JPS63140115A - 流体軸受用の流体流通機構 - Google Patents
流体軸受用の流体流通機構Info
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- JPS63140115A JPS63140115A JP28707086A JP28707086A JPS63140115A JP S63140115 A JPS63140115 A JP S63140115A JP 28707086 A JP28707086 A JP 28707086A JP 28707086 A JP28707086 A JP 28707086A JP S63140115 A JPS63140115 A JP S63140115A
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C29/00—Bearings for parts moving only linearly
- F16C29/02—Sliding-contact bearings
- F16C29/025—Hydrostatic or aerostatic
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C32/00—Bearings not otherwise provided for
- F16C32/06—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings
- F16C32/0603—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings supported by a gas cushion, e.g. an air cushion
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C2300/00—Application independent of particular apparatuses
- F16C2300/40—Application independent of particular apparatuses related to environment, i.e. operating conditions
- F16C2300/62—Application independent of particular apparatuses related to environment, i.e. operating conditions low pressure, e.g. elements operating under vacuum conditions
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は真空雰囲気中で使用される各種加工機、測定装
置または半導体リソグラフィ工程で用いる露光焼付装置
等に用いられる、エアスライド等の移動物体へ流体を供
給、又は移動物体から流体供給用あるいは流体排出用配
管チューブの材質はガス発生等のため限定される。
置または半導体リソグラフィ工程で用いる露光焼付装置
等に用いられる、エアスライド等の移動物体へ流体を供
給、又は移動物体から流体供給用あるいは流体排出用配
管チューブの材質はガス発生等のため限定される。
大気中での移動体、特にエアスライド等用の配管チュー
ブとしては、例えばフレキシブルなナイロンチューブ等
があり、移動体の移動に住い流路を変形して移動体にチ
ューブを追従できるような構成をとっていた。しかし高
真空中ではナイロンがガスを放出して真空度を悪化させ
るため使用が困難であった。又真空雰囲気中で使用して
もガスを発生させない金属等製のチューブ、例えばステ
ンレスチューブは曲げることができないのでエアースラ
イド等への配管チューブ雰囲気を保ち、エアスライド等
の移動物体にも使用でき、かつ移動物体の運動性能に管
の８動抵抗力、例えば変形したナイロンチューブの復元
力等による悪影響を及ぼさない流体排出又は導入機構を
提供することを目的とする。
ブとしては、例えばフレキシブルなナイロンチューブ等
