JPS63122676A - Phenyl(or phenylamino)alkylamine derivative and production thereof - Google Patents

Phenyl(or phenylamino)alkylamine derivative and production thereof

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JPS63122676A
JPS63122676A JP26902786A JP26902786A JPS63122676A JP S63122676 A JPS63122676 A JP S63122676A JP 26902786 A JP26902786 A JP 26902786A JP 26902786 A JP26902786 A JP 26902786A JP S63122676 A JPS63122676 A JP S63122676A
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group
formulas
formula
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alkyl group
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JP26902786A
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Japanese (ja)
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Mitsuaki Ota
太田 光昭
Isao Yanagisawa
柳沢 勲
Makoto Takeuchi
誠 竹内
Hisataka Shikama
四釜 久隆
Tokuichi Takagi
高木 徳一
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Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

NEW MATERIAL:A phenyl(or phenylamino)alkylamine derivative shown by formula I (R<1> is H, halogen or lower, alkyl; R<2> is group shown by formula II, group shown by formula III, etc.; R<3> and R<4> are H or lower alkyl with the proviso that R<3> and R<4> may be bonded to form morpholine ring or piperidine ring; a is methine group or N; B is lower alkylene; R<5> and R<6> are H, alkyl, pyridyl, thienyl, etc.; R<7> is H, lower alkyl or phenyl) or a salt thereof. EXAMPLE:2-{[N-3-Dimethylamino)propyl-N-phenyl]amino}-5-hexyl-4-methylt hiaz ole.fumarate. USE:Useful as a preventive and remedy for gastric diseases, such as inhibitor of secretion of acid in the stomach, preventive and remedy for gastric ulcer, etc., being orally or parenterally administered. PREPARATION:For example, a compound shown by formula IV is reacted with a haloketone shown by formula V is a solvent such as methanol, etc., under heating to give a compound shown by formula I.

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の利用分野) 本発明は、胃疾患予防治療剤として有用な。[Detailed description of the invention] (Field of application of the invention) The present invention is useful as a preventive and therapeutic agent for gastric diseases.

下記一般式(I)で示されるフェニル(又はフェニルア
ミノ)アルキルアミン誘導体、及びその塩、並びにこれ
らの製法に関する。
The present invention relates to phenyl (or phenylamino)alkylamine derivatives represented by the following general formula (I), salts thereof, and methods for producing these.

t [式中の記号は以下の意味を示す。t [The symbols in the formula have the following meanings.

R1;水素原子、ハロゲン原子、又はハロゲン原子によ
って置換されていてもよ(・低級アルキル基。
R1; May be substituted with a hydrogen atom, a halogen atom, or a halogen atom (lower alkyl group.

R3及びR4;  同−又は異って、水素原子又R5及
びR6;  同−又は異って、水素原子。
R3 and R4; same or different, a hydrogen atom; R5 and R6; same or different, a hydrogen atom.

アルキル基、ピリジル基、チェニル基。Alkyl group, pyridyl group, chenyl group.

アダマンチル基、又はl乃至3個の低 級アルコキシ基で置換されてし・てもよし・フェニル基
an adamantyl group, or a phenyl group optionally substituted with 1 to 3 lower alkoxy groups;

R7;水素原子、低級アルキル基又はフェニル基。R7; hydrogen atom, lower alkyl group or phenyl group.

R8及びRQ;  同−又は異って、水素原子又はアル
キル基。] (従来の技術) アルキレン鎖の1位に置換又は未置換フェニル基が結合
した(イミダゾール−2−イル)アルキルアミン誘導体
は、特開昭56−90063号公報に記載されている。
R8 and RQ; Same or different, hydrogen atom or alkyl group. (Prior art) (imidazol-2-yl)alkylamine derivatives having a substituted or unsubstituted phenyl group bonded to the 1-position of the alkylene chain are described in JP-A-56-90063.

(発明の詳細な説明) 本発明者らは n + 、 K +−アデノシントリフ
ォスファターゼ(以下H” 、 K” −AT P a
seという)に対して阻害活性を有する化合物を鋭意探
索した結果9頭記一般式(I)で示される化合物が著効
を示すことをつきとめ本発明を完成した。
(Detailed Description of the Invention) The present inventors have identified n+, K+-adenosine triphosphatase (hereinafter referred to as H", K"-ATPa).
As a result of intensive searches for compounds that have inhibitory activity against (referred to as se), it was found that a compound represented by the general formula (I) shown in the following figure shows remarkable efficacy, and the present invention was completed.

(化合物) 本発明化合物(I)は、前記公知化合物と、異項環基な
異にする新規化合物であり、かつ前記公知文献に記載を
児な(・薬理作用を有する点に特長がある。
(Compound) The compound (I) of the present invention is a novel compound having a different ring group from the above-mentioned known compounds, and is characterized in that it has a pharmacological action not described in the above-mentioned known literature.

本発明書において「低級、なる語は特に断わらない限り
、炭素数が1乃至6個の直鎖又は分岐状の炭素鎖を意味
する。
In the present invention, the term "lower" means a straight or branched carbon chain having 1 to 6 carbon atoms, unless otherwise specified.

従って、′低級アルキル基、としては、A体的には例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基。
Therefore, the 'lower alkyl group' includes, for example, a methyl group, an ethyl group, and a propyl group in the A form.

イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基。Isopropyl group, butyl group, isobutyl group.

5ec−ブチル基、  tert−ブチル基、ペンチル
基。
5ec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group.

インペンチル基、ネオペンチル基、 tert−ペンチ
ル基、■−メチルブチル基、2−メチルブチル基、  
1.2−ジメチルプロピル基、ヘキシル基。
Impentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, ■-methylbutyl group, 2-methylbutyl group,
1.2-dimethylpropyl group, hexyl group.

イソヘキシル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペ
ンチル基、3−メチルペンチル基、 1゜1−ジメチル
ブチル基、l、2−ジメチルブチル基、2,2−ジメチ
ルブチル基、1.3−ジメチルブチル基、2,3−ジメ
チルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、1−エチル
ブチル基、2−エチルブチル基、  1,1.2− )
ジメチルプロピル基。
Isohexyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 1゜1-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 1,3-dimethyl Butyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1,1.2-)
Dimethylpropyl group.

1.2.2−1−ジメチルプロピル基、】−エチル−1
−メチルプロピル基、1−エチル−2−)fルプロピル
基等が挙げられる。
1.2.2-1-dimethylpropyl group, ]-ethyl-1
-methylpropyl group, 1-ethyl-2-)propyl group, and the like.

また、?低級アルコキシ基、としては、具体的にはメト
キシ基、エトキシ基、プロポキン基。
Also,? Specific examples of lower alkoxy groups include methoxy, ethoxy, and propoquine groups.

イソプロポキシ基、ブトキシ基、インブトキシ基・ 5
ee−ブトキシ基、  tert−ブトキシ基、ペンチ
ルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキ
シ基+ tert−ペンチルオキシ基。
Isopropoxy group, butoxy group, imbutoxy group・5
ee-butoxy group, tert-butoxy group, pentyloxy group, isopentyloxy group, neopentyloxy group + tert-pentyloxy group.

ヘキシルオキシ基環炭素数が1乃至6個の直鎖又は分岐
状のアルコキシ基が挙げられる。
Hexyloxy group A linear or branched alkoxy group having 1 to 6 ring carbon atoms can be mentioned.

