JPS63208036A - Plate making material - Google Patents

Plate making material

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Publication number
JPS63208036A
JPS63208036A JP4041387A JP4041387A JPS63208036A JP S63208036 A JPS63208036 A JP S63208036A JP 4041387 A JP4041387 A JP 4041387A JP 4041387 A JP4041387 A JP 4041387A JP S63208036 A JPS63208036 A JP S63208036A
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JP
Japan
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group
ion
substd
plate making
substituted
Prior art date
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Pending
Application number
JP4041387A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuro Fukui
哲朗 福井
Kozo Arahara
荒原 幸三
Hiroshi Fukumoto
博 福本
Yoshihiro Oguchi
小口 芳弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP4041387A priority Critical patent/JPS63208036A/en
Publication of JPS63208036A publication Critical patent/JPS63208036A/en
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029

Abstract

PURPOSE:To permit plate making by laser beams by incorporating a photopolymn. initiator contg. a specific polymethine dye and photopolymerizable photosensitive component as essential components into the titled material. CONSTITUTION:The photopolymn. initiator contg. the polymethine dye expressed by formula I and the photopolymerizable photosensitive component are incorporated as the essential components into the above-mentioned material. In formula, R1-R5 denote a hydrogen atom, alkyl group, substd. alkyl group, cyclic alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, substd. aralkyl group, aryl group, substd. aryl group, styryl group, substd. styryl group, heterocyclic group, substd. heterocyclic group; (m) denotes 0 or 1; (n) denotes 0 or 1, 2; X- denotes an anion group. The polymethine dye, therefore, has large absorptive power in a near IR region. Plate making by an IR lamp, semiconductor laser, etc., are thereby permitted, by which the miniaturization and simplification of a plate making device are permitted.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は製版材料に関し、詳しくはポリメチン系色素に
より増感され、レーザー光線により製版することが出来
る印刷版材及び印刷版に使用する製版材料に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a plate-making material, and more particularly to a printing plate material that is sensitized with a polymethine dye and can be made by laser beams, and a plate-making material used in the printing plate. .

[従来の技術] 近年、印刷スピードの高速化および効率化への要望は高
まる一方であり、印刷作業の工程における製版について
も作業の高速化及び効率化が望まれている。
[Prior Art] In recent years, there has been an increasing demand for faster and more efficient printing, and there is also a desire for faster and more efficient plate making in the printing process.

従来の製版工程は、写真技術により光マスクを作成し、
その後光マスクフィルムを25版にかさねて全面露光を
行い、現像処理を行って印刷版を作成している。しかし
ながら、この光マスクの作成工程は、多量の銀を必要と
すること、及び複雑で多くの労力を必要とするため、そ
の工程を省略した方法として、原稿から版材上に直接製
版するダイレクト製版が注目されている。
In the conventional plate-making process, a light mask is created using photographic technology.
Thereafter, a photomask film is placed over the 25th plate, the entire surface is exposed, and a development process is performed to create a printing plate. However, the process of creating this optical mask requires a large amount of silver, is complex, and requires a lot of labor, so there is a method that omits this process: direct plate making, in which plate making is performed directly from the original onto the plate material. is attracting attention.

このダイレクト製版システムには、電子写真法を利用し
て印刷版上にトナー像をのせ製版する方法とレーザー技
術を利用したレーザーダイレクト製版システムがある。
This direct plate making system includes a method of placing a toner image on a printing plate using electrophotography and making a plate, and a laser direct plate making system using laser technology.

レーザーダイレクト製版システムに利用される記録方法
は、電子写真法、ヒートモードによる製版、フォトポリ
マーの硬化などにより製版する方法がある。これらの製
版に使われるレーザー光源は、電子写真法ではArやH
e−Meレーザー、ヒートモード用ではYAGレーザ−
、フォトポリマー用ではArレーザーが主として用いら
れている。
Recording methods used in laser direct plate making systems include plate making methods such as electrophotography, heat mode plate making, and photopolymer curing. The laser light source used for these plate-making processes is Ar or H in electrophotography.
e-Me laser, YAG laser for heat mode
, Ar lasers are mainly used for photopolymers.

この様にレーザー技術を利用することにより。By using laser technology in this way.

情報をデジタル処理したままの状態で製版することがで
き、製版のスピードアップとコストダウンが計られるが
、レーザー光源が高価格で大型なため、十分に利用され
ていないのが現状である。
It is possible to make plates with the information digitally processed, speeding up plate making and reducing costs, but because laser light sources are expensive and large, they are not fully utilized.

