JPS63139015A - Reforming powder - Google Patents

Reforming powder

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JPS63139015A
JPS63139015A JP61282577A JP28257786A JPS63139015A JP S63139015 A JPS63139015 A JP S63139015A JP 61282577 A JP61282577 A JP 61282577A JP 28257786 A JP28257786 A JP 28257786A JP S63139015 A JPS63139015 A JP S63139015A
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silicone
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寛 福井
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Tomo Kimura
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    • A61K2800/41Particular ingredients further characterized by their size
    • A61K2800/412Microsized, i.e. having sizes between 0.1 and 100 microns

Abstract

PURPOSE:To obtain the title reforming powder useful for cosmetic, paint, ink, colors, catalyst, plating carriers, etc., by bringing the vaporized specified silicone compd. into contact with the powder having an active site on the surface, and then baking the material. CONSTITUTION:At least one kind among the silicone compds. shown by formula I is vaporized and brought into contact with the powder having an active site on the surface, the silicone compd. is polymerized substantially over the whole surface of the powder, and the material is baked to obtain the reforming powder. In formula I, R<1>, R<2>, and R<3> are respectively H or a 1-10C hydrocarbonic group which can be substituted by at least one halogen atom, R<1>, R<2>, and R<3> are not H at the same time, R<4>, R<5>, and R<6> are respectively H or a 1-10C hydrocarbonic group which can be substituted by at least one halogen atom, (a) is 0 or >=1 integer, (b) is 0 or >=1 integer, (c) is 0 or 2, however the sum of (a) and (b) is >=3 when (c) is 0.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、表面上に活性点を有する粉体を、特定のシリ
コーン化合物の蒸気で処理し、その後1を成することに
よって得られる改質粉体に関する。。
Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field] The present invention relates to a modified powder obtained by treating a powder having active sites on its surface with vapor of a specific silicone compound, and then performing step 1. Regarding powder. .

本明細書において「粉体」とは、−rぐに粒径】011
1m以下の任意の物体(10mmより大きいむのも1勺
士れることかある)を意味する。本明細書の「(5)体
」には、複数の前記粉体からなる疑隼体、成型体および
造形体が含まれる。
In this specification, "powder" means -r particle size]011
It means any object that is 1 meter or less (larger than 10 mm is also sometimes referred to as 1.). In the present specification, "(5) body" includes a pseudomorphous body, a molded body, and a shaped body made of a plurality of the above-mentioned powders.

更に、本発明において「活性点」とは、シロキサン結合
(Si−0−Si)またはヒドロシリル(SiH)括を
もつシリコーン化合物の重合を触媒することのできる部
位であり、例えば、酸点、塩基点、酸化点、還元点を意
味する。
Furthermore, in the present invention, the term "active site" refers to a site that can catalyze the polymerization of a silicone compound having a siloxane bond (Si-0-Si) or a hydrosilyl (SiH) group, such as an acid site or a basic site. , means oxidation point, reduction point.

本発明による改質粉体は焼成の程度によって表面層が異
なり、焼成度合が高いと無機質のシリカ系化合物を担持
した改質粉体となる。このような改質粉体は、水分散性
に優れ、水に対するぬれが良< 7iることがら粉体表
面上にメッキする場合等に効果かある。この場合、勿体
成分とシリカ系化合物か9.tJ合化し触媒作用のでろ
場合らある。
The modified powder according to the present invention has a different surface layer depending on the degree of firing, and when the degree of firing is high, the modified powder supports an inorganic silica compound. Such modified powder has excellent water dispersibility and good wettability with water, which is effective when plating the powder surface. In this case, 9. There are cases where tJ synthesis occurs and catalytic action occurs.

また、焼成温度が比較的低い等焼成度合が低い場合(t
シリコン樹脂上の官能基の熱安定性の差をf’ll用し
て、例えば5i−It基のみを消失させ5i−CH3を
残しL二安定性の高いシリコン樹脂被覆粉体を製造する
ことかでさ、このような改質粉末は非常にすべりが良く
、化t+1品に用いれば使用性良好なものかtA造でき
る。
In addition, when the firing temperature is relatively low or the firing degree is low (t
By taking advantage of the difference in thermal stability of the functional groups on the silicone resin, for example, only the 5i-It group can be eliminated, leaving 5i-CH3 and producing a silicone resin-coated powder with high L-bistable stability. Such a modified powder has very good slipperiness, and if used in a t+1 product, it can be used to produce a tA product with good usability.

以」二のように本発明は化粧品、4衾f’■、インク、
絵具、触媒、メッキ用担体等の分野で使用することがで
きる。
As shown in ``2'', the present invention relates to cosmetics, 4 f'■, ink,
It can be used in fields such as paints, catalysts, and plating carriers.

[従来の技術1 従来、粉体表面にシリカ系化合物を被覆する場合は粉体
を水などの溶媒に分肢させ、水ガラスを加えた後に酸を
加えpHを9以下として粉体表面にシリカを落とす方法
が知られている。
[Conventional technology 1] Conventionally, when coating the surface of a powder with a silica compound, the powder was diluted in a solvent such as water, water glass was added, and then an acid was added to adjust the pH to 9 or less, and silica was coated on the surface of the powder. There are known ways to remove the.

[発明が解決しようとする問題点コ しかし、これらの方法ではシリカの厚ざが厚くなり、均
一に被L′Iすることが困難な゛ばかりではなく、水な
どの溶媒を使用した後は乾煙しなくてむよならないため
、乾燥時にi凝集するのか常であ−)な。この凝集をほ
ぐす為に粉砕工程を入れるとシリカが脱離する場合が多
く、溶液反応ではこれらの問題が全く解決されない。
[Problems to be solved by the invention] However, in these methods, the thickness of the silica becomes thick and it is difficult to coat L'I uniformly. Because it is unavoidable to smoke, it tends to clump during drying. When a pulverization step is included to loosen this agglomeration, silica often separates, and solution reactions do not solve these problems at all.