さらに、r低級アルキレン基、としては、具体的にはメ
チレン基、エチレン基、メチルメチ7H・ レン基(−CH−)、  トリメチレン基、1−メチC
H。
Furthermore, the r-lower alkylene group specifically includes a methylene group, an ethylene group, a methylmethylene group (-CH-), a trimethylene group, and a 1-methylene group.
H.

ルエチレン基(−CHCH2−)、  2−メチルエチ
レチルトリメチレン基、2−メトルトリメチレン基、3
−メチルトリノチレン基、1−エチルエチレン基、2−
エチルエチレン基、ヘンタメチレン基、l−メチルテト
ラメチレン基、2−メチルテトラメチレン基、3−メチ
ルテトラメチレン基、4−メチルテトラメチレン基、ヘ
キサメチレン基等の炭素数が1乃至6個の直鎖又は分岐
状のアルキレン基が挙げられる。
ethylene group (-CHCH2-), 2-methylethylethyltrimethylene group, 2-metholtrimethylene group, 3
-Methyltrinotylene group, 1-ethylethylene group, 2-
A straight chain with 1 to 6 carbon atoms such as ethylethylene group, hentamethylene group, l-methyltetramethylene group, 2-methyltetramethylene group, 3-methyltetramethylene group, 4-methyltetramethylene group, hexamethylene group, etc. Chain or branched alkylene groups may be mentioned.

R5,R6,R8やR9が示す「アルキル基、としては
、とりわけ炭素数1乃至10個の直鎖又は分岐状のもの
が適切であり、具体的には上記低級アルキル基の具体例
に加えて、さらにn−へブチル基、1−メチルヘキシル
基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、4
−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、1,1−
ジメチルペンチル基、1,2−ジメチルペンチル基、1
,3−ジメチルペンチル基、1.4−ジメチルペンチル
基 2.2−ジメチルペンチル基、2,3〜ジメチルペ
ンチル基、2,4−ジメチルペンチル基、1−ニチルペ
ンチル基、2−エチルペンチル基、3−エチルペンチル
基、1−エチル−1−メチルブチル基、1−エチル−2
−メチルブチル基、l−エチル−3−メチルブチル基、
2−エチル−1−メチルブチル基。
As the alkyl group represented by R5, R6, R8 or R9, linear or branched ones having 1 to 10 carbon atoms are particularly suitable, and specifically, in addition to the specific examples of lower alkyl groups mentioned above, , further n-hebutyl group, 1-methylhexyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4
-Methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 1,1-
Dimethylpentyl group, 1,2-dimethylpentyl group, 1
, 3-dimethylpentyl group, 1.4-dimethylpentyl group 2.2-dimethylpentyl group, 2,3-dimethylpentyl group, 2,4-dimethylpentyl group, 1-nitylpentyl group, 2-ethylpentyl group, 3 -ethylpentyl group, 1-ethyl-1-methylbutyl group, 1-ethyl-2
-methylbutyl group, l-ethyl-3-methylbutyl group,
2-ethyl-1-methylbutyl group.

2−エチル−2−メチルブチル基、 1,1.2−トリ
メチルブチル基、  1,2.2− トリメチルブチル
基、  1.2.3− ト!、Iメチルブチル基。
2-ethyl-2-methylbutyl group, 1,1.2-trimethylbutyl group, 1,2.2-trimethylbutyl group, 1.2.3-t! , I methylbutyl group.

1.1.2−トリメチルブチル基、 1.2.2−トリ
メチルブチル基*  ] J 2 + 3  )”Jメ
チルブチル基、1−プロピルブチル基、n−オクチル基
、6−メチルへブチル基、n−ノニル基、7−メチルオ
クチル基、n−デシル基、8−メチルノニル基等が挙げ
られる。
1.1.2-trimethylbutyl group, 1.2.2-trimethylbutyl group * J 2 + 3 )”J Methylbutyl group, 1-propylbutyl group, n-octyl group, 6-methylhebutyl group, n -nonyl group, 7-methyloctyl group, n-decyl group, 8-methylnonyl group, etc.

また、″ハロゲン原子、としては、7ノ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子であり、またゝハロゲン原子
で置換された低級アルキル基、は前記ゝ低級アルキル基
Jの任意の水素原子が前記rハロゲン原子、で置換した
基が挙げられ、特にハロゲン原子を1乃至3個有する低
級アルキル基が好適である。
In addition, "halogen atoms" include heptadon atoms, chlorine atoms, bromine atoms, and iodine atoms, and "lower alkyl groups substituted with halogen atoms" refer to any hydrogen atom of the above-mentioned "lower alkyl group J". Examples include groups substituted with the above-mentioned r halogen atoms, and lower alkyl groups having 1 to 3 halogen atoms are particularly preferred.

なおR3とR4とが窒素原子と一体となり形成されるピ
ペラジン環の場合は、そのピペラジン環4位窒素原子は
前記ゝ低級アルキル基、の具体的基によって置換されて
℃・てもよい。
In the case of a piperazine ring formed by combining R3 and R4 with a nitrogen atom, the nitrogen atom at position 4 of the piperazine ring may be substituted with a specific group of the above-mentioned lower alkyl group.

本発明化合物(I)は塩を形成する。本発明には化合物
(I)の塩をも包含される。このような塩としては具体
的には、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、臭化水素酸、ヨウ
化水素酸等の鉱酸や。
Compound (I) of the present invention forms a salt. The present invention also includes salts of compound (I). Specifically, such salts include mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, hydrobromic acid, and hydroiodic acid.

酢酸、シュウ酸、コハク酸、クエン酸、マレイン酸、す
/ゴ酸、フマール酸、酒石酸、ピクリン酸、メタンスル
ホン酸、エタンスルホン酸等′の有機酸との酸付加塩、
グルタミン酸、アスパラギン酸等の酸性アミノ酸との塩
、塩化メチル。
Acid addition salts with organic acids such as acetic acid, oxalic acid, succinic acid, citric acid, maleic acid, sulfuric acid, fumaric acid, tartaric acid, picric acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, etc.
Salts with acidic amino acids such as glutamic acid and aspartic acid, methyl chloride.

臭化メチル、ヨウ化メチル等のハロゲン化アルキルとの
結合による第4級アンモニウム塩が挙げられる。
Examples include quaternary ammonium salts formed by bonding with alkyl halides such as methyl bromide and methyl iodide.

本発明化合物(I)中には、互変異性体や光学異性体が
存在する化合物が含まれてし・る。本発明は各種の立体
異性体の分離したものやその混合物をも包含する。
The compound (I) of the present invention includes compounds in which tautomers and optical isomers exist. The present invention also includes separated stereoisomers and mixtures thereof.

(製法) 本発明化合物(I)は種々の方法により合成される。以
下にその代表的製法を例示する。
(Production method) The compound (I) of the present invention can be synthesized by various methods. Typical manufacturing methods are illustrated below.

第1製法 (la) 第2製法 (I’ll/) 第3製法 Rう (Ic) 第4製法 R′ (■)     (Vlll) R” (Id) 第5製法 (■ン                 (Is)第
6製法 R′ (If) 第7製法 [反応式中、 R’l R2,R3,R’、 A、 B
、 R’、 R6,R1,R’及びR9は前記の意味を
有し、他の記号は以下の意味を示す。
1st manufacturing method (la) 2nd manufacturing method (I'll/) 3rd manufacturing method R (Ic) 4th manufacturing method R' (■) (Vllll) R'' (Id) 5th manufacturing method (■n (Is) 6th Manufacturing method R' (If) Seventh manufacturing method [In the reaction formula, R'l R2, R3, R', A, B
, R', R6, R1, R' and R9 have the above meanings, and other symbols have the following meanings.

