accepts electrons, it also has water solubility, oil solubility, diffusivity, sublimation, melting point,
It can be used to adjust dispersibility with binders such as gelatin, reactivity with nucleophilic groups, reactivity with electrophilic groups, etc.
次にEAGの具体的な例を挙げる。Next, a specific example of EAG will be given.
少なくとも一つ以上の電子吸引性基によって置換された
アリール基の例としては、例えば、4−ニトロフェニル
基、2−ニトロフェニル基、2−ニトロ−4−N−メチ
ル−N−n−ブチルスルファモイルフェニル基、2−ニ
トロ−4−N−メチル−N−n−オクチルスルファそイ
ルフェニル基、2−ニトロ−4−N−メチル−N−n−
ドデシルスルファモイルフェニル基、2−ニトロ−4−
N−メチル−N−n−ヘキサデシルスルファモイルフェ
ニル基、2−ニトロ−4−N−メチル−N−n−オクタ
デシルスルファモイルフェニル基、2−ニトロ−4−N
−メチル−N−(3−カルボキシプロピル)スルファモ
イルフェニル基、2−ニトロ−4−N−エチル−N−(
2−スルホエチル)スルファモイルフェニル基、2−ニ
トロ−4−N−〇−ヘキサデシルーN−(3−スルホプ
ロピル)スルファモイルフェニル基、2−ニトロ−4−
N−(2−シアノエチル)−N−((2−ヒドロキシエ
トキシ)エチル)スルファモイルフェニル基、2−ニト
ロ−4−ジエチルスルファモイルフェニル基、2−ニト
ロ−4−ジ−n−ブチルスルファモイルフェニル基、2
−ニトロ−4−ジ−n−オクチルスルファモイルフェニ
ル基、2−ニトロ−4−ジ−n−オクタデシルスルファ
モイルフェニル基、2−ニトロ−4−メチルスルファモ
イルフェニル基、2−ニトロ−4−n−ヘキサデシルス
ルファモイルフェニル基、2−ニトロ−4−N−メチル
−N−(4−ドデシルスルホニルフェニル)スルファモ
イルフェニル基、2−ニトロ−4−(3−メチルスルフ
ァモイルフェニル)スルファモイルフェニル基、4−ニ
トロ−2−N−メチル−N−n−ブチルスルファモイル
フェニル基、4−ニトロ−2−N−メチル−N−n−オ
クチルスルファモイルフェニル基、4−ニトロ−2−N
−メチル−N−n−ドデシルスルファモイルフェニル基
、4−ニトロ−2−N−メチル−N−n−ヘキサデシル
スルファモイルフェニル基、4−ニトロ−2−N−メチ
ル−N−n−オクタデシルスルファモイルフェニル基、
4−ニトロ−2−N−メチル−N−(3−カルボキシプ
ロピル)スルファモイルフェニル基、4−ニトロ−2−
N−エチル−N−(2−スルホエチル)スルファモイル
フェニル基、4−ニトロ−2−N−n−ヘキサデシル−
N−(3−スルホプロピル)スルファモイルフェニル基
、4−ニトロ−2−N−(2−シアノエチル)−N−(
(2−ヒドロキシエトキシエチル)スルファモイルフェ
ニル基、4−ニトロ−2−ジエチルスルファモイルフェ
ニル基、4−ニトロ−2−ジ−n−ブチルスルファモイ
ルフェニル基、4−ニトロ−2−ジ−n−オフデルスル
ファモイルフェニル基、4−ニトロ−2−ジ−n−オク
タデシルスルファモイルフェニル基、4−ニトロ−2−
メチルスルファモイルフェニル基、4−ニトロ−2−n
−ヘキサデシルスルファモイルフェニル基、4−ニトロ
−2−N−メチル−N−(4−ドデシルスルホニルフェ
ニル)スルファモイルフェニル基、4−ニトロ−2−(
3−メチルスルファモイルフェニル)スルファモイルフ
ェニル基、4−ニトロ−2−クロロフェニ)LtjM、
2−二トロー4−クロロフェニル基、2−ニトロ−4−
N−メチル−N−n−ブチルカルバモイルフェニル基、
2−ニトロ−4−N−メチル−N−n−オクチルカルバ
モイルフェニル基、2−ニトロ−4−N−メチル−N−
n−ドデシルカルバモイルフェニル基、2−ニトロ−4
−N−メチル−N−n−ヘキサデシルカルバモイルフェ
ニル基、2−ニトロ−4−N−メチル−N−n−オクタ
デシルカルバモイルフェニル基、2−ニトロ−4−N−
メチル−N−(3−カルボキシプロピル)カルバモイル
フェニル基、2−ニトロ−4−N−エチル−N−(2−
スルホエチル)カルバモイルフェニル基、2−ニトロ−
4−N−n−ヘキサデシル−N−(3−スルホプロピル
)カルバモイルフェニル基、2−ニトロ−4−N−(2
−シアノエチル)−N−((2−ヒドロキシエトキシ)
エチル)カルバモイルフェニル基、2.−ニトロ−4−
ジエチルカルバモイルフェニル基、2−ニトロ−4−ジ
−n−ブチルカルバモイルフェニル基、2−ニトロ−4
−ジ−n−オクチルカルバモイルフェニル基、2−ニト
ロ−4−ジ−n−オクタデシルカルバモイルフェニル基
、2−ニトロ−4−メチルカルバモイルフェニル基、2
−ニトロ−4−n−ヘキサデシルカルバモイルフェニル
基、2−ニトロ−4−N−メチル−N−(4−ドデシル
スルホニルフェニル)カルバモイルフェニル基、2−ニ
トロ−4−(3−メチルスルファモイルフェニル)カル
バモイルフェニル基、4−ニトロ−2−N−メチル−N
−n−ブチルカルバモイルフェニル基、4−ニトロ−2
−N−メチル−N−n−オクチルカルバモイルフェニル
基、4−ニトロ−2−N−メチル−N−n−ドデシルカ
ルバモイルフェニル基、4−ニトロ−2−N−メチル−
N−n−ヘキサデシルカルバモイルフェニル基、4−二
トロー2−N−メチル−N−n−オクタデシルカルバモ
イルフェニル基、4−ニトロ−2−N−メチル−N−(
3−カルボキシプロピル)カルバモイルフェニル基、4
−ニトロ−2−N−エチル−N−(2−スルホエチル)
カルバモイルフェニル基、4−ニトロ−2−N−n−ヘ
キサデシル−N−(3−スルホプロピル)カルバモイル
フェニル基、4−ニトロ−2−N−(2−シアノエチル
)−N−((2−ヒドロキシエトキシ)エチル)カルバ
モイルフェニル基、4−ニトロ−2−ジエチルカルバモ
イルフェニル基、4−ニトロ−2−ジ−n−ブチルカル
バモイルフェニル基、4−ニトロ−2−ジ−n−オクチ
ルカルバモイルフェニル基、4−ニトロ−2−ジ−n−
オクタデジルカルバモイルフェニル基、4−ニトロ−2
−メチルカルバモイルフェニル基、4−ニトロ−2−n
−ヘキサデシルカルバモイルフェニル基、4−ニトロ−
2−N−メチル−N−(4−ドデシルスルホニルフェニ
ル)カルバモイルフェニル基、4−ニトロ−2−(3−
メチルスルファモイルフェニル)カルバモイルフェニル
基、2,4−ジメタンスルホニルフェニル基、2−メタ
ンスルホニル−4−ベンゼンスルホニルフェニル基、2
−n−オクタンスルホニル−4−メタンスルホニルフェ
ニル基、2−n−テトラデカンスルホニル−4−メタン
スルホニルフェニル基、2−n−ヘキサデカンスルホニ
ル−4−メタンスルホニルフェニル基、2.4−ジ−n
−ドデカンスルホニルフェニル基、2.4−シトデカン
スルホニル−5−トリフルオロメチルフェニル基、2−
n−デカンスルホニル−4−シアノ−5−トリフルオロ
メチルフェニル基、2−シアノ−4−メタンスルホニル
フェニル基、2,4.6−ドリシアノフエニル基、2.
4−ジシアノフェニル基、2−ニトロ−4−メタンスル
ホニルフェニル基、2−ニトロ−4−n−ドデカンスル
ホニルフェニル基、2−ニトロ−4−(2−スルホエチ
ルスルホニル)フェニル基、2−ニトロ−4−カルボキ
シメチルスルホニルフェニル基、2−ニトロ−4−カル
ボキシフェニル基、2−ニトロ−4−エトキシカルボニ
ル−5−n−ブトキシフェニル基、2−ニトロ−4−エ
トキシカルボニル−5−n−ヘキサデシルオキシフェニ
ル基、2−ニトロ−4−ジエチルカルバモイル−5−n
−ヘキサデシルオキシフェニル基、2−ニトロ−4−シ
アノ−5−n−ドデシルフェニル基、2.4−ジニトロ
フェニル基、2−ニトロ−4−n−デシルチオフェニル
基、3.5−ジニトロフェニル基、2−ニトロ−3,5
−ジメチル−4−n−ヘキサデカンスルホニル基、4−
メタンスルホニル−2−ベンゼンスルホニルフェニル基
、4−n−オクタンスルホニル−2−メタンスルホニル
フェニル基、4−n−テトラデカンスルホニル−2−メ
タンスルホニルフェニル基、4−n゛−ヘキサデカンス
ルホニル−2−メタンスルホニルフェニル基、2,5−
シトデカンスルホニル−4−トリフルオロメチルフェニ
ル基、4−n−デカンスルホニル−2−シアノ−5−ト
リフルオロメチルフェニル基、4−シアノ−2−メタン
スルホニルフェニル基、4−ニトロ−2−メタンスルホ
ニルフェニル基、4−ニトロ−2−n−ドデカンスルホ
ニルフェニル基 、4−ニトロ−2−(2−スルホエチ
ルスルホニル)フェニル基、4−ニトロ−2−カルボキ
シメチルスルホニルフェニル基、4−ニトロ−2−カル
ボキシフェニル基、4−ニトロ−2−エトキシカルボニ
ル−5−n−ブトキシフェニル基、4−ニトロ−2−エ
トキシカルボニル−5−n−ヘキサデシルオキシフェニ
ル基、4−ニトロ−2−ジエチルカルバモイル−5−n
−ヘキサデシルオキシフェニル基、4−ニトロ−2−シ
アノ−5−n−ドデシルフェニル基、4−ニトロ−2−
n−デシルチオフェニル基、4−ニトロ−3゜5−ジメ
チル−2−n−ヘキサデカンスルホニルフェニル基、4
−ニトロナフチル基、2.4−ジニトロナフチル基、4
−ニトロ−2−n−オクタデジルカルバモイルナフチル
基、4−ニトロ−2−ジオクチルカルバモイル−5−(
3−スルホベンゼンスルホニルアミノ)ナフチル基、2
,3,4,5.6−ペンタフルオロフェニル基、2−ニ
トロ−4−ベンゾイルフェニル基、2.4−ジアセチル
フェニル基、4−ニトロ−2−トリフルオロメチルフェ
ニル基、2−ニトロ−4−トリフルオロメチルフェニル
基、4−ニトロ−3−トリフルオロメチルフェニル基、
2.4.5−トリシアノフェニル基、3゜4−ジシアノ
フェニル基、2−クロロ−4,5−ジシアノフェニル基
、2−ブロモ−4,5−ジシアノフェニル基、4−メタ
ンスルホニルフェニル基、4−n−ヘキサデカンスルホ
ニルフェニル基、2−デカンスルホニル−5−トリフル
オロメチルフェニル基、2−ニトロ−5−メチルフェニ
ル基、2−ニトロ−5−n−オクタデシルオキシフェニ
ル基、2−ニトロ−4−N−(ビニルスルホニルエチル
)−N−メチルスルファモイルフェニル基、2−メチル
−6−ニドロペンツオキサゾールー5−イル基、などが
挙げられる。Examples of aryl groups substituted with at least one electron-withdrawing group include 4-nitrophenyl group, 2-nitrophenyl group, 2-nitro-4-N-methyl-N-n-butylsulfur group, Famoylphenyl group, 2-nitro-4-N-methyl-N-n-octylsulfasoylphenyl group, 2-nitro-4-N-methyl-N-n-
dodecylsulfamoylphenyl group, 2-nitro-4-
N-methyl-N-n-hexadecylsulfamoylphenyl group, 2-nitro-4-N-methyl-N-n-octadecylsulfamoylphenyl group, 2-nitro-4-N
-Methyl-N-(3-carboxypropyl)sulfamoylphenyl group, 2-nitro-4-N-ethyl-N-(
2-Sulfoethyl)sulfamoylphenyl group, 2-nitro-4-N-〇-hexadecyl-N-(3-sulfopropyl)sulfamoylphenyl group, 2-nitro-4-
N-(2-cyanoethyl)-N-((2-hydroxyethoxy)ethyl)sulfamoylphenyl group, 2-nitro-4-diethylsulfamoylphenyl group, 2-nitro-4-di-n-butylsulf famoylphenyl group, 2
-Nitro-4-di-n-octylsulfamoylphenyl group, 2-nitro-4-di-n-octadecylsulfamoylphenyl group, 2-nitro-4-methylsulfamoylphenyl group, 2-nitro- 4-n-hexadecylsulfamoylphenyl group, 2-nitro-4-N-methyl-N-(4-dodecylsulfonylphenyl)sulfamoylphenyl group, 2-nitro-4-(3-methylsulfamoyl phenyl) sulfamoylphenyl group, 4-nitro-2-N-methyl-N-n-butylsulfamoylphenyl group, 4-nitro-2-N-methyl-N-n-octylsulfamoylphenyl group, 4-nitro-2-N
-Methyl-N-n-dodecylsulfamoylphenyl group, 4-nitro-2-N-methyl-N-n-hexadecylsulfamoylphenyl group, 4-nitro-2-N-methyl-N-n- octadecylsulfamoylphenyl group,
4-nitro-2-N-methyl-N-(3-carboxypropyl)sulfamoylphenyl group, 4-nitro-2-
N-ethyl-N-(2-sulfoethyl)sulfamoylphenyl group, 4-nitro-2-N-n-hexadecyl-
N-(3-sulfopropyl)sulfamoylphenyl group, 4-nitro-2-N-(2-cyanoethyl)-N-(
(2-hydroxyethoxyethyl)sulfamoylphenyl group, 4-nitro-2-diethylsulfamoylphenyl group, 4-nitro-2-di-n-butylsulfamoylphenyl group, 4-nitro-2-di -n-ofdelsulfamoylphenyl group, 4-nitro-2-di-n-octadecylsulfamoylphenyl group, 4-nitro-2-
Methylsulfamoylphenyl group, 4-nitro-2-n
-hexadecylsulfamoylphenyl group, 4-nitro-2-N-methyl-N-(4-dodecylsulfonylphenyl)sulfamoylphenyl group, 4-nitro-2-(
3-methylsulfamoylphenyl) sulfamoylphenyl group, 4-nitro-2-chloropheny) LtjM,
2-nitro-4-chlorophenyl group, 2-nitro-4-
N-methyl-N-n-butylcarbamoylphenyl group,
2-nitro-4-N-methyl-N-n-octylcarbamoylphenyl group, 2-nitro-4-N-methyl-N-
n-dodecylcarbamoylphenyl group, 2-nitro-4
-N-methyl-N-n-hexadecylcarbamoylphenyl group, 2-nitro-4-N-methyl-N-n-octadecylcarbamoylphenyl group, 2-nitro-4-N-
Methyl-N-(3-carboxypropyl)carbamoylphenyl group, 2-nitro-4-N-ethyl-N-(2-
sulfoethyl)carbamoylphenyl group, 2-nitro-
4-N-n-hexadecyl-N-(3-sulfopropyl)carbamoylphenyl group, 2-nitro-4-N-(2
-cyanoethyl)-N-((2-hydroxyethoxy)
ethyl) carbamoylphenyl group, 2. -Nitro-4-
diethylcarbamoylphenyl group, 2-nitro-4-di-n-butylcarbamoylphenyl group, 2-nitro-4
-di-n-octylcarbamoylphenyl group, 2-nitro-4-di-n-octadecylcarbamoylphenyl group, 2-nitro-4-methylcarbamoylphenyl group, 2
-Nitro-4-n-hexadecylcarbamoylphenyl group, 2-nitro-4-N-methyl-N-(4-dodecylsulfonylphenyl)carbamoylphenyl group, 2-nitro-4-(3-methylsulfamoylphenyl group) ) Carbamoylphenyl group, 4-nitro-2-N-methyl-N
-n-butylcarbamoylphenyl group, 4-nitro-2
-N-methyl-N-n-octylcarbamoylphenyl group, 4-nitro-2-N-methyl-N-n-dodecylcarbamoylphenyl group, 4-nitro-2-N-methyl-
N-n-hexadecylcarbamoylphenyl group, 4-nitro-2-N-methyl-N-n-octadecylcarbamoylphenyl group, 4-nitro-2-N-methyl-N-(
3-carboxypropyl) carbamoylphenyl group, 4
-Nitro-2-N-ethyl-N-(2-sulfoethyl)
Carbamoylphenyl group, 4-nitro-2-N-n-hexadecyl-N-(3-sulfopropyl)carbamoylphenyl group, 4-nitro-2-N-(2-cyanoethyl)-N-((2-hydroxyethoxy ) ethyl) carbamoylphenyl group, 4-nitro-2-diethylcarbamoylphenyl group, 4-nitro-2-di-n-butylcarbamoylphenyl group, 4-nitro-2-di-n-octylcarbamoylphenyl group, 4- Nitro-2-di-n-
octadecylcarbamoylphenyl group, 4-nitro-2
-methylcarbamoylphenyl group, 4-nitro-2-n
-hexadecylcarbamoylphenyl group, 4-nitro-
2-N-methyl-N-(4-dodecylsulfonylphenyl)carbamoylphenyl group, 4-nitro-2-(3-
methylsulfamoylphenyl) carbamoylphenyl group, 2,4-dimethanesulfonylphenyl group, 2-methanesulfonyl-4-benzenesulfonylphenyl group, 2
-n-octanesulfonyl-4-methanesulfonylphenyl group, 2-n-tetradecanesulfonyl-4-methanesulfonylphenyl group, 2-n-hexadecanesulfonyl-4-methanesulfonylphenyl group, 2,4-di-n
-dodecanesulfonylphenyl group, 2,4-cytodecanesulfonyl-5-trifluoromethylphenyl group, 2-
n-decanesulfonyl-4-cyano-5-trifluoromethylphenyl group, 2-cyano-4-methanesulfonylphenyl group, 2,4.6-dolycyanophenyl group, 2.
