JPS63166040A - Optical recording medium and its production - Google Patents

Optical recording medium and its production

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Publication number
JPS63166040A
JPS63166040A JP61309898A JP30989886A JPS63166040A JP S63166040 A JPS63166040 A JP S63166040A JP 61309898 A JP61309898 A JP 61309898A JP 30989886 A JP30989886 A JP 30989886A JP S63166040 A JPS63166040 A JP S63166040A
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JP
Japan
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group
substrate
silicon
optical recording
recording layer
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Pending
Application number
JP61309898A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Tezuka
信一 手塚
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TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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Publication of JPS63166040A publication Critical patent/JPS63166040A/en
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Abstract

PURPOSE:To securely adhere an underlying layer and substrate and to prevent deterioration after writing of a record by providing the underlying layer consisting of a coated film contg. the hydrolyzate of a silicon compd. having at least one -NH- group and silicon bonded with a hydrolyzable group in the molecule between a recording layer and the substrate. CONSTITUTION:The underlying layer 5 and the recording layer 6 are formed on the substrate 31. The underlying layer 5 is the coated film of the hydrolyzate of the silicon compd. having the -NH- group and the silicon bonded with the hydrolyzable group in the molecule. The silicon compd. which is >=one kinds of compds. having at least one epoxy group and >=one kinds of compds. having at least one amino group and in which at least one compds. have the hydrolyzable group is used for such silicon compd. Said compd. is the reaction product obtd. by the reaction of said epoxy group and amino group. The adhesion between the substrate 31 consisting of the resin, more particularly polycarbonate resin and the underlying layer 5 is thereby enhanced and the deterioration in adhesive strength after writing of the record is obviated.

Description

【発明の詳細な説明】 !  発明の背景 技術分野 本発明は、光記録媒体、特にヒートモードの光記録媒体
とその製造方法に関する。
[Detailed description of the invention]! BACKGROUND OF THE INVENTION TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical recording medium, particularly a heat mode optical recording medium, and a method for manufacturing the same.

先行技術とその問題点 光記録媒体、特に光記録ディスクは、媒体と書き込みな
いし読み出しヘッドが非接触であるので、記録媒体が摩
耗劣化しないという特徴をもち、このため種々の光記録
ディスクの開発研究が行われている。
Prior art and its problems Optical recording media, especially optical recording disks, have the characteristic that the recording medium does not deteriorate due to wear and tear because there is no contact between the medium and the writing or reading head.For this reason, research and development of various optical recording disks has been carried out. is being carried out.

このような光記録ディスクのうち、暗室による現像処理
が不要である等の点で、ヒートモード光記録ディスクの
開発が活発になっている。
Among such optical recording disks, heat mode optical recording disks are being actively developed because they do not require development in a dark room.

このヒートモードの光記録ディスクは、記録光を熱とし
て利用する光記録ディスクであり、その−例として、レ
ーザー等の記録光で媒体の一部を融解、除去等して、ピ
ットと称される小穴を形成してi往き込みを行い、この
ピットにより情報を記録し、このピットを読み出し光で
検出して続み出しを行うピット形成タイプのものがある
This heat mode optical recording disk is an optical recording disk that uses recording light as heat. For example, a part of the medium is melted or removed using recording light such as a laser, and a part of the medium is melted or removed to create a pit. There is a pit-forming type in which a small hole is formed to perform an i-input, information is recorded using the pit, and the pit is detected with a readout light to continue reading.

このようなビット形成タイプのディスク、特にそのうち
、装置を小型化できる半導体レーザーを光源とするもの
においては、これまで、Teを主体とする材料を記録層
とするものが大tをしめている。
Among such bit-forming type disks, particularly those using a semiconductor laser as a light source, which allows for miniaturization of the device, the recording layer has so far been made of a material mainly composed of Te.

また、近年、Te系材料が有害であること、そして、よ
り高感度化する必要があること、より製造コストを安価
にする必要があることから、Te系にかえ、色素なLと
した有機材料系の記録層を用いる媒体についての提案や
報告か増加している(特開昭60−203488号等)
In addition, in recent years, since Te-based materials are harmful, and there is a need for higher sensitivity and lower manufacturing costs, organic materials have been replaced with Te-based materials, using the dye L. An increasing number of proposals and reports have been made regarding media using recording layers of this type (Japanese Patent Laid-Open No. 60-203488, etc.)
.

このような色素等の記録層を有するビット形成タイプの
光記録媒体では、感度およびS/N比の低下を防止する
ために、いわゆるエアーサンドイッチ構造とすることが
好ましい。
In a bit-forming type optical recording medium having such a recording layer made of a dye or the like, a so-called air sandwich structure is preferably used in order to prevent deterioration of sensitivity and S/N ratio.

さらに、これらの色素を含む記録層を基板上に形成して
、記録・再生を行なう場合、通常、基板の裏面側から古
き込み光および読み出し光を照射して記録・再生を行な
う。
Further, when a recording layer containing these dyes is formed on a substrate and recording/reproduction is performed, recording/reproduction is normally performed by irradiating aging light and readout light from the back side of the substrate.

しかし、基板としてポリカーボネート、 アクリル樹脂
等の透明樹脂製の基板を用いる場合、記録層の塗布設層
の際の塗布溶媒により樹脂基板表面がおかされ、記録層
の反射率が低下し、読み出しのS/N比が十分高くとれ
ないという欠点がある。
However, when using a substrate made of transparent resin such as polycarbonate or acrylic resin, the surface of the resin substrate is damaged by the coating solvent used when coating the recording layer, reducing the reflectance of the recording layer and reducing the readout S. There is a drawback that the /N ratio cannot be kept high enough.

また、長期保存に際し、色素その他の添加物が基板樹脂
中へ溶解拡散してしまい、反射率がイ氏下してしまうよ
うなおそれがある。
Furthermore, during long-term storage, there is a risk that dyes and other additives may dissolve and diffuse into the substrate resin, resulting in a decrease in reflectance.

さらには、書き込みにより、基板が熱によってへこんで
しまうなど損傷をうけ、これによってもS/N比が低下
する。また、消去後のノイズが増加する。
Furthermore, writing causes damage such as denting of the substrate due to heat, which also reduces the S/N ratio. Moreover, the noise after erasing increases.

これに対し、本発明者らは、下地層として、ケイ素系縮
合物のコロイド粒子分散液の塗膜を用いる旨を提案して
いる(特開昭60−203489号)。
In contrast, the present inventors have proposed the use of a coating film of a colloidal particle dispersion of a silicon-based condensate as the underlayer (Japanese Patent Laid-Open No. 60-203489).

これによりアクリル樹脂の場合は上記不都合が敗訴され
るものである。
This eliminates the above-mentioned disadvantages in the case of acrylic resins.

