JPS63198241A - Color cathode tube - Google Patents

Color cathode tube

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JPS63198241A
JPS63198241A JP63006696A JP669688A JPS63198241A JP S63198241 A JPS63198241 A JP S63198241A JP 63006696 A JP63006696 A JP 63006696A JP 669688 A JP669688 A JP 669688A JP S63198241 A JPS63198241 A JP S63198241A
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electron
electrode
electron gun
screen
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デービツド アーサー ニユー
ロレン リー マニンジヤ
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    • H01J2229/4896Aperture shape as viewed along beam axis complex and not provided for

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 この発明は3つの電子レンズを有する電子銃を持ったカ
ラー陰極線管に関し、更に詳しくは、実質的に一定の電
流密度を持った非対称形状のビームを形成することので
きる3レンズ電子銃に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application of the Invention] The present invention relates to a color cathode ray tube with an electron gun having three electron lenses, and more particularly to a color cathode ray tube having an asymmetrically shaped beam with a substantially constant current density. This invention relates to a three-lens electron gun that can form a three-lens electron gun.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

第1図は通常の矩形カラー映像管10を示し、この映像
管は、矩形のファンネル16によって接合されている矩
形のフェースプレートパネル12と管状ネック14とを
含むガラス外囲器11を有している。
FIG. 1 shows a conventional rectangular color picture tube 10 having a glass envelope 11 including a rectangular faceplate panel 12 and a tubular neck 14 joined by a rectangular funnel 16. There is.

パネル12は観察フェースプレート18と、フリットシ
ール21によってファンネル16に封着された周辺フラ
ンジ、即ち、側壁2oとを持っている。フエースプレー
ト18の内面には、モザイク状3色螢光体スクリーン2
2が設けられている。好ましくは、スクリーン22はラ
インスクリーンで、螢光体の線が映像管を高周波数でマ
スク線走査する方向に対し実質的に垂直(即ち、第1図
の紙面に直角)に延びている。ドツトスクリーンも用い
ることができる。多孔色選択電極、即ち、シャドーマス
ク24カ通常の手段によって、スクリーン22と所定の
間隔を保って取付けられている。インライン電子銃(第
1図には、点線で概略的に示す)26がネック14内に
中心合せして配置され、3本の電子ビーム28を発生し
て、これをマスク24を通してスクリーン22に向けて
、初めは同一平面内に位置しているビーム通路に沼って
投射する。通常の電子銃の1つの型のものは、第2図に
示した1986年10月28日刊でモレル(Morre
ll)氏外に発行された米国特許第4.620.133
号に記載されているような4グリツド・パイポテンシャ
ル電子銃である。
Panel 12 has a viewing faceplate 18 and a peripheral flange or sidewall 2o sealed to funnel 16 by a frit seal 21. A mosaic three-color phosphor screen 2 is provided on the inner surface of the face plate 18.
2 is provided. Preferably, the screen 22 is a line screen with lines of phosphor extending substantially perpendicular to the direction of high frequency mask line scanning of the picture tube (ie, perpendicular to the plane of the page of FIG. 1). Dot screens can also be used. A porous color selection electrode, or shadow mask 24, is mounted at a predetermined distance from the screen 22 by conventional means. An in-line electron gun (shown schematically in dotted lines in FIG. 1) 26 is centered within the neck 14 and generates three electron beams 28 which are directed through the mask 24 and onto the screen 22. The beam is projected onto a beam path that is initially located in the same plane. One type of conventional electron gun was published by Morre in the October 28, 1986 issue shown in Figure 2.
ll) U.S. Patent No. 4.620.133 issued to Mr. et al.
It is a four-grid pi-potential electron gun as described in the issue.

第1図の映像管は外部磁気偏向ヨーク、例えば、ファン
ネルとネックの接合部の部分に配置されたヨーク30%
と共に使用されるように設計されている。付勢されると
、ヨーク30は3本の電子ビーム28が磁界の影響を受
けるようにする。この磁界は、電子ビーム28がスクリ
ーン22上を矩形マスクを描いて水平及び垂直に走査す
るように働くものである。初期の偏向面(ゼロ偏向点に
ある面)を第1図にヨーク30のほぼ中央部の線P−P
で示されている。フリンジ磁界があるために、映像管の
偏向領域はヨーク30から軸方向に沿って銃26の領域
に入り込む。図を簡単にするために、第1図では、偏向
領域における偏向されたビームの通路の実際の湾曲は示
されていない。ヨーク3oは、強いピンクッション形垂
直偏向磁界と強いバレル形水平偏向磁界とを有し、スク
リーン22の周辺部で電子ビームを集中させる非均−磁
界を与える。電子ビームがこのような非均−磁界を通過
する時、ビームは歪みを受け、集束ずれを生じてしまう
。その結果、スクリーン22の周辺部では、電子ビーム
スポットの形状は大きく歪んでしまう。第3図は1本の
ビームについての電子ビームスポットを示し。
The picture tube in Figure 1 has an external magnetic deflection yoke, for example, a 30% yoke placed at the junction of the funnel and the neck.
designed to be used with. When energized, yoke 30 causes three electron beams 28 to be influenced by a magnetic field. This magnetic field works so that the electron beam 28 scans the screen 22 horizontally and vertically by drawing a rectangular mask. The initial deflection surface (the surface at the zero deflection point) is shown in FIG.
It is shown in Because of the fringe field, the deflection area of the picture tube extends axially from the yoke 30 into the area of the gun 26. To simplify the illustration, the actual curvature of the path of the deflected beam in the deflection region is not shown in FIG. The yoke 3o has a strong pincushion-shaped vertical deflection magnetic field and a strong barrel-shaped horizontal deflection magnetic field, and provides a non-uniform magnetic field that concentrates the electron beam at the periphery of the screen 22. When an electron beam passes through such a non-uniform magnetic field, the beam is distorted and becomes defocused. As a result, the shape of the electron beam spot is greatly distorted at the periphery of the screen 22. FIG. 3 shows the electron beam spot for one beam.

このビームはスクリーン22の中心部では円形で、スク
リーンの周辺部では種々のタイプの歪みを受けている。
This beam is circular in the center of the screen 22 and is subjected to various types of distortions at the periphery of the screen.