[問題点を解決するための手段] 前記の目的は、一般式 %式%() [式中、R1、R2およびR3は相互に独立に水素原子
であるかまたはハロゲン原子中なくとも1個で置換され
ていることのある炭素数1〜10の炭化水素基であるが
、但し R1とR2とR3とが同時に水素原子であるこ
とはないものとし、そしてR4、R5およびR6は相互
に独立に水素原子であるかまたはハロゲン原子中なくと
も1個で置換されていることのある炭素数1〜10の炭
化水素基であり、a OpOまたは1以上の整数であり
、bは0または1以上の整数てあり、Cは0士たは2で
あるが、但し、Cが○である場合にはaとbとの和が3
以上の整数であるものとする。1 て表されるシリコーン化合物中なくとも1種を蒸気の形
で、表面上に活性点を有する粉体と接触させ、その粉体
の実質的に全表面上でシリコーン化合物を重合させ、実
質的に全表面ヒにシリコーンポリマーの被膜を担持した
改質粉体を得、さらに焼成することによって達成するこ
とかでざる。
[Means for Solving the Problems] The above object is achieved by solving the general formula % () [wherein R1, R2 and R3 are each independently a hydrogen atom or at least one halogen atom] A hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms that may be substituted, provided that R1, R2, and R3 are not hydrogen atoms at the same time, and R4, R5, and R6 are A hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may be a hydrogen atom or substituted with at least one halogen atom, a is OpO or an integer of 1 or more, and b is 0 or an integer of 1 or more. is an integer, and C is 0 or 2, but if C is ○, the sum of a and b is 3.
It shall be an integer greater than or equal to 1. At least one of the silicone compounds represented by 1 is brought into contact with a powder having active sites on the surface in the form of vapor, and the silicone compound is polymerized on substantially the entire surface of the powder, and substantially This can be accomplished by obtaining a modified powder that carries a silicone polymer coating on its entire surface and then firing it.

以下、本発明について詳細に説明する。The present invention will be explained in detail below.

既に述べた通り、従来の技術においてシリコーン油で粉
体を処理する場合は、熱や触媒あるいは粉砕力を必要と
する従来の技術が殆どである。これは用いる粉体に活性
がないことを前提としているからである。
As already mentioned, most conventional techniques require heat, catalysts, or crushing power when treating powder with silicone oil. This is because it is assumed that the powder used has no activity.

しかしながら、粉体には表面活性を有する物が多い。粉
体のこの表面活性が、粉体と共存する古本゛Iや油、医
薬品等を劣化させるのである。本発明者等はこの表面活
性を逆に利用して粉体表面でシリコーン化合物の重合を
起こし表面を改質例えば疎水化するとともに粉体の表面
活性を焼失せしめ共存成分例えば香料の安定性を向上き
せるという画期的な方法を見出した。
However, many powders have surface activity. This surface activity of the powder deteriorates used books, oil, medicines, etc. that coexist with the powder. The present inventors reversely utilized this surface activity to polymerize silicone compounds on the powder surface to modify the surface, for example to make it hydrophobic, and to burn out the surface activity of the powder to improve the stability of coexisting ingredients such as fragrances. He discovered an innovative method to do this.

本発明で改質される粉体は、その粉体が表面活性を有す
るものである限り、特に制限されない、その粉体の代表
例としては、表面上に活性点をもつ、無機顔料、金属酸
化物、金属水酸化物、有機顔¥)11パール光沢材料、
ケイ酸塩鉱物、多孔質材料、カーボン、金属、雲母お」
二び複合粉体が台土れる。これらの粉体は、1種類で処
理しても、または複数種類を組合せて処理してもよい。
The powder to be modified in the present invention is not particularly limited as long as the powder has surface activity. Typical examples of the powder include inorganic pigments, metal oxides, etc., which have active sites on the surface. material, metal hydroxide, organic face ¥) 11 pearlescent material,
Silicate minerals, porous materials, carbon, metals, mica
Two composite powders are placed on the base. These powders may be treated with one type or in combination of multiple types.

更に、これらの1種またはそれ以上の凝集体成形体、あ
るいは造形体を処理することもできる。これら粉体は、
本発明による改質処理を実施する前(すなわち、前記シ
リコーン化合物を接触させる前)に、任意の通常の処理
(例えばアルカリ洗浄、酸洗;争、プラズマ処理)を行
うことができる。粉体が多数の酸点をもつもの(例えば
、カオリナイト、酸化鉄、マンガンバイオレット)であ
る場合には、アルカリ洗浄を行っておくことが好走しい
。なぜなら、続いて本発明により、前記シリコーン化合
物をもつシリコーンポリマー皮膜(後述する)が形成き
れ易くなるからである。更に、本発明で処理される粉体
は、その上にまたはその仲に他の物質(例えば、着色剤
、IJV吸収剤、医薬品、各種添加剤)を含有していて
もよい。
Furthermore, it is also possible to process one or more of these aggregate molded bodies or shaped bodies. These powders are
Before carrying out the modification treatment according to the invention (ie, before contacting the silicone compound), any conventional treatment can be carried out (eg, alkaline cleaning, pickling, washing, plasma treatment). If the powder has a large number of acid sites (for example, kaolinite, iron oxide, manganese violet), it is best to perform alkaline washing. This is because the present invention makes it easier to form a silicone polymer film (described later) containing the silicone compound. Furthermore, the powder treated in the present invention may contain other substances on or in it (eg, colorants, IJV absorbers, pharmaceuticals, various additives).