しかし、基板がポリカーボネート樹脂製の場合には、特
に上記の下地層と基板との接着力が不充分であるという
欠点がある。
However, when the substrate is made of polycarbonate resin, there is a drawback that the adhesion between the base layer and the substrate is insufficient.

■  発明の目的 本発明の目的は、下地層と基板との接着が強固で、かつ
記録−2き込み後においてもその劣化がなく反射率のバ
ラツキが少なく、エラーレートが少なく、占き込み感度
、読み出しS/N比、トラッキング制御が安定かつ良好
な光記録媒体とその製造方法を提供することにある。
■ Purpose of the Invention The purpose of the present invention is to ensure that the adhesion between the underlayer and the substrate is strong, that there is no deterioration even after recording, that is, there is little variation in reflectance, that the error rate is low, and that the reading sensitivity is high. An object of the present invention is to provide an optical recording medium with stable and good readout S/N ratio and tracking control, and a method for manufacturing the same.

■  発明の開示 このような目的は、下記の本発明によって達成される。■Disclosure of the invention Such objects are achieved by the invention described below.

すなわち、本発明は、ポリカーボネート樹脂製の基板上
に、色素または色素組成物の記録層を有する光記録媒体
において、 記録層と基板との間に、分子内に少なくとも1つの−N
H−基と加水分解可能な基が結合したケイ素とを有する
ケイ素化合物の加水分解物を含有する塗膜の下地層を有
することを特徴とする光記録媒体である。
That is, the present invention provides an optical recording medium having a recording layer of a dye or a dye composition on a substrate made of polycarbonate resin.
The present invention is an optical recording medium characterized by having a base layer of a coating film containing a hydrolyzate of a silicon compound having silicon to which an H-group and a hydrolyzable group are bonded.

また第2の発明は、ポリカーボネート樹脂製の基板上に
下地層を有し、この下地層上に色素または色素組成物の
記録層を有する光記録媒体を製造するにあたり、 少なくとも1つの化合物が加水分解可能な基を有するケ
イ素化合物であって、エポキシ基を少なくとも1つ有す
る化合物とアミノ基を少なくとも1つ有する化合物との
それぞれ1種以上を用い、これらを反応させて分子内に
少なくとも1つの−NH−基と加水分解可能な基が結合
したケイ素とを有するケイ素化合物を得、この化合物を
加水分解して基体上に塗設して下地層を設け、この下地
層上に記録層を塗設することを特徴とする光記録媒体の
製造方法である。
Further, a second invention provides an optical recording medium having an underlayer on a substrate made of polycarbonate resin, and a recording layer of a dye or a dye composition on the underlayer, in which at least one compound is hydrolyzed. At least one type of silicon compound having at least one epoxy group and at least one compound having at least one amino group are used, and these are reacted to form at least one -NH in the molecule. - Obtain a silicon compound having silicon to which a hydrolyzable group is bonded, hydrolyze this compound and coat it on a substrate to form an underlayer, and apply a recording layer on this underlayer. This is a method of manufacturing an optical recording medium characterized by the following.

■  発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。■ Specific structure of the invention Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be explained in detail.

本発明の光記録媒体の一例として、第1図に片面記録タ
イプの光記録ディスクを示す。
As an example of the optical recording medium of the present invention, FIG. 1 shows a single-sided recording type optical recording disc.

光記録ディスク1は、片面記録の場合には、第1図に示
されるように、ディスク状の基板31」二に下地層5お
よび記録層6を有する光記録部分2と、保護板35とを
有する。
In the case of single-sided recording, the optical recording disc 1 includes an optical recording portion 2 having a base layer 5 and a recording layer 6 on a disc-shaped substrate 31'', and a protection plate 35, as shown in FIG. have

この場合、用いる基板31はポリカーボネート樹脂製で
あり、中央に回転軸が嵌入する孔部を有するディスク状
をなす。
In this case, the substrate 31 used is made of polycarbonate resin and has a disk shape with a hole in the center into which the rotating shaft is inserted.

そして、基板31は書き込みおよび読み出し光に対し、
実質的に透明であるので、書き込みおよび読み出しを基
板裏面側から行なうことができ、感度、S/N比等の点
で有利であり、また、はこり対策等の実装上の点でも有
利である。
Then, the substrate 31 responds to write and read light.
Since it is substantially transparent, writing and reading can be performed from the back side of the board, which is advantageous in terms of sensitivity, S/N ratio, etc., and is also advantageous in terms of mounting, such as preventing flaking. .

ポリカーボネート樹脂としては、脂肪族ポリカーボネー
ト、芳香族−脂肪族ポリカーボネート、芳香族ポリカー
ボネートのいずれであってもよいが、特に芳香族ポリカ
ーボネート樹脂であることが好ましい。 これらのうち
では融点、結晶性、とり扱い等の点てビスフェノールか
らのポリカーボネート樹脂か好ましい。中でもビスフェ
ノールAタイプのポリカーボネート樹脂は最も好ましく
用いられる。
The polycarbonate resin may be any of aliphatic polycarbonate, aromatic-aliphatic polycarbonate, and aromatic polycarbonate, but aromatic polycarbonate resin is particularly preferred. Among these, polycarbonate resins made from bisphenol are preferred in terms of melting point, crystallinity, handling, etc. Among them, bisphenol A type polycarbonate resin is most preferably used.

また、ポリカーボネート樹脂は、その変性体ないし、他
の樹脂とのブレンド体であってもよい。
Moreover, the polycarbonate resin may be a modified product thereof or a blended product with other resins.

また、ポリカーボネート樹脂の数平均分子量は、10,
000〜15,000程度であることが好ましい。
In addition, the number average molecular weight of the polycarbonate resin is 10,
It is preferable that it is about 000 to 15,000.

このような基板の記録層形成面にはトラッキング用の溝
が形成されることが好ましい。
It is preferable that tracking grooves be formed on the recording layer forming surface of such a substrate.

溝の深さは、λ/ 8 n程度、特にλ/ 7 n〜λ
/ 12 n (ここに、nは基板の屈折率である)と
されている。また、溝の巾は、トラック巾程度とされる
The depth of the groove is about λ/8n, especially λ/7n~λ
/ 12 n (where n is the refractive index of the substrate). Further, the width of the groove is approximately the width of a track.

このような基板上への溝形成は樹脂の射出成形法により
行なえばよい。
Formation of such grooves on the substrate may be performed by a resin injection molding method.

そして、この溝の凹部または凸部に位置する記録層を記
録トラック部として、書き込み光および読み出し光を基
体裏面側から照射することが好ましい。
It is preferable that writing light and reading light are irradiated from the back side of the substrate, using the recording layer located in the concave or convex portions of the groove as a recording track section.

このように構成することにより、書き込み感度と読み出
しのS/N比が向上し、しかもトラッキングの制御信号
は大きくなる。
With this configuration, the writing sensitivity and the reading S/N ratio are improved, and the tracking control signal is also increased.

