JPS63158886A - 高周波放電励起レ−ザ装置 - Google Patents
高周波放電励起レ−ザ装置Info
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- JPS63158886A JPS63158886A JP30553486A JP30553486A JPS63158886A JP S63158886 A JPS63158886 A JP S63158886A JP 30553486 A JP30553486 A JP 30553486A JP 30553486 A JP30553486 A JP 30553486A JP S63158886 A JPS63158886 A JP S63158886A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0975—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation
Landscapes
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- Optics & Photonics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は短絡用導体を有する高周波放電励起レーザ装置
に関する。本発明による装置は例えば、被加工物の微細
加工用のレーザ光を発生させる場合に用いられる。
に関する。本発明による装置は例えば、被加工物の微細
加工用のレーザ光を発生させる場合に用いられる。
一般に微細加工用レーザ光を発生させるためのレーザ装
置においては電極に印加される高周波電圧により放電管
内を通流するｌｉｅ 、 Ｎ、 、 Ｃｏ□等の気体内
に高周波放電が発生しレーザ光発振が行われる。誘電体
例えばガラス、セラミックス等がら成る筒状の放電管は
両端が支持箱体に接続されこれらの支持箱体は支柱体に
より基台上に支持されている。放電用気体はこれらの支
持箱体および支柱体の内部を通って通流する。この場合
に、放電管内の放電にともなう残留荷電粒子、例えば負
電荷をもつ電子または正電荷をもつイオン放電管から支
持箱体、支柱体へと放電用気体流に沿って移動しそれに
より接地部へ向う漏洩電流が生成されるという現象があ
る。また、放電管内の電極部位がら支持箱内部へ向って
の放電が寄生的に発生し電極部位から支持箱部位を通っ
て接地部へ向う異常な大電流が発生するという現象があ
る。
置においては電極に印加される高周波電圧により放電管
内を通流するｌｉｅ 、 Ｎ、 、 Ｃｏ□等の気体内
に高周波放電が発生しレーザ光発振が行われる。誘電体
例えばガラス、セラミックス等がら成る筒状の放電管は
両端が支持箱体に接続されこれらの支持箱体は支柱体に
より基台上に支持されている。放電用気体はこれらの支
持箱体および支柱体の内部を通って通流する。この場合
に、放電管内の放電にともなう残留荷電粒子、例えば負
電荷をもつ電子または正電荷をもつイオン放電管から支
持箱体、支柱体へと放電用気体流に沿って移動しそれに
より接地部へ向う漏洩電流が生成されるという現象があ
る。また、放電管内の電極部位がら支持箱内部へ向って
の放電が寄生的に発生し電極部位から支持箱部位を通っ
て接地部へ向う異常な大電流が発生するという現象があ
る。
これらの漏洩電流または異常大電流は放電管の電流の安
定度を劣化させたり、雑音または電波障害を発生させる
という不都合がある。さらに電源回路に電流帰還制御部
が設けられている場合には電流の変動が拡大され暴走状
態を招く可能性もある。
定度を劣化させたり、雑音または電波障害を発生させる
という不都合がある。さらに電源回路に電流帰還制御部
が設けられている場合には電流の変動が拡大され暴走状
態を招く可能性もある。
本発明は前述の；問題点を解決するための改良された高
周波放電励起レーザ装置を得ることを目的とするもので
ある。
周波放電励起レーザ装置を得ることを目的とするもので
ある。
本発明においては、内部を通流する高周波放電用気体流
中にレーザ光発振用高周波放電を行わせる放電管、該放
電管の外周に設けられ高周波電圧が印加される電極、該
電極へ供給されるべき電圧を発生させる高周波電源回路
、および該放電管を支持し内部に高周波放電用気体が通
流し基台に取付けられる放電管支持体；を有する高周波
放電励起レーザ装置において、該Ｔ４極における所定の
低電位点と該放電管支持体における該低電位点に比較的
近接した個所とを接続する短絡用導体、を具備し、それ
により前述した漏洩電流および寄生的放電電流をすべて
電源内に回収し得るようになっていることを特徴とする
高周波放電励起レーザ装置が提供される。
中にレーザ光発振用高周波放電を行わせる放電管、該放
電管の外周に設けられ高周波電圧が印加される電極、該
電極へ供給されるべき電圧を発生させる高周波電源回路
