JPS63234494A - Dynamic type semiconductor memory device - Google Patents

Dynamic type semiconductor memory device

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JPS63234494A
JPS63234494A JP62069404A JP6940487A JPS63234494A JP S63234494 A JPS63234494 A JP S63234494A JP 62069404 A JP62069404 A JP 62069404A JP 6940487 A JP6940487 A JP 6940487A JP S63234494 A JPS63234494 A JP S63234494A
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sense amplifier
bit
memory cell
lines
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Hideto Hidaka
秀人 日高
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Abstract

PURPOSE:To reduce a capacity coupling noise by connecting either of bit line pairs to a sense amplifier and separating the other one from the sense amplifier. CONSTITUTION:One bit line of the bit line pair constituted of odd number-th bit lines BL1 and the inverse of BL1 based on the sense amplifier activating signals phiso, and the inverse of phiso of a sense amplifier activating signal generating circuit SAG as a connecting and separating means is connected to the sense amplifier SA1 and the other bit line is separated from the SA1. Based on other sense amplifier activating signals phis1, and the inverse of phis1, one bit line of the bit line pair constituted of the even number-th bit lines BL2, and the inverse of BL2 is connected to the sense amplifier SA3 and the other bit line is separated from the SA3. Thereby, the capacity coupling noise resulting from the capacity between the adjacent bit lines can be reduced.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明はダイナミック形半導体記憶装置に関するもの
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a dynamic semiconductor memory device.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第’y1mは従来のダイナミック形半導体記憶装置を示
す。図において、MC,、MC,はメモリセルで、1個
のMC5トランジスタと、1個のコンデンサにより構成
され、前記メモリセルMC,にはビット線BLとワード
線WL、が、前記メモリセルMC,にはビット線BLと
ワード線WL。
No. 'y1m shows a conventional dynamic semiconductor memory device. In the figure, MC, MC is a memory cell composed of one MC5 transistor and one capacitor, and the memory cell MC has a bit line BL and a word line WL. has a bit line BL and a word line WL.

が接続されている。Q + 、 Q’1はトランスファ
ゲートで、それぞれのゲートにコラムデコーダCDが接
続され、トランスファゲートQ1にはビット1ilBL
とデータ入出力線I10が、前記トランスファゲートQ
1にはビット線BLとデータ人出力線I10が接続され
でいる。DCo、DC,はダミーセルで、前記ダミーセ
ルDCoにはダミーワード線DWLoが、前記ダミーセ
ルDC,にはダミーワード線D W L +が接続され
ている。SAはセンスアンプで、前記ビット線BL、B
L、センスアンプ活性化信号線φ8゜φSが接続されて
いる(第8図参照)。
is connected. Q + and Q'1 are transfer gates, a column decoder CD is connected to each gate, and a bit 1ilBL is connected to the transfer gate Q1.
and the data input/output line I10 are connected to the transfer gate Q.
1 is connected to the bit line BL and the data output line I10. DCo and DC are dummy cells, and a dummy word line DWLo is connected to the dummy cell DCo, and a dummy word line D W L + is connected to the dummy cell DC. SA is a sense amplifier, and the bit lines BL, B
L and sense amplifier activation signal line φ8°φS are connected (see FIG. 8).

第9図に示すように各ビット線は、セルプレートかある
いは基板を介して、接地電位(固定電位)に対して容R
c +を、対をなすビット線の間は容量 C2を、隣り
合うビット線対の間は容量C3を有する。
As shown in FIG. 9, each bit line has a resistance R to ground potential (fixed potential) via the cell plate or substrate.
c+, a capacitance C2 between paired bit lines, and a capacitance C3 between adjacent bit line pairs.

メモリセルMC,、MC,には、ハイレベル(l()の
ときCm V cc (V cc書き込み)の電荷が蓄
積され、ローレベル(L)のときo (ovaき込み)
、すなわち、電荷が蓄積されない。また、ダミーセルD
C,,DC,にはC5vI、c/2(例えば、C3の容
量にVcc/2古き込み)の電荷が蓄積されるものとす
る。
In the memory cells MC,, MC, a charge of Cm V cc (V cc write) is accumulated when it is at a high level (l()), and a charge of o (ova write) is accumulated when it is at a low level (L).
, that is, no charge is accumulated. Also, dummy cell D
It is assumed that a charge of C5vI,c/2 (for example, the capacitance of C3 includes Vcc/2 old) is accumulated in C,,DC,.

