JPS63269394A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPS63269394A
JPS63269394A JP62103206A JP10320687A JPS63269394A JP S63269394 A JPS63269394 A JP S63269394A JP 62103206 A JP62103206 A JP 62103206A JP 10320687 A JP10320687 A JP 10320687A JP S63269394 A JPS63269394 A JP S63269394A
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transistor
resistor
level
input terminal
base
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Toshihiko Mori
俊彦 森
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C2211/00Indexing scheme relating to digital stores characterized by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C2211/56Indexing scheme relating to G11C11/56 and sub-groups for features not covered by these groups
    • G11C2211/561Multilevel memory cell aspects
    • G11C2211/5614Multilevel memory cell comprising negative resistance, quantum tunneling or resonance tunneling elements

Abstract

PURPOSE:To improve degree of integration, by providing a first input terminal by connecting load to the collector and the emitter of a resonant tunnel transistor in series and also, connecting a resistor to the base, and a second input terminal by connecting the resistor to the base, respectively. CONSTITUTION:The titled device is equipped with a transistor (for example, a transistor Q) whose base current has a differential negative resistance characteristic and whose collector current increases after the appearance of the differential negative resistance characteristic, the load (for example, a resistor R4) connected to the collector and the emitter of the transistor Q, the first input terminal (for example, an input terminal to which an input signal In1 is impressed) formed by connecting the resistor (for example, a resistor R1) to the base of the transistor Q, and the second input terminal (for example, the input terminal to which an input signal In2 is impressed) by connecting the resistor (for example, a resistor R2) similarly. In such a way, it is possible to reduce the number of required active devices, and to improve the degree of integration in a semiconductor memory device.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 本発明は、半導体記憶装置に於いて、共鳴トンネリング
・トランジスタのコレクタ・エミッタと直列に負荷を接
続し、且つ、そのベースに抵抗を接続して第1の入力端
を、そして、同じくベースに抵抗を接続して第2の入力
端をそれぞれ設けることに依り、1個の能動素子を用い
るのみでスタティック・ランダム・アクセス・メモリを
構成できるようにした。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] The present invention provides a semiconductor memory device in which a load is connected in series with the collector-emitter of a resonant tunneling transistor, and a resistor is connected to the base of the resonant tunneling transistor. By providing an input terminal and a second input terminal by connecting a resistor to the base, a static random access memory can be constructed using only one active element.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は、1個の共鳴トンネリング・トランジスタ(r
esonant−tunne 1 ingtransi
stor:RTT)で構成された半導体記憶回路に関す
る。
The present invention utilizes one resonant tunneling transistor (r
esonant-tunne 1 ingtransi
stor:RTT).

〔従来の技術〕[Conventional technology]

一般に、スタティック・ランダム・アクセス・メモリ 
(static  random  acces s 
 memo r y : SRAM)に於いては、一つ
のメモリ・セルを構成するのに最低4個のFET(fi
eld  effect  transist o r
)を用いていて、そのうち2個をクリップ・フロップ回
路に当て、そして、残り2個をトランスファ・ゲートに
当てている。また、ダブル・エミッタのバイポーラ・ト
ランジスタの場合には最低2個が必要である。
Generally, static random access memory
(static random accesses
Memory: In SRAM), at least four FETs (FIG.
eld effect transistor
), two of which are applied to the clip-flop circuit, and the remaining two are applied to the transfer gate. Also, in the case of a double emitter bipolar transistor, at least two are required.

(発明が解決しようとする問題点〕 現在、半導体集積回路装置に於ける解決すべき最大の技
術的課題としては高集積化が挙げられ、前記の如き半導
体記憶回路もその例外ではない。
(Problems to be Solved by the Invention) At present, the greatest technical problem to be solved in semiconductor integrated circuit devices is high integration, and the above-mentioned semiconductor memory circuit is no exception.

ところで、従来、その目的を達成する為、トランジスタ
自体を如何に小型化するかに努力が払われてきたが、こ
のようなことは早晩行き詰まることは必至であるから、
何か別の手段を採ることが必要となる。
By the way, in the past, efforts have been made to miniaturize the transistor itself in order to achieve this goal, but it is inevitable that such efforts will come to a dead end sooner or later.
It is necessary to adopt some other means.