[発明が解決しようとする問題点] 本発明は上記問題点を解決するためになされたものであ
り、小型でかつ低価格の半導体レーザーを利用して製版
することが可能な製版材料を提供することを目的とする
ものである。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention has been made to solve the above problems, and provides a plate-making material that can be made using a small and low-cost semiconductor laser. The purpose is to

[問題点を解決するための手段]および[作用]即ち、
本発明は下記の一般式(1)で示されるポリメチン系色
素を含有する光開始剤組成物と、光重合性感光成分を主
成分として含有することを特徴とする製版材料である。
[Means for solving the problem] and [effect], that is,
The present invention is a plate-making material characterized by containing a photoinitiator composition containing a polymethine dye represented by the following general formula (1) and a photopolymerizable photosensitive component as main components.

一般式(I) (式中R+、 R*、 ’81. R4,R11は水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、環式アルキル基、
アルケニル基、アラルキル基、置換アラルキル基、アリ
ール基、置換アリール基、スチリル基、置換スチリル基
、複素R基、置換複素環基を示す。mはO又は1.nは
O又は1.2で、xoはアニオン基を示す。) 以下1本発明の詳細な説明する。
General formula (I) (wherein R+, R*, '81. R4 and R11 are hydrogen atoms, alkyl groups, substituted alkyl groups, cyclic alkyl groups,
Indicates an alkenyl group, an aralkyl group, a substituted aralkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, a styryl group, a substituted styryl group, a hetero R group, and a substituted heterocyclic group. m is O or 1. n is O or 1.2, and xo represents an anion group. ) The following is a detailed explanation of the present invention.

本発明のかかる目的は少くとも上記一般式(I)で示さ
れるポリメチン系色素を少なくとも1種類以上含有する
光開始剤組成物及び光重合性感光成分を主成分として含
有する光重合性組成物によって達成される。
The object of the present invention is to provide a photoinitiator composition containing at least one type of polymethine dye represented by the above general formula (I) and a photopolymerizable composition containing a photopolymerizable photosensitive component as a main component. achieved.

前記一般式(1)において、” + R2r R3+ 
R4およびR5は水素原子またはアルキル基(例えば、
メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso −プロ
ピル基、n−ブチル基、5ec−ブチル基、1so−ブ
チル基、t−ブチル基、n−アミル基、t−アミル基、
n−ヘキシル基、n−オクチル基、t−オクチル基など
)を示し、さらに他のアルキル基、例えば置換アルキル
基(例えば2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプ
ロピル基、4−ヒドロキシブチル基、2−アセトキシエ
チル基、カルボキシメチル基、2−カルボキシエチル基
、3−カルボキシプロピル基、2−スルホエチル基、3
−スルホプロピル基、4−スルホブチル基、3−スルフ
ェートプロピル基、4−スルフェートブチル基、N−(
メチルスルホニル)−カルバミルメチル基、3−(アセ
チルスルファミル)プロピル7、に、4−(アセチルス
ルファミル)ブチル基など)、環式アルキル基(例えば
、シクロヘキシル基など)、アルケニル基(ビニル基。
In the general formula (1), " + R2r R3+
R4 and R5 are hydrogen atoms or alkyl groups (for example,
Methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, 5ec-butyl group, 1so-butyl group, t-butyl group, n-amyl group, t-amyl group,
n-hexyl group, n-octyl group, t-octyl group, etc.), and also other alkyl groups, such as substituted alkyl groups (e.g. 2-hydroxyethyl group, 3-hydroxypropyl group, 4-hydroxybutyl group, 2-hydroxybutyl group, -acetoxyethyl group, carboxymethyl group, 2-carboxyethyl group, 3-carboxypropyl group, 2-sulfoethyl group, 3
-Sulfopropyl group, 4-sulfobutyl group, 3-sulfatepropyl group, 4-sulfatebutyl group, N-(
methylsulfonyl)-carbamylmethyl group, 3-(acetylsulfamyl)propyl, 4-(acetylsulfamyl)butyl group, etc.), cyclic alkyl group (e.g., cyclohexyl group, etc.), alkenyl group ( Vinyl group.

