JPS6322599A - ９（１１）−デヒドロアンドロスタンの製造法 - Google Patents
９（１１）−デヒドロアンドロスタンの製造法Info
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- JPS6322599A JPS6322599A JP62169600A JP16960087A JPS6322599A JP S6322599 A JPS6322599 A JP S6322599A JP 62169600 A JP62169600 A JP 62169600A JP 16960087 A JP16960087 A JP 16960087A JP S6322599 A JPS6322599 A JP S6322599A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、９−アルファーヒドロキシ化合物類を脱水す
ることにより相当する！３（１１）−デヒドロアンドロ
スタン類を製造する方法に関する。
ることにより相当する！３（１１）−デヒドロアンドロ
スタン類を製造する方法に関する。
９（１１）−デヒドロアンドロスタン類はステトロイド
剤合成の重要な一群の中間体を構成する。
剤合成の重要な一群の中間体を構成する。
かかる９（１１）−デヒドロアンドロスタン類は９−ハ
ロゲン置換基および／または１１−ヒドロキシ置換基を
有するステロイドに容易に変換でき、これらの置換基は
、コルチコステロイドの群に属する多数の化合物の特徴
となっている。
ロゲン置換基および／または１１−ヒドロキシ置換基を
有するステロイドに容易に変換でき、これらの置換基は
、コルチコステロイドの群に属する多数の化合物の特徴
となっている。
９（１１）−デヒドロステロイド類の製造法としては、
各種の方法がすでに知られており、例えば、相当する９
−アルファーヒドロキシ化合物を脱水して行なう方法な
どがある。
各種の方法がすでに知られており、例えば、相当する９
−アルファーヒドロキシ化合物を脱水して行なう方法な
どがある。
米国特許第３．０６５．１４５号には、ピリジンを溶媒
として塩化チオニルを用いて脱水することによる９（１
１）−デヒドロプロゲステロンの製造法を開示している
。また、この方法は、９−アルファーヒドロキシアンド
ロスト−４−エン−３゜１７−ジオンを脱水するために
も用いられる。
として塩化チオニルを用いて脱水することによる９（１
１）−デヒドロプロゲステロンの製造法を開示している
。また、この方法は、９−アルファーヒドロキシアンド
ロスト−４−エン−３゜１７−ジオンを脱水するために
も用いられる。
さらに、オランダ特許出願第７．８０２．３０２号（Ｎ
Ｌ）は、上記方法を用いて、８（９）−デヒドロ異性体
を大量に製造していること゛を示している。しかし、こ
の方法は、望ましい化合物、すなわち、８（９）−デヒ
ドロ異性体の収率を低下させ、さらに、望ましくない異
性体を除去することが相当に複雑でかつ高価になるとい
う不利益を伴う。
Ｌ）は、上記方法を用いて、８（９）−デヒドロ異性体
を大量に製造していること゛を示している。しかし、こ
の方法は、望ましい化合物、すなわち、８（９）−デヒ
ドロ異性体の収率を低下させ、さらに、望ましくない異
性体を除去することが相当に複雑でかつ高価になるとい
う不利益を伴う。
東ドイツ特許公報第２０．５２８号は、９−アルファー
ヒドロキシ化合物溶液を芳香族スルホン酸、特にｐ−ト
ルエンスルホン酸と共に沸騰することにより相当する９
（１１）−デヒドロステロイド類を簡易に製造する方法
を開示している。９−アルファーヒドロキシテストステ
ロンの使用が５４体的に述べられているが、実施例はプ
レグナン類について言及しているにすぎない。また、そ
の特許明細書中には、収率および純度に関するデータは