そこで考えられることは、半導体集積回路装置としての
作用や効果は変わるところがないようにし、しかも、そ
れを構成するトランジスタの数は少なくなるようにする
ことである。
Therefore, what can be considered is to maintain the same functions and effects as a semiconductor integrated circuit device, and to reduce the number of transistors that make up the device.

然しなから、半導体記憶回路の場合、通常のトランジス
タを使用している限り、そのような問題に対処するには
限界があり、これも手詰まり状態にある。
However, in the case of semiconductor memory circuits, as long as ordinary transistors are used, there is a limit to how these problems can be addressed, and this is also at an impasse.

本発明は、例えば共鳴トンネリング・ホット・エレクト
ロン・トランジスタ(resonant−tunnel
ing  hot  electr。
The present invention is applicable to, for example, resonant-tunneling hot electron transistors.
ing hot electr.

n  transistor:RHET)の如きRTT
で半導体記憶回路を構成することに依り、必要とされる
トランジスタの数を低減させ、集積度を向上させようと
する。
RTT such as ntransistor (RHET)
By configuring a semiconductor memory circuit in this way, the number of required transistors is reduced and the degree of integration is improved.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

近年、RHETを始めとし、キャリヤの注入源として共
鳴トンネル障壁を利用する、所謂、RTTの研究及び開
発が盛んである。
In recent years, research and development of so-called RTT, including RHET, which utilizes a resonant tunnel barrier as a carrier injection source, has been active.

第4図はRTTの一種であるR HE Tの電圧・電流
特性を表す線図であり、横軸にはベース・エミッタ間電
圧■、を、また、縦軸にはベース電流I、並びにコレク
タ電流ICをそれぞれ採っである。
Figure 4 is a diagram showing the voltage/current characteristics of RHE T, which is a type of RTT, with the horizontal axis representing the base-emitter voltage, and the vertical axis representing the base current I and the collector current. Each IC was taken.

図では、ベース電流is及びコレクタ電流■。In the figure, base current is and collector current ■.

の特性線に対し、ベース入力電圧■8が■□であるとき
(一点鎖線)、 Vlgであるとき(実線)、 VIl3であるとき(二点鎖線) それぞれの負荷線が表され、また、Sl及びS2は安定
点を示している。
For the characteristic line of and S2 indicate the stable point.

図から判るように、RHETに於けるベース電流IIは
N字型特性を示し、所謂、微分負性抵抗特性をもってい
て、コレクタ電流I、はベース電流isに微分負性抵抗
特性が現れるまでは殆ど流れず、それが現れてからは急
速に立ち上がる(要すれば、特願昭61−138630
号参照)。
As can be seen from the figure, the base current II in the RHET exhibits an N-shaped characteristic and has a so-called differential negative resistance characteristic, and the collector current I is almost constant until the differential negative resistance characteristic appears in the base current is. It does not flow, and after it appears, it quickly rises (in short, patent application 138630/1986)
(see issue).

このような特性を利用すれば、1個のRHETでフリッ
プ・フロップ回路を構成することができる。
By utilizing such characteristics, a flip-flop circuit can be constructed using one RHET.

第5図はRHETを用いたフリップ・フロップ回路を表
し、第4図に於いて用いた記号と同記号は同部分を示す
か或いは同じ意味を持つものとする。
FIG. 5 shows a flip-flop circuit using RHET, and the same symbols as those used in FIG. 4 indicate the same parts or have the same meanings.

図に於いて、QはRHETであるトランジスタ、R3は
ベース・エミッタと直列に挿入された抵抗、■、はベー
ス入力電圧、VCCは正側電源レベルをそれぞれ示して
いる。
In the figure, Q is a RHET transistor, R3 is a resistor inserted in series with the base and emitter, ■ is the base input voltage, and VCC is the positive power supply level.

第4図を参照しつつ第5図に見られる回路の動作を説明
する。
The operation of the circuit shown in FIG. 5 will be explained with reference to FIG.

