JPS63170377A - Highly stereo-selective production of (1r,5r,6s)-2-oxo-6-((1 r)-1-hydroxyethyl)-1-methylcarbapenam-3-carboxylic acid derivative - Google Patents

Highly stereo-selective production of (1r,5r,6s)-2-oxo-6-((1 r)-1-hydroxyethyl)-1-methylcarbapenam-3-carboxylic acid derivative

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JPS63170377A
JPS63170377A JP61315444A JP31544486A JPS63170377A JP S63170377 A JPS63170377 A JP S63170377A JP 61315444 A JP61315444 A JP 61315444A JP 31544486 A JP31544486 A JP 31544486A JP S63170377 A JPS63170377 A JP S63170377A
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Abstract

PURPOSE:To obtain the titled compound in high stereoselectivity, by reacting an azetidinone compound having a steric configuration corresponding to the objective compound with 3-acylthiazolyl-2-thione, thereby stereoselectively fixing the 4-position of the azetidinone skeleton. CONSTITUTION:The objective compound of formula VII (R<1> is H or R<4>) useful as an intermediate for carbapenem antibiotic substances can be stereoselectively produced by (1) reacting a compound of formula I (R<2> is H, lower alkyl, aryl or aralkyl) with tin (II) triflate in the presence of a base, (2) successively reacting with a compound of formula II (R<3> is H or protective group; L is lower alkanoyloxy, lower alkylsulfonyl or arysulfonyl) to obtain a compound of formula III, (3) reacting the compound with a compound of formula IV (R<4> is protective group) in the presence of imidazole, (4) removing the group R<3> from the reaction product, (5) treating the resultant compound of formula V with an azide compound in the presence of a base, (6) cyclizing the obtained compound of formula VI in the presence of a metal catalyst and, if necessary, (7) removing the group R<4> from the reaction product.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、1−置換−2−オキソカルバベナム−3=力
、ルポン酸誘導体の製造法に関し、ざらに詳しくは、カ
ルバペネム系抗生物質の重要な合成中間体である次式1 式中、R1は水素原子またはカルボキシ保護基を表わす
、 で示される立体配置を有する(IR,5R,8S)−2
−オキソ−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル】−
1−メチルカルバペナム−3−カルボン酸誘導体の立体
配置が高選択的にコントロールされた製造方法に関する
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing 1-substituted-2-oxocarbabenam-3=luponic acid derivatives, and more specifically, it is an important synthetic intermediate for carbapenem antibiotics. (IR, 5R, 8S)-2 having the configuration shown in the following formula 1, where R1 represents a hydrogen atom or a carboxy protecting group
-oxo-6-[(IR)-1-hydroxyethyl]-
The present invention relates to a production method in which the configuration of a 1-methylcarbapenam-3-carboxylic acid derivative is controlled with high selectivity.

これまでに、種々の抗菌活性を目的として数多くのカル
バペネム化合物質が提案されてきており、例えば、イミ
ペネムに代表されるチコナマイシン系のカルバペネム化
合物には優れた抗菌作用があることが認められ、実際の
医薬品として1市されつつある化合物も散見される。
To date, many carbapenem compounds have been proposed for the purpose of various antibacterial activities. For example, ticonamycin-based carbapenem compounds, represented by imipenem, have been recognized to have excellent antibacterial effects, and there are no actual There are also compounds that are becoming popular as pharmaceuticals.

しかしながら、これら開発途上にあるカルバペネム系抗
生物質にあっては、生体内に投与された場合、腎デヒド
ロペプチダーゼによる分解不活性化に対する抵抗性が弱
く、そのため効果の優れたイミペネムに関する実際の製
品は、腎デヒドロペプチダーゼ(以下、DHPと略記す
る)阻害剤であるシラスフチンを配合したものとなって
いるというのが現状である。
However, these carbapenem antibiotics that are under development have low resistance to decomposition and inactivation by renal dehydropeptidase when administered in vivo, and therefore, actual products related to imipenem, which are highly effective, are The current situation is that it contains cirasufutin, which is a renal dehydropeptidase (hereinafter abbreviated as DHP) inhibitor.

最近に至り、DHPに対する抵抗性を改善したカルバペ
ネム系抗生物質として、カルバペネム骨格の1位にアル
キル基、例えばメチル基を導入した化合物が種々提案さ
れている。このカルバペネム系抗生物質は基本的には次
式■ 式中、Raは有機化合物残基を示す、 で示される構造を有するものであって、これら化合物は
下記反応式A 反応式A (IXJ ’         (X1式中、Rbはエ
ステル残基を表わす、 で示される方法により製造されている。
Recently, various compounds have been proposed as carbapenem antibiotics with improved resistance to DHP, in which an alkyl group, such as a methyl group, is introduced at the 1-position of the carbapenem skeleton. This carbapenem antibiotic basically has a structure represented by the following formula (1), where Ra represents an organic compound residue, and these compounds are represented by the following reaction formula A (IXJ' ( In the formula X1, Rb represents an ester residue, and is produced by the method shown below.

したがって式■で示される化合物はこの一連のカルへペ
ネム系抗生物賀■の重要な出発化合物となるものである
が、従来この化合物の立体選択的な製造方法はあまり詳
細には検討されていない。
Therefore, the compound represented by the formula ■ is an important starting compound for this series of carhepenem antibiotics, but the stereoselective production method for this compound has not been studied in detail. .

ところで従来の式■で示される化合物の初期の製造は、
例えば下記反応式Bに示すルートで行なわれている。
By the way, the initial production of the conventional compound represented by formula ■ was as follows:
For example, it is carried out by the route shown in Reaction Formula B below.

反応式B (tXl 式中、Rbはエステル残基を表わし、RCは水酸基の保
護基を表わす。
Reaction formula B (tXl In the formula, Rb represents an ester residue, and RC represents a hydroxyl group protecting group.

すなわち、式XIで示されるアゼチジノンカルボン酸を
出発原料として、その3位置換基の水酸基を保護し、式
X IIで示される化合物となし、ついで4位の酢酸エ
ステル基のα−炭素をメチル化し、式X■で示される化
合物を得、加水分解後増炭反応に付して式Xvで示され
る化合物となしたのち、目的とする式■で示される化合
物を得るものである。
That is, starting from azetidinonecarboxylic acid represented by formula XI, the hydroxyl group at the 3-position is protected to form a compound represented by formula The compound represented by the formula

上記反応式で示される製造法にあっては、特に式XHの
化合物へのメチル基の導入に際して必然的にメチル基の
配位がα−2β−混合物となり、したがって立体選択的
な合成法とはいえず、そのため薬理効果が優れたもので
あるとされているβ−配位化合物の収率は良くないとい
う欠点を有している。そのうえ、原料となる式XIで示
されるアゼチジノンカルボン酸に関しても、所望の立体
配置を有する化合物を得るためには複雑な工程を要し、
しかも全合成工程での立体配置のコントロールもかなり
困難であるというのが現状である。
In the production method shown by the above reaction formula, especially when introducing a methyl group into the compound of formula XH, the coordination of the methyl group inevitably becomes an α-2β-mixture. Therefore, it has the disadvantage that the yield of β-coordination compounds, which are said to have excellent pharmacological effects, is not good. Furthermore, regarding the azetidinone carboxylic acid represented by formula
Furthermore, the current situation is that it is quite difficult to control the steric configuration during the total synthesis process.

そこで本発明者らは、前記式■で示される化合物のなか
で特に好ましい配置を有するものであるとされる前記式
1で示される化合物の高選択的製造法を開発すべく検討
を行ない、その結果本発明を完成した。
Therefore, the present inventors conducted studies to develop a highly selective production method for the compound represented by the above formula 1, which is said to have a particularly preferable configuration among the compounds represented by the above formula (1). As a result, the present invention was completed.