また、保護板35は、基板31と同材質でよい。 また
、保護板35は不透明であってもよい。
Further, the protection plate 35 may be made of the same material as the substrate 31. Moreover, the protection plate 35 may be opaque.

このような基板、保護板の少なくとも一方の外周部およ
び/または内周部に基板一体化用の複数の突起が設けら
れていてもよい。 また、スペーサーとしての連結部材
により、一体化を行ってもよい。
A plurality of protrusions for integrating the substrate may be provided on the outer circumferential portion and/or the inner circumferential portion of at least one of the substrate and the protection plate. Further, integration may be performed using a connecting member as a spacer.

第1図では、保護板35の外周部および内周部に複数の
突起71.75を設け、この突起を介して一体化してい
る。
In FIG. 1, a plurality of protrusions 71, 75 are provided on the outer and inner circumferences of the protection plate 35, and the protection plate 35 is integrated via these protrusions.

このような基板31上には、下地層5および記録層6が
形成される。
On such a substrate 31, a base layer 5 and a recording layer 6 are formed.

上地層5は、分子内に−NH−基と加水分解可能な基が
結合したケイ素とを有するケイ素化合物の加水分解物の
塗膜である。
The upper layer 5 is a coating film of a hydrolyzate of a silicon compound having silicon to which an -NH- group and a hydrolyzable group are bonded in the molecule.

このようなケイ素化合物は、エポキシ基を少なくとも1
つ有する化合物の1種以上と、アミノ基を少なくとも1
つ有する化合物の1種以上とであって、そのうちの少な
くとも1つの化合物が加水分解可能な基を有するケイ素
化合物であるものを用い、これらのエポキシ基とアミノ
基との反応によって得られる反応生成物である。
Such silicon compounds contain at least one epoxy group.
and at least one compound having an amino group.
A reaction product obtained by reacting an epoxy group with an amino group using at least one compound having a hydrolyzable group, at least one of which is a silicon compound having a hydrolyzable group. It is.

このような反応生成物を得るための反応としては、下記
のような例が挙げられる。
Examples of reactions for obtaining such reaction products include the following.

(1)エポキシ基と加水分解可能な基を有するケイ素化
合物と、アミノ基と加水分解可能な基を有するケイ素化
合物との反応。
(1) Reaction between a silicon compound having an epoxy group and a hydrolyzable group and a silicon compound having an amino group and a hydrolyzable group.

(2)エポキシ基と加水分解可能な基を有するケイ素化
合物と、アミノ基を存する化合物、特にポリアミノ化合
物との反応。
(2) Reaction between a silicon compound having an epoxy group and a hydrolyzable group and a compound having an amino group, particularly a polyamino compound.

(3) アミノ基と加水分解可能な基を有するケイ素化
合物と、エポキシ基を有する化合物、特にポリエポキシ
化合物との反応、 (4)上記(1)〜(3)の複合反応。
(3) Reaction of a silicon compound having an amino group and a hydrolyzable group with a compound having an epoxy group, especially a polyepoxy compound; (4) A composite reaction of the above (1) to (3).

このような場合、ケイ素化合物が有する加水分解可能な
基としては、−〇R1、(ここにR1は置換または非置
換の脂肪族炭化水素残基、芳香族炭化水素残基、アシル
基)が好ましく、この−0R1がSiに直接結合するも
のである。
In such a case, the hydrolyzable group possessed by the silicon compound is preferably -〇R1, (where R1 is a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon residue, aromatic hydrocarbon residue, or acyl group). , this -0R1 is directly bonded to Si.

そして、これらのうちではR1は特に、炭素L9. f
数1〜5のアルキル基、アルケニル基、フェニル基、ナ
フチル基およびアルキルカルボニル基、フェニルないし
ナフチルカルボニル基が好適である。 また、ケイ素化
合物がアミノ基またはエポキシ基を有する場合、これら
は適当な基に結合して間接的にケイ素と結合することが
好ましい。 この場合の適当な基としては、置換または
非置換の脂肪族炭化水素残基または芳香族炭化水素残基
、特にアルキル基が好ましい。 そして、これらの置換
体としては、これら特にアルキル基の複数を−NH−1
−〇−1−5−等で連結した基を挙げることができる。
Among these, R1 is particularly carbon L9. f
Preferred are alkyl groups, alkenyl groups, phenyl groups, naphthyl groups, alkylcarbonyl groups, and phenyl to naphthylcarbonyl groups having numbers 1 to 5. Further, when the silicon compound has an amino group or an epoxy group, it is preferable that these groups are bonded to a suitable group and indirectly bonded to silicon. Suitable groups in this case are preferably substituted or unsubstituted aliphatic or aromatic hydrocarbon residues, especially alkyl groups. As for these substituents, in particular, a plurality of these alkyl groups can be replaced by -NH-1
Examples include groups linked by -〇-1-5- and the like.

さらに、アミノ基またはエポキシ基を有するケイ素化合
物以外の化合物としては、公知の種々のポリアミノ化合
物やポリエポキシド化合物が好適である。
Furthermore, as the compound other than the silicon compound having an amino group or an epoxy group, various known polyamino compounds and polyepoxide compounds are suitable.

なお、上記においてアミノ基は置換アミノ基であっても
よいが、−NH2であることが好ましい。
In addition, although the amino group in the above may be a substituted amino group, it is preferable that it is -NH2.

次に、これら各原料化合物についてさらに詳述する。Next, each of these raw material compounds will be explained in more detail.

(A)エポキシ基と加水分解可能な基を有するケイ素化
合物 下記式で示されるものが好適である。
(A) Silicon compound having an epoxy group and a hydrolyzable group Those represented by the following formula are preferred.

式 %式% 上記式において、mは1〜3の整数、好ましくは3であ
り、nは1または2、好ましくはlである。
Formula % Formula % In the above formula, m is an integer of 1 to 3, preferably 3, and n is 1 or 2, preferably l.

上記式においてR1は脂肪族炭化水素残基、芳香族炭化
水素残基またはアシル基を表わす。
In the above formula, R1 represents an aliphatic hydrocarbon residue, an aromatic hydrocarbon residue or an acyl group.

これらは置換体であってもよい。These may be substituted products.

そして、特に、炭素原子数1〜5のアルキル基、アルケ
ニル基、フェニル基、ナフチル基およびアルキルカルボ
ニル基、フェニルないしナフチルカルボニル基が好適で
ある。
Particularly preferred are alkyl groups, alkenyl groups, phenyl groups, naphthyl groups, alkylcarbonyl groups, and phenyl to naphthylcarbonyl groups having 1 to 5 carbon atoms.

R2は置換または非置換の炭化水素残基、特にアルキレ
ン基またはアリーレン基を表わす。
R2 represents a substituted or unsubstituted hydrocarbon residue, in particular an alkylene group or an arylene group.