つぎに、動作を説明する。Next, the operation will be explained.

第9図において、例えば、ビット線BL。In FIG. 9, for example, the bit line BL.

に接続されるメモリが選択さね、かつ、ビット線BL、
にダミーセルが接続された場合、ビット線のプリチャー
ジレベルをV 、、/ 2とすると、ビット線BL、の
電位VBL、は、 ただし、+:H読み出し時、−:し読み出し時他方、ビ
ット線百に一の電位vn、、、は、・−・・・・・・(
2) ただし、ΔVRLOはビット線BL、の電位変動h1、
ΔV口はビットMBL、の電位変動量、ΔV nLlは
ビット線BL、の電位変動量、ΔVnL2はビット線B
L2の電位変動量である。
If the memory connected to the bit line BL is selected, and the bit line BL,
When a dummy cell is connected to the bit line and the precharge level of the bit line is V,, /2, the potential VBL of the bit line BL is as follows. The potential vn, which is one in a hundred, is...
2) However, ΔVRLO is the potential fluctuation h1 of the bit line BL,
ΔV mouth is the amount of potential variation of bit MBL, ΔV nLl is the amount of potential variation of bit line BL, ΔVnL2 is bit line B
This is the amount of potential fluctuation of L2.

電位VRLI と電位VBIコーの差は、上記式(1)
、(2)より、式(3)のようになる。
The difference between the potential VRLI and the potential VBI is expressed by the above formula (1).
, (2), formula (3) is obtained.

CI+62+03 +:H読み出し時、−二り読み出し時である。CI+62+03 +: At the time of H reading, -2 at the time of reading.

上記式(3)の右辺第1項は、本来の読み出し電位差、
第2項は隣り合うビット線B L aとビット線BL2
の間の容量に起因するノイズ成分である。
The first term on the right side of the above equation (3) is the original read potential difference,
The second term is the adjacent bit line BL a and bit line BL2
This is a noise component caused by the capacitance between .

(発明が解決しようとする問題点) 従来のダイナミック形半導体記憶装置は、上記のように
構成したから、メモリ素子の高集積化の要請に答えてビ
ット線ピッチを減少させると、ビット線対間容!I C
3が増大し、上記式(3)の係数αが減少するとともに
、γが増大し、面記式(3)の第2項が大きくなる。
(Problems to be Solved by the Invention) Since the conventional dynamic semiconductor memory device is configured as described above, when the bit line pitch is reduced in response to the demand for higher integration of memory elements, the distance between bit line pairs increases. Yong! IC
3 increases, the coefficient α of the above equation (3) decreases, γ increases, and the second term of the surface equation (3) increases.

その結果、読み出し電圧差が減少して動作余裕度が低下
し、誤動作をするという問題点があった。
As a result, there is a problem in that the read voltage difference decreases, the operating margin decreases, and malfunction occurs.

この発明は、上記のような問題点を解決するためになさ
れたもので、隣接ビット線間の容量に起因する容量結合
雑音を軽減できるダイナミック形半導体記憶装置を得る
ことを目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a dynamic semiconductor memory device that can reduce capacitive coupling noise caused by capacitance between adjacent bit lines.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この発明に係るダイナミック形半導体記憶装置は、 第1のワード線と第2のワード線よりなるa数のワード
線対と、 これらのワード線対と交差する複数本のビット線と、 111記第1のワード線と奇数番目のビット線との交点
に配置するととともに、両線に接続したメモリセルと、
前記第2のワード線と偶数番目のビット線の交点に配置
するとともに、両線に接続したメモリセルとによりなる
メモリセル群と、隣り合う奇数番目のビット線により、
また、隣り合う偶数番目のビット線によりそれぞれビッ
ト線対を構成し、各ビット線対のうち一方のビット線を
センスアンプに接続し、他方のビット線を同センスアン
プから分離する接離手段とを設けたものである。
A dynamic semiconductor memory device according to the present invention comprises: a number of word line pairs consisting of a first word line and a second word line; a plurality of bit lines intersecting these word line pairs; A memory cell is placed at the intersection of the word line No. 1 and the odd-numbered bit line, and the memory cell is connected to both lines.
A memory cell group consisting of a memory cell arranged at the intersection of the second word line and the even-numbered bit line and connected to both lines, and an adjacent odd-numbered bit line,
In addition, adjacent even-numbered bit lines each constitute a bit line pair, one bit line of each bit line pair is connected to a sense amplifier, and the other bit line is isolated from the sense amplifier. It has been established.