4-dicyanophenyl group, 2-nitro-4-methanesulfonylphenyl group, 2-nitro-4-n-dodecanesulfonylphenyl group, 2-nitro-4-(2-sulfoethylsulfonyl)phenyl group, 2-nitro- 4-carboxymethylsulfonylphenyl group, 2-nitro-4-carboxyphenyl group, 2-nitro-4-ethoxycarbonyl-5-n-butoxyphenyl group, 2-nitro-4-ethoxycarbonyl-5-n-hexadecyl Oxyphenyl group, 2-nitro-4-diethylcarbamoyl-5-n
-hexadecyloxyphenyl group, 2-nitro-4-cyano-5-n-dodecylphenyl group, 2.4-dinitrophenyl group, 2-nitro-4-n-decylthiophenyl group, 3.5-dinitrophenyl group group, 2-nitro-3,5
-dimethyl-4-n-hexadecanesulfonyl group, 4-
Methanesulfonyl-2-benzenesulfonylphenyl group, 4-n-octanesulfonyl-2-methanesulfonylphenyl group, 4-n-tetradecanesulfonyl-2-methanesulfonylphenyl group, 4-n-hexadecanesulfonyl-2-methanesulfonyl Phenyl group, 2,5-
Cytodecanesulfonyl-4-trifluoromethylphenyl group, 4-n-decanesulfonyl-2-cyano-5-trifluoromethylphenyl group, 4-cyano-2-methanesulfonylphenyl group, 4-nitro-2-methanesulfonyl group Phenyl group, 4-nitro-2-n-dodecanesulfonylphenyl group, 4-nitro-2-(2-sulfoethylsulfonyl)phenyl group, 4-nitro-2-carboxymethylsulfonylphenyl group, 4-nitro-2- Carboxyphenyl group, 4-nitro-2-ethoxycarbonyl-5-n-butoxyphenyl group, 4-nitro-2-ethoxycarbonyl-5-n-hexadecyloxyphenyl group, 4-nitro-2-diethylcarbamoyl-5 -n
-hexadecyloxyphenyl group, 4-nitro-2-cyano-5-n-dodecylphenyl group, 4-nitro-2-
n-decylthiophenyl group, 4-nitro-3゜5-dimethyl-2-n-hexadecanesulfonylphenyl group, 4
-Nitronaphthyl group, 2,4-dinitronaphthyl group, 4
-Nitro-2-n-octadecylcarbamoylnaphthyl group, 4-nitro-2-dioctylcarbamoyl-5-(
3-sulfobenzenesulfonylamino) naphthyl group, 2
, 3,4,5.6-pentafluorophenyl group, 2-nitro-4-benzoylphenyl group, 2.4-diacetylphenyl group, 4-nitro-2-trifluoromethylphenyl group, 2-nitro-4- trifluoromethylphenyl group, 4-nitro-3-trifluoromethylphenyl group,
2.4.5-tricyanophenyl group, 3゜4-dicyanophenyl group, 2-chloro-4,5-dicyanophenyl group, 2-bromo-4,5-dicyanophenyl group, 4-methanesulfonylphenyl group, 4-n-hexadecanesulfonylphenyl group, 2-decanesulfonyl-5-trifluoromethylphenyl group, 2-nitro-5-methylphenyl group, 2-nitro-5-n-octadecyloxyphenyl group, 2-nitro-4 -N-(vinylsulfonylethyl)-N-methylsulfamoylphenyl group, 2-methyl-6-nidropenzoxazol-5-yl group, and the like.
複素環基の例としては、例えば、2−ピリジル基、3−
ピリジル基、4−ピリジル基、5−ニトロ−2−ピリジ
ル基、5−ニトロ−N−へキサデシルカルバモイル−2
−ピリジル基、3.5−ジシアノ−2−ピリジル基、5
−ドデカンスルホニル−2−ピリジル基、5−シアノ−
2−ピリジル基、4−ニトロチオフェン−2−イル基、
5−ニトロ−1,2−ジメチルイミダゾール−4−イル
基、3.5−ジアセチル−2−ピリジル基、1−ドデシ
ル−5−カルバモイルピリジニウム−2−イル基、5−
ニトロ−2−フリル基、5−ニトロペンツチアゾール−
2−イル基、などが挙げられる。Examples of heterocyclic groups include, for example, 2-pyridyl group, 3-
Pyridyl group, 4-pyridyl group, 5-nitro-2-pyridyl group, 5-nitro-N-hexadecylcarbamoyl-2
-pyridyl group, 3,5-dicyano-2-pyridyl group, 5
-dodecanesulfonyl-2-pyridyl group, 5-cyano-
2-pyridyl group, 4-nitrothiophen-2-yl group,
5-nitro-1,2-dimethylimidazol-4-yl group, 3.5-diacetyl-2-pyridyl group, 1-dodecyl-5-carbamoylpyridinium-2-yl group, 5-
Nitro-2-furyl group, 5-nitropentthiazole-
2-yl group, etc.
次に+Time9−1PUGについて詳述する。Next, +Time9-1PUG will be explained in detail.
Timeは窒素−酸素、窒素−窒素、あるいは窒素−硫
黄の一重結合の開裂をひきかねとして後続する反応を介
してPUGを放出する基を表わす。 tは0またはlを
表わず。Time represents a group that may cause the cleavage of a nitrogen-oxygen, nitrogen-nitrogen, or nitrogen-sulfur single bond to release PUG through a subsequent reaction. t does not represent 0 or l.
Timeで表わされる基は種々公知であり、例えば特開
昭61−147244号(5)頁−(6)頁、同61−
236549号(8)頁−(14)頁、特願昭61−8
8625号(36)頁−(44)頁に記載の基が挙げら
れる。Various groups represented by Time are known, for example, in JP-A-61-147244, pages (5)-(6) and 61-147244.
No. 236549, pages (8) to (14), patent application 1986-8
Examples include the groups described in No. 8625, pages (36) to (44).
PUGは、Time−PUGまたはPUGとして写真的
に有用な基を表わす。PUG represents a group that is photographically useful as Time-PUG or PUG.
写真的に有用な基としては例えば、現像抑制剤、ハライ
ド、現像促進剤、造核剤、カプラー、拡散性あるいは非
拡散性色素、脱銀促進剤、脱銀抑制剤、ハロゲン化銀溶
剤、競争化合物、現像薬、補助現像薬、定着促進剤、定
着抑制剤、画像安定化剤、色調剤、処理依存性良化剤、
網点良化剤、色像安定化剤、写真用染料、界面活性剤、
硬膜剤、減感剤、硬調化剤、キレート剤、蛍光増白剤な
ど、あるいは、これらの前駆体を表わす。Photographically useful groups include, for example, development inhibitors, halides, development accelerators, nucleating agents, couplers, diffusible or non-diffusible dyes, desilvering accelerators, desilvering inhibitors, silver halide solvents, Compounds, developing agents, auxiliary developing agents, fixing accelerators, fixing inhibitors, image stabilizers, color toning agents, processing dependency improvers,
Halftone dot improver, color image stabilizer, photographic dye, surfactant,
Represents hardeners, desensitizers, contrast agents, chelating agents, optical brighteners, etc., or their precursors.
これらの写真的に有用な基は有用性の面で重複している
ことが多いため代表的な例について以下に具体的に説明
する。Since these photographically useful groups often overlap in terms of usefulness, representative examples will be specifically explained below.
現像抑制剤の例として、ペテロ環に結合するメルカプト
基を有する化合物例えば、置換あるいは非置換のメルカ
プトアゾール類(具体的には1−フェニル−5−メルカ
プトテトラゾール、1−(4−カルボキシフェニル)−
5−メルカプトテトラゾール、1−(3−ヒドロキシフ
ェニル)−5−メルカプトテトラゾール、1−(3−ス
ルホフェニル)5−メルカプt・テトラゾール、1−(
4−スルファモイルフェニル)−5−メルカプトテトラ
ゾール、1−(3−ヘキサノイルアミノフェニル)−5
−メルカプトテトラゾール、1−エチル−5−メルカプ
トテトラゾール、1−(2−カルボキシエチル)−5−
メルカプトテトラゾール、2−メチルチオ−5−メルカ
プト−1,3,4−チアジアゾール、2−(2−カルボ
キシエチルチオ)−5−メルカプト−1,3,4−チア
ジアゾール、3−メチル−4−フェニル−5−メルカプ
)−−1,2,4−トリアゾール、2−(2−ジメチル
アミノエチルチオ)−5−メルカプト−1,3,4−チ
アジアゾール、1−(4−n−ヘキシルカルバモイルフ
ェニル)−2−メルカプトイミダゾール、3−アセチル
アミノ−4−メチル−5−メルカプト−1,2,4−ト
リアゾール、2−メルカプトベンツオキサゾール、2−
メルカプトベンツイミダゾール、2−メルカプトベンゾ
チアゾール、2−メルカプト−6−ニトロ−1,3−ベ
ンツオキサゾール、1−(1−ナフチル)−5−メルカ
プトテトラゾール、2−フェニル−5−メルカプト−1
,3,4−オキサジアゾール、1−(−3−(3−メチ
ルウレイド)フェニル)−5−メルカプトテトラゾール
、1−(4−ニトロフェニル)−5−メルカプトテトラ
ゾール、5−(2−エチルヘキサノイルアミノ)−2−
メルカプトベンツイミダゾールなど)、置換あるいは非
置換のメルカプトアザインデン類(具体的には、6−メ
チル−4−メルカプト−1,3゜3a、7−チトラザイ
ンデン、6−メチル−2−ベンジル−4−メルカプト−
1,3,3a。Examples of development inhibitors include compounds having a mercapto group bonded to the petero ring, such as substituted or unsubstituted mercaptoazoles (specifically, 1-phenyl-5-mercaptotetrazole, 1-(4-carboxyphenyl)-
5-mercaptotetrazole, 1-(3-hydroxyphenyl)-5-mercaptotetrazole, 1-(3-sulfophenyl)5-mercapttetrazole, 1-(
4-sulfamoylphenyl)-5-mercaptotetrazole, 1-(3-hexanoylaminophenyl)-5
-mercaptotetrazole, 1-ethyl-5-mercaptotetrazole, 1-(2-carboxyethyl)-5-
Mercaptotetrazole, 2-methylthio-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole, 2-(2-carboxyethylthio)-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole, 3-methyl-4-phenyl-5 -mercap)--1,2,4-triazole, 2-(2-dimethylaminoethylthio)-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole, 1-(4-n-hexylcarbamoylphenyl)-2- Mercaptoimidazole, 3-acetylamino-4-methyl-5-mercapto-1,2,4-triazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-
Mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercapto-6-nitro-1,3-benzoxazole, 1-(1-naphthyl)-5-mercaptotetrazole, 2-phenyl-5-mercapto-1
, 3,4-oxadiazole, 1-(-3-(3-methylureido)phenyl)-5-mercaptotetrazole, 1-(4-nitrophenyl)-5-mercaptotetrazole, 5-(2-ethylhexane) Noylamino)-2-
mercaptobenzimidazole, etc.), substituted or unsubstituted mercaptoazaindenes (specifically, 6-methyl-4-mercapto-1,3゜3a, 7-titrazaindene, 6-methyl-2-benzyl-4-mercapto) −
1, 3, 3a.
7−チトラザインデン、6−フェニル−4−メルカプト
デトラザインデン、4.6−シメチルー2−メルカプト
−1,3,3a、?−テトラザインデンなど)、置換あ
るいは非置換のメルカプトピリミジン類(具体的には、
2−メルカブトピリミジン、2−メルカプト−4−メチ
ル−6−ヒドロキシピリミジン、2−メルカプト−4−
プロピルピリミジンなど)などがある。 イミノ銀生成
可能なペテロ化合物、例えば、置換あるいは非置換のベ
ンゾトリアゾール゛ 類(具体的には、ベンゾトリ
アゾール、5−ニトロベンゾトリアゾール、5−メチル
ベンゾトリアゾール、5.6−ジクロルベンゾトリアゾ
ール、5−ブロモベンゾトリアゾール、5−メトキシベ
ンゾトリアゾール、5−アセチルアミノベンゾトリアゾ
ール、5−n−ブチルベンゾトリアゾール、5−ニトロ
−6−クロルベンゾトリアゾール、5.6−シメチルベ
ンゾトリアゾール、4,5,6.7−チトラクロルベン
ゾトリアゾールなど)、置換あるいは非置換のインダゾ
ール類(具体的には、インダゾール、5−ニトロインダ
ゾール、3−ニトロインダゾール、3−クロル−5−ニ
トロインダゾール、3−シアノインダゾール、3−n−
ブチルカルバモイルインダゾール、5−ニトロ−3−メ
タンスルホニルインダゾールなど)、置換あるいは非置
換のベンツイミダゾール類、(具体的には、5−ニトロ
ペンツイミダゾール、4−ニトロペンツイミダゾール、
5,6−ジクロルベンツイミダゾール、5−シアノ−6
−クロルペンツイミダゾール、5−トルフルオルメチル
−6−クロルペンツイミダゾール、ハロゲン原子(Br
、1)など)などがあげられる。 また現像抑制剤は、
現像処理工程において酸化還元反応に続く反応により、
一般式(I)の酸化還元母核から放出された後、現像抑
制性を有する化合物となり、さらにそれが、実質的に現
像抑制性を有しないか、あるいは著しく減少した化合物
に変化するものでっても良い。7-chitrazaindene, 6-phenyl-4-mercaptodetrazaindene, 4,6-cymethyl-2-mercapto-1,3,3a, ? -tetrazaindene, etc.), substituted or unsubstituted mercaptopyrimidines (specifically,
2-mercapto-pyrimidine, 2-mercapto-4-methyl-6-hydroxypyrimidine, 2-mercapto-4-
propylpyrimidine, etc.). Peter compounds capable of producing iminosilver, such as substituted or unsubstituted benzotriazoles (specifically, benzotriazole, 5-nitrobenzotriazole, 5-methylbenzotriazole, 5,6-dichlorobenzotriazole, -bromobenzotriazole, 5-methoxybenzotriazole, 5-acetylaminobenzotriazole, 5-n-butylbenzotriazole, 5-nitro-6-chlorobenzotriazole, 5,6-dimethylbenzotriazole, 4,5,6 .7-titrachlorbenzotriazole, etc.), substituted or unsubstituted indazoles (specifically, indazole, 5-nitroindazole, 3-nitroindazole, 3-chloro-5-nitroindazole, 3-cyanoindazole, 3-nitroindazole, etc.) -n-
butylcarbamoylindazole, 5-nitro-3-methanesulfonylindazole, etc.), substituted or unsubstituted benzimidazoles (specifically, 5-nitropenzimidazole, 4-nitropenzimidazole,
5,6-dichlorobenzimidazole, 5-cyano-6
-Chlorpenzimidazole, 5-trifluoromethyl-6-chlorpenzimidazole, halogen atom (Br
, 1), etc.). In addition, the development inhibitor is
Due to the reaction following the redox reaction in the development process,
After being released from the redox mother nucleus of the general formula (I), it becomes a compound that has development inhibiting properties, which then changes into a compound that has substantially no or significantly reduced development inhibiting properties. It's okay.
具体的には、1−(3−フェノキシカルボニルフェニル
)−5−メルカプトテトラゾール、1−(4−フェノキ
シカルボニルフェニル)−5−メルカプトテトラゾール
、1−(3−マレインイミドフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール、5−(フェノキシカルボニル)ベンゾ
トリアゾール、5−(p−シアノフェノキシカルボニル
)ベンゾトリアゾール、2−フェノキシカルボニルメチ
ルチオ−5−メルカプト−1,3,4−チアジアゾール
、5−ニトロ−3−フェノキシカルボニルイミダゾール
、5−フェノキシカルボニル−2−メルカプトベンツイ
ミダゾール、5− (2,3−ジクロルプロピルオキシ
カルボニル)ベンゾトリアゾール、5−ベンジルオキシ
カルボニルベンゾトリアゾール、5−(ブチルカルバモ
イルメトキシカルボニル)ベンゾトリアゾール、5−(
ブトキシカルボニルメトキシカルボニル)ベンゾトリア
ゾール、1−(4−ベンゾイルオキシフェニル)−5−
メルカプトテトラゾール、5−(2−メタンスルホニル
エトキシカルボニル)−2−メルカプトベンゾチアゾー
ル、1− (4−(2−クロルエトキシカルボニル)フ
ェニル)2−メルカプトイミダゾール、2− [3−(
チオフェン−2−イルカルボニル)プロピルフチオー5
−メルカプト−1,3,4−チアジアゾール、5−シン
ナモイルアミノベンゾトリアゾール、1−(3−ビニル
カルボニルフェニル)−5−メルカプトテトラゾール、
5−スクシンイミドメチルベンゾトリアゾール、2−(
4−スクシンイミドフェニル)−5−メルカプト−1゜
3.4−オキサジアゾール、3− (4−(ベンゾ−1
,2−イソチアゾール−3−オキシ−1,1−ジオキシ
−2−イル)フェニル)−5−メルカプト−4−メチル
−1,2,4−トリアゾール、6−フェノキシカルボニ
ル−2−メルカプトベンツオキサゾールなどがあげられ
る。 また現像抑制剤は沃素原子であってもよい。また
現像抑制剤は沃素原子であってもよい。Specifically, 1-(3-phenoxycarbonylphenyl)-5-mercaptotetrazole, 1-(4-phenoxycarbonylphenyl)-5-mercaptotetrazole, 1-(3-maleinimidophenyl)-5-mercaptotetrazole, 5-(phenoxycarbonyl)benzotriazole, 5-(p-cyanophenoxycarbonyl)benzotriazole, 2-phenoxycarbonylmethylthio-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole, 5-nitro-3-phenoxycarbonylimidazole, 5 -Phenoxycarbonyl-2-mercaptobenzimidazole, 5-(2,3-dichloropropyloxycarbonyl)benzotriazole, 5-benzyloxycarbonylbenzotriazole, 5-(butylcarbamoylmethoxycarbonyl)benzotriazole, 5-(
butoxycarbonylmethoxycarbonyl)benzotriazole, 1-(4-benzoyloxyphenyl)-5-
Mercaptotetrazole, 5-(2-methanesulfonylethoxycarbonyl)-2-mercaptobenzothiazole, 1-(4-(2-chloroethoxycarbonyl)phenyl)2-mercaptoimidazole, 2-[3-(
Thiophen-2-ylcarbonyl)propylphothio5
-Mercapto-1,3,4-thiadiazole, 5-cinnamoylaminobenzotriazole, 1-(3-vinylcarbonylphenyl)-5-mercaptotetrazole,
5-succinimidomethylbenzotriazole, 2-(
4-succinimidophenyl)-5-mercapto-1゜3.4-oxadiazole, 3-(4-(benzo-1
, 2-isothiazole-3-oxy-1,1-dioxy-2-yl)phenyl)-5-mercapto-4-methyl-1,2,4-triazole, 6-phenoxycarbonyl-2-mercaptobenzoxazole, etc. can be given. Further, the development inhibitor may be an iodine atom. Further, the development inhibitor may be an iodine atom.
PUGがハロゲン化銀溶剤である場合の例としては、特
開昭60−163042号、米国特許第4,003,9
10号、同第4,378゜424号などに記載されたメ
ソイオン化合物、特開昭57−20253号等に記載さ
れたアミノ基を置換基として有するメルカプトアゾール
類もしくはアゾールチオン類などがあり、より具体的に
は特願昭60−71768号に記載されているものを挙
げることができる。 PUGが造核剤である場合の例
としては特開昭59−170840号に記載のあるカプ
ラーより放出される離脱基の部分が挙げられる。Examples of the case where PUG is a silver halide solvent include JP-A-60-163042 and U.S. Pat. No. 4,003,9.
10, 4,378゜424, etc., mercaptoazoles or azolethiones having an amino group as a substituent described in JP-A-57-20253, etc., and more. Specifically, those described in Japanese Patent Application No. 1988-71768 can be mentioned. An example of a case where PUG is a nucleating agent is the part of the leaving group released from the coupler described in JP-A-59-170840.
PIGが色素である場合、色素としてはアゾ色素、アゾ
メチン色素、インドアニリン系色素、インドフェノール
系色素、アントラキノン系色素、トリアリールメタン系
色素、アリザリン、ニトロ系色素、キノリン系色素、イ
ンジゴ系色素、フタロシアニン系色素などが挙げられる
。 またそれらのロイコ体や、一時的に吸収波長がシフ
トされたもの、さらに色素プレカーサーが挙げられる。When PIG is a dye, the dye includes azo dye, azomethine dye, indoaniline dye, indophenol dye, anthraquinone dye, triarylmethane dye, alizarin, nitro dye, quinoline dye, indigo dye, Examples include phthalocyanine dyes. Also included are their leuco forms, those with temporarily shifted absorption wavelengths, and dye precursors.
さらにキレート化可能な色素が挙げられる。Further examples include dyes that can be chelated.
上記の色素類は例えば以下の文献に記載されているもの
である。The above dyes are described, for example, in the following documents.
米国特許第3,880,658号、同第3゜931.1
44号、同第3,932,380号、同第3,932,
381号、同第3,942.987号、ジェイ・ファビ
アン、エッチ・ハルトマン(J、Fabian、11.
lIartmann)著、“ライト・アブソープション
・オブ・オーガニック・カラランツ″(Light A
bsorption of OrganicColor
anLs)、(シュプリンガー・フェルラーク(Spr
inger−Verlag)刊)に記載されているもの
(もしくは耐拡散化された類縁体)のうちから選ぶこと
ができるが、これらに限定されるものではない。U.S. Patent No. 3,880,658, U.S. Patent No. 3°931.1
No. 44, No. 3,932,380, No. 3,932,
No. 381, No. 3,942.987, J. Fabian, H. Hartmann (J, Fabian, 11.