本発明においては、上記の形の式(1)のシリコーン化
合物と表面上に活性点をもつ粉体との接触を、120℃
以下好ましくは100℃以下の温度下で、好ましくは2
00mmHg以下更に好ましくは100mmHg以下の
圧力下において密閉容器内で行ない、式(1)のシリコ
ーン化合物の蒸気を分子状態で粉体表面上に蒸着きせる
ごとができる。あるいは、上記の形の式(1)のシリコ
ーン化合物と表面上に活性点をもつ粉体との接触を、1
20℃以下好ましくは100℃以下の温度下で、式(1
)のシリコーン化合物とキャリアーガスとの混合ガスを
粉体に供給することによって行うことができる。
In the present invention, contact between the silicone compound of formula (1) in the above form and powder having active sites on the surface is carried out at 120°C.
Below, preferably at a temperature of 100°C or less, preferably at a temperature of 2
The process is carried out in a closed container under a pressure of 00 mmHg or less, more preferably 100 mmHg or less, so that the vapor of the silicone compound of formula (1) can be vapor-deposited on the surface of the powder in a molecular state. Alternatively, contact between the silicone compound of formula (1) in the above form and powder having active sites on the surface is carried out for 1
At a temperature of 20°C or lower, preferably 100°C or lower, the formula (1
) can be carried out by supplying a mixed gas of a silicone compound and a carrier gas to the powder.

前記式(1)のシリコーン化合物は2種の群からなる。The silicone compound of the formula (1) consists of two groups.

第1の群は、前記式(1)においてC=Oの場合に相当
し、一般式 %式%) [式中、R1、R2、R3、aおよびbは前記と同し意
味であるが、好ましくはR1、R2およびR3が相互に
独立にハロゲン原子少なくとも1個で置換されているこ
とのある炭素数1〜4の低級アルキル基又はアリール基
(例えばフェニル基)であり、aとbとの和が3〜7で
ある] で表される環状シリコーン化合物である。この化合物の
代表例を挙げれば以下の通りである。
The first group corresponds to the case where C=O in the above formula (1), and has the general formula %) [wherein R1, R2, R3, a and b have the same meanings as above, Preferably, R1, R2 and R3 are each independently a lower alkyl group or an aryl group (for example, a phenyl group) having 1 to 4 carbon atoms which may be substituted with at least one halogen atom, and a and b The sum is 3 to 7] This is a cyclic silicone compound represented by: Representative examples of this compound are as follows.

(以下余白) (以下余白) 前記の化合物(A)、(B)および(C)は、それぞれ
単独で士たはそれらの混合物の形で使用することかでさ
・る。
(Hereinafter in the margin) (Hereinafter in the margin) The above compounds (A), (B) and (C) may be used individually or in the form of a mixture thereof.

前記の各式において、n(またはa + b )は好ま
しくは3〜7である。nの値が小きくなるのに従ってそ
の沸点が低下するので、蒸発して粉体上に吸着する量が
多くなる。特に3量体及び4量体は、その立体的性質上
、重合し易いので特に適している。また、水素原子を含
むシリコーン化合物は反応性が高いので、表面処理に適
している。処理量(または添加量)については、本発明
は気相処理であり、揮発した気体分子状のシリコーン化
合物例えば環状オルガノシロキザンが粉体丑に吸着後粉
体の活性点により重合していくため、処理量は定まって
おらず、シリコーンポリマーが活性点を覆いつくした時
が終点となる。勿論、目的によっては完全被覆でなくと
も構わj:い。
In each of the above formulas, n (or a + b) is preferably 3-7. As the value of n decreases, the boiling point decreases, so the amount evaporated and adsorbed onto the powder increases. In particular, trimers and tetramers are particularly suitable because they are easily polymerized due to their steric properties. Furthermore, silicone compounds containing hydrogen atoms have high reactivity and are therefore suitable for surface treatment. Regarding the amount of treatment (or amount added), the present invention is a gas phase treatment, and volatilized gaseous molecular silicone compounds, such as cyclic organosiloxane, are adsorbed to the powder and then polymerized by the active sites of the powder. The amount of treatment is not fixed, and the end point is when the silicone polymer completely covers the active sites. Of course, depending on the purpose, it may not be completely covered.

式(11)の環状シリコーン化合物の例としては、ジハ
イドロジエンへキザメヂルシクロテトラシロキサン、ト
リハイドロジエンペンタメチルシクロテトラシロキサン
、テトラハイドロジエンテトラメチルシクロテトラシロ
ギサン、ジハイドロジエンオクタメチルシクロペンタシ
ロキサン、トリハイドロジエンへブタメチルシクロペン
タシロキサン、テトラハイドロジエンヘキサメチルシク
ロペンタシロギサンおよびペンタハイドロジエンペンタ
メチルシクロペンタシロキサン、ヘキザメチルシクロト
リシロキサン、オククメヂルシクロテトラシロギサンを
挙げることができる。
Examples of the cyclic silicone compound of formula (11) include dihydrodiene hexamedylcyclotetrasiloxane, trihydrodienepentamethylcyclotetrasiloxane, tetrahydrodienetetramethylcyclotetrasiloxane, and dihydrodieneoctamethylcyclopentasiloxane. Mention may be made of the siloxanes trihydrogen butamethylcyclopentasiloxane, tetrahydrogenhexamethylcyclopentasiloxane and pentahydrogenpentamethylcyclopentasiloxane, hexamethylcyclotrisiloxane, occumedylcyclotetrasiloxane .

