JPS6319230B2 - - Google Patents
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- JPS6319230B2 JPS6319230B2 JP55171426A JP17142680A JPS6319230B2 JP S6319230 B2 JPS6319230 B2 JP S6319230B2 JP 55171426 A JP55171426 A JP 55171426A JP 17142680 A JP17142680 A JP 17142680A JP S6319230 B2 JPS6319230 B2 JP S6319230B2
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- Measurement Of Radiation (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、複数の粒子が該粒子の所望の性質に
応答する少なくとも1つの検出器を通過して順次
移動せしめられるようになつている、粒子選別装
置に関する。
応答する少なくとも1つの検出器を通過して順次
移動せしめられるようになつている、粒子選別装
置に関する。
(従来の技術)
放射線計測選別装置においては、鉱石粒子は平
行な流れをなすようにされ、それぞれの流れの中
の諸粒子は相互に間隔をもつようにされている。
行な流れをなすようにされ、それぞれの流れの中
の諸粒子は相互に間隔をもつようにされている。
それぞれの流れの中の諸粒子は、間隔をもつて
配置された複数のシンチレーシヨン検出器上を通
過せしめられ、それぞれの該検出器は通過するそ
れぞれの粒子からの放射線カウントを記録する。
同一粒子に関する個々の検出器からのカウントは
累算されて、その粒子の放射性物質含有量が最終
決定され、この決定に基づいて粒子の受入れまた
は排除の決定がなされる。
配置された複数のシンチレーシヨン検出器上を通
過せしめられ、それぞれの該検出器は通過するそ
れぞれの粒子からの放射線カウントを記録する。
同一粒子に関する個々の検出器からのカウントは
累算されて、その粒子の放射性物質含有量が最終
決定され、この決定に基づいて粒子の受入れまた
は排除の決定がなされる。
隣にあう粒子間の間隔が大きい場合はこの方法
は適当な結果を与えるが、該間隔が減少するにつ
れて、ある粒子(P)から得られる累算カウント
は少なくともその前の粒子(P−1)および後の
粒子(P+1)から生じる周辺効果の影響を受け
る。
は適当な結果を与えるが、該間隔が減少するにつ
れて、ある粒子(P)から得られる累算カウント
は少なくともその前の粒子(P−1)および後の
粒子(P+1)から生じる周辺効果の影響を受け
る。
放射性物質からの放射線放出の連続的で不規則
な性質により、粒子(P)が特定のシンチレーシ
ヨン検出器のゲート付きカウント領域内にある時
に、粒子(P−1)および(P+1)もやはり放
射線を出し、これも粒子(P)から出る放射線と
して前記検出器および関連のカウント用電子装置
によつて検出されカウントされてしまうことにな
る。この結果、もし粒子(P−1)または(P+
1)がかなり高品位の鉱石であり、かつ粒子
(P)が廃石または低品位鉱石である場合には、
粒子(P)は見掛け上高カウントを示すことにな
り、従つて装置によつて高品位鉱石として適正で
ない選別を受けるため、もしそれが実際には廃石
である時は、受入れ鉱石の高品位のものの割合を
低下させる結果になる。この影響は、適当な感度
を得るために要求される粒子・検出器間距離、お
よび商業的に許容しうる粒子供給速度を与えるた
めに要求される粒子間隔を採用した場合には避け
ることはできない。この影響には、さらに粒子
(P−2)および(P+2)による効果が付加さ
れるが、これらは2次的影響なので無視すること
ができる。
な性質により、粒子(P)が特定のシンチレーシ
ヨン検出器のゲート付きカウント領域内にある時
に、粒子(P−1)および(P+1)もやはり放
射線を出し、これも粒子(P)から出る放射線と
して前記検出器および関連のカウント用電子装置
によつて検出されカウントされてしまうことにな
る。この結果、もし粒子(P−1)または(P+
1)がかなり高品位の鉱石であり、かつ粒子
(P)が廃石または低品位鉱石である場合には、
粒子(P)は見掛け上高カウントを示すことにな
り、従つて装置によつて高品位鉱石として適正で
ない選別を受けるため、もしそれが実際には廃石
である時は、受入れ鉱石の高品位のものの割合を
低下させる結果になる。この影響は、適当な感度
を得るために要求される粒子・検出器間距離、お
よび商業的に許容しうる粒子供給速度を与えるた
めに要求される粒子間隔を採用した場合には避け
ることはできない。この影響には、さらに粒子
(P−2)および(P+2)による効果が付加さ
れるが、これらは2次的影響なので無視すること
ができる。
例えば、実際問題として、37mmの粒子の最合、
37mmの廃石粒子(P)の前に100mmの間隔で品位
0.5Kg/tonの粒子(P−1)があると、粒子
(P)は0.12Kg/tonの粒子として検出され、従つ
て0.1Kg/tonにセツトされた受入れ装置はこれを
誤つて受入れてしまうことになる。これは、後隣
の鉱石粒子による付加影響を無視してのことであ
るが、後隣粒子は粒子(P)の見掛けの品位をさ
らに増大させる。この効果は、粒子が大きくなり
粒子間隔が小さくなると、急速に増大する。
37mmの廃石粒子(P)の前に100mmの間隔で品位
0.5Kg/tonの粒子(P−1)があると、粒子
(P)は0.12Kg/tonの粒子として検出され、従つ
て0.1Kg/tonにセツトされた受入れ装置はこれを
誤つて受入れてしまうことになる。これは、後隣
の鉱石粒子による付加影響を無視してのことであ
るが、後隣粒子は粒子(P)の見掛けの品位をさ
らに増大させる。この効果は、粒子が大きくなり
粒子間隔が小さくなると、急速に増大する。
(発明の要約)
本発明によつて提供される粒子選別方法は、複
数の粒子を、該粒子から放出される放射線に対し
て反応する少なくとも1つの検出器12を通過し
て順次移動せしめる段階と、該検出器の反応によ
り該粒子から放出される放射線の強度に依存する
出力信号をそれぞれの粒子に対して発生せしめる
段階とを包含しており、前記選別方法が選別対象
として着目中の粒子と少なくとも1つの隣りの粒