があり、移動体の移動に住い流路を変形して移動体にチ
ューブを追従できるような構成をとっていた。しかし高
真空中ではナイロンがガスを放出して真空度を悪化させ
るため使用が困難であった。又真空雰囲気中で使用して
もガスを発生させない金属等製のチューブ、例えばステ
ンレスチューブは曲げることができないのでエアースラ
イド等への配管チューブ雰囲気を保ち、エアスライド等
の移動物体にも使用でき、かつ移動物体の運動性能に管
の８動抵抗力、例えば変形したナイロンチューブの復元
力等による悪影響を及ぼさない流体排出又は導入機構を
提供することを目的とする。
以下第１〜４図に従って説明する。第１図は本発明の一
実施例を用いた真空７囲気内で使用される空気軸受によ
り支持される縦型ステージの概略図である。図において
ＭＰはメインフレームで前面と後面に不図示のカバーを
有し大地に固定的に配置され、内部空間を真空または特
定ガス〜充満状態にする。サブフレームＳＦはメインフ
レームＭＦに、天上からＭＦＩＲ。
実施例を用いた真空７囲気内で使用される空気軸受によ
り支持される縦型ステージの概略図である。図において
ＭＰはメインフレームで前面と後面に不図示のカバーを
有し大地に固定的に配置され、内部空間を真空または特
定ガス〜充満状態にする。サブフレームＳＦはメインフ
レームＭＦに、天上からＭＦＩＲ。
ＭＦＩＬにて懸架され、ＭＦ２Ｒ，ＭＦ２Ｌにより下か
ら振動及び横ずれ防止のためゴム材ＦＯＲ，ＦＧＬ等に
軽く当接している。Ｙ２ＭはサブフレームＳＦに固定さ
れたシリンダ、モータ等で成る電動機でそのロッドＹ２
Ｇは縦方向移動用ステージＹ２Ｓの上面Ｙ２ＳＵに結合
される。
ら振動及び横ずれ防止のためゴム材ＦＯＲ，ＦＧＬ等に
軽く当接している。Ｙ２ＭはサブフレームＳＦに固定さ
れたシリンダ、モータ等で成る電動機でそのロッドＹ２
Ｇは縦方向移動用ステージＹ２Ｓの上面Ｙ２ＳＵに結合
される。
ステージＹ２Ｓは上板Ｙ２ＳＩＪ、下仮Ｙ２ＳＬ、前板
Ｙ２ＳＦ等で構成され、一対の釉Ｙ２Ｒ，Ｙ２Ｌにより
案内され、サブフレームＳＦ内を電動機Ｙ２Ｍの駆動に
よって上下に移動する。一対のＹ２ＡＵ、Ｙ２ＡＬは！
Ｔｉ１ＩＩＹ２Ｒの空気軸受、Ｙ２にはその間を連結す
る筒である。１ｌｈＹ２Ｌにも同様に設けられる。ステ
ージＹ２Ｓは軸Ｙ２Ｒ，Ｙ２Ｌとこの空気軸受でガイド
される。
Ｙ２ＳＦ等で構成され、一対の釉Ｙ２Ｒ，Ｙ２Ｌにより
案内され、サブフレームＳＦ内を電動機Ｙ２Ｍの駆動に
よって上下に移動する。一対のＹ２ＡＵ、Ｙ２ＡＬは！
Ｔｉ１ＩＩＹ２Ｒの空気軸受、Ｙ２にはその間を連結す
る筒である。１ｌｈＹ２Ｌにも同様に設けられる。ステ
ージＹ２Ｓは軸Ｙ２Ｒ，Ｙ２Ｌとこの空気軸受でガイド
される。
この装置の空気軸受の周囲はラビリンスシール等で外部
の真空雰囲気とは隔離される。Ｙ２ＢＲ，Ｙ２ＢＬはメ
インフレームＭＦに固定された定張力バネ機構、Ｙ２Ｓ
Ｒ，Ｙ２ＳＬは定張力バネ機構Ｙ２ＢＲ，Ｙ２ＢＬとス
テージＹ２Ｓとを連結するスチール製ベルトで、バネ機
構Ｙ２ＢＲ，Ｙ２ＢＬにより常時巻上げられＹ２Ｓにか
かる重量をバランスするＭ錘の代りをしこれによりステ
ージＹ２Ｓの上昇・下降時の電ｉｂ機Ｙ２Ｍの過負荷を
軽減している。Ｙ２ＬＲ。
の真空雰囲気とは隔離される。Ｙ２ＢＲ，Ｙ２ＢＬはメ
インフレームＭＦに固定された定張力バネ機構、Ｙ２Ｓ
Ｒ，Ｙ２ＳＬは定張力バネ機構Ｙ２ＢＲ，Ｙ２ＢＬとス
テージＹ２Ｓとを連結するスチール製ベルトで、バネ機
構Ｙ２ＢＲ，Ｙ２ＢＬにより常時巻上げられＹ２Ｓにか
かる重量をバランスするＭ錘の代りをしこれによりステ
ージＹ２Ｓの上昇・下降時の電ｉｂ機Ｙ２Ｍの過負荷を
軽減している。Ｙ２ＬＲ。
Ｙ２ＬＬは駆動軸Ｙ２Ｇに対して対称的に配置されたス
テージＹ２Ｓをロックするための支持用バーである。Ｙ
２ＰＲ，Ｙ２ＰＬは圧電素子等を含み、ステージＹ２Ｓ
の停止後にバーＹ２ＬＲ。
テージＹ２Ｓをロックするための支持用バーである。Ｙ
２ＰＲ，Ｙ２ＰＬは圧電素子等を含み、ステージＹ２Ｓ
の停止後にバーＹ２ＬＲ。
Ｙ２ＬＬを圧接し、ロックするための電気機械的ロック
機構である。これによりステージＹ２Ｓの上下方向の位
置は保持される。バーのくびれＹ２ＦＲ，Ｙ２ＦＬはロ