Xl;ハロゲン原子又は有機スルホン酸残基。Xl; halogen atom or organic sulfonic acid residue.

R10;低級アルキル基。R10; lower alkyl group.

R11;水素原子、ハロゲン原子又は低級アルキル基。R11; hydrogen atom, halogen atom, or lower alkyl group.

R12;水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、又
は還元により低級アルキル基 に変じつる基。
R12: a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, or a group that can be converted into a lower alkyl group upon reduction.

RI4及びR15;同−又は異って水素原子、低級アル
キル基、又は還元により低級ア ルキル基に変ビうる基。
RI4 and R15; the same or different hydrogen atoms, lower alkyl groups, or groups that can be converted into lower alkyl groups by reduction.

但し、R14とR15とは窒素原子と一体となり1モル
ホリン環、還元だよりモル ホリン環に変ビうる基、ピペリジン環。
However, R14 and R15 are a group that can be combined with a nitrogen atom to form a morpholine ring, a group that can be converted into a morpholine ring by reduction, and a piperidine ring.

還元によりピペリジン環に変じうる基。A group that can be converted into a piperidine ring by reduction.

ピロリジン環、還元によりピロリジン 環に変じうる基、ピペラジン環又は還 元によりピペラジン環に変じうる基を 形成して(・てもよし・。Pyrrolidine ring, reduction produces pyrrolidine A group convertible into a ring, a piperazine ring or a ring A group that can be converted into a piperazine ring depending on the origin Form it (・Teroyoshi・).

B/ 11低級アルキレン基又は還元により低級アルキ
レン基に変じうる基。
B/11 Lower alkylene group or a group that can be converted into a lower alkylene group by reduction.

R5′及びR6′; 同−又は異って水素原子、アルキ
ル基、還元によりアルキル基に変 じうる基、ピリジル基、チェニル基。
R5' and R6': Same or different hydrogen atom, alkyl group, group convertible into an alkyl group by reduction, pyridyl group, chenyl group.

アダマンチル基、1乃至3個の低級ア ルコキシ基で置換されてし・てもよいフェニル基。Adamantyl group, 1 to 3 lower adamantyl groups Phenyl group optionally substituted with alkoxy group.

R” ;水素原子、低級アルキル基、還元により低級ア
ルキル基に変じうる基、又はフェニル基。
R'': a hydrogen atom, a lower alkyl group, a group convertible into a lower alkyl group by reduction, or a phenyl group.

R81及びR9′; 同−又は異って水素原子、アルキ
ル基、又は還元によりアルキル基 に変じつる基。
R81 and R9': Same or different hydrogen atoms, alkyl groups, or groups that can be converted into alkyl groups upon reduction.

R16及びR17;同−又は異って、低級アルキル基。R16 and R17; the same or different lower alkyl groups.

但し、R16とR17とは窒素原子と一体となり1モル
ホリン環、ピペリジン環。
However, R16 and R17 are combined with the nitrogen atom to form one morpholine ring or piperidine ring.

ピロリジン環又は低級アルキル基で置 換されたピペラジン環を形成していて もよい。Substituted with pyrrolidine ring or lower alkyl group It forms a converted piperazine ring. Good too.

R18;低級アルキル基。R18; lower alkyl group.

X2;ハロゲン原子 RI9; R18と相異なる低級アルキル基。X2; halogen atom RI9: Lower alkyl group different from R18.

D;テトラメチレン基、ペンタメチレン基。D: Tetramethylene group, pentamethylene group.

式−(CH2)2− N−(CH2)2−で示される基
、又は式−(CH2)20  (CH2)2−で示され
る基。
A group represented by the formula -(CH2)2- N-(CH2)2- or a group represented by the formula -(CH2)20 (CH2)2-.

R2°;低級アルキル基。] ここに、 XIやX2が示すノ・ロゲン原子としては、
ヨウ素原子、臭素原子や塩素原子等が挙げられ、有機ス
ルホン酸残基としては、ベンゼンスルホニルオキシ基、
トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ
基、エタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。また還
元により、低級アルキル基、アルキル基、ピペリジン環
、ピロリジン環、低級アルキレン基に変ビうる基として
は、二重結合あるいは三重結合の炭素炭素結合を有する
対応基が好適に用いられる。
R2°; lower alkyl group. ] Here, as the norogen atoms represented by XI and X2,
Examples include iodine atom, bromine atom and chlorine atom, and organic sulfonic acid residues include benzenesulfonyloxy group,
Examples include toluenesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group, ethanesulfonyloxy group, and the like. Further, as the group that can be transformed into a lower alkyl group, an alkyl group, a piperidine ring, a pyrrolidine ring, or a lower alkylene group by reduction, a corresponding group having a double or triple carbon-carbon bond is preferably used.

第1製法 本発明化合物中、一般式(Ia)で示されるチアゾール
化合物は、一般式(II)で示されるチオアミド化合物
と一般式(II)で示されるα−ノ・ロケトン類との網
金環化反応、すなわちHantzschのチアゾール合
成法の応用により、製造することができる。
First Production Method Among the compounds of the present invention, the thiazole compound represented by the general formula (Ia) is produced by mesh cyclization of the thioamide compound represented by the general formula (II) and the α-no-loketones represented by the general formula (II). It can be produced by reaction, that is, by applying Hantzsch's thiazole synthesis method.

反応は溶媒なしでも進行するが溶媒を用いる場合には、
メタノール、エタノール、インプロパツール等のアルコ
ール、ジオキサン、ベンゼン、クロロホルム等の有機溶
媒や水、あるいはこれらの混合溶媒を用いるのが有利で
ある。
The reaction can proceed without a solvent, but if a solvent is used,
It is advantageous to use alcohols such as methanol, ethanol, and impropatol, organic solvents such as dioxane, benzene, and chloroform, water, or mixed solvents thereof.

反応は常温でも進行するが通常加温下、好ましくは加熱
還流下に行うのが好適である。反応液の液性は中性乃至
塩基性が好ましい。
Although the reaction proceeds at room temperature, it is usually preferable to carry out the reaction under heating, preferably under heating and reflux. The liquid nature of the reaction solution is preferably neutral to basic.

原料化合物の使用量は、化合物(rI)と化合物(In
)とをほぼ等そル、あるいはその一方をやや過剰モルと
するのが適切である。
The amounts of raw material compounds used are compound (rI) and compound (In
) is approximately equal in mole, or it is appropriate to have a slight excess molar amount of one of them.

なお、原料化合物中、Aがメチン基である化合物crr
a)は、後記第2.第3製法との関連においては、下記
反応式で示される方法で合成するのが有利であり、容易
に入手することができる。
In addition, among the raw material compounds, a compound crr in which A is a methine group
a) is described in Section 2 below. In relation to the third production method, it is advantageous to synthesize by the method shown by the reaction formula below, and it can be easily obtained.

(XV)      (XVI) N (XVII) (R’、 R3,R’、 B及びX2前記の意味を有す
る)また、Aが窒素原子である化合物(IIb )は、
下記反応式に示される方法により製造すことにより入手
しうる。
(XV) (XVI) N (XVII) (R', R3, R', B and X2 have the above meanings) In addition, the compound (IIb) in which A is a nitrogen atom,
It can be obtained by manufacturing according to the method shown in the reaction formula below.

(反応式中、 R’、 R3,R’、 Bは前記の意味
を有する。
(In the reaction formula, R', R3, R', and B have the above meanings.