子との間の間隔を決定する段階と、該間隔と該隣
りの粒子から放出される放射線の強度に依存する
出力信号とに依存する校正因子を前記着目中の粒
子による前記出力信号に与える段階とを包含して
いる粒子の測定方法を用いたことを特徴としてい
る。
数の粒子を、該粒子から放出される放射線に対し
て反応する少なくとも1つの検出器12を通過し
て順次移動せしめる段階と、該検出器の反応によ
り該粒子から放出される放射線の強度に依存する
出力信号をそれぞれの粒子に対して発生せしめる
段階とを包含しており、前記選別方法が選別対象
として着目中の粒子と少なくとも1つの隣りの粒
子との間の間隔を決定する段階と、該間隔と該隣
りの粒子から放出される放射線の強度に依存する
出力信号とに依存する校正因子を前記着目中の粒
子による前記出力信号に与える段階とを包含して
いる粒子の測定方法を用いたことを特徴としてい
る。
さらに、本発明においては、前記諸粒子が複数
の検出器を通過して順次移動せしめられるように
なつており、それぞれの粒子に対する前記出力信
号が該粒子に対する該諸検出器の別個の放射線カ
ウントを少なくとも累算することによつて発生せ
しめられるようになつている。
の検出器を通過して順次移動せしめられるように
なつており、それぞれの粒子に対する前記出力信
号が該粒子に対する該諸検出器の別個の放射線カ
ウントを少なくとも累算することによつて発生せ
しめられるようになつている。
前記校正因子は前記隣の粒子の形状、体積、質
量、または高さの少なくとも1つにも依存してい
る。
量、または高さの少なくとも1つにも依存してい
る。
さらに、本発明においては、前記校正因子が前
記隣の粒子による前記出力信号への寄与を表わし
ており、該校正因子が前記粒子による該出力信号
から減ぜられるようになつている。
記隣の粒子による前記出力信号への寄与を表わし
ており、該校正因子が前記粒子による該出力信号
から減ぜられるようになつている。
さらに、本発明においては、それぞれの前記粒
子とその前隣粒子および後隣粒子との間の両間隔
がそれぞれ決定されるようになつており、該両間
隔を該前隣粒子および後隣粒子による両前記出力
信号とのそれぞれに依存する2つの校正因子が前
記粒子による出力信号に適用されるようになつて
いる。
子とその前隣粒子および後隣粒子との間の両間隔
がそれぞれ決定されるようになつており、該両間
隔を該前隣粒子および後隣粒子による両前記出力
信号とのそれぞれに依存する2つの校正因子が前
記粒子による出力信号に適用されるようになつて
いる。
(実施例)
以下、添付図面を参照しつつ本発明を実施例に
よつてさらに詳述する。
よつてさらに詳述する。
本発明は、マイクロプロセツサなどの計算装置
および、例えば、南アフリカ特許出願第80/4250
号、第80/4249号のそれぞれの要旨をなしてい
る、「体積測定(Volumetric Measurement)」
および「品位決定(Grade Determination)」と
題する本出願者による同時係属出願に説明されて
いる形式の、質量、体積、寸法、または形状の装
定装置の使用に基礎を置いている。前記両出願の
開示は、本出願にも用いられている。
および、例えば、南アフリカ特許出願第80/4250
号、第80/4249号のそれぞれの要旨をなしてい
る、「体積測定(Volumetric Measurement)」
および「品位決定(Grade Determination)」と
題する本出願者による同時係属出願に説明されて
いる形式の、質量、体積、寸法、または形状の装
定装置の使用に基礎を置いている。前記両出願の
開示は、本出願にも用いられている。
前者の特許出願明細書においては、鉱石粒子
は、コリメートされ、かつ強度のパルス化された
発光を行なう発光ダイオードで夫々構成された垂
直アレイと水平アレイとで側面から囲まれた所定
の通路を移動するようにされている。一方、強度
にコリメートされたフオトトランジスタ光センサ
で構成された上記の発光ダイオードアレイに対応
する垂直アレイと水平アレイとが、鉱石粒子が横
切る通路の発光ダイオードアレイと反対側にこれ
らダイオードアレイと対面するように配置されて
いる。フオトトランジスタの各々はそれに関連す
る発光ダイオードから発せられる光を検出できる
ようになつている。
は、コリメートされ、かつ強度のパルス化された
発光を行なう発光ダイオードで夫々構成された垂
直アレイと水平アレイとで側面から囲まれた所定
の通路を移動するようにされている。一方、強度
にコリメートされたフオトトランジスタ光センサ
で構成された上記の発光ダイオードアレイに対応
する垂直アレイと水平アレイとが、鉱石粒子が横
切る通路の発光ダイオードアレイと反対側にこれ
らダイオードアレイと対面するように配置されて
いる。フオトトランジスタの各々はそれに関連す
る発光ダイオードから発せられる光を検出できる
ようになつている。
各アレイの発光ダイオードは駆動回路によつて
順次パルス的に駆動され、フオトトランジスタか
ら成る対応するアレイは走査手段によつて同期し
て走査される。従つて、各フオトトランジスタは
それと対応する発光ダイオードによつて発せられ
る光によつてのみ応答するようになつている。
順次パルス的に駆動され、フオトトランジスタか
ら成る対応するアレイは走査手段によつて同期し
て走査される。従つて、各フオトトランジスタは
それと対応する発光ダイオードによつて発せられ
る光によつてのみ応答するようになつている。
鉱石粒子がこれらダイオードとセンサを通過す
るように移動すると、移動の方向と直角の方向に
延びた鉱石粒子の連続する区域が照射され走査さ
れる。コンピユータが照射されたセンサの数を追
跡し続けているので、移動方向に対して横方向の
平面に投影された鉱石粒子の幅を計算することが
できる。
るように移動すると、移動の方向と直角の方向に
延びた鉱石粒子の連続する区域が照射され走査さ
れる。コンピユータが照射されたセンサの数を追
跡し続けているので、移動方向に対して横方向の
平面に投影された鉱石粒子の幅を計算することが
できる。
このようにして得られた情報は、互いに直交す
る3方向における各鉱石粒子の長さ、幅および高
さの測定値を得るために処理することができる。
従つて、鉱石粒子の体積を計算することができ
る。
る3方向における各鉱石粒子の長さ、幅および高
さの測定値を得るために処理することができる。
従つて、鉱石粒子の体積を計算することができ
る。
南アフリカ特許出願第80/4249号は種々の基準