ック時の軸Ｙ２Ｒ。
機構である。これによりステージＹ２Ｓの上下方向の位
置は保持される。バーのくびれＹ２ＦＲ，Ｙ２ＦＬはロ
ック時の軸Ｙ２Ｒ。
Ｙ２Ｌに対するステージＹ２Ｓのずれを弾性的に吸収す
る機能を有し、圧電素子等とで弾性ロック機構を構成す
る。
る機能を有し、圧電素子等とで弾性ロック機構を構成す
る。
ステージＹＺＳ内にはさらにステージＹＩＳか搭載され
る。ステージＹ２Ｓの下板Ｙ２ＳＬにはステージＹＩＳ
の移動用の電動機ＹＩＭが固定され、軸ＹＩＲ，ＹＩＬ
（不図示）上をロッドＹＩＧの上下動によって上下（Ｙ
）方向に８動する。ＹＩＡＲはＹ２ＡＵ同様の空気軸受
である。またステージＹ２Ｓ同様に定張力バネ機構ＹＩ
ＢＲ，ＹＩＢＬはスレー９ＹＩＳに固定されたスチール
ベルトＹＩＳＲ，ＹＩＳＬを常時巻上げることによりＹ
ＩＳにかかる荷重にバランスする重錘の代りをしステー
ジＹＩＳの上昇・下降用電動機ＹＩＭの小型化を計って
いる。
る。ステージＹ２Ｓの下板Ｙ２ＳＬにはステージＹＩＳ
の移動用の電動機ＹＩＭが固定され、軸ＹＩＲ，ＹＩＬ
（不図示）上をロッドＹＩＧの上下動によって上下（Ｙ
）方向に８動する。ＹＩＡＲはＹ２ＡＵ同様の空気軸受
である。またステージＹ２Ｓ同様に定張力バネ機構ＹＩ
ＢＲ，ＹＩＢＬはスレー９ＹＩＳに固定されたスチール
ベルトＹＩＳＲ，ＹＩＳＬを常時巻上げることによりＹ
ＩＳにかかる荷重にバランスする重錘の代りをしステー
ジＹＩＳの上昇・下降用電動機ＹＩＭの小型化を計って
いる。
ＹＩＰＣ，ＹＩＰＲ，ＹＩＰＬは先と同様圧電素子によ
るロック機構でステージＹ２Ｓに対してステージＹＩＳ
をロックする。したがって、この状態でＹ２Ｓを移動し
ても、ＹＩＳはＹ ２ Ｓと一体で移動する。ステージ
ＹＩＳ内にはさらに水平（Ｘ）方向に移動する移動可能
なステーシｘＳが搭載され、ステージＹＩＳの側部ＹＩ
ＭにステージＸＳの移動用電動機ＸＭが固定される。
るロック機構でステージＹ２Ｓに対してステージＹＩＳ
をロックする。したがって、この状態でＹ２Ｓを移動し
ても、ＹＩＳはＹ ２ Ｓと一体で移動する。ステージ
ＹＩＳ内にはさらに水平（Ｘ）方向に移動する移動可能
なステーシｘＳが搭載され、ステージＹＩＳの側部ＹＩ
ＭにステージＸＳの移動用電動機ＸＭが固定される。
電動機ＸＭのロッドＸＧの左右動によって軸ＸＬ、ＸＲ
上をステージＸＳは移動する。ＦＬＸはロッドＸＧとス
テージｘＳを弾性的に結合する機構で固定ＩＩＩＩＸＬ
、ＸＲに対するステージＸＳのずれを吸収する。ＦＬＹ
Ｉ、ＦＬＹ２も同様である。ＸＡＵは軸ＸＬのための先
と同様の空気軸受である。軸ＸＲにも同様に備えられる
。
上をステージＸＳは移動する。ＦＬＸはロッドＸＧとス
テージｘＳを弾性的に結合する機構で固定ＩＩＩＩＸＬ
、ＸＲに対するステージＸＳのずれを吸収する。ＦＬＹ
Ｉ、ＦＬＹ２も同様である。ＸＡＵは軸ＸＬのための先
と同様の空気軸受である。軸ＸＲにも同様に備えられる
。
また前述と同様の圧電素子及びくびれ付バーによるロッ
ク機構（不図示）も軸ＸＧに対向した位置に備えられる
。ステージＸＳにはさらに回転及び回転軸方向に８動可
能なステージｅｚｓを搭載し、これは回路パターン露光
用のウェハＷＦを吸着する機能も有する。
ク機構（不図示）も軸ＸＧに対向した位置に備えられる
。ステージＸＳにはさらに回転及び回転軸方向に８動可
能なステージｅｚｓを搭載し、これは回路パターン露光
用のウェハＷＦを吸着する機能も有する。
ウェハＷＦに対向した位置で、ステージＹ２Ｓの前板Ｙ
２ＳＦの内面に円環状の回転ステージｅＳが取り付けら
れ、この回転ステージθＳには回路パターンが設けられ
たンマスクＭＫが吸着される。
２ＳＦの内面に円環状の回転ステージｅＳが取り付けら
れ、この回転ステージθＳには回路パターンが設けられ
たンマスクＭＫが吸着される。
また前板Ｙ２ＳＦにはＸ線、電子線、イオン線等の露光
用光束ＥＸが入射できる開口部ＥＸＯが形成され、さら
にマスクＭ Ｋ及び又はウェハＷＦの搬入出用の開口部
ＷＭＩＯが形成されている。
用光束ＥＸが入射できる開口部ＥＸＯが形成され、さら
にマスクＭ Ｋ及び又はウェハＷＦの搬入出用の開口部
ＷＭＩＯが形成されている。