第2製法 一般式(Ib)の化合物は、一般式(IV)で示される
化合物を加熱することにより製造しうる。
Second Production Method The compound of general formula (Ib) can be produced by heating the compound represented by general formula (IV).

反応は、メタノール、エタノール、インプロパツール等
の有機溶媒中、加熱して行われる。
The reaction is carried out in an organic solvent such as methanol, ethanol, inpropatol, etc. by heating.

化合物(IV)は前段の反応混合物から単離して本反応
に付すことができるが、特に単離せず反応混合物を本反
応に付すこともできる。
Compound (IV) can be isolated from the reaction mixture in the first stage and subjected to the main reaction, but the reaction mixture can also be subjected to the main reaction without being isolated.

なお化合物(IV)は以下の反応式で示される方法によ
り入手することが可能である。
In addition, compound (IV) can be obtained by the method shown by the following reaction formula.

第3震法 一般式(Ic)の本発明化合物は、一般式(V)で示さ
れるアミジン誘導体と、一般式(Vl)で示されるアシ
ル酢酸エステル誘導体との縮合環化により製造できる。
The compound of the present invention having the general formula (Ic) can be produced by condensation cyclization of an amidine derivative represented by the general formula (V) and an acylacetate derivative represented by the general formula (Vl).

この反応は9通常有機溶媒中、室湛乃至加温下に行うの
が有利である。ここに用(・もれる溶媒としてはメタノ
ール、エタノール、イソプロパツール等のアルコール、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキ
サン、メチルセロンルブ、エチルセロソルブ、ジグリム
等が挙げられる。反応に際し、必要に応じて塩基。
This reaction is usually advantageously carried out in an organic solvent at room temperature or under heating. (Leaking solvents include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, etc.)
Dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, dioxane, methylcellosolve, ethylcellosolve, diglyme and the like can be mentioned. A base as necessary during the reaction.

を添加してもよく、このような塩基としては。may be added as such a base.

アルカリ金属アルコラード、水酸化ナトリウム。Alkali metal alcolade, sodium hydroxide.

水酸化カリウムが好適に用℃・られる。Potassium hydroxide is preferably used.

なお、原料化合物(V)及び(Vl)の使用量はそれぞ
れほぼ等モル、ある℃・は一方を他方よりやや過剰モル
とすることができる。
Note that the amounts of the raw material compounds (V) and (Vl) to be used may be approximately equal moles, and at a certain degree C., one may be used in a slightly excess molar amount than the other.

一般式(Ic)の化合物は対応するイミド酸エステルに
 3−アミノアクリル酸誘導体とを縮合環化させること
によっても製造することができる。
The compound of general formula (Ic) can also be produced by condensing and cyclizing a corresponding imidic acid ester with a 3-aminoacrylic acid derivative.

(反応式中+ R’+ R3t R’、 A + B 
、R8,R9* R”は前記と同じ意味を有し、R22
は低級アルキル基を意味する) この反応は、前記アミジンを原料とする方法とほぼ同様
の反応条件下に実施することができる。すなわち、アミ
ジン誘導体と3−アミノアクリル酸誘導体とをほぼ等モ
ル、あるいは一方ヲやや過剰モルとして、前記アミジン
を原料とする方法に用いられる有機溶媒に溶解し、必要
に応じ前記アミジンを原料とする方法で用いられる塩基
を添加し、加温下ある(・は加熱還流下に反応させるこ
とにより化合物(Ic)とすることができる。
(In the reaction formula + R'+ R3t R', A + B
, R8, R9* R'' has the same meaning as above, R22
means a lower alkyl group) This reaction can be carried out under substantially the same reaction conditions as in the method using amidine as a raw material. That is, the amidine derivative and the 3-aminoacrylic acid derivative are dissolved in approximately equal moles, or one in slightly excess mole, in an organic solvent used in the method using the above-mentioned amidine as a raw material, and if necessary, the above-mentioned amidine is used as a raw material. Compound (Ic) can be obtained by adding the base used in the method and reacting with heating under reflux.

なお、原料化合物(V)は、以下に示される反応により
容易に入手可能である。
Note that the raw material compound (V) can be easily obtained by the reaction shown below.

/C% 1(IN NF(2・HCI (V) 第4製法 一般式(Id)で示される本発明化合物は、フェニル(
又はフェニルアミノ)アルキルハラ・イド(又はスルホ
キシド)類(■1)とアミン類(〜′II)との反応に
より製造される。
/C% 1(IN NF(2.HCI (V) Fourth Production Method The compound of the present invention represented by the general formula (Id) is phenyl (
Alternatively, it is produced by reacting phenylamino)alkylhala ide (or sulfoxide) (1) with amine (~'II).

原料化合物(■1)としてXがハロゲン原子である化合
物を用(・る反応は、無溶媒下ある℃・はべ/ゼ/l 
トルエン、キゾレ/、シメチルホルムアミド、ジクロル
メタン、ジクロルエタン、メタノール、エタノール等の
反応に関与しない有機溶媒中、化合物(■1)に対して
化合物(Vlll)を等モル乃至やや過剰モルを用いて
、室温乃至加温下、あるいは加熱還流して実施するのが
有利である。
A compound in which X is a halogen atom is used as the raw material compound (■1).
In an organic solvent that does not participate in the reaction, such as toluene, chisol, dimethylformamide, dichloromethane, dichloroethane, methanol, or ethanol, use an equimolar to slightly excess molar amount of compound (Vlll) to compound (■1) at room temperature. It is advantageous to carry out the reaction under heating or under heating under reflux.

この反応に際し、ピリジン、ピコIJ7.N、N−ジメ
チルアニリン、N−メチルモルホリン。
During this reaction, pyridine, picoIJ7. N,N-dimethylaniline, N-methylmorpholine.

トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルアミン
等の二、三級塩基や炭酸カリウム、炭酸す) IJウム
、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基を添加することが反
応を円滑に進行させる上で有利な場合がある。
It may be advantageous to add a secondary or tertiary base such as trimethylamine, triethylamine, dimethylamine, or an inorganic base such as potassium carbonate, sodium bicarbonate, or the like to make the reaction proceed smoothly.

また副反応を抑制する上で化合物(■)のアミン基に保
護基を導入して反応させ1反応後保護基を脱離させる方
法を採用することもできる。
Furthermore, in order to suppress side reactions, it is also possible to adopt a method in which a protecting group is introduced into the amine group of the compound (■), the reaction is caused, and the protecting group is removed after one reaction.

このような保護基としては、化合物(■)としてフタル
酸イミドカリウムを用いるか、またはトルエンスルホニ
ル基、アセチル基、フエナシルスノーホニル基、トリフ
ルオロメタンスルホニル基。
As such a protecting group, potassium phthalic acid imide is used as the compound (■), or a toluenesulfonyl group, an acetyl group, a phenacyl snophonyl group, or a trifluoromethanesulfonyl group.

ビスベンゼンスルホニル基等が挙げられる。保護基の脱
離は酸や塩基やヒドラジン1水和物を用いる常法の加水
分解によって容易に達成できる。
Examples include bisbenzenesulfonyl group. Elimination of the protecting group can be easily accomplished by conventional hydrolysis using an acid, a base, or hydrazine monohydrate.