しかして、本発明によれば、次式1 式中、R1は水素原子またはカルボキシ保護基上表わす
、 で示される立体配置を有する(IR,5R,EiS)−
2−オキソ−6−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]
−1−メチルカルパ〆ナムー3−カルボン酸誘導体を製
造する方法であって、該方法は下記の工程: (a)次式TI 式中、R2は水素原子、低級アルキル基、アリール基ま
たはアルアルキル基を表わす、で示される3−アシル−
1,3−チアゾリジン−2−チオン化合物を塩基の存在
下にスズ(■)トリフレートと反応させ、続いて次式m 式中、R3は水酸基の保護基を表わし、しは低級アルカ
ノイルオキシ基、低級アルキルスルホニル基またはアリ
ールスルホニル基を表わす、 で示されるアゼチジノン化合物と反応させ、次式る、 で示される化合物を得: (b)得られる弐■で示される化合物を、イミダゾール
の存在下に、次式 %式%) 式中、R4はカルボキシ保護基を表わす、で示されるマ
グネシウムマロネート化合物と反応させ、次式V 式中、R3およびR4は前記定義のとおりである、 で示される化合物を得: (C)得られる式Vで示される化合物を、保護基R3の
脱離反応に付し、次式■ 式中、R4は前記定義のとおりである、で示される化合
物を得: (d)次いで得られる式■で示される化合物を、塩基の
存在下にアジド化合物で処理し、次式■式中、R4は前
記定義のとおりである、で示されるジアゾ化合物を得: (e)得られる式■で示されるジアゾ化合物に対して、
金属触媒の存在下に環化反応を行い、所望によりカルボ
キシ保護基R4を除去することからなり、これにより式
1で示される立体配置を有する化合物を高選択的コント
ロールされた状態で製造することができる。
Therefore, according to the present invention, it has a configuration represented by the following formula 1, in which R1 is a hydrogen atom or a carboxy protecting group (IR,5R,EiS)-
2-oxo-6-[(IR)-1-hydroxyethyl]
- A method for producing a 1-methylcarpamine 3-carboxylic acid derivative, the method comprising the following steps: (a) The following formula TI In the formula, R2 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, an aryl group or an aralkyl group. 3-acyl- represented by
A 1,3-thiazolidine-2-thione compound is reacted with tin (■) triflate in the presence of a base, followed by the following formula m. Reacting with an azetidinone compound represented by the following formula representing a lower alkylsulfonyl group or an arylsulfonyl group to obtain a compound represented by the following formula: (b) The obtained compound represented by 2 is treated in the presence of imidazole, A compound represented by the following formula V, in which R3 and R4 are as defined above, is reacted with a magnesium malonate compound represented by the following formula (% formula %), in which R4 represents a carboxy protecting group. Obtained: (C) The resulting compound represented by formula V was subjected to an elimination reaction of the protecting group R3 to obtain a compound represented by the following formula (1) where R4 is as defined above: (d ) The resulting compound represented by the formula (1) is then treated with an azide compound in the presence of a base to obtain a diazo compound represented by the following formula (1), in which R4 is as defined above: (e) obtained For the diazo compound represented by the formula ■,
It consists of carrying out a cyclization reaction in the presence of a metal catalyst and optionally removing the carboxy protecting group R4, thereby making it possible to produce a compound having the configuration represented by Formula 1 in a highly selective and controlled manner. can.

本発明はまた、特に式■で示される(3S、4R)−3
−[(IR)−1−ヒドロキシエチル]−4−[(IR
)−1−メチル−3−力ルポキシ−2−オ牛ソプロビル
]−アゼチジン−2−オン誘導体、ならびにその高選択
的に立体配置がコントロールされた製造法にも関し、該
方法は、前記工程(a)、 (b)および(C)からな
るものである。
The present invention also particularly relates to (3S,4R)-3 of the formula
-[(IR)-1-hydroxyethyl]-4-[(IR
)-1-Methyl-3-poxy-2-oxyprovir]-azetidin-2-one derivative, and a method for producing the same with highly selective configuration control, the method comprising the step ( It consists of a), (b) and (C).

未発明の特徴は、出発化合物として式ゴで示される化合
物にすでに望ましい立体配置が保持されたものを選択し
、その化合物に式IIで示される3−アシルチアゾリジ
ン−2−千オンを反応させることによりアゼチジノン骨
格の4位を立体選択的に固定された式■で示される化合
物となし、このものから−気に重要な中間体である式■
で示される化合物を経由し、目的とする式1で示される
化合物(IJ5R,BS)−2−オキソ−13−[(I
R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチルカルバペナ
ム−3−カルボン酸誘導体へ誘導する点にある。
The uninvented feature is to select as a starting compound a compound represented by formula G that already retains the desired configuration, and to react that compound with 3-acylthiazolidine-2-1,000 ion represented by formula II. The 4th position of the azetidinone skeleton is fixed stereoselectively to create a compound represented by the formula ■, and from this compound - an important intermediate of the formula ■
The desired compound (IJ5R,BS)-2-oxo-13-[(I
R)-1-hydroxyethyl]-1-methylcarbapenam-3-carboxylic acid derivative.

これら特定の立体配置を保持したままでのカルバペネム
系化合物の製造方法は従来なんら検討されておらず、し
たがって本発明は式1で表わされる化合物の新規な高立
体選択的な製造方法を提供するものである。
A method for producing carbapenem compounds while retaining these specific configurations has not been studied in the past. Therefore, the present invention provides a novel highly stereoselective method for producing the compound represented by formula 1. It is.

本明細書において、「低級」なる語は、この語が付され
た基又は化合物の炭素原子数か1〜7個、好ましくは1
〜4個であることを意味する。
As used herein, the term "lower" refers to 1 to 7 carbon atoms, preferably 1 to 7 carbon atoms, preferably 1
~4 pieces.

「低級アルキル基」は直鎖状又は分岐鎖状のいずれであ
ってもよく、好ましくは1〜6個の炭素原子を有するこ
とができ、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピル、n−ブチル、イソブチル、5ec−ブチル、
tert−ブチル、n−ペンチル、インペンチル、n−
ヘキシル、インへ一キシル基等が包含される。
The "lower alkyl group" may be linear or branched and preferably have 1 to 6 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl , isobutyl, 5ec-butyl,
tert-butyl, n-pentyl, inpentyl, n-
Included are hexyl, monoxyl groups, and the like.

「カルボキシル保護基]としては、例えばエスチル残基
を例示することができ、かかるエステル残基としてはメ
チル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−1i
so−1sec−1tert−ブチル、n−ヘキシルエ
ステル等の低級アルキルエステル残基;ベンジル、p−
ニトロベンジル、0−ニトロベンジル、P−メトキシベ
ンジル等のアラアルキルエステル残基;アセトキシメチ
ル、プロピオニルオキシメチル、n−1iso−、ブチ
リルオキシメチル、ピバロイルオキシメチル等の低級脂
肪族アシルオキシメチル残基等が挙げられる。
Examples of the "carboxyl protecting group" include ester residues, such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-1i
Lower alkyl ester residues such as so-1sec-1tert-butyl, n-hexyl ester; benzyl, p-
Aralkyl ester residues such as nitrobenzyl, 0-nitrobenzyl, P-methoxybenzyl; lower aliphatic acyloxymethyl residues such as acetoxymethyl, propionyloxymethyl, n-1iso-, butyryloxymethyl, pivaloyloxymethyl, etc. Examples include groups.