“Light Absorption of Organic Colorants” (Light A
bsorption of OrganicColor
anLs), (Springer Verlag (Spr
(or diffusion-resistant analogues), but are not limited to these.
PUGが色素であるときその色素は助色団が開裂可能な
基によりブロックされ一時的に短波化されているもので
あってもよい。 すなわち、一般式 (I)の化合物が
還元剤と反応し、一連の反応を経てPUGを開裂したと
き、復色しもとの色素を生成する場合が好ましい例であ
る。 一時的な短波化は、たとえばアゾ色素の場合、助
色団である水酸基、メルカプト基もしくはアミノ基をブ
ロックすることにより行なわれる。 ブロック基により
短波化される色素の例は、例えば米国特許第4,234
,672号、同第4,310,612号、同第3.57
9.334号、同第3,999.991号、同第3,9
94,731号、または同第3.23o、oas号に記
載の化合物が挙げられる。When PUG is a dye, the dye may have an auxochrome blocked by a cleavable group to temporarily shorten the wavelength. That is, a preferred example is a case where when the compound of general formula (I) reacts with a reducing agent and cleaves PUG through a series of reactions, the original dye is produced. For example, in the case of azo dyes, temporary shortening of the wavelength is achieved by blocking auxochromes such as hydroxyl groups, mercapto groups, or amino groups. Examples of dyes shortened by blocking groups include, for example, U.S. Pat. No. 4,234
, No. 672, No. 4,310,612, No. 3.57
No. 9.334, No. 3,999.991, No. 3,9
No. 94,731 or No. 3.23O, OAS.
本発明の一般式(I)のPIGのその他の例については
米国特許第4,248,962号、特開昭61−230
135号の記載を参考にできる。Other examples of PIG of general formula (I) of the present invention are disclosed in U.S. Pat.
You can refer to the description in No. 135.
次に一般式 (I)で表わされる化合物の具体的例を示
すが、これらに限定されるわけではない。Next, specific examples of the compound represented by the general formula (I) will be shown, but the invention is not limited thereto.
C10)1:n
し1111’137
(CH2)20CH3
:C:C
の り
工
! b
0 n=
と)
B ♂
p
呂
♂ Ell
工
ζシ ==
グ1c1
S:e
−l エ
本発明の化合物の合成法は、特願昭61−88625号
、同61−87721号、同62−34954号、同6
2−34953号に記述されている。C10) 1:n 1111'137 (CH2)20CH3 :C:C glue work! b 0 n= and) B ♂ p ro ♂ Ell 工ζshi == gu1c1 S:e -l d The method for synthesizing the compound of the present invention is described in Japanese Patent Application No. 61-88625, No. 61-87721, No. 62 -34954 No. 6
No. 2-34953.
本発明において用いられる一般式(I)で表わされる化
合物は乳剤層もしくはそれらに隣接し感光性乳剤を含有
しない中間層などに用いることができる。The compound represented by the general formula (I) used in the present invention can be used in an emulsion layer or an intermediate layer adjacent thereto which does not contain a photosensitive emulsion.
上記感色性乳剤層が異なる感度を有するふたつ以、上の
同−感色性層から成る場合には、高感度層、中間感度層
、低感度層などいずれの層に添加することも可能である
。When the color-sensitive emulsion layer is composed of two or more same color-sensitive layers having different sensitivities, it can be added to any layer such as the high-speed layer, intermediate-speed layer, or low-speed layer. be.
一般式(I)であられされる化合物の添加量は1 x
10−7〜1 x 10−’n+ol/rn”が好まし
く、特に1 x 10−6〜1 x 10−’mol/
m’が好ましい。 但しPUGの種類によって一般式(
I)で表わされる化合物の好ましい添加量は異なる。
例えばPUGが色素や配位子である場合にはI X 1
()−”−I X 10−’mol/rn”%PUG
が現像抑制剤である場合にはハロゲン化銀1モル当り1
x 10−7〜1 x 10−’mol 、特に好ま
しくはtxto−i〜lXl0−6〜5X10−2の範
囲で使用することが好ましい。 またPUGが現像促進
剤または造核剤の場合には上記現像抑制剤と同様の添加
量が好ましい。 PUGがハロゲン化銀溶剤である場合
にはハロゲン化銀1モル当りI X 10 ’〜I X
10−3molの範囲で使用することが好ましく、特
に好ましくは1x10−4〜1X10モルの範囲である
。The amount of the compound represented by general formula (I) added is 1 x
10-7 to 1 x 10-'n+ol/rn" is preferred, particularly 1 x 10-6 to 1 x 10-'mol/rn"
m' is preferred. However, depending on the type of PUG, the general formula (
The preferred amount of the compound represented by I) varies.
For example, if PUG is a dye or a ligand, I
()-"-I X 10-'mol/rn"%PUG
1 per mole of silver halide when is a development inhibitor.
It is preferable to use it in the range of x 10-7 to 1 x 10-'mol, particularly preferably txto-i to 1X10-6 to 5X10-2. Further, when PUG is a development accelerator or a nucleating agent, the amount added is preferably the same as that of the above-mentioned development inhibitor. When PUG is a silver halide solvent, IX 10' to IX per mole of silver halide.
It is preferably used in a range of 10-3 mol, particularly preferably in a range of 1x10-4 to 1x10 mol.
本発明において一般式(I)で表わされる化合物は、還
元性物質から電子を受けとることによって写真的に有用
な基もしくはその前駆体を放出する。 従って、還元性
物質を一様に与えれば一様に写真的に有用な基もしくは
その+ii’r駆体が放出されるし、還元剤をハロゲン
化銀の現像に応じて酸化体に変えれば、非現像部で放出
がおこる。In the present invention, the compound represented by the general formula (I) releases a photographically useful group or its precursor by accepting electrons from a reducing substance. Therefore, if a reducing substance is applied uniformly, a photographically useful group or its +ii'r precursor will be uniformly released, and if the reducing agent is changed to an oxidized form in response to development of silver halide, Release occurs in the non-developed area.
本発明において用いられる還元性物質は無機化合物ある
いは有機化合物であっても良いがその酸化電位は銀イオ
ン/銀の標準酸化還元電位0.80Vより低いものが好
ましい。The reducing substance used in the present invention may be an inorganic compound or an organic compound, but its oxidation potential is preferably lower than the standard oxidation-reduction potential of silver ion/silver, 0.80V.
本発明において還元性物質として使用し得る化合物の例
としては亜硫酸ナトリウムや亜硫酸水素ナトリウム等の
無機の還元剤、ベンゼンスルフィン酸類、ヒドロキシル
アミン類、ヒドラジン類、ヒドラジド類、ヒドロキサム
酸類、セミカルバジド類、アミノ酸類、各種アミン類、
ボラン・アミン錯体、ハイドロキノン類、アミノフェノ
ール類、カテコール類、P−フェニレンジアミン類、3
−ピラゾリジノン類、ヒドロキシテトロン酸、アスコル
ビン酸、4−アミノ−5−ピラゾロン類等が挙げられる
他、ティー・エイチ・ジェームズ(T、 If、 Ja
mes)の著書「ザ セオリー オブ ザ フォトグラ
フィック プロセスJ (The Theory of
thePhotographic Process
)第4版291〜334ページに記載の還元剤も利用で
きる。 また、特開昭56−138,736号、同57
−40.245号、米国特許第4,330,617号等
に記載されている還元剤プレカーサーも利用できる。Examples of compounds that can be used as reducing substances in the present invention include inorganic reducing agents such as sodium sulfite and sodium bisulfite, benzenesulfinic acids, hydroxylamines, hydrazines, hydrazides, hydroxamic acids, semicarbazides, and amino acids. , various amines,
Borane-amine complexes, hydroquinones, aminophenols, catechols, P-phenylenediamines, 3
In addition to pyrazolidinones, hydroxytetronic acid, ascorbic acid, 4-amino-5-pyrazolones, etc., T.H. James (T, If, Ja
mes)'s book ``The Theory of the Photographic Process J''.
thePhotographic Process
) 4th edition pages 291-334 can also be used. Also, JP-A-56-138,736, JP-A-56-138,736;
Reducing agent precursors described in US Pat. No. 4,330,617 and the like can also be used.
還元性物質は現像液に加えてもよいし、感光材料に内蔵
させてもよいし、またその両方に添加してもよい。The reducing substance may be added to the developer, incorporated into the photosensitive material, or added to both.
本発明の一般式(1)の化合物は、還元性物質から電子
を受けることによって写真的に有用な基もしくはその前
駆体を放出する。 従って還元性物質が画像状に酸化さ
れれば残った逆画像状の還元性物質が利用される。The compound of general formula (1) of the present invention releases a photographically useful group or its precursor by receiving electrons from a reducing substance. Therefore, if a reducing substance is oxidized in an imagewise manner, the remaining reducing substance in an inverse imagewise manner is utilized.
本発明において用いられる還元性物質は、無機化合物あ
るいは有機化合物のいずれでもよく、その酸化電位は銀
イオン/銀の標準酸化還元電位o、aovより低いもの
が好ましい。The reducing substance used in the present invention may be either an inorganic compound or an organic compound, and its oxidation potential is preferably lower than the standard oxidation-reduction potential o, aov of silver ions/silver.
無機化合物においては酸化電位0.8v以下の金属、例
えばMn、Ti、Si、2n。Among inorganic compounds, metals with an oxidation potential of 0.8v or less, such as Mn, Ti, Si, and 2n.
Cr%F、e、 Co%Mo、 Sn%Pb、凱H2、
Sb、Cu、またはHgなどが挙げられる。 また、酸
化電位0.8v以下のイオンあるいはその錯化合物、例
えばC「2+、v2÷、Cu◆、Fe2÷、Mn042
−1I−1(:o(CN)6’−、Fe(CN)6’−
、または(Fe−EDTA) 2−などが挙げられる。Cr%F, e, Co%Mo, Sn%Pb, KaiH2,
Examples include Sb, Cu, and Hg. In addition, ions with an oxidation potential of 0.8V or less or complex compounds thereof, such as C'2+, v2÷, Cu◆, Fe2÷, Mn042
-1I-1(:o(CN)6'-, Fe(CN)6'-
, or (Fe-EDTA) 2-.
さらに、酸化電位0.8V以下の金属水素化物、例え
ばNaHlL i H,KH,Na旧l、 、Li
B)I、 、LiA l (0LC4119) 31
1、 LiAR,(OC113)38などが挙げられる
。 また、酸化電位0.8v以下のイオウあるいはリン
化合物、例えばNa2503 。Furthermore, metal hydrides with an oxidation potential of 0.8 V or less, such as NaHlLiH, KH, NaCl, Li
B) I, , LiAl (0LC4119) 31
1, LiAR, (OC113)38, etc. Also, sulfur or phosphorus compounds with an oxidation potential of 0.8V or less, such as Na2503.
NaHS% Na1lSO3、H3P、H251Na2
S、Na2 S2などが挙げられる。NaHS% Na1lSO3, H3P, H251Na2
Examples include S, Na2 S2, and the like.
有機化合物の還元性物質としては、脂肪族アミンもしく
は芳香族アミンのような有機窒素化合物、脂肪族チオ゛
−ルもしくは芳香族チオールのような有機イオウ化合物
または脂肪族ホスフィンもしくは芳香族ホスフィンのよ
うな有機リン化合物も適しているが、好ましくはKen
dal−Pelz式(ティー・エイチ・ジェームズ(T
。Reducing substances for organic compounds include organic nitrogen compounds such as aliphatic amines or aromatic amines, organic sulfur compounds such as aliphatic thiols or aromatic thiols, or aliphatic phosphines or aromatic phosphines. Organophosphorus compounds are also suitable, but preferably Ken
dal-Pelz style (T.H. James)
.
If、 James)著、ザ・セオリー・オブ・ザ・フ
ォトグラフィック・プロセス(The theory
ofthe photographic proces
s) 4 th、 cd−299ページ)に従う化合物
が挙げられる。If, James) The Theory of the Photographic Process
of the photographic processes
s) 4th, cd-299 page).
本発明において還元性物質として使用し得る化合物の他
の例としては亜硫酸ナトリウムや亜硫酸水素ナトリウム
等の無機の還元剤、ベンゼンスルフィン酸類、ヒドロキ
シルアミン類、ヒドラジン類、ヒドラジド類、ボラン・
アミン錯体、ハイドロキノン類、アミノフェノール類、
カテコール類、p−フェニレンジアミン類、3−ピラゾ
リジノン類、とドロキシテトロン類、アスコルビン酸、
4−アミノ−5−ピラゾロン類等が挙げられる他、前記
ティー・エイチ・ジェームズ (T、 Il、 JaI
les)の著書291〜334ページに記載の還元剤や
、前記特開昭56−138,736号、同57−40,
245号、米国特許第4,330,617号等に記載さ
れている還元剤プレカーサーも利用できる。Other examples of compounds that can be used as reducing substances in the present invention include inorganic reducing agents such as sodium sulfite and sodium bisulfite, benzenesulfinic acids, hydroxylamines, hydrazines, hydrazides, borane,
Amine complexes, hydroquinones, aminophenols,
Catechols, p-phenylenediamines, 3-pyrazolidinones, droxytetrones, ascorbic acid,
In addition to 4-amino-5-pyrazolones, etc., the above-mentioned T.H. James (T, Il, JaI)
les), the reducing agents described in pages 291 to 334 of his book, and the aforementioned JP-A-56-138,736, JP-A-57-40,
Reducing agent precursors described in US Pat. No. 245, US Pat. No. 4,330,617, and the like can also be used.
より好ましい還元性物質の例としては以下のものが挙げ
られる。Examples of more preferable reducing substances include the following.
3−ピラゾリドン類およびそのプレカーサー(例えば1
−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,4
−ジメチル−3−ピラゾリドン、4−ヒドロキシメチル
−4−メチル−1−フェニル−3−ピラゾリドン、l−
m−トリル−3−ピラゾリドン、1−p−トリル−3−
ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−3−ピラゾ
リドン、1−フェニル−5−メチル−3−ピラゾリドン
、1−フェニル−4,4−ビス−(ヒドロキシメチル)
−3−ピラゾリドン、1.4−ジ−メチル−空−ピラゾ
リドン、4−メチル−3−ピラゾリドン、4.4−ジメ
チル−3−ピラゾリドン、1−(3−クロロフェニル)
−4−メチル−3−ピラゾリドン。3-pyrazolidones and their precursors (e.g. 1
-Phenyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4,4
-dimethyl-3-pyrazolidone, 4-hydroxymethyl-4-methyl-1-phenyl-3-pyrazolidone, l-
m-tolyl-3-pyrazolidone, 1-p-tolyl-3-
Pyrazolidone, 1-phenyl-4-methyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-5-methyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4,4-bis-(hydroxymethyl)
-3-pyrazolidone, 1,4-di-methyl-empty-pyrazolidone, 4-methyl-3-pyrazolidone, 4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, 1-(3-chlorophenyl)
-4-Methyl-3-pyrazolidone.
1−(4−クロロフェニル)−4−メチル−3−ピラゾ
リドン、1−(4−トリル)−4−メチル−3−ピラゾ
リドン、1−(2−トリル)−4−メチノv−3−ピラ
ゾリドン、1−(4−トリル)−3−ピラゾリドン、1
−’(3−トリル)−3−ピラゾリドン、1−(3−ト
リル)−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、!−(
2−トリフルオロエチル)−4,4−ジメチル−3−ピ
ラゾリドン、5−メチル−3−ピラゾリドン、1.5−
ジフェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メ
チル−4−ステアロイルオキシメチル−3−ピラゾリド
ン、1−フェニル−4−メチル−4−ラウロイルオキシ
メチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル4゜4−ビス
−(ラウロイルオキシメチル)−3−ピラゾリドン、1
−フェニル−2−アセチル−3−ピラゾリドン、1−フ
ェニル−3−アセトキシピラゾリドン)、
ハイドロキノン類およびそのプレカーサー(例えばハイ
ドロキノン、トルハイドロキノン、2.6−シメチルハ
イドロキノン、t−ブチルハイドロキノン、2.5−ジ
−t−ブチルハイドロキノン、t−オクチルハイドロキ
ノン、2.5−ジ−t−オクチルハイドロキノン、ペン
タデシルハイドロキノン、5−ペンタデシルハイドロキ
ノン−2−スルホン酸ナトリウム、p゛−ベンゾイルオ
キシフェノール、2−メチル−4−ベンゾイルオキシフ
ェノール、2−1−ブチル−4−(4−クロロベンゾイ
ルオキシ)フェノール〕
ハイドロキノン 2スルホン酸ナトリウム、2− (3
,5−ビス(2−へキシルデカンアミド)ベンズアミド
)ハイドロキノン、2−(3−ヒキサデカンアミド)ベ
ンズアミドハイドロキノン、2−(2−へキシルデカン
アミド)ハイドロキノン]、
パラフェニレンジアミン類のカラー現像薬1例、えば4
−アミノ−N、N−ジエチルアニリン、3−メチル−4
−アミノ−N、N−ジエチルアニリン、4−・アミノ−
N−Jエチル−N−β−ヒドロキシエチルアニリン、3
−メチル−4−アミノ−N−エチル−N−β−ヒドロキ
シエチルアニリン、3−メチル−4−アミノ−N−エチ
ル−N−β−ブトキシエチルアニリン、3−メチル−4
−アミノ−N−エチル−N−β−メタンスルホンアミド
エチルアニリン、4−アミノ−3−メチル−N−エチル
−N−β−メトキシエチルアニリン]
アミノフェノール類の還元剤としては、4−アミノ−2
,6,ジクロロフェノール、4−アミノ−2,6−ジブ
ロモフェノール、4−アミノ−2−メチルフェノールサ
ルフェート、4−アミノ−3−メチルフェノールサルフ
ェート、4−アミノ−2,6−ジクロロフエノールハイ
ドロクロライドなどがある。 さらにリサーチディスク
ロージャー誌151号、動、1510日、米国特許第4
,021,240号には、2.6−ジクロロ−4−置換
スルホンアミドフェノール、2.6−ジプロモーーー置
換スルホンアミドフェノール、特開昭59−11674
0号にはp−(N、N−ジアルキルアミノフェニル)ス
ルファミンなどが記載され、有用である。 上記のフェ
ノール系還元剤に加え、ナフトール系還元剤、たとえば
、4−アミノ−ナフトール誘導体および4−置換スルホ
ンアミドナフトール誘導体も有用である。 さらに、適
用しつる一般的なカラー現像薬としては、米国特許第2
,895,825号記載のアミノヒドロキシピラゾール
誘導体が、米国特許第2゜892.714号記載のアミ
ノピラゾリン話導体が、またリサーチディスクロージャ
ー誌1980年6月号227〜230.236〜240
ページ(RD−19412、RD−19415)には、
とドラシン誘導体が記載されている。 これらのカラー
現像薬は、単独で用いても、2種類以上組合せて用いて
もよい。1-(4-chlorophenyl)-4-methyl-3-pyrazolidone, 1-(4-tolyl)-4-methyl-3-pyrazolidone, 1-(2-tolyl)-4-methinov-3-pyrazolidone, 1 -(4-tolyl)-3-pyrazolidone, 1
-'(3-tolyl)-3-pyrazolidone, 1-(3-tolyl)-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone,! −(
2-trifluoroethyl)-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, 5-methyl-3-pyrazolidone, 1.5-
Diphenyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4-methyl-4-stearoyloxymethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4-methyl-4-lauroyloxymethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl 4゜4-bis -(lauroyloxymethyl)-3-pyrazolidone, 1
-phenyl-2-acetyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-3-acetoxypyrazolidone), hydroquinones and their precursors (e.g. hydroquinone, toluhydroquinone, 2,6-dimethylhydroquinone, t-butylhydroquinone, 2. 5-di-t-butylhydroquinone, t-octylhydroquinone, 2.5-di-t-octylhydroquinone, pentadecylhydroquinone, 5-pentadecylhydroquinone-2-sodium sulfonate, p-benzoyloxyphenol, 2- Methyl-4-benzoyloxyphenol, 2-1-butyl-4-(4-chlorobenzoyloxy)phenol] Hydroquinone Sodium disulfonate, 2-(3
, 5-bis(2-hexyldecanamide)benzamide)hydroquinone, 2-(3-hexadecanamide)benzamidehydroquinone, 2-(2-hexyldecanamide)hydroquinone], paraphenylenediamines color developer 1 example, for example 4
-amino-N,N-diethylaniline, 3-methyl-4
-amino-N, N-diethylaniline, 4-・amino-
N-J ethyl-N-β-hydroxyethylaniline, 3
-Methyl-4-amino-N-ethyl-N-β-hydroxyethylaniline, 3-methyl-4-amino-N-ethyl-N-β-butoxyethylaniline, 3-methyl-4
-amino-N-ethyl-N-β-methanesulfonamidoethylaniline, 4-amino-3-methyl-N-ethyl-N-β-methoxyethylaniline] As a reducing agent for aminophenols, 4-amino- 2
, 6, dichlorophenol, 4-amino-2,6-dibromophenol, 4-amino-2-methylphenol sulfate, 4-amino-3-methylphenol sulfate, 4-amino-2,6-dichlorophenol hydrochloride, etc. There is. Furthermore, Research Disclosure Magazine No. 151, Mo., 1510, U.S. Patent No.