原料化合物(■1)として有機スルホン酸残基で置換さ
れた側鎖を有する化合物を使用する反応は、有機スルホ
ン酸残基で置換された側鎖を有する化合物(■)とそれ
に対し等モル乃至やや過剰モルの化合物(■)とを2反
応に不活性な有機溶媒2例えばエーテル、メタノール、
エタノール、トルエン、テトラヒドロフラン等中、冷却
下ある(・は室温下に行うのが有利である。反応時間は
種々の反応条件を考慮して適宜設定される。
In the reaction using a compound having a side chain substituted with an organic sulfonic acid residue as the starting compound (■1), the compound having a side chain substituted with an organic sulfonic acid residue (■) and the compound having a side chain substituted with an organic sulfonic acid residue (■) are used in a reaction in which the starting material compound (■1) is equimolar to that of the compound (■) having a side chain substituted with an organic sulfonic acid residue. A slight molar excess of the compound (■) and an inert organic solvent 2 for the reaction, such as ether, methanol,
It is advantageous to carry out the reaction in ethanol, toluene, tetrahydrofuran, etc. under cooling at room temperature.The reaction time is appropriately set in consideration of various reaction conditions.

第5製法 一般式(Ie)の化合物は、一般式(rX)で示される
化合物を還元することに1より製造される。
Fifth Production Method The compound of general formula (Ie) is produced in accordance with 1 by reducing the compound represented by general formula (rX).

還元は、パラジウム等の触媒下接触還元するか、あるい
は液体アンモニア中ナトリウムで処理するのが好ましく
・。接触還元はトルエンなどの有機溶媒中で実施するこ
ともできる。還元剤は、還元されて本発明化合物(Ie
)を与える基の存在を考慮し、化学当量で使用される。
The reduction is preferably carried out by catalytic reduction under a catalyst such as palladium, or by treatment with sodium in liquid ammonia. Catalytic reduction can also be carried out in an organic solvent such as toluene. The reducing agent is reduced to form the compound of the present invention (Ie
) are used in chemical equivalents, taking into account the presence of groups that give

なお、原料化合物(IX)は例えば以下に示す方法など
により製造入手可能である。
Note that the raw material compound (IX) can be manufactured and obtained, for example, by the method shown below.

R′5 <XW> RIB (XXVI) (反応式中、 R′2. R”、 B’、 R14,R
IBは前記の意味を有し、 phはフェニル基を、R2
3及びR24は保涛基を有して(・てもよいR+4及び
RIBの意味を有する) 第6製法 一般式(If)で示される本発明化合物は、一般式(X
)で示されるフェニルアミン誘導体とアミノアルキルハ
ライド又はアミノアルキルスルホネートとを作用させる
ことによって製造することができる。
R'5 <XW> RIB (XXVI) (In the reaction formula, R'2. R", B', R14, R
IB has the above meaning, ph is a phenyl group, R2
3 and R24 have a protective group (having the meaning of R+4 and RIB which may be .) The compound of the present invention represented by the general formula (If) of the sixth production method is a
) can be produced by reacting the phenylamine derivative represented by () with an aminoalkyl halide or an aminoalkyl sulfonate.

反応は第4製造と同様にして製造される。The reaction is produced in the same manner as the fourth production.

第7製法 本発明化合物中 R3とR4とが同一の低級アルキル基
である場合は、一般式(Ig)で示される第1アミンに
、一般式(■)で示される低級アルキルハライド又は低
級アルキルスルホネ−1・を作用させることによって製
造できる。
Seventh Production Method When R3 and R4 in the compound of the present invention are the same lower alkyl group, the primary amine represented by the general formula (Ig) is substituted with a lower alkyl halide or a lower alkyl sulfonate represented by the general formula (■). It can be produced by reacting Ne-1.

非対称型ジアルキルアミン9(N)は、前記反応を一般
式(Ih)のモノ低級アルキルアミン迄の反応にとどめ
、この化合物(Ih)に化合物(Xll)とは異なる低
級アルキルノ・ライドな作用させることにより製造され
る。
The asymmetric dialkylamine 9 (N) is obtained by limiting the above reaction to the mono-lower alkylamine of the general formula (Ih) and allowing this compound (Ih) to act as a lower alkylno-ride different from the compound (Xll). Manufactured by.

さらに、一般式(Ik)のR3,R4と窒素原子と一体
となり環を形成する化合物は、一般式(rg)で示され
る第1アミンと一般式(XIV)で示されるシバライド
とを反応させて製造される。
Furthermore, a compound that forms a ring by combining with R3 and R4 of general formula (Ik) and a nitrogen atom can be obtained by reacting a primary amine represented by general formula (rg) with a civalide represented by general formula (XIV). Manufactured.

これらの反応は(・ずれも第2製造のハライド類を■い
る反応とほぼ同様にして実施される。
These reactions are carried out in substantially the same manner as the reactions using halides in the second production.

これら種々の方法により製造された本発明化合物(I)
は、遊離化合物又はその塩として単離精製される。塩は
従来知られている造塩反応に付すことにより製造するこ
とができる。単離。
Compound (I) of the present invention produced by these various methods
is isolated and purified as a free compound or its salt. Salts can be produced by subjecting them to conventionally known salt-forming reactions. isolated.

精製もまた当分野で通常用し・られる化学操作。Purification is also a chemical operation commonly used in the art.

例えば抽出、留去、結晶化、再結晶、カラムクロマトグ
ラフィー等を用(・て行なわれるヶ(発明の効果) 本発明によって提供される化合物(I)及びその塩は、
胃酸分泌抑制作用及び抗潰瘍作用を有し、胃酸分泌抑制
剤、胃潰瘍予防、治療剤などの胃疾患予防及び治療剤と
して有用である。
For example, the compound (I) and its salt provided by the present invention are
It has gastric acid secretion suppressing action and antiulcer action, and is useful as a gastric acid secretion suppressing agent, gastric ulcer preventive and therapeutic agent, and other gastric disease preventive and therapeutic agents.

本発明化合物の胃酸分泌抑制作用及び抗潰瘍作用は、以
下に示すH+、に+アデノシントリフォスファターゼ(
以下H+、 K+ATP aseと(・う)に対する阻
害活性(ic、。、50%阻害濃度)によって確認され
たものである[ビオシミカエビオフィシカ アクタ(B
iochimica et Biophisjca A
cta ) 。
The gastric acid secretion suppressing action and anti-ulcer action of the compound of the present invention are expressed by the following H+, adenosine triphosphatase (
The following was confirmed by the inhibitory activity (ic, 50% inhibitory concentration) against H+ and K+ ATPase (B.
iochimica et biophisjca A
cta).

728、31−38 (1983)参照]。728, 31-38 (1983)].

本発明化合物は、この薬理試験法によりIC10が30
μM以上で有効であることが確認された。
The compound of the present invention has an IC10 of 30 according to this pharmacological test method.
It was confirmed that it is effective at µM or more.

本発明化合物(I)及びその塩は、そのままもしくは自
体公知の薬学的に許容されうる担体。
The compound (I) of the present invention and its salts may be used as such or in a known pharmaceutically acceptable carrier.

賦形剤などと混合した医薬組成物として使用される。投
与は錠剤、カプセル剤、散剤、顆粒剤。
It is used as a pharmaceutical composition mixed with excipients. Administration is in tablets, capsules, powders, and granules.

丸剤等の経口投与、注射剤、シロップ剤、軟膏剤。Oral administration such as pills, injections, syrups, and ointments.

受刑等の非経口投与の(・ずれであってもよい。It may be a deviation from parenteral administration such as in prison.