Vm=VszO時、動作点に二つの安定点S、並びに8
2が存在し、安定点SIの場合、コレクタ電流ICは殆
ど流れていないから、このトランジスタQはオフ状態で
あり、また、安定点S2の場合、コレクタ電流■、は流
れているから、トランジスタQはオン状態である。
When Vm=VszO, there are two stable points S and 8 at the operating point.
2 exists, and in the case of a stable point SI, the collector current IC is hardly flowing, so this transistor Q is in the off state, and in the case of a stable point S2, the collector current ■, is flowing, so the transistor Q is in the on state.

動作点を安定点S1からSz、即ち、トランジスタQを
オフからオンに遷移させるには、一旦、Vl >Vl3
としてから再びVIl−VIl2にすれば良い。
In order to change the operating point from the stable point S1 to Sz, that is, to transition the transistor Q from off to on, once Vl > Vl3
, and then change it to VIl-VIl2 again.

動作点を安定点S2からSl、即ち、トランジスタQを
オンからオフに遷移させるには、一旦、Vll<Vll
としてから再びV、=VB□にすれば良い。
In order to transition the operating point from the stable point S2 to Sl, that is, from on to off the transistor Q, once Vll<Vll
Then, set V,=VB□ again.

前記説明から判るように、第5図に見られる回路は能動
素子として僅か1個のトランジスタQを使用するのみで
フリップ・フロップ動作を行うことができる。
As can be seen from the foregoing description, the circuit shown in FIG. 5 is capable of flip-flop operation using only one transistor Q as an active element.

本発明者は、前記のようにRHETなどRTTが1個の
みでフリップ・フロップ回路を構成し得ることから、そ
れに若干の改変を施すことで極めて容易にSRAMを実
現させることに成功した。
As described above, since a flip-flop circuit can be configured with only one RTT such as RHET, the inventor succeeded in realizing an SRAM extremely easily by making some modifications to the flip-flop circuit.

第1図は本発明に依る半導体記憶装置の原理を説明する
為の要部回路図を表し、第5図に於いて用いた記号と同
記号は同部分を示すか或いは同じ意味を持つものとする
FIG. 1 shows a main circuit diagram for explaining the principle of a semiconductor memory device according to the present invention, and the same symbols as those used in FIG. 5 indicate the same parts or have the same meaning. do.

図に於いて、R+ 、Rt 、Raは抵抗、Io及び■
。2は入力信号、O2は出力信号をそれぞれ示している
。尚、ここでは、入力信号Iru及びI、l□が抵抗R
4及びR2を通って現れたものがベース入力端子■8で
あるとしている。
In the figure, R+, Rt, Ra are resistances, Io and ■
. 2 indicates an input signal, and O2 indicates an output signal. Note that here, the input signals Iru and I, l□ are connected to the resistor R
4 and R2, is assumed to be the base input terminal 8.

第2図(A)乃至(D)は第1図に見られる半導体記憶
装置の動作を説明する為のタイミング・チャートを表し
、(A)は入力信号I0に、(B)は入力信号11に、
(C)はベース入力電圧■。
FIGS. 2(A) to (D) represent timing charts for explaining the operation of the semiconductor memory device shown in FIG. ,
(C) is the base input voltage■.

に、(D)は出力信号O2に関するものであり、何れに
於いても、横軸には時間を、縦軸にはレベルをそれぞれ
採ってあり、第1図及び第4図に於いて用いた記号と同
記号は同部分を示すか或いは同じ意味を持つものとする
, (D) relates to the output signal O2, and in both cases, the horizontal axis represents time and the vertical axis represents level, which were used in Figures 1 and 4. Symbols and the same symbol indicate the same part or have the same meaning.

図に於いて、T’+ 、Tz 、T3 、T4 、Ts
はタイミングをそれぞれ示している。
In the figure, T'+, Tz, T3, T4, Ts
indicates the timing.