, 021,240, 2,6-dichloro-4-substituted sulfonamidophenol, 2,6-dipromo-substituted sulfonamidophenol, JP-A-59-11674
No. 0 describes p-(N,N-dialkylaminophenyl)sulfamine and the like, which are useful. In addition to the phenolic reducing agents described above, naphthol reducing agents such as 4-amino-naphthol derivatives and 4-substituted sulfonamide naphthol derivatives are also useful. Furthermore, as a general color developer that can be applied, U.S. Pat.
, 895,825, the aminopyrazoline conductors described in U.S. Pat.
On the page (RD-19412, RD-19415),
and dracin derivatives have been described. These color developers may be used alone or in combination of two or more.
本発明の実施に関して、本発明の化合物のハロゲン化銀
写真感光材料においての機能について説明する。Regarding the implementation of the present invention, the functions of the compounds of the present invention in silver halide photographic materials will be explained.
本発明の化合物は後述する添加方法によってハロゲン化
銀写真感光材料中に含有させられ以下の式(1)に示し
た矢印で表わされる電子の移動経路で還元され、写真的
に有用な基を放出する。The compound of the present invention is incorporated into a silver halide photographic light-sensitive material by the addition method described below, and is reduced along the electron transfer path represented by the arrow shown in formula (1) below, releasing a photographically useful group. do.
式(1)
本発明の化合物
写真的に有用な基
+
壽兜毘雰f4稿物0
式(1)において、還元性物質(−RE )は前述した
無機あるいは有機還元性物質であり外部から処理液中に
含有させて作用させても良いし、あらかじめ感材中に含
有させて作用させても、あるいは感材中にあらかじめ含
有させた上で処理液中から同種あるいは別種の還元性物
質(RE)を作用させても良い。Formula (1) Compound of the present invention Photographically useful group It may be contained in the processing liquid and acted upon, or it may be contained in the sensitive material in advance and acted upon, or it may be contained in the sensitive material in advance and the same or different reducing substance (RE) may be added from the processing liquid. ) may be used.
この還元性物質(RE)は通常使用されるネガ型のハロ
ゲン化銀乳剤を使用した場合には露光の度合に応じてハ
ロゲン化銀の還元に使用され消費されるので、本発明の
化合物との反応には露光の度合に逆対応した量、即ち、
供給される還元性物質(RE)のうちハロゲン化銀の還
元に使用されずに残った量だけ使用される。This reducing substance (RE) is used to reduce silver halide and is consumed depending on the degree of exposure when a commonly used negative silver halide emulsion is used. The reaction requires an amount that corresponds inversely to the degree of exposure, i.e.
Of the supplied reducing substance (RE), only the remaining amount that is not used for reducing silver halide is used.
従って、写真的に有用な基は露光が少ない部分程多量に
放出される。 また、オートポジ乳剤を使用した場合に
はネガ型乳剤とは逆にハロゲン化銀の還元は未露光側で
起こるので還元性物質は未露光側で消費される。 従っ
て本発明の化合物と還元性物質の反応は露光の多い部分
程多量におこり、写真的に有用な基も多量に放出される
。Therefore, photographically useful groups are released in larger quantities in areas that are less exposed. Furthermore, when an autopositive emulsion is used, the reduction of silver halide occurs on the unexposed side, contrary to the case of a negative emulsion, so that reducing substances are consumed on the unexposed side. Therefore, the reaction between the compound of the present invention and the reducing substance occurs in a larger amount in the exposed area, and a larger amount of photographically useful groups is released.
本発明の化合物は以上のように現像部(ハロゲン化銀と
還元性物質が反応する部分)では少量の、非現像部では
多量の写真的に有用な基を放出するが、現像部と非現像
部の写真的有用基の放出量の比を調m(通常はこの比を
向上させるために)する等の目的で下式(2)で表わさ
れる電子伝達剤(ETA)と呼ばれる還元性物質を併用
することが好ましい。As described above, the compound of the present invention releases a small amount of photographically useful groups in the developing area (the area where silver halide and a reducing substance react) and a large amount in the non-developing area; A reducing substance called an electron transfer agent (ETA) represented by the following formula (2) is used for the purpose of adjusting the ratio of the emitted amount of photographically useful groups (usually to improve this ratio). It is preferable to use them together.
式(2)
式(2)において電子伝達剤(ETA)は面述した還元
性物質の中から選ぶことが出来、好ましくは有機還元剤
の中から−選ばれる。 また電子伝達剤(ETA)がよ
り好ましい作用を有するためには酸化還元電位が還元性
物質(RE)とハロゲン化銀の中間に位置することが望
ましい。Formula (2) In formula (2), the electron transfer agent (ETA) can be selected from the above-mentioned reducing substances, and is preferably selected from organic reducing agents. Further, in order for the electron transfer agent (ETA) to have a more favorable effect, it is desirable that the redox potential is located between that of the reducing substance (RE) and the silver halide.
電子伝達剤(ETA)と還元性物質(RE)を作用させ
る方法については式(1)で還元性物質(RE)につい
て説明した方法と同じである。The method for causing the electron transfer agent (ETA) to interact with the reducing substance (RE) is the same as the method described for the reducing substance (RE) in formula (1).
式(2)においては還元性物質からハロゲン化銀への電
子の移動を電子伝達剤が媒介している他は式(1)で説
明した写真的に有用な基の放出過程に関しては同じであ
る。 式(2) において、還元性物質が不動性であ
る場合、還元性物質からハロゲン化銀への電子移動が遅
くなる場合がある。 式(!)から理解されるように還
元性物質からハロゲン化銀への電子移動が遅くなると還
元性物質と本発明の化合物の反応の方が優先しておこる
ために、現像部と非現像部での写真的に有用な基の放出
量の差が小さくなる。In formula (2), the electron transfer agent mediates the transfer of electrons from the reducing substance to silver halide, but the process of releasing the photographically useful group described in formula (1) is the same. . In formula (2), when the reducing substance is immobile, electron transfer from the reducing substance to the silver halide may be slowed down. As can be understood from the formula (!), when the electron transfer from the reducing substance to the silver halide is slowed down, the reaction between the reducing substance and the compound of the present invention occurs preferentially, so the developing area and the non-developing area are separated. The difference in the amount of photographically useful groups released at .
電子伝達剤は不動性の還元性物質からハロゲン化銀への
電子移動を円滑に行なわせ、現像部と非現像部での写真
的に有用な基の放出量の差を大きくする目的で使用する
ことが出来る。The electron transfer agent is used to facilitate the transfer of electrons from the immobile reducing substance to the silver halide and to increase the difference in the amount of photographically useful groups released between the developed and non-developed areas. I can do it.
以上の目的のためには電子伝達剤は不動性の還元性物質
(RE)と併用した場合、還元性物質(RE)よりも移
動性が大きいことが必要である。 式(2)に示したよ
うに電子伝達剤を使用することにより不動性の還元性物
質を有効に使用することが出来る。For the above purpose, when the electron transfer agent is used in combination with an immobile reducing substance (RE), it is necessary that the electron transfer agent has greater mobility than the reducing substance (RE). By using an electron transfer agent as shown in formula (2), an immobile reducing substance can be effectively used.
ETAと組合せて用いる還元性物質としては前記還元剤
のうち感光材料の層中で実質的に移動しないものであれ
ばどのようなものでもよいが、特に好ましくはハイドロ
キノン類、アミノフェノール類、アミノナフトール類、
3−ピラゾリジノン類、サッカリン及びそれらのプレカ
ーサー、ピコリニウム類、特開昭53−110827号
に電子供与体として記載されている化合物などがあげら
れる。As the reducing substance used in combination with ETA, any reducing agent may be used as long as it does not substantially migrate in the layer of the photosensitive material, but hydroquinones, aminophenols, and aminonaphthols are particularly preferred. kind,
Examples include 3-pyrazolidinones, saccharin and their precursors, picoliniums, and compounds described as electron donors in JP-A-53-110827.
以下にその例を示す。An example is shown below.
S−2
S−35−4
S−5S−7
S−63−8
−tO
S−133−14
S−155−16
S−193−20
S−21
S−22S−23
S−245−26
すi
S−29’ 5−3O(i
)
C[)
S−38
S−395−4O
すしIG n’:n
―
S−465−47
S−493−50
S−523−53
しIGr’133
これらと組み合わせて使用するETAとしては、これら
とクロス酸化するものであればどのようなものでも使用
できるが、好ましくは各々拡散性の3−ピラゾリジノン
類、アミノフェノール類、フェニレンジアミン類、レダ
クトン類があげられる。S-2 S-35-4 S-5S-7 S-63-8 -tO S-133-14 S-155-16 S-193-20 S-21 S-22S-23 S-245-26 Sui S-29' 5-3O(i
) C[) S-38 S-395-4O Sushi IG n':n - S-465-47 S-493-50 S-523-53 IGr'133 ETA used in combination with these Any material can be used as long as it cross-oxidizes, but preferred are 3-pyrazolidinones, aminophenols, phenylenediamines, and reductones, each of which is diffusible.
其体例としては、下記の化合物をあげることができる。Examples of the compound include the following compounds.
3−ピラゾリジノン類、例えば1−フェニル−3−ピラ
ゾリジノン、4.4−ジメチル−1−フェニル−3−ピ
ラゾリジノン、4−ヒドロキシメチル−4−メチル−1
−フェニル−3−ピラゾリジノン、4−ヒドロキシメチ
ル−4−メチル−1−トリル−3−ピラゾリジノン、4
−ヒドロキシメチル−4−メチル−1−(4’−メトキ
シ)−3−ピラゾリジノン、4.4−ビス(ヒドロキシ
メチル)−11フェニル−3−ピラゾリジノン、4,4
−ビス(ヒドロキシメチル)−1−トリル−3−ピラゾ
リジノン、4.4−ビス(ヒドロキシメチル)−1−(
4′−メトキシ)−3−ピラゾリジノン、4.4−ジメ
チル−1−トリル−3−ピラゾリジノン、1.5−ジフ
ェニル−3−ピラゾリジノンなど;アミノフェノール類
、例えばp−アミノフェノール、P−メチルアミノフェ
ノール、p−ジメチルアミノフェノール、p−ジブチル
アミノフェノール、p−ピペリジノアミノフェノール、
4−ジメチルアミノ−2,6−シメトキシフエノールな
ど:フエニレンジアミン類、例えばN−メチル−p−フ
ェニレンジアミン、N、N−ジメチル−p−フェニレン
ジアミン、N、N−ジエチル−p−フェニレンジアミン
、N、N、N’、N’−テトラメチル−P−フェニレン
ジアミン、4−ジエチルアミノ−2,6−シメトキシア
ニリンなど:レダクトン類例えばピペリジノヘキソース
レダクトン、ピロジノヘキソースレダクトンなど。3-pyrazolidinones, such as 1-phenyl-3-pyrazolidinone, 4,4-dimethyl-1-phenyl-3-pyrazolidinone, 4-hydroxymethyl-4-methyl-1
-Phenyl-3-pyrazolidinone, 4-hydroxymethyl-4-methyl-1-tolyl-3-pyrazolidinone, 4
-Hydroxymethyl-4-methyl-1-(4'-methoxy)-3-pyrazolidinone, 4,4-bis(hydroxymethyl)-11phenyl-3-pyrazolidinone, 4,4
-bis(hydroxymethyl)-1-tolyl-3-pyrazolidinone, 4.4-bis(hydroxymethyl)-1-(
4'-methoxy)-3-pyrazolidinone, 4,4-dimethyl-1-tolyl-3-pyrazolidinone, 1,5-diphenyl-3-pyrazolidinone, etc.; aminophenols, such as p-aminophenol, P-methylaminophenol , p-dimethylaminophenol, p-dibutylaminophenol, p-piperidinoaminophenol,
4-dimethylamino-2,6-simethoxyphenol, etc.: Phenylenediamines, such as N-methyl-p-phenylenediamine, N,N-dimethyl-p-phenylenediamine, N,N-diethyl-p-phenylenediamine , N, N, N', N'-tetramethyl-P-phenylenediamine, 4-diethylamino-2,6-simethoxyaniline, etc.: Reductones such as piperidinohexose reductone, pyrodinohexose reductone, etc. .
また、アルカリ条件下で加水分解し、上記のような化合
物を生成するプレカーサーを用いることもできる。It is also possible to use a precursor that is hydrolyzed under alkaline conditions to produce the above-mentioned compounds.
例えば、特開昭55−52055号、特公昭54−39
727号、特開昭57−135949号などに開示され
ている。For example, Japanese Patent Publication No. 55-52055, Japanese Patent Publication No. 54-39
No. 727, Japanese Unexamined Patent Publication No. 57-135949, etc.
コンベンショナルなハロゲン化銀感光材料に応用する場
合、前述した還元性物質または還元性物質とETAの組
合せを感光材料に作用させる方式としては、現像液の形
で現像時に感光材料へ供給させる方式と還元性物質を感
光材料に内蔵しETAを現像液の形で供給する方式が好
ましい。 前者の場合の好ましい使用量はトータル液中
濃度としてo、ooiモル/It〜1モル/Itであり
、内蔵の場合は本発明の化合物1モルに対し還元性物質
を0.5〜5モル、ETAを液中濃度として0.001
モル/2〜1モル/IL用いるのが好ましい。When applied to conventional silver halide photosensitive materials, there are two methods for applying the above-mentioned reducing substance or a combination of a reducing substance and ETA to the photosensitive material: supplying it to the photosensitive material during development in the form of a developer, and reducing It is preferable to incorporate the chemical substance into the photosensitive material and supply the ETA in the form of a developer. In the former case, the preferable usage amount is o, ooi mol/It to 1 mol/It as the total concentration in the liquid, and in the case of built-in, 0.5 to 5 mol of the reducing substance per 1 mol of the compound of the present invention. ETA as concentration in liquid 0.001
It is preferable to use mol/2 to 1 mol/IL.
本発明において感光材料の現像処理には通常の現像液を
用いることができる。In the present invention, a common developer can be used for developing the photosensitive material.
現像液にはハイドロキノン、ハイドロキノンモノスルホ
ネートなどのジヒドロキシベンゼン類、1−フェニル−
3−ピラゾリドンなどの3−ピラゾリドン類またはN−
メチル−p−アミノフェノールなどのアミノフェノール
類、3−メチル−4−アミノ−N、N−ジエチルアニリ
ンなとのp−フェニレンジアミン類など公知の現像薬を
単独であるいは組み合わせて用いることができる。 こ
れらの現像主薬はもちろん先に述べたPUG放出用還元
剤、それと共働するETA化合物を兼ねる性質のもので
ありうるが、また別の場合には前記還元剤やETA化合
物とは独立にハロゲン化銀現像主薬をして作用する場合
もある。 後者の例には、PUG放出の起らない条件で
第一現像を行なわせたのちPUG放出工程に入る反転処
理が挙げられる。The developer contains hydroquinone, dihydroxybenzenes such as hydroquinone monosulfonate, and 1-phenyl-
3-pyrazolidones such as 3-pyrazolidone or N-
Known developers such as aminophenols such as methyl-p-aminophenol and p-phenylenediamines such as 3-methyl-4-amino-N,N-diethylaniline can be used alone or in combination. These developing agents may, of course, have the properties of functioning as both the above-mentioned reducing agent for PUG release and the ETA compound that works together with the reducing agent, but in other cases, they can be halogenated independently of the reducing agent and the ETA compound. It may also act as a silver developing agent. An example of the latter is a reversal process in which a first development is performed under conditions that do not cause PUG release, and then a PUG release step is performed.
現像液は、アルカリ金属の炭酸塩、ホウ酸塩もしくはリ
ン酸塩のようなpH緩衝剤;臭化物、沃化物、ベンズイ
ミダゾール類、ベンゾチアゾール類もしくはメルカプト
化合物のような現像抑制剤またはカブリ防止剤;ヒドロ
キシルアミン、トリエタノールアミン、西独特許出願(
OLS)第2622950号に記載の化合物、亜硫酸塩
または重亜硫酸塩のような保恒剤ニジエチレングリコー
ルのような有機溶剤:ベンジルアルコール、ポリエチレ
ングリコール、四級アンモニウム塩、アミン類、チオシ
アン酸塩、3.6−チアオクタン−1,8−ジオールの
ような現像促進剤;色素形成カプラー:競争カプラー:
ナトリウムボロンハイドライドのような造核剤;1−フ
ェニル−3−ピラゾリドンのような補助現像薬;粘性付
与剤;エチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸、シク
ロヘキサンジアミン四酢酸、イミノニ酢酸、N−ヒドロ
キシメチルエチレンジアミン三酢酸、ジエチレントリア
ミン五酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸および、特
開昭58−195845号記載の化合物などに代表され
るアミノポリカルボン酸、l−ヒドロキシエチリデン−
1,1’ −ジホスホン酸、リサーチ・ディスクロージ
ャー18170 (1979年5月)記載の有機ホスホ
ン酸、アミノトリス(メチレンホスホン酸)、エチレン
ジアミン−N、N、N’ 、N’−テトラメチレンホス
ホン酸などのアミノホスホン酸、特開昭52−1027
26号、同53−42730号、同54−121127
号、同55−4024号、同55−4025号、同55
−126241号、同55−65955号、同55−6
5956号、およびリサーチ・ディスクロージャー18
170号(1979年5月)記載のホスホノカルボン酸
などのキレート剤を含有することができる。The developer contains pH buffering agents such as alkali metal carbonates, borates or phosphates; development inhibitors or antifoggants such as bromides, iodides, benzimidazoles, benzothiazoles or mercapto compounds; Hydroxylamine, triethanolamine, West German patent application (
OLS) No. 2622950, preservatives such as sulfites or bisulfites, organic solvents such as diethylene glycol: benzyl alcohol, polyethylene glycol, quaternary ammonium salts, amines, thiocyanates, 3. Development accelerator such as 6-thiaoctane-1,8-diol; Dye-forming coupler: Competing coupler:
Nucleating agents such as sodium boron hydride; auxiliary developers such as 1-phenyl-3-pyrazolidone; tackifiers; ethylenediaminetetraacetic acid, nitrilotriacetic acid, cyclohexanediaminetetraacetic acid, iminodiacetic acid, N-hydroxymethylethylenediaminetriacetic acid Acetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, and aminopolycarboxylic acids such as the compounds described in JP-A-58-195845, l-hydroxyethylidene-
1,1'-diphosphonic acid, organic phosphonic acids described in Research Disclosure 18170 (May 1979), aminotris (methylenephosphonic acid), ethylenediamine-N, N, N', N'-tetramethylene phosphonic acid, etc. Aminophosphonic acid, JP-A-52-1027
No. 26, No. 53-42730, No. 54-121127
No. 55-4024, No. 55-4025, No. 55
-126241, 55-65955, 55-6
No. 5956, and Research Disclosure 18
170 (May 1979), a chelating agent such as a phosphonocarboxylic acid can be contained.
現像主薬は、一般に現像液IILあたり約0.1g−約
30gの濃度、更に好ましくは、現像液inあたり約1
g−約15gの濃度で使用する。 また現像液のpHは
通常7以上であり、最も一般的には、約9〜約13で用
いられる。The developing agent is generally at a concentration of about 0.1 g to about 30 g per developer solution IIL, more preferably about 1 g per developer solution IIL.
g - used at a concentration of about 15 g. Further, the pH of the developer is usually 7 or more, and most commonly used at a pH of about 9 to about 13.
