JPS6318594A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPS6318594A
JPS6318594A JP61163004A JP16300486A JPS6318594A JP S6318594 A JPS6318594 A JP S6318594A JP 61163004 A JP61163004 A JP 61163004A JP 16300486 A JP16300486 A JP 16300486A JP S6318594 A JPS6318594 A JP S6318594A
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JP
Japan
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voltage
circuit
erase
write
clamp
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JP61163004A
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Japanese (ja)
Inventor
Kiyokazu Hashimoto
潔和 橋本
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Publication of JPS6318594A publication Critical patent/JPS6318594A/en
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Abstract

PURPOSE:To set a suitable writing voltage/erasing voltage without applying an excessive electric field stress by providing plural clamp circuits for clamping an output voltage at the time of a writing/erasing mode. CONSTITUTION:There are provided a writing/erasing-reading circuit switching circuit consisting of a boosting circuit LS for boosting the voltage from a power source voltage to a high voltage, the plural clamping circuits 11, 12 disposed for clamping the output of the boosting circuit and a selection circuit for selecting one of the clamping circuits. Since the two clamping circuits 11, 12 are provided, a suitable writing voltage known from the writing characteristic of a memory-cell can be set by the clamp voltage of the other clamp circuit 12. Therefore, the suitable writing voltage and the erasing voltage can be set and accordingly, at the time of the writing or the erasing mode, the excessive electric field stress is not applied to the memory cell.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、絶縁ゲート型の構造をもつ、電界効果型トラ
ンジスタ(以下ICFETと記す。)を主な構成要素と
する、電気的に書き込み、消去可能な不揮発性記憶装置
(以下EEPROMと記す。)に内蔵される、書き込み
/消去−読み出し電圧切り換え回路を有する半導体装置
に関する。
[Detailed Description of the Invention] Industrial Application Field The present invention is an electrically writable and erasable device whose main component is a field effect transistor (hereinafter referred to as ICFET) having an insulated gate structure. The present invention relates to a semiconductor device having a write/erase-read voltage switching circuit built in a non-volatile memory device (hereinafter referred to as EEPROM).

従来の技術 EEPROMは、書き込みモード時と消去モード時にチ
ップ内部でそれぞれ書き込み電圧、消去電圧(通常20
V前後)を発生させる。この書き込み電圧、消去電圧は
、一般に、チップ内部に内蔵されたクランプ回路のクラ
ンプ電圧により設定される。
In the conventional EEPROM, the write voltage and erase voltage (usually 20
around V). The write voltage and erase voltage are generally set by a clamp voltage of a clamp circuit built into the chip.

第6図は従来技術の書き込み/消去−読み出し電圧切り
換え回路を示したものである。上述したクランプ回路と
して、P基板上のN+拡散層のジャンクション耐圧を用
いた例を示した。以下ジャンクション耐圧の値をBVJ
 と記す。
FIG. 6 shows a conventional write/erase-read voltage switching circuit. As the above-mentioned clamp circuit, an example is shown in which the junction breakdown voltage of the N+ diffusion layer on the P substrate is used. Below is the value of junction breakdown voltage BVJ
It is written as

第6図の書き込み/消去−読み出し電圧切り換え回路は
、ソースが電源CCに、ゲートが書き込みモード時と消
去モード時に“L”になる信号NW Eに、ドレインが
点Aに接続されたPチャネル型エンハンスメント型IC
FET (以下PE−1CFETと記す。)Mlと、ド
レインとゲートが点Aに、ソースが点已に接続されたN
チャネル型エンハンスメント型IGFET <以下NE
−IGFETと記す。)M2と、ドレインとゲートが点
已に、ソースが点Pi に接続されたNE−IGFET
Mpl と、ドレインとゲートが点Pi に、ソースが
点P2に接続されたNE−IGFETMp2と、ドレイ
ンとゲートが点P2に、ソースが点P3に接続されたN
E−IGFETMp3 と、・・・、ドレインとゲート
が点P (n−1)に、ソースが点Pnに接続されたN
E−IGFETMpnと、ドレインとゲートが点Pnに
、ソースが点Cに接続されたNE−IGFETM3 と
、ドレインが点Cに、ゲートが信号NWEに、ソースが
接地に接続されたNE−IGFETM4と、点Pnと点
りの間に接続された、書き込み/消去モード時に出力電
圧をクランプするクランプ回路CLA1と、ドレインと
ゲートが共通に電源CCに、ソースが点りに接続された
、基板のしきい値をもつIGFET (以下EO−IG
FETと記す。)M5と、ドレインが、保りに、ゲート
が書き込み/消去モードが終了すると、一定期間”H″
になるパルスが出力される信号DISに、ソースが接地
に接続されたNEiGFETM6と、クロックφと点B
の間に接続された容Q Cp 1と、クロックφと点P
L との間に接続された容ff1c p2と、クロック
φと点P2との間に接続された容量Cp3と、・・・、
゛クロックφと点P(n−1)との間に接続された容f
f1cpnとから構成される。点りの出力Vf]p’が
、この書き込み/消去−読み出し電圧切り換え回路の出
力である。
The write/erase-read voltage switching circuit shown in Fig. 6 is a P-channel type in which the source is connected to the power supply CC, the gate is connected to the signal NWE that becomes "L" in write mode and erase mode, and the drain is connected to point A. Enhancement type IC
FET (hereinafter referred to as PE-1CFET) Ml and N whose drain and gate are connected to point A and source is connected to point A.
Channel type enhancement type IGFET <hereinafter NE
-IGFET. ) M2 and a NE-IGFET with the drain and gate connected to the point, and the source connected to the point Pi.
Mpl, NE-IGFET Mp2 whose drain and gate are connected to point Pi and whose source is connected to point P2, and NE-IGFET Mp2 whose drain and gate are connected to point P2 and whose source is connected to point P3.
E-IGFET Mp3..., N whose drain and gate are connected to point P (n-1) and whose source is connected to point Pn
E-IGFET Mpn, NE-IGFET M3 with its drain and gate connected to point Pn, source connected to point C, and NE-IGFET M4 with its drain connected to point C, gate connected to signal NWE, and source connected to ground. A clamp circuit CLA1 that clamps the output voltage during write/erase mode is connected between point Pn and the dot, and a substrate threshold whose drain and gate are commonly connected to the power supply CC and whose source is connected to the dot. IGFET (hereinafter EO-IG
It is written as FET. ) When the write/erase mode ends, M5, the drain, and the gate become “H” for a certain period of time.
NEiGFET M6 whose source is connected to ground, clock φ and point B
capacitance Q Cp 1 connected between clock φ and point P
A capacitor ff1c p2 connected between the clock φ and the point P2, a capacitor Cp3 connected between the clock φ and the point P2, and so on.
゛Capacitor f connected between clock φ and point P(n-1)
f1cpn. The output Vf]p' of the dot is the output of this write/erase-read voltage switching circuit.

信号DISは、書き込み/消去モード時に点りに付加さ
れる容量に充電された電荷を、書き込み/消去モードが
終了すると接地に放電させるための信号である。
The signal DIS is a signal for discharging the charge charged in the capacitor added to the dot during the write/erase mode to the ground when the write/erase mode ends.