(作用〕 この発明における接離手段は、ビット線対のいずれか一
方をセンスアンプに接続するとともに、他方を同一のセ
ンスアンプから分離し、隣り合うビット線の間の容量に
起因する容量結合雑音を軽減する。
(Operation) The connecting/disconnecting means in the present invention connects one of the bit line pairs to a sense amplifier and separates the other from the same sense amplifier, thereby eliminating capacitive coupling noise caused by capacitance between adjacent bit lines. Reduce.

〔実施例〕〔Example〕

第1図はこの発明の一実施例を示す。このダイナミック
形半導体記憶装置は、ブロックlとブロック2により構
成されている。
FIG. 1 shows an embodiment of the invention. This dynamic semiconductor memory device is composed of a block 1 and a block 2.

図において、第1番目のビット線BL、とビットIQB
Llは接続されておらず、また、第2#目のビット線B
L2とビット線BLJは接続されていない。第3番目の
ビット線BL、とビット線BL、°はトランスファゲー
トT1を介して接続され、第4番目のビット線BL2と
ビット線B L2’はトランスファゲートT ’rを介
して接続されている。
In the figure, the first bit line BL and bit IQB
Ll is not connected, and the second #th bit line B
L2 and bit line BLJ are not connected. The third bit line BL and the bit line BL,° are connected via a transfer gate T1, and the fourth bit line BL2 and the bit line BL2' are connected via a transfer gate T'r. .

WL、は第1のワード線、wt、i は第2のワード線
で、両線によりワード線対を構成する。
WL is a first word line, wt,i is a second word line, and both lines form a word line pair.

BLl、BLIは奇数番目のビット線、BL2、BL2
は偶数番目のビット線で、それぞれ前記ワード線対と交
差させである。C01、CG2はメモリセルで、前記第
1のワード1iIWL、と奇数品目のビット線BL1.
BτTとの交点に配置するとともに、両線に接続しであ
る。CI 1% CI2はメモリセルで、面記憶2のワ
ード線WL、と偶数番目のビット線BL、かあるいはB
L2の交点に配置するとともに、両線に接続しである。
BLl, BLI are odd bit lines, BL2, BL2
are even-numbered bit lines, each of which intersects the word line pair. C01, CG2 are memory cells, and the first word 1iIWL and odd-numbered bit lines BL1.
It is placed at the intersection with BτT and connected to both lines. CI 1% CI2 is a memory cell that connects the word line WL of planar memory 2 and the even bit line BL or B
It is placed at the intersection of L2 and connected to both lines.

前記メモリセルc。、、CG2.c、、、c、、等によ
りメモリセル群を構成する。
The memory cell c. ,,CG2. A memory cell group is constituted by c, , c, .