本発明によれば、現像液のpHを下げることが可能とな
る。According to the present invention, it is possible to lower the pH of the developer.
このため、pHを下げると溶解度が増加するタイプの現
像主薬の添加濃度を上げることが可能となり、処理液の
寿命が伸びることのほかに、現像補充液についても高濃
度・低補充化あるいは微少液量による使い捨て現像がは
かれる。For this reason, it is possible to increase the concentration of the type of developing agent whose solubility increases when the pH is lowered, which not only extends the life of the processing solution, but also increases the concentration of the developer replenisher, or reduces the amount of replenishment. Disposable development is measured depending on the amount.
溶解助剤として、すなわち現像液成分、とりわけ現像主
薬の溶解度を挙げるものとして有機溶剤類が挙げられる
。Organic solvents may be used as solubilizing agents, ie, those that improve the solubility of developer components, especially the developing agent.
この中にはエチレングリコール、ヘキシレングリコール
、ジエチレングリコール、メチルセロソルブ、メタノー
ル、エタノール、アセトン、トリエチレングリコール、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホオキサイド、そ
の他特公昭47−33378号、特公昭44−9509
号記載の化合物が含まれる。These include ethylene glycol, hexylene glycol, diethylene glycol, methyl cellosolve, methanol, ethanol, acetone, triethylene glycol,
Dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, etc. Special Publication No. 1983-33378, Special Publication No. 44-9509
This includes the compounds described in No.
その添加量は、液の成分組成に応じて広く変えられるが
、通常は使用液の50%以下、多くは10%以下である
。 しかし処理液を構成する溶剤としては、はぼ無水の
こともあり得る。The amount added can vary widely depending on the component composition of the liquid, but is usually 50% or less, often 10% or less of the liquid used. However, the solvent constituting the treatment liquid may be anhydrous.
塩類としては、NaN0.、KNO3、Na、SO2、
NaCIt、KCffi、ホウ砂、NaHCO3,KH
CO3、ホウ酸などを挙げることができる。As salts, NaN0. , KNO3, Na, SO2,
NaCIt, KCffi, borax, NaHCO3, KH
Examples include CO3 and boric acid.
本発明においては、現像液を使用する代りに現像主薬を
感光材料中に含ませてあき、処理のさいには、上述した
現像液から現像主薬を除外した組成の液を用いることも
ある。 一般的に、この種の液はアクチベーターと呼ば
れているが、本明細書においては、アクチベーターも含
めた広い意味で現像液という表現を用いることとする。In the present invention, instead of using a developer, a developing agent is included in the photosensitive material, and during processing, a solution having a composition other than the above-mentioned developer excluding the developing agent may be used. Generally, this type of liquid is called an activator, but in this specification, the expression "developer" is used in a broader sense to include activators.
いずれにしても本発明では、感光材料の塗布膜の最大膨
r4に必要な量をこえる(好ましくは1.2倍以上)水
の存在下で現像処理が行われる。In any case, in the present invention, the development process is performed in the presence of water in an amount exceeding (preferably 1.2 times or more) necessary for the maximum expansion r4 of the coating film of the photosensitive material.
現像工程に続く脱銀工程は既知の任意の漂白と定着、ま
たは漂白定着、あるいはそれらの組み合せ工程を通用で
きる。 酸化剤は、多価、金属の化合物(例えばフェリ
シアン化物)、過下酸類、キノン類、ニトロソ化合物;
重クロム酸塩;鉄(01)もしくはコバルト(III)
の有機錯塩(例えばエチレンジアミン四酢酸、ジエチレ
ントリアミン五酢酸、などのアミノポリカルボン酸類、
アミノポリホスホン酸、ホスホノカルパン酸および有機
ホスホン酸なとの錯塩);過硫酸塩:過酸化水素:過マ
ンガン酸塩などを用いることができ′る。 これらのう
ち鉄(m)の有機錯塩を形成するために有用なアミノポ
リカルボン酸もしくはアミノポリホスホン酸またはそれ
らの塩を列挙すると、エチレンジアミン四酢酸、
ジエチレントリアミン五酢酸、
エチレンジアミン−N−(β−オキシエチル)−N’
、N’ −三酢酸、
1.2−ジアミノプロパン四酢酸、
トリエチレンテトラミン六酢酸、
プロピレンジアミン四酢酸、
ニトリロ三酢酸、
ニトリロトリプロピオン酸、
シクロヘキサンジアミン四酢酸、
1.3−ジアミノ−2−プロパツール四酢酸、メチルイ
ミノジ酢酸、
イミノニ酢酸、
ヒドロキシルイミノニ酢酸、
ジヒドロキシエチルグリシンエチルエーテルジアミン四
酢酸、
グリコールエーテルジアミン四酢酸、
エチレンジアミン四プロピオン酸、
エチレンジアミンニブロビオン酸、
フェニレンジアミン四酢酸、
2−ホスホノブタン−1,2,4−三酢酸、1.3−ジ
アミノプロパノ−ルーN、N。The desilvering step following the development step can be any known bleaching and fixing, bleach-fixing, or combination thereof. Oxidizing agents include polyvalent, metal compounds (e.g. ferricyanides), peroxyacids, quinones, nitroso compounds;
Dichromate; iron(01) or cobalt(III)
organic complex salts (e.g. aminopolycarboxylic acids such as ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid,
Complex salts with aminopolyphosphonic acid, phosphonocarpanic acid, and organic phosphonic acids); persulfates, hydrogen peroxide, permanganates, and the like can be used. Among these, useful aminopolycarboxylic acids or aminopolyphosphonic acids or salts thereof for forming organic complex salts of iron (m) are listed as ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, ethylenediamine-N-(β-oxyethyl )-N'
, N'-triacetic acid, 1,2-diaminopropanetetraacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, propylenediaminetetraacetic acid, nitrilotriacetic acid, nitrilotripropionic acid, cyclohexanediaminetetraacetic acid, 1,3-diamino-2-propatol Tetraacetic acid, methyliminodiacetic acid, iminodiacetic acid, hydroxyl iminodiacetic acid, dihydroxyethylglycine ethyl ether diamine tetraacetic acid, glycol ether diamine tetraacetic acid, ethylenediaminetetrapropionic acid, ethylenediaminenibrobionic acid, phenylenediaminetetraacetic acid, 2-phosphonobutane-1 , 2,4-triacetic acid, 1,3-diaminopropanol-N,N.
N’ 、N’ −テトラメチレンホスホン酸、エチレン
ジアミン−N、N、N’ 、N’ −テトラメチレンホ
スホン酸、
1.3−プロピレンジアミン−N、N、N’ 。N', N'-tetramethylenephosphonic acid, ethylenediamine-N,N,N', N'-tetramethylenephosphonic acid, 1,3-propylenediamine-N,N,N'.
N′−テトラメチレンホスホン酸、 1−ヒドロキシエチリデン−1,1′−ジホスホン酸、 などを挙げることができる。N'-tetramethylenephosphonic acid, 1-hydroxyethylidene-1,1'-diphosphonic acid, etc. can be mentioned.
これらの化合物の中で、エチレンジアミン四酢酸、ジエ
チレントリアミン五酢酸、シクロヘキサンジアミン四酢
酸、1.2−ジアミノプロパン四酢酸、メチルイミノジ
酢酸の鉄(m)錯塩が漂白刃が高いことから好ましい。Among these compounds, iron(m) complex salts of ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, cyclohexanediaminetetraacetic acid, 1,2-diaminopropanetetraacetic acid, and methyliminodiacetic acid are preferred because they have a high bleaching edge.
鉄(m)錯塩は1柚以上の既成の錯塩を使用しても良く
、あるいは鉄(m)塩(例えば硫酸第2鉄、塩化第2鉄
、硝酸第2鉄、硫酸第2鉄アンモニウム、燐酸第2鉄な
ど)とキレート剤(アミノポリカルボン酸、アミノポリ
ホスホン酸、ホスホノカルボン酸など)とを溶液中で作
用させ第2鉄イオン錯塩としてもよい。溶液中で錯塩を
形成する場合、第2鉄塩、キレート剤の片方または両方
が2種以上の併用であってもよい。 既成錯塩、錯塩形
成いずれの場合も、キレート剤を化学量論以上に用いて
もよい。As the iron (m) complex salt, a ready-made complex salt of one or more citrons may be used, or iron (m) salts (for example, ferric sulfate, ferric chloride, ferric nitrate, ferric ammonium sulfate, phosphoric acid) can be used. A ferric ion complex salt may be obtained by reacting a chelating agent (such as aminopolycarboxylic acid, aminopolyphosphonic acid, phosphonocarboxylic acid, etc.) with a chelating agent (such as aminopolycarboxylic acid, aminopolyphosphonic acid, phosphonocarboxylic acid, etc.) in a solution. When forming a complex salt in a solution, one or both of the ferric salt and the chelating agent may be used in combination of two or more. In either case of forming a pre-formed complex salt or forming a complex salt, the chelating agent may be used in an amount greater than the stoichiometric amount.
また上記の第2鉄イオン錯体を含む漂白液または漂白定
着液には鉄以外のカルシウム、マグネシウム、アルミニ
ウム、ニッケル、ビスマス、亜鉛、タングステン、コバ
ルト、銅等の金属イオンおよびこれらの錯塩あるいは過
酸化水素が入っていてもよい。In addition, the bleach or bleach-fix solution containing the above-mentioned ferric ion complex contains metal ions other than iron such as calcium, magnesium, aluminum, nickel, bismuth, zinc, tungsten, cobalt, copper, and complex salts thereof, or hydrogen peroxide. may be included.
本発明に使用できる漂白処理または漂白定着処理用の過
硫酸塩は、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウムのような
アルカリ金属過硫酸塩あるいは過硫酸アンモニウムなど
である。Persulfates for bleaching or bleach-fixing that can be used in the present invention include alkali metal persulfates such as potassium persulfate and sodium persulfate, or ammonium persulfate.
漂白液または漂白定着液には、臭化物(例えば臭化カリ
ウム、臭化ナトリウム、臭化アンモニウム)または塩化
物(例えば塩化カリウム、塩化ナトリウム、塩化アンモ
ニウム)または沃化物(例えば沃化アンモニウム)の再
ハロゲン化剤を含むことができる。 必要に応じ硼酸、
硼砂、メタ硼酸ナトリウム、酢酸、酢酸ナトリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、亜燐酸、燐酸ナトリウム
、クエン酸、クエン酸ナトソウム、酒石酸などのpH緩
衝能を有する1種類以上の無機酸、有機酸およびこれら
のアルカリ金属またはアンモニウム塩または、硝酸アン
モニウム、グアニジンなどの腐食防止剤などを添加する
ことができる。Bleach or bleach-fix solutions may contain rehalogenated bromides (e.g. potassium bromide, sodium bromide, ammonium bromide) or chlorides (e.g. potassium chloride, sodium chloride, ammonium chloride) or iodides (e.g. ammonium iodide). may contain a curing agent. Boric acid if necessary,
One or more inorganic acids and organic acids having pH buffering ability such as borax, sodium metaborate, acetic acid, sodium acetate, sodium carbonate, potassium carbonate, phosphorous acid, sodium phosphate, citric acid, sodium citrate, tartaric acid, and the like; Alkali metal or ammonium salts or corrosion inhibitors such as ammonium nitrate and guanidine can be added.
漂白液iILあたつの漂白剤の量はo、i〜2モルが適
当であり、漂白液の好ましいp+1範囲は、第2鉄イオ
ン錯塩の場合、0.5〜8.0、特にアミノポリカルボ
ン酸、アミノポリホスホン酸、ホスホノカルボン酸、有
機ホスホン酸の第2鉄イオン錯塩の場合4.0〜7.0
である。 過硫酸塩の場合は、0.1〜2上2モルの濃
度でpHが1〜5の範囲が好ましい。The appropriate amount of bleaching agent per bleaching solution iIL is o.i to 2 moles, and the preferable p+1 range of the bleaching solution is 0.5 to 8.0 in the case of ferric ion complex salts, especially aminopolycarboxylic acid. , 4.0 to 7.0 in the case of ferric ion complex salts of aminopolyphosphonic acid, phosphonocarboxylic acid, and organic phosphonic acid.
It is. In the case of persulfates, a pH range of 1 to 5 is preferred at a concentration of 0.1 to 2 to 2 molar.
定着または漂白定着に使用される定着剤は、公知の定着
剤、即ちチオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウムな
どのチオ硫酸塩;チオシアン酸ナトリウム、チオシアン
酸アンモニウムなどのチオシアン酸塩:エチレンビスチ
オグリコール酸、3.6−シチアー1.8−オクタンジ
オールなどのチオエーテル化合物およびチオ尿素類など
の水溶性のハロゲン化銀溶解剤であり、これらを1種あ
るいは2種以上混合して使用することができる。 さら
に漂白定着処理では特開昭55−155354号に記載
された定着剤と多量の沃化カリウムのようなハロゲン化
物などの組み合わせからなる特殊な漂白定着液等も用い
ることができる。The fixing agents used for fixing or bleach-fixing are known fixing agents, namely thiosulfates such as sodium thiosulfate and ammonium thiosulfate; thiocyanates such as sodium thiocyanate and ammonium thiocyanate; ethylene bisthioglycolic acid, 3 These are water-soluble silver halide dissolving agents such as thioether compounds such as .6-cythia-1,8-octanediol and thioureas, and these can be used alone or in combination of two or more. Furthermore, in the bleach-fixing process, a special bleach-fixing solution consisting of a combination of a fixing agent and a large amount of a halide such as potassium iodide as described in JP-A-55-155354 can also be used.
定着または漂白定着処理の場合、定着剤濃度は0.2〜
4モル/flが望ましい。 また漂白定着処理において
は、漂白定着液inあたり、第2鉄イオン錯塩は0.1
〜2モル、定着剤は0.2〜4モルの範囲が望ましい。For fixing or bleach-fixing processing, the fixer concentration is 0.2~
4 mol/fl is desirable. In addition, in the bleach-fixing process, the amount of ferric ion complex salt per bleach-fix solution is 0.1
-2 mol, and the fixing agent preferably ranges from 0.2 to 4 mol.
また、定着、漂白定着液のpoは、通常4.0〜9.
0が好ましく、特に好ましくは5.0〜8.0である。In addition, the po of the fixing and bleaching solution is usually 4.0 to 9.
0 is preferable, and 5.0 to 8.0 is particularly preferable.
定着液または漂白定着液には、前述の添加剤以外に保恒
剤として亜硫酸塩(例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カ
リウム、亜硫酸アンモニウム)、重亜硫酸塩、ヒドロキ
シルアミン、ヒドラジン、アルデヒド化合物の重亜硫酸
塩付化物(例えばアセトアルデヒド重亜硫酸ナトリウム
)などを含有させることができる。 更に、各種の蛍光
増白剤や消泡剤あるいは界面活性剤、ポリビニルピロリ
ドン、メタノール等の有機溶媒を含有させることができ
る。In addition to the above-mentioned additives, the fixer or bleach-fixer contains preservatives such as sulfites (e.g., sodium sulfite, potassium sulfite, ammonium sulfite), bisulfites, hydroxylamine, hydrazine, and bisulfite compounds of aldehyde compounds. (for example, acetaldehyde sodium bisulfite). Furthermore, various optical brighteners, antifoaming agents, surfactants, polyvinylpyrrolidone, organic solvents such as methanol, etc. can be contained.
なお、前述の定着液はカラー感光材料のみならず黒白感
光材料の処理にも使用できる。The fixing solution described above can be used not only for color photosensitive materials but also for processing black and white photosensitive materials.
漂白液、漂白定着液およびそれらの前浴には、必要に応
じて漂白促進剤を使用することができる。 有用な漂白
促進剤の具体例は、次の明細書に記載されている:米国
特許第3,893.858号、西独特許第1,290,
812号、同第2,059,988号、特開昭53−3
2736号、同53−57831号、同53−3741
8号、同53−65732号、同53−72623号、
同53−95630号、同53−95631号、同53
−104232号、同53−124424号、同53−
141623号、同53−28426号、リサーチ・デ
ィスクロージY−No、 17129号(1978年
7月)などに記載のメルカプト基またはジスルフィド基
を有する化合物;特開昭5O−140129号に記載さ
れているようなチアゾリン誘導体;特公昭45−850
6号、特開昭52−20832号、同53−32735
号、米国特許第3,706,561号に記載のチオ尿素
誘導体;西独特許第1,127,715号、特開昭58
−16235号に記載の沃化物;西独特許第966.4
10号、同第2,748.430号に記載のポリエチレ
ンオキサイド類;特公昭45−8836号に記載のポリ
アミン化合物:その他特開昭49−42434号、同4
9−59644号、同53−94927号、同54−3
5727号、同55−26506号および同5B−16
3940号記載の化合物および沃素、臭素イオンも使用
できる。 なかでもメルカプト基またはジスルフィド基
を有する化合物が促進効果が大きい観点で好ましく、特
に米国特許第3,893,858号、西独特許第1,2
90,812号、特開昭53−95630号に記載の化
合物が好ましい。 更に、米国特許第4,552,83
4号に記載の化合物も好ましい。 これらの漂白促進剤
は感材中に添加しても良い。A bleach accelerator may be used in the bleaching solution, bleach-fixing solution, and their prebaths, if necessary. Specific examples of useful bleach accelerators are described in U.S. Pat. No. 3,893,858, German Patent No. 1,290,
No. 812, No. 2,059,988, JP-A-53-3
No. 2736, No. 53-57831, No. 53-3741
No. 8, No. 53-65732, No. 53-72623,
No. 53-95630, No. 53-95631, No. 53
-104232, 53-124424, 53-
Compounds having a mercapto group or disulfide group described in No. 141623, No. 53-28426, Research Disclosure Y-No. 17129 (July 1978); thiazoline derivatives such as;
No. 6, JP-A-52-20832, JP-A No. 53-32735
Thiourea derivatives described in No. 1, U.S. Pat. No. 3,706,561;
- Iodide described in No. 16235; West German Patent No. 966.4
10, polyethylene oxides described in JP-A No. 2,748.430; polyamine compounds described in JP-A No. 45-8836; and others JP-A-49-42434, JP-A-4
No. 9-59644, No. 53-94927, No. 54-3
No. 5727, No. 55-26506 and No. 5B-16
The compounds described in No. 3940 and iodine and bromide ions can also be used. Among these, compounds having a mercapto group or a disulfide group are preferred from the viewpoint of a large promoting effect, and are particularly preferred, as described in US Pat. No. 3,893,858 and West German Patent Nos. 1 and 2.
Compounds described in No. 90,812 and JP-A-53-95630 are preferred. Additionally, U.S. Patent No. 4,552,83
Compounds described in No. 4 are also preferred. These bleach accelerators may be added to the photosensitive material.
定着工程または漂白定着工程の後には、水洗および安定
化などの処理工程を行うことが一般的である。After the fixing step or bleach-fixing step, processing steps such as water washing and stabilization are generally performed.
水洗処理工程及び安定化処理工程には、沈殿防止や水洗
水の安定化目的で、各種の公知化合物を添加してもよい
。例えば、無機リン酸、アミノポリカルボン酸、有機ホ
スホン酸等のキレート剤、各種のバクテリアや藻やカビ
の発生を防止する殺菌剤や防パイ剤(例えば、ジャーナ
ル・オブ・アンチバクチリアル・アンド・アンチヒフユ
ンガル・エージエンツ(J、 Anti−bact、
Antifung、 Agents) Vol、11.
No、5゜p207〜〜223 (1983)に記載
の化合物および堀口博著“防菌防黴の化学”に記載の化
合物)、マグネシウム塩、アルミニウム塩、ビスマス塩
などに代表される金属塩、アルカリ金属およびアンモニ
ウム塩、あるいは乾燥負荷やムラを防止するための界面
活性剤等を必要に応じて添加することができる。あるい
はウェスト署 フォトグラフィック・サイエンス・アン
ド・エンジニアリング誌(Phot、 Sci、 En
g、) 。Various known compounds may be added to the washing process and stabilization process for the purpose of preventing precipitation and stabilizing the washing water. For example, chelating agents such as inorganic phosphoric acid, aminopolycarboxylic acid, and organic phosphonic acid; bactericidal agents and anti-inflammatory agents that prevent the growth of various bacteria, algae, and molds (for example, Journal of Antibacterial and Antibiotics); Anti-bact,
Antifung, Agents) Vol. 11.