この場合、置換の炭化水素残基としては、アルキレン基
、アリーレン基の複数が一〇−1に連結されたものが好
適である。 また、アリーレン基としてはフェニレン基
が好適である。
In this case, the substituted hydrocarbon residue is preferably one in which a plurality of alkylene groups and arylene groups are linked in a 10-1 chain. Moreover, a phenylene group is suitable as the arylene group.

これらのうち、特に好適なものは、アルキレン基、アル
キレンオキシアルキレン基等である。 そして、これら
の各アルキレン基の炭素原f数は1〜5が好ましい。
Among these, particularly preferred are alkylene groups, alkyleneoxyalkylene groups, and the like. The carbon atom f number of each of these alkylene groups is preferably 1 to 5.

なお、R2とエポキシ基は互いに結合してエポキシ環と
シクロアルキル環との縮合環を形成してもよい。
Note that R2 and the epoxy group may be bonded to each other to form a condensed ring of an epoxy ring and a cycloalkyl ring.

以下に好適な具体例を挙げるが、これらのみに限定され
るものではない。
Preferred specific examples are listed below, but the invention is not limited to these.

(A−1) β−(3,4エポキシシクロヘキシル エチルトリメトキシシラン (A−2) γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランυ (A −3) γ−グリシドキシプロピル メチルジェトキシシラン (B)エポキシ基を有するその他の化合物特にポリエポ
キシド化合物が好適である。
(A-1) β-(3,4 epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane (A-2) γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane υ (A-3) γ-glycidoxypropylmethyljethoxysilane (B) Other compounds having epoxy groups, especially polyepoxide compounds, are preferred.

ポリエポキシド化合物としては下記のものが好適である
As the polyepoxide compound, the following are suitable.

i) ポリエーテルのグリシジルエーテル(B−1)ポ
リエチレングリコール ジグリシジルエーテル(B−2
)ポリプロピレングリコール ジグリシジルエーテル(
B−3)ネオペンチルグリコール ジグリシジルエーテ
ル(B−4)1.6−ヘキサンジオール ジグリシジル
エーテル(B−5)グリセロール ポリグリシジルエー
テル(B−6) トリメチロールプロパン ポリグリシ
ジルエーテル巴/  己/ 一1!5 ?   ? + fi/− 鋭 (B−8)ポリグリセロール ポリグリシジルエーテル
(B−9) (B−10) (B−11) (B−12) (B−13) (B−14) (B−15) (B−16)ゾルビトール ポリグリシトルエーテルI (B−17) ii)  2塩基酸のグリシジルエーテル(B−18)
0−フタル酸ジグリシジルエステルυ 1ii)グリシジルアミン (B−19) (B−20) (B−21) υ (B−22) (B−23) (C)エポキシ基と加水分解可能な基を有する[式] 
Si (OR1) rn (84NHz ) n (R
3) 4−m −nL記式において、mは1〜3の整数
であり、nは1または2、好ましくは1である。
i) Glycidyl ether of polyether (B-1) Polyethylene glycol diglycidyl ether (B-2
) Polypropylene glycol diglycidyl ether (
B-3) Neopentyl glycol diglycidyl ether (B-4) 1,6-hexanediol diglycidyl ether (B-5) Glycerol Polyglycidyl ether (B-6) Trimethylolpropane Polyglycidyl ether Tomoe / Self / 11 !5? ? + fi/- sharp (B-8) polyglycerol polyglycidyl ether (B-9) (B-10) (B-11) (B-12) (B-13) (B-14) (B-15) (B-16) Sorbitol polyglycitolether I (B-17) ii) Glycidyl ether of dibasic acid (B-18)
0-phthalic acid diglycidyl ester υ 1ii) Glycidylamine (B-19) (B-20) (B-21) υ (B-22) (B-23) (C) Epoxy group and hydrolyzable group have [expression]
Si (OR1) rn (84NHZ) n (R
3) In the 4-m-nL notation, m is an integer of 1 to 3, and n is 1 or 2, preferably 1.

R1およびR3は一上記と同義である。R1 and R3 have the same meaning as above.

R4は置換または非置換の炭化水素残基、特にアルキレ
ン基またはアリーレン基を表わす。
R4 represents a substituted or unsubstituted hydrocarbon residue, in particular an alkylene group or an arylene group.

この場合、置換の炭化水素残基としては、アルキレン基
、アリーレン基の複数が−NH−1−N−1S、−NH
CO−等の適当な連結基で互いに連絡されたものが好適
である。 あるいは置換または非置換のアミド基、カル
バモイル基等も好適である。 また、アリーレン基とし
ではフェニレン基が好適である。
In this case, as substituted hydrocarbon residues, a plurality of alkylene groups and arylene groups are -NH-1-N-1S, -NH
Those connected to each other by a suitable linking group such as CO- are preferred. Alternatively, substituted or unsubstituted amide groups, carbamoyl groups, etc. are also suitable. Further, as the arylene group, a phenylene group is suitable.

これらのうち、特に好適なものは、アルキレン基、アル
キレンチオアルキレン基、アルキレンアミノアルキレン
基、アルキレンアミノアルキレンアミノアルキレン基、
カルボニルアミノアルキレン基等である。 そして、こ
わらの各アルキレン基の炭素原Y−数は1〜5が好まし
い。
Among these, particularly preferred are alkylene groups, alkylenethioalkylene groups, alkyleneaminoalkylene groups, alkyleneaminoalkyleneaminoalkylene groups,
carbonylaminoalkylene group, etc. The carbon atom Y-number of each alkylene group in Kowara is preferably 1 to 5.

以ドに具体例を挙げるが、これらのみに限定されるもの
ではない。
Specific examples are given below, but the invention is not limited to these.

(C−1)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン 112  NC3If  6  Si (OC2t16
) 3(C−2)アミノエチルアミノメチルトリメトキ
シシラン 112 FIC112(:II□N (: H□5i 
(OCH3)3■ (C−3)アリルオキシ−2−アミノエチルアミノメチ
ルジメチルシラン (C−4)3− (2−アミノエチルアミノプロビル)
ジェトキシメチルシラン (C−5)3− (2−アミノエチルアミノプ口ピル)
トリメトキシシラン 82 N((N2 ) 2 NH(C112):+5i
(0(:Ha)3(C−6)N−(3−トリエトキシ 
シリルプロピル)ウレア ((:2■sO) ssi ((:112) N −C
−Nl(2HI+ (C−7)3 [2−(2−アミノエチルアミノエチル
アミノ)プロビルコトリメトキシシラン (11:112 ) 2 N(C1”2)2 NN2■ 1N \(C:H2) 35i(OClb)3(D)アミノ基
を有するその他の化合物特にポリアミノ化合物が好適で
ある。
(C-1) γ-Aminopropyltriethoxysilane 112 NC3If 6 Si (OC2t16
) 3(C-2)Aminoethylaminomethyltrimethoxysilane 112 FIC112(:II□N (:H□5i
(OCH3) 3■ (C-3) Allyloxy-2-aminoethylaminomethyldimethylsilane (C-4) 3- (2-aminoethylaminoprobyl)
Jetoxymethylsilane (C-5) 3- (2-aminoethylaminopropyl)
Trimethoxysilane 82 N((N2) 2 NH(C112):+5i
(0(:Ha)3(C-6)N-(3-triethoxy
silylpropyl) urea ((:2■sO) ssi ((:112) N -C
-Nl(2HI+ (C-7)3 [2-(2-aminoethylaminoethylamino)probylcotrimethoxysilane (11:112) 2 N(C1”2)2 NN2■ 1N \(C:H2) 35i (OClb)3(D) Other compounds having an amino group, particularly polyamino compounds, are preferred.