を決定しており、それにより鉱石粒子はその寸法
に応じて形状に関するカテゴリーに入れられる。
鉱石粒子の形状は立方体(cubic)、扁平(flat)、
またはフリツチ(flitch)のいずれかであり、こ
れらは次のように定義される。
を決定しており、それにより鉱石粒子はその寸法
に応じて形状に関するカテゴリーに入れられる。
鉱石粒子の形状は立方体(cubic)、扁平(flat)、
またはフリツチ(flitch)のいずれかであり、こ
れらは次のように定義される。
「立方体」:a>b>1/2aおよびa>c>1/2a
「扁平」:a>b>1/2aおよびc<1/2a
「フリツチ」:b<1/2aおよびc<1/2a
ただし、
aは長さ、すなわち、粒子の最も長い直線寸
法、 bは幅、すなわち、その粒子の長さに対して直
角方向で最も長い直線寸法、 cは高さ、すなわち、その粒子の長さおよび幅
に対して直角方向で最も長い直線寸法、 をそれぞれ表わしている。
法、 bは幅、すなわち、その粒子の長さに対して直
角方向で最も長い直線寸法、 cは高さ、すなわち、その粒子の長さおよび幅
に対して直角方向で最も長い直線寸法、 をそれぞれ表わしている。
このように上述した出願明細書は粒子の体積の
計算方法と、粒子の形状に応じて各粒子をカテゴ
リー別に分類する方法とを示している。また粒子
の体積測定値があれば、粒子の密度に関する所定
のデータを用いることにより、粒子の質量を計算
することが可能である。
計算方法と、粒子の形状に応じて各粒子をカテゴ
リー別に分類する方法とを示している。また粒子
の体積測定値があれば、粒子の密度に関する所定
のデータを用いることにより、粒子の質量を計算
することが可能である。
以下の開示は、間隔をもつた鉱石粒子の少なく
とも1つの流れが、例えばコンベア・ベルトによ
つて、複数のシンチレーシヨン計測器を通過し順
次移動せしめられるようになつており、それぞれ
の該シンチレーシヨン計算器が任意の時点に該計
算器にさらされた特定粒子による放射線カウント
を発生するようになつている、放射線計測装置に
関するものである。
とも1つの流れが、例えばコンベア・ベルトによ
つて、複数のシンチレーシヨン計測器を通過し順
次移動せしめられるようになつており、それぞれ
の該シンチレーシヨン計算器が任意の時点に該計
算器にさらされた特定粒子による放射線カウント
を発生するようになつている、放射線計測装置に
関するものである。
この種の装置は、本技術分野においては公知の
ものであり、第1図にはこのような装置の実施例
が概略的に示されている。第1図に示されている
ように、コンベヤ・ベルト10が相互に間隔をも
つて1線上に並んだ複数の粒子…P−2、P−
1、P、P+1、P+2、…を、複数の放射線検
出器12を通過して搬送し、それぞれの該検出器
はそれ自身のカウント領域14をもつている。そ
れぞれの粒子の体積、質量、高さ、または形状
は、南アフリカ特許出願第80/4250号または南ア
フリカ特許出願第80/4249号に記載されている種
類の測定装置16によつて決定され、これは場合
にもよるが、検出器12の下流に配置される。
ものであり、第1図にはこのような装置の実施例
が概略的に示されている。第1図に示されている
ように、コンベヤ・ベルト10が相互に間隔をも
つて1線上に並んだ複数の粒子…P−2、P−
1、P、P+1、P+2、…を、複数の放射線検
出器12を通過して搬送し、それぞれの該検出器
はそれ自身のカウント領域14をもつている。そ
れぞれの粒子の体積、質量、高さ、または形状
は、南アフリカ特許出願第80/4250号または南ア
フリカ特許出願第80/4249号に記載されている種
類の測定装置16によつて決定され、これは場合
にもよるが、検出器12の下流に配置される。
本発明は、粒子(P)のカウントに対しての、
前隣粒子(P−1)による、また後隣粒子(P+
1)による寄与の補正手段を提供する。
前隣粒子(P−1)による、また後隣粒子(P+
1)による寄与の補正手段を提供する。
本発明においては、粒子(P−1)がそれぞれ
の放射線検出器のカウント領域を通過する際の、
それぞれの放射線検出器からのカウントがアキユ
ムレータ18において加算される。粒子(P−
1)に対する累算カウントは、その前隣粒子(P
−2)および粒子(P)による成分をも含んでい
るが、この成分は当面無視する。粒子(P−1)
に対することの累算カウントをN(P−1)で表
わす。
の放射線検出器のカウント領域を通過する際の、
それぞれの放射線検出器からのカウントがアキユ
ムレータ18において加算される。粒子(P−
1)に対する累算カウントは、その前隣粒子(P
−2)および粒子(P)による成分をも含んでい
るが、この成分は当面無視する。粒子(P−1)
に対することの累算カウントをN(P−1)で表
わす。
N(P−1)は、マイクロプロセツサ装置のメ
モリ20内の、粒子(P−1)に割当てられたフ
アイル内に記憶される。このメモリ・フアイルを
M(P−1)で表わす。粒子(P−1)に対する
累積カウントN(P−1)はまた、以下に説明さ
れる方法と同様の方法で粒子(P−2)に対する
カウントを補正するのにも用いられる。
モリ20内の、粒子(P−1)に割当てられたフ
アイル内に記憶される。このメモリ・フアイルを
M(P−1)で表わす。粒子(P−1)に対する
累積カウントN(P−1)はまた、以下に説明さ
れる方法と同様の方法で粒子(P−2)に対する
カウントを補正するのにも用いられる。
粒子(P)は粒子(P−1)に続いて放射線検
出器を通過し、粒子(P)に対する累算カウント
N(P)は、メモリ20のフアイルM(P)内に記
憶される。同様にして、粒子(P+1)に対する
累算カウントは、マイクロプロセツサ・メモリの
フアイルM(P+1)内に記憶される。粒子(P)
のカウントに対する前隣および後隣粒子(P−
1)および(P+1)のそれぞれからの寄与は、
粒子から検出器までの距離の2乗に反比例して変
化して検出により観測されるガンマ放射強度の影
響と、放射線検出器から見るときの粒子によつて
張られる立体角を変化せしめる、各検出器を取巻
く遮蔽鉛による放射線吸収効果とにより、粒子間
距離に強く依存する。放射線検出器から見るとき
の、粒子によつて張られる立体角は、粒子の高さ
または寸法にも依存するが、本発明の目的に対し
ては、これは粒子の質量と同等のものと考えてよ
い。
出器を通過し、粒子(P)に対する累算カウント
N(P)は、メモリ20のフアイルM(P)内に記