ほとんど示されていない。そして、この方法が９−アル
ファ−ヒドロキシアンドロスタン類に適用された場合、
目的の化合物は製造できない。また、この方法では９（
１１）−デヒドロアンドロスクンは、全く生成しないこ
とが、ベルゲストロム（Ｃ，Ｇ、［］ｅｒｇｓｔｒｏｍ
）とトド７７ （Ｒ，Ｂ、 Ｄｏｄｓｏｎ ）とによっ
て確認されている（化学と工業、１５３０頁（１９６１
年） 、Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ ［ｕｄｕｓｔｒ
ｙ、 １５３Ｑ（１９６１））。
ヒドロキシ化合物溶液を芳香族スルホン酸、特にｐ−ト
ルエンスルホン酸と共に沸騰することにより相当する９
（１１）−デヒドロステロイド類を簡易に製造する方法
を開示している。９−アルファーヒドロキシテストステ
ロンの使用が５４体的に述べられているが、実施例はプ
レグナン類について言及しているにすぎない。また、そ
の特許明細書中には、収率および純度に関するデータは
ほとんど示されていない。そして、この方法が９−アル
ファ−ヒドロキシアンドロスタン類に適用された場合、
目的の化合物は製造できない。また、この方法では９（
１１）−デヒドロアンドロスクンは、全く生成しないこ
とが、ベルゲストロム（Ｃ，Ｇ、［］ｅｒｇｓｔｒｏｍ
）とトド７７ （Ｒ，Ｂ、 Ｄｏｄｓｏｎ ）とによっ
て確認されている（化学と工業、１５３０頁（１９６１
年） 、Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ ［ｕｄｕｓｔｒ
ｙ、 １５３Ｑ（１９６１））。
改良法がドイツ特許出願第２．８０６．６８７号に記載
されている。すなわち、アントロスタン化合物の９−ア
ルファーヒドロキシ基を初めに塩化スルフィニルと反応
させて９−アルファー０３ＯＲ基（ただし、Ｒは炭素数
１〜４個のアルキル、フェニル、または置換フェニルで
ある。）に変換する。次に、得られた生産物をシリカゲ
ルまたはアルミナふよび酸ともにベンゼン中で十分に沸
とうさせて、脱スルフィル化反応を起させ、少なくとも
８５％の収率で望ましい９（１１）−デヒドロ化合物が
得られ、そして、’１（１１）−デヒドロ体とその異性
体である８（９）−デヒドロ体との比率が少な（とも９
８；２で得られる。
されている。すなわち、アントロスタン化合物の９−ア
ルファーヒドロキシ基を初めに塩化スルフィニルと反応
させて９−アルファー０３ＯＲ基（ただし、Ｒは炭素数
１〜４個のアルキル、フェニル、または置換フェニルで
ある。）に変換する。次に、得られた生産物をシリカゲ
ルまたはアルミナふよび酸ともにベンゼン中で十分に沸
とうさせて、脱スルフィル化反応を起させ、少なくとも
８５％の収率で望ましい９（１１）−デヒドロ化合物が
得られ、そして、’１（１１）−デヒドロ体とその異性
体である８（９）−デヒドロ体との比率が少な（とも９
８；２で得られる。
しかしながら、９（１１）異性体の収率が良いのにもか
かわらず、付加工程が必要となるため実用的および経済
的不利益を伴う。
かわらず、付加工程が必要となるため実用的および経済
的不利益を伴う。
９−アルファ−ヒドロキシアンドロスタン類を脱水する
のにｐ−トルエンスルホン酸は不適切な酸であると当業
者に信じられている事実がドイツ特許出願第２，８１４
．７４７号に芳香族スルホン酸の使用を明白に記載しな
かった理由であろう。そして、非芳香族酸素酸を用いて
良い結果を得ている。
のにｐ−トルエンスルホン酸は不適切な酸であると当業
者に信じられている事実がドイツ特許出願第２，８１４
．７４７号に芳香族スルホン酸の使用を明白に記載しな
かった理由であろう。そして、非芳香族酸素酸を用いて
良い結果を得ている。
本発明は９−アルファ−ヒドロキシアンドロスタン類を
脱水することにより高い収率で、しかも望ましくない８