No. 5゜p207--223 (1983) and compounds described in Hiroshi Horiguchi's "Chemistry of Antibacterial and Antifungal"), metal salts such as magnesium salts, aluminum salts, bismuth salts, and alkalis. Metal and ammonium salts, surfactants for preventing drying load and unevenness, etc. can be added as necessary. Or West Police Department Photographic Science and Engineering Magazine (Photo, Sci, En
g,).
第6巻、344〜359ページ(1965)等に記載の
化合物を添加しても良い。特にキレート剤や殺菌剤助パ
イ剤の添加が有効である。Compounds described in Vol. 6, pp. 344-359 (1965) may also be added. It is particularly effective to add a chelating agent or a bactericidal agent.
水洗工程は2M1以上の多段向流水洗(たとえば2〜9
槽)にし、水洗水を節減するのが一般的である。更には
、水洗工程のかわりに特開昭57−8!?43号記載の
ような多段向流安定化処理工程を実施してもよい。本安
定化浴中には前述の添加剤以外に画像を安定化する目的
で各種化合物が添加される。例えばMpHを調整する(
例えばpH3〜9)ための各種の緩衝剤(例えばホウ酸
塩、メタホウ酸塩、ホウ砂、リン酸塩、炭酸塩、水酸化
カリ、水酸化ナトリウム、アンモニア水、モノカルボン
酸、ジカルボン酸、ポリカルボン酸などを組み合わせて
使用)やホルマリンなどのアルデヒドを代表例として挙
げることができる。その他、キレート剤(無機リン酸、
アミノポリカルボン酸、有機ホスホン酸、アミノポリホ
スホン酸、ホスホノカルボン酸など)、殺菌剤、防パイ
剤(チアゾール系、イソチアゾール系、ハロゲン化フェ
ノール、スルファニルアミド、ベンゾトリアゾールなど
)、界面活性剤、蛍光増白剤、硬膜剤金属塩などの各種
添加剤を使用してもよく、同一もしくは異種の目的の化
合物を二種以上併用してもよい。The water washing process is a multi-stage countercurrent water washing of 2M1 or more (for example, 2 to 9
It is common practice to reduce the amount of water used for washing by using a tank. Furthermore, instead of the water washing process, JP-A-57-8! ? A multi-stage countercurrent stabilization treatment step as described in No. 43 may also be implemented. In addition to the above-mentioned additives, various compounds are added to this stabilizing bath for the purpose of stabilizing images. For example, adjust MpH (
various buffering agents (e.g. borates, metaborates, borax, phosphates, carbonates, potassium hydroxide, sodium hydroxide, aqueous ammonia, monocarboxylic acids, dicarboxylic acids, Typical examples include aldehydes such as formalin (used in combination with carboxylic acids, etc.) and formalin. Other chelating agents (inorganic phosphoric acid,
(aminopolycarboxylic acid, organic phosphonic acid, aminopolyphosphonic acid, phosphonocarboxylic acid, etc.), bactericide, anti-piping agent (thiazole type, isothiazole type, halogenated phenol, sulfanilamide, benzotriazole, etc.), surfactant , optical brighteners, hardener metal salts, and the like may be used, and two or more compounds for the same or different purposes may be used in combination.
また、処理後の膜pH調整剤として塩化アンモニウム、
硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、リン酸アンモニ
ウム、亜硫酸アンモニウム、チオ硫酸アンモニウム等の
各種アンモニウム塩を添加するのが画像保存性を良化す
るために好ましい。In addition, ammonium chloride,
It is preferable to add various ammonium salts such as ammonium nitrate, ammonium sulfate, ammonium phosphate, ammonium sulfite, and ammonium thiosulfate in order to improve image storage stability.
また撮影用カラー感材では、通常行われている定着後の
(水洗−安定)工程を前述の安定化工程および水洗工程
(節水処理)におきかえることもできる、この際、マゼ
ンタカプラーが2当量の場合には、安定洛中のホルマリ
ンは除去しても良い。In addition, for color photosensitive materials for photography, the normally performed post-fixing (washing - stabilization) process can be replaced with the above-mentioned stabilization process and washing process (water saving process).In this case, the magenta coupler is If necessary, the formalin in the stable solution may be removed.
本発明の水洗及び安定化処理時間は、感材の種類、処理
条件によって相違するが、通常20秒〜10分であり、
好ましくは20秒〜5分である。The washing and stabilization processing time of the present invention varies depending on the type of sensitive material and processing conditions, but is usually 20 seconds to 10 minutes.
Preferably it is 20 seconds to 5 minutes.
本発明における各種処理液は10℃〜70℃において使
用される。25℃ないし45℃の温度が標準的であるが
、より高温にして処理を促進し処理時間を短縮したり、
逆により低温にして画質の向上や処理液の安定性の改良
を達成することができる。また、感光材料の節銀のため
西独特許第2,226,770号または米国特許第3,
674,499号に記載のコバルト補力もしくは過酸化
水素補力を用いた処理または米国特許第3,923,5
11号に記載の一浴現像漂白定着処理を行ってもよい。Various treatment liquids in the present invention are used at 10°C to 70°C. A temperature of 25°C to 45°C is standard, but higher temperatures can be used to accelerate processing and shorten processing time.
Conversely, it is possible to improve the image quality and the stability of the processing solution by lowering the temperature. In addition, for saving silver in photosensitive materials, West German Patent No. 2,226,770 or U.S. Patent No. 3,
674,499 or treatment with cobalt or hydrogen peroxide fortification as described in U.S. Pat. No. 3,923,5.
One-bath development, bleach-fixing treatment as described in No. 11 may be performed.
また各処理時間は、迅速化を計るため必要に応じて支障
のない範囲内で標準時間より短くすることができる。Furthermore, each processing time can be made shorter than the standard time within a range that does not cause any problems, if necessary, in order to speed up the process.
各処理浴内には、必要に応じて、ヒーター、温度センサ
ー、液面センサー、循環ポンプ、フィルター、各種浮き
ブタ、各種スクイジー等を設けても良い。Each treatment bath may be provided with a heater, a temperature sensor, a liquid level sensor, a circulation pump, a filter, various floating pigs, various squeegees, etc., as necessary.
本発明において感光材料に用いるハロゲン化銀としては
塩化銀、臭化銀のほかに、混合ハロゲン化銀、例えば塩
臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化銀等を用いることができる
。 ハロゲン化銀粒子の平均粒子サイズ(球状または球
に近似の粒子の場合は粒子直径、立方体粒子の場合は校
長を粒子サイズとし、t5i′影面積にもとづく平均で
表わす)は2μ以下が好ましいが、特に好ましいのは0
.4μ以下である。 粒子サイズ分布はせまくても広く
てもいずれでもよい。In addition to silver chloride and silver bromide, mixed silver halides such as silver chlorobromide, silver iodobromide, silver chloroiodobromide, etc. can be used as the silver halide used in the light-sensitive material in the present invention. The average grain size of the silver halide grains (in the case of spherical or approximately spherical grains, the grain diameter is taken as the grain size, in the case of cubic grains, the principal is taken as the grain size, and expressed as an average based on the t5i' shadow area) is preferably 2 μ or less, but Particularly preferable is 0
.. It is 4μ or less. The particle size distribution may be narrow or wide.
これらのハロゲン化銀粒子の形は立方晶形、八面体、十
四面体、高アルペクト比の平板状等のいずれであっても
よいし、またイレギュラーな形態であってもよい。The shape of these silver halide grains may be cubic, octahedral, dodecahedral, tabular with a high alpect ratio, or may be irregular.
また内部と外部が異質の層状構造をしたものや、英国特
許635,841号、米国特許3゜622.318号に
記載されているような、いわゆるコンバージうン型のも
のであってもよい。 また、潜像を主として表面に形成
する型のもの、粒子内部に形成する内部潜像型のものの
いずれでもよい。 また、潜像を主として表面に形成す
る型のもの、粒子内部に形成する内部潜像型のもののい
ずれでもよい。It may also be of a so-called convergence type, as described in British Patent No. 635,841 and U.S. Pat. No. 3.622.318. Further, either a type in which a latent image is formed mainly on the surface or an internal latent image type in which a latent image is formed inside the particle may be used. Further, either a type in which a latent image is formed mainly on the surface or an internal latent image type in which a latent image is formed inside the particle may be used.
ハロゲン化銀粒子形成又は物理熱性の過程において、カ
ドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウム塩
又はその錯塩、ロジウム塩またはその錯塩、鉄塩又は鉄
錯塩などを共存させてもよい。In the silver halide grain formation or physicothermal process, a cadmium salt, a zinc salt, a lead salt, a thallium salt, an iridium salt or a complex salt thereof, a rhodium salt or a complex salt thereof, an iron salt or an iron complex salt, etc. may be present.
ハロゲン化銀乳剤は、化学増感を行わない、いわゆる末
後熟乳剤(プリミティブ乳剤)を用いることもできるが
、通常は化学増感される。 化学増感のためには、活性
ゼラチンや銀と反応しつる硫黄を含む化合物(例えばチ
オ硫酸塩、チオ尿素類、メルカプト化合物、ローダニン
類)を用いる硫黄増感法、還元性物質(例えば第一ずず
塩、アミン類、ヒドラジン誘導体、ホルムアミジンスル
フィン類、シラン化合物)を用いる還元増感法、貴金属
化合物(例えば金化合物の他、白金、イリジウム、パラ
ジウムなどの周期律表第■族金属の錯塩)を用いる貴金
属増感法などを単独あるいは組み合わせて実施すること
ができる。The silver halide emulsion may be a so-called primitive emulsion which is not chemically sensitized, but it is usually chemically sensitized. For chemical sensitization, the sulfur sensitization method uses active gelatin or a compound containing sulfur that reacts with silver (e.g. thiosulfates, thioureas, mercapto compounds, rhodanines), reducing substances (e.g. primary Reduction sensitization using tin salts, amines, hydrazine derivatives, formamidine sulfines, silane compounds), noble metal compounds (e.g. gold compounds, and complex salts of Group I metals of the periodic table such as platinum, iridium, and palladium) ) can be carried out alone or in combination.
本発明の感光材料の乳剤層や中間層に用いることのでき
る結合剤または保護コロイドとしては、ゼラチンをもち
いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイドも用
いることができる。As the binder or protective colloid that can be used in the emulsion layer or intermediate layer of the light-sensitive material of the present invention, it is advantageous to use gelatin, but other hydrophilic colloids can also be used.
例えばゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子とのグラ
フトポリマー、アルブミン、カゼイン等の蛋白質;ヒド
ロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース
、セルロース硫酸エステル類等のようなセルロース誘導
体、アルギン酸ソーダ、デキストラン、澱粉誘導体など
の糖誘導体:ボリビニルアルコール、ポリビニルアルコ
ール部分アセタール、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポ
リアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド
、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラゾール等の
単一あるいは共重合体のような多種の合成親水性高分子
物質を用いることができる。For example, gelatin derivatives, graft polymers of gelatin and other polymers, proteins such as albumin and casein; cellulose derivatives such as hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, and cellulose sulfate esters; sugar derivatives such as sodium alginate, dextran, and starch derivatives. : Various types of synthetic hydrophilic polymers such as single or copolymers of polyvinyl alcohol, polyvinyl alcohol partial acetal, poly-N-vinylpyrrolidone, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylamide, polyvinylimidazole, polyvinylpyrazole, etc. Molecular substances can be used.
ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラ
チンや酵素処理ゼラチンを用いてもよく、また、ゼラチ
ンの加水分解物や酵素分解物も用いることができる。As the gelatin, in addition to lime-treated gelatin, acid-treated gelatin or enzyme-treated gelatin may be used, and gelatin hydrolysates or enzymatically decomposed products may also be used.
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。The photographic material of the present invention may contain an inorganic or organic hardener in the photographic emulsion layer or other hydrophilic colloid layer.
例えばクロム塩(クロムミョウバン、酢酸クロムなど
)、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、グリオキサール
、ゲルタールアルデヒドなど)、N−メチロール化合物
(ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダントイン
など)、ジオキサン誘導体(2,3−ジヒドロキシジオ
キサンなど)、活性ビニル化合物(1,3,5−トリア
クリロイル−ヘキサヒドロ−5−トリアジン、1.3−
ビニルスルホニル−2−プロパツールなど)、活性ハロ
ゲン化合物(2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−5−
トリアジンなど)、ムコハロゲン酸類(ムコクロル酸、
ムコフェノキシクロル酸など)、N−カルバモイルとり
ジニウム塩類((1−モルホリノカルボニル−3−ピリ
ジニオ)メタンスルホナートなど)やへロアミジニウム
塩類(1−(1−クロロ−1−ピリジノメチレン)ピロ
リジニウム、2−ナフタンスルホナートなど)などを単
独または組み合わせて711いることができる。For example, chromium salts (chromium alum, chromium acetate, etc.), aldehydes (formaldehyde, glyoxal, geltaraldehyde, etc.), N-methylol compounds (dimethylol urea, methylol dimethylhydantoin, etc.), dioxane derivatives (2,3-dihydroxydioxane, etc.) , activated vinyl compound (1,3,5-triacryloyl-hexahydro-5-triazine, 1,3-
vinylsulfonyl-2-propatol, etc.), active halogen compounds (2,4-dichloro-6-hydroxy-5-
triazines, etc.), mucohalogen acids (mucochloric acid,
mucophenoxychloric acid, etc.), N-carbamoyltridinium salts ((1-morpholinocarbonyl-3-pyridinio)methanesulfonate, etc.) and heloamidinium salts (1-(1-chloro-1-pyridinomethylene)pyrrolidinium, 2 -naphthanesulfonate, etc.) alone or in combination.
これらの化合物の中では、活性ビニル化合物または活性
ハロゲン化合物を好ましく用いることができる。Among these compounds, active vinyl compounds or active halogen compounds can be preferably used.
本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層または他
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止および写真特性改良(例えば
、現像促進、硬調化、増感)等積々の目的で、種々の界
面活性剤を含んでもよい。The photographic emulsion layer or other hydrophilic colloid layer of the light-sensitive material produced using the present invention may contain coating aids, antistatic properties, smoothness improvement, emulsion dispersion, adhesion prevention, and improvement of photographic properties (e.g., development acceleration, high contrast Various surfactants may be included for various purposes such as sensitization, sensitization, etc.
例えばサポニン(ステロイド系)、アルキレンオキサイ
ド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類またはポリエチ
レングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチ
レングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソ
ルビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキ
ルアミンまたはアミド類、シリコーンのポリエチレンオ
キサイド付加物類)、グリシドール話導体(例えばアル
ケニルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポ
リグリセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、
糖のアルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤:
アルキルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アル
キルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスル
フォン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸
エステ′ル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類、
スルホコハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシ
エチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチ
レンアルキルリン酸エステル類などのような、カルボキ
シ基、スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エ
ステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ
酸類、アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫
酸またはリン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミ
ンオキシド類などの両性界面活性剤;アルキルアミン塩
類、脂肪族あるいは芳香族第4級アンモニウム塩類、ピ
リジニウム、イミダゾリウムなどのa素環第4級アンモ
ニウム塩類、および脂肪族または複素環を含むホスホニ
ウムまたはスルホニウム塩類などのカチオン界面活性剤
を用いることができる。For example, saponins (steroids), alkylene oxide derivatives (e.g. polyethylene glycol, polyethylene glycol/polypropylene glycol condensates, polyethylene glycol alkyl ethers or polyethylene glycol alkyl aryl ethers, polyethylene glycol esters, polyethylene glycol sorbitan esters, polyalkylene glycols alkylamines or amides, polyethylene oxide adducts of silicone), glycidol conductors (e.g. alkenylsuccinic acid polyglycerides, alkylphenol polyglycerides), fatty acid esters of polyhydric alcohols,
Nonionic surfactants such as alkyl esters of sugars:
Alkyl carboxylates, alkyl sulfonates, alkylbenzene sulfonates, alkylnaphthalene sulfonates, alkyl sulfates, alkyl phosphate esters, N-acyl-N-alkyl taurines,
Acidic groups such as carboxy groups, sulfo groups, phospho groups, sulfate ester groups, phosphate ester groups, etc. Anionic surfactants containing; amphoteric surfactants such as amino acids, aminoalkyl sulfonic acids, aminoalkyl sulfates or phosphates, alkyl betaines, amine oxides; alkylamine salts, aliphatic or aromatic quaternary ammonium Cationic surfactants such as salts, a-ring quaternary ammonium salts such as pyridinium and imidazolium, and phosphonium or sulfonium salts containing aliphatic or heterocycles can be used.
帯電防止剤としては含フツ素化合物が特に好ましく用い
られる。As the antistatic agent, fluorine-containing compounds are particularly preferably used.
本発明に用いられる写真乳剤は、メチン色素類、その他
によって分光増感されてもよい。The photographic emulsion used in the present invention may be spectrally sensitized with methine dyes or others.
用いられる色素には、シアニン色素、メロシアニン色素
、複合シアニン色素、複合メロシアニン色素、ホロポー
ラ−シアニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素お
よびヘミオキソノール色素が包含される。 特に有用な
色素は、シアニン色素、メロシアニン色素、および複合
メロシアニン色素に属する色素である。 これらの色素
類には、塩基性異節環核としてシアニン色素類に通常利
用される核のいすをも適用できる。 すなわち、ビロリ
ン核、オキサゾリン核、チアゾリン核、ピロール核、オ
キサゾール核、チアゾール核、セレナゾール核、イミダ
ゾール核、テトラゾール核、ピリジン核、など;これら
の核に脂環式炭化水素環が融合した核;およびこれらの
核に芳香族炭化水素環が融合した核、即ち、インドレニ
ン核、ベンズインドレニン核、インドール核、ベンズオ
キサドール核、ナフトオキサゾール核、ベンゾチアゾー
ル核、ナフトチアゾール核、ベンゾセレナゾール核、ベ
ンズイミダゾール核、キノリン核などが適用できる。
これらの核は炭素原子上に置換されていてもよい。The dyes used include cyanine dyes, merocyanine dyes, complex cyanine dyes, complex merocyanine dyes, holopolar cyanine dyes, hemicyanine dyes, styryl dyes and hemioxonol dyes. Particularly useful dyes are those belonging to the cyanine dyes, merocyanine dyes, and complex merocyanine dyes. Nucleic chairs commonly used for cyanine dyes can also be applied to these dyes as basic heteroartic ring nuclei. That is, viroline nucleus, oxazoline nucleus, thiazoline nucleus, pyrrole nucleus, oxazole nucleus, thiazole nucleus, selenazole nucleus, imidazole nucleus, tetrazole nucleus, pyridine nucleus, etc.; a nucleus in which an alicyclic hydrocarbon ring is fused to these nuclei; and A nucleus in which an aromatic hydrocarbon ring is fused to these nuclei, that is, an indolenine nucleus, a benzindolenine nucleus, an indole nucleus, a benzoxadole nucleus, a naphthoxazole nucleus, a benzothiazole nucleus, a naphthothiazole nucleus, a benzoselenazole nucleus, Benzimidazole nuclei, quinoline nuclei, etc. are applicable.
These nuclei may be substituted on carbon atoms.
メロシアニン色素または複合メロシアニン色素にはケト
メチレン構造を有する核としてピラゾリン−5−オン核
、チオヒダントイン核、2−チオキサゾリジン−2,4
−ジオン核、チアゾリジン−2,4−ジオン核、ローダ
ニン核、チオバルビッール酸核などの5〜6員異節環核
な通用することができる。 これらの増感色素は単独に
用いてもよいが、それらの組合せを用いてもよく、増感
色素の組合せは特に、強色増感の目的でしばしば用いら
れる。Merocyanine dyes or complex merocyanine dyes include a pyrazolin-5-one nucleus, a thiohydantoin nucleus, and a 2-thioxazolidine-2,4 nucleus having a ketomethylene structure.