憶される。同様にして、粒子(P+1)に対する
累算カウントは、マイクロプロセツサ・メモリの
フアイルM(P+1)内に記憶される。粒子(P)
のカウントに対する前隣および後隣粒子(P−
1)および(P+1)のそれぞれからの寄与は、
粒子から検出器までの距離の2乗に反比例して変
化して検出により観測されるガンマ放射強度の影
響と、放射線検出器から見るときの粒子によつて
張られる立体角を変化せしめる、各検出器を取巻
く遮蔽鉛による放射線吸収効果とにより、粒子間
距離に強く依存する。放射線検出器から見るとき
の、粒子によつて張られる立体角は、粒子の高さ
または寸法にも依存するが、本発明の目的に対し
ては、これは粒子の質量と同等のものと考えてよ
い。
粒子から発せられた信号、例えば放射線放出
は、適当な検出器、例えばシンチレーシヨンカウ
ンタによつて検出することができる。この種の検
出器は一般に方向性がなく、また識別性能がな
い。すなわち、2個以上の粒子から放射線が発せ
られこれが検出器に到達した場合、この種の検出
器はこれら粒子の各々から実際に発せられた放射
線の量を識別することができない。
は、適当な検出器、例えばシンチレーシヨンカウ
ンタによつて検出することができる。この種の検
出器は一般に方向性がなく、また識別性能がな
い。すなわち、2個以上の粒子から放射線が発せ
られこれが検出器に到達した場合、この種の検出
器はこれら粒子の各々から実際に発せられた放射
線の量を識別することができない。
もしこれらの粒子が十分に間隔をおいて配置さ
れ検出器が与えられた時間にただ1つの粒子から
発せられた放射線に対応するならば、この問題は
解決される。1つの粒子が検出器に近づき、そし
て遠ざかるとき、この粒子の放射線は監視するこ
とができる。このように各粒子が検出器によつて
別個に観察されるのには十分な粒子間の間隔が必
要である。
れ検出器が与えられた時間にただ1つの粒子から
発せられた放射線に対応するならば、この問題は
解決される。1つの粒子が検出器に近づき、そし
て遠ざかるとき、この粒子の放射線は監視するこ
とができる。このように各粒子が検出器によつて
別個に観察されるのには十分な粒子間の間隔が必
要である。
このように配置することにより測定に関しては
満足な動作が得られるけれども、粒子間の間隔が
広がると粒子の流量が減少するので、大量の粒子
を処理することができなくなる。本発明は、ある
1つの粒子の前後にある粒子によつて生じる放射
線のカウントに対する影響を除去することに関す
るものである。
満足な動作が得られるけれども、粒子間の間隔が
広がると粒子の流量が減少するので、大量の粒子
を処理することができなくなる。本発明は、ある
1つの粒子の前後にある粒子によつて生じる放射
線のカウントに対する影響を除去することに関す
るものである。
ある粒子から発せられる放射線の大きさは、そ
の粒子からの距離の2乗に反比例する特性を有し
ている。この明細書において質量は粒子の高さま
たは寸法と等価であるということ、および粒子は
シールドされたシンチレーシヨン計測器の上を水
平方向に移動するということを念頭におくと、粒
子の高さがシンチレーシヨン計測器に達する放射
線量を与えることがわかるであろう。
の粒子からの距離の2乗に反比例する特性を有し
ている。この明細書において質量は粒子の高さま
たは寸法と等価であるということ、および粒子は
シールドされたシンチレーシヨン計測器の上を水
平方向に移動するということを念頭におくと、粒
子の高さがシンチレーシヨン計測器に達する放射
線量を与えることがわかるであろう。
従つて、ある粒子がシンチレーシヨン計測器上
にあるとき、シンチレーシヨン計測器によつて記
録されるカウントはその粒子からの放射に加えて
そのシンチレーシヨン計測器に達する他の粒子か
らの放射によつて決定されることは明らかであ
る。ある粒子の前後に位置する粒子が、シンチレ
ーシヨン計測器に記録される余分なカウントに対
して主として関係がある。これら前後の粒子が中
央の粒子に近づくほど、シンチレーシヨン計測器
によつて検出されるこれら前後の粒子からの放射
線量は多くなる。同様のことが粒子の質量すなわ
ち高さに関して適用される。
にあるとき、シンチレーシヨン計測器によつて記
録されるカウントはその粒子からの放射に加えて
そのシンチレーシヨン計測器に達する他の粒子か
らの放射によつて決定されることは明らかであ
る。ある粒子の前後に位置する粒子が、シンチレ
ーシヨン計測器に記録される余分なカウントに対
して主として関係がある。これら前後の粒子が中
央の粒子に近づくほど、シンチレーシヨン計測器
によつて検出されるこれら前後の粒子からの放射
線量は多くなる。同様のことが粒子の質量すなわ
ち高さに関して適用される。
従つて、累積カウントN(P)を、粒子(P−
1)および(P+1)によるカウント効果だけ補
正するためには、粒子(P)と粒子(P−1)お
よび(P+1)との間の間隔、ならびに粒子(P
−1)および(P+1)のそれぞれの質量を決定
する必要がある。
1)および(P+1)によるカウント効果だけ補
正するためには、粒子(P)と粒子(P−1)お
よび(P+1)との間の間隔、ならびに粒子(P
−1)および(P+1)のそれぞれの質量を決定
する必要がある。
それぞれの粒子の射影面積を測定し、これを処
理することによつて相当する質量を与えるための
粒子質量決定装置16は、例えば、前に引用した
南アフリカ特許出願第80/4250号の「体積測定」
と題する、本出願者による同時係属特許出願に開
示されている。それぞれの粒子に対するこの質量
情報は、それぞれの粒子内に含まれる必要物質の
濃度すなわち品位を計算するのに必要であり、本
発明の目的のため利用される。あるいは、装置1
6は、ベルト上のそれぞれ粒子の最大の高さまた
は平均の高さ、またはその形状を単に得るために
も容易に利用できる。この光学的寸法測定または
質量測定装置によれば、オプトエレクトロニクス
技術に精通する者の公知する方法により、相隣る
粒子間の間隔も容易に得られ、この情報も本発明
の目的のために利用される。例えば、この測定装
置は粒子の高さを時々刻々計測できるのであるか
らベルトの移動方向における諸粒子の直線的寸法
を与え、ベルトの速度がわかつている場合は、相
隣る粒子間の間隔を得るのは比較的簡単である。
この間隔測定は、適当な基準点、例えば、この測
定装置16が粒子の高さを時々刻々計測していれ
ば粒子の前端縁を検出することができるからそれ