アリル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、
ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ドデシニ
ル基、プレニル基など)、アラルキル基^(例えば、ベ
ンジル基、フェネチル基、α−ナフチルメチル基、β−
ナフチルメチル基など)、置換アラルキル基(例えば、
カルボキシベンジル基、スルホベンジル基、ヒドロキシ
ベンジル基など)を包含する。さらに、R1、R2、R
3。
Allyl group, propenyl group, butenyl group, pentenyl group,
(hexenyl group, heptenyl group, octenyl group, dodecynyl group, prenyl group, etc.), aralkyl group (e.g. benzyl group, phenethyl group, α-naphthylmethyl group, β-
naphthylmethyl group), substituted aralkyl group (e.g.
carboxybenzyl group, sulfobenzyl group, hydroxybenzyl group, etc.). Furthermore, R1, R2, R
3.

R4およびR5は置換もしくは未置換のアリール基(例
えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基
、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、トリメ
トキシフェニル基、エトキシフェニル基、ジメチルアミ
ノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、ジプロピル
アミノフェニル基、ジベンジルアミノフェニル基、ジフ
ェニルアミノフェニル基など)、置換もしくは未置換の
複素環基(例えば、ピリジル基、キノリル基、レピジル
基、メチルピリジル基、フリル基、チェニル基、インド
リル基、ピロール基、カルバゾリル基、N−エチルカル
バゾリル基など)又は置換もしくは未置換のスチリル基
(例えば、スチリル基、メトキシスチリル基、ジメトキ
シスチリル基、トリメトキシスチリル基、エトキシスチ
リル基、ジメチルアミノスチリル基、ジエチルアミノス
チリル基、ジプロピルアミノスチリル基、ジベンジルア
ミノスチリル基、ジフェニルアミノスチリル基、2.2
−ジフェニルビニル基、2−フェニル−2−メチルビニ
ル基、2−(ジメチルアミノフェニル)−2−フェニル
ビニル基、2−(ジエチルアミノフェニル)−2−フェ
ニルビニル基、2−(ジベンジルアミノフェニル)−2
−フェニルビニル基、2,2−ジ(ジエチルアミノフェ
ニル)ビニル基、2,2−ジ(メトキシフェニル)ビニ
ル基、2.2−ジ(エトキシフェニル)ビニル基、2−
(ジメチルアミノフェニル〕−2−メチルビニル基、2
−(ジエチルアミノフェニル)=2−エチルビニル基な
ど)を示す0mは、0又は1であり、nは0.1又は2
である。
R4 and R5 are substituted or unsubstituted aryl groups (e.g., phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, methoxyphenyl group, dimethoxyphenyl group, trimethoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, dimethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group) group, dipropylaminophenyl group, dibenzylaminophenyl group, diphenylaminophenyl group, etc.), substituted or unsubstituted heterocyclic groups (e.g., pyridyl group, quinolyl group, lepidyl group, methylpyridyl group, furyl group, chenyl group) , indolyl group, pyrrole group, carbazolyl group, N-ethylcarbazolyl group) or substituted or unsubstituted styryl group (e.g. styryl group, methoxystyryl group, dimethoxystyryl group, trimethoxystyryl group, ethoxystyryl group, Dimethylaminostyryl group, diethylaminostyryl group, dipropylaminostyryl group, dibenzylaminostyryl group, diphenylaminostyryl group, 2.2
-diphenylvinyl group, 2-phenyl-2-methylvinyl group, 2-(dimethylaminophenyl)-2-phenylvinyl group, 2-(diethylaminophenyl)-2-phenylvinyl group, 2-(dibenzylaminophenyl) -2
-phenylvinyl group, 2,2-di(diethylaminophenyl)vinyl group, 2,2-di(methoxyphenyl)vinyl group, 2,2-di(ethoxyphenyl)vinyl group, 2-
(dimethylaminophenyl)-2-methylvinyl group, 2
-(diethylaminophenyl)=2-ethylvinyl group, etc.) is 0 or 1, and n is 0.1 or 2.
It is.

xoはアニオン基を示し、例えば、塩化物イオン、臭化
物イオン、ヨウ化物イオン、過塩素酸塩イオン、ベンゼ
ンスルホンm塩イオン、p−トルエンスルホンm塩イオ
ン、メチル硫酸塩イオン。
xo represents an anion group, for example, chloride ion, bromide ion, iodide ion, perchlorate ion, benzenesulfone m salt ion, p-toluenesulfone m salt ion, methyl sulfate ion.