サブフレームＳＦ、メインフレームＭＦにはステージＹ
２Ｓが下端位置に来たときに、開口部ＷＭＩＯの対向す
る位置に、開口部ＳＷＯ。
２Ｓが下端位置に来たときに、開口部ＷＭＩＯの対向す
る位置に、開口部ＳＷＯ。
ＭＷＯが形成されている。ＭＰＳはウェハＷＦのプリア
ライメントステージで、アライメントされたウェハＷＦ
は真空バッファ室、ハンド（いずれも不図示）等により
ステージθＺＳに吸着される。マスクも同様の手法でス
テージθＳに吸着される。
ライメントステージで、アライメントされたウェハＷＦ
は真空バッファ室、ハンド（いずれも不図示）等により
ステージθＺＳに吸着される。マスクも同様の手法でス
テージθＳに吸着される。
次いでステージＹ２Ｓが所定の露光位置にまで上昇され
、必要とあらばその前にマスクとウェハのファインアラ
イメントを行い、露光位置にて露光用平行光束ＥＸによ
り順次露光される。
、必要とあらばその前にマスクとウェハのファインアラ
イメントを行い、露光位置にて露光用平行光束ＥＸによ
り順次露光される。
このときステージＹ２Ｓは定速で露光範囲を上昇または
下降するのでマスクとウェハは一体的に運動し、結果と
して平行光束ＥＸで走査露光される。露光が終了すると
ステージＹ２Ｓは下端まで下降し、ウェハ及び又はマス
クの交換を行う。このようにステージＹ２Ｓはマスク及
び又はウェハの搬送機能と例えば露光時の定速送り機能
を兼ねるので好ましい。
下降するのでマスクとウェハは一体的に運動し、結果と
して平行光束ＥＸで走査露光される。露光が終了すると
ステージＹ２Ｓは下端まで下降し、ウェハ及び又はマス
クの交換を行う。このようにステージＹ２Ｓはマスク及
び又はウェハの搬送機能と例えば露光時の定速送り機能
を兼ねるので好ましい。
またステージＹ２Ｓの穆勤時にステージＹＩＳをロック
機構ＹＩＰＣによりＹ方向にロックし、またステージｘ
Ｓも圧電素子等の電気機械的ロック機構ＸＰによりＸ方
向にロックし、さらにはステージθＺＳ及び又はステー
ジθＳも不図示のサーボロック機構により各々の移動方
向にロックする。これにより各ステージが互いに干渉し
合うことなく独立に確実に移動でき好ましい。
機構ＹＩＰＣによりＹ方向にロックし、またステージｘ
Ｓも圧電素子等の電気機械的ロック機構ＸＰによりＸ方
向にロックし、さらにはステージθＺＳ及び又はステー
ジθＳも不図示のサーボロック機構により各々の移動方
向にロックする。これにより各ステージが互いに干渉し
合うことなく独立に確実に移動でき好ましい。
またＹ２Ｓ移動時ＹＩＳＬ、ＹＩＳＲをｙｔＰＬ、ＹＩ
ＰＲによりロックすることにより定張力バネＹＩＢＬ、
ＹＩＢＲの定張力バネの張力変動がＹ２Ｓにみに作用し
、ＹＩＳにまで伝わらないのでＹＩＳとＹ２Ｓの位置関
係が維持でき好ましい。
ＰＲによりロックすることにより定張力バネＹＩＢＬ、
ＹＩＢＲの定張力バネの張力変動がＹ２Ｓにみに作用し
、ＹＩＳにまで伝わらないのでＹＩＳとＹ２Ｓの位置関
係が維持でき好ましい。
第２図は本発明の実施例を使用した、真空雰囲気中で使
用される静圧軸受により支持される縦型ステージの背面
図である。
用される静圧軸受により支持される縦型ステージの背面
図である。
８ａＮｊはステンレスで形成された配管アームでへλ等
からできているブロック内部に４系統の配管穴が設けら
れ９ａ、９ｂは中継ブロックであり、ブロック内部に４
系統の配管穴が、配管アーム８ ａ ％ ｊの配管穴に
相対する位置に設けられ、ロータリージヨイント１０ａ
〜０は接続される配管アームがここを中心に回動可能で
ある為の回転機能をもつ４系統ジヨイントである。ロー
タリージヨイント１０ａ−ｊおよび中継ブロック９ａ、
９ｂはサブフレームＳＦ、ステージｘｓ。
からできているブロック内部に４系統の配管穴が設けら
れ９ａ、９ｂは中継ブロックであり、ブロック内部に４
系統の配管穴が、配管アーム８ ａ ％ ｊの配管穴に
相対する位置に設けられ、ロータリージヨイント１０ａ
〜０は接続される配管アームがここを中心に回動可能で
ある為の回転機能をもつ４系統ジヨイントである。ロー
タリージヨイント１０ａ−ｊおよび中継ブロック９ａ、
９ｂはサブフレームＳＦ、ステージｘｓ。
ステージＹＩＳ、ステージＹ２Ｓにそれぞれ設面され、