第2図(A)乃至(D)を参照しつつ第1図に見られる
半導体記憶装置の動作を説明する。
The operation of the semiconductor memory device shown in FIG. 1 will be explained with reference to FIGS. 2(A) to 2(D).

さて、今、第1図の半導体記憶装置に於いて、抵抗R3
とベース・エミッタ間抵抗とを加えた抵抗値に比較して
抵抗R1及びR2を小さく採っておけば、ベース入力電
圧V、は抵抗R8及びR2に略依存して決まる。尚、こ
こでは、抵抗R3及びRtO値は等しいものとしである
が、これには限定されない。そして、抵抗R3及びR2
の値が等しいときは、ベース入力電圧V、は、入力信号
Inlと1.l!との中間の値となる。また、トランジ
スタQの動作点が安定点SIにあればアンコンダクティ
ブ、即ち、オフ状態であって出力信号0゜は“H”レベ
ル、動作点が安定点S2にあればコンダクティブ、即ち
、オン状態であって出力信号0、は″Lルベルである。
Now, in the semiconductor memory device shown in FIG.
If the resistances R1 and R2 are set to be small compared to the sum of the resistance and the base-emitter resistance, the base input voltage V is determined approximately depending on the resistances R8 and R2. Note that although the resistance R3 and the RtO value are assumed to be equal here, the present invention is not limited to this. And resistors R3 and R2
When the values of are equal, the base input voltage V, is equal to the input signal Inl and 1. l! The value will be intermediate between . Also, if the operating point of the transistor Q is at the stable point SI, it is inconductive, that is, it is in the off state, and the output signal 0° is at "H" level, and if the operating point is at the stable point S2, it is conductive, that is, it is in the on state. Therefore, the output signal 0 is "L level".

入力信号■1及びI。を組み合わせれば、その平均の電
圧であるベース入力電圧vllの値は、ハイ・レベル(
“H”レベル)、ミディアム・レベル(”M”レベル)
、ロー・レベル(“L”レベル)の3値が得られ、入力
信号I、、、並びにI7□が共に“H・レベルのときは
ベース入力電圧V、も・H・レベル、また、共に“L”
レベルのときは“L”レベル、更にまた、それ以外のと
きは“M”レベルである。
Input signals ■1 and I. , the value of the base input voltage vll, which is the average voltage, becomes the high level (
“H” level), medium level (“M” level)
, low level (“L” level) are obtained, and when the input signals I, , , and I7□ are both “H” level, the base input voltage V, is also “H” level, and both are “H” level. L"
When the level is high, the level is "L", and at other times, the level is "M".

この半導体記憶装置に情報の書き込み或いは保存を行う
場合について説明する。
A case in which information is written or stored in this semiconductor memory device will be described.

今、トランジスタQの動作点が安定点SLに在るものと
し、第2図に於けるタイミング下2或いはT4に見られ
るように、入力信号In+及びIn2が共に“H”レベ
ル、即ち、ベース入力電圧■。
Now, it is assumed that the operating point of the transistor Q is at the stable point SL, and as seen at timing 2 or T4 in FIG. Voltage ■.

が“H”レベルであるとき、それが第4図に於けるvs
iより大になるように設定しておけば、トランジスタQ
の動作点は安定点S、からStに遷移するものである。
When is at “H” level, it is vs.
If it is set to be larger than i, the transistor Q
The operating point of is a transition from the stable point S, to St.

また、第2図に於けるタイミングT、に見られるように
、入力信号■、及び11が共に“L”レベル、即ち、ベ
ース入力電圧VBが“L”レベルであるとき、それが第
4図に於ける■、より小になるように設定しておけば、
トランジスタQの動作点は安定点S2からSlに遷移す
るものである。
Furthermore, as seen at timing T in FIG. 2, when both input signals ① and 11 are at the "L" level, that is, when the base input voltage VB is at the "L" level, the timing T in FIG. If you set it to be smaller,
The operating point of transistor Q transitions from stable point S2 to Sl.