（９）−デヒドロ異性体を影響するほどには存在させる
ことなく、相当する９ （１１）−デヒドロアンドロス
タン類を製造する方法を提供する。
脱水することにより高い収率で、しかも望ましくない８
（９）−デヒドロ異性体を影響するほどには存在させる
ことなく、相当する９ （１１）−デヒドロアンドロス
タン類を製造する方法を提供する。
本発明では、脱水は芳香族スルホン酸およびシリカゲル
の存在下で行なわれる。芳香族スルホン酸は好ましくは
、ｐ−トルエンスルホン酸またはナフタレンスルホン酸
であり、これらの酸は安価で、しかも容易に人手できる
試薬である。
の存在下で行なわれる。芳香族スルホン酸は好ましくは
、ｐ−トルエンスルホン酸またはナフタレンスルホン酸
であり、これらの酸は安価で、しかも容易に人手できる
試薬である。
シリカゲルは酸と混合して、またはそれぞれ独立して、
またはシリカゲルに芳香族スルホン酸を吸着させた吸着
体として、いずれかの方法で溶液に加えることができる
。
またはシリカゲルに芳香族スルホン酸を吸着させた吸着
体として、いずれかの方法で溶液に加えることができる
。
シリカゲルに芳香族スルホン酸を吸着させた吸着体の製
造法の具体例は、１９８５年に発刊された合成（Ｓｙｎ
ｔｈｅｓｉｓ）の１１５９〜１１６１頁に記載されてい
る。この文献には、３−ヒドロキシステロイドを脱水し
て、２（３）−また′は３（４）−デヒドロステロイド
を製造するためｐ−トルエンスルホン酸吸着体を用いる
ことが示されている。
造法の具体例は、１９８５年に発刊された合成（Ｓｙｎ
ｔｈｅｓｉｓ）の１１５９〜１１６１頁に記載されてい
る。この文献には、３−ヒドロキシステロイドを脱水し
て、２（３）−また′は３（４）−デヒドロステロイド
を製造するためｐ−トルエンスルホン酸吸着体を用いる
ことが示されている。
脱水の適当な条件は、例えば、ベンゼン、クロロベンゼ
ン、好ましくはトルエンなどの有機溶媒中で数分から数
時間、好ましくは５分から３時間、９−アルファ−ヒド
ロキシアンドロスタンを沸とうさせるというものである
。脱水反応は薄層クロマドグラフィーを用いてモニター
することができる。反応温度は好ましくは少なくとも８
０℃である。
ン、好ましくはトルエンなどの有機溶媒中で数分から数
時間、好ましくは５分から３時間、９−アルファ−ヒド
ロキシアンドロスタンを沸とうさせるというものである
。脱水反応は薄層クロマドグラフィーを用いてモニター
することができる。反応温度は好ましくは少なくとも８
０℃である。
本発明の顕著な効果は、前述したように、得られた９（
１１）−デヒドロアンドロスタンがやっかいな８（９）
−デヒドロ異性体をほとんどまたは全く含まないという
ことである。この異性体は９（１１）−デヒドロアンド
ロスタンとＲｆ値にほとんど差がないため３圏クロマト
グラフィーによっては区別することができない。しかし
、感度３６０ＭＨｚのＮＭＲ装置は、上記した両異性体
のＣ（４）Ｈ−シフト間１２ヘルツの差を用いることに
よって０．５％の８（９）−デヒドロステロイドを検出
することができる。この方法によって試験した場合、本
発明により製造された生産物中には、８（９）−’デヒ
ドロ異性体は、検出されなかった。
１１）−デヒドロアンドロスタンがやっかいな８（９）
−デヒドロ異性体をほとんどまたは全く含まないという
ことである。この異性体は９（１１）−デヒドロアンド
ロスタンとＲｆ値にほとんど差がないため３圏クロマト
グラフィーによっては区別することができない。しかし
、感度３６０ＭＨｚのＮＭＲ装置は、上記した両異性体
のＣ（４）Ｈ−シフト間１２ヘルツの差を用いることに
よって０．５％の８（９）−デヒドロステロイドを検出
することができる。この方法によって試験した場合、本
発明により製造された生産物中には、８（９）−’デヒ