ロータリージヨイント１０ｋ”−ｏは宙に浮いた状態と
なっている。各テーブルへの配管は配管アーム８ ａ
％ ｊ 、中継ブロック９ａ、ｂとロータリジヨイント
１０ａ〜０との組合せでＩＡ ＩＳされている。サブフ
レームＳＦ上のロータリージヨイント１０ａ、１０ｆ、
１０ｊは真空雰囲気外の不図示のエア供給源とサブフレ
ーム内に設けられた不図示の固定孔を介して連結してい
る。
ロータリージヨイント１０ｋ”−ｏは宙に浮いた状態と
なっている。各テーブルへの配管は配管アーム８ ａ
％ ｊ 、中継ブロック９ａ、ｂとロータリジヨイント
１０ａ〜０との組合せでＩＡ ＩＳされている。サブフ
レームＳＦ上のロータリージヨイント１０ａ、１０ｆ、
１０ｊは真空雰囲気外の不図示のエア供給源とサブフレ
ーム内に設けられた不図示の固定孔を介して連結してい
る。
ステージＹ２ＳとサブフレームＳＦとは配管アーム８ａ
、８ｂ、 ロータリージヨイント１０ａ、１０ｂ、１０
ｋにより接続され、ステージＹＺＳ内の不図示の固定管
に外部よりエア供給可能となっており、又スキャンテー
ブル３か移動しても各ロータリージヨイントが回転可能
で配管アーム８ａ、８ｂが互いに開く方向（矢印Ａ）に
などの管によるステージ移動時の抵抗はない。
、８ｂ、 ロータリージヨイント１０ａ、１０ｂ、１０
ｋにより接続され、ステージＹＺＳ内の不図示の固定管
に外部よりエア供給可能となっており、又スキャンテー
ブル３か移動しても各ロータリージヨイントが回転可能
で配管アーム８ａ、８ｂが互いに開く方向（矢印Ａ）に
などの管によるステージ移動時の抵抗はない。
サブフレームＳＦからステージｘＳへは配管アーム８ｃ
、８ｄ、８ｅ、８ｆ１ ロータリージヨイント１０ｃ、
１０Ｊ２．１０ｄ、１０ｅ。
、８ｄ、８ｅ、８ｆ１ ロータリージヨイント１０ｃ、
１０Ｊ２．１０ｄ、１０ｅ。
１０ｍ、１０ｆ、配管アームと同様構造でステージＹ２
Ｓに固定部９ａｌを介して固定された中継ブロック９ａ
により接続され、ステージ移動時の不図示の固定孔に外
部よりエア供給可能となっており、ステージＸＳおよび
ステージＹＩＳの移動時にジヨイント１０ｃ、１０ｆ間
はスムースに伸縮可能になっている。また中継ブロック
９４をステージＹ２Ｓに固定することにより、ステージ
Ｙ２Ｓの９勅時には、中継ブロック９ａとジヨイント１
０ｃとの間の配管が勅かないようになっており、この配
管の運動によるステージＹ２ＳとステージＸＳとの間の
姿勢精度への悪影響が発生しない。
Ｓに固定部９ａｌを介して固定された中継ブロック９ａ
により接続され、ステージ移動時の不図示の固定孔に外
部よりエア供給可能となっており、ステージＸＳおよび
ステージＹＩＳの移動時にジヨイント１０ｃ、１０ｆ間
はスムースに伸縮可能になっている。また中継ブロック
９４をステージＹ２Ｓに固定することにより、ステージ
Ｙ２Ｓの９勅時には、中継ブロック９ａとジヨイント１
０ｃとの間の配管が勅かないようになっており、この配
管の運動によるステージＹ２ＳとステージＸＳとの間の
姿勢精度への悪影響が発生しない。
ステージＹＩＳとサブフレームＳＦとは配管アーム８ｇ
、８ｈ、８ｉ、８ｊ、 ロータリージヨイント１０ｇ
、Ｉｏｎ、１０ｈ、１０ｉ。
、８ｈ、８ｉ、８ｊ、 ロータリージヨイント１０ｇ
、Ｉｏｎ、１０ｈ、１０ｉ。
１０ｊ、１０ｏ、Ｉｏｎ、１０ｏ、配管アームと同様構
造でステージＹ２Ｓに固定部９ａを介して固定された中
継ブロック９ｂにより接続され、ステージＹＩＳの移動
時にジヨイント１０ｇ。
造でステージＹ２Ｓに固定部９ａを介して固定された中
継ブロック９ｂにより接続され、ステージＹＩＳの移動
時にジヨイント１０ｇ。
１０ｊ間がスムースに伸縮可能になっている。
またステージＸＳの場合と同様に中継ブロック９ｂをス
テージＹ２Ｓに固定することにより、ステージＹ２Ｓの
移動時に中継ブロックｂとジヨイント１０ｇとの間の配
管が動かないようになっており、ステージＹ２Ｓとステ
ージＹＩＳとの間の姿勢精度に悪影響を及ぼさないよう
に工夫されている。
テージＹ２Ｓに固定することにより、ステージＹ２Ｓの
移動時に中継ブロックｂとジヨイント１０ｇとの間の配
管が動かないようになっており、ステージＹ２Ｓとステ