ぞれの粒子の前端縁について行なうことができる
が、好ましくは、高さの計測値の積分として得ら
れる体積測定から決定される粒子の幾何学的中心
を基準として、相隣る粒子間の「中心間」の間隔
について行なうべきである。それぞれの粒子の幾
何学的中心がもし体積測定から得られれば、諸粒
子は既知の固定速度をもつベルト上にあつて正確
に進行するので、粒子間の間隔を計算するのは比
較的簡単である。
理することによつて相当する質量を与えるための
粒子質量決定装置16は、例えば、前に引用した
南アフリカ特許出願第80/4250号の「体積測定」
と題する、本出願者による同時係属特許出願に開
示されている。それぞれの粒子に対するこの質量
情報は、それぞれの粒子内に含まれる必要物質の
濃度すなわち品位を計算するのに必要であり、本
発明の目的のため利用される。あるいは、装置1
6は、ベルト上のそれぞれ粒子の最大の高さまた
は平均の高さ、またはその形状を単に得るために
も容易に利用できる。この光学的寸法測定または
質量測定装置によれば、オプトエレクトロニクス
技術に精通する者の公知する方法により、相隣る
粒子間の間隔も容易に得られ、この情報も本発明
の目的のために利用される。例えば、この測定装
置は粒子の高さを時々刻々計測できるのであるか
らベルトの移動方向における諸粒子の直線的寸法
を与え、ベルトの速度がわかつている場合は、相
隣る粒子間の間隔を得るのは比較的簡単である。
この間隔測定は、適当な基準点、例えば、この測
定装置16が粒子の高さを時々刻々計測していれ
ば粒子の前端縁を検出することができるからそれ
ぞれの粒子の前端縁について行なうことができる
が、好ましくは、高さの計測値の積分として得ら
れる体積測定から決定される粒子の幾何学的中心
を基準として、相隣る粒子間の「中心間」の間隔
について行なうべきである。それぞれの粒子の幾
何学的中心がもし体積測定から得られれば、諸粒
子は既知の固定速度をもつベルト上にあつて正確
に進行するので、粒子間の間隔を計算するのは比
較的簡単である。
体積測定装置から得られた粒子(P−1)、
(P)、(P+1)のそれぞれの質量は、マイクロ
プロセツサのメモリ・フアイルM(P−1)、M
(P)、M(P+1)に記憶され、光学的質量測定
装置または他の装置によつて得られた粒子間の各
間隔は、やはり対応するメモリ・フアイルM(P
−1)およびM(P+1)に記憶される。
(P)、(P+1)のそれぞれの質量は、マイクロ
プロセツサのメモリ・フアイルM(P−1)、M
(P)、M(P+1)に記憶され、光学的質量測定
装置または他の装置によつて得られた粒子間の各
間隔は、やはり対応するメモリ・フアイルM(P
−1)およびM(P+1)に記憶される。
こうして、粒子(P−1)、(P)、(P+1)に
関する以下の情報は、マイクロプロセツサのメモ
リ20から得られることになる。
関する以下の情報は、マイクロプロセツサのメモ
リ20から得られることになる。
(イ) それぞれの粒子の累算放射線カウント、
(ロ) それぞれの粒子の質量、またはこれに代わる
ものとして、それぞれの粒子の高さ、形状、ま
たは体積、および (ハ) 相隣る粒子間の間隔。
ものとして、それぞれの粒子の高さ、形状、ま
たは体積、および (ハ) 相隣る粒子間の間隔。
本技術分野に精通する者に容易に理解しうる手
段によつて決定された、統計的に測定された校正
因子から、校正因子のマトリツクスが形成され、
これがマイクロプロセツサ・メモリのリード・オ
ンリー部22に持久的に記憶される。
段によつて決定された、統計的に測定された校正
因子から、校正因子のマトリツクスが形成され、
これがマイクロプロセツサ・メモリのリード・オ
ンリー部22に持久的に記憶される。
校正因子は統計的に決定されるものであつて、
粒子の質量、体積、高さ、または形状、隣の粒子
からの間隔、および自身の累算放射線カウントに
基づいている。
粒子の質量、体積、高さ、または形状、隣の粒子
からの間隔、および自身の累算放射線カウントに
基づいている。
校正因子のマトリツクスは、粒子の高さすなわ
ち質量、粒子間隔および粒子の実際の放射線カウ
ントすなわちレベルに依存する情報を含んでいる
ことは明らかである。与えられた粒子に関して、
シンチレーシヨン計測器は、その与えられた粒子
の放射線レベルおよびその前後の粒子の放射線レ
ベルに依存する放射線カウントを発生する。この
シンチレーシヨン計測器の出力は前後の粒子によ
つてもたらされる不要なレベルを除去すべく処理
されなければならない。例えば、前に位置する粒
子に関していえば、もし前に位置する粒子と測定
中の粒子との間隔が知られており、かつ、前に位
置する粒子の高さが知られているとすれば、校正
因子のマトリツクスが参照され、前に位置する粒
子の実際の放射線レベルによつて乗算されたと
き、測定中の粒子に対するシンチレーシヨン計測
器の出力から減算されるべき信号を生じる因子が
見つけられる。
ち質量、粒子間隔および粒子の実際の放射線カウ
ントすなわちレベルに依存する情報を含んでいる
ことは明らかである。与えられた粒子に関して、
シンチレーシヨン計測器は、その与えられた粒子
の放射線レベルおよびその前後の粒子の放射線レ
ベルに依存する放射線カウントを発生する。この
シンチレーシヨン計測器の出力は前後の粒子によ
つてもたらされる不要なレベルを除去すべく処理
されなければならない。例えば、前に位置する粒
子に関していえば、もし前に位置する粒子と測定
中の粒子との間隔が知られており、かつ、前に位
置する粒子の高さが知られているとすれば、校正
因子のマトリツクスが参照され、前に位置する粒
子の実際の放射線レベルによつて乗算されたと
き、測定中の粒子に対するシンチレーシヨン計測
器の出力から減算されるべき信号を生じる因子が
見つけられる。
この説明は、各シンチレーシヨン計測器に、ま
たそのシンチレーシヨン計測器を通過するときの
各粒子に対して適用される。
たそのシンチレーシヨン計測器を通過するときの
各粒子に対して適用される。
小さな粒子を扱うときは放射線放出の実際のレ
ベルが非常に低いことを理解されるべきである。
放射線放出もまばらに発生し、その結果理想的に
は、粒子における放射線レベルの真の評価を得る
ためには、粒子はかなり長期間シンチレーシヨン
計測器に曝されなければならない。しかし、満足
すべきスループツトを得るためにはこのようなこ
とを行なえないし、期待もできない。この理由か
ら粒子は連続して複数の分離したシンチレーシヨ