クロックφはクロックφの反転信号である。クロックφ
、クロックφは出力電圧が0■から電源電圧Vccまで
振幅する。
Clock φ is an inverted signal of clock φ. clock φ
, the clock φ swings from an output voltage of 0 to a power supply voltage Vcc.

特に記述しない限り、PE−ICFETの基板は電源C
Cに、NE−IGFETの基板は接地に接続されてい゛
るとする。
Unless otherwise specified, the PE-ICFET board is powered by C
Assume in C that the substrate of the NE-IGFET is connected to ground.

又、説明を簡単にする為に、PE−rGFETのしきい
値はすべて同一でそのしきい値をvtp、NE−ICF
ETのしきい値はすべて同一でそのしきい値をV7N、
EO−IGFETのしきい値はすべて同一でそのしきい
値をVTOとする。さらに、IGFETが基板とソース
の間で逆バイアスが印加された状態で動作している時で
も、しきい値はそれぞれ単に、VTP% ■TN% v
toと記述する。
Also, to simplify the explanation, the threshold values of all PE-rGFETs are the same, and the threshold values are expressed as vtp and NE-ICF.
All ET thresholds are the same, and the threshold is V7N,
The threshold values of all EO-IGFETs are the same, and that threshold value is assumed to be VTO. Furthermore, even when the IGFET is operating with a reverse bias applied between the substrate and the source, the threshold values are simply VTP% ■TN% v
It is written as to.

第6図、第7図を用いて、従来例の書き込み/消去−読
み出し電圧切り換え回路の動作を説明する。
The operation of the conventional write/erase-read voltage switching circuit will be described with reference to FIGS. 6 and 7.

第7図は、書き込みモード時(時間0〜tl )から読
み出しモード時(時間t1〜t2 )に変化した時の信
号NWE、信号DIS、書き込み/消去−読み出し電圧
切り換え回路の出力Vllll’の電圧の時間変化を示
したものである。
FIG. 7 shows the voltages of the signal NWE, the signal DIS, and the output Vllll' of the write/erase-read voltage switching circuit when changing from the write mode (time 0 to tl) to the read mode (time t1 to t2). This shows changes over time.

NWEは信号NWEの電圧の時間変化、D■Sは信号D
ISの電圧の時間変化、VpH″は出力■pp°の電圧
の時間変化をそれぞれ示す。
NWE is the time change in the voltage of the signal NWE, D■S is the signal D
The time change of the voltage of IS, VpH'' indicates the time change of the voltage of the output ■pp°, respectively.

Ml 、M2 、(Mpl 、Cpl)、(M p2 
、Cp2)、(M p3 、Cp3  ) 、”、 (
Mpn、Cpn)は、N&のチャージポンプ回路を構成
し、書き込み/消去モード時に出力■ρp”を高電圧に
昇圧する。読み出しモード時には、このチャージポンプ
回路は非動作になる。EO−IGFETM5は常に導通
するように接続されているので出力vpp’の値は(V
CC−VT。〕で平衡する。
Ml , M2 , (Mpl , Cpl), (M p2
, Cp2), (M p3 , Cp3) ,”, (
Mpn, Cpn) constitute an N& charge pump circuit, which boosts the output ρp'' to a high voltage in the write/erase mode. In the read mode, this charge pump circuit is inactive.EO-IGFET M5 is always Since it is connected to conduct, the value of the output vpp' is (V
CC-VT. ].

■、書き込みモード時(時間0〜tl )信号NWEが
“L”になるとPE−IGFETMIが導通し、NE 
 rGFETM2は常に導通するように接続されている
ことから、点Bの電圧が(Vcc−VrN)になる。こ
こでクロックφがVccになると、NE−IGFETM
plが導通して点Bの電圧は[: 2 Vcc −VT
)l]になり、NE−IGFETMplを通して電荷が
点P1に供給される。
■When the signal NWE becomes “L” in write mode (time 0 to tl), PE-IGFETMI becomes conductive and NE
Since rGFET M2 is always connected so as to be conductive, the voltage at point B becomes (Vcc-VrN). Here, when the clock φ becomes Vcc, the NE-IGFETM
When pl conducts, the voltage at point B is [: 2 Vcc -VT
)l], and charge is supplied to point P1 through NE-IGFET Mpl.

次にクロックφがVccに、クロックφが0■になると
、今度はNE−IC,FETMp2が導通するので、点
P1に供給された電荷はNE−IGFETMp2を通し
て点P2に供給される。
Next, when the clock φ becomes Vcc and the clock φ becomes 0■, the NE-IC and FET Mp2 become conductive, so that the charge supplied to the point P1 is supplied to the point P2 through the NE-IGFET Mp2.

このように、クロックの半サイクルごとに、電荷が次段
へ供給され、点p1、点P2、・・・、点P(n−1)
、点Pnと、添字の大きい点はど電荷は上昇していく。
In this way, charge is supplied to the next stage every half cycle of the clock, and points p1, point P2, ..., point P(n-1)
, Pn, and points with larger subscripts, the charge increases.

この時、NE−IGFETMpl、Mp2、Mp3、・
・・、Mpnは、ダイオード接続されている為に、電荷
が逆流する事はない。また、EO−IGFETM5のし
きい値は、点りから電源CCに電荷が逆流する事がない
ように設計されているので、出力VISIT’の電圧は
[Vcc  VT。]から上昇し、クランプ回路CLA
1のクランプ電圧BV、でクランプされる。結局、出力
Vpρ°の電圧は(1)式で示す値で平衡する。
At this time, NE-IGFET Mpl, Mp2, Mp3,
. . , Mpn are diode-connected, so there is no reverse flow of charge. In addition, the threshold value of EO-IGFET M5 is designed to prevent charge from flowing back into the power supply CC from the point on, so the voltage of the output VISIT' is [Vcc VT. ] and clamp circuit CLA
It is clamped at a clamp voltage BV of 1. Eventually, the voltage of the output Vpρ° is balanced at the value shown by equation (1).

Vflp″=BV、  ・・(1) NE−IGFETM2 、M3 、Mpl 、Mp2、
Mp3、・・、Mpn、M6 、EO−IGFETM5
のジャンクション耐圧は、クランプ回路CLAlのクラ
ンプ電圧BV、よりも高く設計されている事はもちろん
である。
Vflp″=BV, (1) NE-IGFETM2, M3, Mpl, Mp2,
Mp3,..., Mpn, M6, EO-IGFETM5
Of course, the junction breakdown voltage of is designed to be higher than the clamp voltage BV of the clamp circuit CLAl.

2、読み出しモード時(時間tl −t2 )書き込み
モードが終了すると、一定時間“H”になλパルスが信
号DISに印加されるので、NEiGFETM6が導通
する。すると書き込みモード時点に付加される容量に充
電された電荷は、NE−IGFETM6の電流駆動能力
と、点りに付加される容量の値により決まる時定数で放
電され、点りの電圧はCVCC−Vア。〕で平衡する。
2. During the read mode (time tl - t2) When the write mode ends, the signal DIS is set to "H" for a certain period of time and a λ pulse is applied to the signal DIS, so that the NEiGFET M6 becomes conductive. Then, the charge charged in the capacitance added at the time of write mode is discharged with a time constant determined by the current drive capability of NE-IGFET M6 and the value of the capacitance added to the dot, and the voltage at the dot becomes CVCC-V. a. ].