「アリール基」は単環式又は多環式のいずれであっても
よく、さらに環上に1個もしくはそれ以上の低級アルキ
ル基を有してもよく、例えば、フェニル、トリル、キシ
リル、α−ナフチル、β−ナフチル、ビフェニリル基等
が包含される。
The "aryl group" may be monocyclic or polycyclic, and may further have one or more lower alkyl groups on the ring, such as phenyl, tolyl, xylyl, α- Included are naphthyl, β-naphthyl, biphenylyl groups, and the like.

「アラルキル基」はアルキル基が上記低級アルキル基で
あり且つアリール基が上記の意味を有するアリール置換
アルキル基であり、具体的には、ベンジル、フェネチル
、α−メチルベンジル、フェニルプロピル、ナフチルメ
チル基等を例示することができる。
"Aralkyl group" is an aryl-substituted alkyl group in which the alkyl group is the above-mentioned lower alkyl group and the aryl group has the above meaning, and specifically, it includes benzyl, phenethyl, α-methylbenzyl, phenylpropyl, and naphthylmethyl groups. etc. can be exemplified.

さらに「水酸基の保護基」としては、例えばトリメチル
シリル、トリエチルシリル、tert−ブチルジメチル
シリル、ジフェニル−tert−ブチルシリル等のシリ
ル基;ベンジルオキシカルボニル基;p−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、0−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル等のと換ベンジルオキシカルボニル基;その他通常
使用される水酸基の保護基が挙げられる。
Furthermore, examples of "hydroxyl protecting groups" include silyl groups such as trimethylsilyl, triethylsilyl, tert-butyldimethylsilyl, diphenyl-tert-butylsilyl; benzyloxycarbonyl group; p-nitrobenzyloxycarbonyl, 0-nitrobenzyloxycarbonyl and other commonly used hydroxyl group-protecting groups.

また、 「低級アルカノイルオキシ基」は低級アルキル
部分が前記の意味を有する低級アルキル■ −C−O−基であり、例えば、アセトキシ、プロピオニ
ルオキシ、ブチリルオキシ基等が挙げられ、「アリール
スルホニル基」はアリール部分が前記の意味を有するア
リール−5O2−基であり、例えば、ベンゼンスルホニ
ル、トリルスルホニル、ナフチルスルホニル基等が包含
され、「低級アルキルスルホニル基」は低級アルキル部
分が前記の意味を有する低級アルキル−5O2−基であ
り、具体的にはメタンスルホニル、エタンスルホニル、
プロパンスルホニル基等が例示される。
In addition, a "lower alkanoyloxy group" is a lower alkyl -C-O- group in which the lower alkyl moiety has the above meaning, examples include acetoxy, propionyloxy, butyryloxy groups, etc., and an "arylsulfonyl group" An aryl-5O2- group in which the aryl moiety has the above meaning, and includes, for example, benzenesulfonyl, tolylsulfonyl, naphthylsulfonyl groups, etc., and a "lower alkylsulfonyl group" refers to a lower alkyl group in which the lower alkyl moiety has the above meaning. -5O2- group, specifically methanesulfonyl, ethanesulfonyl,
Examples include propanesulfonyl groups.

次に本発明の高立体選択的製造方法を各工程を説明する
ことにより更に詳しく説明する。
Next, the highly stereoselective production method of the present invention will be explained in more detail by explaining each step.

工程(a)は、式■のN−アシル−1,3−チアゾリジ
ン−2−千オン誘導体を、塩基の存在下にスズ(II)
4リフレートと反応させて二ル−トを生成させ、次いで
これに式■の化合物を反応させて、弐■のアゼチジン−
2−オン誘導体を製造することからなる− 上記の式■のN−アシル−1,3−チアゾリジン−2−
チオン誘導体のスズ(II))リフレートによるエノー
ル化反応は、通常反応に不活性な溶媒中、例えば、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類;ト
ルエン、キシレン、シクロヘキサン等の炭化水素類;ジ
クロルメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類
など、特にテトラヒドロフラン中で好適に実施すること
ができる。
In step (a), an N-acyl-1,3-thiazolidine-2-thousone derivative of formula (1) is treated with tin(II) in the presence of a base.
4 to form a two-route, which is then reacted with a compound of formula (2) to form azetidine-2 (2).
- N-acyl-1,3-thiazolidine-2- of formula (1) above -
The enolization reaction using tin (II) reflate of thione derivatives is usually carried out in a solvent inert to the reaction, such as ethers such as diethyl ether and tetrahydrofuran; hydrocarbons such as toluene, xylene, and cyclohexane; dichloromethane, chloroform, etc. The reaction can be suitably carried out in halogenated hydrocarbons, particularly in tetrahydrofuran.

反応温度は厳密に制限されるものではなく、使用する出
発原料等に応じて広範に変えることができるが、一般に
は約−100°Cないしほぼ室温程度、好ましくは約−
78℃〜約0℃の比較的低温が使用される。
The reaction temperature is not strictly limited and can be varied widely depending on the starting materials used, but is generally about -100°C to about room temperature, preferably about -100°C.
Relatively low temperatures of 78°C to about 0°C are used.

式IIの化合物に対するスズ(II))リフレートの使
用量は臨界的なものではないが、通常、式IIの化合物
1モルに対するスズ(■)トリフレートは約1〜約2モ
ル、好ましくは1〜1.5モルの割合で使用することが
できる。
The amount of tin(II) triflate used relative to the compound of formula II is not critical, but typically about 1 to about 2 moles of tin(■) triflate, preferably 1 to about 2 moles, per mole of the compound of formula II. It can be used in a proportion of 1.5 moles.

上記エノール化反応は塩基の条件下に実施され、使用し
うる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2,
2,21オクタン、N−メチルモルホリン、N−エチル
ピペリジン、ピリジン等の第三級アミン等が挙げられ、
中でもN−エチルピペリジンが有利に用いられる。これ
らの塩基は一般に式IIの化合物1モル当り約1.0〜
約3当量、好ましくは1,0〜2.0当量の割合で使用
することができる。
The above enolization reaction is carried out under basic conditions, and examples of bases that can be used include triethylamine, diisopropylethylamine, 1,4-diazabicyclo[2,
Examples include tertiary amines such as 2,21 octane, N-methylmorpholine, N-ethylpiperidine, and pyridine.
Among them, N-ethylpiperidine is advantageously used. These bases generally range from about 1.0 to 1.0 per mole of compound of formula II.
It can be used in a proportion of about 3 equivalents, preferably 1.0 to 2.0 equivalents.

上記エノール化反応は一般に約5分〜約4時間で終らせ
ることができ、これによってエルレートが得られる。
The enolization reaction can generally be completed in about 5 minutes to about 4 hours, thereby yielding erulate.

このエノール化反応に引続いてそのまま、生成するエル
レートに前記式mの化合物を反応せしめることができる
Following this enolization reaction, the resulting erulate can be directly reacted with the compound of the formula m.

前記エルレートと式■の化合物との間のアルキル化反応
は一般に、約−100℃ないしほぼ室温、好ましくは約
−78℃〜約lO℃の温度において実施することができ
る。その際の式■の化合物の使用量は臨界的ではなく適
宜変更することができるが、通常、前記エノール化反応
に用いた式IIの化合物1モル当り約0,5〜約5モル
、好ましくは0゜5〜2モルの割合で用いるのが適当で
ある。
The alkylation reaction between the erulate and the compound of formula (1) can generally be carried out at a temperature of from about -100°C to about room temperature, preferably from about -78°C to about 10°C. The amount of the compound of formula (II) to be used in this case is not critical and can be changed as appropriate, but is usually about 0.5 to about 5 mol, preferably about 5 mol per mol of the compound of formula II used in the enolization reaction. It is appropriate to use it in a proportion of 0.5 to 2 moles.

かかる条件下に反応は一般に約5分〜約5時間、より一
般には5分〜約2時間程度で終了させることができる。
Under such conditions, the reaction can generally be completed in about 5 minutes to about 5 hours, more generally about 5 minutes to about 2 hours.