、および該放電管を支持し内部に高周波放電用気体が通
流し基台に取付けられる放電管支持体；を有する高周波
放電励起レーザ装置において、該Ｔ４極における所定の
低電位点と該放電管支持体における該低電位点に比較的
近接した個所とを接続する短絡用導体、を具備し、それ
により前述した漏洩電流および寄生的放電電流をすべて
電源内に回収し得るようになっていることを特徴とする
高周波放電励起レーザ装置が提供される。
本発明の一実施例としての短絡用導体を有する高周波放
電励起レーザ装置が第１図に示される。
電励起レーザ装置が第１図に示される。
第１図に示される高周波放電励起レーザ装置は内部を通
流する高周波放電用気体流においてレーザ光発振用高周
波放電が行われる放電管１、放電管１の外周に設けられ
高周波電圧が印加される電極２１ 、２２、電極２１
、２２へ供給されるべき電圧を発生させる高周波電源回
路３１、放電管１の両端に結合され、内部に高周波放電
用ガス流が通流する放電管支持箱体４１ 、５１、放電
管支持箱体４１ 、５１を支持する支柱体４２ 、５２
、および支柱体４２ 、５２が取付けられる基台６を具
備する。
流する高周波放電用気体流においてレーザ光発振用高周
波放電が行われる放電管１、放電管１の外周に設けられ
高周波電圧が印加される電極２１ 、２２、電極２１
、２２へ供給されるべき電圧を発生させる高周波電源回
路３１、放電管１の両端に結合され、内部に高周波放電
用ガス流が通流する放電管支持箱体４１ 、５１、放電
管支持箱体４１ 、５１を支持する支柱体４２ 、５２
、および支柱体４２ 、５２が取付けられる基台６を具
備する。
放電管の材料としては例えばガラス、セラミックス等が
用いられる。高周波放電用気体としては１１ｅ、Ｎ２．
ＣＯ２等が用いられる。高周波電源回路の電圧、周波
数としては種々の値を選択することができるが、例えば
電圧１ｋＶないし３ｋＶ、周波数ＩＭ［Ｉｚないし１０
ＭＨｚが好適である。高周波電源回路３１と電極を接続
する回路に流れる電流は適宜検出されて帰還制御部３２
を通って高周波電源回路３１を帰還制御する。
用いられる。高周波放電用気体としては１１ｅ、Ｎ２．
ＣＯ２等が用いられる。高周波電源回路の電圧、周波
数としては種々の値を選択することができるが、例えば
電圧１ｋＶないし３ｋＶ、周波数ＩＭ［Ｉｚないし１０
ＭＨｚが好適である。高周波電源回路３１と電極を接続
する回路に流れる電流は適宜検出されて帰還制御部３２
を通って高周波電源回路３１を帰還制御する。
第１図に示される高周波放電励起レーザ装置においては
、電極２１ 、２２における低電位点、例えば中央部の
所定個所に比較的近接した金属個所４２１と−を接続す
る銅テープ等から成る短絡用導体７が設けられる。
、電極２１ 、２２における低電位点、例えば中央部の
所定個所に比較的近接した金属個所４２１と−を接続す
る銅テープ等から成る短絡用導体７が設けられる。
第１図に示される高周波放電励起レーザ装置においては
、放電管１内において、放電管内の放電にともなう残留
荷電粒子、例えば電子、正イオン等が放電管支持箱体４
１の方面へ漏洩しようとし、また放電管１内において電
極部位から放電管支持箱体４１の内部部位へと寄生的放
電が形成され接地点へ向って大電流が通流しようとする
現象が、短絡用導体７の存在により防止される。すなわ
ち、漏洩荷電粒子による電流および寄生的放電による電
流はいずれも短絡導体によって電源に回収される。
、放電管１内において、放電管内の放電にともなう残留
荷電粒子、例えば電子、正イオン等が放電管支持箱体４
１の方面へ漏洩しようとし、また放電管１内において電
極部位から放電管支持箱体４１の内部部位へと寄生的放
電が形成され接地点へ向って大電流が通流しようとする
現象が、短絡用導体７の存在により防止される。すなわ
ち、漏洩荷電粒子による電流および寄生的放電による電
流はいずれも短絡導体によって電源に回収される。
もし前述の荷電粒子漏洩、放電大電流通流が発生すると
、放電電流の安定度が劣化し、または、雑音発生、電波
障害等の好ましくない状況がもたらされるか、短絡用導
体７の存在によりそれらが解消されることになる。
、放電電流の安定度が劣化し、または、雑音発生、電波
障害等の好ましくない状況がもたらされるか、短絡用導
体７の存在によりそれらが解消されることになる。
放電電流の安定度が劣化すると、電源回路および電極を
含む電流通流回路に電流検出部および該電流検出にもと
づく電源への帰還制御手段が設けられている場合には電
流の変動が拡大されてより大なる電流変動を生じさせ暴
走状態を招く可能性があるから、電流の安定度の劣化は
好ましくないものとして回避されるべきことである。
含む電流通流回路に電流検出部および該電流検出にもと
づく電源への帰還制御手段が設けられている場合には電
流の変動が拡大されてより大なる電流変動を生じさせ暴
走状態を招く可能性があるから、電流の安定度の劣化は