以上述べたように、書き込み/消去モード時には書き込
み/消去−読み出し電圧切り換え回路が動作して出力V
flll’の値は、クランプ回路のクランプ電圧で制限
される値BVJ になる。この電圧が、書き込み電圧、
又は消去電圧になり、アドレスにより選択されたメモリ
ーセルは書き込まれたり消去されたりする。
As mentioned above, in the write/erase mode, the write/erase-read voltage switching circuit operates and the output V
The value of flll' becomes a value BVJ limited by the clamp voltage of the clamp circuit. This voltage is the write voltage,
or erase voltage, and the memory cell selected by the address is written or erased.

クランプ回路のクランプ電圧を何ボルトに設定するかは
、EEFROMの書き込みスピードの規格、消去スピー
ドの規格、プロセスパラメータがばらついた時のメモリ
ーセルの書き込みスピード特性、消去スピード特性、メ
モリーセルの耐圧等によって決定される。
How many volts to set the clamp voltage of the clamp circuit depends on the EEFROM write speed standard, erase speed standard, write speed characteristics of the memory cell when process parameters vary, erase speed characteristics, withstand voltage of the memory cell, etc. It is determined.

一般にEEPROMでは、書き込み又は消去スピードは
、クランプ回路のクランプ電圧で決定される書き込み電
圧、又は消去電圧の値により大きく変化する。例えば、
BVJ =21Vになるようにクランプ回路のクランプ
電圧を設定した時に書き込みスピードが1msとする。
Generally, in an EEPROM, the writing or erasing speed varies greatly depending on the value of the writing voltage or the erasing voltage determined by the clamp voltage of the clamp circuit. for example,
It is assumed that the writing speed is 1 ms when the clamp voltage of the clamp circuit is set so that BVJ = 21 V.

ここでBVJ  =20■になるようにクランプ回路の
クランプ電圧を設定しなおすと書き込みスピードがlQ
msになる。
Here, if you reset the clamp voltage of the clamp circuit so that BVJ = 20■, the writing speed will increase to 1Q.
It becomes ms.

従ってEEPROMでは、書き込み電圧が変化した時の
メモリーセルの書き込みスピード特性、消去電圧が変化
した時のメモリーセルの消去スピード特性を製品で評価
する事は必須である。
Therefore, in EEPROM, it is essential to evaluate the write speed characteristics of the memory cell when the write voltage changes and the erase speed characteristics of the memory cell when the erase voltage changes in the product.

この為、従来例の書き込み/消去−読み出し電圧切り換
え回路を用いた場合、一般にテストモードを設け、チッ
プ内部の昇圧回路で発生される書き込み電圧、消去電圧
の他に、外部端子から直接書き込み電圧、消去電圧を印
加し、書き込み電圧が変化した時のメモリーセルの書き
込みスピード特性、消去電圧が変化した時のメモリーセ
ルの消去スピード特性を評価していた。
For this reason, when using a conventional write/erase-read voltage switching circuit, a test mode is generally provided, and in addition to the write voltage and erase voltage generated by the booster circuit inside the chip, the write voltage directly from the external terminal, An erase voltage was applied, and the write speed characteristics of the memory cell when the write voltage changed, and the erase speed characteristics of the memory cell when the erase voltage changed were evaluated.

又、メモリーセルの構造によっては、メモリーセルの消
去が書き込み電圧の値よりも低い電圧で十分消去できる
場合がある。この場合、従来例のように、消去電圧を書
き込み電圧と同一の値にすると、消去モード時に過度の
電界ストレスをメモリーセルに与える結果となり、メモ
リーセルの寿命を縮めていた。
Furthermore, depending on the structure of the memory cell, erasing of the memory cell may be sufficient with a voltage lower than the value of the write voltage. In this case, if the erase voltage is set to the same value as the write voltage as in the conventional example, excessive electric field stress will be applied to the memory cell during the erase mode, shortening the life of the memory cell.

発明が解決しようとする問題点 以上述べたように、従来例の書き込み/消去−読み出し
電圧切り換え回路は、書き込み/消去モード時に出力電
圧をクランプするクランプ回路を1つしか備えていない
ので、以下の問題が生ずる。
Problems to be Solved by the Invention As described above, the conventional write/erase-read voltage switching circuit has only one clamp circuit that clamps the output voltage during the write/erase mode, so the following problems can be solved. A problem arises.

1、書き込み電圧と消去電圧が同一の値に設定される為
、例えば消去がクランプ回路のクランプ電圧よりも低い
電圧で十分消去出来る場合には消去モード時に過度の電
界ストレスをメモリーセルに与える結果になる。このた
めメモIJ −セルの寿命を縮める。
1. Since the write voltage and erase voltage are set to the same value, for example, if erasing can be performed with a voltage lower than the clamp voltage of the clamp circuit, excessive electric field stress may be applied to the memory cell during erase mode. Become. This shortens the life of the memo IJ-cell.

2、書き込み電圧が変化した時のメモリーセルの書き込
みスピード特性や消去電圧が変化した時のメモリーセル
の消去スピード特性を評価する為にはテストモード時に
外部端子から直接書き込み電圧、消去電圧を印加する必
要があるのでEEPROM内の論理回路が複雑になる。
2. To evaluate the write speed characteristics of the memory cell when the write voltage changes and the erase speed characteristics of the memory cell when the erase voltage changes, apply the write voltage and erase voltage directly from the external terminal during test mode. This necessity complicates the logic circuitry within the EEPROM.

本発明の目的は、前述の欠点を除去し、書き込み電圧と
消去電圧をチップ内部で異なった値に設定する事ができ
、しかも、書き込み電圧が変化した時のメモリーセルの
書き込みスピード特性や消去電圧が変化した時のメモリ
ーセルの消去スピード特性を評価する為に、わざわざ外
部端子から直接書き込み電圧、消去電圧を印加する必要
のない、書き込み/消去−読み出し電圧切り換え回路を
有する半導体装置を提供する事にある。
The purpose of the present invention is to eliminate the above-mentioned drawbacks, to enable the write voltage and erase voltage to be set to different values inside the chip, and to improve the write speed characteristics of the memory cell and the erase voltage when the write voltage changes. To provide a semiconductor device having a write/erase-read voltage switching circuit that eliminates the need to apply write voltage and erase voltage directly from an external terminal in order to evaluate the erase speed characteristics of a memory cell when the voltage changes. It is in.

問題点を解決するための手段 本発明の半導体装置は、電源電圧から高電圧に昇圧する
昇圧回路と、該昇圧回路の出力をクランプする為に設け
た複数個のクランプ回路と、該複数個のクランプ回路の
うちの1個を選択する選択回路とからなる書き込み/消
去−読み出し電圧切り換え回路を有する。
Means for Solving the Problems The semiconductor device of the present invention includes a booster circuit that boosts the power supply voltage to a high voltage, a plurality of clamp circuits provided for clamping the output of the booster circuit, and a plurality of clamp circuits provided for clamping the output of the booster circuit. The write/erase-read voltage switching circuit includes a selection circuit for selecting one of the clamp circuits.

実施例 第1図に本発明の第1の実施例を示す。Example FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention.