隣り合う奇数番目のビット線BLI、BLIによりビッ
ト線対を構成し、隣り合う偶数番目のビット腺BL2.
iτ丁によりビット線対を構成する。SAI、SA3は
センスアンプで、センスアンプSAIには奇数番目のビ
ット線BLI、π1ニーにより構成されるビット線対が
接続され、他方、センスアンプSA3には偶数番目のビ
ット線BL2.B百7により構成されるビット線対が接
続されている。SAGは接離手段としてのセンスアンプ
活性化イ8号発生回路で、センスアンプ活性化信号φ3
o、φsoに基づき、前記奇数番目のビット線BL、、
BL、により構成されるビット線対のうち一方のビット
線をセンスアンプSAIに接続し、他方のビット線を同
センスアンプSAIから分離し、他方、センスアンプ活
性化信号φ!+1、φs1に基つき、前記偶数番目のビ
ット線BL2.BL2により構成されるビット線対のう
ち一方のビット線をセンスアンプSA3に接続し、他方
のビット線を同センスアンプSA3から分離するもので
ある。I2はトランスファゲートで、トランスファゲー
ト信号φ7□に基づき、ビット線BL、と、前記センス
アンプSAIとプリチャージ用のトランジスタPT、と
の接続を制御するものである。T;はトランスファゲー
トで、トランスファゲート信号φ丁1に基づき、ビット
線BL2と、1!汀記センスアンプSA3とプリチャー
ジ用のトラジスタPT2との接続を制御するものである
Adjacent odd-numbered bit lines BLI, BLI form a bit line pair, and adjacent even-numbered bit lines BL2 .
A bit line pair is formed by iτ. SAI and SA3 are sense amplifiers, and a bit line pair constituted by odd bit lines BLI and π1 knee is connected to the sense amplifier SAI, and on the other hand, even bit lines BL2 . A bit line pair constituted by B17 is connected. SAG is a sense amplifier activation No. 8 generation circuit as a connection/disconnection means, and a sense amplifier activation signal φ3
o, φso, the odd-numbered bit lines BL, ,
Of the bit line pair constituted by BL, one bit line is connected to the sense amplifier SAI, the other bit line is isolated from the sense amplifier SAI, and the other bit line is connected to the sense amplifier activation signal φ! +1, φs1, the even-numbered bit line BL2 . One bit line of the bit line pair constituted by BL2 is connected to the sense amplifier SA3, and the other bit line is isolated from the sense amplifier SA3. A transfer gate I2 controls the connection between the bit line BL, the sense amplifier SAI, and the precharge transistor PT based on the transfer gate signal φ7□. T; is a transfer gate, and based on the transfer gate signal φ1, the bit line BL2 and 1! It controls the connection between the sense amplifier SA3 and the precharge transistor PT2.

なお、第2図(f) 、 (g)の実線はブロック1選
択時を、破線はブロック2選択時を示す。
The solid lines in FIGS. 2(f) and 2(g) indicate when block 1 is selected, and the broken lines indicate when block 2 is selected.

前記ビット線BL、はセンスアンプSAIとプリチャー
ジ用のトランジスタPT3に、前記ビット線BL2はセ
ンスアンプSA3とプリチャージ用のトランジスタPT
4に接続されている。
The bit line BL is connected to a sense amplifier SAI and a precharge transistor PT3, and the bit line BL2 is connected to a sense amplifier SA3 and a precharge transistor PT3.
Connected to 4.

前記ビット線BL、は、センスアンプSA2とプリチャ
ージPT5用のトランジスタに、前記ビット線St、′
2はセンスアンプSA4とプリチャージ用のトランジス
タPT8に接続されている。前記ビット線BL、’はト
ランスファゲートT3を介して前記センスアンプSA2
とブリチ)・−ジ用のトランジスタPT、に、前記ビッ
ト線B L2’はトランスファゲートTaを介して前記
センスアンプSA4とプリチャージ用のトランジスタP
T8に接続されている。
The bit line BL is connected to the transistor for the sense amplifier SA2 and precharge PT5, and the bit line St,'
2 is connected to a sense amplifier SA4 and a precharge transistor PT8. The bit lines BL,' are connected to the sense amplifier SA2 via a transfer gate T3.
The bit line B L2' is connected to the sense amplifier SA4 and the precharge transistor P via the transfer gate Ta.
Connected to T8.

つぎに、第2図に示すタイミングチャートに基づき動作
を説明する。
Next, the operation will be explained based on the timing chart shown in FIG.

第2図(a)に外部信号RASを、第2図(b)にプリ
チャージ信号φPRO+ φPRIを示す。
FIG. 2(a) shows the external signal RAS, and FIG. 2(b) shows the precharge signal φPRO+φPRI.

(+)時*l t 、に、ワード線WLoが立ち上ると
く第2[J(c)参照)、ビット線BLI 、BLIに
各々、メモリセルC61,CG2が接続され、これらメ
モリセルC81、CO2に蓄積された信号電荷が、各々
のビット線BL、、BLI上に現われる。
When the word line WLo rises at (+) time*lt, the second bit lines BLI and BLI are connected to the memory cells C61 and CG2, respectively, and the memory cells C81 and CO2 are connected to the second bit line BLI and BLI, respectively. The accumulated signal charges appear on each bit line BL, , BLI.