好ましくないものとして回避されるべきことである。
第１図に示される装置においては、短絡用導体７により
、電流を電源側へ短い経路で返還することが可能になり
、基台６および基台６の接地部位等への電流の通流が防
止される。
、電流を電源側へ短い経路で返還することが可能になり
、基台６および基台６の接地部位等への電流の通流が防
止される。
本発明によれば、電極における所定の低電位点と放電管
支持体における該低電位点に比較的近接した個所とが短
絡用導体で接続され、放電管支持部材から電源側への短
絡路が形成され、荷電粒子漏洩、寄生的放電形成等によ
る好ましくない事態の発生が防止される。それにより、
安全性および動作安定性が高められた実用上有利な高周
波放電励起レーザ装置を実現することができる。
支持体における該低電位点に比較的近接した個所とが短
絡用導体で接続され、放電管支持部材から電源側への短
絡路が形成され、荷電粒子漏洩、寄生的放電形成等によ
る好ましくない事態の発生が防止される。それにより、
安全性および動作安定性が高められた実用上有利な高周
波放電励起レーザ装置を実現することができる。
第１図は本発明の一実施例としての短絡用導体を有する
高周波放電励起レーザ装置を示す斜視図である。 （符号の説明） １・・・放電管、 ２１ 、２２・・・電極
、３１・・・高周波電源回路、 ３２・・・帰還制御部
、４１ 、５１・・・放電管支持箱体、４２ 、５２・
・・支柱体、４２１・・・接続用金属個所、 ６・・
・基台、７・・・短絡用導体。
高周波放電励起レーザ装置を示す斜視図である。 （符号の説明） １・・・放電管、 ２１ 、２２・・・電極
、３１・・・高周波電源回路、 ３２・・・帰還制御部
、４１ 、５１・・・放電管支持箱体、４２ 、５２・
・・支柱体、４２１・・・接続用金属個所、 ６・・
・基台、７・・・短絡用導体。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 内部を通流する高周波放電用気体流中にレーザ光発振用
高周波放電を行わせる放電管、 該放電管の外周に設けられ高周波電圧が印加される電極
、 該電極へ供給されるべき電圧を発生させる高周波電源回
路、および、 該放電管を支持し内部に高周波放電用気体が通流し基台
に取付けられる放電管支持体、を有する高周波放電励起
レーザ装置において、該装置が、該電極における所定の
低電位点と 該放電管支持体における該低電位点に比較的近接した個
所とを接続する短絡用導体を具備することを特徴とする
高周波放電励起レーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30553486A JPS63158886A (ja) | 1986-12-23 | 1986-12-23 | 高周波放電励起レ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30553486A JPS63158886A (ja) | 1986-12-23 | 1986-12-23 | 高周波放電励起レ−ザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63158886A true JPS63158886A (ja) | 1988-07-01 |
Family
ID=17946310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30553486A Pending JPS63158886A (ja) | 1986-12-23 | 1986-12-23 | 高周波放電励起レ−ザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63158886A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0389633A1 (en) * | 1988-09-09 | 1990-10-03 | Fanuc Ltd. | Discharge tube for a gas laser device |
-
1986
- 1986-12-23 JP JP30553486A patent/JPS63158886A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0389633A1 (en) * | 1988-09-09 | 1990-10-03 | Fanuc Ltd. | Discharge tube for a gas laser device |
| US5151916A (en) * | 1988-09-09 | 1992-09-29 | Fanuc Ltd. | Electric discharge tube for gas laser |
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