前述のエノール化反応及び上記アルキル化反応は、必須
ではないが、不活性雰囲気下、例えば窒素ガス、アルゴ
ンガス雰囲気下に実施するのが望ましい。
The enolization reaction and the alkylation reaction described above are preferably, but not necessarily, carried out under an inert atmosphere, such as a nitrogen gas or argon gas atmosphere.

最後に反応生成物は水で処理される。例えば、反応終了
後、pH7付近の燐酸緩衝液を加え攪拌し、不溶物を炉
別したのち、式■の化合物を常法により1例えば抽出、
再結晶、クロマトグラフィー等により分離精製すること
ができる。
Finally, the reaction product is treated with water. For example, after the reaction is completed, a phosphate buffer solution with a pH of around 7 is added, stirred, and insoluble materials are removed by a furnace.
It can be separated and purified by recrystallization, chromatography, etc.

この工程(b)は、前記工程(a)で製造される式■で
示されるアゼチジン−2−オン誘導体を、イミダゾール
の存在下に式(R300CH2CO2)2Mgで表わさ
れるマグネシウムマロネート化合物と反応させ、式Vで
表わされる化合物を得る工程である。
This step (b) involves reacting the azetidin-2-one derivative represented by the formula (1) produced in the step (a) with a magnesium malonate compound represented by the formula (R300CH2CO2)2Mg in the presence of imidazole; This is a process for obtaining a compound represented by formula V.

反応は好ましくは不活性有機溶媒中で行なわれ、例えば
エーテル、テトラヒドロフラン、ジすキサン等のエーテ
ル系溶媒;トルエン、キシレン、シクロヘキサン等の炭
化水素系溶媒;ジクロルメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒;アセトニトリル等などを挙げる
ことができるが、特にアセトニトリルが好適に使用され
る。
The reaction is preferably carried out in an inert organic solvent, such as ether solvents such as ether, tetrahydrofuran, and disoxane; hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, and cyclohexane; and halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane and chloroform. ; Acetonitrile and the like can be mentioned, but acetonitrile is particularly preferably used.

反応温度は厳密に制限されるものではなく、使用する出
発原料等に応じて広範に変えることができるが、一般に
は約0℃ないしほぼ100℃程度、好ましくは室温付近
の比較的低温が使用される。
The reaction temperature is not strictly limited and can be varied widely depending on the starting materials used, but generally a relatively low temperature of about 0°C to about 100°C, preferably around room temperature, is used. Ru.

式■の化合物に対するマグネシウムマロネート化合物の
使用量はほぼ等モル量が使用され、反応は50時間程度
、好ましくは20時間程度で完了する。
The amount of the magnesium malonate compound used is approximately equimolar to the compound of formula (1), and the reaction is completed in about 50 hours, preferably about 20 hours.

なお、使用するマグネシウムマロネート化合物としては
、例えば、パラニトロベンジルマグネシウムマロネート
、ベンジルマグネシウムマロネート、メチルマグネシウ
ムマロネート等を挙げることができるが、なかでもパラ
ニトロベンジルマグネシウムマロネートを用いるのが好
ましい。
In addition, examples of the magnesium malonate compound to be used include paranitrobenzylmagnesium malonate, benzylmagnesium malonate, methylmagnesium malonate, etc. Among them, it is preferable to use paranitrobenzylmagnesium malonate. .

工程(C)は、工程(b)で得られる式■の化合物にお
いてR3で示される水酸基の保護基を脱離させる工程で
ある0例えば、R3がt−ブチルジメチルシリル基のよ
うなトリオルガノシリル基である保護基の除去は、式V
の化合物をメタノール、エタノール、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンなどのような溶媒中で、塩酸、硫酸、酢
酸などのような酸の存在下に、 0〜100℃の温度で
0.5〜18時間酸性加水分解することにより実施する
ことができ゛ る。(上記「トリオルガノシリル基」は
、より好ましくは低級アルキル基、フェニル基及びフェ
ニルアルキル基から独立に選ばれる有機基で置換された
シリル基を包含する。) かかる工程により、目的とする式■で表わされる化合物
を定量的に得ることができる。
Step (C) is a step of removing the protecting group for the hydroxyl group represented by R3 in the compound of formula (1) obtained in step (b). For example, R3 is a triorganosilyl group such as t-butyldimethylsilyl group. Removal of a protecting group that is a group of formula V
Acidic hydrolysis of the compound in a solvent such as methanol, ethanol, tetrahydrofuran, dioxane, etc. in the presence of an acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid, etc. at a temperature of 0 to 100°C for 0.5 to 18 hours. This can be implemented by (The above-mentioned "triorganosilyl group" more preferably includes a silyl group substituted with an organic group independently selected from a lower alkyl group, a phenyl group, and a phenylalkyl group.) Through this step, the desired formula The compound represented by can be obtained quantitatively.

工程(d)は工程(C)で得られる式■で表わされる化
合物を、塩基の存在下に、前記工程(b)で述べたと同
様の不活性有機溶媒中でアジド化合物で処理し、目的と
する式■のアジド化合物を得る。
Step (d) is to treat the compound represented by formula (1) obtained in step (C) with an azide compound in the same inert organic solvent as described in step (b) in the presence of a base to obtain the desired product. An azide compound of formula (2) is obtained.

使用されるアジド化合物としては、例えば、p−力ルポ
キシベンゼンスルホニルアジド、 トルエンスルホニル
アジド、メタンスルホニルアジド、ドデシルベンゼンス
ルホニルアジドなどを挙げることができ、また、塩基と
しては、トリエチルアミン、ピリジン、ジエチルアミン
などの塩基を例示することができる。
Examples of the azide compounds used include p-rupoxybenzenesulfonyl azide, toluenesulfonyl azide, methanesulfonyl azide, dodecylbenzenesulfonyl azide, and bases include triethylamine, pyridine, diethylamine, etc. The following bases can be exemplified.

反応は、好ましくはトリエチルアミンの存在下アセトニ
トリル中で、P−hルエンスルホニルアジドを加え、 
0〜100℃、好ましくは室温で1〜50時間処理する
ことにより行なうことができ、これによって高収率で目
的とする式■のジアゾ化合物を得ることができる。
The reaction is preferably carried out in acetonitrile in the presence of triethylamine by adding P-h luenesulfonyl azide,
This can be carried out by treating at 0 to 100°C, preferably at room temperature, for 1 to 50 hours, and thereby the desired diazo compound of formula (1) can be obtained in high yield.

工程(e)は工程(d)で得られる式■のジアゾ化合物
を環化し、本発明の式Iで示される目的化合物とする工
程である。該工程は好適には1例えば式■の化合物を、
ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、シクロヘキ
サン、酢酸エチル、ジクロルメタンなどのような不活性
溶媒中、好ましくはトルエン中で、25〜110℃の温
度において1〜5時間、ビス(アセチルアセトナ)) 
Cu (U)、CuSO4,m粉末、Rh2(’0CO
CH3) a、ロジウムオクタノエートまたはPd(Q
C:0GH3)aのような金属カルボキシレート化合物
などの金属触媒の存在下で処理することにより実施され
る。一方別の方法として、上記環化工程はまた式■の化
合物を、ベンゼン、ジエチルエーテルなどのような溶媒
中で、 0〜250°Cの温度において0.5〜2時間
、パイレックスフィルター(波長は300nmより大)
を通して光を照射することにより実施することができる
Step (e) is a step in which the diazo compound of formula (1) obtained in step (d) is cyclized to give the target compound of formula I of the present invention. The step preferably comprises a compound of formula (1), for example,
Bis(acetylacetona)) in an inert solvent such as benzene, toluene, tetrahydrofuran, cyclohexane, ethyl acetate, dichloromethane, etc., preferably in toluene, at a temperature of 25 to 110 °C for 1 to 5 hours.
Cu (U), CuSO4, m powder, Rh2 ('0CO
CH3) a, rhodium octanoate or Pd(Q
It is carried out by treatment in the presence of a metal catalyst such as a metal carboxylate compound such as C:0GH3)a. On the other hand, as another method, the above cyclization step can also be carried out by preparing the compound of formula (1) in a solvent such as benzene, diethyl ether, etc. at a temperature of 0 to 250°C for 0.5 to 2 hours using a Pyrex filter (the wavelength is (larger than 300nm)
This can be carried out by irradiating light through.