前記式(I)のシリコーン化合物の第2の群は前記式(
I)においてc=2の場合に相当し、一般式 %式%() [式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、aおよ
びbは前記と同じ意味であり、Cは2であるが、好まし
くはR1−R6が相互に独立にハロゲン原子少なくとも
1個で置換されていることのある炭票数1〜4の低級ア
ルキル基又はアリール基(例えばフェニル基)であり、
aとbとの和が2〜5である]で表きれる直鎖状シリコ
ーン化合物である。この化合物の代表例としては、式 (式中、aは2〜5である) で表される化合物を挙げることができる。
The second group of silicone compounds of formula (I) is represented by formula (I).
This corresponds to the case where c=2 in I), and the general formula % formula % () [wherein R1, R2, R3, R4, R5, R6, a and b have the same meanings as above, and C is 2 However, preferably R1 to R6 are each independently a lower alkyl group or aryl group having 1 to 4 carbon atoms (e.g., phenyl group), which may be substituted with at least one halogen atom;
The sum of a and b is 2 to 5]. Representative examples of this compound include compounds represented by the formula (wherein a is 2 to 5).

式(II[)の直鎖状シリコーン化合物の例としては、
1.1,1,2,3,4,4.4−オクタメチルテトラ
シロキサン、1,1,1.2,3,4,5,5.5−ノ
ナメチルペンタシロキサン、および1,1,1,2,3
,4,5,0,6.6−テ°カメチルヘキサシロキサン
を挙げることが出来る。
Examples of linear silicone compounds of formula (II[) include:
1.1,1,2,3,4,4,4-octamethyltetrasiloxane, 1,1,1.2,3,4,5,5.5-nonamethylpentasiloxane, and 1,1,1 ,2,3
, 4,5,0,6.6-tecamethylhexasiloxane.

゛粉体表面上に被覆きれるシリコーンポリマー皮膜の構
造には2種類のものがある。すなわち、重合がシロキサ
ン結合(−Si−0−Si−)によって起さ−ると、得
られるシリコーンポリマーは、5i−0−Si一単位を
含む直鎮構造をもち、好ましくは重量平均分子ft20
万以上をもつ。
There are two types of silicone polymer film structures that can be coated on the powder surface. That is, when polymerization occurs through siloxane bonds (-Si-0-Si-), the resulting silicone polymer has a straight-line structure containing one unit of 5i-0-Si, and preferably has a weight average molecular weight of ft20
Have more than 10,000.

一方、重合が小量または痕跡量のR20またはO7の存
在下におけるヒドロシリル結合(Si−H)の脱水素反
応によって起きる場合に1’、]’ 、 Si  it
部分の以下の重合: −0−3i−0− ■ □→    O+  820 嘔 −0−Si−0− (以下余白) から誘導される ■ −0−Si−0一 単位をbつ網状構造を、シリコーンポリマーが含むこと
になる。
On the other hand, if the polymerization occurs by dehydrogenation of the hydrosilyl bond (Si-H) in the presence of small or trace amounts of R or O,
Polymerization of the following parts: -0-3i-0- ■ □→ O+ 820 -0-Si-0- (blank below) ■ A network structure of b -0-Si-0 units, It will contain a silicone polymer.

好よ・しい網状ポリマーは、全Si原子の2096以上
がポリマー被膜中で前記の −0−Si−0− 1i位に変換したちのである。この単位の含量は、ポリ
マー被膜中のメチル基のIR吸収から求めることがでと
る。
Preferred network polymers are those in which 2096 or more of the total Si atoms are converted to the -0-Si-0-1i positions in the polymer coating. The content of this unit can be determined from the IR absorption of methyl groups in the polymer coating.

式(1)のシリコーン化合物の添加は(処理量)は具体
的には定ま−ってぃないが、粉体の′η質的に前表面を
覆うのに必要かつ充分な量でシリコーン化合物を供給す
る点で所望量が決まる1゜本発明によれば、まず(1)
のシリコーン化合物を粉体表面に蒸着させ、粉体の表面
全体に分布する活性点の存在により、前記シリコーン化
合物を重合させる。従って、均一で薄いポリマー皮H々
が形成される。シリコーンポリマーの薄層が形成された
後では、その上には重合は実質的に起こらない。従って
、シリコーンポリマー皮膜の厚さは一般に3人〜30人
である。一方、熱重合を起こさせた場合には、薄層を形
成する重合は不可能である。
The silicone compound of formula (1) is added in an amount necessary and sufficient to qualitatively cover the front surface of the powder, although the (processing amount) is not specifically determined. According to the present invention, first, (1)
A silicone compound is deposited on the surface of the powder, and the silicone compound is polymerized due to the presence of active sites distributed over the entire surface of the powder. Accordingly, a uniform and thin polymer skin H is formed. After the thin layer of silicone polymer is formed, substantially no polymerization occurs thereon. Therefore, the thickness of the silicone polymer coating is generally between 3 and 30 thick. On the other hand, when thermal polymerization occurs, polymerization that forms a thin layer is impossible.

更に、触媒存在下で重合させた場合には、重合が触媒の
rsItmで起こるので、粉体の表面だけを均一に被覆
することは不可能である。
Furthermore, when polymerization is carried out in the presence of a catalyst, it is impossible to uniformly coat only the surface of the powder because the polymerization occurs at the rsItm of the catalyst.

本発明の基本的な態様によれば、(例えば100℃以下
の)密閉された部屋に粉体とシリコーン化合物(例えば
環状オルガノシロキサン)とを別/2の容器に入れて上
部を解放しておく t5けで良い。
According to a basic aspect of the invention, the powder and the silicone compound (e.g. cyclic organosiloxane) are placed in separate containers/2 in a sealed room (e.g. below 100° C.) with the top open. Just t5 is fine.