ポリアミノ化合物としては下記のものが好適である。As the polyamino compound, the following are suitable.

i)脂肪族アミン (D−1)エチレンアミン族 82 N((:N2 (:N2 N1() nHn= 
1〜6(D−2)  N−アミノエチルピペラジン(D
−3)メタキシリレンジアミン (D−4)1.3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサ
ン (D−5) (D−6)ポリアミド (漏)5朔 ii)環状脂肪族アミン (D−7)バラメタンジアミン (D−8)メソホロンジアミン (D−10)P−フ二二レンジアミン 82 N 6fl+2 (D−11)rn−フ二二レンジアミン(D−12)4
.4’−ジアミノジフェニルメタン(D−13)4.4
’−ジアミノジフェニルスルホン +12 N 0灸ベニρ1!2 (D−14)ジシアンジアミド N112−(ニーNllCN I 1l (D−15) l12 ム (D−16) これら各原料を用いてエポキシ基とアミノ基との反応を
行う。
i) Aliphatic amine (D-1) ethylene amine group 82 N((:N2 (:N2 N1() nHn=
1-6 (D-2) N-aminoethylpiperazine (D
-3) Metaxylylene diamine (D-4) 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane (D-5) (D-6) Polyamide (leak) ii) Cycloaliphatic amine (D-7) Rose Methanediamine (D-8) Mesophorone diamine (D-10) P-phinyndiamine 82 N 6fl+2 (D-11) rn-phinyndiamine (D-12) 4
.. 4'-diaminodiphenylmethane (D-13) 4.4
'-Diamino diphenyl sulfone + 12 N 0 Moxibustion ρ1!2 (D-14) Dicyandiamide N112-(nee NlllCN I 1l (D-15) l12 Mu (D-16) Using these raw materials, epoxy group and amino group Perform the reaction.

反応に際しては、分子中の少くとも1つのNR2にて−
N821モルに対しエポキシ基2モルが完全に反応しな
いようにし、反応生成物中に−NH−基が残存するよう
にすることが好ましい。  この−NH−基はポリカー
ボネートと反応するので、きわめて良好な接着性かえら
れる。
During the reaction, at least one NR2 in the molecule -
It is preferable that 2 moles of epoxy groups per 821 moles of N do not react completely, so that -NH- groups remain in the reaction product. These --NH- groups react with the polycarbonate, resulting in very good adhesion.

目的とする反応生成物は上記のようなものであるが、以
下に典型的な例を挙げる。
The desired reaction products are as described above, and typical examples are listed below.

(I)上記(A)と(C) との反応生成物特にn=1
のものでは下記のものかえられる。
(I) Reaction product between the above (A) and (C), especially n=1
The following items can be changed.

(R3)3−− (ORt)Si−R2CH(OH)−
(:R2−NH−R4Si(ORt)a(R3)3−+
+5(II)上記(A)と(D)との反応生成物特にn
=1の(A)とジアミノ化合物 H2Nl2 NR2では下記のものがえられる。
(R3)3-- (ORt)Si-R2CH(OH)-
(:R2-NH-R4Si(ORt)a(R3)3-+
+5 (II) Reaction products of the above (A) and (D), especially n
With (A) where =1 and the diamino compound H2Nl2 NR2, the following can be obtained.

((R3)3−(ORt)、Si−LCII(Ojl)
−C+Iz−Nll±2L2(III) 1:記(B)
と(D)との反応生成物特にn=1の(B)とジエボキ
シド化合物t、t  (CHCH20)2では上記のも
のかえられる。
((R3)3-(ORt), Si-LCII(Ojl)
-C+Iz-Nll±2L2 (III) 1: Note (B)
The reaction product of (D), especially (B) with n=1, and a dieboxide compound t, t (CHCH20)2 can change the above.

((11+)3−(ORt)、Si−R4NHCH2C
H(O)l) R2+ 212 この他、(A)〜(D)の原料に応じ、上記に準じ所定
の反応生成物かえられる。 そして、この場合に、上記
から明らかなように、反応生成物中には−NH−基を少
なくとも1つ残存させることが好ましい。
((11+)3-(ORt), Si-R4NHCH2C
H(O)l) R2+ 212 In addition, depending on the raw materials of (A) to (D), predetermined reaction products may be changed according to the above. In this case, as is clear from the above, it is preferable that at least one -NH- group remains in the reaction product.

このような反応を行う溶媒としては、n−プロパツール
、イソプロパツール、ブタノール、ないしこれらの混合
系など各種アルコール系溶媒等を用い、溶液濃度5〜3
0wt%程度で、室温〜80℃程度、0.1〜3時間反
応させる。
As a solvent for such a reaction, various alcoholic solvents such as n-propanol, isopropanol, butanol, or a mixture thereof are used, and the solution concentration is 5 to 3.
The reaction is carried out at about 0 wt % at room temperature to about 80° C. for 0.1 to 3 hours.

この反応生成物溶液に当量〜その倍量程度の水を添加し
、室温〜80℃程度、1〜15時間程時間水分解行なう
。 これにより、OR1基が加水分解を受け、5t−0
−Si結合が生じる。
An equivalent to twice the amount of water is added to this reaction product solution, and water decomposition is carried out at room temperature to about 80° C. for about 1 to 15 hours. As a result, the OR1 group undergoes hydrolysis and 5t-0
-Si bond occurs.

このようにして得られる加水分解物は、コロイド状であ
る。
The hydrolyzate thus obtained is colloidal.

また、溶液には、必要に応じエチレングリコール等の安
定剤や界面活性剤、反応°促進剤等が添加される。
Further, a stabilizer such as ethylene glycol, a surfactant, a reaction accelerator, etc. are added to the solution as necessary.

なお、上記加水分解物溶液の塗布は、常法に従い、スピ
ンコード等の塗布によればよい。
The hydrolyzate solution may be applied by a conventional method using a spin cord or the like.

そして、乾燥は、30〜90℃にて、1〜15時間程度
行えばよい。
Then, drying may be performed at 30 to 90°C for about 1 to 15 hours.

このようにして形成される下地層5が一5i−O−Si
−結合を有することは、オージェ分光分析等により確認
することができる。
The base layer formed in this way is 15i-O-Si.
- The presence of a bond can be confirmed by Auger spectroscopy or the like.