第3図に示すように、ビームスポットは、水平軸に清っ
て偏向される時、水平に拡がっている。スクリーンの四
角におけるビームスポットは水平方向に長い部分と垂直
方向に長い部分とが組合わされて形成された。範囲に光
背状の延長部を持った楕円形のスポットである。電子ビ
ームの偏向が大きくなるに従い、解像度は低下し、無視
することの出来ない非均−集束のために問題が生じてし
まう。
As shown in FIG. 3, the beam spot is spread out horizontally when it is deflected along the horizontal axis. A beam spot on a square of the screen was formed by a combination of a horizontally long part and a vertically long part. It is an elliptical spot with a halo-like extension in its area. As the deflection of the electron beam increases, the resolution decreases and problems arise due to non-negligible non-uniform focusing.

前記した米国特許第4 、620 、133号は、この
ビーム集束に関する問題を取扱っており、偏向ヨーク及
び、第1のグリッドGl、第2のグリッドG2及び第3
のグリッドG4を有する改良されたビーム形成領域と、
上記ヨークとビーム形成領域と協働シてスクリーン22
上に改善されたビームスポットを形成するように働く改
良された主フォーカスレンズG3−G4とを有する電子
銃を備えた改良されたカラー画像表示装置を提供してい
る。第4a図は、第2図に示した従来の電子銃のビーム
形成領域と主フオーカスレンズとによって生成された電
子ビームについての、スクリーン22の中央部における
電子ビーム電流密度等高線(コントウア)を示す。電子
銃のビーム電流は4mAである。第4a図の電子ビーム
電流密度等高線は、平均ビーム電流の約50%の実質的
に一定なビーム電流を有する比較的大きな中央部分と、
ビーム電流が平均ビーム電流の約5%に低下し、さらに
、約1%まで低下している周辺部分とを含んでいる。ビ
ームは垂直軸に渚って長円形となっており、ビームが偏
向された時のヨークによる過集束(オーバフォーカス)
を低下させる。第4b図は、第2図の03及びG4電極
間の王しンズL2内におけるビーム−流密度等高線を示
す。この場所では、電子ビームは水平方向に伸びている
。しかし、50%のビーム電流密度部分はビームの中央
の小楕円形部分中に含まれており、その囲りを、5%と
1%のビーム電流密度輪郭を表わすより大きな楕円形部
分が取囲んでいる。第4c図は、スクリーンの右上角部
に偏向された電子ビームの電子ビーム電流密度等高線で
ある。ビームの中央部の上方と下方で。
The above-mentioned U.S. Pat. No. 4,620,133 deals with this beam focusing problem and includes a deflection yoke, a first grid Gl, a second grid G2 and a third grid Gl.
an improved beam forming region having a grid G4 of;
The screen 22 cooperates with the yoke and the beam forming area.
An improved color image display device is provided that includes an electron gun having an improved main focus lens G3-G4 that serves to form an improved beam spot thereon. FIG. 4a shows the electron beam current density contour at the center of the screen 22 for the electron beam generated by the beam forming region and main focus lens of the conventional electron gun shown in FIG. . The beam current of the electron gun is 4 mA. The electron beam current density contour of FIG. 4a has a relatively large central portion with a substantially constant beam current of about 50% of the average beam current;
It includes a peripheral region where the beam current is reduced to about 5% of the average beam current, and further reduced to about 1%. The beam has an oval shape along the vertical axis, and the yoke prevents overfocus when the beam is deflected.
decrease. FIG. 4b shows the beam-flow density contours in Wang Shinzu L2 between the 03 and G4 electrodes of FIG. At this location, the electron beam extends horizontally. However, the 50% beam current density section is contained within a small elliptical section in the center of the beam, which is surrounded by a larger elliptical section representing the 5% and 1% beam current density contours. I'm here. FIG. 4c is an electron beam current density contour for an electron beam deflected to the upper right corner of the screen. Above and below the central part of the beam.

いくらかの光背現象が起きている。isa図〜第5c図
Lt、種々のビーム電流についての、第2図の電子銃の
ビーム形成領域から出て行く電子の経路を示すものであ
る。第5a図では、ビーム電流は4mAに調整されてお
り、クロスオーバ点は原点に配置した陰極から約2.8
〜2.9 mm (110〜115ミル)に生じている
。原点から約5.2 mm (200ミル)の位置にお
いては、電子はビームの中央部分に集中している。この
電子の分布は、スクリーンにおいて、第4a図に示した
電流密度等高線を作り出す。クロスオーバ点の位置とビ
ーム電流密度等高線に対するビーム電流の影響は第5b
図と第5C図に示されている。第5b図においては、ビ
ーム電流は0 、8 mAまで下げられており、クロス
オーバ点は陰極から約1.14πg(45ミル)の位置
まで移っている。電子ビームの発散角は、動作電流が4
 、0 mAの時(第5a図)よりも、0.8mへの時
の方がいくらか小さくなっていることは明らかである。
Some halo phenomenon is occurring. Figures 1a to 5c Lt show the paths of electrons exiting the beam forming region of the electron gun of Figure 2 for various beam currents. In Figure 5a, the beam current is adjusted to 4 mA, and the crossover point is approximately 2.8 mA from the cathode located at the origin.
~2.9 mm (110-115 mils). At about 200 mils from the origin, the electrons are concentrated in the central portion of the beam. This distribution of electrons creates the current density contours shown in Figure 4a in the screen. The influence of the beam current on the position of the crossover point and the beam current density contour is shown in Section 5b.
and FIG. 5C. In Figure 5b, the beam current has been reduced to 0.8 mA and the crossover point has been moved to about 45 mils from the cathode. The divergence angle of the electron beam is determined by the operating current of 4
, it is clear that it is somewhat smaller at 0.8 m than at 0 mA (Fig. 5a).

第5C図では、ビーム電流は0 、2 mAで、クロス
オーバ点は陰極から約Q、5 mm (25ミル)以下
の位置にあり、ビームは実質的に層状である。
In FIG. 5C, the beam current is 0.2 mA, the crossover point is approximately Q, 5 mm (25 mils) or less from the cathode, and the beam is substantially laminar.