この状態ではシリコーン化合物がその温度での分圧で気
化し、粉体上で吸着平衡を作つ。密閉きれた部屋から処
理済の粉体を取り出した時に、粉体に活性がなかったな
らばシリコーン化合物が脱着し、粉体は元の表面に戻っ
てしまうことになるが、粒子表面に活性点を有する粉体
の場合には重合活性があるのでシリコーン化合物は粉体
上で重合し、従って粉体表面のシリコーン化合物の分圧
が下がるため容器中のシリコーン化合物から揮発し供給
される。このような順序で表面重合が生じるためにシリ
コーン化合物はこの系の中で必要な量だけ供給され、無
駄がない。
In this state, the silicone compound vaporizes under the partial pressure at that temperature, creating an adsorption equilibrium on the powder. If the powder is inactive when the treated powder is taken out of the tightly sealed room, the silicone compound will be desorbed and the powder will return to its original surface, but there will be active sites on the particle surface. In the case of a powder having a polymerization activity, the silicone compound polymerizes on the powder, and as a result, the partial pressure of the silicone compound on the surface of the powder decreases, so that it is volatilized from the silicone compound in the container and supplied. Since surface polymerization occurs in this order, the silicone compound is supplied in the required amount to the system, and there is no waste.

本発明はこのような簡単な原理に基づくため、特別な装
置は必要としない。例えば、任意の密閉された部屋(例
えば恒温に保てる密閉した部屋)例えばデシケータまた
は恒)品種を使用することができる。また、小量処理に
はデシケータ−を用いることができる。しかし理想的に
は処理後脱気できる装置が望ましく、ガス滅菌装置を用
いるのがよい。密閉部屋内の粉体を連続的にまたム′【
断続的に撹拌し、粉体とシリコーン化合物上記との接触
を望まないものにすることかでざる。
Since the present invention is based on such a simple principle, no special equipment is required. For example, any type of closed room (eg, a closed room that can be maintained at a constant temperature, such as a desiccator or a constant temperature) can be used. Moreover, a desiccator can be used for small-scale processing. However, ideally, a device that can degas after treatment is desirable, and a gas sterilization device is preferably used. Continuously muffle the powder in a closed room.
Intermittent stirring should be used to avoid unwanted contact between the powder and the silicone compound.

本発明の別の態様によれば、120℃以下好ましくは1
00℃以下の密閉部屋の中に粉体だけを予め挿入してお
ぎ、別の120℃以下の密閉部屋において予め決めた分
圧でシリコーン化合物を気化きせ、前記粉体を挿入しで
ある部屋の中に例えばパイプによってシリコーン化合物
蒸気を導入することができる。前記の系の圧力について
持に制限はないが、重合を200mm11g以下好まし
くは100mm)1g以下の圧力下で実施するのが好↓
しい。いずれの態様においても、処理時間は30分〜1
50時間であり、その後で、未重合シリコーン化合物を
脱ガスによって除去し、所望の生成物を得る。
According to another aspect of the invention, 120°C or less, preferably 1
Only the powder is inserted in advance into a sealed room at a temperature of 00°C or lower, and the silicone compound is vaporized at a predetermined partial pressure in another sealed room at a temperature of 120°C or lower. The silicone compound vapor can be introduced therein, for example by means of a pipe. Although there is no particular restriction on the pressure of the above system, it is preferable to carry out the polymerization under a pressure of 200 mm (11 g) or less (preferably 100 mm) (1 g or less)↓
Yes. In either embodiment, the processing time is 30 minutes to 1
50 hours, after which unpolymerized silicone compounds are removed by degassing to obtain the desired product.

本発明の他の態様によれば、キャリアーガスとの混合ガ
スの形の式(1)のシリコーン化合物を(例えば粉体表
面に供給することによって)接触きせることにより、粉
体を処理することができる。式(1)のシリコーン化合
物とキャリアーガスとの混合は、シリコーン化合物の蒸
気圧が1mm11g以上好ましくは100mm)(g以
上になるまで、(1)のシリコーン化合物中へまたはシ
リコーン化合物の表面上へ導入することによって実施す
ることかてざる。キャリアーガス流の供給速度は、例え
ば、式(1)のシリコーン化合物の蒸気圧、粉体の種類
及び量、並びに処理容器の容量によって適当に決定する
ことができる。30分〜150時間で処理でさ″るよう
に調整するのが好ましい。
According to another aspect of the invention, the powder may be treated by contacting it with a silicone compound of formula (1) in the form of a gas mixture with a carrier gas (e.g. by supplying it to the powder surface). can. The silicone compound of formula (1) and the carrier gas are mixed into the silicone compound of formula (1) or onto the surface of the silicone compound until the vapor pressure of the silicone compound is 1 mm or more, preferably 100 mm or more. The feed rate of the carrier gas stream can be determined appropriately depending on, for example, the vapor pressure of the silicone compound of formula (1), the type and amount of powder, and the capacity of the processing container. It is possible. It is preferable to adjust the treatment so that it lasts for 30 minutes to 150 hours.

キャリアーガスとしては、不活性気体例えば窒素、アル
ゴン、ヘリウム等が好ましいが、空気や前記賦活性気体
中に水蒸気、メタノール蒸気またはエタノール蒸気を気
体分子状態で混合した混合気体を使用することもできる
As the carrier gas, an inert gas such as nitrogen, argon, helium, etc. is preferable, but it is also possible to use a mixed gas in which water vapor, methanol vapor, or ethanol vapor is mixed in the state of gas molecules with air or the above-mentioned activating gas.