投与量は投与対象、投与ルート、症状等によって異なる
が経口で通常成人1日当り40〜400 mgであり、
これを1日2〜4回に分けて投与する。
The dosage varies depending on the subject, administration route, symptoms, etc., but it is usually 40 to 400 mg orally per day for adults.
This is administered in divided doses 2 to 4 times a day.

(実施例) 以下に実施例を掲記し9本発明を更に詳細に説明する。(Example) EXAMPLES The present invention will be described in further detail with reference to Examples below.

しかし2本発明は実施例に掲記したもののみに限定され
な(・。
However, the present invention is not limited to only those described in the examples.

なお、実施例で使用される原料化合物の主なものにつ(
・て、その製造例1を参考例として枦明する。但し、実
施例や参考例の記載中mpは融点。
In addition, the main raw material compounds used in the examples (
・Production Example 1 will be explained as a reference example. However, in the descriptions of Examples and Reference Examples, mp refers to melting point.

bpは沸点、 Massはマススペクトル、 NMRは
核磁気共鳴スペクトルを意味する。
bp means boiling point, Mass means mass spectrum, and NMR means nuclear magnetic resonance spectrum.

参考例 I CH3 C1ひ(2CN + C1α2CH,CH2N<。□3
・HCI窒素雰囲気下、乾燥1,2−ジメトキシエタン
300mtに油性(60w/w%)水素化ナトリウム8
.0gを懸濁させた溶液に、還流下に(p−クロロフェ
ニル)アセトニトリル30.3g及びクロロプロピルア
ミン24.2gを乾燥1.2−ジメトキシエタン150
m1に溶解させた溶液を30分間で滴下する。次℃・で
3時間還流を続げた後、減圧下に溶媒を留去する。
Reference example I CH3 C1hi(2CN + C1α2CH, CH2N<.□3
- Oily (60 w/w%) sodium hydride 8 to 300 mt of dry 1,2-dimethoxyethane under HCI nitrogen atmosphere
.. 30.3 g of (p-chlorophenyl)acetonitrile and 24.2 g of chloropropylamine were added to a solution of 150 g of dried 1,2-dimethoxyethane under reflux.
A solution dissolved in m1 is added dropwise over 30 minutes. After continuing to reflux at ℃ for 3 hours, the solvent was distilled off under reduced pressure.

残渣に希塩酸を加えpH=2に調整し、エーテルにて洗
浄する。次いで濃水酸化カリウム水溶液にてpH=8に
調整し、クロロホルムにて抽出する。
Dilute hydrochloric acid was added to the residue to adjust the pH to 2, and the mixture was washed with ether. Then, the pH was adjusted to 8 with a concentrated aqueous potassium hydroxide solution, and the mixture was extracted with chloroform.

有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、減圧下に溶
媒を留去した後、蒸留することにより。
The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and then distilled.

bpH6〜117°c10.65 mm HgMass
 (CI) rv’z  237(M”+1)参考例 
2〜5 参考例1と同様にして以下の化合物を得た。
bpH6~117°c10.65mm HgMass
(CI) rv'z 237 (M”+1) Reference example
2-5 The following compounds were obtained in the same manner as in Reference Example 1.

参考例 6 2− (p−10ロフエニル)−5−ジメチルアミノペ
ンタンニトリル11.84 gをトリエチルアミン7.
0ml及びピリジン12gに溶解させた溶液に水冷下に
硫化水素ガスを8.5時間通じた後、密閉したまま3日
間攪拌する。この溶液を氷水にあげ、析出した結晶をr
取し、水1次いでエーテルにて洗ミド10.5gを得た
Reference Example 6 11.84 g of 2-(p-10lophenyl)-5-dimethylaminopentanenitrile was mixed with 7.0 g of triethylamine.
Hydrogen sulfide gas was passed through the solution in 0 ml and 12 g of pyridine for 8.5 hours while cooling with water, and the mixture was stirred for 3 days while the mixture was sealed. This solution was poured into ice water, and the precipitated crystals were
The mixture was washed with water first and then with ether to obtain 10.5 g of middide.

mp 120〜122°C Mass (El ) m/z、 270 (M+)参
考例 7〜10 参考例6と同様にして以下の化合物を得た。
mp 120-122°C Mass (El) m/z, 270 (M+) Reference Examples 7-10 The following compounds were obtained in the same manner as in Reference Example 6.

参考例 11  Nl2 (3−ジメチルアミノ)プロビルアニリ7903gをク
ロロホルム90m1に溶解し、ペンゾイルチオイソシア
ネー) 9.1 gを加え、6時間還流下に攪拌する。
Reference Example 11 7903 g of Nl2 (3-dimethylamino)probylanili is dissolved in 90 ml of chloroform, 9.1 g of penzoylthioisocyanate) is added thereto, and the mixture is stirred under reflux for 6 hours.

次いで、減圧下に溶媒を留去し、残渣にメチルアミンの
30%メタノール溶液50mtを加え。
Then, the solvent was distilled off under reduced pressure, and 50 mt of a 30% methanol solution of methylamine was added to the residue.

室温にて4時間攪拌した後、減圧下に溶媒を留去する。After stirring at room temperature for 4 hours, the solvent was distilled off under reduced pressure.

残渣に希塩酸を加えpH=2に調整し、エーテル、次い
でジクロロメタンにて洗浄する。この水層を製炭酸カリ
ウム水溶液にてpH=9に調整し。
Dilute hydrochloric acid was added to the residue to adjust the pH to 2, and the mixture was washed with ether and then with dichloromethane. This aqueous layer was adjusted to pH=9 with a potassium carbonate aqueous solution.

ジクロロメタンにて抽出し、無水硫酸マグネシウムにて
乾燥した後、減圧下に溶媒を留去することによ71)、
N−(3−ジメチルアミン)プロピル−N−フェニルチ
オウレアを得た。これは更に精製することな(次の反応
に用いた。
After extraction with dichloromethane and drying over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure71),
N-(3-dimethylamine)propyl-N-phenylthiourea was obtained. This was not purified further (used in the next reaction).

Mass m/z 237 (M” ) E ICl3
(CH2)、   CHl HOOC−CH CH−COOH 参考例11で得られたN−(3−ジメチルアミノプロピ
ル)−N−フェニルチオウレア0.59g及び3−プロ
モー2−オキソノナン0.55gをエタノール4 ml
に加え、室温にて終夜攪拌する。溶媒を減圧下に留去し
た後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて中和し、ジク
ロロメタンにて抽出する。有機層を無水硫酸マグネシウ
ムにて乾燥した後、減圧下に溶媒を留去する。残渣をカ
ラムクロマトグラムにて精製し、7マル酸塩としてエタ
ノール−アセトニトリルより再結晶することにより、2
−[[N−(3−ジメチルアミノ)プロピル−N−フェ
ニル]アミノ]−5−ヘキシル−4−メチルチアゾール
・フマレート0.36gを得た。
Mass m/z 237 (M”) E ICl3
(CH2), CHl HOOC-CH CH-COOH 0.59 g of N-(3-dimethylaminopropyl)-N-phenylthiourea obtained in Reference Example 11 and 0.55 g of 3-promo-2-oxononane were added to 4 ml of ethanol.
and stir overnight at room temperature. After the solvent was distilled off under reduced pressure, the mixture was neutralized with a saturated aqueous sodium bicarbonate solution and extracted with dichloromethane. After drying the organic layer over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by column chromatography and recrystallized from ethanol-acetonitrile as the 7-malate salt.
0.36 g of -[[N-(3-dimethylamino)propyl-N-phenyl]amino]-5-hexyl-4-methylthiazole fumarate was obtained.

mp   104〜106℃ Mass (EI)  (m/z) 359(M”) Anal (C,IH3,N、S−C,)(40,とし
て)e(@H(チ)   N(%)   S(%)計算
値 63.13 7.84 8,83 6.74実測値
 63.03 7.78 8,76 6.74実施例 
2 実施例1と同様にして以下の化合物を得た。
mp 104-106℃ Mass (EI) (m/z) 359 (M") Anal (C, IH3, N, S-C,) (as 40) e (@H (chi) N (%) S ( %) Calculated value 63.13 7.84 8,83 6.74 Actual value 63.03 7.78 8,76 6.74 Example
2 The following compound was obtained in the same manner as in Example 1.