更にまた、入力信号■1及びI7□の何れか一方が“H
”レベル且つ他方が“L”レベルであるとき、ベース入
力電圧VIlが第4図に於けるV113及びV、の間と
なるように設定しておけば、トランジスタQの動作点に
遷移は起こらない。
Furthermore, either one of the input signals ■1 and I7□ is “H”.
” level and the other is “L” level, if the base input voltage VIl is set to be between V113 and V in FIG. 4, no transition will occur in the operating point of transistor Q. .

前記したところを取り纏めると、入力信号■1及び1.
、が共にH”レベル或いは“L”レベルである場合のみ
情報の書き込み(書き換え)が行われ、それ以外では、
情報は保存、即ち、半導体記憶装置はメモリ動作をする
ことになる。ここで、第2図に見られるように、パルス
である入力信号IMEを情報書き込み(書き換え)のタ
イミング・パルスであるとすると、このタイミング・パ
ルスが入った時、入力信号I0が“H”レベルであれば
、出力信号O4は“H”レベルから“L”レベルに変化
し、そして、その場合に入力信号In+が“L”レベル
であれば、出力信号Otは“L”レベルから”H”レベ
ルに変化するものである。
To summarize the above, input signals 1 and 1.
, are both at H" level or "L" level, information is written (rewritten). Otherwise,
Information is stored, that is, the semiconductor memory device performs a memory operation. Here, as shown in Figure 2, if the input signal IME, which is a pulse, is a timing pulse for information writing (rewriting), when this timing pulse is input, the input signal I0 goes to the "H" level. If so, the output signal O4 changes from the “H” level to the “L” level, and in that case, if the input signal In+ is the “L” level, the output signal Ot changes from the “L” level to the “H” level. It changes depending on the level.

次に、この半導体記憶装置で情報の読み出しを行う場合
について説明する。
Next, a case in which information is read from this semiconductor memory device will be described.

この場合には、入力信号1 nlとしては“M”レベル
を適用するので、入力信号I+szが入っテモ・トラン
ジスタQの動作点が安定点SlからStに遷移したり、
或いは、逆方向に遷移するなどの事態は起こらず、従っ
て、書き込み(書き換え)は行われない。
In this case, the "M" level is applied as the input signal 1 nl, so when the input signal I+sz is input, the operating point of the transistor Q changes from the stable point Sl to St.
Alternatively, a situation such as a transition in the opposite direction does not occur, and therefore no writing (rewriting) is performed.

さて、トランジスタQの動作点が安定点SIに在るとし
、第2図のタイミングTtに見られるように、入力信号
1.11が“M”レベルであって、そこにタイミング・
パルスである入力信号1ntが入っても、トランジスタ
Qがアンコンダクティブ、即ち、オフ状態である為、出
力信号OLの変化は極めて僅かしか起こらない。換言す
ると、この場合、入力信号1.に変化があっても出力信
号01としては変化が殆ど起こらないのであり、第2図
(D)では、その状態を○で囲み記号Aで指示しである
Now, suppose that the operating point of the transistor Q is at the stable point SI, and as seen at the timing Tt in FIG. 2, the input signal 1.11 is at the "M" level, and the timing
Even if the input signal 1nt, which is a pulse, is input, the output signal OL changes very little because the transistor Q is inconductive, that is, in an off state. In other words, in this case, input signals 1. Even if there is a change in the output signal 01, there is almost no change in the output signal 01, and in FIG. 2(D), this state is indicated by a circle and a symbol A.

然しなから、トランジスタQの動作点が安定点S2に在
ると、第2図のタイミングT5に見られるように、入力
信号1r+1が前記同様に“M”レベルであっても、そ
こに入力信号In!が入った場合には、トランジスタQ
がコンダクティブ、即ち、オン状態になっていること、
しかも、第4図を見ても判るように僅かのベース入力電
圧■4の変化でコレクタ電流T、が急激に変化すること
から、出力信号0.には大きな変化が起こるものであり
、第2図CD>では、その状態を○で囲み記号Bで指示
しである。
However, if the operating point of the transistor Q is at the stable point S2, as seen at timing T5 in FIG. In! , the transistor Q
is conductive, that is, is in an on state;
Moreover, as can be seen from FIG. 4, the collector current T changes rapidly with a slight change in the base input voltage (4), so that the output signal 0. A large change occurs, and in FIG. 2 CD>, this state is indicated by a circle and a symbol B.