1987年2月3日付の米国特許第4,641,058
号には、第2と第3のグリッド間にプリフォーカス非点
収差レンズが形成され、第3グリツドと第4グリツドと
の間に主非点収差フォーカスレンズが形成される4グリ
ツド・パイポテンシャル電子銃が記載されている。この
2レンズ構造が従来のパイポテンシャル構造に比較して
すぐれている点は、第2図に示すような、第1グリツド
によって電子ビームに非点収差形状を与える従来の種々
のパイポテンシャル電子銃とは異なり、上記米国特許第
4 、641 、058号に記載の電子銃では、第2及
び/″!たは第3グリツドを第1の非点収差レンズとし
て使用している点である。この構造を採用すれば、第1
の非点収差レンズによって形成される非点収差電子ビー
ムを主非点収差フォーカスレンズ中で補正して、陰極線
管の螢光体スクリーン上に実質的に円形のビームスポッ
トを形成できると述べられている。上記米国特許第4,
641,058号に記載の構造は、第6図に示すような
6個のグリッドと3個の別個のレンズを持つ複合レンズ
形式の電子銃にも応用されている。この米国特許に記載
の6グリツド構造では、第1の(プリフォーカス)レン
ズL1が第2グリツドと第3グリッド間に形成され、第
3.第4、第5グリツドがサブレンズ(sub −1e
ns ) L 2を構成し、第5.第6グリツドが主レ
ンズL3を構成している。この例では、第1の(プリフ
ォーカス)レンズは第1の非点収差レンズとして働き、
主レンズが第2の非点収差レンズとして作用する。この
電子銃においては、偏向ビームスポットは従来のものに
よって得られるものよシも優れていると述べられている
。しかし。
U.S. Patent No. 4,641,058, dated February 3, 1987
In this issue, a four-grid pi-potential electron beam is introduced, in which a prefocus astigmatism lens is formed between the second and third grids, and a principal astigmatism focus lens is formed between the third and fourth grids. A gun is listed. This two-lens structure is superior to the conventional pi-potential structure, as shown in Fig. 2, which uses the first grid to give the electron beam an astigmatic shape. The difference is that the electron gun described in U.S. Pat. No. 4,641,058 uses the second and/or third grid as the first astigmatic lens. This structure If you adopt
It is stated that the astigmatic electron beam formed by the astigmatic lens can be corrected in the main astigmatism focus lens to form a substantially circular beam spot on the phosphor screen of the cathode ray tube. There is. U.S. Patent No. 4,
The structure described in No. 641,058 has also been applied to a compound lens type electron gun having six grids and three separate lenses as shown in FIG. In the six-grid structure described in this patent, a first (prefocus) lens L1 is formed between the second and third grids, and the third... The fourth and fifth grids are sub-lenses (sub-1e
ns) Configure L2, and 5th. The sixth grid constitutes the main lens L3. In this example, the first (prefocus) lens acts as the first astigmatic lens;
The main lens acts as a second astigmatic lens. It is stated that the deflection beam spot of this electron gun is superior to that obtained with conventional electron guns. but.

このような電子銃構造では、クロスオーバ点の位置は電
子銃のビーム電流に左右されてしまう。第1の非対称レ
ンズL1は第2グリツドG2と第3グリツドG3の間の
領域に形成されるが、クロスオーバ点は、電子ビーム電
流によっては、レンズL1の前で生じたり、後で生じた
シする。約4mAという高ビーム電流では、クロスオー
ツ<点はレンズL1の仮で03電極の方に近い位置に生
じる。
In such an electron gun structure, the position of the crossover point depends on the beam current of the electron gun. The first asymmetric lens L1 is formed in the region between the second grid G2 and the third grid G3, and depending on the electron beam current, the crossover point may occur before or after the lens L1. do. At a high beam current of about 4 mA, a cross point occurs at a position near the hypothetical 03 electrode of lens L1.

このように、レンズL1の非対称的効果はビーム電流の
関数である。従って、ビーム電流に左右さnない電子レ
ンズが望まれる。即ち、電子銃の動作ビーム電流に関係
なく、非対称レンズはクロスオーバ点よりスクリーン側
にある必要がある。さらに、主レンズにおいて、水平垂
直の両方向において実質的に一定な電流密度を持ったビ
ームを形成する電子銃構造を得ることが望まれている。
Thus, the asymmetric effect of lens L1 is a function of beam current. Therefore, an electron lens that is not affected by beam current is desired. That is, regardless of the operating beam current of the electron gun, the asymmetric lens must be located closer to the screen than the crossover point. Furthermore, it is desirable to have an electron gun structure that forms a beam with substantially constant current density in both horizontal and vertical directions in the main lens.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

この発明は、中央ビームと2本の外側ビームの3本の電
子ビームを発生して、これらのビームをスクリーンに向
けて、最初は同一平面内にある通路に沿って投射する電
子銃を含んでいるカラー映像管の改良を行うものである
。上記電子銃は、第2のレンズに実質的に対称なビーム
を供給するためのビーム形成領域を含む第1のレンズを
形成する互いに間隔を置いて配置された複数の電極を備
えている。第2のレンズは、軸をはずれて第1 Q)レ
ンズから出てくる電子ビームを軸に向けて屈折させるビ
ーム屈折手段と、非対称な形状を持ったビームを第3の
レンズに供給する非対称ビーム集束手段とを備えている
。第3のレンズは実質的に一定の電流密度を持った非対
称形状のビームをスクリーンに供給する低収差の主集束
レンズである〔推奨実施例の説明〕 この発明による電子銃4oの詳細が第7図と第8図に示
されている。電子銃4oは、3個含ビームに対し1個)
の等間隔で配置されたコプレーナ(同一平面の)陰極4
2(K)、制御グリッド44(Gl)。
The invention includes an electron gun that generates three electron beams, a central beam and two outer beams, and directs these beams toward a screen along a path initially in the same plane. The aim was to improve the color picture tubes currently available. The electron gun includes a plurality of spaced apart electrodes forming a first lens that includes a beam forming region for providing a substantially symmetrical beam to a second lens. The second lens includes a beam refracting means that refracts the off-axis electron beam coming out of the first lens toward the axis, and an asymmetric beam that supplies a beam with an asymmetric shape to the third lens. and a focusing means. The third lens is a low-aberration main focusing lens that supplies an asymmetrically shaped beam with a substantially constant current density to the screen. As shown in FIG. Electron gun 4o: 1 for 3 beams)
coplanar (coplanar) cathodes 4 arranged at equal intervals of
2 (K), control grid 44 (Gl).