ン計測器を通過することになり、各計測器につい
て、上述した処理が実行される。すなわち、各粒
子に対して、また各シンチレーシヨン計測器につ
いてカウント信号が得られ、これらのカウント信
号は夫々前後の粒子による影響を除去される。与
えられた1つの粒子に対して複数の計測器から得
られた個々のカウント信号は、その粒子の放射線
レベルのより正確な評価を得るために累算され
る。
ベルが非常に低いことを理解されるべきである。
放射線放出もまばらに発生し、その結果理想的に
は、粒子における放射線レベルの真の評価を得る
ためには、粒子はかなり長期間シンチレーシヨン
計測器に曝されなければならない。しかし、満足
すべきスループツトを得るためにはこのようなこ
とを行なえないし、期待もできない。この理由か
ら粒子は連続して複数の分離したシンチレーシヨ
ン計測器を通過することになり、各計測器につい
て、上述した処理が実行される。すなわち、各粒
子に対して、また各シンチレーシヨン計測器につ
いてカウント信号が得られ、これらのカウント信
号は夫々前後の粒子による影響を除去される。与
えられた1つの粒子に対して複数の計測器から得
られた個々のカウント信号は、その粒子の放射線
レベルのより正確な評価を得るために累算され
る。
第2図には、特定の寸法範囲内の寸法をもつた
粒子に対する補正曲線が、形状を相隣る粒子の中
心間間隔との関数として示されている。それぞれ
の粒子は、例えば、前に引用した「品位決定」と
題する本出願者による南アフリカ特許出願第80/
4249号に説明されているように、粒子の移動方向
における粒子の直線的寸法、および該移動方向と
直角な鉛直および水平方向における粒子の直接的
寸法などの、定められた特性に基づいて選択され
た、いくつかの所定の形状の1つに分類すること
ができる。第2図には、便宜上形状A、B、Cと
してそれぞれ指定された形状を有する各粒子に対
する曲線が示されている。
粒子に対する補正曲線が、形状を相隣る粒子の中
心間間隔との関数として示されている。それぞれ
の粒子は、例えば、前に引用した「品位決定」と
題する本出願者による南アフリカ特許出願第80/
4249号に説明されているように、粒子の移動方向
における粒子の直線的寸法、および該移動方向と
直角な鉛直および水平方向における粒子の直接的
寸法などの、定められた特性に基づいて選択され
た、いくつかの所定の形状の1つに分類すること
ができる。第2図には、便宜上形状A、B、Cと
してそれぞれ指定された形状を有する各粒子に対
する曲線が示されている。
形状Aが「フリツチ」、形状Bが「立方体」お
よび形状Cが「扁平」に相当する。
よび形状Cが「扁平」に相当する。
これらの曲線は次のように用いられる。例え
ば、形状Aに対する曲線を参照すると、40mmの中
心間間隔の場合には粒子(P)が通過しつつある
検出器によつて前隣または後隣粒子、すなわち粒
子(P−1)または(P+1)の全放射線カウン
トの75%が記録されることがわかる。前隣または
後隣粒子によるカウントの寄与は、粒子間隔が増
大するにつれて急速に減少し、粒子間隔が130mm
になると10%未満になる。
ば、形状Aに対する曲線を参照すると、40mmの中
心間間隔の場合には粒子(P)が通過しつつある
検出器によつて前隣または後隣粒子、すなわち粒
子(P−1)または(P+1)の全放射線カウン
トの75%が記録されることがわかる。前隣または
後隣粒子によるカウントの寄与は、粒子間隔が増
大するにつれて急速に減少し、粒子間隔が130mm
になると10%未満になる。
もちろん、形状BおよびCに対する曲線も同様
に用いられる。
に用いられる。
第3図の曲線は、以上の曲線に類似している
が、同一質量をもつた粒子に対する補正因子を、
粒子の高さと、中心間間隔との関数として示して
いる。曲線Aは50mmの高さをもつた150gの球形
粒子に関するものであり、曲線Bは25mmの高さを
もつた等質量の不規則立方体粒子に関するもので
ある。一定の粒子間隔の場合、「周辺影響」は粒
子の高さと共に増大するので、前隣または後隣粒
子の影響は、明らかに粒子の高さの関数になる。
が、同一質量をもつた粒子に対する補正因子を、
粒子の高さと、中心間間隔との関数として示して
いる。曲線Aは50mmの高さをもつた150gの球形
粒子に関するものであり、曲線Bは25mmの高さを
もつた等質量の不規則立方体粒子に関するもので
ある。一定の粒子間隔の場合、「周辺影響」は粒
子の高さと共に増大するので、前隣または後隣粒
子の影響は、明らかに粒子の高さの関数になる。
例えば、100mmの粒子間隔においては、前隣ま
たは後隣のA形粒子はその全カウントの30%を、
現に試験下にある粒子のカウントに寄与するが、
B形粒子はその全カウントの約22%を寄与する。
選別されるべき諸粒子の形状、寸法、質量、等の
事実上全ての変化に対する要求を満たすために
は、きわめて多数の存在しうる補正曲線が収集さ
れなくてはならないことは明らかである。しか
し、例えば、代表的な鉱石サンプルを調査するこ
とにより、また、標準的なあらかじめ選択された
形状を有するか、またはあらかじめ選択された寸
法範囲に属する粒子の百分率を決定することによ
り、統計的解析によつて前記曲線の数を制限する
ことは可能である。
たは後隣のA形粒子はその全カウントの30%を、
現に試験下にある粒子のカウントに寄与するが、
B形粒子はその全カウントの約22%を寄与する。
選別されるべき諸粒子の形状、寸法、質量、等の
事実上全ての変化に対する要求を満たすために
は、きわめて多数の存在しうる補正曲線が収集さ
れなくてはならないことは明らかである。しか
し、例えば、代表的な鉱石サンプルを調査するこ
とにより、また、標準的なあらかじめ選択された
形状を有するか、またはあらかじめ選択された寸
法範囲に属する粒子の百分率を決定することによ
り、統計的解析によつて前記曲線の数を制限する
ことは可能である。
所定の分類のそれぞれに属する粒子からのカウ
ント寄与の百分率は、それぞれの粒子の単一検出
器からの距離を変動せしめながら、該粒子による
放射線カウントを測定し、これを該粒子の全カウ
ントに対する割合として表わすことによつて決定
される。この種の測定は、標準的な実験室技術を
用いて容易に行なうことができる。
ント寄与の百分率は、それぞれの粒子の単一検出
器からの距離を変動せしめながら、該粒子による
放射線カウントを測定し、これを該粒子の全カウ
ントに対する割合として表わすことによつて決定