また、NH基を有することは、FTIR等により確認す
ることができる。 そして、このNH基はポリカーボネ
ートと反応するものである。
Further, the presence of an NH group can be confirmed by FTIR or the like. This NH group reacts with polycarbonate.

ド地層5の厚さは、0.005〜0.2μm程度とする
。 特に好ましくは、0.008〜o、iμm程度の厚
さとする。
The thickness of the stratum 5 is approximately 0.005 to 0.2 μm. Particularly preferably, the thickness is about 0.008 to 0.1 μm.

F地層が0.2μmをこえると、プリグループが埋没し
てしまいトラッキング信号が得られず、o、oosμm
未満では、耐溶剤性が不モ分となり、本発明の効果が充
分発現されない。
When the F layer exceeds 0.2 μm, the pre-group is buried and a tracking signal cannot be obtained, and o, oos μm
If it is less than that, the solvent resistance will be poor and the effects of the present invention will not be sufficiently exhibited.

記録層6としては、種々のものであってよい。 ただ、
本発明では色素単独からなるか、色素組成物からなるこ
とが好ましい。
The recording layer 6 may be of various types. just,
In the present invention, it is preferable to consist of a dye alone or a dye composition.

用いる色素としては、書き込み光および読み出し光の波
長に応じ、これを有効に吸収するもののなかから、適宜
決定すればよい。 この場合、これらの光源としては、
装置を小型化できる点で、半導体レーザーを用いること
が好ましいので、色素はシアニン系、フタロシアニン系
、アントラキノン系、アゾ系、トリフェニルメタン系、
ビリリウムないしチアピリリウム塩′系等が好ましい。
The dye to be used may be appropriately determined from among those that effectively absorb the wavelengths of the writing light and reading light. In this case, these light sources are
Since it is preferable to use a semiconductor laser because the device can be made smaller, the dyes may be cyanine-based, phthalocyanine-based, anthraquinone-based, azo-based, triphenylmethane-based,
Preferred are biryllium and thiapyrylium salts.

また5色素組成物を記録層とする場合、ニトロセルロー
ス等の自己酸化性の樹脂や、ポリスチレン、ナイロン等
の熱可塑性樹脂を含有させることができる。 また、色
素の酸化劣化を防止するため、クエンチャ−を含有させ
ることもできる。 さらには、この他の添加剤を含有さ
せてもよい。
Further, when the five-dye composition is used as a recording layer, a self-oxidizing resin such as nitrocellulose, or a thermoplastic resin such as polystyrene or nylon can be contained. Furthermore, a quencher may be included in order to prevent oxidative deterioration of the dye. Furthermore, other additives may also be included.

このような場合、特に好ましくは、インドレニン系のシ
アニン色素とビスフェニルジチオール系等のクエンチャ
−との混合物が好ましい。
In such a case, a mixture of an indolenine cyanine dye and a quencher such as bisphenyldithiol is particularly preferred.

またこれらを色素のカチオンと、クエンチャ−のアニオ
ンとのイオン結合体として用いるのも好ましい。
It is also preferable to use these as an ionic bond between a dye cation and a quencher anion.

記録層の設層は、ケトン系、エステル系、エーテル系、
芳香族系、ハロゲン化アルキル系、アルコール系等の溶
媒を用いてスピンナーコート等の塗布を行えばよい。 
本発明では下地層を設けたことにより耐溶剤性が向上し
、最適の溶媒を広範囲の溶媒群から選択して用いること
ができる。
The recording layer can be made of ketone type, ester type, ether type,
A spinner coat or the like may be applied using an aromatic solvent, a halogenated alkyl solvent, an alcohol solvent, or the like.
In the present invention, solvent resistance is improved by providing the underlayer, and an optimal solvent can be selected from a wide range of solvent groups.

このような記録層6は、0.01〜10μmの厚さとす
ればよい。
Such a recording layer 6 may have a thickness of 0.01 to 10 μm.

なお、記録層の塗布に際し、塗布溶液の粘度は0.5〜
10cp、スピンナーの回転数は500〜1,000r
pm程度とする。
In addition, when coating the recording layer, the viscosity of the coating solution is 0.5~
10cp, spinner rotation speed 500-1,000r
Approximately pm.

なお、トラッキング制御用の溝を設ける場合、記録層の
厚さは、0.2μm以下、より好ましくは0.05〜0
・15μmとすることが好ましい。
In addition, when providing grooves for tracking control, the thickness of the recording layer is 0.2 μm or less, more preferably 0.05 to 0.0 μm.
- It is preferable to set it as 15 micrometers.

このとき、書き込み感度が向上する。 また、記録層中
での多重反射により、反射率がきわめて高くなり、読み
出しのS/N比がきわめて高くなる。 そして、記録ト
ラック部と他の領域との厚さの差にもとづく反射率の違
いが大きくなり、トラッキング制御が容易となる。
At this time, writing sensitivity is improved. Further, due to multiple reflections in the recording layer, the reflectance becomes extremely high, and the read S/N ratio becomes extremely high. Then, the difference in reflectance based on the difference in thickness between the recording track portion and other areas increases, making tracking control easier.

このような記録部分には、記録層の上層を設層すること
もできる。
An upper layer of the recording layer can also be provided in such a recording portion.

F地層5および記録層6を有する基板31と、保護板3
5とを突起71.75を介して一体化するには、通常、
超音波融着な用いればよい。
A substrate 31 having an F formation layer 5 and a recording layer 6, and a protection plate 3
5 through the protrusion 71.75, usually,
Ultrasonic fusion may be used.

M1音音波前を施す場合には、例えば棒状の突起71.
75が有効に加熱され、融着効率が良好で、作業性が良
好となり、また接着強度も高く、空隙間隔も精度よく制
御することができる。
When applying the M1 sonic wave front, for example, a rod-shaped projection 71.
75 is heated effectively, the fusion efficiency is good, the workability is good, the adhesive strength is high, and the gap distance can be controlled with precision.

変形が大きく、突起配設密度が高いときには、気密な外
周壁が全面に形成されることがある。
When the deformation is large and the protrusion density is high, an airtight outer peripheral wall may be formed over the entire surface.

また、通気口を隔壁間に形成することもできる。Also, vents can be formed between the partition walls.

通気口は、突起間間隙に形成される。The vent is formed in the gap between the protrusions.

また、固着は接着剤を注入することによっても行オ)れ
る。
Fixation can also be achieved by injecting adhesive.

また、基板の周縁部にホットメルト樹脂を接着剤として
塗布し、その後1両基板を組み合わせ超音波融着を施し
た、いわゆる接着と融着との組み合わせを用いて一体化
してもよい。
Alternatively, the two substrates may be integrated using a combination of adhesion and fusion, in which a hot melt resin is applied as an adhesive to the peripheral edge of the substrate, and then both substrates are combined and subjected to ultrasonic fusion.