エチル硫酸塩イオン、プロピル硫酸塩イオン、テトラフ
ルオロホウ#塩イオン、テトラフェニルホウ酸塩イオン
、ヘキサフルオロリン酸塩イオン、ベンゼンスルフィン
酸塩イオン、酢酸塩イオン、トリプルオロ酢酸塩イオン
、プロピオン酢酸塩イオン、安息香酸塩イオン、シュウ
酸塩イオン、コハク酸塩イオン、マロン酸塩イオン、オ
レイン酸塩イオン、ステアリン酸塩イオン、クエン酸塩
イオン、−水素二リン酸塩イオン、二水素−・リン酸塩
イオン、ペンタクロロスズ酸塩イオン、クロロスルホン
酸塩イオン、フルオロスルホン酸塩イオン、トリフルオ
ロメタンスルホン酸塩イオン、ヘキサフルオロアンチモ
ン酸塩イオン、モリブデン酸塩イオン、タングステン酸
塩イオン、チタン酸塩イオン、ジルコン酸塩イオンなど
の陰イオンを表わす。
Ethyl sulfate ion, propyl sulfate ion, tetrafluoroborous salt ion, tetraphenylborate ion, hexafluorophosphate ion, benzenesulfinate ion, acetate ion, triple oloacetate ion, propionic acetate ion, benzoate ion, oxalate ion, succinate ion, malonate ion, oleate ion, stearate ion, citrate ion, -hydrogen diphosphate ion, dihydrogen-・phosphorus Acid salt ion, pentachlorostannate ion, chlorosulfonate ion, fluorosulfonate ion, trifluoromethanesulfonate ion, hexafluoroantimonate ion, molybdate ion, tungstate ion, titanate ion ion, anion such as zirconate ion.

上記ポリメチン系色素は、800 nm付近の近赤外領
域に吸光係数が105以上の大きな吸収ピークを持ち、
赤外線ランプあるいは半導体レーザーの780 nmあ
るいは830 nmの光をよく吸収し、効率良く熱に変
換することが出来るものが好ましい。
The polymethine dye has a large absorption peak with an extinction coefficient of 105 or more in the near-infrared region around 800 nm,
It is preferable to use a material that can absorb 780 nm or 830 nm light from an infrared lamp or a semiconductor laser and efficiently convert it into heat.

次lこ、前記一般式(I)で示されるポリメチン色素の
代表例を挙げる。
Next, representative examples of the polymethine dye represented by the general formula (I) will be listed.

BF4゜ このようなポリメチン系色素は有機溶剤に対する溶解性
が良い。一般に使用出来る溶剤としては、アセトン、メ
チルエチルケトンなどのケトン類、テトラヒドロフラン
、ジオキサン、ジ−イソプロピルエーテル、ジ−n−プ
ロピルエーテル、ジ−n−ブチルエーテルなどのエーテ
ル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酪醸エチ
ル。
BF4゜Such polymethine dyes have good solubility in organic solvents. Commonly usable solvents include acetone, ketones such as methyl ethyl ketone, ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, di-isopropyl ether, di-n-propyl ether, di-n-butyl ether, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, Dairy ethyl.

などのエステル類、塩化メチレン、クロロホルム、ジク
ロロエチレン、トリクロロエチレンなどのハロゲン化炭
化水素類、あるいはベンゼン、トルエン、キシレン、モ
ノクロルベンゼン、ジクロルベンゼン、アニソールなど
の芳香族類、イソプロピルアルコール、n−ブタノール
などのアルコール類等が挙げられる。
esters such as, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, dichloroethylene, trichloroethylene, aromatics such as benzene, toluene, xylene, monochlorobenzene, dichlorobenzene, anisole, isopropyl alcohol, n-butanol, etc. Examples include alcohols.

上記溶媒を使用してポリメチン系色素を含有する光開始
剤組成物及び光1合性感光成分を生成として含有する皮
膜を分散状態あるいは溶解状態で基材上に作成させるこ
とが出来る。また、皮膜性、接着性や耐久性向上のため
にバインダーを適宜用いても良く、該バインダーとして
は塗膜形成能力をもつポリマーがすべて利用できる。バ
インダーとしては、例えば、ポリビニルピロリドン。
Using the above-mentioned solvent, a film containing a photoinitiator composition containing a polymethine dye and a photocombinable photosensitive component as a product can be formed on a substrate in a dispersed or dissolved state. In addition, a binder may be used as appropriate to improve film properties, adhesive properties, and durability, and any polymer capable of forming a coating film can be used as the binder. As a binder, for example, polyvinylpyrrolidone.

ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニ
ル及びそれらの共重合体などが挙げられる。
Examples include polymethyl methacrylate, polystyrene, polyvinyl acetate, and copolymers thereof.

本発明の光開始剤組成物には、光開始剤として有機過酸
化物を含有していることが好ましく、この有機過酸化物
は分子中に醸素−酸素結合を少なくとも1個以上有する
有機化合物のほとんどすべてが含まれる。例えば、メチ
ルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパー
オキサイド、3,3.5− トリメチルシクロヘキサノ
ンパーオキサイト、メチルシクロヘキサノンパーオキサ
イド、アセチルアセトンパーオキサイド、1.1−ビス
(ターシャリイブチルパーオキシ) −3,3,5−ト
リメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(ターシャリイ
ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、n−ブチル−4,
4−ビス(ターシャリイブチルパーオキシ)バレラート
、2,2−ビス(ターシャリイブチルパーオキシ)ブタ
ン、ターシャリイブチルハイドロパーオキサイド、クメ
ンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハ
イドロバーオキサイド、パラ−メンタンハイドロパーオ
キサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2、シバイトロ
バ−オキサイド、1,1,3.:l−テトラメチルブチ
ルハイトロバーオキサイト、ジターシャリイブチルパー
オキサイド、ターシャリイブチルタミルパーオキサイト
、ジクミルパーオキサイド、α、α′−ビス(ターシャ
リイブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、2.5
−ジメチル−2,5−ジ(ターシャリイブチルパーオキ
シ)ヘキサン、2.5−ジメチル−2,5−ジ(ターシ
ャリイブチルパーオキシ)ヘキシン−3、アセチルパー
オキサイド、イソブチリルパーオキサイド、オクタノイ
ルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロ
イルパーオキサイド、:l、5.5− トリメチルヘキ
サノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベン
ゾイル、2.4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、
メタ−トルオイルパーオキサイド、ジイソプロピルパー
オキシジカーボネート、ジー2−エチルへキシルパーオ
キシジカーボネート、ジノルマルプロピルパーオキシジ
カーボネート、ジー2−エトキシエチルパーオキシジカ
ーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボ
ネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオ
キシジカーボネート、ターシャリイブチルパーオキシア
セテート、ターシャリイブチルパーオキシイソブチレー
ト、ターシャリイブチルパーオキシピバレート、ターシ
ャリイブチルパーオキシネオデカノエート、ターシャリ
イブチルパーオギシオクタノエート、ターシャリイブチ
ルパーオキシ−3,5,5〜 トリメチルヘキサノエー
ト、ターシャリイブチルパーオキシラウレート。
The photoinitiator composition of the present invention preferably contains an organic peroxide as a photoinitiator, and the organic peroxide is an organic compound having at least one nitrogen-oxygen bond in the molecule. Includes almost everything. For example, methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, 3,3,5-trimethylcyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis(tert-butylperoxy)-3,3,5- Trimethylcyclohexane, 1,1-bis(tert-butylperoxy)cyclohexane, n-butyl-4,
4-bis(tert-butylperoxy)valerate, 2,2-bis(tert-butylperoxy)butane, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, para-menthane hydroperoxide , 2,5-dimethylhexane-2, sivitrotro-oxide, 1,1,3. : l-Tetramethylbutylhydroberoxide, ditertiarybutyl peroxide, tertiarybutyltamyl peroxide, dicumyl peroxide, α,α'-bis(tertiarybutylperoxyisopropyl)benzene, 2.5
-dimethyl-2,5-di(tert-butylperoxy)hexane, 2,5-dimethyl-2,5-di(tert-butylperoxy)hexyne-3, acetyl peroxide, isobutyryl peroxide, octanoyl Peroxide, decanoyl peroxide, lauroyl peroxide, :l, 5.5-trimethylhexanoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide, 2.4-dichlorobenzoyl peroxide,
Meta-toluoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-n-propyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate, dimethoxyisopropyl peroxydicarbonate, di( 3-Methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxyisobutyrate, tert-butyl peroxy pivalate, tert-butyl peroxyneodecanoate, tert-butyl peroxyisobutyrate Butyl peroxyoctanoate, tert-butyl peroxy-3,5,5-trimethylhexanoate, tert-butyl peroxylaurate.