5- to 6-membered heterocyclic nuclei such as -dione nucleus, thiazolidine-2,4-dione nucleus, rhodanine nucleus, and thiobarbic acid nucleus can be used. These sensitizing dyes may be used alone or in combination, and combinations of sensitizing dyes are often used particularly for the purpose of supersensitization.
本発明の写真感光材料の写真乳剤層には感度上昇、コン
トラスト上昇、または現像促進の目的で、たとえばポリ
アルキレンオキシドまたはそのエーテル、エステル、ア
ミンなどの誘導体、チオエーテル化合物、チオモルフォ
リン類、四級アンモニウム塩化合物、ウレタン誘導体、
尿素誘導体、イミダゾール誘導体、3−ピラゾリドン類
等を含んでもよい。The photographic emulsion layer of the photographic light-sensitive material of the present invention contains, for example, polyalkylene oxide or its derivatives such as ethers, esters, and amines, thioether compounds, thiomorpholines, quaternary ammonium salt compounds, urethane derivatives,
It may also contain urea derivatives, imidazole derivatives, 3-pyrazolidones, and the like.
本発明に用いる写真感光材料には、写真乳剤層その他の
親水性コロイド層に寸度安定性の改良などの目的で、水
不溶または難溶性合成ポリマーの分散物を含むことがで
きる。 例えばアルキル(メタ)アクリレート、グリシ
ジル(メタ)アクリレート、スチレンなどの単独もしく
は組合せ、またはこれらとアクリル酸、メタクリル酸等
の組合せを単量体成分とするポリマーを用いることがで
きる。The photographic light-sensitive material used in the present invention may contain a dispersion of a water-insoluble or sparingly soluble synthetic polymer in the photographic emulsion layer or other hydrophilic colloid layer for the purpose of improving dimensional stability. For example, a polymer containing alkyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, styrene, etc. alone or in combination, or a combination of these with acrylic acid, methacrylic acid, etc. as a monomer component can be used.
本発明を用いて作られた感光材料には、親水性コロイド
層にフィルター染料として、あるいはイラジェーション
防止その他種々の目的で水溶性染料を含有していてもよ
い。 このような染料には、オキソノール染料、ヘミオ
キソノール染料、スチリル染料、メロシアニン染料、ア
アニン染料およびアゾ染料が包含される。 なかでもオ
キソノール染料:ヘミオキソノール染料およびメロシア
ニン染料が有用である。The photosensitive material produced using the present invention may contain a water-soluble dye in the hydrophilic colloid layer as a filter dye or for various purposes such as preventing irradiation. Such dyes include oxonol dyes, hemioxonol dyes, styryl dyes, merocyanine dyes, aanine dyes and azo dyes. Among them, oxonol dyes: hemioxonol dyes and merocyanine dyes are useful.
本発明に用いられる写真乳剤には、感光材料の製造工程
、保存中あるいは写真処理中のカブリを防止し、あるい
は写真性能を安定化させる目的で、本発明の化合物以外
種々の化合物を併用することができる。 すなわちアゾ
ール類(例えばベンゾチアゾリウム塩、ニトロイミダゾ
ール類、ニトロベンズイミダゾール類、クロロベンズイ
ミダゾール類、ブロモベンズイミダゾール類、ニトロイ
ミダゾール類、ベンゾトリアゾール類、アミノトリアゾ
ール類なと) ;メルカプト化合物類(例えばメルカプ
トチアゾール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メル
カプトベンズイミダゾール類、メルカプトチアジアゾー
ル類、メルカプトテトラゾール類(特に1−フェニル−
5−メルカプトテトラゾール)、メルカプトピリミジン
類、メルカプトトリアジン類など) ;例えばオキサド
リンチオンのようなチオケト化合物ニアザインデン類(
例えばトリアザインデン類、ペンタアザインデン類など
):ベンゼンチオスルホン酸、ベンゼンスルフィン酸、
ベンゼンスルホン酸アミド等のようなカブリ防止剤また
は安定剤として知られた、多くの化合物を加えることが
できる。In the photographic emulsion used in the present invention, various compounds other than the compounds of the present invention may be used in combination for the purpose of preventing fog during the manufacturing process, storage, or photographic processing of the light-sensitive material, or to stabilize photographic performance. Can be done. Namely, azoles (e.g. benzothiazolium salts, nitroimidazoles, nitrobenzimidazoles, chlorobenzimidazoles, bromobenzimidazoles, nitroimidazoles, benzotriazoles, aminotriazoles, etc.); mercapto compounds (e.g. Mercaptothiazoles, mercaptobenzothiazoles, mercaptobenzimidazoles, mercaptothiadiazoles, mercaptotetrazoles (especially 1-phenyl-
5-mercaptotetrazole), mercaptopyrimidines, mercaptotriazines, etc.); For example, thioketo compounds such as oxadorinthione, niazaindenes (
For example, triazaindenes, pentaazaindenes, etc.): benzenethiosulfonic acid, benzenesulfinic acid,
Many compounds known as antifoggants or stabilizers can be added, such as benzenesulfonamides and the like.
本発明の写真感光材料は色像形成カプラー、即ち、発色
現像処理において芳香族1級アミン現像薬(例えば、フ
ェニレンジアミン誘導体や、アミノフェノール誘導体な
ど)との酸化カップリングによって発色しうる化合物を
含有してもよい。 カプラーは、分子中にパラスト基と
よばれる疎水性基を有する非拡散性のもの、またはポリ
マー化されたものが望ましい。 カプラーは、銀イオン
に対し4当量性あるいは2当量性のでちらでもよい。
また、色補正の効果をもつカラードカプラー、あるいは
現像にともなって現像抑制剤を放出するカプラー(いわ
ゆるDIRカプラー)を含んでもよい。 また、カップ
リング反応の生成物が無色であって、現像抑制剤を放出
する無呈色DIRカップリング化合物を含んでもよい。The photographic light-sensitive material of the present invention contains a color image-forming coupler, that is, a compound that can develop a color by oxidative coupling with an aromatic primary amine developer (for example, a phenylenediamine derivative or an aminophenol derivative) during color development processing. You may. The coupler is preferably a non-diffusible coupler having a hydrophobic group called a pallast group in its molecule, or a polymerized coupler. The coupler may be 4-equivalent or 2-equivalent to silver ion.
It may also contain a colored coupler that has a color correction effect or a coupler that releases a development inhibitor during development (so-called DIR coupler). The product of the coupling reaction may also be colorless and include a colorless DIR coupling compound that releases a development inhibitor.
例えばマゼンタカプラーとして、5−ピラゾロンカプラ
ー、ピ″ラゾロペンツイミダゾールカブラー、シアノア
セチルクマロンカプラー、開鎖アシルアセトニトリルカ
プラー、ピラゾロトリアゾールカプラー等があり、イエ
ローカプラーとして、アシルアセトアミドカプラー(例
えばベンゾイルアセトアニリド類、ピバロイルアセトア
ニリド類)、等があり、シアン力ブラートシテ、ナフト
ールカプラー、およびフェノールカプラー等がある。For example, magenta couplers include 5-pyrazolone couplers, pi'razolopenzimidazole couplers, cyanoacetylcoumarone couplers, open-chain acylacetonitrile couplers, pyrazolotriazole couplers, and yellow couplers include acylacetamide couplers (e.g., benzoylacetanilides, pivaloylacetanilides), etc., and cyanogens, naphthol couplers, and phenol couplers.
上記カプラー等は、感光材料に求められる特性を満足す
るために同一層に二種類以上を併用することもできるし
、同一の化合物を異なった2層以上に添加することも、
もちろノV差支えない。Two or more types of the above couplers etc. can be used in the same layer in order to satisfy the characteristics required of a photosensitive material, or the same compound can be added to two or more different layers.
Of course I don't mind V.
カプラーをハロゲン化銀乳剤層に導入するには公知の方
法、例えば米国特許2,322,027号に記載の方法
などが用いられる。 例えばフタール酸アルキルエステ
ル(ジブチルフタレート、ジオクチルフタレートなど)
、リン酸エステル(ジフェニルフォスフェート、トリフ
ェニルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、
ジオクチルブチルフォスフェート)、クエン酸エステル
(例えばアセチルクエン酸トリブチル)、安息香酸エス
テル(例えば安息香酸オクチル)、アルキルアミド(例
えばジエチルラウリルアミド)、脂肪酸エステル類(例
えばジブトキシエチルサクシネート、ジエチルアゼレー
ト)、トリメシン酸エステル類(例えばトリメシン酸ト
リブチル)など、または沸点的30℃ないし150℃の
有機溶媒、例えば酢酸エチル、酢酸ブチルの如き低級ア
ルキルアセテート、プロピオン酸エチル、2級ブチルア
ルコール、メチルイソブチルケトン、β−エトキシエチ
ルアセテート、メチルセロソルブアセテート等に溶解し
たのち、親水性コロイドに分散される。 上記の高沸点
有機溶媒と低沸点有機溶媒とは混合して用いてもよい。To introduce the coupler into the silver halide emulsion layer, known methods such as those described in US Pat. No. 2,322,027 can be used. For example, phthalic acid alkyl esters (dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, etc.)
, phosphate esters (diphenyl phosphate, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate,
dioctylbutyl phosphate), citric acid esters (e.g. acetyl tributyl citrate), benzoic acid esters (e.g. octyl benzoate), alkylamides (e.g. diethyl laurylamide), fatty acid esters (e.g. dibutoxyethyl succinate, diethyl azelate) ), trimesic acid esters (e.g. tributyl trimesate), etc., or organic solvents with a boiling point of 30°C to 150°C, such as lower alkyl acetates such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl propionate, secondary butyl alcohol, methyl isobutyl ketone. , β-ethoxyethyl acetate, methyl cellosolve acetate, etc., and then dispersed in a hydrophilic colloid. The above-mentioned high boiling point organic solvent and low boiling point organic solvent may be used in combination.
また、特公昭48−30494号、特公昭51−398
53号、特開昭50−102334号、特開昭51−2
5133号、特開昭51−59943号、特願昭61−
162813号、特願昭61−187996号、特願昭
61−189771号、西ドイツ特許第2830917
号、米国特許第3619195号に記載されている重合
物による分散法も使用することができる。Also, Special Publication No. 48-30494, Special Publication No. 51-398
No. 53, JP-A-50-102334, JP-A-51-2
No. 5133, JP-A-51-59943, Patent Application No. 61-
162813, Japanese Patent Application No. 187996/1983, Japanese Patent Application No. 189771/1983, West German Patent No. 2830917
The polymeric dispersion method described in US Pat. No. 3,619,195 can also be used.
カプラーがカルボン酸、スルフォン酸の如き酸基を有す
る場合には、アルカリ性水溶液として親水性コロイド中
に導入される。When the coupler has an acid group such as carboxylic acid or sulfonic acid, it is introduced into the hydrophilic colloid as an alkaline aqueous solution.
特公昭43−7,561号に記載のものである。This is described in Japanese Patent Publication No. 7,561/1973.
本発明の写真感光材料には、公知の退色防止剤を用いる
ことができる。 公知の退色防止剤としては、ハイドロ
キノン誘導体、没食子酸誘導体、p−アルコキシフェノ
ール類、p−オキジフェノール誘導体およびビスフェノ
ール類等がある。Known antifading agents can be used in the photographic material of the present invention. Known antifading agents include hydroquinone derivatives, gallic acid derivatives, p-alkoxyphenols, p-oxydiphenol derivatives, and bisphenols.
本技術に関する感光材料には、前述の種々の添加剤が用
いられるが、それ以外にも目的に応じて種々の添加剤を
用いることができる。The various additives described above are used in the photosensitive material related to the present technology, but various other additives can also be used depending on the purpose.
これらの添加剤は、より詳しくはリサーチ・ディスクロ
ージy−1tem/7643 (1978年12月)お
よび同ILe+n/8716(1979年11月)に記
載されており、その該当箇所を後掲の表にまとめて示し
た。These additives are described in more detail in Research Disclosure y-1tem/7643 (December 1978) and ILe+n/8716 (November 1979), and the relevant parts are shown in the table below. Shown all together.
添加剤種類 +1017643 11D187
161 化学増感剤 23頁 648頁右欄
2 感度上昇剤 同上3 分光増感
剤、 23〜24頁 648頁右欄〜強色増感剤
649頁右欄4 ・増 白 剤
24頁5 かぶり防止剤 24〜25頁 6
49頁右欄および安定剤
6 光吸収剤、フィ 25〜26頁 649頁右欄〜ル
ター染料 650頁左欄紫外線吸収剤
7 スティン防止剤 25頁右欄 650頁左〜右欄8
色素画像安定剤 25頁
9 硬 膜 剤 26頁 651頁左欄lOバ
インダー 26頁 同上11 可塑剤、拐滑
剤 27頁 650頁右欄12 塗布助剤、
26〜27頁 同上表面活性剤
13 スタチック 27頁 同上防止剤
■ 発明の具体的作用効果
本発明によれば、処理液、特に現像液の経時安定性と安
全性とが確保できる。 また、必要な時に膜中pHを高
くすることができる。 その結果写真的に有用な基の放
出が十分となり、写真性に優れた画像が得られる。Additive type +1017643 11D187
161 Chemical sensitizers Page 23 Page 648 Right column 2 Sensitivity enhancers Same as above 3 Spectral sensitizers, Pages 23-24 Page 648 Right column - Super sensitizers
Page 649, right column 4 - Brightener
Page 24 5 Antifoggant Pages 24-25 6
Page 49 right column and stabilizer 6 Light absorbers, fillers pages 25-26 Page 649 right column ~ Luther dyes Page 650 left column Ultraviolet absorber 7 Stain inhibitors Page 25 right column Page 650 left-right column 8
Dye image stabilizer page 25 9 Hardener page 26 page 651 left column lO binder page 26 Same as above 11 Plasticizer, lubricant page 27 page 650 right column 12 Coating aid,
Pages 26-27 Same as above Surfactant 13 Static Page 27 Same as above Inhibitor ■ Specific effects of the invention According to the present invention, the stability and safety over time of the processing solution, especially the developer can be ensured. Furthermore, the pH in the membrane can be increased when necessary. As a result, the release of photographically useful groups is sufficient, and images with excellent photographic properties can be obtained.
■ 発明の具体的実施例
以下、本発明の具体的実施例について、詳細に説明する
。(2) Specific Examples of the Invention Specific examples of the present invention will be described in detail below.
実施例1
ポリエチレンで両面ラミネートした紙支持体上に、次の
第1層(最下層)〜第7層(最上層)を塗布して多層構
成のハロゲン化銀カラー感光材料を作成し、試料101
とした。Example 1 A silver halide color photosensitive material having a multilayer structure was prepared by coating the following first layer (lowest layer) to seventh layer (top layer) on a paper support laminated on both sides with polyethylene.
And so.
ネ42,5−ジ−t−オクチルハイドロキノシネ5
ブタンアミド〕アセトアニリド
尚、各層のゼラチン硬化剤としてl−オキシ−3,5−
ジクロロ−S−トリアジンナトリウム塩を用いた。l-oxy-3,5-
Dichloro-S-triazine sodium salt was used.
前記感材を像様露光した後、下記の現像工程に従い現像
処理した。After the photosensitive material was imagewise exposed, it was developed according to the following development process.
処理工程 温度 時間
〈発色現像液〉
A B
水 800 aI
L 800 tallニトリロトリ酢酸−3N
a 2.Og 2.0gベンジルアルコー
ル 14mIt 14 ■Iジエチレン
グリコール 10mIL10QI42亜硫酸ナト
リウム 2.0g 2.0g硫酸ヒ
ドロキシルアミン 3.0g 3.0g臭
化カリウム i、Og 1.
0g炭酸ナトリウム 30g
5g水酸化ナトリウム 1.6g
−ピコリン酸カリウム
30gN−エチル−N−
(β−メタンスルホンアミド
エチル)−3−メチル−4
一アミノアニリン・硫酸塩 5.0g 5.
0g水を加えて 1000 mILlo
oo tanplJ 10.
9 8.5く漂白定着液〉
水 40
0+1チオ硫酸アンモニウム
(70%溶i) 150 rrr(を亜硫
酸ナトリウム 18gエチレンジア
ミン四酢酸鉄
(I)アンモニウム 55gエチレンジアミ
ン四酢酸・2Na 5g水を加えて
1000+5Itp)1
6.70以下に写真性の結果について
表1に示す。Processing process Temperature Time <Color developer> A B Water 800 aI
L 800 tall nitrilotriacetic acid-3N
a2. Og 2.0g Benzyl alcohol 14mIt 14 ■I diethylene glycol 10mIL10QI42 Sodium sulfite 2.0g 2.0g Hydroxylamine sulfate 3.0g 3.0g Potassium bromide i, Og 1.
0g Sodium carbonate 30g
5g Sodium hydroxide 1.6g
-potassium picolinate
30gN-ethyl-N-(β-methanesulfonamidoethyl)-3-methyl-4 monoaminoaniline sulfate 5.0g 5.
Add 0g water and make 1000 mILlo
oo tanplJ 10.
9 8.5 Bleach-fix solution> Water 40
0+1 ammonium thiosulfate (70% solution) 150 rrr (add sodium sulfite 18g ethylenediaminetetraacetic acid iron (I) ammonium 55g ethylenediaminetetraacetic acid 2Na 5g water
1000+5Itp)1
Table 1 shows the results of photographic properties below 6.70.
表 1
表1から明らかなように、本発明の化合物(1)による
非画像部における現像抑制効果(カブリ防止効果)は本
発明の液pHの低い安定かつ安全な処理液によって得ら
れることがわかる。 特に、かぶり易いイエロー発色層
のかぶりが本発明の処理の方が大きく減少しかぶり部分
の視覚的白さが向上した。Table 1 As is clear from Table 1, the development suppression effect (fogging prevention effect) in non-image areas by the compound (1) of the present invention can be obtained by the stable and safe processing solution of the present invention with a low liquid pH. . In particular, the treatment of the present invention greatly reduced the fogging of the yellow coloring layer, which is prone to fogging, and improved the visual whiteness of the fogged areas.
実施例2
二酸化チタンを分散したポリエチレンでラミネートした
紙支持体上に、次の第1層(最下層)〜第6層(最上層
)を塗布してカラー感光材料201を作成した(下表中
ttrg/rrlは塗布量を表す。)
上記において、5OLVはフタル酸−n−ブチルエステ
ルであり、紫外線吸収剤は2−(2−ヒドロキシ−3−
sec−ブチル−5−t−ブチルフェニル)ベンゾトリ
アゾールである。Example 2 A color photosensitive material 201 was prepared by coating the following first layer (bottom layer) to sixth layer (top layer) on a paper support laminated with polyethylene in which titanium dioxide was dispersed (in the table below). ttrg/rrl represents the coating amount.) In the above, 5OLV is phthalic acid-n-butyl ester, and the ultraviolet absorber is 2-(2-hydroxy-3-
sec-butyl-5-t-butylphenyl)benzotriazole.
この感光材料を感光計で露光し以下の処理をした。This light-sensitive material was exposed with a sensitometer and subjected to the following processing.
前記方法にて作製した感光材料(カラーペーパー)を絵
焼プリント後、処理した。 この時の処理工程と処理液
の組成は以下の通りである。The photosensitive material (color paper) produced by the above method was printed and then processed. The treatment steps and composition of the treatment liquid at this time are as follows.