ドロ異性体は、検出されなかった。
したがって、本発明は、重要な一群の９（１１）−デヒ
ドロステロイド類を高収率でかつ高純度で製造で、しか
も、安価でかつ簡易に製造する方法を提供するものであ
る。
ドロステロイド類を高収率でかつ高純度で製造で、しか
も、安価でかつ簡易に製造する方法を提供するものであ
る。
実施例
次の実施例は、本発明の例証として掲げるものである。
ｐ−トルエンスルホン酸・ｌ水和物３ｇまたは２−ナフ
タレンスルホン酸３ｇをアセトン２０ｍ１に溶解した。
タレンスルホン酸３ｇをアセトン２０ｍ１に溶解した。
得られた溶液をはげしく攪拌しながらシリカゲルに速や
かに加えた。１時間経過後、減圧下、４０〜５０℃で、
１夜、溶媒を除去して、吸着体を得た。
かに加えた。１時間経過後、減圧下、４０〜５０℃で、
１夜、溶媒を除去して、吸着体を得た。
実施例２〜１４は、各種酸触媒を用いて相当する９−ア
ルファーヒドロキシ化合物を脱水することによりアンド
ロスタ−４，９（１１）−ジエン−３，１７−ジオンを
製造する方法を示している。
ルファーヒドロキシ化合物を脱水することによりアンド
ロスタ−４，９（１１）−ジエン−３，１７−ジオンを
製造する方法を示している。
なお、比較例１はシリカゲルを用いないで行った。
また、収率は、高性能液体クロマトグラフィー（ＨＰＬ
Ｃ）を用いて計算した。
Ｃ）を用いて計算した。
実施例２
実施例１と同様に、ｐ−トルエンスルホン酸・１水和物
約０．１ ｇとシリカゲル（メルク６０、粒子の大きさ
０．０６３〜０．２００＋ｎ＋ｎ、 ７０〜２３０メツ
シ５）３ｇとから吸着体を作成した。次に、この吸着体
と、乾燥ベンゼン４０ｍ１に９−アルファーヒドロキシ
アンドロスト−４−エン−３゜１７−ジオン０．１８
ｇを溶かした溶液とをはげしく攪拌しながら混合した。
約０．１ ｇとシリカゲル（メルク６０、粒子の大きさ
０．０６３〜０．２００＋ｎ＋ｎ、 ７０〜２３０メツ
シ５）３ｇとから吸着体を作成した。次に、この吸着体
と、乾燥ベンゼン４０ｍ１に９−アルファーヒドロキシ
アンドロスト−４−エン−３゜１７−ジオン０．１８
ｇを溶かした溶液とをはげしく攪拌しながら混合した。
この攪拌を還流温度で２時間続けた。さらに、この混合
物を空のクロマトグラフィー用カラムに充填した後、ト
ルエン：アセトン＝１：ｌの混合溶媒で溶出し、その溶
出液を蒸留乾固し、粗アンドロスタ−４，９（１１）−
ジエン−３，１７−ジオンを０．２２ ｇ ｆ８た。
物を空のクロマトグラフィー用カラムに充填した後、ト
ルエン：アセトン＝１：ｌの混合溶媒で溶出し、その溶
出液を蒸留乾固し、粗アンドロスタ−４，９（１１）−
ジエン−３，１７−ジオンを０．２２ ｇ ｆ８た。
３０ ＮＭＲ（３６０Ｍｆｌｚ； ＣＤＣ１，３： Ｔ
ＭＳ） ’δ０．８９１（Ｃ（１ｇ）Ｈ３，ｓ、 ３Ｈ
）、 ＩＪ？２（Ｃ（１９）Ｈ，。
ＭＳ） ’δ０．８９１（Ｃ（１ｇ）Ｈ３，ｓ、 ３Ｈ
）、 ＩＪ？２（Ｃ（１９）Ｈ，。
ｓ、 ３Ｈ）、 ５．５７（Ｃ（１１）Ｈ，ｍ、 Ｌ
Ｈ）。
Ｈ）。
５．７６（Ｃ（４）１１． ｓ、 ＬＨ）。
アンドロスタ−４，８−ジエン−３，１７−ジオンは検
出できなかった。この生産物はアセトン−水混合液から
結晶化して、精製した。
出できなかった。この生産物はアセトン−水混合液から
結晶化して、精製した。
実施例３
シリカゲル１．５ ｇとｐ−トルエンスルホン酸・１水
和物０．１ｇをそれぞれ別々に加えた以外は、実施例２
の方法をくり返した。実施例２で得られた結果とほぼ同
様な結果が得られた。
和物０．１ｇをそれぞれ別々に加えた以外は、実施例２
の方法をくり返した。実施例２で得られた結果とほぼ同
様な結果が得られた。
実施例４
クロマトグラフィー用シリカゲル（メルク６０、粒子の
大きさ０．０６３〜０．２ｍｆｆ１）に２−ナフタレン
スルホン酸を吸着させた吸着体３０ｇと９−アルファー