遮蔽グリッド46(G2)、第3の電極48(G3)。Shielding grid 46 (G2), third electrode 48 (G3).

第4の電極50(G4)、第5の電極52(G5)及び
第6の電極56(G6)を含み、G5電極52は素子5
4で示した部分G5’を備えている。こnらの電極は陰
極から上記の順序に間隔を置いて配置されて、一対の支
持ロッド(図示せず)に取付けら几でいる。
It includes a fourth electrode 50 (G4), a fifth electrode 52 (G5) and a sixth electrode 56 (G6), where the G5 electrode 52 is the element 5
It has a portion G5' indicated by 4. The electrodes are spaced apart from the cathode in the above order and are attached to a pair of support rods (not shown).

形成領域を構成している。G3電極48の他方の部分、
G4電極50及びG5電極52が第1の非対称レンズを
構成する。G5電極52の部分54(G5’電極)と0
6電極56とが主集束(即ち、第2の非対称)レンズを
形成する。
It constitutes the formation area. The other part of the G3 electrode 48,
G4 electrode 50 and G5 electrode 52 constitute a first asymmetric lens. Portion 54 of G5 electrode 52 (G5' electrode) and 0
6 electrodes 56 form the main focusing (ie, second asymmetric) lens.

各陰極42は、周知のように電子放出材料の端面コーテ
ィング62を有するキャップ60によって前端が閉じら
れた陰極スリーブ58を含む。各陰極42はスリーブ5
8内に配置されたヒータコイル(図示セず)によって間
接加熱される。
Each cathode 42 includes a cathode sleeve 58 closed at its front end by a cap 60 having an end-face coating 62 of electron-emissive material, as is known in the art. Each cathode 42 has a sleeve 5
Indirect heating is performed by a heater coil (not shown) disposed within 8.

G1電極44とG2電極46は、2枚の小間隔で配置さ
れた実質的に平坦なプレートで、3対のインライン開孔
64,66が貫通して設けられている。開孔64と66
は陰極コーティング62と中心合わせされており、スク
リーン22に向けられる3本の等間隔で1己置されたコ
プレーナ電子ビーム28(第1図)を作り出す。好まし
くは、初期電子ビーム通路はS質B′ツに平行で、中央
の通路が電子銃の中心軸へ−Aに一致している。
G1 electrode 44 and G2 electrode 46 are two closely spaced substantially flat plates having three pairs of in-line apertures 64, 66 extending therethrough. Apertures 64 and 66
are centered with the cathode coating 62 and produce three equally spaced coplanar electron beams 28 (FIG. 1) that are directed toward the screen 22. Preferably, the initial electron beam path is parallel to the Si material B', with the central path aligned at -A to the central axis of the electron gun.

G3電極48は、G2及びG1電極46.44中の開孔
66、64に整列した3個のインライン開孔70を有す
る実質的に平坦な外側プレート部分68を有する。
G3 electrode 48 has a substantially flat outer plate portion 68 with three in-line apertures 70 aligned with apertures 66, 64 in G2 and G1 electrodes 46,44.

G3電極48は、また、第1と第2の2個のカップ形状
をした部分72と74を有し、これらの部分72と74
はそれぞれに開口端で相互に接合されている。
The G3 electrode 48 also has two cup-shaped portions 72 and 74, a first and a second cup-shaped portion.
are joined to each other at their respective open ends.

第1の部分72はカップ部の底を貫通する3個のインラ
イン開孔76を有し、これらの開孔76はプレート68
中の開孔70と整列している。G3電極48の第2の部
分74は、その底部に、第1の部分72に形成された3
個の開孔76と整列する3個の開孔78を有する。開孔
78のを囲んで突状部79が設けられている。尚、イン
ライン開孔70を有するプレート部分68は第1の部分
72と一体に形成してもよい。
The first portion 72 has three in-line apertures 76 through the bottom of the cup portion, and these apertures 76 are connected to the plate 68.
It is aligned with the aperture 70 therein. The second portion 74 of the G3 electrode 48 has at its bottom the 3
It has three apertures 78 aligned with three apertures 76 . A protrusion 79 is provided surrounding the opening 78. It should be noted that the plate portion 68 having the in-line apertures 70 may be formed integrally with the first portion 72.

G4電極50は、G3電極中の開孔78と整列して設け
らnた3個のインライン貫通開孔80を有する実質的に
平坦なプレートからなる。
G4 electrode 50 consists of a substantially flat plate having three in-line through-holes 80 aligned with apertures 78 in the G3 electrode.

G5電極52は深絞り成型されたカップ状部材で。The G5 electrode 52 is a cup-shaped member formed by deep drawing.

その底部に突状部83によって包囲された3個の貫通開
孔82を持っている。開孔82に整列した3個の開孔8
6を有する実質的に平坦なプレート部材84がG5電極
52の開口端に取付けられて、これを閉じている。複数
の開口90を有する第1のプレート部分88がプレート
部材84の反対側の表面に取付けら几ている。
It has three through holes 82 surrounded by protrusions 83 at its bottom. Three apertures 8 aligned with aperture 82
A substantially flat plate member 84 having a diameter of 6 is attached to the open end of the G5 electrode 52 to close it. A first plate portion 88 having a plurality of apertures 90 is attached to the opposite surface of plate member 84 .

G 5’電極54は深絞シ成型したカップ状部材からな
り、カップの底端に凹部92が形成されている。
The G5' electrode 54 is made of a cup-shaped member formed by deep drawing, and a recess 92 is formed at the bottom end of the cup.

この凹部92の底面には3個のインライン開孔94が形
成さ扛ている。突状部95が開孔94を取囲んでいる。
Three in-line holes 94 are formed in the bottom of the recess 92. A protrusion 95 surrounds the aperture 94.

G5’電極54の反対側の開口端は第2のプレート部分
96によって閉じられておシ、この第2のプレート部分
96には、第1のプレート部分88の開口90に整列し
、かつ、以下に述べるようにして、こ几と励動する3個
の開口98が形成されている。
The opposite open end of the G5' electrode 54 is closed by a second plate portion 96 which is aligned with the opening 90 in the first plate portion 88 and has a Three apertures 98 are formed to be energized as shown in FIG.