このような複数の棒状突起を形成するには、原盤または
スタンバ−の加工を行い、基板成型時に一体成形すれば
よい。
In order to form such a plurality of rod-shaped protrusions, it is sufficient to process a master or a stand bar and integrally mold them at the time of molding the substrate.

以F、棒状突起による一体化について説明してきたが、
この他、公知の種々の一体化構造が可能である。
Since then, we have explained the integration using rod-shaped protrusions, but
In addition, various known integrated structures are possible.

なお、以トでは片面記録の場合について述べてきたが1
本発明では、両方の基板に記録層を設ける両面記録の媒
体としてもよい。 この場合には両方の基板が実質的に
透明な樹脂製であり、かつ両方の基板に下地層を設ける
ことが必要である。
In addition, although we have discussed the case of single-sided recording, 1
In the present invention, a double-sided recording medium may be used in which recording layers are provided on both substrates. In this case, it is necessary that both substrates be made of substantially transparent resin, and that both substrates be provided with an underlayer.

■  発明の具体的作用 本発明の光記録媒体は、通常ディスクとし、回転ド、書
き込み光を基板裏面側から照射する。 これにより、好
ましくは溝凹部に位置する記録トラック部にビットがト
ラック状に形成される。
(2) Specific Effects of the Invention The optical recording medium of the present invention is a normal disk, and a rotating disk is irradiated with writing light from the back side of the substrate. As a result, bits are preferably formed in a track shape in the recording track portion located in the groove recess.

このように形成されたビットは、回転下、基板裏面側か
ら読み出し光を照射して、その反射光を検出することに
よって検知される。
The bits formed in this manner are detected by emitting readout light from the back side of the substrate while rotating and detecting the reflected light.

また、トラッキングの制御を行うには、通常、書き込み
および読み出しを行いながら、その反射光を分割して、
2分割した一対のセンサーに導入する。 このとき、ビ
ームスポットが記録トラック部をはずれかけると、溝の
段差で位相差による干渉効果による一次光が一方のセン
サー側に偏るので、両センサーの信号を検出して、トラ
ックエラー信号が検出される。
In order to control tracking, the reflected light is usually split while writing and reading.
Introduce it to a pair of sensors divided into two. At this time, when the beam spot begins to deviate from the recording track section, the primary light due to the interference effect due to the phase difference due to the step in the groove is biased toward one sensor, so the signals from both sensors are detected and a track error signal is detected. Ru.

なお、記録層に一旦形成したビットを、光または熱によ
って消去して、再び書き込みを行うこともできる。
Note that the bits once formed on the recording layer can be erased by light or heat and then written again.

また、aき込みおよび読み出しに用いる光源としては、
各種レーザーを用いることができるが、特にt導体レー
ザーを用いることが好ましい。
In addition, as a light source used for reading and reading,
Although various lasers can be used, it is particularly preferable to use a t-conductor laser.

■  発明の具体的効果 本発明の光記録媒体、特に光記録ディスクは、樹脂、特
にポリカーボネート樹脂基板の記録層設層面側にエポキ
シ基とアミノ基との反応による反応生成物の加水分解物
の塗膜の下地層をイ」−する。
■Specific Effects of the Invention The optical recording medium of the present invention, particularly the optical recording disk, has a coating of a hydrolyzate of a reaction product resulting from a reaction between an epoxy group and an amino group on the side on which the recording layer is provided of a resin, especially a polycarbonate resin substrate. Remove the base layer of the membrane.

このため、樹脂、特にポリカーボネート樹脂基板とド地
層との接着がきわめて強固となり、高温度保7fドにお
いても樹脂基板と下地層との間に剥離が生ずるといった
!1¥故を防止することができる。
For this reason, the adhesion between the resin, especially the polycarbonate resin substrate, and the underlying layer becomes extremely strong, and peeling occurs between the resin substrate and the underlying layer even when kept at a high temperature of 7F! 1 yen error can be prevented.

また、記録−)き込み後においても、接着強度の劣化が
ない。
Furthermore, there is no deterioration in adhesive strength even after recording.

また、記録層に曲げ応力が加えられてもクラックはきわ
めて入りにくい。
Furthermore, even if bending stress is applied to the recording layer, cracks are extremely difficult to form.

そして、この下地層のトから記録層を設層するため、記
録層の塗布用溶媒による樹脂基板の劣化がきわめて小さ
くなるので、記録層の反射率の低Fが少なく、読み出し
のS/N比が格段と向トする。
Since the recording layer is formed from the top of this underlayer, the deterioration of the resin substrate due to the solvent for coating the recording layer is extremely small, so the low F of the reflectance of the recording layer is small, and the readout S/N ratio is is significantly improved.

また、保存による反射率の経時劣化もない。Furthermore, there is no deterioration in reflectance over time due to storage.

■ 具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例をあげて本発明をさらに詳
細に説明する。
(2) Specific Examples Hereinafter, the present invention will be explained in more detail by giving specific examples of the present invention.

実施例 直径12cmのポリカーボネート樹脂基板りに、厚さの
異なる下地層を設け、この上に記録層を設けて各種媒体
を得た。
Examples Various types of media were obtained by providing base layers of different thicknesses on polycarbonate resin substrates having a diameter of 12 cm, and providing recording layers thereon.

下地層は、以Fのようにして作製した。The base layer was produced as described below.

上記A−22モルとD−111モルとをイソプロパツー
ルに計lO%溶解し、30℃、5時間反応させた。 こ
の反応生成物には−NH−の存在が確認された。
A total of 10% of the above A-22 moles and D-111 moles were dissolved in isopropanol and reacted at 30°C for 5 hours. The presence of -NH- was confirmed in this reaction product.

次に、これに倍当量の水を添加し、30℃、10時間反
応させて加水分解を行った。
Next, twice the amount of water was added to this, and the mixture was reacted at 30° C. for 10 hours to perform hydrolysis.

このものをスピンコード塗布後、80℃にて10時間乾
燥を行った。
This material was coated with a spin cord and then dried at 80° C. for 10 hours.

下地層の膜厚は100および400人とした(サンプル
No、1.2)。
The thickness of the base layer was 100 and 400 layers (sample No. 1.2).

記録層には、インドレニン系シアニン色素、(1,3,
3,1’ 、3’ 、3’ −ヘキサトリメチルインド
トリカルボシアニンカチオン)とビスフェニルジチオー
ル系のクエンチャ−(ヒス(トリクロロフェニルジチオ
ール)Niアニオン)との色素結合体の溶媒としてシク
ロへキサノン2.2%溶液を用いて、0.05μmの厚
さに塗布設層した。
The recording layer contains indolenine cyanine dyes, (1,3,
Cyclohexanone is used as a solvent for a dye conjugate of a 3,1', 3', 3'-hexatrimethylindotricarbocyanine cation) and a bisphenyldithiol quencher (his(trichlorophenyldithiol)Ni anion). A layer was applied to a thickness of 0.05 μm using a 2% solution.