される。この種の測定は、標準的な実験室技術を
用いて容易に行なうことができる。
このデータを蓄積し、それを処理して上述のよ
うな補正曲線を得ることは、本技術分野に精通す
る者にとしては容易なことである。補正因子を粒
子の高さ、質量、形状、または体積、または他の
パラメータのいずれに基づいて決定すべきかは、
最も効果的な補正方法を確認するための、代表的
鉱石を用いた試験作業に基づいて、きわめて経験
的に決定される。その後、補正因子はリード・オ
ンリー・メモリ22に記憶される。
うな補正曲線を得ることは、本技術分野に精通す
る者にとしては容易なことである。補正因子を粒
子の高さ、質量、形状、または体積、または他の
パラメータのいずれに基づいて決定すべきかは、
最も効果的な補正方法を確認するための、代表的
鉱石を用いた試験作業に基づいて、きわめて経験
的に決定される。その後、補正因子はリード・オ
ンリー・メモリ22に記憶される。
その後、粒子(P)に対するカウント補正は、
マイクロプロセツサ24の助けによつて行なわれ
る。このマイクロプロセツサは、マイクロプロセ
ツサのプログラミング技術に精通した者によつて
適宜プログラムされることにより、メモリ22内
に記憶されている補正因子マトリツクス・フアイ
ルから、粒子(P−1)の質量と、粒子(P−
1)および(P)の間の間隔とに適する補正因子
を読取り、この補正因子の累積カウントN(P−
1)に適用して、粒子(P−1)から粒子(P)
の累積カウントN(P)に対して行なわれるカウ
ント寄与の測度C(P−1)を得る。N(P)から
C(P−1)を減算すれば、粒子(P−1)から
のカウント寄与のない、粒子(P)の累積カウン
トが得られる。同様の補正は、粒子(P+1)に
よるカウント寄与に対しても行なわれ、こうして
粒子(P)の補正されたカウントが得られる。
マイクロプロセツサ24の助けによつて行なわれ
る。このマイクロプロセツサは、マイクロプロセ
ツサのプログラミング技術に精通した者によつて
適宜プログラムされることにより、メモリ22内
に記憶されている補正因子マトリツクス・フアイ
ルから、粒子(P−1)の質量と、粒子(P−
1)および(P)の間の間隔とに適する補正因子
を読取り、この補正因子の累積カウントN(P−
1)に適用して、粒子(P−1)から粒子(P)
の累積カウントN(P)に対して行なわれるカウ
ント寄与の測度C(P−1)を得る。N(P)から
C(P−1)を減算すれば、粒子(P−1)から
のカウント寄与のない、粒子(P)の累積カウン
トが得られる。同様の補正は、粒子(P+1)に
よるカウント寄与に対しても行なわれ、こうして
粒子(P)の補正されたカウントが得られる。
第4図には、補正因子の適用を可能ならしめる
ための、適当なコンピユータプログラムの簡単化
された流れ図が示されている。この流れ図は、き
わめて自己説明的になつており、単一粒子に対す
る計算サイクルを示している。もし、検出器が平
行な行をなして存在していれば、もちろん同様な
計算が並列に同時に行なわれうるが、全ての計算
を単一プロセツサで行なえるようにする時分割技
術を用いることもできる。しかし、このような考
察は、本発明の理解にためには不必要である。
ための、適当なコンピユータプログラムの簡単化
された流れ図が示されている。この流れ図は、き
わめて自己説明的になつており、単一粒子に対す
る計算サイクルを示している。もし、検出器が平
行な行をなして存在していれば、もちろん同様な
計算が並列に同時に行なわれうるが、全ての計算
を単一プロセツサで行なえるようにする時分割技
術を用いることもできる。しかし、このような考
察は、本発明の理解にためには不必要である。
理論的には、粒子(P)のための補正因子が適
用されるべき粒子(P−1)および(P+1)の
真のカウントを得るためには、これらの粒子にも
同様の補正が行なわれなくてはならない。しか
し、これらは2次的補正なので無視することがで
きる。
用されるべき粒子(P−1)および(P+1)の
真のカウントを得るためには、これらの粒子にも
同様の補正が行なわれなくてはならない。しか
し、これらは2次的補正なので無視することがで
きる。
ある粒子のカウントに対して複数の補正を施す
ことは、本発明の範囲内に属することを指摘して
おかなくてはならない。すなわち、粒子のカウン
トは、その前隣または後隣粒子の形状、寸法、す
なわち、体積、質量、または高さの1つまたはそ
れ以上により著しく影響されるので、それに対応
する多重補正が該カウントに施されうるのであ
る。
ことは、本発明の範囲内に属することを指摘して
おかなくてはならない。すなわち、粒子のカウン
トは、その前隣または後隣粒子の形状、寸法、す
なわち、体積、質量、または高さの1つまたはそ
れ以上により著しく影響されるので、それに対応
する多重補正が該カウントに施されうるのであ
る。
以上に略述したようにして放射線カウントを補
正した後は、それぞれの粒子の品位を計算するこ
とができ、論理装置によりその受入れまたは排除
の決定を行うことができる。
正した後は、それぞれの粒子の品位を計算するこ
とができ、論理装置によりその受入れまたは排除
の決定を行うことができる。
従つて、プロセツサ24によつて制御される標
準的選別装置26、例えば空気ブラスト・ノズル
によつて、粒子の選別を行なうことができる。
準的選別装置26、例えば空気ブラスト・ノズル
によつて、粒子の選別を行なうことができる。
(発明の効果)
この改良により、後隣および前隣粒子の影響に
よる、廃石または低品位鉱石粒子の誤つた受入
れ、およびそれによる、受入れられた鉱石におけ
る高品位鉱石の比率の低下、を著しく改善するこ
とができる。
よる、廃石または低品位鉱石粒子の誤つた受入
れ、およびそれによる、受入れられた鉱石におけ
る高品位鉱石の比率の低下、を著しく改善するこ
とができる。
第1図は、本発明の方法を実施するための装置
の概略図である。第2図は、相異なる形状の粒子
に対する補正因子を、粒子間間隔の関数として表
わした曲線群を示している。第3図は、同一質量
と相異なる高さとをもつ粒子に対する補正曲線
を、第2図と同様に示している。第4図は、本発
明の方法およびコンピユータのプログラムに使用
される諸段階を示す流れ図を簡単化した形式で示
している。 12……放射線検出器。
の概略図である。第2図は、相異なる形状の粒子
に対する補正因子を、粒子間間隔の関数として表
わした曲線群を示している。第3図は、同一質量
と相異なる高さとをもつ粒子に対する補正曲線