G6電極56は、一端に電子ビームが3本とも通過する
1個の大きな開口部100を有する深絞り成型さ几たカ
ップ状部材で、その開口端はプレート部材102に取付
けられて閉じられている。プレート部材102はG5’
電極54中の開孔94に整列した31固の貫通開孔10
4を有している。開孔104の囲りには、突状部105
が形成されている。
The G6 electrode 56 is a deep-drawn cup-shaped member having one large opening 100 at one end through which all three electron beams pass, and the open end is closed by being attached to a plate member 102. . The plate member 102 is G5'
31 through-holes 10 aligned with apertures 94 in electrode 54
It has 4. A protrusion 105 is provided around the opening 104.
is formed.

G5’電極54の凹部92の形状が第9図に示されてい
る。凹部92は電子ビーム通路の各々において均一な垂
直方向の幅を有し、両端部が丸められている。このよう
な形状を「レーストラック(陸上競技等のトラック)」
形状と呼ぶ。
The shape of the recess 92 of the G5' electrode 54 is shown in FIG. The recesses 92 have a uniform vertical width in each electron beam path and are rounded at both ends. This kind of shape is called a "race track (track for track and field events, etc.)"
It's called shape.

G6電極56中の大きな開口100の形状を第10図に
示す゛。開口100は、中央ビーム通路の部分における
よりも外側ビーム通路における方がその垂直方向の幅が
大きくなっている。このような形状は、「ドネグポーン
(犬に与える骨)」あるいは「バーベル」形状と呼ばれ
る。
The shape of the large opening 100 in the G6 electrode 56 is shown in FIG. The aperture 100 has a larger vertical width in the outer beam path than in the central beam path. This shape is called a "dog bone" or "barbell" shape.

G5電極52の第1プレート部分88はG5’電極54
の第2プレート部分96に対向している。G5電極52
の第1プレート部分88中の開孔90は、プレート部分
からの突状部を有し、この突状部は各開孔90に対して
、2つのセグメント106と108に分割されている。
The first plate portion 88 of the G5 electrode 52 is connected to the G5' electrode 54.
is opposed to the second plate portion 96 of. G5 electrode 52
The apertures 90 in the first plate portion 88 have a protrusion from the plate portion that is divided into two segments 106 and 108 for each aperture 90 .

G5’電極54の第2プレート部分96の開孔98も、
プレート部96からの突状部を有し、この突状部も各開
孔につき、2つのセグメント110と112に分割され
ている。第11図に示すように、セグメノト106と1
08はセグメント110と112とに対して間挿されて
いる。これらのセグメントは。
The aperture 98 in the second plate portion 96 of the G5' electrode 54 also
It has a protrusion from the plate portion 96 which is also divided into two segments 110 and 112 for each aperture. As shown in FIG.
08 is interpolated for segments 110 and 112. These segments are.

G5電極52とG5’電極54に異なる電圧が印加され
る時、各電子ビームの通路中に4重極レンズを形成する
ために用いられる。G5電極52かG5’電極54のい
ずれかにダイナミック(動的)な電圧変化を適切に加え
ることにより、セグメント106.1081110及び
112によって設定される4重極レンズを用いて、電子
ビームに非点収差補正を加えて、電子銃において、ある
いは、偏向ヨークにおいて生じる非点収差を補償するこ
とができる。このような4重極レンズ構造については、
 1987年7月20日付米国特許出願第75 、78
4号に記載されている。
When different voltages are applied to the G5 electrode 52 and the G5' electrode 54, they are used to form a quadrupole lens in the path of each electron beam. By appropriately applying dynamic voltage changes to either the G5 electrode 52 or the G5' electrode 54, the electron beam can be astigmatized using the quadrupole lens set by segments 106.1081110 and 112. Aberration correction can be added to compensate for astigmatism occurring in the electron gun or in the deflection yoke. Regarding such a quadrupole lens structure,
U.S. Patent Application No. 75, 78 dated July 20, 1987
It is stated in No. 4.

この発明の第1の推奨実施例についてのコンピュータモ
デル電子銃の詳しい寸法を表■に示す。
Detailed dimensions of the computer model electron gun for the first preferred embodiment of this invention are shown in Table 2.

表1 表1に示した芙施例においては、電子銃は第6図に示す
ような電気的接続がなされる。代表的には、陰極は約1
50Vで動作し、Gl電極は接地電位にあfi、G2と
G4電極は相互に電気的に接続されて、約300〜1o
oo vの範囲内で動作する。また、G3と05電極も
相互に接続されており、約7KVで動作し、G6電極は
約25KVの陽極電位、で動作する。
Table 1 In the embodiment shown in Table 1, the electron gun is electrically connected as shown in FIG. Typically, the cathode is about 1
Operated at 50V, the Gl electrode is at ground potential, the G2 and G4 electrodes are electrically connected to each other, and the
Operates within the range of oo v. The G3 and 05 electrodes are also connected to each other and operate at about 7KV, and the G6 electrode operates at an anode potential of about 25KV.

この好ましい実施例の電気的なパラメータは前述した米
国特許第4,641,058号に記載されているものと
同様であるが、この電子銃はその構造的な相違点によシ
、優れた動作を行う。
Although the electrical parameters of this preferred embodiment are similar to those described in the aforementioned U.S. Pat. No. 4,641,058, this electron gun has superior performance due to its structural differences. I do.

この電子銃40において、第1のレンズLL(第6図)
は非対称形状の電子ビームではなく、対称形状の高品質
な電子ビームを第2のレンズL2に供給する。このビー
ムは約120ミリラジアンという大きな発散角を有し、
第12図の光線図に示されるような電子分布を呈する。
In this electron gun 40, the first lens LL (FIG. 6)
supplies not an asymmetrical electron beam but a symmetrical high-quality electron beam to the second lens L2. This beam has a large divergence angle of about 120 milliradians,
It exhibits an electron distribution as shown in the ray diagram of FIG.

約4 mAで動作する電子ビームのクロスオーバは陰極
から約2.3 vm (約0.090インチ)の距離に
ある。3本のビームの中の1本の対応するビーム電流密
度等高線を第13図に示す。この電子銃のビーム形成領
域は、電子ビームに対し、何らかの考慮を払わねばなら
ないような非対称性を与えていないことがわかる。
The electron beam crossover, operating at approximately 4 mA, is approximately 2.3 vm (approximately 0.090 inch) from the cathode. The corresponding beam current density contour for one of the three beams is shown in FIG. It can be seen that the beam forming region of this electron gun does not impart any asymmetry to the electron beam that requires any consideration.