参考例12゜ 4−(1−ピロリジニル)−1−(3−トリフ/l/ 
、+iミロメチルフェニルブチロニトリル4.41 g
 ’i=ミニクロロホルム30m溶解させ、無水エタノ
ール1.1gを加えた後、水冷下塩化水素ガスを通じ飽
和とする。さらに5℃にて5日間攪拌した後1反応液を
水冷下20%炭酸カリウム水溶液100mt中にあけ、
70rnlクロロホルムにて2回抽出する。抽出溶液を
無水硫酸マグネシウムにて乾燥した後。
Reference example 12゜4-(1-pyrrolidinyl)-1-(3-trif/l/
, +i myromethylphenylbutyronitrile 4.41 g
'i = Dissolve 30 m of minichloroform, add 1.1 g of anhydrous ethanol, and bring to saturation by passing hydrogen chloride gas under cooling with water. After further stirring at 5°C for 5 days, one reaction solution was poured into 100 mt of 20% potassium carbonate aqueous solution under water cooling.
Extract twice with 70rnl chloroform. After drying the extracted solution with anhydrous magnesium sulfate.

r過、減圧濃縮を行いエテル 4−(1−ピロリ)=ル
) −2−(m−) IJフルオロメチルフェニル)プ
チルイミデーIf粗製物として5.06 g i!%だ
After filtration and concentration under reduced pressure, 5.06 g i! %is.

このものは精製することなく次の反応に用いた。This product was used in the next reaction without purification.

NMR(δ:CDC15中) 1.24 (3H,t )、 1.64〜2.60 (
12H,m)、 3.68 (LH,t)。
NMR (δ: in CDC15) 1.24 (3H,t), 1.64-2.60 (
12H, m), 3.68 (LH, t).

4.12(2H,q)、 7.10(IH,bs)、 
7.40〜7.72(4H,m)Mass (m/z)
 : 329 (M++ 1 )参考例13゜ 参考例12で得られた エチル 4−(1−ピロリジニ
ル) −2−(m −トリフルオロメチルフェニル)プ
チルイミデー)2.1gをメタノール25m4に溶解さ
せ、塩化アンモニウム0.34gを加えた後。
4.12 (2H, q), 7.10 (IH, bs),
7.40~7.72 (4H, m) Mass (m/z)
: 329 (M++ 1) Reference Example 13゜2.1 g of ethyl 4-(1-pyrrolidinyl)-2-(m-trifluoromethylphenyl)butylimide) obtained in Reference Example 12 was dissolved in 25 m4 of methanol, and ammonium chloride was dissolved. After adding 0.34g.

室温にて一昼夜攪拌する。溶媒を減圧留去し、エタノー
ル溶液にて活性炭処理を行った後、濾過。
Stir overnight at room temperature. The solvent was distilled off under reduced pressure, treated with activated carbon using an ethanol solution, and then filtered.

減圧留去し、得られた残渣にエーテルを加えることによ
り結晶化し、エタノール−エーテルから再結晶すること
により4−(1−ピロリジニル)−2−(m −)リフ
ルオロメチルフェニル)ブチルアミジン塩酸塩を2.2
5g得た。
Distillation under reduced pressure, crystallization by adding ether to the resulting residue, and recrystallization from ethanol-ether yielded 4-(1-pyrrolidinyl)-2-(m-)lifluoromethylphenyl)butyramidine hydrochloride. 2.2
I got 5g.

NMR(δ: D M S 026中)1.70〜2.
20 (4H,m)、 2.40〜3.24 (6H,
m)、 3.40〜3.70(211,m)、 4.1
4(IH,t)、 7.60〜8.06 (4H,m 
)。
NMR (δ: in DMS 026) 1.70-2.
20 (4H, m), 2.40~3.24 (6H,
m), 3.40-3.70 (211, m), 4.1
4 (IH, t), 7.60-8.06 (4H, m
).

9.10(LH,d)、 9.64(LH,s)、 1
1..33(IH,bs)Mass (m/z) : 
300 (M+)実施例3゜ 2−(P−クロロフェニル) −5−ジメチルアミノペ
ンタンチオアミド087g及び3−ブロモ−2−オキン
オクタン0.68gをエタノール5m乙に加え、還流下
に6時間攪拌する。次いで溶媒を留去し。
9.10 (LH, d), 9.64 (LH, s), 1
1. .. 33 (IH, bs) Mass (m/z):
300 (M+) Example 3 087 g of 2-(P-chlorophenyl)-5-dimethylaminopentanethioamide and 0.68 g of 3-bromo-2-ocyneoctane are added to 5 m of ethanol and stirred under reflux for 6 hours. Then, the solvent was distilled off.

残漬ヲカラムクロマト(シリカゲル、溶出液クロロホル
ム−メタノール)にて精製し9次いでフマル酸塩として
アセトニトリルより再結晶することにより、2−[[1
−(p−クロロフェニル)−4−ジメチルアミノ]ブチ
ル]−4−メチル−5=ペンチルチアゾール・フマレー
)1.:33gを得た。
2-[[1
-(p-chlorophenyl)-4-dimethylamino]butyl]-4-methyl-5=pentylthiazole fumaray)1. :33g was obtained.

mp  118〜120℃biass (FAB) (
m/z) 379 (M”+ 1 )Anal  (C
21H3、N、5CI−C,H,04−−!LH20と
して)CHN     S     C1 計算値(%)(50,217,165,626,,43
7,11実測値(%)  60.21 7.03 5.
53 6.41 7.38実施例4〜28 実施例3と同様にして以下の化合物を得た。
mp 118-120℃ bias (FAB) (
m/z) 379 (M”+ 1) Anal (C
21H3,N,5CI-C,H,04--! As LH20) CHN S C1 Calculated value (%) (50,217,165,626,,43
7,11 Actual value (%) 60.21 7.03 5.
53 6.41 7.38 Examples 4 to 28 The following compounds were obtained in the same manner as in Example 3.

参考例14 エチル−4−(l−ピロリジニル) = 2− (3−
トリフルオロメチルフェニル)プチルイミデー°Cで6
5時間加熱する。今後、エタノール30m!溶液とし、
活性炭150111gを加え30分攪拌した後。
Reference example 14 Ethyl-4-(l-pyrrolidinyl) = 2- (3-
trifluoromethylphenyl) butylimide at 6 °C
Heat for 5 hours. From now on, 30m of ethanol! As a solution,
After adding 150,111 g of activated carbon and stirring for 30 minutes.