このとき、トランスファゲートT、がON状態であるか
ら、ビット線B L+ 、B L+ 、 B L+’、
BLI’に現われる電位変化ΔVBL1、ΔV:、ΔV
 nLI・、ΔV「冒−・は、ビット線の浮遊容量をC
B/2とすると、式(4)、(5)のようになる。
At this time, since the transfer gate T is in the ON state, the bit lines B L+ , B L+ , B L+',
Potential change appearing in BLI' ΔVBL1, ΔV:, ΔV
nLI・, ΔV “destruction” is the stray capacitance of the bit line.
When B/2 is assumed, equations (4) and (5) are obtained.

ただし、+:メモリセルColのH読み出し時−二メモ
リセルC8lのL読み出し時 ・・・・−−−−−(5) ただし、+:メモリセルC62のH読み出し時−:メモ
リセルデータのL読み出し時 通常、CB/C5=10〜20であるから、上記式(4
) 、 (5)から、メモリC0,によフてビット線B
L、に現わわる信号電位は、メモリセルCo2によって
ビット線BL、、Bτ7に現れる信号電位のほぼ2倍で
ある。
However, +: When reading H from memory cell Col - 2 When reading L from memory cell C8l...------(5) However, +: When reading H from memory cell C62 -: When reading H from memory cell C62 -: When reading L from memory cell C62 Since CB/C5 is normally 10 to 20 during reading, the above formula (4
), from (5), bit line B is written by memory C0.
The signal potential appearing on bit lines BL, , Bτ7 by memory cell Co2 is approximately twice as high as the signal potential appearing on bit lines BL, .

(2)時刻t2において、第2図(e)に示すように、
トランスファゲート信号φT1が立ち下り、トランジス
タT1がOFFになる。
(2) At time t2, as shown in FIG. 2(e),
Transfer gate signal φT1 falls and transistor T1 is turned off.

(3)その後、時刻t3で、第2図(d)に示すように
、センスアンプ活性化信号φ、0が立ち上り、センスア
ンプ活性化信号φ、。が立ちする。このとき、トランス
ファゲート信号φ丁2が立ち上がっているので、センス
アンプSAIのセンス動作が開始される。
(3) After that, at time t3, as shown in FIG. 2(d), the sense amplifier activation signal φ,0 rises, and the sense amplifier activation signal φ,0 rises. stands. At this time, since the transfer gate signal φd2 is rising, the sensing operation of the sense amplifier SAI is started.

(4)そして、時刻t4で、第2図(e)〜(g)に示
すように、トランスファゲート信号φ7.が立ち上り、
トランスファゲート信号φT2が立ち下る。このとき、
トランスファゲート信号φ73は立ち上がっているので
(図中、実線参照)、センスアンプSA2によって検知
、増幅されたメモリセルCo2の信号情報がビット線B
L、を通して前記メモリセルC62に再δき込みされる
(4) Then, at time t4, as shown in FIGS. 2(e) to 2(g), transfer gate signal φ7. rose up,
Transfer gate signal φT2 falls. At this time,
Since the transfer gate signal φ73 is rising (see the solid line in the figure), the signal information of the memory cell Co2 detected and amplified by the sense amplifier SA2 is transferred to the bit line B.
The data δ is rewritten into the memory cell C62 through L.

第3図に各ビット線に現われる電位を示す。第3図(a
)はメモリセルColがH、メモリセルCQ2がLのと
きの、第3図(b)はメモリセルC8IがH、メモリセ
ルC62がHのときの、第3図(C)はメモリセルC6
1がし、メモリセルC02がLのときの、第3図(d)
はメモリセルCo1がし、メモリセルC82がHのとき
の各ビット線に現われる電位を示す。第3図からメモリ
セルデータの読み出し、書き込みが行なわれることがわ
かる。
FIG. 3 shows the potential appearing on each bit line. Figure 3 (a
) is when memory cell Col is H and memory cell CQ2 is L, FIG. 3(b) is when memory cell C8I is H and memory cell C62 is H, and FIG. 3(C) is memory cell C6.
1 and memory cell C02 is L, Fig. 3(d)
indicates the potential appearing on each bit line when memory cell Co1 is at H level and memory cell C82 is at H level. It can be seen from FIG. 3 that memory cell data is read and written.