ターシャリイブチルパーオキシベンゾエート、ジターシ
ャリイブパーオキシイソフタレート、2.5−ジメチル
−2,5−ジ(ベンゾイソパーオキシ)ヘキサン、ター
シャリイブチル過酸化マレイン酸、ターシャリイブチル
パーオキシイソプロビルカーポネート等が挙げられる。
Tert-butyl peroxybenzoate, di-tert-butyl peroxy isophthalate, 2,5-dimethyl-2,5-di(benziisoperoxy)hexane, tert-butyl peroxymaleic acid, tert-butyl peroxyisopropyl carpo Examples include Nate et al.

また、その他の公知な光重合開始剤を混合してもよい。Further, other known photopolymerization initiators may be mixed.

本発明に用いる光重合性感光成分は、すべての不飽和化
合物を挙げることができ、これらの不飽和化合物として
は、重合性のエチレン系不飽和結合を有するモノマー、
オリゴマー、ポリマーなどがあり、例えばアクリル酸、
メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸及びその無水物
、フタル酸及びその無水物、フマル酸等の不飽和酸や(
メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、
(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸グリシ
ジル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、マレイン
酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジメチル、
ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリ
メチロールブPパントリ(メタ)アクリレート、エチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、ブロビレングリ
コールジ(メタ)アクリレート等の不飽和酸エステル、
及びスチレン、アクリルアミド、アクリロニトリル、N
−ビニルピロリドン、酢酸ビニル、さらに種々の不飽和
ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリウレタ
ンやエポキシ(メタ)アクリレート化合物などが挙げら
れる。
The photopolymerizable photosensitive component used in the present invention includes all unsaturated compounds, and these unsaturated compounds include monomers having a polymerizable ethylenically unsaturated bond,
There are oligomers and polymers, such as acrylic acid,
Unsaturated acids such as methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid and its anhydrides, phthalic acid and its anhydrides, fumaric acid,
Methyl acrylate, ethyl (meth)acrylate,
Butyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, hydroxyethyl (meth)acrylate, dimethyl maleate, diethyl maleate, dimethyl fumarate,
Unsaturated acid esters such as pentaerythritol tri(meth)acrylate, trimethylolbuPpantri(meth)acrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate, brobylene glycol di(meth)acrylate,
and styrene, acrylamide, acrylonitrile, N
Examples include -vinylpyrrolidone, vinyl acetate, and various unsaturated polyesters, unsaturated polyethers, unsaturated polyurethanes, and epoxy (meth)acrylate compounds.

光開始剤組成物の添加量は光重合性感光成分100重量
部に対して0.1〜100重量部、好ましくは0.5〜
50重量部である。
The amount of the photoinitiator composition added is 0.1 to 100 parts by weight, preferably 0.5 to 100 parts by weight, per 100 parts by weight of the photopolymerizable photosensitive component.
It is 50 parts by weight.

また光開始剤組成物は前記ポリメチン系化合物と有機過
酸化物とを有効成分として含有する場合、両者の配合割
合は重量比でポリメチン系色素:有機過酸化物=0.1
 : 99.9〜lO口:0であり、好ましくは、3〜
95:97〜5である。
When the photoinitiator composition contains the polymethine compound and organic peroxide as active ingredients, the weight ratio of the two is polymethine dye:organic peroxide=0.1.
: 99.9~lO mouth: 0, preferably 3~
95:97-5.

前述のような光重合性感光成分の1種または2種以上の
混合物に、前記一般式(I)で示されるポリメチン系色
素と前記有機過酸化物を添加し、必要に応じて通常の染
料、顔料、禁止剤およびバインダー等と適当な溶媒を加
えて、分散あるいは溶解させ、基板上に製膜させること
ができる。
The polymethine dye represented by the general formula (I) and the organic peroxide are added to one or a mixture of two or more of the photopolymerizable photosensitive components as described above, and if necessary, ordinary dyes, A pigment, an inhibitor, a binder, etc. and a suitable solvent can be added to disperse or dissolve them, and a film can be formed on a substrate.

基板としては、一般に使われている銅版、アルミ版など
の他にポリイミドフィルム、ポリエチレンテレフタレー
トフィルム、アラミドフィルムなどのフィルム類を用い
ることができる。
As the substrate, in addition to commonly used copper plates, aluminum plates, etc., films such as polyimide film, polyethylene terephthalate film, aramid film, etc. can be used.