この電子銃40において、G4電極50とG3電極48
及びG5電極52のG4電極に隣接する部分とによって
形成される第2のレンズL2は水平方向に長い電子ビー
ムを形成する非対称レンズを構成している。この電子ビ
ームは第3%即ち、主フォーカスレンズL3内において
、第14図に示すようなビームスポット等高線を持つ。
In this electron gun 40, the G4 electrode 50 and the G3 electrode 48
and a portion of the G5 electrode 52 adjacent to the G4 electrode constitutes an asymmetric lens that forms an elongated electron beam in the horizontal direction. This electron beam has a beam spot contour line as shown in FIG. 14 within the 3rd percentile, that is, the main focus lens L3.

この電子ビームの実質的に長方形の形状は、G4電極5
0に設けられた長方形の開孔80によって与えられる。
The substantially rectangular shape of this electron beam corresponds to the G4 electrode 5
is provided by a rectangular aperture 80 provided at 0.

開孔80の垂直方向の寸法が水平方向の寸法よりも小さ
いことと、隣接するG3電極、G5電極がG4電極の電
位よりも高い電位で動作することとによυ、ビームは主
レンズL3に入る前に垂直方向によシ強い集束作用を受
ける。ビーム形成領域の開孔64166及び70に、約
0.025闘(約0.001インチ)というような、い
くらかのずれが生じたような場合でも、G4電極50(
及び、これに接続されているG2電極46)の電位によ
シ、ビーム形成領域から軸を離れて出て来る電子ビーム
の電子を軸に向けて屈折させる。
Because the vertical dimension of the aperture 80 is smaller than the horizontal dimension and because the adjacent G3 and G5 electrodes operate at a higher potential than the G4 electrode, the beam is directed to the main lens L3. Before entering, it is subjected to a strong focusing action in the vertical direction. Even if there is some misalignment of the beam forming region apertures 64166 and 70, such as about 0.001 inches, the G4 electrode 50 (
Also, due to the potential of the G2 electrode 46) connected thereto, electrons of the electron beam coming out off-axis from the beam forming region are refracted toward the axis.

G5’電極54とG6電極56の間に形成される主フオ
ーカスレンズL3も、低収差の非対称レンズで、スクリ
ーンの中央において、垂直方向に長い、即ち、非対称形
のビームスポットを形成するようなものである。その結
果得られるビームスポット(第15a図に示す)は、実
質的なガウス電流密度等高線を持っている。第15b図
に示すように、スクリーンの右上角へビームが偏向され
ると、ビームの中心部の50%密度領域が相当長くなり
、その中心領域を1強度の低い拡大領域、即ち、光背状
領域が取囲んでいる。
The main focus lens L3 formed between the G5' electrode 54 and the G6 electrode 56 is also an asymmetric lens with low aberrations, and is designed to form a vertically long beam spot, that is, an asymmetrical beam spot at the center of the screen. It is something. The resulting beam spot (shown in Figure 15a) has substantial Gaussian current density contours. As shown in Figure 15b, when the beam is deflected to the upper right corner of the screen, the central 50% density region of the beam becomes considerably longer, converting the central region into a low-intensity enlarged region, i.e., a halo-like region. is surrounding.

G5’電極54に、G5電極52の電位(ゼロ偏向時)
から05電極の電圧より約1000 V正の電圧(最大
偏向時)までの間で変化するダイナミック変化集束電圧
をG5’電極54に印加することにより、偏向された電
子ビームの電流密度等高線を第15ctlに示すように
改善できる。
The potential of the G5 electrode 52 (at zero deflection) is applied to the G5' electrode 54.
By applying to the G5' electrode 54 a dynamically changing focusing voltage that varies from 1 to 1000 V more positive than the voltage at the 05 electrode (at maximum deflection), the current density contour of the deflected electron beam is adjusted to the 15th ctl. It can be improved as shown in

上述した第1の実施例を次のように変形することができ
る。G4電極50の長方形開孔80を、直径約4.06
 mm (0,160インチ)の円形開孔に置換し。
The first embodiment described above can be modified as follows. The rectangular opening 80 of the G4 electrode 50 has a diameter of approximately 4.06 mm.
Replaced with a circular aperture of mm (0,160 inch).

G4電極の厚さを約0.64調(0,025インチ)ま
で小さくり、、G6電極のバーベル状開口部100の寸
法を、長さ約17.86朋(0,703インチ)、中央
ビーム部分での垂直方向高さ約6.99 mn (0,
275インチ)、外側ビーム部分での垂直方向高さ約7
.37ffl+!(0,290インチ)の寸法にする。
The thickness of the G4 electrode is reduced to approximately 0.64 mm (0.025 inch), and the dimensions of the barbell-shaped opening 100 of the G6 electrode are reduced to approximately 17.86 mm (0.703 inch) in length, with a center beam. Vertical height at part approximately 6.99 mn (0,
275 inches), vertical height at outer beam section approximately 7
.. 37ffl+! (0,290 inches).

さらに、G5電極とG5’電極を合わせた全体の長さを
、約22.86mm (0,900インチ)まで大きく
する。この結果。
Additionally, the total length of the G5 and G5' electrodes is increased to approximately 22.86 mm (0,900 inches). As a result.

スクリーン上に5%密度等高線によって描かれるビーム
スポットサイズは、第2図に示した従来の電子銃のそれ
に匹敵する。
The beam spot size depicted by the 5% density contour on the screen is comparable to that of the conventional electron gun shown in FIG.