最終的に、メモリセルC8,のデータはセンスアンプS
AIに、メモリセルC02のデータはセンスアンプSA
2にラッチされる。また、メモリセルCo2に対しては
、ビット線BL、を介して元の蓄積データがaき込まれ
る。従って、 ■この状態で、外部信号正τ茗を再び立ち上げてサイク
ルを終了すると、メモリセルC01、CO2に対して、
蓄積データの読み出し、再書き込み動作、すなわち、リ
フレッシュ動作が行なわれることになる。
Finally, the data in memory cell C8 is transferred to sense amplifier S.
The data of memory cell C02 is sent to AI by sense amplifier SA.
It is latched to 2. Furthermore, the original accumulated data is written into the memory cell Co2 via the bit line BL. Therefore, in this state, when the external signal τ茗 is raised again to end the cycle, for memory cells C01 and CO2,
Reading and rewriting of accumulated data, that is, a refresh operation will be performed.

■その後、外部信号ττiを立ち下げて、コラムアドレ
スによりコラム選択をし、該当するコラムのメモリセル
C61%co2にデータの人出力を行なう場合にも、通
常と全く同じ動作により、メモリセルC6,、C,、に
対してデータの入出力が可能である。
■After that, when the external signal ττi is lowered, a column is selected by the column address, and data is outputted to the memory cell C61%co2 of the corresponding column, the same operation as normal is used to select the column from the memory cell C6, Data can be input and output to and from ,C,.

第4図にコラム選択系の回路図を示す。第7図と同一ま
たは相当部分には同一符号を付しである。
FIG. 4 shows a circuit diagram of the column selection system. The same or corresponding parts as in FIG. 7 are given the same reference numerals.

この実施例による効果を以下に述べる。The effects of this embodiment will be described below.

■ビット線を1本おきに完全に非活性状態(プリチャー
ジ状態)に保つことによるシールド効果により、活性化
されるビット線間の容量結合ノイズは、はぼ完全に除去
することができる。
(2) Due to the shielding effect of keeping every other bit line completely inactive (precharged state), capacitive coupling noise between activated bit lines can be almost completely eliminated.

■ビット線の充放電電流は、V、e/2プリチャージ方
式の場合、全ビット線の浮遊容量の和をΣCR,サイク
ル周期をTcとすると、センス時、全体の1/4のビッ
ト線がv、、c/2からv、、。
■The charging/discharging current of the bit line is V. In the case of e/2 precharge method, if the sum of the stray capacitance of all the bit lines is ΣCR, and the cycle period is Tc, then 1/4 of the bit line is charged during sensing. v,,c/2 to v,,.

にプルアップされるため、 ・・・・・・・・・・・・(6) さらに、再書き込み動作時に、最悪の場合でも、全体の
1/8のビット線を接地電位からVo。
(6) Furthermore, during rewrite operation, even in the worst case, 1/8 of the bit lines are pulled up from the ground potential to Vo.

にプルアップするから、 となり、総計、 ・・・・・・・・・・・・(8) である。従って、書き込み動作を行なっても、最大消費
F流は、従来例と同様になる。
Since it is pulled up to , the total is ・・・・・・・・・・・・(8). Therefore, even if a write operation is performed, the maximum consumed F current is the same as in the conventional example.

■この実施例のセンス動作は、第10図に示すフォール
デッドビット線方式と全く同様の動作であるため、メモ
リアレイノイズのコモンモード化によるキャンセル効果
は全く損なわれることはない。第1o11において、丸
印はメモリセル、Sはセンスアンプを示す。
(2) Since the sensing operation of this embodiment is exactly the same as that of the folded bit line system shown in FIG. 10, the canceling effect of common mode memory array noise is not impaired at all. In No. 1o11, circles indicate memory cells, and S indicates a sense amplifier.

なお、上記実施例では、時刻t3とt4との間に充分な
時間を取り、また、ビット線に現れる電位か接地電位か
ら電源電位(VC,)に確定してから、トランスファゲ
ート信号φT2が立ち下り、他方、トランスファゲート
信号φTlが立ち上がる場合を説明したが、補記時刻t
、とt4との間の時間を狭くすると、n「2式(7)の
値は上記実施例より小さくなり、消費電流は従来例に比
してほぼ1/2に低減することができる。
In the above embodiment, the transfer gate signal φT2 rises after sufficient time is allowed between times t3 and t4, and after the potential appearing on the bit line is determined from the ground potential to the power supply potential (VC,). On the other hand, we have explained the case where the transfer gate signal φTl rises, but at additional time t
, and t4, the value of n'2 equation (7) becomes smaller than that of the above embodiment, and the current consumption can be reduced to approximately 1/2 compared to the conventional example.