また、得られる式1の化合物においてR1がカルボキシ
ル保護基を有する化合物の脱保護は、次の目的とする工
程において容易に除去され、R1が水素原子である化合
物を得ることができる。
Further, in the resulting compound of formula 1, the deprotection of the compound in which R1 has a carboxyl protecting group can be easily removed in the next desired step, and a compound in which R1 is a hydrogen atom can be obtained.

以上に述べた本発明の方法によれば、カルバペネム骨格
の1位がR配置のメチル基で置換され、これらに5位な
らびに6位がそれぞれR及びS配置であり、また6位の
ヒドロキシエチル基の水酸基がR配置を有する特定の立
体配置を有する式1で示される化合物を高立体選択的に
製造することができ、従来の方法がラセミ体でしか製造
し得なかった点を考慮すると特に優れた製造方法という
ことができる。
According to the method of the present invention described above, the 1st position of the carbapenem skeleton is substituted with a methyl group with an R configuration, the 5th and 6th positions are substituted with an R and S configuration, respectively, and the 6th position is a hydroxyethyl group. The compound represented by formula 1 having a specific configuration in which the hydroxyl group has an R configuration can be produced with high stereoselectivity, which is particularly advantageous considering that conventional methods could only produce racemic forms. It can be said that it is a manufacturing method.

かくして製造される本発明の式■で示される(IR)i
−ご換−2−オキソカルバペネム−3−カルボン酸誘導
体は、優れた抗菌活性を有する2位にメルカプト置換分
を有する(IR)−1−置換力ルバベネム−3−カルボ
ン酸誘導体へ誘導することができる。
The (IR)i of the present invention thus produced is represented by the formula
-2-oxocarbapenem-3-carboxylic acid derivatives can be converted into (IR)-1-substituted rubabenem-3-carboxylic acid derivatives having a mercapto substitution at the 2-position, which has excellent antibacterial activity. can.

以下に本発明を実施例により更に説明するが、本発明の
範囲はこれに限定するものではない。
The present invention will be further explained below with reference to Examples, but the scope of the present invention is not limited thereto.

なお、実施例中の記号は以下の意味を有する。Note that symbols in the examples have the following meanings.

Acニアセチル、  Et+エチル PNE+バラニトロベンジル 実施例 1 m                   +21スズ
トリフレー) 3.712gを窒素ガス気流下、無水テ
トラヒドロフラン101に溶解し、0°Cに冷却したの
ち、トエチルピペリジン1.31および化合物(2)1
.2gの無水テトラヒドロフラン7ml溶液を加え、同
温度にて2時間攪拌した。次いで化合物(1)1.42
gの無水テトラヒドロフラン2ml溶液を加え、■詩間
攪拌する0反応終了後、クロロホルム1001を加え、
10%クエン酸水溶液で洗浄し、有機層をMgSO4に
て乾燥し溶媒を留去する。残留物をシリカゲルクロマト
(溶出液:n−ヘキサン−酢酸エチル=2〜1:1)に
より精製し、黄色固型物として化合物(3)を1.83
g(97%)得た。
Ac niacetyl, Et + ethyl PNE + varanitrobenzyl Example 1 m + 21 tin trifle) 3.712 g was dissolved in 101 g of anhydrous tetrahydrofuran under a nitrogen gas stream, and after cooling to 0 °C, 1.31 g of toethylpiperidine and the compound (2 )1
.. A solution of 2 g of anhydrous tetrahydrofuran in 7 ml was added, and the mixture was stirred at the same temperature for 2 hours. Then compound (1) 1.42
Add 2 ml of anhydrous tetrahydrofuran solution of g and stir for a while. After the reaction is complete, add chloroform 1001,
Wash with 10% citric acid aqueous solution, dry the organic layer with MgSO4, and evaporate the solvent. The residue was purified by silica gel chromatography (eluent: n-hexane-ethyl acetate = 2 to 1:1), and compound (3) was obtained as a yellow solid at 1.83%
g (97%) was obtained.

NMR(δ、C:DCh):0.0?(8)1.s) 
、 0.88(9H,s) 、 1.21(38,d)
 、 1.28(3H,d) 、 3.30(IH,d
d) 、 3.2El(2H。
NMR (δ, C:DCh): 0.0? (8)1. s)
, 0.88 (9H, s) , 1.21 (38, d)
, 1.28 (3H, d) , 3.30 (IH, d
d), 3.2El (2H.

t) 、 3.94(IH,dd) 、 4.55(2
H,t) 、 8.24(IH,bs)。
t), 3.94 (IH, dd), 4.55 (2
H, t), 8.24 (IH, bs).

実施例 2 fil           f41 +51 スズトリフレー) 57.Ogを窒素ガス気流下、無水
テトラヒドロフラン1134m1に溶解し、0℃に冷却
したのち、N−エチルピペリジン19.9mlおよび化
合物(4)21.71gの無水テトラヒドロフラン12
3m1溶液を加え、同温度にて1.5時間攪拌した。次
いで化合物(1)1.42gの無水テトラヒドロフラン
123m1溶液を加え、1時間攪拌する。反応終了後、
クロロホルムを加え、10%クエン酸水溶液、食塩水に
て洗浄し、有機層をMgSO4にて乾燥し溶媒を留去す
る。残留物をシリカゲルクロマト(溶出液:n−ヘキサ
ン−酢酸エチル= 2:l)により粘製し、融点85.
5〜86.5℃の黄色固型物として化合物(4)を33
.57g(98%)得た。
Example 2 fil f41 +51 tin triflae) 57. After dissolving Og in 1134 ml of anhydrous tetrahydrofuran under a nitrogen gas stream and cooling it to 0°C, 19.9 ml of N-ethylpiperidine and 21.71 g of compound (4) were dissolved in 12 ml of anhydrous tetrahydrofuran.
3ml of the solution was added and stirred at the same temperature for 1.5 hours. Then, a solution of 1.42 g of compound (1) in 123 ml of anhydrous tetrahydrofuran was added, and the mixture was stirred for 1 hour. After the reaction is complete,
Add chloroform, wash with 10% aqueous citric acid solution and brine, dry the organic layer over MgSO4, and evaporate the solvent. The residue was made viscous by silica gel chromatography (eluent: n-hexane-ethyl acetate = 2:l), and the melting point was 85.
Compound (4) as a yellow solid at 5-86.5°C
.. 57g (98%) was obtained.

NMR(6、CDCh):0.0?(EiH,s) 、
 0.90(3H,s) 、1.00(3H,t) 、
 1.23(3H,d) 、 1.28(3H,d) 
、 2.90(I)l、dd) 、 3.50(IH,
dd)、 8.10(IH,bs)。
NMR (6, CDCh): 0.0? (EiH,s),
0.90 (3H, s), 1.00 (3H, t),
1.23 (3H, d), 1.28 (3H, d)
, 2.90(I)l, dd) , 3.50(IH,
dd), 8.10 (IH, bs).