サンプルNo、 1において、下地層に用いる化合物を
A−1とD−1(n=1)、 C−1とB−5、A−2
とC−1に替えた他は、サンプルNo、1.2と同様に
してサンプルを得たくサンプルNo、 3〜5)。
In sample No. 1, the compounds used for the underlayer are A-1 and D-1 (n=1), C-1 and B-5, and A-2.
Sample Nos. 3 to 5) were obtained in the same manner as Sample No. 1.2, except that C-1 was replaced with C-1.

ド地層の膜厚は400人とした。The thickness of the stratum was set at 400 people.

また、比較として、特開昭60−203489号で開示
されているケイ素系縮合物のコロイド粒子分散液(コル
コート)の塗膜を下地層に使用した他はサンプルNo、
 2と同様なサンプルを作成した。
For comparison, sample No.
A sample similar to 2 was created.

下地層は、酢酸エチルとエチルアルコールを10:11
の割合で混合し、攪拌しながら徐々にS i (OC2
H5)4を酢酸エチルに対し2/25の割合で添加後、
3〜4日間放置した溶液をn−プロパツールでさらに1
0倍希釈した後、基板りに塗布設層、60℃、30分処
理して形成した。
For the base layer, mix ethyl acetate and ethyl alcohol in a ratio of 10:11.
S i (OC2
After adding H5)4 at a ratio of 2/25 to ethyl acetate,
The solution left for 3 to 4 days was treated with n-propatool for 1 more time.
After diluting 0 times, a layer was coated on a substrate and processed at 60° C. for 30 minutes to form a layer.

この場合、酸化ケイ素コロイドの粒径は50〜80人で
あった。
In this case, the particle size of the silicon oxide colloid was 50-80.

F地層の膜厚は、400人とした(サンプルNo、6)
The thickness of the F layer was 400 people (sample No. 6)
.

なお、下地層なしのサンプルも作成した(サンプルNo
、7)。
In addition, a sample without a base layer was also created (sample No.
, 7).

以トのサンプルを用いて、下記の測定を行なった。The following measurements were performed using the following samples.

基板と下地層との接着強度 各サンプルの初期時、記録後および60℃、90%RH
の雰囲気中に10日放置後の接着強度を、各サンプルを
1 ++m間隔で縦横各々11本クロスカットし、セロ
テープによる剥離テストを行ったときの基板への残存率
(%)により評価した。
Adhesive strength between substrate and underlayer at initial stage, after recording, and at 60°C and 90%RH for each sample
The adhesive strength after being left in the atmosphere for 10 days was evaluated by the residual rate (%) on the substrate when each sample was cross-cut 11 times in the vertical and horizontal directions at 1 ++ m intervals and a peel test was performed using cellophane tape.

なお、記録は、記録パワー 3.8n+W、線速度1.
3m/sで行った。 また、830 nmで基板裏面側
から光デイスクドライブ装置にて溝部をト・ラッキング
し、反射レベルおよびC/N比を測定したところ、本発
明のサンプルは良好な特性がえられ、良好な耐溶剤性が
確認された。
Note that recording was performed at a recording power of 3.8n+W and a linear velocity of 1.
The speed was 3 m/s. In addition, when the groove was tracked at 830 nm from the back side of the substrate using an optical disk drive device and the reflection level and C/N ratio were measured, the sample of the present invention had good characteristics and had good solvent resistance. gender has been confirmed.

結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.

表   1 1    A−2+D−11100100100100
2A−2+D−114001001001004C−1
+B−54001001001005A−2+C−14
001001001007(1讃)− 表1に示される結果から、本発明の効果があきらかであ
る。
Table 1 1 A-2+D-11100100100100
2A-2+D-114001001001004C-1
+B-54001001001005A-2+C-14
001001001007 (1 praise) - From the results shown in Table 1, the effects of the present invention are clear.

なお、サンプルNo、 1〜5は、オージェ分光分析に
より一3i−0−Si=結合を、また、FTIRにより
−NH−基を有することが、確認された。
It was confirmed that samples Nos. 1 to 5 had -3i-0-Si= bonds by Auger spectroscopy and -NH- groups by FTIR.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明の光記録ディスクの例を示す切断端面
図である。 符号の説明 1・・・・光記録ディスク、 2・・・・光記録部分、 31・・・・基板、   35・・・・保護板、5・・
・・下地層、 6・・・・記録層、 71.75・・・・棒状突起 FIG、1
FIG. 1 is a cut end view showing an example of the optical recording disk of the present invention. Explanation of symbols 1... Optical recording disk, 2... Optical recording portion, 31... Substrate, 35... Protective plate, 5...
... Base layer, 6... Recording layer, 71.75... Rod-shaped projection FIG, 1

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ポリカーボネート樹脂製の基板上に、色素または
色素組成物の記録層を有する光記録媒体において、 記録層と基板との間に、分子内に少なくとも1つの−N
H−基と加水分解可能な基が結合したケイ素とを有する
ケイ素化合物の加水分解物を含有する塗膜の下地層を有
することを特徴とする光記録媒体。
(1) In an optical recording medium having a recording layer of a dye or a dye composition on a substrate made of polycarbonate resin, at least one -N in the molecule is disposed between the recording layer and the substrate.
An optical recording medium characterized in that it has an underlayer of a coating film containing a hydrolyzate of a silicon compound having silicon to which an H-group and a hydrolyzable group are bonded.
(2)ポリカーボネート樹脂製の基板上に下地層を有し
、この下地層上に色素または色素組成物の記録層を有す
る光記録媒体を製造するにあたり、 少なくとも1つの化合物が加水分解可能な基を有するケ
イ素化合物であって、エポキシ基を少なくとも1つ有す
る化合物とアミノ基を少なくとも1つ有する化合物との
それぞれ1種以上を用い、これらを反応させて分を内に
少なくとも1つの−NH−基と加水分解可能な基が結合
したケイ素とを有するケイ素化合物を得、この化合物を
加水分解して基体上に塗設して下地層を設け、この下地
層上に記録層を塗設することを特徴とする光記録媒体の
製造方法。
(2) When producing an optical recording medium that has an underlayer on a polycarbonate resin substrate and a recording layer of a dye or a dye composition on this underlayer, at least one compound has a hydrolyzable group. using at least one silicon compound having at least one epoxy group and at least one compound having at least one amino group, and reacting them to form at least one -NH- group within minutes. The method is characterized by obtaining a silicon compound having silicon to which a hydrolyzable group is bonded, hydrolyzing this compound and coating it on a substrate to form an underlayer, and coating the recording layer on this underlayer. A method for manufacturing an optical recording medium.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4842937B2 (en) * 2004-06-30 2011-12-21 ナルコ カンパニー Corrosion inhibiting composition and use thereof

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