第1図に示す第1の実施例は、第6図に示す従来例の回
路に、ドレインが点Pnに、ゲートが信号Tpに、ソー
スが点Eに接続されたNE−IGFETMcl と、ド
レインとゲートが共通に点Eに、ソースが接地に接続さ
れた、素子分離領域をチャネルとして用いた寄生トラン
ジスタ(以下単に寄生トランジスタと記す。)Mc2(
以下寄生トランジスタのしきい値をVT2と記す。)と
から構成される第2のクランプ回路CLA12を付加し
た、書き込み/消去−読み出し電圧切り換え回路と、ソ
ースと基板が書き込み/消去−読み出し電圧切り換え回
路の出力vpp’に、ゲートが点Gに、ドレインが点F
に接続されたPE−IGFETMLlと、ドレインが点
Fに、ゲートが消去モード時に“H″になる信号Tに、
ソースが接地に接続されたNE−IGFETML2と、
ソースと基板がVlllpにゲートが点Fに、ドレイン
が点Gに接続されたPE−IGFETML3と、ドレイ
ンが点Gに、ゲートが点Hに、ソースが接地に接続され
たNE−IGFETML4と、ソースが電#CCに、ゲ
ートが信号Tに、ドレインが点Hに接続されたPE−I
GFETML5と、ドレインが点Hに、ゲートが信号T
に、ソースが接地に接続されたNE−IGFETML6
とから構成されるレベルシフタ回路LSとから構成され
る。
The first embodiment shown in FIG. 1 adds an NE-IGFET Mcl whose drain is connected to point Pn, gate to signal Tp, and source to point E to the conventional circuit shown in FIG. A parasitic transistor (hereinafter simply referred to as a parasitic transistor) Mc2 (hereinafter simply referred to as a parasitic transistor) whose gate is commonly connected to point E and whose source is connected to ground and uses the element isolation region as a channel.
Hereinafter, the threshold value of the parasitic transistor will be referred to as VT2. ), the source and substrate are connected to the output vpp' of the write/erase-read voltage switching circuit, the gate is connected to point G, Drain is point F
PE-IGFET MLl connected to , the drain is connected to point F, and the gate is connected to the signal T that becomes “H” in erase mode.
NE-IGFET ML2 whose source is connected to ground;
PE-IGFET ML3 whose source and substrate are connected to Vlllp, gate connected to point F, and drain connected to point G; NE-IGFET ML4 whose drain is connected to point G, gate connected to point H, and source connected to ground; is connected to the voltage #CC, the gate is connected to the signal T, and the drain is connected to the point H.
GFET ML5, drain connected to point H, gate connected to signal T
NE-IGFET ML6 with source connected to ground
and a level shifter circuit LS.

第1図中、従来例の第6図と同一のものは、同じ符号を
つけ説明を省略する。書き込み/消去モード時と読み出
しモード時のチャージポンプ回路の回路動作は、従来例
の場合とまったく同一であるので、説明を省略する。
In FIG. 1, the same parts as those in FIG. 6 of the conventional example are given the same reference numerals and explanations will be omitted. The circuit operations of the charge pump circuit in the write/erase mode and in the read mode are exactly the same as in the conventional example, and therefore the description thereof will be omitted.

第2図はまず書き込みモードになり、続いて読み出しモ
ードが終了し、次に再び消去モードになり、さらに読み
出しモードとなる時の書き込み/消去−読み出し電圧切
り換え回路の出力■ρp°の電圧の時間変化と、レベル
シフタ回路LSの出力″ Tpの電圧の時間変化を示し
たものである。NWEは信号NWEの電圧の時間変化、
DISは信号DISの電圧の時間変化、Tは信号Tの電
圧の時間変化、Tpはレベルシフタ回路LSの電圧の時
間変化、■ρp°は出力vpp’の電圧の時間変化をそ
れぞれ示す。
Figure 2 shows the output of the write/erase-read voltage switching circuit when the write mode is first entered, then the read mode ends, then the erase mode is entered again, and then the read mode is entered. NWE is the time change of the voltage of the signal NWE,
DIS represents a time change in the voltage of the signal DIS, T represents a time change in the voltage of the signal T, Tp represents a time change in the voltage of the level shifter circuit LS, and ■ρp° represents a time change in the voltage of the output vpp'.

第1図と第2図を用いて、第1の実施例の動作を説明す
る。第2のクランプ回路CLA12の寄生トランジス9
 M C2(DVr2)値は、[BVJ −VT)1〕
以下に設定されるとして話を進める。例えば、BVJ 
=25vの時、寄生トランジスタMc2のVT2の値は
20Vになるように設定される。
The operation of the first embodiment will be explained using FIGS. 1 and 2. Parasitic transistor 9 of second clamp circuit CLA12
MC2 (DVr2) value is [BVJ - VT)1]
Let's proceed with the discussion assuming the following settings. For example, BVJ
=25V, the value of VT2 of the parasitic transistor Mc2 is set to 20V.

■、書き込みモード時(時間0−tl)信号NWEが“
L”になり、書き込みモードになると、チャージポンプ
回路が動作する。すると書き込み/消去−読み出し電圧
切り換え回路の出力vpp’は、(Vcc−Vア。〕か
ら上昇する。書き込みモード時には信号Tは“L”であ
るので出力Tpは“L”になり、その結果第2のクラン
プ回路CLΔ12のNE−IGFETMclは非導通に
なる。
■In write mode (time 0-tl) signal NWE is “
When the voltage becomes "L" and the write mode is entered, the charge pump circuit operates.Then, the output vpp' of the write/erase-read voltage switching circuit rises from (Vcc-Va.).In the write mode, the signal T is " Therefore, the output Tp becomes "L", and as a result, NE-IGFET Mcl of the second clamp circuit CLΔ12 becomes non-conductive.

従って、第2のクランプ回路CLA12は非選択になる
ため出力vpp’の電圧は第1のクランプ回路CLAI
Iのジャンクション耐圧により制限される。結局出力■
ρp°の電圧は、(2)式で示す値で平衡する。
Therefore, since the second clamp circuit CLA12 is not selected, the voltage of the output vpp' is changed to that of the first clamp circuit CLAI.
It is limited by the junction breakdown voltage of I. Eventually the output
The voltage of ρp° is balanced at the value shown by equation (2).

Vpp’ =BVJ =Vpρ(BVJ ) ・・(2
)この時、NE−IGFETMclのドレインの耐圧は
、クランプ回路CLAIIのジャンクション耐圧より高
(設定されている事はもちろんである。
Vpp' = BVJ = Vpρ(BVJ)...(2
) At this time, the drain breakdown voltage of NE-IGFETMcl is higher than the junction breakdown voltage of the clamp circuit CLAII (of course, it is set).

2、読み出しモード時(時間t1〜t2〜t3 )書き
込みモードが終了すると、信号NWEは“H”になり、
チャージポンプ回路は非動作になる。そこで信号DIS
には、一定期間“H”になるパルスが印加されるので、
書き込みモード時に出力vpp’に付加される容量に充
電された電荷は放電される。結局出力vpp’の電圧は
(Vcc−Vto)で平衡する。
2. In the read mode (time t1-t2-t3) When the write mode ends, the signal NWE becomes "H",
The charge pump circuit becomes inactive. So the signal DIS
Since a pulse that becomes “H” for a certain period of time is applied to
The charges charged in the capacitor added to the output vpp' during the write mode are discharged. Eventually, the voltage of the output vpp' is balanced at (Vcc-Vto).