[α]25=+ 233.9°(C=0.77 、 C
HCh)実施例2で得た化合物(5) 30.88gの
無水アセトニトリル7401溶液に、イミダゾール12
.13gを加え、窒素ガス気流、室温下に5.5時間攪
拌した。
[α]25=+233.9° (C=0.77, C
HCh) Compound (5) obtained in Example 2 To a solution of 30.88 g of anhydrous acetonitrile 7401, imidazole 12
.. 13 g was added thereto, and the mixture was stirred for 5.5 hours at room temperature under a nitrogen gas stream.

次いでMg(02GCH2C02PNB)253.39
gを加え、60℃にて一夜攪拌した0反応液を200+
slまでに減圧B縮し、酢酸エチル1文を加え、有機層
をIN−MCI水溶液、5%NaHCO3水溶液ならび
に食塩水にて順次洗浄し、MgSO4で乾燥した。溶媒
を留去し、残留物をシリカゲル800gを用いたカラム
クロマトにて精製し、無色油状物として化合物(8)3
7.47gを得た。
Then Mg(02GCH2C02PNB) 253.39
g and stirred overnight at 60°C.
The mixture was condensed under reduced pressure to up to 1 sl, 1 portion of ethyl acetate was added, and the organic layer was washed successively with an aqueous IN-MCI solution, a 5% aqueous NaHCO3 solution, and brine, and dried over MgSO4. The solvent was distilled off, and the residue was purified by column chromatography using 800 g of silica gel to obtain compound (8) 3 as a colorless oil.
7.47g was obtained.

NMR(δ、CDCh):0.0B(13H,s) 、
  0.87(9H,s) 、  1.18(3H,d
) 、  1.20(3M、d) 、  3.83(2
H,s) 、  5.27(2H。
NMR (δ, CDCh): 0.0B (13H, s),
0.87 (9H, s), 1.18 (3H, d
), 1.20 (3M, d), 3.83 (2
H,s), 5.27 (2H.

s) 、 5.92(IH,bs)、?、5Et 、 
8.24(4H芳香環プロト ン) 。
s), 5.92 (IH, bs), ? ,5Et,
8.24 (4H aromatic ring proton).

本市は更に精製することなく、次の実施例4に使用した
Motoichi was used in the following Example 4 without further purification.

実施例 4 実施例3で得た化合物(8) 37.47gのメタノー
ル3921溶液に、C−HCl 19.8mlを加え、
室温にて1゜5時間攪拌した0次いで反応液を約100
m1まで減圧濃縮し、酢酸エチル8001を加え、水、
食塩水にて洗浄し、MgSO4乾燥した。溶媒を減圧留
去し、無色油状物として化合物(7)を得た。
Example 4 To a solution of 37.47 g of compound (8) obtained in Example 3 in methanol 3921, 19.8 ml of C-HCl was added,
The reaction solution was stirred at room temperature for 1.5 hours, then the reaction solution was
Concentrate under reduced pressure to ml, add ethyl acetate 8001, water,
It was washed with brine and dried over MgSO4. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain Compound (7) as a colorless oil.

NMR(δ、Cl5C13):1.25(3H,d) 
、 1.30(3H,d) 、 2.90(2H,o+
) 、 3.85(2H,s) 、 3.83(IH,
m) 、 4.15(IH。
NMR (δ, Cl5C13): 1.25 (3H, d)
, 1.30 (3H, d) , 2.90 (2H, o+
), 3.85(2H,s), 3.83(IH,
m), 4.15 (IH.

m) 、 5.27(2H,s)、 8.03(IH,
bs) 、 7.55 、8.27(4)1芳香環プロ
トン)。
m), 5.27 (2H, s), 8.03 (IH,
bs), 7.55, 8.27 (4) 1 aromatic ring proton).

次いで上記化合物(7)をそのまま無水アセトニトリル
408m1に溶解し、ドデシルベンゼンスルホニルアジ
ド13.8mlを加え、室温にて20分間攪拌し、溶媒
を留去する。残留物をシリカゲル800gを用いたカラ
ムクロマト(溶出液:クロロホルム−アセトン==2+
1 )にて精製し、無色油状物として化合物(8) 2
1.57g (実施例2,3および4の全収率として8
8.4%)を得た。
Next, the above compound (7) was dissolved as it was in 408 ml of anhydrous acetonitrile, 13.8 ml of dodecylbenzenesulfonyl azide was added, the mixture was stirred at room temperature for 20 minutes, and the solvent was distilled off. The residue was subjected to column chromatography using 800 g of silica gel (eluent: chloroform-acetone = = 2+
1), compound (8) was purified as a colorless oil 2
1.57 g (8 as total yield of Examples 2, 3 and 4)
8.4%).

IR(CHCh)cm −’ : 2+50 、175
0 、1720 、185ONMR(δ、CDC13)
:1.23(3H,d) 、 1.30(3H,d) 
、 2.92(IH,m) 、 3.50〜4.30(
3)1.m) 、 5.38(2H,s)、8.40(
IH,bs) 、 ?、57 、8.30(4H、芳香
環プロトン) [α121  =−41,8°(C=3.t 、 CH
2Cl2)実施例 5 実施例4で得た化合物(8) 21.57gを酢酸エチ
ル134m1に溶解し、ロジウムオクタノエート0.0
65gを加え、80°Cにて0.5時間攪拌した。次い
で溶媒を留去し、乾燥し、化合物(9)を固型物として
得た。
IR(CHCh)cm-': 2+50, 175
0, 1720, 185ONMR (δ, CDC13)
:1.23(3H,d), 1.30(3H,d)
, 2.92 (IH, m), 3.50-4.30 (
3)1. m), 5.38 (2H, s), 8.40 (
IH, bs), ? , 57, 8.30 (4H, aromatic ring proton) [α121 = -41,8° (C = 3.t, CH
2Cl2) Example 5 21.57 g of compound (8) obtained in Example 4 was dissolved in 134 ml of ethyl acetate, and rhodium octanoate 0.0
65 g was added and stirred at 80°C for 0.5 hour. The solvent was then distilled off and dried to obtain compound (9) as a solid.

IR((:HCl2)cm −’ : 2950 、2
925 、1880 、183ONMR(δ、CDC1
3):1.22(3H,d、J=8.0L(z)) 、
  1.37(3H、d、J=6.0t(z)) 、 
2.40(IH,bs) 、 2.83(IH,q、J
−8゜0t(z)) 、  3.28(IH,d、d)
 、 4.00〜4.50(2H,m) 、4.75(
IH,s) 、 5.28及び5.39(2H,ABq
、J=12Hz)、?、58 、8.24(4H,芳香
環プロトン)。
IR((:HCl2)cm-': 2950, 2
925, 1880, 183ONMR (δ, CDC1
3): 1.22 (3H, d, J = 8.0L (z)),
1.37 (3H, d, J = 6.0t(z)),
2.40 (IH, bs), 2.83 (IH, q, J
-8゜0t(z)), 3.28(IH, d, d)
, 4.00-4.50 (2H, m) , 4.75 (
IH,s), 5.28 and 5.39(2H,ABq
, J=12Hz), ? , 58, 8.24 (4H, aromatic ring proton).