本発明によれば、式(1)のシリコーン化合物を含む混
合ガスと被改質粉体とを接触きせる。混合ガスは式(1
)のシリコーン化合物を飽和蒸気として含有しているの
で、接触・反応温度を混合ガスの温度と同じかまたは高
くすることが必要である。接触・反応温度か混合混合ガ
スの温度よりも低いと、シリコーン化合物が結露して粉
体がアT男した形で処理され易いからである。
According to the present invention, a mixed gas containing the silicone compound of formula (1) is brought into contact with the powder to be modified. The mixed gas is expressed by the formula (1
) contains the silicone compound as saturated vapor, it is necessary to make the contact/reaction temperature the same as or higher than the temperature of the mixed gas. This is because if the contact/reaction temperature is lower than the temperature of the mixed gas, the silicone compound will condense and the powder will be easily processed in an unbalanced form.

強い活性点が表面に多くある粉体を混合ガスで処理する
と、粉体はスラリー化し易い。この場合には、接触・反
応温度を供給混合ガスの温度以上にすること及びシリコ
ーン化合物を含よないキャリアーガスを同時に供給して
シリコ−化合物の飽和蒸気圧に対する総体圧力を低下さ
せて処理すると良い。
When a powder with many strong active sites on its surface is treated with a mixed gas, the powder tends to become a slurry. In this case, it is recommended to lower the total pressure relative to the saturated vapor pressure of the silicone compound by raising the contact/reaction temperature to a temperature higher than that of the supplied mixed gas and simultaneously supplying a carrier gas that does not contain the silicone compound. .

シリコーン化合物とキャリアーガスとを別々に導入して
、反応槽内て混合することもできる。
It is also possible to introduce the silicone compound and the carrier gas separately and mix them in the reaction vessel.

以上のように、本発明には、シリコーン化合物とキャリ
アーガスとの混合ガスをわ)体表面に供給することによ
り、シリコーン化合物の分子を連続的に粉体に吸着させ
、表面の活性点を利用して重合させるものである。
As described above, in the present invention, by supplying a mixed gas of a silicone compound and a carrier gas to the surface of the body, molecules of the silicone compound are continuously adsorbed to the powder, and active points on the surface are utilized. and polymerize it.

本発明においては、特に超微粒粉体、多孔質材料、パー
ル顔料、有機顔料等に気相処理を利用するのが好ましい
。これらの粉体を気相処理で処理するとシリコーンポリ
マーの超薄…りが形成され、総体の超微細性、多孔性、
パール効果等を維持することができる。
In the present invention, it is particularly preferable to use gas phase treatment for ultrafine powders, porous materials, pearl pigments, organic pigments, and the like. When these powders are treated in a gas phase, ultra-thin layers of silicone polymers are formed and the overall ultra-fineness, porosity, and
The pearl effect etc. can be maintained.

こうして得られるシリコン樹脂被覆粉末を続いて焼成工
程にかけ、前記総体上にシリカ系化合物層を形成する。
The silicone resin-coated powder thus obtained is then subjected to a firing process to form a silica-based compound layer on the entire body.

焼成温度は300℃〜1100℃である。The firing temperature is 300°C to 1100°C.

焼成温度が300℃〜500℃ではシリコン(ス脂の有
機基が残存する場合もあるが、その場合でも経時で不安
定な5i−)1基は消失し、基材として安定なものが製
造できる。
When the firing temperature is 300°C to 500°C, one silicon group (5i-, which is unstable over time, although some organic groups from resinous resin may remain) disappears, and a stable base material can be produced. .

焼成温度が500℃〜1100℃では有機基はほとんど
消失し、表面上にはシリカまたはシリカ系化合物層が生
成する。例えば酸化鉄の粉体上でシリコン樹脂を形成し
焼成した場合はFeとSiの複合酸化物が生成する。
When the firing temperature is 500°C to 1100°C, most of the organic groups disappear and a silica or silica-based compound layer is formed on the surface. For example, when a silicone resin is formed on iron oxide powder and fired, a composite oxide of Fe and Si is produced.

焼成時間は2〜24時間である。焼成雰囲気は空気中、
真空中、窒素気流中、アンモニア気流中、水素気流中、
不活性ガス中等どのような雰囲気でも目的が達せられる
Firing time is 2 to 24 hours. The firing atmosphere is in the air.
In vacuum, in nitrogen stream, in ammonia stream, in hydrogen stream,
The purpose can be achieved in any atmosphere including inert gas.

焼成時に第3成分を添加しておけばその第3成分との混
合物を表面で生成することもでさ′る。
If a third component is added during firing, a mixture with the third component can be prevented from being formed on the surface.

この第3成分としては金属の炭酸塩、リン酸塩および有
機物としてアミノ酸等があげられる。
Examples of the third component include metal carbonates and phosphates, and organic substances such as amino acids.

以下、実施例をあげて説明する。Examples will be described below.