第5図はこの発明の第2の実施例を示す。第1図と同一
または相当部分には同一符号を付しである。この第2の
実施例と上記第1の実施例とが相違するところは、セン
スアンプSA、、SA2を隣り合うビット線対、例えば
ビット線BL、、BL2とビット、L+1BL1.BL
2により共有し、これら各ビット線対のうちいずれか一
方のビット線を、スイッチS、〜S、lにより、センス
アンプSA+ 、SA2に接続するようにした点である
。第6図にスイッチ信号φ。、φ1を外部信号RAS、
プリチャージ信号φ、□、センスアンプ活性化信号φ3
、φ3と関連させて示す。
FIG. 5 shows a second embodiment of the invention. The same or equivalent parts as in FIG. 1 are given the same reference numerals. The difference between this second embodiment and the first embodiment is that the sense amplifiers SA, . BL
2, and one of the bit lines of each bit line pair is connected to the sense amplifiers SA+ and SA2 by switches S, -S, and l. Figure 6 shows the switch signal φ. , φ1 is the external signal RAS,
Precharge signals φ, □, sense amplifier activation signal φ3
, φ3.

この第2の実施例は、上記のように構成したから、上記
第1の実施例と本質的に同様の効果を奏することができ
る。
Since the second embodiment is configured as described above, it can achieve essentially the same effects as the first embodiment.

また、この第2の実施例において、センスアンプの数を
1/2にするとともに、センスアンプピッチを2倍にす
ることにより、チップ占有面積を減少させることができ
る。
Furthermore, in this second embodiment, the chip occupation area can be reduced by reducing the number of sense amplifiers by half and doubling the sense amplifier pitch.

また、この発明をダミーセルを有するダイナミック形半
導体記憶装置に適用しても上記実施例と同様の効果を奏
することができる。
Furthermore, even if the present invention is applied to a dynamic semiconductor memory device having dummy cells, the same effects as in the above embodiments can be obtained.