[実施例] 次に本発明を実施例を挙げて説明する。尚、以下の実施
例において部は重量部を示す。
[Example] Next, the present invention will be explained by giving examples. In addition, in the following examples, parts indicate parts by weight.

実施例1〜5 光重合性感光成分としてトリメチロールプロパントリア
クリレート100部、バインダーとしてポリメチルメタ
クリレート35@を用い、これに光開始剤組成物として
下記表1に示したポリメチン系色素5部と有機過酸化物
を溶媒に溶解させ、アプリケーターを用いてポリイミド
フィルム上に約4ル厚になるように塗布した。さらに、
この上にポリビニルアルコールの約8ル厚の膜を塗布し
た。
Examples 1 to 5 100 parts of trimethylolpropane triacrylate was used as a photopolymerizable photosensitive component, 35@ polymethyl methacrylate was used as a binder, and 5 parts of polymethine dye shown in Table 1 below as a photoinitiator composition and an organic Peroxide was dissolved in a solvent and applied to a polyimide film to a thickness of about 4 ml using an applicator. moreover,
On top of this was applied a film of polyvinyl alcohol about 8 μl thick.

この版材に25mWの半導体レーザ(830nm)、ビ
ーム径0.4 amを用いて露光し、塗膜が硬化するま
での必要なエネルギー量を測定した。その結果を表1に
示す。
This plate material was exposed to light using a 25 mW semiconductor laser (830 nm) and a beam diameter of 0.4 am, and the amount of energy required until the coating film was cured was measured. The results are shown in Table 1.

表  1 実施例6〜lO 光重合性感光成分として、下記の式(II)の構造の化
合物を用いた以外は実施例1と同様に、版材を作成し、
塗膜の硬化に必要なエネルギーの測定を行った。その結
果を表2に示す。
Table 1 Examples 6 to 1O Plate materials were prepared in the same manner as in Example 1 except that a compound having the structure of the following formula (II) was used as the photopolymerizable photosensitive component,
The energy required to cure the paint film was measured. The results are shown in Table 2.

表  2 [発明の効果] 以上説明した様に、本発明の製版材料はポリメチン系色
素を含有する光開始剤組成物と光重合性感光成分を主成
分として含有し、ポリメチン系色素が近赤外領域に大き
い吸収能を有するので、赤外線ランプ、半導体レーザー
等により製版することができ、製版装置の小型化、簡略
化を射ることが可能となる。
Table 2 [Effects of the Invention] As explained above, the plate-making material of the present invention contains a photoinitiator composition containing a polymethine dye and a photopolymerizable photosensitive component as main components, and the polymethine dye has near-infrared rays. Since it has a large absorption capacity in a certain area, plate making can be performed using an infrared lamp, a semiconductor laser, etc., and it becomes possible to downsize and simplify the plate making apparatus.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)下記の一般式( I )で示されるポリメチン系色
素を含有する光開始剤組成物と、光重合性感光成分を主
成分として含有することを特徴とする製版材料。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1、R_2、R_3、R_4、R_5は水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、環式アルキル基、
アルケニル基、アラルキル基、置換アラルキル基、アリ
ール基、置換アリール基、スチリル基、置換スチリル基
、複素環基、置換複素環基を示す。mは0又は1、nは
0又は1、2、X^■はアニオン基を示す。)
(1) A plate-making material characterized by containing a photoinitiator composition containing a polymethine dye represented by the following general formula (I) and a photopolymerizable photosensitive component as main components. General formula (I) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R_1, R_2, R_3, R_4, R_5 are hydrogen atoms, alkyl groups, substituted alkyl groups, cyclic alkyl groups,
Indicates an alkenyl group, an aralkyl group, a substituted aralkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, a styryl group, a substituted styryl group, a heterocyclic group, and a substituted heterocyclic group. m is 0 or 1, n is 0, 1, or 2, and X^■ represents an anion group. )
(2)光開始剤組成物が有機過酸化物を含有している特
許請求の範囲第1項記載の製版材料。
(2) The plate-making material according to claim 1, wherein the photoinitiator composition contains an organic peroxide.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0438123A2 (en) * 1990-01-16 1991-07-24 Showa Denko Kabushiki Kaisha Near infrared polymerization initiator

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