ヒドロキシアンドロスト−４−エン−３゜１７−ジオン
２．５ｇとのトルエン中でのサスペジョンを還流温度で
３０分間、攪拌した。次に、その混合物を空のクロマト
グラフィーカラムに充填した後、アセトン２５０ｍｊ２
で溶出した。この溶出液を蒸留乾固し、次いで、ＨＰＬ
Ｃで分析した。
大きさ０．０６３〜０．２ｍｆｆ１）に２−ナフタレン
スルホン酸を吸着させた吸着体３０ｇと９−アルファー
ヒドロキシアンドロスト−４−エン−３゜１７−ジオン
２．５ｇとのトルエン中でのサスペジョンを還流温度で
３０分間、攪拌した。次に、その混合物を空のクロマト
グラフィーカラムに充填した後、アセトン２５０ｍｊ２
で溶出した。この溶出液を蒸留乾固し、次いで、ＨＰＬ
Ｃで分析した。
ＨＰＬＣ分析の結果、アンドロスタ−４，９（１１）−
ジエン−３，１７−ジオンの収率は６０．８％であった
。
ジエン−３，１７−ジオンの収率は６０．８％であった
。
実施例５
２−ナフタレンスルホン酸の代わりに、ｐ−トルエンス
ルホン酸・１水和物を用いた以外は、実施例４の方法を
くり返した。（収率： ５３．１％）実施例６ ＴＬＣｊｌ１品級のシリカゲル（メルク６０Ｈ，粒子の
大きさＯ，ＯＯ５〜０．０４ Ｑｍｍ）に２−ナフタレ
ンスルホン酸を吸着させた吸着体を用いたことを除いて
は、実施例４の方法をくり返した。
ルホン酸・１水和物を用いた以外は、実施例４の方法を
くり返した。（収率： ５３．１％）実施例６ ＴＬＣｊｌ１品級のシリカゲル（メルク６０Ｈ，粒子の
大きさＯ，ＯＯ５〜０．０４ Ｑｍｍ）に２−ナフタレ
ンスルホン酸を吸着させた吸着体を用いたことを除いて
は、実施例４の方法をくり返した。
１０分間の攪拌では収率４５．６％の結果を得、３０分
間の攪拌では収率６５．８％の結果を得た。
間の攪拌では収率６５．８％の結果を得た。
実施例７
２−ナフタレンスルホン酸の代わりに、ｐ−トルエンス
ルホン酸・１水和物を用いたことを除いては、実施例６
の方法をくり返した。３０分間および６０分間の攪拌で
は、ＨＰＬＣ分析によって、それぞれ収率５７．９％お
よび６２．５％の結果を得た。
ルホン酸・１水和物を用いたことを除いては、実施例６
の方法をくり返した。３０分間および６０分間の攪拌で
は、ＨＰＬＣ分析によって、それぞれ収率５７．９％お
よび６２．５％の結果を得た。
実施例８
トルエンの代わりに、ベンゼンを用いたことを除いては
、実施例４の方法をくり返した。ＨＰＬＣ分析によりア
ンド・ロスター４．９ （１１）−ジエン−３，１７−
ジオンの収率は、４３％であった。
、実施例４の方法をくり返した。ＨＰＬＣ分析によりア
ンド・ロスター４．９ （１１）−ジエン−３，１７−
ジオンの収率は、４３％であった。
実施例９
メルク リコプレブ（Ｍｅｒｃｋ Ｌｉｃｈｏｐｒｅｐ
、） ５ｉ６０（粒子の大きさ０゜００５〜０．０２０
ｍｍ）およびメルク リコプレブ５ｉ６０（粒子の大き
さく０．０１５〜０．０２５ｍｍ）のシリカゲルをそれ
ぞれ用いたことを除いては、実施例４の方法をくり返し
た。それぞれ収率３８．８％および４６．９％であった
。
、） ５ｉ６０（粒子の大きさ０゜００５〜０．０２０
ｍｍ）およびメルク リコプレブ５ｉ６０（粒子の大き
さく０．０１５〜０．０２５ｍｍ）のシリカゲルをそれ
ぞれ用いたことを除いては、実施例４の方法をくり返し
た。それぞれ収率３８．８％および４６．９％であった
。
実施例１０
トルエン３００ｍｊ２中に９−アルファーヒドロキシア
ンドロスト−４−エン−３，１７−ジオン２．５ｇを溶
解した溶液を攪拌しながら、これに２−ナフタレンスル
ホン酸０．９ｇおよびクロマトグラフィー用シリカゲル
（メルク６０、粒子の大きさ０．０６３〜０．２００ｍ
ｍ、 １５０℃で９０時間乾燥したもの）３０ｇをそれ
ぞれ独立に加えた。得られたサスペンションを３０分間