(発明の効果) 以上のように、この発明によれば、ビット線対のいずれ
か一方をセンスアンプに接続するとともに、他方をセン
スアンプから分離する構成にしたから、容量結合雑音を
軽減することができるという効果がある。
(Effects of the Invention) As described above, according to the present invention, since one of the bit line pairs is connected to the sense amplifier and the other is separated from the sense amplifier, capacitive coupling noise can be reduced. It has the effect of being able to.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明の第1の実施例を示す図である。第2
図はタイミングチャートで、第2図(a)は外部信号R
A否を示す図、第2図(b)はプリチャージ信号φPR
O、φPRIを示す図、第2図(C)はワード線WLO
、WLzに現れる信号を示す図、′:JJ2図(d)は
センスアンプ活性化信号ψ sol  ψ ffoh 
  ψ −11、ψ s+Y 刀で] しくJ、#7 
 凶 (C)はトランスツブゲート信号φ7.を示す図
、第2図り[)はトランスファゲート信号φT2を示す
図、第2図(g)はトランスファゲート信号φ〒3を示
す図である。第3図はビット線に現れる電圧を示す図で
、第3図(a)はメモリセルC6IがH1メモリセルC
62がLのときの、第3図(b)はメモリセルCQIが
H、メモリセルCO2がHのときの、第3図(C)はメ
モリセルC8,がし、メそリセルC02がLのときの、
第3図(d>はメモリセルC6,がし、メモリセルC6
2がHのときの各ビット線に現われる電位を示す図であ
る。第4図はコラム選択系の回路図、第5図はこの発明
の第2の実施例を示す図である。第6図はスイッチ信号
φ0、φIと、外部信号RAS、プリチャージ信号φP
R、センスアンプ活性化信号φ9、φ3との関係を示す
図で、第6図(a)は外部信号RASを示す図、第6図
(b)はプリチャージ信号φPRを示す図、第6図(C
)はスイッチ信号φ0、φ1を示す図、第6図(d)は
センスアンプ活性化信号φ3を示す図、第6図(e)は
センスアンプ活性化信号T7を示す図である。第7図は
従来のダイナミック形半導体記憶装置を示す図、第8図
は第7図に示すセンスアンプSAの具体的な回路図、第
9図は各ビット線の浮遊容量を示す図、第10図はフォ
ールデッドビットライン構造を示す図である。 図において、WLoは第1のワード線、WL、は第2の
ワード線、BL、、BL2、BL+ 、BL2はビット
線、Co1.Co2、C11、C1□はメモリセル、S
A、〜SA4はセンスアンプ、SAGはセンスアンプ活
性化信号発生回路である。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of the present invention. Second
The figure is a timing chart, and Figure 2 (a) shows the external signal R.
A diagram showing whether the precharge signal φPR
0, φPRI, FIG. 2(C) is the word line WLO
, WLz, ':JJ2 Figure (d) is the sense amplifier activation signal ψ sol ψ ffoh
ψ −11, ψ s+Y with sword] Shiku J, #7
(C) is the transformer tube gate signal φ7. The second diagram [) is a diagram showing the transfer gate signal φT2, and FIG. 2(g) is a diagram showing the transfer gate signal φ〒3. FIG. 3 is a diagram showing the voltage appearing on the bit line, and FIG. 3(a) shows that the memory cell C6I is the H1 memory cell C
3(b) when 62 is at L, and FIG. 3(C) when memory cell CQI is at H and memory cell CO2 is at H, memory cell C8, memory cell C02 is at L. of the time,
FIG. 3 (d> is memory cell C6,
2 is a diagram showing the potential appearing on each bit line when bit line 2 is H. FIG. FIG. 4 is a circuit diagram of a column selection system, and FIG. 5 is a diagram showing a second embodiment of the present invention. Figure 6 shows switch signals φ0, φI, external signal RAS, and precharge signal φP.
FIG. 6(a) is a diagram showing the external signal RAS, and FIG. 6(b) is a diagram showing the precharge signal φPR. (C
) is a diagram showing the switch signals φ0 and φ1, FIG. 6(d) is a diagram showing the sense amplifier activation signal φ3, and FIG. 6(e) is a diagram showing the sense amplifier activation signal T7. 7 is a diagram showing a conventional dynamic semiconductor memory device, FIG. 8 is a specific circuit diagram of the sense amplifier SA shown in FIG. 7, FIG. 9 is a diagram showing the stray capacitance of each bit line, and FIG. The figure shows a folded bit line structure. In the figure, WLo is the first word line, WL is the second word line, BL, BL2, BL+, BL2 are the bit lines, Co1. Co2, C11, C1□ are memory cells, S
A, ~SA4 are sense amplifiers, and SAG is a sense amplifier activation signal generation circuit. In addition, in the figures, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】  第1のワード線と第2のワード線よりなる複数のワー
ド線対と、 これらのワード線対と交差する複数本のビット線と、 前記第1のワード線と奇数番目のビット線との交点に配
置するととともに、両線に接続したメモリセルと、前記
第2のワード線と偶数番目のビット線の交点に配置する
とともに、両線に接続したメモリセルとによりなるメモ
リセル群と、 隣り合う奇数番目のビット線により、また、隣り合う偶
数番目のビット線によりそれぞれビット線対を構成し、
各ビット線対のうち一方のビット線をセンスアンプに接
続し、他方のビット線を同センスアンプから分離する接
離手段と を備えたことを特徴とするダイナミック形半導体記憶装
置。
[Scope of Claims] A plurality of word line pairs consisting of a first word line and a second word line, a plurality of bit lines intersecting these word line pairs, and odd-numbered bit lines with the first word line. a memory cell arranged at the intersection of the second word line and the bit line and connected to both lines; and a memory cell arranged at the intersection of the second word line and the even-numbered bit line and connected to both lines. The cell group and adjacent odd-numbered bit lines and adjacent even-numbered bit lines form bit line pairs, respectively.
1. A dynamic semiconductor memory device, comprising connecting/disconnecting means for connecting one bit line of each bit line pair to a sense amplifier and isolating the other bit line from the sense amplifier.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5272665A (en) * 1991-06-25 1993-12-21 Oki Electric Industry Co., Ltd. Semiconductor memory with improved sense amplifier layout

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