基準処理工程
(1)現像 33℃ 20秒(2)漂
白定着 33℃ 1分30秒(3)水洗
25〜30℃ 3分(4)乾燥 75〜80℃
約2分く現像タンク液〉
ベンジルアルコール 15mJLエチレ
ングリコール 15m1亜硫酸カリウム
2.0g臭化カリウム
0.7g塩化ナトリウム 0
.2g炭酸カリウム 30.0gヒ
ドロキシルアミン硫酸塩 3.0gヒドロキシエ
トキシイミノジ酢酸 2g1−ヒドロキシ−エチリ
デン−
1,1′−ジホスホン酸 1g3−メチル
−4−アミノ−N−エチ
ル−N−(β−メタンスルホンアミ
ドエチル)−アニリン硫酸塩 5.5g蛍光増白剤
(4,4’ −ジアミノ
スチルベンジルスルホン酸誘導体 1.0gピコリン酸
ソーダ 16.0g水酸化カリウム
2.0g水を加えて全量をlfiとする
。Standard processing steps (1) Development 33℃ 20 seconds (2) Bleach-fixing 33℃ 1 minute 30 seconds (3) Washing with water
25-30℃ 3 minutes (4) Drying 75-80℃
Approximately 2 minutes developing tank liquid> Benzyl alcohol 15ml ethylene glycol 15ml potassium sulfite
2.0g potassium bromide
0.7g Sodium chloride 0
.. 2g potassium carbonate 30.0g hydroxylamine sulfate 3.0g hydroxyethoxyiminodiacetic acid 2g 1-hydroxy-ethylidene-1,1'-diphosphonic acid 1g 3-methyl-4-amino-N-ethyl-N-(β-methanesulfone) Amidoethyl)-aniline sulfate 5.5g Optical brightener (4,4'-diaminostilbenzylsulfonic acid derivative 1.0g Sodium picolinate 16.0g Potassium hydroxide
Add 2.0g water to bring the total amount to lfi.
〈漂白定着タンク液〉
エチレンジアミンテトラ酢酸
第2鉄アンモニウム2水塩 60gエチレンジ
アミンテトラ酢酸 3gチオ硫酸アンモニウム
(70%溶液) 100mIt
亜硫酸アンモニウム
(40%溶液) 27.5mIL
炭酸カリウムまたは氷酢酸でpH7,1に調整すると共
に水を加えて全量をIItとする。<Bleach-fix tank solution> Ferric ammonium ethylenediaminetetraacetic acid dihydrate 60g ethylenediaminetetraacetic acid 3g ammonium thiosulfate (70% solution) 100ml Ammonium sulfite (40% solution) 27.5ml Adjust to pH 7.1 with potassium carbonate or glacial acetic acid At the same time, water is added to bring the total volume to IIt.
現像の結果は次に示すようにカラー印画紙に通した写真
特性が示された。The results of development showed photographic properties when passed through color photographic paper as shown below.
感 光 白地濃度 諧調 最高濃度材 料
(Dmin) (Dma
x)2 0 1 0.05” 1
.8” 1.9”*3色濃度(゛ステータス
A、R%G% B)についてほぼ同程度であった。Sensitivity Light White background density Gradation Highest density material
(Dmin) (Dma
x) 2 0 1 0.05" 1
.. 8"1.9"*The three color densities (status A, R%G%B) were almost the same.
なお用いた現像処理液処方は、各国で汎用のカラー印画
紙処方にピコリン酸ソーダを加えただけであるので普通
のカラー印画紙と処方を共通化できる。The developing solution formulation used was simply the addition of sodium picolinate to the general-purpose color photographic paper formulation used in each country, so the formulation could be shared with ordinary color photographic paper.
実施例3
実施例2の感光材料と処理液を用い、現像時間のみ20
秒から3分30秒に延長した。 得られた結果は、現像
時間の大巾延長にもかかわらずほぼ実施例2の写真特性
を再現した。 すなわちアルカリ発生機構を組み込むこ
とにより■ 現像時間変動の影習が減ること、
■ 従来型発送型像タイプのカラー感光材料との共通現
像を一層容易に行うことができること、
■ 過現像による濃度損失(露光部の現像終了後還元雰
囲気が回復され、PUG (この場合は色素の放出が起
る)を防止できること、
などの長所が現われることが示された。Example 3 Using the photosensitive material and processing solution of Example 2, only the developing time was 20
It was extended from seconds to 3 minutes and 30 seconds. The obtained results almost reproduced the photographic characteristics of Example 2 despite the large extension of the development time. In other words, by incorporating an alkali generation mechanism, ■ the effects of fluctuations in development time can be reduced, ■ common development with conventional shipping image type color photosensitive materials can be performed more easily, and ■ density loss due to overdevelopment can be reduced ( It has been shown that the reducing atmosphere is restored after the development of the exposed area is completed and that PUG (in this case, dye release occurs) can be prevented, among other advantages.
出願人 富士写真フィルム株式会社 −代理人 弁
理士 渡 辺 望 稔 ′ 同 弁理士
石 井 陽 −手続ネ山正書(自発)
昭和63年4月8日
1、事件の表示
昭和62年特許願第107569号
2、発明の名称
画像形成方法
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
住 所 神奈川県南足柄市中沼210番地名 称 <
520)富士写真フィルム株式会社4、代理人 〒10
1 ff1864−4498住 所 東京都千代田
区岩本町3丁目2番2号千代田岩本ビル 4階
6、補正の内容
(1)明細書第23ページ2〜11行目の[現像液 ・
・・ ・・・ 上昇させる。」を削除する。Applicant: Fuji Photo Film Co., Ltd. - Agent: Nozomi Watanabe, Patent Attorney
Yo Ishii - Procedural Neyama Masashi (self-proposal) April 8, 1988 1. Display of the case 1988 Patent Application No. 107569 2. Name of the invention Image forming method 3. Person making the amendment Relationship with the case Patent applicant address: 210 Nakanuma, Minamiashigara City, Kanagawa Prefecture Name: <
520) Fuji Photo Film Co., Ltd. 4, Agent 10
1 ff1864-4498 Address 4th floor 6, Chiyoda Iwamoto Building, 3-2-2 Iwamoto-cho, Chiyoda-ku, Tokyo Contents of amendment (1) [Developer solution] on page 23 of the specification, lines 2-11
・・・ ・・・ Raise it. ” to be deleted.
(2)同第24ベージ11−122行目「液膜に作用」
をr ?IIi膿にして作用」と補正する。(2) Page 24, lines 11-122 “Action on liquid film”
r? IIi It acts as pus.''
(3)同第27ページ4行目の[300μm程度では、
」をE増粘すればl O00u m程度でも」と補正す
る。(3) On page 27, line 4 [At about 300 μm,
"If the viscosity is increased by E, it will be corrected to about 1000 μm."
(4)同第28ページ下から5行目の「分でけ」をr分
だけ」と補正する。(4) Correct ``minuteke'' in the 5th line from the bottom of page 28 to read ``only r minutes''.
(5)同第28ページ下から5〜4行目の[−浴現像補
力処理では」を削除する。(5) Delete [-in bath development intensification processing] from the 5th to 4th lines from the bottom of page 28.
(6)同第28ページ下から2行目の「試料は」を「使
用は」と補正する。(6) In the second line from the bottom of page 28, "sample is" is corrected to "use is."
(7)同第28ページ下から2行目の[生じるため、」
の後に[一般に層流薄層処理における」を挿入する。(7) On page 28, second line from the bottom, [to arise,]
Insert "generally in laminar flow thin layer processing" after.
(8)同第49ページ4行目のr (TimehJをr
(Time?t Jと補正する。(8) r on page 49, line 4 (r
(Corrected as Time?t J.
(9)同第49ページ7行目のr、 E G 、A J
をrEAGJと補正する。(9) r, E G, A J on page 49, line 7
is corrected with rEAGJ.
(lO)同第98ページ1行目の「本発明の化合物」を
[化合物(1) 、 (II) 、 (III)
Jと補正する。(lO) "Compounds of the present invention" on page 98, line 1 of the same page are replaced with [compounds (1), (II), (III)]
Correct it with J.
(11)同第99ページ1行目および7行目の1mol
Jをそれぞれ「モル」と補正する。(11) 1 mol on page 99, lines 1 and 7
Correct each J to "mole".
(12)同第99ページ2行目の「〜5×10−”Jを
Fモル」と補正する。(12) Correct the second line of page 99 to "~5x10-" J to F moles.
(13)同第99ページ4行目の「現像促進剤または」
を削除する。(13) "Development accelerator or" on page 99, line 4
Delete.
(14)同第99ページ5行目の「好ましい。」の後に
r I) ’U Gが現像促進剤の場合、現像促進剤の
種類により好ましい添加量は大きく異なるが、一般に1
0−@〜l O−”モルであり、」を挿入する。(14) After "preferable." on page 99, line 5, r I) 'U When G is a development accelerator, the preferred addition amount varies greatly depending on the type of development accelerator, but generally 1
0-@~l O-"mol," is inserted.
(15)同第101ページ5〜13行目の[本発明の一
般式(1)・・・ ・・・ 低いものが好ましい。」を
削除する。(15) [General formula (1) of the present invention] on page 101, lines 5 to 13... A lower value is preferable. ” to be deleted.
(16)同第101ページ下から2行目の「その錯化合
物」を[金属錯化合物Jと補正する。(16) "The complex compound" in the second line from the bottom of page 101 is corrected to "metal complex compound J."
(II)同第103ベージ1−166行目「本発明 ・
・・ ・・・利用できる。」を削除する。(II) Page 103, lines 1-166 “The present invention ・
·· ···Available. ” to be deleted.
(18)同第106ページ6行目の「ヒキサデカン」を
「ヘキサデカン」と補正する。(18) Correct "hixadecane" in line 6 of page 106 to "hexadecane".
(19)同第108ページ下から8行目および下から5
行目のE本発明の化合物」を[化合物(り、(II 1
、(■)」と補正する。(19) Page 108, line 8 from the bottom and line 5 from the bottom
Line E "compound of the present invention" is defined as "compound (ri, (II 1
, (■)".
(20)同第109ページの「式(1)」を下記のよう
に補正する。(20) "Equation (1)" on page 109 of the same page is corrected as follows.
ヨ ヨ
ロ 、す=
年・
−■ 24−
一ト<<
″o” @−
電く
(21)同第110ページ2行目および下から7行目の
「本発明の化合物」を「化合物(+)、(11)、(I
II ) Jと補正する。Yo Yoro, Su = Year・ -■ 24- 1to<< ″o” @- Denku (21) “Compound of the present invention” on page 110, line 2 and line 7 from the bottom is replaced with “compound (+ ), (11), (I
II) Correct J.
(22)同第111ページの1式(2)」を下記のよう
に補正する。(22) "Equation 1 (2)" on page 111 of the same is corrected as follows.
ヨ 臼
復; 悶
璽 く−佃−
(23)同第126ページ下から4行目の「現像液」の
後に「(ただし1本発明の錯形成化合物を含む。)」を
挿入する。(23) Insert "(However, one complex-forming compound of the present invention is included)" after "Developer" in the fourth line from the bottom on page 126.
(24)同第145ページ9行目の「0.4μ」をrl
uJと補正する。(24) rl "0.4μ" on the 9th line of page 145
Correct as uJ.
(25)同第160ページの表の後に下記の記載を挿入
する。(25) Insert the following statement after the table on page 160.
[既に各所に述べたことではあるか1本発明の主な態様
を以下にまとめておく。[Although it has already been stated in various places, the main aspects of the present invention are summarized below.
1、PUGが色素であるPtJG放出性化合物とアルカ
リ発生機構を含んだカラー印画紙、カラーネガフィルム
、カラーポジフィルム、カラーリバーサルフィルム、単
色フィルムおよびオートポジタイプの印画紙とフィルム
。1. Color photographic paper, color negative film, color positive film, color reversal film, monochromatic film and auto-positive type photographic paper and film containing a PtJG-releasing compound in which PUG is a pigment and an alkali generating mechanism.
2、前記lにおいて、減量補充による浸浴処理、塗り付
は処理、1層処理、一般の浸浴処理、転写法などの語用
像処理方式。2. In the above 1, the terms image processing methods such as immersion processing by reducing and replenishing, coating processing, single layer processing, general immersion processing, and transfer method.
3、PLIGが現像抑制剤であるI) U G放出性化
合物である前記lに記載の感光材料と処理の組み合わせ
および前記2に記載の処理方式。3. The combination of the photosensitive material and processing described in item 1 above, in which PLIG is a development inhibitor I) which is a U G-releasing compound, and the processing method described in item 2 above.
4、紫外線吸収剤をPUGとするPUGl!l出性化合
物出金化合物lに記載の感光材料と処理の組み合わせお
よび前記2に記載の処理方式、」(26)同第162ペ
ージの表において。4. PUGl that uses PUG as an ultraviolet absorber! (26) In the table on page 162 of the same, "The combination of the photosensitive material and the processing described in 1 and the processing method described in 2 above."
第5層中の主な組成の欄の「本発明の化合物(1)」を
「例示化合物(1)」と補正する。"Compound (1) of the present invention" in the main composition column of the fifth layer is corrected to "Exemplary compound (1)".
(27)同第163ページの表において、第3層および
第1層中の主な組成の欄の[本発明の化合物(1)]を
それぞれ「例示化合物(1)」と補正する。(27) In the table on page 163, [Compound (1) of the present invention] in the main composition columns of the third layer and the first layer is corrected to "Exemplary Compound (1)."
(28)同第169ページの表において、第5層の項の
[本発明の化合物+32)Jを[例示化合物(32)J
と補正する。(28) In the table on page 169 of the same page, [Compound of the present invention + 32) J in the 5th layer section is replaced with [Exemplary compound (32) J
and correct it.
(29)同第169ページの表において、第3層の項の
r本発明の化合物(33)Jを[例示化合物(33)J
と補正する。(29) In the table on page 169, Compound (33)J of the present invention in the third layer section is replaced with [Exemplary Compound (33)J
and correct it.
(30)同第169ページの表において、第1層の項の
F本発明の化合物(34)Jを[例示化合物(34)J
と補正する。(30) In the table on page 169, Compound (34)J of the present invention in the first layer section is replaced with [Exemplary Compound (34)J
and correct it.
Claims (5)
( I )で表わされる化合物、および水に難溶な塩基性
金属化合物を有するハロゲン化銀感光材料を、上記水に
難溶な塩基性金属化合物を構成する金属イオンと錯形成
反応を起こして塩基を放出する化合物を含有する処理液
で現像処理することを特徴とする画像形成方法。 一般式( I ) PWR−(Time)−_tPUG {上記一般式( I )において、PWRは還元されるこ
とによって−(Time)−_tPUGを放出する基を
表わし、TimeはPWRから−(Time)−_tP
UGとして放出された後、後続する反応を介してPUG
を放出する基を表わす。tは0または1を表わし、PU
Gは写真有用基を表わす。}(1) A silver halide photosensitive material having a photosensitive silver halide emulsion, a compound represented by the following general formula (I), and a basic metal compound that is sparingly soluble in water is placed on a support. An image forming method comprising developing with a processing solution containing a compound that causes a complex formation reaction with metal ions constituting a basic metal compound to release a base. General formula (I) PWR-(Time)-_tPUG {In the above general formula (I), PWR represents a group that releases -(Time)-_tPUG upon reduction, and Time represents a group that releases -(Time)- from PWR. _tP
After being released as UG, PUG is formed through subsequent reactions.
represents a group that releases t represents 0 or 1, and PU
G represents a photographically useful group. }
(II)で表わされる特許請求の範囲第1項記載の画像形
成方法。 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ {上記一般式(II)においてEAGは、電子受容性の基
を表わす。 Nは窒素原子を表わし、Xは酸素原子 (−O−)、硫黄原子(−S−)あるいは窒素原子 (▲数式、化学式、表等があります▼)を表わす。 R^1、R^2およびR^3はそれぞれ単なる結合手あ
るいは水素原子以外の基を表わす。 R^1、R^2、R^3、EAGは互いに結合して環を
形成しても良い。 Timeは、N−X結合の開裂をひきがねとして後続す
る反応を介してPUGを放出する基を表わし、tは0ま
たは1の整数を表わす。 また式中実線は結合を破線はそのうちの少なくとも一つ
が結合していることを表わす。 PUG、EAGは特許請求の範囲第1項に記載されたも
のと同義である。}(2) The image forming method according to claim 1, wherein the compound represented by general formula (I) is represented by the following general formula (II). General formula (II) ▲There are numerical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ {In the above general formula (II), EAG represents an electron-accepting group. N represents a nitrogen atom, and X represents an oxygen atom (-O-), a sulfur atom (-S-), or a nitrogen atom (▲numerical formula, chemical formula, table, etc. available▼). R^1, R^2 and R^3 each represent a simple bond or a group other than a hydrogen atom. R^1, R^2, R^3, and EAG may be bonded to each other to form a ring. Time represents a group that releases PUG through a subsequent reaction triggered by cleavage of the N-X bond, and t represents an integer of 0 or 1. Further, a solid line in the formula represents a bond, and a broken line represents that at least one of them is bonded. PUG and EAG have the same meaning as described in claim 1. }
III)で表わされる特許請求の範囲第2項記載の画像形
成方法。 一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼ {上記一般式(III)においてYは二価の連結基を表わ
し、R^4はX、Yと結合し窒素原子とともに5ないし
8員の複素環を形成する原子群を表わす。 N、X、EAG、Time、t、PUGは特許請求の範
囲第2項に記載されたものと同義である。}(3) The compound represented by the general formula (II) has the following general formula (
The image forming method according to claim 2, which is represented by III). General formula (III) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ {In the above general formula (III), Y represents a divalent linking group, and R^4 is bonded to represents a group of atoms forming a heterocycle. N, X, EAG, Time, t, and PUG have the same meanings as described in claim 2. }
ンと錯形成反応を起こして塩基を放出する化合物を含有
する処理液をハロゲン化銀感光材料上に薄層状に適用す
る特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記載
の画像形成方法。(4) A patent claim in which a processing liquid containing a compound that releases a base by causing a complex formation reaction with metal ions constituting a basic metal compound that is sparingly soluble in water is applied in a thin layer onto a silver halide photosensitive material. The image forming method according to any one of the ranges 1 to 3.
III)で表わされる化合物、水に難溶な塩基性金属化合
物および還元性物質を含有し、この還元性物質より酸化
電位が高く、かつハロゲン化銀を還元可能な還元性物質
の存在下に画像を形成する特許請求の第1項ないし第4
項のいずれかに記載の画像形成方法。(5) The silver halide photosensitive material has the general formula (II) or (
The compound represented by III) contains a basic metal compound that is sparingly soluble in water and a reducing substance, and is imaged in the presence of a reducing substance that has a higher oxidation potential than the reducing substance and is capable of reducing silver halide. Paragraphs 1 to 4 of the patent claims forming
2. The image forming method according to any one of the above.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10756987A JPS63271445A (en) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | Image forming method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10756987A JPS63271445A (en) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | Image forming method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63271445A true JPS63271445A (en) | 1988-11-09 |
Family
ID=14462495
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10756987A Pending JPS63271445A (en) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | Image forming method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63271445A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02173635A (en) * | 1988-12-26 | 1990-07-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | Coating and developing method for silver halide color photographic sensitive material |
JPH0317648A (en) * | 1989-06-15 | 1991-01-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Color image forming method |
-
1987
- 1987-04-30 JP JP10756987A patent/JPS63271445A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02173635A (en) * | 1988-12-26 | 1990-07-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | Coating and developing method for silver halide color photographic sensitive material |
JPH0317648A (en) * | 1989-06-15 | 1991-01-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Color image forming method |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4157915A (en) | Color photographic light-sensitive material containing development precursor | |
US4578345A (en) | Method for processing color photographic light-sensitive material | |
JPS6325330B2 (en) | ||
JPS6148148B2 (en) | ||
JPH0246932B2 (en) | ||
JPS6327706B2 (en) | ||
JPH0246933B2 (en) | ||
JPH07117722B2 (en) | Silver halide color photographic light-sensitive material | |
US4845017A (en) | Method for processing silver halide color photographic light-sensitive material | |
US4508817A (en) | Method of color photographic processing | |
JPH0410061B2 (en) | ||
US4891304A (en) | Silver halide photographic materials | |
US4605611A (en) | Method for processing silver halide color photographic material | |
JPS63271445A (en) | Image forming method | |
US4942114A (en) | Silver halide photographic materials with reducible brightening agent releaser | |
JPH0528820B2 (en) | ||
JPS61290449A (en) | Formation of direct positive color image | |
JPS63271339A (en) | Photosensitive material | |
JPS6123544B2 (en) | ||
JPH083616B2 (en) | Color image forming method | |
JPH0799430B2 (en) | Silver halide photographic light-sensitive material | |
JPS59229558A (en) | Color photographic processing method | |
JPS62150344A (en) | Silver halide photographic sensitive material | |
JPH07119987B2 (en) | Silver halide photographic light-sensitive material | |
JPS63271350A (en) | Image forming method |