、還流温度で攪拌した。次いで、その混合物を空のクロ
マトグラフィー用カラムに充填した後、アセトン２５０
ｍｊ２で溶出し、その溶出液を蒸留乾固し、次いでＨＰ
ＬＣで分析した。アンドロスタ−４，９（１１）−ジエ
ン−３，１７−ジオンの収率は、４９．１％であった。
ンドロスト−４−エン−３，１７−ジオン２．５ｇを溶
解した溶液を攪拌しながら、これに２−ナフタレンスル
ホン酸０．９ｇおよびクロマトグラフィー用シリカゲル
（メルク６０、粒子の大きさ０．０６３〜０．２００ｍ
ｍ、 １５０℃で９０時間乾燥したもの）３０ｇをそれ
ぞれ独立に加えた。得られたサスペンションを３０分間
、還流温度で攪拌した。次いで、その混合物を空のクロ
マトグラフィー用カラムに充填した後、アセトン２５０
ｍｊ２で溶出し、その溶出液を蒸留乾固し、次いでＨＰ
ＬＣで分析した。アンドロスタ−４，９（１１）−ジエ
ン−３，１７−ジオンの収率は、４９．１％であった。
実施例１１
乾燥シリカゲルに２−ナフタレンスルホン酸を吸着させ
た吸着体を用いたことを除いては、実施例１０の方法を
くり返した。（収率４５．６％）実施例１２ ＴＬＣ製品製品サシリカゲルルク６０Ｈ）にｐ−トルエ
ンスルホン酸・１水和物を吸着させた吸着体を用いたこ
とを除いては、実施例４の方法をくりかえした。
た吸着体を用いたことを除いては、実施例１０の方法を
くり返した。（収率４５．６％）実施例１２ ＴＬＣ製品製品サシリカゲルルク６０Ｈ）にｐ−トルエ
ンスルホン酸・１水和物を吸着させた吸着体を用いたこ
とを除いては、実施例４の方法をくりかえした。
６０℃、８０℃、１００℃および還流温度で３０分間攪
拌した結果、収率はそれぞれ２．３％、２８．９％、５
３．３％および５７，９％であった。
拌した結果、収率はそれぞれ２．３％、２８．９％、５
３．３％および５７，９％であった。
実施例１３
トルエンの代わりに、クロロベンゼンを用いたことを除
いては実施例７の方法をくり返した。還流温度で、３０
分間攪拌した結果、収率は６０．３％であった。
いては実施例７の方法をくり返した。還流温度で、３０
分間攪拌した結果、収率は６０．３％であった。
実施例１４
ＴＬＣ製品製品サシリカゲルルク６０Ｈ）を用い、かつ
トルエンの代わりに、クロロベンゼンを用いたことを除
いては、実施例１０の方法をくり返した。（収率４３．
４％） 比較例１ ９−アルファーヒドロキシアンドロスト−４−エン−３
，１７−ジオン２．５ｇと２−ナフタレンスルホン酸０
．９ｇとをトルエン３００＋ｎｊ！に溶解した溶液をい
かなるシリカゲルをも用いないで３０分間還流した。得
られた反応混合物を蒸留乾固し、次いでＨＰＬＣで分析
した。ＨＰＬＣで分析した結果、アンドロスタ−４，９
（１１）−ジエン−３，１７−ジオンは全く検出できな
かった。出発物質の残余量は１１％であった。
トルエンの代わりに、クロロベンゼンを用いたことを除
いては、実施例１０の方法をくり返した。（収率４３．
４％） 比較例１ ９−アルファーヒドロキシアンドロスト−４−エン−３
，１７−ジオン２．５ｇと２−ナフタレンスルホン酸０
．９ｇとをトルエン３００＋ｎｊ！に溶解した溶液をい
かなるシリカゲルをも用いないで３０分間還流した。得
られた反応混合物を蒸留乾固し、次いでＨＰＬＣで分析
した。ＨＰＬＣで分析した結果、アンドロスタ−４，９
（１１）−ジエン−３，１７−ジオンは全く検出できな
かった。出発物質の残余量は１１％であった。
Claims (3)
- （１）９−アルファ−ヒドロキシアンドロスタンを脱水
することにより９（１１）−デヒドロアンドロスタンを
製造する方法であって、前記脱水を芳香族スルホン酸お
よびシリカゲルの存在下で行うことを特徴とする前記製
造法。 - （２）脱水を芳香族スルホン酸およびシリカゲルの存在
下でステロイド（９−アルファ−ヒドロキシアンドロス