ージＹＩＳとの間の姿勢精度に悪影響を及ぼさないよう
に工夫されている。
上記の配管によりステージＸＳ、ステージｙｔｓ、ステ
ージＹ２Ｓに供給される気体は各ステージを構成する部
材内に設けられた不図示の固定孔を通ってそれぞれのス
テージの移動案内用の空気軸受へ供給される。又空気軸
受から噴出し、た気体は不図示の別の固定孔を通って上
記の配管により排出される。
ージＹ２Ｓに供給される気体は各ステージを構成する部
材内に設けられた不図示の固定孔を通ってそれぞれのス
テージの移動案内用の空気軸受へ供給される。又空気軸
受から噴出し、た気体は不図示の別の固定孔を通って上
記の配管により排出される。
第３図はロータリージヨイント１０にの詳細図で（ａ）
は縦断面図、（ｂ）は横断面図である。
は縦断面図、（ｂ）は横断面図である。
他のロータリージヨイントの構成もこれと同様である。
１１はハウジングであり、４ケの接続口を１２ａｘｄを
有し、中空軸１９とからなる中空の管状部材内部にイン
ナーバイブ１３，１４．１５が挿入され、ｉ１６ととも
に同心円状に４系統の気体流路が形成され、４ケの接続
口１７ａｘｄを有するハウジング１８とｉ１９，２０．
２１によって４系統の気体流路が形成される。両方の排
出するために用いられる。ハウシング１１゜インナーパ
イプ１３，１４，１５、中空軸２２とからなる４系統の
期待流路即ち空圧回路を有する第１部材１０１と、ハウ
ジング１８．！１９゜２０．２１とからなる４系統の空
圧回路を有する第２部材１０２とは、玉軸受２３ａ、２
３ｂにより相対的に回転運動ができるように、かつ互い
の４系統の空圧回路の供給同士、それぞれの排出路同士
が連通ずるように接続されこの回動可能接続部から外部
に空気がもれないよう、かつ互いの流路が流通しないよ
うテフロンシール２４ａ、２４ｂ、２４ｃによってシー
ルされている。中空軸２２の外周部の１ケ所に設けられ
た連通孔３０ ａ ％ ｄと接続口１７ａｘｄとが回転
することにより遮断されないように中空軸２２の外周に
円周方向に溝３１ａ−ｃと空気溜り３２が設けられ回転
中も溝又は空気溜りを介して連通孔と接続口が流通関係
にあるようされている。
有し、中空軸１９とからなる中空の管状部材内部にイン
ナーバイブ１３，１４．１５が挿入され、ｉ１６ととも
に同心円状に４系統の気体流路が形成され、４ケの接続
口１７ａｘｄを有するハウジング１８とｉ１９，２０．
２１によって４系統の気体流路が形成される。両方の排
出するために用いられる。ハウシング１１゜インナーパ
イプ１３，１４，１５、中空軸２２とからなる４系統の
期待流路即ち空圧回路を有する第１部材１０１と、ハウ
ジング１８．！１９゜２０．２１とからなる４系統の空
圧回路を有する第２部材１０２とは、玉軸受２３ａ、２
３ｂにより相対的に回転運動ができるように、かつ互い
の４系統の空圧回路の供給同士、それぞれの排出路同士
が連通ずるように接続されこの回動可能接続部から外部
に空気がもれないよう、かつ互いの流路が流通しないよ
うテフロンシール２４ａ、２４ｂ、２４ｃによってシー
ルされている。中空軸２２の外周部の１ケ所に設けられ
た連通孔３０ ａ ％ ｄと接続口１７ａｘｄとが回転
することにより遮断されないように中空軸２２の外周に
円周方向に溝３１ａ−ｃと空気溜り３２が設けられ回転
中も溝又は空気溜りを介して連通孔と接続口が流通関係
にあるようされている。
尚４系統の同心円状の空圧回路のそれぞれの断面積はハ
ウジング１１．１８に設けられている４ケの接続口のそ
れぞわの断面積と等しくなるようにし流体抵抗等の損失
による給・排気効率が低下しないようにしである。テフ
ロンシール２４ａ、２４ｂ、２４ｃは、ビス２６によっ
て固定された押上リング２５により軸方向にずれないよ
うに取付けられ、ビス２６から漏れる空気を０リング付
の蓋２７によってシールされている。接続口１２ａ−ｄ
、１７ａＮｄに合うように配管アーム８ ａ Ｎｊがそ
れぞれボルトによって固定されている。ジヨイント１０
ａ、１０ｂ。
ウジング１１．１８に設けられている４ケの接続口のそ
れぞわの断面積と等しくなるようにし流体抵抗等の損失
による給・排気効率が低下しないようにしである。テフ
ロンシール２４ａ、２４ｂ、２４ｃは、ビス２６によっ