手続補正書く自発) 昭和62年3月17日 特許庁長官  黒 1) 明 雄 殿 1、事件の表示 昭和61年特許願第315444号 2、発明の名称 (IR,5R,6S>−2−オキソ−6−[(IR)−
1−ヒドロキシエチルト1−メチルカルバペナム−3−
カルボン酸誘導体の高立体選択的製造方法3、補正をす
る者 事件との関係        特許出願人名 称   
日本レダリー株式会社 4、代理人 住 所 〒107  東京都港区赤坂1丁目9番15号
外1名 5、手続補正指令の日付    な し6、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲jの欄および「発明の詳細な
説明」の欄 7、補正の内容 (1) 明細書の1゛特許請求の範囲」の記載を別紙の
通りに訂正する。
(Volunteer to write procedural amendments) March 17, 1985 Commissioner of the Patent Office Kuro 1) Akio Yu 1, Indication of the case 1986 Patent Application No. 315444 2, Name of the invention (IR, 5R, 6S>-2-oxo -6-[(IR)-
1-Hydroxyethyl-1-methylcarbapenam-3-
Highly stereoselective production method of carboxylic acid derivatives 3, relationship with the case of the person making the amendment Patent applicant name
Japan Redery Co., Ltd.4, Agent address: 1 person outside 1-9-15 Akasaka, Minato-ku, Tokyo 107 5, Date of procedural amendment order: None6, “Claims j” column of the specification to be amended Column 7 of "Detailed Description of the Invention", Contents of Amendment (1) The statement in 1. Scope of Claims of the specification is corrected as shown in the attached sheet.

(2) 明細書第9頁第5行に「チコナマイ」とあるを
「チェナマイ」と訂正する。
(2) On page 9, line 5 of the specification, "Chikonamai" is corrected to "Chenamai".

(3)同第16頁第9行に [ 」 とあるを 「 υ と訂正する。(3) On page 16, line 9 of the same [ ” A certain thing " υ I am corrected.

(4)同第26j’(下より第3行に]°アジド化合物
」とあるをrノアゾ化合物」と訂正する。
(4) Paragraph 26j' (in the third line from the bottom): ``Azide compound'' is corrected to ``rNoazo compound''.

(5)同第35頁第2行にら(゛アジド13.8m1J
とあるを「アジド36,31gおよびトリエチルアミン
13.8m1Jと訂正する。
(5) Same page 35, line 2 chives (゛Azide 13.8m1J
The statement is corrected to read ``36.31 g of azide and 13.8 ml of triethylamine.

(6)同第36頁第7行、第8行および第9行にそれぞ
れr’t(z)Jとあるを[HzJと訂正する。
(6) On page 36, lines 7, 8, and 9, the words r't(z)J are corrected to [HzJ.

以上 2、特許請求の範囲           号11紙式
中、R1は水素原子またはカルボキシ保護基を表わす、 で示される立体配置を有する(IR,5R,8S)−2
−オキソ−8−[(IR)−1−ヒドロキシエチル1−
1−メチルカルバペナム−3−カルボン酸誘導体を製造
する方法において、 式中、R2は水素原子、低級アルキル基、アリール基ま
たはアルアルキル基を表わす、で示される3−アシル−
1,3−チアゾリジン−2−チオン化合物を塩基の存在
下にスズ(■)トリフレートと反応させ、続いて次式■ 式中、R3は水酸基の保護基を表わし、Lは低級アルカ
ノイルオキシ基、低級アルキルスルホニル基またはアリ
ールスルホニル基を表わす、 で示されるアゼチジノン化合物と反応させ、次式式中、
R2およびR3は前記定義のとおりである、 で示される化合物を得: (b)得られる式■で示される化合物を、イミダゾール
の存在下に、次式 %式% 式中、R4はカルボキシ保護基を表わす、で示されるマ
グネシウムマロネート化合物と反応させ、次式V る、 で示される化合物を得: (C)得られる式■で示される化合物を、保護基R3の
脱離反応に付し、次式■ 式中 R4は前記定義のとおりである、で示される化合
物を得: (d)次いで得られる式■で示される化合物を、塩基の
存在下にアジド化合物で処理し、次式■式中、R4は前
記定義のとおりである、で示されるジアゾ化合物を得: (e)得られる式■で示されるジアゾ化合物に対し、金
属触媒の存在下に環化反応を行い、所望によりカルボキ
シ保護基R4を除去する ことを特徴とする前記式1で示される立体配置を有する
カルボン酸誘導体の高選択的製造法。
Above 2, Claim No. 11 In the formula, R1 represents a hydrogen atom or a carboxy protecting group, and has the configuration (IR, 5R, 8S)-2
-oxo-8-[(IR)-1-hydroxyethyl1-
In the method for producing a 1-methylcarbapenam-3-carboxylic acid derivative, 3-acyl-
A 1,3-thiazolidine-2-thione compound is reacted with tin (■) triflate in the presence of a base, followed by the following formula (■), where R3 represents a hydroxyl protecting group, L is a lower alkanoyloxy group, Representing a lower alkylsulfonyl group or an arylsulfonyl group, is reacted with an azetidinone compound represented by the following formula,
R2 and R3 are as defined above to obtain a compound represented by: (b) The resulting compound represented by the formula React with a magnesium malonate compound represented by to obtain a compound represented by the following formula V: (C) The resulting compound represented by the formula A compound represented by the following formula ■, in which R4 is as defined above, is obtained: (d) The resulting compound represented by the formula ■ is then treated with an azide compound in the presence of a base to obtain a compound represented by the following formula ■. (e) The resulting diazo compound represented by the formula (■) is subjected to a cyclization reaction in the presence of a metal catalyst, and optionally carboxy-protected. A highly selective method for producing a carboxylic acid derivative having the steric configuration represented by the above formula 1, which comprises removing the group R4.

2、次式■ 式中、R4はカルボキシ保護基を表わす、で示される立
体配置を有する(3S、4R)−3−[(IR)−1−
ヒドロキシエチル]−4−[(IR)−1−メチル−3
−カルボキシ−2−オギソプロビル]−アゼチジン−2
−オン誘導体。
2. (3S, 4R)-3-[(IR)-1- having the configuration shown by the following formula (1), where R4 represents a carboxy protecting group
hydroxyethyl]-4-[(IR)-1-methyl-3
-carboxy-2-ogisoprovir]-azetidine-2
-one derivative.