第7図と第8図に示したコンピュータモデルによる電子
銃4oの第2の実施例を表■に示す。この第2の実施例
の電子銃のビーム形成領域は第1の実施例のビーム形成
領域と同じであシ、同じ管素子には同じ参照番号を用い
て示す。
A second embodiment of the electron gun 4o based on the computer model shown in FIGS. 7 and 8 is shown in Table 2. The beam forming region of the electron gun of this second embodiment is the same as the beam forming region of the first embodiment, and like tube elements are designated using the same reference numerals.

r22) 表■ 表■に示した実施例においては、電子銃40は第16図
に示すような電気接続が施される。代表的には、陰極は
約150vで、Gl電極は接地電位、G2電極は約40
0vでそれぞれ動作する。G3電極はG5電極と電気的
に接続されており、約7 KVで動作する。また、G4
電極はG6電極に電気的に接続されており、約25 K
Vの陽極電位で動作する。
r22) Table ■ In the embodiment shown in Table ■, the electron gun 40 is electrically connected as shown in FIG. Typically, the cathode is at about 150V, the Gl electrode is at ground potential, and the G2 electrode is at about 40V.
Each operates at 0v. The G3 electrode is electrically connected to the G5 electrode and operates at approximately 7 KV. Also, G4
The electrode is electrically connected to the G6 electrode and approximately 25 K
Operates at an anode potential of V.

この実施例の電子銃においては、第1のレンズL、1 
(第16図)は対称形で高品質の電子ビームを第2のレ
ンズL2に供給する。この第2の実施例のビーム形成領
域は第1の実施例のものと同じであるから、第12図と
第13図は、この領域からの電子ビームの1つの電子分
布及びビーム電流密度等高線をも表わしていることにな
る。
In the electron gun of this embodiment, the first lenses L, 1
(FIG. 16) supplies a symmetrical and high quality electron beam to the second lens L2. Since the beam forming region of this second embodiment is the same as that of the first embodiment, FIGS. 12 and 13 show the electron distribution and beam current density contours of one of the electron beams from this region. It also represents.

第2の実施例において、第2の電子レンズL2はG4電
極40とG3電極48.G5電極52のG4電極に隣接
する部分とによって形成され、水平方向に長くされた楕
円形状の電子ビームを形成する。
In the second embodiment, the second electron lens L2 has a G4 electrode 40 and a G3 electrode 48 . A portion of the G5 electrode 52 adjacent to the G4 electrode forms an elliptical electron beam elongated in the horizontal direction.

この電子ビームは、第3、即ち、主フォーカスレンズL
3内では、第17図に示すようなビーム電流デ 密度等高線を呈する。このビームの楕円形状はG4電極
50の長方形開孔80と第2のレンズL2における電圧
勾配との相互作用によって形成される。
This electron beam is transmitted through the third, ie, main focus lens L.
3, the beam current exhibits density contour lines as shown in FIG. The elliptical shape of this beam is formed by the interaction of the rectangular aperture 80 in the G4 electrode 50 and the voltage gradient in the second lens L2.

第18図はこれによって得られる、スクリーン中央部に
おける電子ビームのビーム電流密度等高線を示す。この
第2の実施例においては、開孔80の水平方向の寸法が
垂直方向の寸法よりも小さく、シかも、G4電極に隣接
するG3、G5電極がG4(2ら) 電極の電位よりも低い電位で動作するので、生レンズL
3に入る前に、ビームは垂直方向よシも弱い集束作用を
受けることになる。
FIG. 18 shows the beam current density contours of the electron beam at the center of the screen obtained by this method. In this second embodiment, the horizontal dimension of the aperture 80 is smaller than the vertical dimension, and the potential of the G3 and G5 electrodes adjacent to the G4 electrode is lower than that of the G4 (2 et al.) electrode. Since it operates with electric potential, raw lens L
3, the beam is subjected to weak focusing in the vertical direction as well.

表■と■に示した電子銃40の第1と第2の実施例は、
構造及び動作電圧が異なるが、第15a図及び第18図
に示すビーム等高線は同様のもので、いず庇の実施例を
用いても許容し得る性能が得られることを示している。
The first and second embodiments of the electron gun 40 shown in Tables ■ and ■ are as follows:
Although the construction and operating voltages are different, the beam contours shown in FIGS. 15a and 18 are similar, indicating that acceptable performance can be obtained using either eave embodiment.

陽極電位が電子銃の低電圧領域に導入されないので、第
6図に示す電気的構成の方が好ましい。
The electrical configuration shown in FIG. 6 is preferred because no anode potential is introduced into the low voltage region of the electron gun.

表1と■に示す実施例の、例えば、米国特許第4 、6
41 、058号に記載されているような、従来の6電
極電子銃に対する王たる利点(は、初めの非対称レンズ
L2が電子ビームのクロスオーバよりも前方に位置して
いる点である。このことにより、レンズL2が、スクリ
ーン上におけるビームスポットサイズと゛イ流密度等高
線とに与える非対称な作用はビーム−流に比較的左右さ
れない。さらに。
Examples of the embodiments shown in Table 1 and ■, for example, U.S. Patent Nos. 4 and 6
41, No. 058, is that the first asymmetric lens L2 is located in front of the electron beam crossover. Therefore, the asymmetric effect that lens L2 has on the beam spot size and the current density contour on the screen is relatively independent of the beam current.

この発明の構造を採用すると、主レンズにおいて水平型
(ば両方向において実質的に一定な電流密度を持ったビ
ームが得られる。
When the structure of the present invention is adopted, a horizontal beam (ie, a beam having a substantially constant current density in both directions) can be obtained at the main lens.

ここに述べた実施例は単なる例であって、この発明はこ
れに限定されるものではない。例えば。
The embodiments described herein are merely examples, and the invention is not limited thereto. for example.

第2の実施例におけるG4電極50の長方形の開孔の代
りに、非対称性の第2のレンズを形成する他の適当な幾
何学形状の開孔を用いることができる。
Instead of the rectangular aperture of the G4 electrode 50 in the second embodiment, other suitable geometrical apertures can be used to form an asymmetrical second lens.