このような出力信号OLに於ける変動の大きさを検出す
れば、トランジスタQが安定点S1及びS!の何れの動
作点に在ったかが判り、情報の読み出しを行うことがで
きる。
If the magnitude of such fluctuation in the output signal OL is detected, the transistor Q will be adjusted to the stable points S1 and S! It is possible to know which operating point the current state is in, and to read information.

前記したようなことから、本発明に依る半導体記憶装置
に於いては、ベース電流は微分負性抵抗特性をもち且つ
コレクタ電流は該微分負性抵抗特性が現れてから大きく
流れるトランジスタ(例えばトランジスタQ)と、該ト
ランジスタのコレクタ・エミッタと直列接続された負荷
(例えば抵抗R,)と・該トランジスタのベースに抵抗
(例えば抵抗R+)を接続して形成された第1の入力端
(例えば入力信号■1が印加される入力端)及び同じく
ベースに抵抗(例えば抵抗R1)を接続して形成された
第2の入力端(例えば入力信号rnzが印加される入力
端)とを備えている。
As described above, in the semiconductor memory device according to the present invention, the base current has a differential negative resistance characteristic, and the collector current flows significantly after the differential negative resistance characteristic appears (for example, the transistor Q). ), a load (e.g., resistor R,) connected in series with the collector/emitter of the transistor, and a first input terminal (e.g., input signal 1) and a second input terminal (for example, an input terminal to which an input signal rnz is applied), which is also formed by connecting a resistor (for example, a resistor R1) to the base.

〔作用〕[Effect]

前記手段を採ることに依り、第1の入力端及び第2の入
力端に“H″レベル或は“Lルベルの入力信号を印加す
ることで情報の書き込みを、また、第1の入力端に“M
”レベルの入力信号を、そして、第2の入力端にタイミ
ング・パルスである人力信号を印加することで情報の読
み出しをそれぞれ行うことが可能であり、従って、SR
AMが僅か1個のRTTと数本の抵抗で構成され、従来
と比較すると、必要とされる能動素子の数は少なくなり
、従って、半導体記憶装置の集積度は飛躍的に向上する
By adopting the above means, by applying an input signal of "H" level or "L level" to the first input terminal and the second input terminal, information can be written to the first input terminal. “M
It is possible to read out information by applying a level input signal and a human input signal, which is a timing pulse, to the second input terminal.
Since the AM is composed of only one RTT and several resistors, the number of required active elements is reduced compared to the conventional technology, and therefore the degree of integration of the semiconductor memory device is dramatically improved.

〔実施例〕〔Example〕

第3図は本発明一実施例の要部回路図を表し、第1図及
び第2図に於いて用いた記号と同記号は同部分を示すか
或いは同じ意味を持つものとする。
FIG. 3 shows a circuit diagram of a main part of an embodiment of the present invention, and the same symbols as those used in FIGS. 1 and 2 indicate the same parts or have the same meanings.

図に於いて、Ql、Q2・・・・はRHE Tであるト
ランジスタ、WLI、WL2・・・・はワード線、BL
I、BL2・・・・はビット線、RRl、RL2・・・
・は読み出し線をそれぞれ示している。
In the figure, Ql, Q2... are RHET transistors, WLI, WL2... are word lines, BL
I, BL2... are bit lines, RRl, RL2...
・indicates a readout line, respectively.

図から判るように、本実施例は、第1図及び第2図に関
して説明した半導体記憶装置をマトリクスに組んでアレ
イ化したものであり、トランジスタQ1、Q2・・・・
に対する入力信号In+は、それぞれに対応するワード
線WLI、WL2・・・・から、そして、入力信号1.
2は、同じく対応するビット線BL1.BL2・・・・
から与えられ、また、トランジスタQl、Q2・・・・
の出力端は、それぞれ対応する読み出し線RL1.RL
2・・・・に接続されているものである。
As can be seen from the figure, in this embodiment, the semiconductor memory devices explained in connection with FIGS. 1 and 2 are arranged in a matrix to form an array, and transistors Q1, Q2, . . .
Input signals In+ for the respective word lines WLI, WL2, . . . and input signals 1 .
2 is also the corresponding bit line BL1. BL2...
Also, the transistors Ql, Q2...
The output ends of the respective read lines RL1. R.L.
2... is connected to...