3、消去モード時(時間t3〜t4 )信号NWEが“
L″、信号Tが“H”になり、消去モードになると、チ
ャージポンプ回路が再び動作する。すると書き込み/消
去−読み出し電圧切り換え回路の出力vpp’の電圧は
CVCC−V丁o)から上昇する。
3. In erase mode (time t3 to t4) signal NWE is “
When the signal T becomes "H" and the erase mode is activated, the charge pump circuit operates again.Then, the voltage of the output vpp' of the write/erase-read voltage switching circuit rises from CVCC-Vd o). .

この時、信号Tが“H”であるので、レベルシフタ回路
LSの出力Tpの電圧は出力VISIT’と共に上昇し
、NE−IGFETMclは導通状態となる。点Eの電
圧が前もって設定されたクランプ電圧の値になると、寄
生トランジスタM c 2は導通する。第2のクランプ
回路CLA12のクランプ電圧は、CBVJ  VTI
IE以下になるように設定されているので、出力V[)
p’の電圧は、第2のクランプ回路CLA12のクラン
プ電圧(Vt2 )で制限される事になる。結局出力V
pρ′の電圧は(3)式に示す値で平衡する。
At this time, since the signal T is "H", the voltage of the output Tp of the level shifter circuit LS rises together with the output VISIT', and the NE-IGFET Mcl becomes conductive. When the voltage at point E reaches the value of the preset clamp voltage, the parasitic transistor M c 2 becomes conductive. The clamp voltage of the second clamp circuit CLA12 is CBVJ VTI
Since it is set to be less than IE, the output V[)
The voltage at p' is limited by the clamp voltage (Vt2) of the second clamp circuit CLA12. Eventually the output V
The voltage of pρ' is balanced at the value shown in equation (3).

Vl)I)”= Vl2 + Vt+v = Vpp(
Vt□) ・・(3)4゜読み出しモード時(時間t4
〜t5 )消去モードが終了すると、信号NWEは“H
”になり、チャージポンプ回路は再び非動作になる。
Vl)I)” = Vl2 + Vt+v = Vpp(
Vt□) ... (3) 4° readout mode (time t4
~t5) When the erase mode ends, the signal NWE becomes “H”.
” and the charge pump circuit becomes inactive again.

このとき信号DISには一定期間“H”になるパルスが
印加されるので、消去モード時に出力vpp’に付加さ
れる容量に充電された電荷は放電される。
At this time, a pulse that becomes "H" for a certain period of time is applied to the signal DIS, so that the charge stored in the capacitor added to the output vpp' during the erase mode is discharged.

その結果出力vpp’の電圧は(Vcc−Vt。〕で平
衡する。
As a result, the voltage of the output vpp' is balanced at (Vcc-Vt.).

以上述べたように、本発明の第1の実施例の回路は、ク
ランプ回路を2個備えているので、メモリーセルの書き
込み特性から知られる適切な書き込み電圧を一方のクラ
ンプ回路のクランプ電圧で設定し、メモリーセルの消去
特性から知られる適切な消去電圧を他方のクランプ回路
のクランプ電圧で設定できる。このため従来例の場合よ
りも、適切な書き込み電圧、消去電圧を設定できる。従
って、書き込み又は消去モード時に、過度の電界ストレ
スをメモリーセルに与える事はない。
As described above, since the circuit of the first embodiment of the present invention includes two clamp circuits, the appropriate write voltage known from the write characteristics of the memory cell is set by the clamp voltage of one clamp circuit. However, an appropriate erase voltage known from the erase characteristics of the memory cell can be set using the clamp voltage of the other clamp circuit. Therefore, more appropriate write voltages and erase voltages can be set than in the conventional example. Therefore, excessive electric field stress is not applied to the memory cell during write or erase mode.

第3図に本発明の第2の実施例を示す。FIG. 3 shows a second embodiment of the invention.

第3図に示す第2の実施例は、第6図に示す従来例の回
路に、ドレインが点Pnに、ゲートが信号Tplに、ソ
ースが点E1に接続されたNE−IGFETMc3 と
、ドレインとゲートが点Elに、ソースが接地に接続さ
れた寄生トランジスタMc4  (Lきい値がVt2(
1))とから構成される第2のクランプ回路CLΔ22
と、ドレインが点Pnに、ゲートが信号Tp2に、ソー
スが点E2に接続されたNE−IGFETMc5 と、
ドレインとゲートが点E2に、ソースが接地に接続され
た寄生トランジスタMC6(しきい値がV T 2 (
2) )とから構成される第3のクランプ回路CLA2
3を付加した書き込み/消去−読み出し電圧切り換え回
路と、ソースが電源CCに、ゲートがクランプ回路を選
択する信号Sに、ドレインが点11に接続されたPE−
IGFETMkllと、ソースが電源CCに、ゲートが
消去モード時に“H”になる信号Tに、ドレインが点I
tに接続されたPE−IGFETMk12と、ドレイン
が点It に、ゲートが信号Sに、ソースが点J1に接
続されたNE−IGFETMk13と、ドレインが点J
l に、ゲートが信号Tに、ソースが接地に接続された
NE−IGFETMk14と、ソースが電源CCに、ゲ
ートが点■1に、ドレインが点に1に接続されたPE−
IGFETMk15と、ドレインが点に1に、ゲ−トが
点■1に、°ソースが接地に接続されたNE−IC,F
ETMk16と、人力が点に1に、出力が点G1に接続
されたレベルシフタ回路LSとから構成される第1のク
ランプ回路選択回路と、ソースが電源CCに、ゲートが
信号Sの反転信号Sに、ドレインが点■2に接続された
PE−IGFETMk21と、ソースが電源CCに、ゲ
ートが信号Tに、ドレインが点I2に接続されたPE−
IGFETMk22と、ドレインが点I2に、ゲートが
信号Sに、ソースが点J2に接続されたNE−ICFE
TMk23と、ドレインが点J2に、ゲートが信号Tに
、ソースが接地に接続されたNE−IGFETMk24
と、ソースが電源CCに、ゲートが点I2に、ドレイン
が点に2に接続されたPE−IGFETMk25と、ド
レインが点に2に、ゲートが点I2に、ソースが接地に
接続されたNE−IGFETMk26と、人力が点に2
に、出力が点G2に接続されたレベルシフタ回路LSと
から構成される第2のクランプ回路選択回路とから構成
される。
The second embodiment shown in FIG. 3 adds an NE-IGFET Mc3 whose drain is connected to point Pn, gate to signal Tpl, and source to point E1 to the conventional circuit shown in FIG. A parasitic transistor Mc4 (L threshold is Vt2 (
1)) A second clamp circuit CLΔ22 consisting of
and NE-IGFET Mc5 whose drain is connected to the point Pn, whose gate is connected to the signal Tp2, and whose source is connected to the point E2,
A parasitic transistor MC6 (threshold value V T 2 (
2) A third clamp circuit CLA2 consisting of
PE-, whose source is connected to the power supply CC, whose gate is connected to the signal S for selecting the clamp circuit, and whose drain is connected to point 11.
IGFETMkll, the source is connected to the power supply CC, the gate is connected to the signal T that becomes “H” in erase mode, and the drain is connected to the point I.
PE-IGFET Mk12 connected to point t, NE-IGFET Mk13 whose drain is connected to point It, gate to signal S, source to point J1, and drain connected to point J.
NE-IGFET Mk14 whose gate is connected to signal T and source to ground, and PE- whose source is connected to power supply CC, gate is connected to point 1, and drain is connected to point 1.
IGFET Mk15, NE-IC, F with the drain connected to point 1, the gate connected to point 1, and the source connected to ground.
A first clamp circuit selection circuit composed of ETMk16, a level shifter circuit LS whose human power is connected to point 1 and whose output is connected to point G1, whose source is connected to the power supply CC and whose gate is connected to the inverted signal S of the signal S. , PE-IGFET Mk21 whose drain is connected to point 2, and PE- whose source is connected to power supply CC, gate is connected to signal T, and drain is connected to point I2.
IGFET Mk22 and NE-ICFE with drain connected to point I2, gate to signal S, and source to point J2
TMk23 and NE-IGFET Mk24 with drain connected to point J2, gate connected to signal T, and source connected to ground.
and PE-IGFET Mk25 whose source is connected to the power supply CC, gate to point I2, and drain to point 2, and NE- whose drain is connected to point 2, gate to point I2, and source to ground. IGFET Mk26 and human power 2
and a second clamp circuit selection circuit comprising a level shifter circuit LS whose output is connected to point G2.