さらに、G3、G5電極の集束電圧を選択して、電子銃
内の電子レンズの強度を変えてもよい。
Furthermore, the intensity of the electron lens within the electron gun may be changed by selecting the focusing voltages of the G3 and G5 electrodes.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は通常のカラー陰極線管の、一部分を軸に沿う断
面で示す平面図、 第2図は4グリツド・パイポテンシャル電子銃の全体構
造を示す概略断面図、 第3図は従来のカラー陰極線管のスクリーン上における
電子ビームスポットの形状を示す図、第4a図は第2図
の電子銃によって、スクリーンの中央部で得られる電子
ビーム電流密度等高線を示す図、 第4b図は主レンズにおける電子ビーム電流密度等高線
を示す図、 第4c図は第3図の右上角に偏向された電子ビームにつ
いての電流密度等高線を示す図、第5a図、第5b図及
び第5C図は、それぞれ、4.0mA、 0.8mA及
び0.2mAのビーム電流で動作する第2図の電子銃の
ビーム形成領域に関する電子ビーム線を示す図、 第6図は第2及び第4グリツドを第1の電位に。 第3及び第5グリツドが第2の電位にして動作する6グ
リツド電子銃の概略断面図、 第7図と第8図はこの発明による電子銃の、軸に沿う平
面断面図及び側面図、 第9図、第10図及び第11図は、それぞれ、第7図に
おける線9−9.10−10及び11−11に沿う断面
図。 第12図はこの発明の電子銃のビーム形成領域に関する
電子ビーム線を示す図、 第13図はこの発明の電子銃のビーム形成領域(第1の
レンズ)からの電子ビームの電流密度等高線を示す図。 第14図は第6図に示すように接続したこの発明の電子
銃の第2のレンズにより作られる主レンズ内における電
子ビーム電流密度等高線を示す図、第15a図及び第1
5b図は第6図に示すように接続したこの発明の電子銃
の、スクリーンの中央と右上角におけるビーム電流密度
等高線を示す図、第15c図は、主(第3)レンズの1
つの電極にダイナミック補正電圧を加えた場合のスクリ
ーンの右上角におけるビーム電流密度等高線を示す図、
第16図は第3及び第5グリツドを第3の電位で、第4
及び第6グリツドを第4の電位で動作させる6グリツド
電子銃の第2の実施例の概略断面図、第17図は第16
図に示すように接続したこの発明の電子銃の第2の実施
例により作られる主レンズにおける電子ビーム電流密度
等高線を示す図。 第18図は第16図に示すように接続したこの発明の電
子銃の第2の実施例についてのスクリーンの中央におけ
る電子ビーム電流密度等高線を示す図である。 11・・・外囲器、40・・・電子銃、22・・・スク
リーン、44〜56・・・電極、Ll、L2.La・・
・第11第2及び第3のレンズ、G4・・・ビーム屈折
手段。 80・・・非対称ビーム集束手段。
Fig. 1 is a plan view showing a part of a normal color cathode ray tube in cross section along the axis, Fig. 2 is a schematic sectional view showing the overall structure of a 4-grid pi potential electron gun, and Fig. 3 is a conventional color cathode ray tube. Figure 4a shows the shape of the electron beam spot on the screen of the tube, Figure 4a shows the electron beam current density contour obtained at the center of the screen by the electron gun in Figure 2, Figure 4b shows the shape of the electron beam spot on the main lens. FIG. 4c is a diagram showing the current density contours for an electron beam deflected to the upper right corner of FIG. 3; FIGS. Figure 6 shows the electron beam rays for the beam forming region of the electron gun of Figure 2 operating with beam currents of 0 mA, 0.8 mA and 0.2 mA; Figure 6 shows the second and fourth grids at the first potential; A schematic cross-sectional view of a six-grid electron gun in which the third and fifth grids are operated at a second potential; FIGS. 9, 10 and 11 are cross-sectional views taken along lines 9-9, 10-10 and 11-11 in FIG. 7, respectively. FIG. 12 is a diagram showing electron beam lines related to the beam forming region of the electron gun of the present invention, and FIG. 13 is a diagram showing current density contour lines of the electron beam from the beam forming region (first lens) of the electron gun of the present invention. figure. 14 is a diagram showing the electron beam current density contour lines in the main lens formed by the second lens of the electron gun of the present invention connected as shown in FIG. 6, FIG. 15a and the first
Figure 5b is a diagram showing the beam current density contours at the center and upper right corner of the screen of the electron gun of the present invention connected as shown in Figure 6, and Figure 15c is a diagram showing the contour lines of the main (third) lens.
A diagram showing the beam current density contours at the upper right corner of the screen when dynamic correction voltages are applied to two electrodes,
Figure 16 shows the third and fifth grids at the third potential and the fourth grid at the third potential.
FIG. 17 is a schematic cross-sectional view of a second embodiment of a six-grid electron gun in which the sixth grid is operated at a fourth potential.
FIG. 6 is a diagram showing electron beam current density contour lines in a main lens made by a second embodiment of the electron gun of the present invention connected as shown in the figure; FIG. 18 is a diagram showing electron beam current density contour lines at the center of the screen for a second embodiment of the electron gun of the present invention connected as shown in FIG. 16. DESCRIPTION OF SYMBOLS 11... Envelope, 40... Electron gun, 22... Screen, 44-56... Electrode, Ll, L2. La...
- 11th second and third lenses, G4... Beam refracting means. 80...Asymmetrical beam focusing means.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)内部にインライン電子銃を有する外囲器を含むカ
ラー陰極線管であつて、該インライン電子銃は3本のイ
ンライン電子ビームを発生して、これを上記外囲器の内
部に設けられたスクリーンに向かう経路上の当初はコプ
レーナな軸に沿つて投射するものであり、さらに、上記
電子銃は上記電子ビームを集束させるための第1、第2
及び第3のレンズを形成する互いに間隔を置いて配置さ
れた複数の電極を有し、 上記第1のレンズは上記第2のレンズに実質的に対称な
ビームを供給するためのビーム形成領域を含み、 上記第2のレンズは、上記軸から外れて上記第1のレン
ズから出る電子ビームを上記軸に向けて屈折させるビー
ム屈折手段と、上記第3のレンズに非対称形状のビーム
を供給するための非対称ビーム集束手段とを含み、 上記第3のレンズは上記スクリーンに実質的に一定の電
流密度を持つた非対称な形状のビームを供給する低収差
主フォーカスレンズである、カラー陰極線管。
(1) A color cathode ray tube including an envelope having an in-line electron gun therein, wherein the in-line electron gun generates three in-line electron beams and transmits them into the envelope. The electron beam is initially projected along a coplanar axis on its path toward the screen, and the electron gun also has first and second electron beams for focusing the electron beam.
and a plurality of spaced apart electrodes forming a third lens, the first lens having a beam forming region for providing a substantially symmetrical beam to the second lens. The second lens includes: a beam refracting means for refracting the electron beam emitted from the first lens off the axis toward the axis; asymmetrical beam focusing means of a color cathode ray tube, wherein the third lens is a low aberration main focus lens that provides an asymmetrically shaped beam with a substantially constant current density to the screen.
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