を、第2図と同様に示している。第4図は、本発
明の方法およびコンピユータのプログラムに使用
される諸段階を示す流れ図を簡単化した形式で示
している。 12……放射線検出器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 粒子の選別方法であつて、複数の粒子を、該
粒子から放出される放射線に対して反応する少な
くとも1つの検出器12を通過して順次移動せし
める段階と、該検出器の反応により該粒子から放
出される放射線の強度に依存する出力信号をそれ
ぞれの粒子に対して発生せしめる段階とを包含し
ており、前記選別方法が選別対象として着目中の
粒子と少なくとも1つの隣りの粒子との間の間隔
を決定する段階と、該間隔と該隣りの粒子から放
出される放射線の強度に依存する出力信号とに依
存する校正因子を前記着目中の粒子による前記出
力信号に与える段階とを包含している粒子の測定
方法を用いたことを特徴とする、粒子の選別方
法。 2 特許請求の範囲第1項において、前記複数の
粒子が複数の検出器を通過して順次移動されるよ
うになつており、少なくとも前記着目中の粒子に
対する該複数の検出器の別個の放射線カウントを
累算することにより各粒子に対する前記出力信号
が発生されるようになつていることを特徴とす
る、粒子の選別方法。 3 特許請求の範囲第1項または第2項におい
て、前記校正因子が前記隣りの粒子の形状、体
積、質量、または高さの少なくとも1つにも依存
していることを特徴とする、粒子の選別方法。 4 特許請求の範囲第1項から第3項までのいず
れかにおいて、前記校正因子が前記隣りの粒子に
よる前記出力信号への寄与を表わしており、該校
正因子が前記着目中の粒子による該出力信号から
減ぜられるようになつていることを特徴とする、
粒子の選別方法。 5 特許請求の範囲第1項から第4項までのいず
れかにおいて、各粒子とその前隣粒子および後隣
粒子との間の両間隔がそれぞれ決定されるように
なつており、該両間隔と該前隣粒子および後隣粒
子による両前記出力信号とにそれぞれ依存する2
つの校正因子が前記着目中の粒子による前記出力
信号に与えられるようになつていることを特徴と
する、粒子の選別方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| ZA796566 | 1979-12-04 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56129072A JPS56129072A (en) | 1981-10-08 |
| JPS6319230B2 true JPS6319230B2 (ja) | 1988-04-21 |
Family
ID=25574401
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17193480A Pending JPS56129073A (en) | 1979-12-04 | 1980-12-04 | Method of deciding class of grain |
| JP17142680A Granted JPS56129072A (en) | 1979-12-04 | 1980-12-04 | Method of selecting grain |
| JP17193580A Pending JPS56128476A (en) | 1979-12-04 | 1980-12-04 | Method of compensating for deviation of particle from reference of detector |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17193480A Pending JPS56129073A (en) | 1979-12-04 | 1980-12-04 | Method of deciding class of grain |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17193580A Pending JPS56128476A (en) | 1979-12-04 | 1980-12-04 | Method of compensating for deviation of particle from reference of detector |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (3) | JPS56129073A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62282287A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-08 | Shimizu Constr Co Ltd | 高バツクグラウンド下における放射能レベル測定方法及び装置 |
| JPH03505302A (ja) * | 1989-04-03 | 1991-11-21 | ウセソユズニ ナウチノ イスレドヴァテルスキ イ プロエクトニ インスチテュート メハニチェスコイ オブラボトキ ポレズニク イスコパエミク “メハノブル” | 原料のx線選別方法及び装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4840118A (ja) * | 1971-09-25 | 1973-06-13 |
-
1980
- 1980-12-04 JP JP17193480A patent/JPS56129073A/ja active Pending
- 1980-12-04 JP JP17142680A patent/JPS56129072A/ja active Granted
- 1980-12-04 JP JP17193580A patent/JPS56128476A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56128476A (en) | 1981-10-07 |
| JPS56129073A (en) | 1981-10-08 |
| JPS56129072A (en) | 1981-10-08 |
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