LSで表したレベルシフタ回路は、第1図に示すレベル
シフタ回路LSとまったく同一の回路9成をもつ。
The level shifter circuit denoted by LS has exactly the same circuit configuration as the level shifter circuit LS shown in FIG.

第3図中、第6図に示した従来例と同一のものは、同一
の符号をつけ説明を省略する。
Components in FIG. 3 that are the same as those in the conventional example shown in FIG. 6 are given the same reference numerals and explanations will be omitted.

第4図はまず消去モードになり、第2のクランプ回路C
LA22が選択され、続いて読み出しモードが終了し、
次に再び消去モードになり、今度は第3のクランプ回路
CLA23が選択され、さらに読み出しモードとなる時
の、書き込み/消去−読み出し電圧切り換え回路の出力
Vpρ”の電圧の時間変化と、第1のクランプ回路選択
回路の出力Tp1の電圧の時間変化と、第2のクランプ
回路選択回路の出力Tp2の電圧の時間変化を示したも
のである。
In FIG. 4, the erase mode is first entered, and the second clamp circuit C
LA22 is selected, then the read mode ends,
Next, the erase mode is entered again, this time the third clamp circuit CLA23 is selected, and the read mode is entered. It shows the time change of the voltage of the output Tp1 of the clamp circuit selection circuit and the time change of the voltage of the output Tp2 of the second clamp circuit selection circuit.

NWEは信号NWEの電圧の時間変化を、DISは信号
DISの電圧の時間変化を、Tは信号Tの電圧の時間変
化を、Sは信号Sの電圧の時間変化を、Sは信号Sの電
圧の時間変化を、Tplは第1のクランプ回路選択回路
の出力Tplの電圧の時間変化を、Ta2は第2のクラ
ンプ回路選択回路の出力Tp2の電圧の時間変化をそれ
ぞれ示す。
NWE is the time change in the voltage of the signal NWE, DIS is the time change in the voltage of the signal DIS, T is the time change in the voltage of the signal T, S is the time change in the voltage of the signal S, and S is the voltage of the signal S. , Tpl represents a time change in the voltage of the output Tpl of the first clamp circuit selection circuit, and Ta2 represents a time change in the voltage of the output Tp2 of the second clamp circuit selection circuit.

第3図、第4図を用いて第2の実施例の動作を説明する
The operation of the second embodiment will be explained using FIGS. 3 and 4.

第2のクランプ回路CLA22の寄生トランジスタMc
4の■□、の値V T 2 (1)は、(BVJ −V
t2)以下に設定され、第3のクランプ回路CLA23
の寄生トランジスタMc6のvτ2の値v t 2 (
2)は、■ア。
Parasitic transistor Mc of second clamp circuit CLA22
The value V T 2 (1) of ■□ in 4 is (BVJ −V
t2) and the third clamp circuit CLA23 is set below.
The value of vτ2 of the parasitic transistor Mc6 v t 2 (
2) is ■A.

(1〕よりもさらに小さく設定されているとして話を進
める。例工lf、BVJ =25Vノ時、vtz(1)
ハ20Vに、■1□(2)は18Vに設定される。
We will proceed with the discussion assuming that it is set even smaller than (1).For example, when lf, BVJ = 25V, vtz (1)
C is set to 20V, and ■1□(2) is set to 18V.

1、消去モード時(時間0〜tl) 信号NWEが“L”、信号T力びH”になり、消去モー
ドになると、チャージポンプ回路が動作する。すると書
き込み/消去−読み出し電圧切り換え回路の出力VpI
T’の電圧は[Vcc−VTa3から上昇する。この時
、信号Sが“H”、信号Sが“L“になっているので、
第2のクランプ回路選択回路は非選択になる。また、出
力Tp2は“L″゛になるので第3のクランプ回路CL
A23のNE−IGFETMc5は非導通になる。一方
、第1のクランプ回路選択回路は選択され、出力Tpl
の電圧が、出力vpp’と共に上昇する。すると第2の
クランプ回路CL A22のNE−IGFETMc3は
導通する。点E1の電圧が設定されたクランプ電圧の値
と等しくなると寄生トランジスタMc4が導通する。第
2のクランプ回路CLA22のクランプ電圧は、(BV
J −Vt5)以下になるように設定されているので、
出力Vi)p’の電圧は、第2のクランプ回路CLA2
2のクランプ電圧(Vt2(1))で制限される。結局
、出力Vlll)’の電圧は(4)式で示す値で平衡す
る。
1. During erase mode (time 0 to tl) When the signal NWE becomes "L" and the signal T becomes "H" and the erase mode is entered, the charge pump circuit operates.Then, the output of the write/erase-read voltage switching circuit VpI
The voltage of T' increases from [Vcc-VTa3. At this time, since the signal S is "H" and the signal S is "L",
The second clamp circuit selection circuit becomes non-selected. Also, since the output Tp2 becomes "L", the third clamp circuit CL
NE-IGFET Mc5 of A23 becomes non-conductive. On the other hand, the first clamp circuit selection circuit is selected and the output Tpl
The voltage increases with the output vpp'. Then, NE-IGFET Mc3 of the second clamp circuit CL A22 becomes conductive. When the voltage at point E1 becomes equal to the set clamp voltage value, parasitic transistor Mc4 becomes conductive. The clamp voltage of the second clamp circuit CLA22 is (BV
Since it is set to be less than J -Vt5),
The voltage of the output Vi)p' is the voltage of the second clamp circuit CLA2.
2 clamp voltage (Vt2(1)). Eventually, the voltage of the output Vllll)' is balanced at the value shown by equation (4).

Vpl)’ −Vt2(1)+ VTN−vpp (V
t2(1)) ’ (4)この時、NE−IGFETM
c3 、Mc5のドレインの耐圧は、第1のクランプ回
路のジャンクション耐圧より高く設定されている事はも
ちろんである。
Vpl)' -Vt2(1)+VTN-vpp (V
t2(1)) ' (4) At this time, NE-IGFETM
It goes without saying that the drain breakdown voltages of c3 and Mc5 are set higher than the junction breakdown voltage of the first clamp circuit.