て固定された押上リング２５により軸方向にずれないよ
うに取付けられ、ビス２６から漏れる空気を０リング付
の蓋２７によってシールされている。接続口１２ａ−ｄ
、１７ａＮｄに合うように配管アーム８ ａ Ｎｊがそ
れぞれボルトによって固定されている。ジヨイント１０
ａ、１０ｂ。
１０ｃ、１０ｆ、１０ｇ、１０ｊにおいては第１部材１
０１、第２部材１０２のいずれかがフレーム又はステー
ジに固定設定され、配管アームのかわりに内部の固定管
と接続するようになっている。上述の構成により第１部
材１０１と第２部材１０２とが玉軸受２３ａ、２３ｂを
介して回転できるので、配管アームはこのジヨイントを
中心に回動可能であり、又この回転運動を行っても空気
もれ等が発生しない。
０１、第２部材１０２のいずれかがフレーム又はステー
ジに固定設定され、配管アームのかわりに内部の固定管
と接続するようになっている。上述の構成により第１部
材１０１と第２部材１０２とが玉軸受２３ａ、２３ｂを
介して回転できるので、配管アームはこのジヨイントを
中心に回動可能であり、又この回転運動を行っても空気
もれ等が発生しない。
本実施例の配管アームの代りに４本のパイプ即ち４系統
の空圧回路それぞれごとに接続用パイプを設けてもよい
。配管アームの材質は軽量化の為にアルミ、セラミック
等を用いてもよい。
の空圧回路それぞれごとに接続用パイプを設けてもよい
。配管アームの材質は軽量化の為にアルミ、セラミック
等を用いてもよい。
（効果の説明）
以上説明したようにこの発明によれば、真空雰囲気を保
って、かつエアスライド等のり動物体への流体供給、物
体からの流体排出が可能で更に移動物体配管抵抗による
悪影習を及ぼさない効果がある。
って、かつエアスライド等のり動物体への流体供給、物
体からの流体排出が可能で更に移動物体配管抵抗による
悪影習を及ぼさない効果がある。
第１図は本発明の一実施例を用いた縦型ステージ装置の
概略図、 第２図は同背面図、 第３図はロータリージヨイントの詳細図である。 図中、 ＭＦ −−−−−−−−−−−−メインフレームＳ
Ｆ −−一−−−−−−−−−サブフレームＸＳ
−−−−−−−−−−−一横方向移動用ステージＹ Ｉ
Ｓ −−−−一−−−−−縦方向移動用ステージＹ
２ Ｓ −−−−−−−−−一縦方向移動用ステー
ジＹ２ＡＵ、Ｙ２ＡＬ、ＹＩＡＲ
概略図、 第２図は同背面図、 第３図はロータリージヨイントの詳細図である。 図中、 ＭＦ −−−−−−−−−−−−メインフレームＳ
Ｆ −−一−−−−−−−−−サブフレームＸＳ
−−−−−−−−−−−一横方向移動用ステージＹ Ｉ
Ｓ −−−−一−−−−−縦方向移動用ステージＹ
２ Ｓ −−−−−−−−−一縦方向移動用ステー
ジＹ２ＡＵ、Ｙ２ＡＬ、ＹＩＡＲ
Claims (7)
- （１）流体軸受と接続する流体流通手段の一部に回動部
を設け変形自在とした事を特徴とする流体排出又は導入
機構。 - （２）前記流体流通手段は前記流体軸受に流体を供給す
る為の供給路と流体を排出する為の排出路とを有する複
数のパイプ手段を有する事を特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の流体排出又は導入機構。 - （３）前記回動部は前記複数のパイプ手段の互いの結合
部に設けられ、前記複数のパイプ手段は該回動部を中心
にして相対的に回動可能である事を特徴とする特許請求
の範囲第２項記載の流体排出又は導入機構。 - （４）前記回動部は前記複数のパイプ手段のそれぞれの
供給路、排出路同士を連通する為の接続口を有する特許
請求の範囲第３項記載の流体排出又は導入機構。 - （５）前記回動部に、接続口からの流体が前記流体流通
手段の外部に空気がもれないようにする為のシール手段
を有する事を特徴とする特許請求の範囲第４項記載の流
体排出又は導入機構。 - （６）前記複数のパイプ手段はステンレス製である事を
特徴とする特許請求の範囲第３項記載の流体排出又は導
入機構。 - （７）前記複数のパイプ手段は高真空雰囲気中に設置さ
れる事を特徴とする特許請求の範囲第６項記載の流体排