本実施例に於いて、書き込み(書き換え)を行うには、
ワード線WL (WL 1 、 WL 2・・・・を代
表する)及びビット線BL (BLI、BL2・・・・
を代表する)の両方を“H”レベルにするか、或いは、
“L″レベルする。例えば、ワード線WLを“H″レベ
ルしておき、ビット線BLIに“H”レベルのタイミン
グ・パルスを印加すると、トランジスタQ1が選択され
て書き込みが行われる。
In this embodiment, to write (rewrite),
Word line WL (representative of WL 1, WL 2, etc.) and bit line BL (BLI, BL2, etc.)
(representative) to “H” level, or
Goes to "L" level. For example, when the word line WL is set to the "H" level and a timing pulse of the "H" level is applied to the bit line BLI, the transistor Q1 is selected and writing is performed.

また、読み出しを行うには、例えば、ワード線WLを“
M”レベルにしておき、ビット線BLIにタイミング・
パルスを印加すると、トランジスタQlから読み出し線
RLIに情報が読み出される。この際、他のトランジス
タQ2・・・・などには変化がないことは云うまでもな
いが、若し、読み出された情報、即ち、電流が他のメモ
リ・セルに影響を及ぼす懸念があれば、トランジスタQ
(Ql、Q2・・・・を代表する)の出力端と読み出し
線RL (RLI、RL2・・・・を代表する)との間
にキャパシタを介挿し、電圧変化のみを取り出すように
すれば問題はなくなる。
In addition, in order to read, for example, the word line WL is
M” level and apply timing signal to bit line BLI.
When a pulse is applied, information is read out from transistor Ql to readout line RLI. At this time, it goes without saying that there is no change in other transistors Q2, etc., but if there is a concern that the read information, that is, the current, will affect other memory cells. For example, transistor Q
If you insert a capacitor between the output terminal of the terminal (representing Ql, Q2, etc.) and the readout line RL (representing RLI, RL2, etc.) and take out only the voltage change, the problem will be solved. will disappear.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明に依る半導体記憶装置に於いては、共鳴トンネリ
ング・トランジスタのコレクタ・エミッタと直列に負荷
を接続し、且つ、そのベースに抵抗を接続して第1の入
力端を、そして、同じくベースに抵抗を接続して第2の
入力端をそれぞれ設けである。
In the semiconductor memory device according to the present invention, a load is connected in series with the collector-emitter of the resonant tunneling transistor, a resistor is connected to the base of the resonant tunneling transistor, and the first input terminal is connected to the base of the resonant tunneling transistor. A resistor is connected to each provide a second input terminal.