2、読み出しモード時(時間し1〜t2〜t3 )消去
モードが終了すると信号NWEは“H”になり、チャー
ジポンプ回路は非動作になる。そこで信号DISには一
定期間゛″H”になるパルスが印加されるので、消去モ
ード時に出力VISIT’に付加される容量に充電され
た電荷は放電される。結局出力Vl)I)″の電圧はr
 ■(c−Vto〕で平衡する。
2. In the read mode (time 1 to t2 to t3) When the erase mode ends, the signal NWE becomes "H" and the charge pump circuit becomes inactive. Therefore, a pulse that becomes "H" for a certain period of time is applied to the signal DIS, so that the charge stored in the capacitor added to the output VISIT' during the erase mode is discharged. In the end, the voltage of the output Vl)I)″ is r
(2) Equilibrate at (c-Vto).

又、時刻t1で今度は信号Sが“L″、信号Sが“H″
になるので第1のクランプ回路選択回路は非選択になる
。従って出力Tplの電圧は“L”になり、第2のクラ
ンプ回路選択回路が選択される。結局出力Tp2の電圧
は(VCC−VTOIで平衡する。
Also, at time t1, the signal S is “L” and the signal S is “H”.
Therefore, the first clamp circuit selection circuit becomes non-selected. Therefore, the voltage of the output Tpl becomes "L", and the second clamp circuit selection circuit is selected. Eventually, the voltage of the output Tp2 is balanced at (VCC-VTOI).

3、消去モード時(時間t3〜t4 )信号NWEが′
L”、信号T力じH”になり、消去モードになると、チ
ャージポンプ回路が再び動作する。すると書き込み/消
去−読み出し電圧切り換え回路の出力Vlll]”の電
圧は、(Vcc−Vto〕から上昇する。この時、信号
Sが“L”、信号Sが“H”になっているので、第1の
クランプ回路選択回路は非選択になる。また、出力Tp
lは“L”になるので、第2のクランプ回路CLA22
のNE−IGFETMC3は非導通になる。一方、第2
のクランプ回路選択回路は選択され、出力Tp2の電圧
は出力vpp’と共に上昇し、第3のクランプ回路CL
A23のNE−IGFETMc5は導通する。点E2の
電圧が、設定されたクランプ電圧の値と等しくなると寄
生トランジスタMc6は導通する。第3のクランプ回路
CLA23のクランプ電圧は、[BVJ  VTNI以
下になるように設定されているので、出力vpp’の電
圧は、第3のクランプ回路CL A23のクランプ電圧
(v↑2 (2) )で制限される事になる。結局出力
vpp’の電圧は(5)式で示す値で平衡する。
3. In erase mode (time t3 to t4) signal NWE is '
When the signal T becomes "L" and the signal becomes "H", and the erase mode is entered, the charge pump circuit operates again. Then, the voltage of the output Vlll] of the write/erase-read voltage switching circuit rises from (Vcc-Vto). At this time, since the signal S is "L" and the signal S is "H", The clamp circuit selection circuit No. 1 becomes unselected. Also, the output Tp
Since l becomes "L", the second clamp circuit CLA22
NE-IGFET MC3 becomes non-conductive. On the other hand, the second
The third clamp circuit selection circuit is selected, and the voltage of the output Tp2 rises with the output vpp', and the third clamp circuit CL
NE-IGFET Mc5 of A23 is conductive. When the voltage at point E2 becomes equal to the set clamp voltage value, parasitic transistor Mc6 becomes conductive. The clamp voltage of the third clamp circuit CLA23 is set to be less than or equal to [BVJ VTNI, so the voltage of the output vpp' is the clamp voltage of the third clamp circuit CLA23 (v↑2 (2)) It will be restricted. Eventually, the voltage of the output vpp' is balanced at the value shown by equation (5).

Vpp’ = Vt□(2)+ V7v= vpp (
VT2(2)) ・・(5)4、読み出しモード時(時
間t4〜t5 )消去モードが終了すると、信号NWE
は“H”になり、チャージポンプ回路は再び非動作にな
る。
Vpp' = Vt□ (2) + V7v = vpp (
VT2 (2)) ... (5) 4. In the read mode (time t4 to t5) When the erase mode ends, the signal NWE
becomes "H", and the charge pump circuit becomes inactive again.

このとき信号DISには一定期間“H”になるパルスが
印加されるので、消去モード時に出力Vl)11’に付
加された容量に充電された電荷は放電される。
At this time, a pulse that becomes "H" for a certain period of time is applied to the signal DIS, so that the charge charged in the capacitor added to the output Vl)11' during the erase mode is discharged.

その結果出力Vllfl”の電圧は(Vcc−Vto)
で平衡する。又、時刻t4で今度は信号Sが“H”、信
号Sが“L″になるので第1のクランプ回路選択回路が
選択される。従って出力Tplの電圧はCVcc−VT
O)で平衡する。この場合第2のクランプ回路選択回路
は非選択になり、出力Tp2の電圧は“L′″になる。
As a result, the voltage of the output Vllfl” is (Vcc-Vto)
Equilibrium at . Further, at time t4, the signal S becomes "H" and the signal S becomes "L", so that the first clamp circuit selection circuit is selected. Therefore, the voltage of output Tpl is CVcc-VT
Equilibrate at O). In this case, the second clamp circuit selection circuit becomes non-selected, and the voltage of the output Tp2 becomes "L'".

第5図は、第3図に示した第2の実施例の回路を用いた
場合の消去モード時に信号Sを“H”、信号SをL”に
し、第2のクランプ回路CLA22を選択し、書き込み
/消去−読み出し電圧切り換え回路の出力vpp”をv
pp (VT2(1)) )にした場合の、消去時間に
対する消去したメモリーセル ゛のしきい値■、。(E
)の変化(曲線P)と、信号Sを“L”、信号Sを“H
”にし、第3のクランプ回路CLA23を選択し、青き
込み/消去−読み出し電圧切り換え回路の出力Vl)I
)’をvpp (VT2(2)) )にした場合の消去
時間に対する消去したメモリーセルのしきい値■Th(
E)の変化(曲線Q)を示したものである。
FIG. 5 shows that in the erase mode when the circuit of the second embodiment shown in FIG. 3 is used, the signal S is set to "H" and the signal S is set to L, and the second clamp circuit CLA22 is selected. The output vpp” of the write/erase-read voltage switching circuit is
pp (VT2(1))), the threshold value of the erased memory cell ゛ with respect to the erase time. (E
) (curve P), signal S is “L”, signal S is “H”
”, select the third clamp circuit CLA23, and set the output of the blue fill/erase-read voltage switching circuit Vl)I
)' is set to vpp (VT2(2)) ), the threshold value of the erased memory cell against the erase time ■Th(
It shows the change in E) (curve Q).

本実施例の場合、第5図を用いて、消去電圧が変化した
時のメモリーセルの消去スピード特性を評価する事がで
きる。これを用いてさらにクランプ回路のクランプ電圧
を決定する事ができる。
In the case of this example, the erase speed characteristics of the memory cell when the erase voltage changes can be evaluated using FIG. This can be used to further determine the clamp voltage of the clamp circuit.