出又は導入機構。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61287070A JPH0697051B2 (ja) | 1986-12-02 | 1986-12-02 | 流体軸受用の流体流通機構 |
| US07/125,566 US4993696A (en) | 1986-12-01 | 1987-11-25 | Movable stage mechanism |
| DE3740561A DE3740561C2 (de) | 1986-12-01 | 1987-11-30 | Aufnahmevorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61287070A JPH0697051B2 (ja) | 1986-12-02 | 1986-12-02 | 流体軸受用の流体流通機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63140115A true JPS63140115A (ja) | 1988-06-11 |
| JPH0697051B2 JPH0697051B2 (ja) | 1994-11-30 |
Family
ID=17712660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61287070A Expired - Lifetime JPH0697051B2 (ja) | 1986-12-01 | 1986-12-02 | 流体軸受用の流体流通機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0697051B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006287122A (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Canon Inc | 平面ステージ装置及び露光装置 |
| JP2011247367A (ja) * | 2010-05-28 | 2011-12-08 | Nsk Ltd | 静圧気体軸受直線案内装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5073016U (ja) * | 1973-11-06 | 1975-06-26 | ||
| JPS5215674U (ja) * | 1975-07-21 | 1977-02-03 | ||
| JPS5447114U (ja) * | 1977-09-08 | 1979-04-02 |
-
1986
- 1986-12-02 JP JP61287070A patent/JPH0697051B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5073016U (ja) * | 1973-11-06 | 1975-06-26 | ||
| JPS5215674U (ja) * | 1975-07-21 | 1977-02-03 | ||
| JPS5447114U (ja) * | 1977-09-08 | 1979-04-02 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006287122A (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Canon Inc | 平面ステージ装置及び露光装置 |
| JP4677267B2 (ja) * | 2005-04-04 | 2011-04-27 | キヤノン株式会社 | 平面ステージ装置及び露光装置 |
| JP2011247367A (ja) * | 2010-05-28 | 2011-12-08 | Nsk Ltd | 静圧気体軸受直線案内装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0697051B2 (ja) | 1994-11-30 |
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