実施例1 容積1001の回転式ダブルコーン型反応槽(ステンレ
ススチール製、保温ジャケット付)に白雲母10kgを
入れた。この反応槽にステンレススチール管で直結して
いる原(1り供給タンク(ステンレススチール製、保温
ジャケット付)にテトラヒドロテトラメチルシクロテト
ラシロキサン400gを入れ、系を真空ポンプで100
mmHgまで減圧した。系の温度は、90℃に加熱した
熱媒を熱媒体加熱槽から循環ポンプで反応槽と原液供給
タンクの保温ジャケットに供給して90℃に保った。反
応槽の回転はタイマーにより10分間静置後3回転させ
る回転とし、この回転を10時間繰返した。回転を繰返
す間、反応槽内で白雲母を混合攪拌し、その後N2ガス
を系に導いて常圧に戻し、被覆雲母10.2kgを得た
Example 1 10 kg of muscovite was placed in a rotating double cone type reaction tank (made of stainless steel, equipped with a heat insulation jacket) having a volume of 1,001 cm. 400 g of tetrahydrotetramethylcyclotetrasiloxane was put into a supply tank (made of stainless steel, with a heat insulation jacket) that was directly connected to this reaction tank with a stainless steel pipe, and the system was pumped to 100 g using a vacuum pump.
The pressure was reduced to mmHg. The temperature of the system was maintained at 90°C by supplying a heating medium heated to 90°C from a heating medium heating tank to the heat insulation jackets of the reaction tank and stock solution supply tank using a circulation pump. The reaction tank was rotated 3 times by a timer after being allowed to stand still for 10 minutes, and this rotation was repeated for 10 hours. While the rotation was repeated, the muscovite was mixed and stirred in the reaction tank, and then N2 gas was introduced into the system to return it to normal pressure, yielding 10.2 kg of coated mica.

実施例2 実施例1の処理白雲母20gをルツボに入れ、電気が中
で300℃、4時間焼成した。
Example 2 20 g of the treated muscovite of Example 1 was placed in a crucible and fired at 300° C. for 4 hours under electricity.

実施例3 実施例2と同じ操作で500℃、6時間焼成した。Example 3 It was baked at 500° C. for 6 hours in the same manner as in Example 2.

実施例4 実施例2と同じ操作で700℃、2時間焼成した。Example 4 It was baked at 700° C. for 2 hours in the same manner as in Example 2.

実施例5 実施例2と同じ操作で900℃、4時間焼成した。Example 5 It was baked at 900° C. for 4 hours in the same manner as in Example 2.

実施例1〜実施例5のものについて赤外吸収スペクトル
、水分散性、アルカリによる水素発生測定を行った。
Infrared absorption spectra, water dispersibility, and alkali hydrogen generation measurements were performed on the samples of Examples 1 to 5.

(赤外吸収スペクトルの測定) 赤外吸収スペクトルはディジラブ社fyll:’T−I
RFTS−15Cを用い、拡散反射法で測定した。
(Measurement of infrared absorption spectrum) Infrared absorption spectrum was measured by Digilab fyll:'T-I
It was measured by the diffuse reflection method using RFTS-15C.

(水分散性) 水分散性は0.5%MgSO4水溶液中に5%の粉体を
分)i々させ、100mNの沈降管に入れ、1時間後と
1日後の沈降積を観察した。
(Water dispersibility) Water dispersibility was determined by adding 5% powder to a 0.5% MgSO4 aqueous solution for several minutes, placing it in a 100 mN sedimentation tube, and observing the sedimentation volume after 1 hour and 1 day.

(水素検知法による水製発生測定) マグネチックスターラー付き100+nlj三つ口丸底
フラスコに50m1j滴下ロート及び水素検知管(北沢
産業ニガステックー水素)を取り付け、検知管を水流ポ
ンプにつなぎ、発生する水てガスを常に一定圧で吸引し
た。この測定装置の丸底フラスコに資V↓1.Ogを入
れ、これにメタノール5 mrを注いで均一に分散き゛
せた。次いで、ロートより2トNaOH3mLを一度に
添加し、マグネチックスターラーでIff拌した。5i
−H基があればアルカリによって発生する水素によって
水素検知管は黒変する。
(Measurement of water production using hydrogen detection method) Attach a 50ml dropping funnel and a hydrogen detection tube (Kitazawa Sangyo Nigastech - Hydrogen) to a 100+nlj three-necked round bottom flask with a magnetic stirrer, connect the detection tube to a water pump, and measure the generated water. Gas was always drawn in at a constant pressure. The round bottom flask of this measuring device has V↓1. Og was added thereto, and 5 ml of methanol was poured into it to ensure uniform dispersion. Next, 2 tons of 3 mL of NaOH were added at once through the funnel, and the mixture was stirred using a magnetic stirrer. 5i
If there is a -H group, the hydrogen detector tube will turn black due to the hydrogen generated by the alkali.

−t〜 1  ++フ了 l;71「 の争I  、±
−1、赤外吸収スペクトル結果 実施例1の赤外吸収スペクトルの結果、白雲母自体の赤
外吸収スペクトル以外に2980cm−’にC−11,
1261cm−’及び2172cm−’にメチル基の吸
収、及び2170cm=に5i−H基の吸収が現れた。
-t~ 1 ++Furi l;71 "Conflict I, ±
-1, Infrared absorption spectrum result As a result of the infrared absorption spectrum of Example 1, in addition to the infrared absorption spectrum of muscovite itself, C-11 at 2980 cm-',
Absorption of methyl group appeared at 1261 cm-' and 2172 cm-', and absorption of 5i-H group appeared at 2170 cm=.

実施例2では300℃の焼成によって2170cm” 
d)Si−tl、[の吸収か消失したが、メチル基の吸
収は依然として残存し一〇いた。実施例3〜実施例5で
は2960cm−’、1261cm−’、1272cm
−’の吸収も全て消失し、メチル基も消失してしまった
ことが明確となった。
In Example 2, 2170 cm" was obtained by firing at 300°C.
d) The absorption of Si-tl disappeared, but the absorption of methyl group still remained. In Examples 3 to 5, 2960 cm-', 1261 cm-', 1272 cm
-' absorption completely disappeared, and it became clear that the methyl group also disappeared.

2、水分散性評価結果 未処理白雲母、実施例4、実施例5は面沈降するが、実
施例3は自由沈降した。実チセ例1、実施例2は撥水性
であり、水の上に浮上した。
2. Results of evaluation of water dispersibility Untreated muscovite, Examples 4 and 5, were surface-sedimented, but Example 3 was free-sedimented. Samples Example 1 and Example 2 were water repellent and floated on water.