以上述べたように、本発明の第2の実施例は、消去モー
ド時、消去電圧として2種類の値を取ることができるの
で、外部端子から直接に消去電圧を印加する事なしに、
消去電圧を変化させた時のメモリーセルの消去スピード
特性を評価する事ができる。このため従来例の場合より
も、チップ内部の論理回路が簡単になる利点がある。
As described above, in the second embodiment of the present invention, in the erase mode, the erase voltage can take two types of values, so the erase voltage can be applied without directly applying the erase voltage from the external terminal.
It is possible to evaluate the erase speed characteristics of memory cells when changing the erase voltage. Therefore, there is an advantage that the logic circuit inside the chip is simpler than in the case of the conventional example.

発明の効果 以上述べたように、本発明の書き込み/消去−読み出し
電圧切り換え回路は、書き込み/消去モード時の出力電
圧をクランプするクランプ回路回路を複数個備えている
ので、以下のような利点がある。
Effects of the Invention As described above, the write/erase-read voltage switching circuit of the present invention includes a plurality of clamp circuits that clamp the output voltage in the write/erase mode, so it has the following advantages. be.

1、メモリーセルの書き込み特性から最適な書き込み電
圧を設定するとともに、メモリーセルの消去特性から最
適な消去電圧を設定できるので、メモリーセルに過度の
電界ストレスをかけることなく、従来例よりも適切な書
き込み電圧/消去電圧を設定することができる。
1. The optimal write voltage can be set based on the write characteristics of the memory cell, and the optimal erase voltage can also be set based on the erase characteristics of the memory cell. Write voltage/erase voltage can be set.

、  2.外部端子から直接に書き込み電圧/消去電圧
を印加する事なしに、書き込み電圧/消去電圧を変化さ
せた時のメモリーセルの書き込みスピード特性/消去ス
ピード特性を評価する事ができるので、チップ内部の論
理回路が簡単になる。
, 2. It is possible to evaluate the write speed characteristics/erase speed characteristics of a memory cell when changing the write voltage/erase voltage without applying the write voltage/erase voltage directly from an external terminal. The circuit becomes simpler.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の第1の実施例を示した回路図であり、 第2図は第1図の実施例の回路を用いた場合に書き込み
モードから消去モードに変化した時の、レベルシフタ回
路の出力Tpの電圧の時間変化、及び書き込み/消去−
読み出し電圧切り換え回路の出力Vlll)’の電圧の
時間変化を示したものであり、 第3図は本発明の第2の実施例を示した回路図てあり、 第4図は第2の実施例の回路を用いた場合の消去モード
時に、第2のクランプ回路CLA22を選択した場合と
、第3のクランプ回路CLA23を選択した場合の出力
Tpl、Tp2の電圧の時間変化、書き込み/消去−読
み出し電圧切り換え回路の出力Vl)I)’の電圧の時
間変化を示したものであり、 第5図は、第3図の回路を用いた場合に消去時間が変化
した時の、消去されたメモリーセルのしきい値の変化を
測定した例であり、 第6図は従来例の書き込み/消去−読み出し電圧切り換
え回路を示したものであり、 第7図は従来例を用いた場合に書き込みモードから読み
出しモードに変化した時の、書き込み/消去−読み出し
電圧切り換え回路の出力vpp’の電圧の時間変化を示
したものである。 (主な参照番号) Ml 、M2 、(Mpl 、・Cpl)、(M p2
 、Cp2)、(Mp3 、’  Cp3  ) 、・
・・・(Mpn、Cpn)・・書き込み/消去モード時
に 動作するチャージポンプ回路、 CLAII・・書き込み/消去モード時出力vpp”の
電圧をクランプするジャンクシ ョン耐圧を用いンブ回路、 CLA12・・出力vpp’の電圧をクランプするクラ
ンプ回路、 LS・・レベルシフタ回路、 CL A22、CL A23・・ ・・書き込み/消去モード時に出力VPP’の電圧をク
ランプするクランプ回路、 CLA 1・・ジャンクション耐圧を用いたクランプ回
路 特許出願人   日本電気株式会社  −第1図 CLA12 区 りつ 呼 qコ 第7図
FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a level shifter circuit when changing from write mode to erase mode when the circuit of the embodiment of FIG. 1 is used. Time change of voltage of output Tp and write/erase -
3 is a circuit diagram showing the second embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a circuit diagram showing the second embodiment of the present invention. Temporal changes in the voltages of output Tpl and Tp2, write/erase-read voltage when the second clamp circuit CLA22 is selected and when the third clamp circuit CLA23 is selected in the erase mode using the circuit shown in FIG. It shows the change over time in the voltage of the output Vl)I)' of the switching circuit, and Fig. 5 shows the change in the erased memory cell when the erasing time changes when the circuit shown in Fig. 3 is used. This is an example of measuring the change in threshold value. Figure 6 shows a conventional write/erase-read voltage switching circuit, and Figure 7 shows the change from write mode to read mode when using the conventional example. This figure shows the time change in the voltage of the output vpp' of the write/erase-read voltage switching circuit when the voltage changes. (Main reference numbers) Ml, M2, (Mpl, ・Cpl), (M p2
, Cp2), (Mp3,'Cp3),・
...(Mpn, Cpn)...Charge pump circuit that operates in write/erase mode, CLAII...A charge pump circuit that uses a junction breakdown voltage to clamp the voltage of output vpp' in write/erase mode, CLA12...Output vpp' LS... Level shifter circuit, CL A22, CL A23... Clamp circuit that clamps the voltage of output VPP' in write/erase mode, CLA 1... Clamp circuit using junction breakdown voltage. Patent Applicant NEC Corporation - Figure 1 CLA12 Ward Call q Figure 7

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  電源電圧から高電圧に昇圧する昇圧回路と、該昇圧回
路の出力をクランプする1個のクランプ回路とを備える
、書き込み/消去−読み出し電圧切り換え回路において
、該書き込み/消去−読み出し電圧切り換え回路は、さ
らに1個以上のクランプ回路と、複数個になったクラン
プ回路のうちの1個を選択する選択回路とを有する事を
特徴とする半導体装置。
In the write/erase-read voltage switching circuit, the write/erase-read voltage switching circuit includes a booster circuit that boosts the power supply voltage to a high voltage, and one clamp circuit that clamps the output of the booster circuit. A semiconductor device further comprising one or more clamp circuits and a selection circuit for selecting one of the plurality of clamp circuits.
JP61163004A 1986-07-10 1986-07-10 Semiconductor device Pending JPS6318594A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2687517A1 (en) * 1992-02-14 1993-08-20 Samsung Electronics Co Ltd Overvoltage/hold circuit and output buffer circuit using the latter
JP2002208290A (en) * 2001-01-09 2002-07-26 Mitsubishi Electric Corp Charge pump circuit and operating method for non- volatile memory using it

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6124094A (en) * 1984-07-11 1986-02-01 Hitachi Micro Comput Eng Ltd Memory device for semiconductor

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6124094A (en) * 1984-07-11 1986-02-01 Hitachi Micro Comput Eng Ltd Memory device for semiconductor

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2687517A1 (en) * 1992-02-14 1993-08-20 Samsung Electronics Co Ltd Overvoltage/hold circuit and output buffer circuit using the latter
JP2002208290A (en) * 2001-01-09 2002-07-26 Mitsubishi Electric Corp Charge pump circuit and operating method for non- volatile memory using it

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