タン）溶液を加熱して行うことを特徴とする特許請求の
範囲第（１）項記載の９（１１）−デヒドロアンドロス
タンの製造法。 - （３）芳香族スルホン酸がｐ−トルエンスルホン酸また
はナフタレンスルホン酸であることを特徴とする特許請
求の範囲第（１）または第（２）項記載の９（１１）−
デヒドロアンドロスタンの製造法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8601760 | 1986-07-07 | ||
| NL8601760 | 1986-07-07 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6322599A true JPS6322599A (ja) | 1988-01-30 |
Family
ID=19848273
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62169600A Pending JPS6322599A (ja) | 1986-07-07 | 1987-07-07 | ９（１１）−デヒドロアンドロスタンの製造法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6322599A (ja) |
| CN (1) | CN87104649A (ja) |
| AT (1) | ATE51004T1 (ja) |
| DE (1) | DE3761905D1 (ja) |
| GR (1) | GR3000499T3 (ja) |
| HU (1) | HUT44039A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07219534A (ja) * | 1994-10-17 | 1995-08-18 | Casio Comput Co Ltd | 自動演奏装置 |
-
1987
- 1987-06-12 AT AT87201114T patent/ATE51004T1/de not_active IP Right Cessation
- 1987-06-12 DE DE8787201114T patent/DE3761905D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-07-06 HU HU873039A patent/HUT44039A/hu unknown
- 1987-07-07 CN CN198787104649A patent/CN87104649A/zh active Pending
- 1987-07-07 JP JP62169600A patent/JPS6322599A/ja active Pending
-
1990
- 1990-05-23 GR GR90400321T patent/GR3000499T3/el unknown
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07219534A (ja) * | 1994-10-17 | 1995-08-18 | Casio Comput Co Ltd | 自動演奏装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN87104649A (zh) | 1988-01-20 |
| ATE51004T1 (de) | 1990-03-15 |
| HUT44039A (en) | 1988-01-28 |
| GR3000499T3 (en) | 1991-06-28 |
| DE3761905D1 (de) | 1990-04-19 |
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