3、次式■ 式中、R4はカルボキシ保護基を表わす、で示される立
体配置を有する(3S、4R)−3−[(IR)−1−
ヒドロキシエチル]−4−[(IR)−1−メチル−3
−カルボキシ−2−オキソプロビル]−アゼチジン−2
−オン誘導体を製造する方法において、 (a)次式TI 式中、R2は水素原子、低級アルキル基、アリール基ま
たはアルアルキル基を表わす、で示される3−アシル−
1,3−チアゾリジン−2−チオン化合物を、塩基の存
在下にスズ(■)トリフレートと反応させ、続いて次式
■ 式中、R3は水酸基の保護基を表わし、Lは低級アルカ
ノイルオキシ基、低級アルキルスルホニル基またはアリ
ールスルホニル基を表わす、 で示されるアゼチジノン化合物と反応させ、次式で示さ
れる化合物を得: (b)得られる弐■で示される化合物を、イミダゾール
の存在下に、次式 %式%) 式中、R4はカルボキシ保護基を表わす、で示されるマ
グネシウムマロネート化合物と反応させ、次式V 式中、R3およびR4は前記定義のとおりであで示され
る化合物を得: (C)得られる式Vで示される化合物を、保護基R3の
脱離反応に付す ことを特徴とする前記式■で示される立体配置を有する
化合物の高選択的製造法。
3. (3S, 4R)-3-[(IR)-1-, which has the configuration shown by the following formula (3), where R4 represents a carboxy protecting group.
hydroxyethyl]-4-[(IR)-1-methyl-3
-carboxy-2-oxoprobyl]-azetidine-2
In the method for producing an -one derivative, (a) 3-acyl- represented by the following formula TI where R2 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, an aryl group or an aralkyl group.
A 1,3-thiazolidine-2-thione compound is reacted with tin (■) triflate in the presence of a base, followed by the following formula (■), where R3 represents a hydroxyl protecting group, and L represents a lower alkanoyloxy group. , representing a lower alkylsulfonyl group or an arylsulfonyl group, to obtain a compound represented by the following formula: (b) The resulting compound represented by Reacting with a magnesium malonate compound of the formula V, in which R4 represents a carboxy protecting group, yields a compound of the following formula V, where R3 and R4 are as defined above: (C) A highly selective method for producing a compound having the steric configuration represented by the formula (2) above, which comprises subjecting the resulting compound represented by the formula V to an elimination reaction of the protecting group R3.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、次式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、R^1は水素原子またはカルボキシ保護基を表わ
す、 で示される立体配量を有する(1R、5R、6S)−2
−オキソ−6−[(1R)−1−ヒドロキシエチル]−
1−メチルカルバペナム−3−カルボン酸誘導体を製造
する方法において、 (a)次式II ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 式中、R^2は水素原子、低級アルキル基、アリール基
またはアルアルキル基を表わす、 で示される3−アシル−1,3−チアゾリジン−2−チ
オン化合物を塩基の存在下にスズ(II)トリフレートと
反応させ、続いて次式III ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 式中、R^3は水酸基の保護基を表わし、Lは低級アル
カノイルオキシ基、低級アルキルスルホニル基またはア
リールスルホニル基を表わす、 で示されるアゼチジノン化合物と反応させ、次式▲数式
、化学式、表等があります▼(IV) 式中、R^2およびR^3は前記定義のとおりである、 で示される化合物を得: (b)得られる式IVで示される化合物を、イミダゾール
の存在下に、次式 Mg(OOCCH_2COOR^4)_2 式中、R^4はカルボキシ保護基を表わす、で示される
マグネシウムマロネート化合物と反応させ、次式V ▲数式、化学式、表等があります▼(V) 式中、R^3およびR^4は前記定義のとおりである、 で示される化合物を得: (c)得られる式Vで示される化合物を、保護基R^3
の脱離反応に付し、次式VI ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) 式中、R^4は前記定義のとおりである、 で示される化合物を得: (d)次いで得られる式VIで示される化合物を、塩基の
存在下にアジド化合物で処理し、次式VII▲数式、化学
式、表等があります▼(VII) 式中、R^4は前記定義のとおりである、 で示されるジアゾ化合物を得: (e)得られる式VIIで示されるジアゾ化合物に対し、
金属触媒の存在下に環化反応を行い、所望によりカルボ
キシ保護基R^4を除去する ことを特徴とする前記式 I で示される立体配置を有す
るカルボン酸誘導体の高選択的製造法。 2、次式VI ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) 式中、R^4はカルボキシ保護基を表わす、で示される
立体配置を有する(3S、4R)−3−[(1R)−1
−ヒドロキシエチル]−4−[(1R)−1−メチル−
3−カルボキシ−2−オキソプロピル]−アゼチジン−
2−オン誘導体。 3、次式VI ▲数式、化学式、表等があります▼ (VI) 式中、R^4はカルボキシ保護基を表わす、で示される
立体配置を有する(3S、4R)−3−[(1R)−1
−ヒドロキシエチル]−4−[(1R)−1−メチル−
3−カルボキシ−2−オキソプロピル]−アゼチジン−
2−オン誘導体を製造する方法において、 (a)次式II ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 式中、R^2は水素原子、低級アルキル基、アリール基
またはアルアルキル基を表わす、 で示される3−アシル−1,3−チアゾリジン−2−チ
オン化合物を、塩基の存在下にスズ(II)トリフレート
と反応させ、続いて次式III ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 式中、R^3は水酸基の保護基を表わし、Lは低級アル
カノイルオキシ基、低級アルキルスルホニル基またはア
リールスルホニル基を表わす、 で示されるアゼチジノン化合物と反応させ、次式▲数式
、化学式、表等があります▼(IV) 式中、R^2およびR^3は前記定義のとおりである、 で示される化合物を得: (b)得られる式IVで示される化合物を、イミダゾール
の存在下に、次式 Mg(OOCCH_2COOR^4)_2 式中、R^4はカルボキシ保護基を表わす、で示される
マグネシウムマロネート化合物と反応させ、次式V ▲数式、化学式、表等があります▼ (V) 式中、R^3およびR^4は前記定義のとおりであで示
される化合物を得: (c)得られる式Vで示される化合物を、保護基R^3
の脱離反応に付す ことを特徴とする前記式VIで示される立体配置を有する
化合物の高選択的製造法。
[Claims] 1. The following formula I ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (I) In the formula, R^1 represents a hydrogen atom or a carboxy protecting group, and has a stereochemistry represented by (1R , 5R, 6S)-2
-oxo-6-[(1R)-1-hydroxyethyl]-
In the method for producing 1-methylcarbapenam-3-carboxylic acid derivatives, (a) the following formula II ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(II) In the formula, R^2 is a hydrogen atom or a lower alkyl group , representing an aryl group or an aralkyl group, is reacted with tin(II) triflate in the presence of a base, followed by the following formula III ▲Math. , chemical formulas, tables, etc.▼ (III) In the formula, R^3 represents a hydroxyl protecting group, and L represents a lower alkanoyloxy group, a lower alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group. Then, a compound represented by the following formula ▲ has a mathematical formula, a chemical formula, a table, etc. ▼ (IV) where R^2 and R^3 are as defined above, is obtained: (b) With the resulting formula IV: The compound shown is reacted with a magnesium malonate compound of the following formula Mg(OOCCH_2COOR^4)_2 where R^4 represents a carboxy protecting group in the presence of imidazole to form the following formula V ▲Math. There are chemical formulas, tables, etc. ▼(V) In the formula, R^3 and R^4 are as defined above, to obtain a compound represented by: (c) The resulting compound represented by formula V is treated with a protecting group. R^3
By subjecting to the elimination reaction of A compound represented by formula VI is treated with an azide compound in the presence of a base to obtain the following formula VII ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (VII) where R^4 is as defined above, Obtain a diazo compound represented by: (e) For the obtained diazo compound represented by formula VII,
A highly selective method for producing a carboxylic acid derivative having the steric configuration represented by the above formula I, which comprises carrying out a cyclization reaction in the presence of a metal catalyst and optionally removing the carboxy protecting group R^4. 2. The following formula VI ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. are available ▼ (VI) In the formula, R^4 represents a carboxy protecting group, and has the configuration shown by (3S, 4R)-3-[(1R) -1
-hydroxyethyl]-4-[(1R)-1-methyl-
3-carboxy-2-oxopropyl]-azetidine-
2-one derivative. 3. The following formula VI ▲There are numerical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (VI) In the formula, R^4 represents a carboxy protecting group, and has the configuration shown by (3S, 4R)-3-[(1R) -1
-hydroxyethyl]-4-[(1R)-1-methyl-
3-carboxy-2-oxopropyl]-azetidine-
In the method for producing a 2-one derivative, (a) the following formula II ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (II) In the formula, R^2 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. The 3-acyl-1,3-thiazolidine-2-thione compound represented by is reacted with tin(II) triflate in the presence of a base, followed by the following formula III ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼(III) In the formula, R^3 represents a protecting group for a hydroxyl group, and L represents a lower alkanoyloxy group, a lower alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group. There are chemical formulas, tables, etc. ▼ (IV) In the formula, R^2 and R^3 are as defined above. Obtain the compound represented by: (b) The resulting compound represented by formula IV is treated with imidazole. In the presence of Mg(OOCCH_2COOR^4)_2, where R^4 represents a carboxy protecting group, it is reacted with a magnesium malonate compound represented by the following formula V ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (V) In the formula, R^3 and R^4 are as defined above to obtain a compound represented by: (c) The resulting compound represented by formula V is protected by a protecting group R^3
1. A highly selective method for producing a compound having the configuration represented by the formula VI, which comprises subjecting the compound to an elimination reaction.
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