このような構成を採ることに依り、第1の入力端及び第
2の入力端にH”レベル或いは″Lルベルの入力信号を
印加することで情報の書き込みを、また、第1の入力端
に“M”レベルの入力信号を、そして、第2の入力端に
タイミング・パルスである入力信号を印加することで情
報の読み出しをそれぞれ行うことが可能であり、従って
、SRAMが僅か1個のRTTと数本の抵抗で構成され
、従来と比較すると、必要とされる能動素子の数は少な
くなり、従って、半導体記憶装置の集積度は飛躍的に向
上する。
By adopting such a configuration, information can be written by applying an input signal of ``H'' level or ``L level to the first input terminal and the second input terminal, and information can be written to the first input terminal. By applying an “M” level input signal and an input signal that is a timing pulse to the second input terminal, it is possible to read information, respectively. Compared to the conventional method, the number of active elements required is reduced, and the degree of integration of the semiconductor memory device is therefore dramatically improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の詳細な説明する為の半導体記憶装置の
要部回路図、第2図(A)乃至(D)は第1図に見られ
る半導体記憶装置の動作を説明する為のタイミング・チ
ャート、第3図は本発明一実施例の要部回路図、第4図
はRHETの電圧・電流特性を示す線図、第5図はRH
ETを用いたフリップ・フロップ回路の要部回路図をそ
れぞれ表している。 図に於いて、1.はベース電流、I、はコレクタN?M
、、■、はベース・エミッタ間電圧、S1及’C) S
 zは安定点、QはRHETであるトランジスタ、R+
 、Rz 、R3、Raは抵抗、I7□並びに17□は
入力信号、0.は出力信号、■、はベース入力電圧、V
CCは正側電源レベルを示している。 特許出願人   富士通株式会社 代理人弁理士  相 谷 昭 司 代理人弁理士  渡 邊 弘 − RHETを用いた半導体記憶装置の要部回路図第1図 実施例の要部回路図 第3図 RHE丁の電圧・電流特性を示す線図 第4図 RHET奄用いたフリラフ゛・フロップ回路の要部回路
図第5図
FIG. 1 is a circuit diagram of a main part of a semiconductor memory device for explaining the present invention in detail, and FIGS. 2(A) to (D) are timing diagrams for explaining the operation of the semiconductor memory device shown in FIG.・Chart, Figure 3 is a circuit diagram of the main part of one embodiment of the present invention, Figure 4 is a diagram showing the voltage/current characteristics of RHET, Figure 5 is a diagram of RHET.
Each shows a circuit diagram of a main part of a flip-flop circuit using ET. In the figure, 1. is the base current, I is the collector N? M
,, ■, is the base-emitter voltage, S1 and 'C) S
z is the stability point, Q is the RHET transistor, R+
, Rz, R3, and Ra are resistors, I7□ and 17□ are input signals, 0. is the output signal, ■ is the base input voltage, V
CC indicates the positive power level. Patent Applicant: Fujitsu Ltd. Representative Patent Attorney: Akira Aitani Representative Patent Attorney: Hiroshi Watanabe - Figure 1 Main part circuit diagram of a semiconductor storage device using RHET Figure 1 Main part circuit diagram of an embodiment Figure 3 Figure 4: Diagram showing voltage and current characteristics Figure 5: Main part circuit diagram of frill-flop circuit using RHET

Claims (1)

【特許請求の範囲】 ベース電流は微分負性抵抗特性をもち且つコレクタ電流
は該微分負性抵抗特性が現れてから大きく流れるトラン
ジスタと、 該トランジスタのコレクタ・エミッタと直列接続された
負荷と、 該トランジスタのベースに抵抗を接続して形成された第
1の入力端及び同じくベースに抵抗を接続して形成され
た第2の入力端と を備えてなることを特徴とする半導体記憶装置。
[Claims] A transistor whose base current has a differential negative resistance characteristic and whose collector current flows significantly after the differential negative resistance characteristic appears; a load connected in series with the collector and emitter of the transistor; A semiconductor memory device comprising: a first input terminal formed by connecting a resistor to the base of a transistor; and a second input terminal formed by connecting a resistor to the base.
JP62103206A 1987-04-28 1987-04-28 Semiconductor memory device Granted JPS63269394A (en)

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JP62103206A JPS63269394A (en) 1987-04-28 1987-04-28 Semiconductor memory device
US07/184,222 US4907196A (en) 1987-04-28 1988-04-21 Semiconductor memory device using resonant-tunneling transistor
DE88401025T DE3882791T2 (en) 1987-04-28 1988-04-26 Semiconductor memory device with a resonance tunnel transistor.
EP88401025A EP0289420B1 (en) 1987-04-28 1988-04-26 Semiconductor memory device using resonant-tunneling transistor
KR1019880004835A KR910002031B1 (en) 1987-04-28 1988-04-28 Semiconductor memory device using resonant-tunneling transister

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5023836A (en) * 1988-07-20 1991-06-11 Fujitsu Limited Semiconductor memory device

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US5023836A (en) * 1988-07-20 1991-06-11 Fujitsu Limited Semiconductor memory device

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