表−1に1時間後及び1「1後の沈降Tt’iを示した
。実施例2の300℃焼成ではメチル基が残存していて
撥水性であるが、500℃焼成では水分j)々性が非常
によくなりでいる。未処理の白雲けでは面沈降するか、
実施例3では自由沈降となることは、未処理のものより
水分111性が良くな−〕たことを示している。しかし
、焼成温度をそれ以上に上げると、また面沈降するよう
に変化してしよう。この原因としては表面に生成したシ
ラノールが700℃以上ではシロキサンに変化してしま
うためであろうと考えられろ。
Table 1 shows the sedimentation Tt'i after 1 hour and 1 hour. In Example 2, the methyl group remains and is water repellent when fired at 300°C, but when fired at 500°C, moisture is removed. The properties are very good.In untreated Shirakumoke, surface sedimentation occurs,
In Example 3, free sedimentation occurred, indicating that the moisture 111 property was better than that of the untreated sample. However, if the firing temperature is raised higher than that, the surface will start to settle again. The reason for this is thought to be that silanol produced on the surface changes to siloxane at temperatures above 700°C.

(以下余白) 表−1 *沈降積Mとして表示した。(Margin below) Table-1 *Displayed as sedimentation product M.

(以下余白) 3、水素発生測定 表−1にアルカリによる水素発生試験の結果を示した。(Margin below) 3. Hydrogen generation measurement Table 1 shows the results of the hydrogen generation test using alkali.

実施例1では水素が発生したが、実施例2では水素の発
生はなかフた。この結果はIRで300℃の焼成により
5i−H基が消失していることと良く一致している。す
なわち、300 を焼成した実施例2は撥水性を示し、
また他成分の存在する系でも水素を発生させないため、
安定な基材として使用することができる。
In Example 1, hydrogen was generated, but in Example 2, no hydrogen was generated. This result is in good agreement with the disappearance of the 5i-H group by IR firing at 300°C. In other words, Example 2, which was fired at 300%, exhibited water repellency;
Also, since it does not generate hydrogen even in systems where other components are present,
It can be used as a stable base material.

実施例6 亜鉛華20gとへキサメチルシクロトリシロキサン5g
とを別々の容器に入れ、80℃でデシケータ−に放置し
た。16時間後に亜鉛華を取だし、重量を測定したとこ
ろ20.4gの処理亜鉛華が得られた。その後500℃
で4時間焼成したとこヌ、?(l水性の処理亜鉛華が得
られた。この処理亜?F7華はアルカリによる水嚢発生
はなく、また未処理の亜鉛華がシゾルシンと相互作用を
示し78変するのに反し、処理亜鉛華は相互作用を示ざ
なかっL:。
Example 6 20g of zinc white and 5g of hexamethylcyclotrisiloxane
and were placed in separate containers and left in a desiccator at 80°C. After 16 hours, the zinc white was taken out and weighed, and 20.4 g of treated zinc white was obtained. Then 500℃
I baked it for 4 hours. (1) Aqueous treated zinc white was obtained. This treated zinc white did not cause water sacs due to alkali, and untreated zinc white interacted with schisolin and changed to 78. shows no interaction L:.

[発明の効果] 本発明によるシリカ系複合体の被覆は非常に簡便であり
、しかもシリコン膜の時点で均一被覆しているため薄く
均一な皮膜が生成゛rる。その結果f襲用のない良好な
シリカ系被覆粉体を製造することができる。
[Effects of the Invention] Coating with the silica-based composite according to the present invention is very simple, and since the silicon film is coated uniformly, a thin and uniform film is produced. As a result, it is possible to produce a good silica-based coated powder that is free from f-attacks.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 一般式 (R^1HSiO)_a(R^2R^3SiO)_b(
R^4R^5R^6SiO_1_/_2)_c( I ) [式中、R^1、R^2およびR^3は相互に独立に水
素原子であるかまたはハロゲン原子少なくとも1個で置
換されていることのある炭素数1〜10の炭化水素基で
あるが、但し、R^1とR^2とR^3とが同時に水素
原子であることはないものとし、そしてR^4、R^5
およびR^6は相互に独立に水素原子であるかまたはハ
ロゲン原子少なくとも1個で置換されていることのある
炭素数1〜10の炭化水素基であり、aは0または1以
上の整数であり、bは0または1以上の整数であり、c
は0または2であるが、但し、cが0である場合にはa
とbとの和が3以上の整数であるものとする。] で表されるシリコーン化合物少なくとも1種を蒸気の形
で、表面上に活性点を有する粉体と接触させ、その粉体
の実質的に全表面上でシリコーン化合物を重合させたの
ち焼成して得られる改質粉体。
[Claims] General formula (R^1HSiO)_a(R^2R^3SiO)_b(
R^4R^5R^6SiO_1_/_2)_c(I) [wherein R^1, R^2 and R^3 are each independently a hydrogen atom or substituted with at least one halogen atom A hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, provided that R^1, R^2, and R^3 are not hydrogen atoms at the same time, and R^4, R^5
and R^6 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms that may be substituted with at least one halogen atom, and a is an integer of 0 or 1 or more; , b is an integer of 0 or 1 or more, and c
is 0 or 2, but if c is 0 then a
It is assumed that the sum of and b is an integer of 3 or more. ] At least one silicone compound represented by is brought into contact with a powder having active sites on the surface in the form of vapor, the silicone compound is polymerized on substantially the entire surface of the powder, and then baked. The resulting modified powder.
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