濾過し溶媒を減圧留去する。残渣にエタノール性塩化水
素を加え得られた結晶を、エタノール−イソプロピルエ
ーテルから再結晶を行〜・3−(3−(1−ピロリジニ
ル)−1−(m−トリフルオロメチルフェニル)〕〕プ
ロピルー5−フェニルーIH−1,2゜4−トリアゾー
ル塩酸塩0.5 gを得た。
Filter and remove the solvent under reduced pressure. Ethanolic hydrogen chloride was added to the residue, and the resulting crystals were recrystallized from ethanol-isopropyl ether. -Phenyl-IH-1,2°4-triazole hydrochloride 0.5 g was obtained.

m2206〜207°C Mass (m/z):400(M”)Ana l (
C22H24N4 F3 Clとして)C(%)  H
(%)N(%)  CI(%)F(%)計算値 60,
48 5.54 12.82 8.11 13.05 
   □実測値 60゜33 5.48 12.78 
8.23 13.04ト2.5gをメタノール20 r
nlに溶解し、ベンゾイルヒドラジン1.04 gを加
え室温にて26時間攪拌する1、析出した結晶を戸数し
、エタノール−エーテル混液にて洗い、減圧乾燥するこ
とにより N−ベンゾイル−4−(l−ピロリジニル)
2−(m−トリフルオロメチルフェニル)ブチルアミト
ラシンを2.2O2得た。このものは精製することなく
次の反応に用いた。
m2206~207°C Mass (m/z): 400 (M”) Ana l (
C22H24N4 F3 (as Cl) C (%) H
(%) N (%) CI (%) F (%) Calculated value 60,
48 5.54 12.82 8.11 13.05
□ Actual value 60°33 5.48 12.78
8.23 2.5 g of 13.04 g of methanol 20 r
Add 1.04 g of benzoylhydrazine and stir at room temperature for 26 hours. 1. Separate the precipitated crystals, wash with an ethanol-ether mixture, and dry under reduced pressure to obtain N-benzoyl-4-(l). -pyrrolidinyl)
2.2O2 of 2-(m-trifluoromethylphenyl)butylamithracine was obtained. This product was used in the next reaction without purification.

NMR(δ:CDCl、)1.64〜2.0O(4H,
m)、2.04〜2.72゜(8H,m)、4.12(
t、LH)、7.18〜7.92(9H,rn)Mas
s (m/z):418(M”)実施例29 N−ベンゾイル−4−(1−ピロリジニル)−2−(m
 −トリフルオロメチルフェニル)ブチルアミトラシン
1.05 gをアスピレータ−減圧条件下にて140実
施例30 無水エタノール30m/、中に、窒素気流中、粉末ナト
リウムメチラート0.96gを溶解させた後、水冷下4
−ピロリジニル−2−(m−トリフルオロメチルフェニ
ル)ブチルアミジン塩酸塩2.0gのメタノール溶f’
1110mtを15分で滴下する。ついでエチル−α−
n−ヘキシルアセテート1.38gのエタノール溶液1
0 mlを15分で滴下した後、室温に戻し、14時間
攪する。析出した塩を濾過した後、溶媒を減圧留去し得
られた残渣をクロロホルム−メタノール−アンモニア水
(90:10:l)を展開溶媒とするシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製し、フマル酸170mgのエ
タノール溶液を加え得られた結晶を。
NMR (δ: CDCl,) 1.64-2.0O (4H,
m), 2.04-2.72° (8H, m), 4.12 (
t, LH), 7.18-7.92 (9H, rn) Mas
s (m/z): 418 (M”) Example 29 N-benzoyl-4-(1-pyrrolidinyl)-2-(m
Example 30 1.05 g of trifluoromethylphenyl)butylamithracine was dissolved under reduced pressure using an aspirator in 30 m/m of absolute ethanol in a nitrogen stream, and then 0.96 g of powdered sodium methylate was dissolved. Water cooling 4
-Pyrrolidinyl-2-(m-trifluoromethylphenyl)butyramidine hydrochloride 2.0g dissolved in methanol f'
1110 mt is added dropwise in 15 minutes. Then ethyl-α-
Ethanol solution 1 of 1.38 g of n-hexyl acetate
After dropping 0 ml over 15 minutes, the mixture was returned to room temperature and stirred for 14 hours. After filtering the precipitated salt, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was purified by silica gel column chromatography using chloroform-methanol-ammonia water (90:10:l) as a developing solvent, and 170 mg of fumaric acid was extracted with ethanol. Add the solution to the resulting crystals.

アセトニトリルから再結晶することにより、5−ヘキシ
ル−2−43−(1−ピロリジニル)−1−(m−トリ
フルオロメチルフェニル)〕〕プロピルー6−メチルー
4(IH)−ピリミド/・7マル酸塩を07g得た。
By recrystallizing from acetonitrile, 5-hexyl-2-43-(1-pyrrolidinyl)-1-(m-trifluoromethylphenyl)]]propyl-6-methyl-4(IH)-pyrimide/·7malate 07g of was obtained.

m p 178〜179°C Mass、 (m/z ) :450(M”+1 )(
FAB )Anal (C2gH38N305F3とし
て)C(%)  H(%)  N(%)  F(%)計
算値 61.58 6.77 7.43 10.08実
測値 61.42 6.71 7.40 10.08実
施例31 実施例30と同様にして以下の化合物を得た。
m p 178~179°C Mass, (m/z): 450 (M”+1) (
FAB ) Anal (as C2gH38N305F3) C (%) H (%) N (%) F (%) Calculated value 61.58 6.77 7.43 10.08 Actual value 61.42 6.71 7.40 10. 08 Example 31 The following compound was obtained in the same manner as in Example 30.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中の記号は以下の意味を示す。 R^1;水素原子、ハロゲン原子、又はハロゲン原子で
置換されていてもよい低級アルキル基、 R^2;式▲数式、化学式、表等があります▼で示され
る基、式▲数式、化学式、表等があります▼で示される
基、又は式▲数式、化学式、表等があります▼で示され
る基、 R^3及びR^4;同一又は異って、水素原子又は低級
アルキル基。 但し、R^3とR^4とは窒素原子と一体となり、モル
ホリン環、ピペリジン環、ピロリジン環、ピペラジン環
を形成していてもよい。 A;メチン基(▲数式、化学式、表等があります▼)又
は窒素原子(▲数式、化学式、表等があります▼) B;低級アルキレン基 R^5及びR^6;同一又は異って、水素原子、アルキ
ル基、ピリジル基、チエニル基、アダマンチル基、又は
1乃至3個の低級アルコキシ基で置換されていてもよい
フェニル基、 R^7;水素原子、低級アルキル基又はフェニル基、 R^8及びR^9;同一又は異って、水素原子又はアル
キル基。] で示されるフェニル(又はフェニルアミノ)アルキルア
ミン誘導体又はその塩。 2、一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で示されるフェニル(又はフェニルアミノ)アルキルア
ミン誘導体の製法において、 (a)一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で示されるチオアミド化合物と一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) で示されるハロケトン類とを反応させるか、 (b)一般式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) で示されるアミドラゾン誘導体を加熱するか、又は (c)一般式(V) ▲数式、化学式、表等があります▼(V) で示されるアミジン化合物と、一般式(VI) ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) で示されるアシル酢酸エステル類とを反応させるかのい
ずれかの製法。 [上記一般式中の記号は以下の意味を示す。 R^1:水素原子、ハロゲン原子、又はハロゲン原子で
置換されていてもよい低級アルキル基、 R^2;式▲数式、化学式、表等があります▼で示され
る基、▲数式、化学式、表等があります▼で示される基
、又は式▲数式、化学式、表等があります▼で示される
基、 R^3及びR^4;同一又は異って、水素原子又は低級
アルキル基。 但し、R^3とR^4とは窒素原子と一体となり、モル
ホリン環、ピペリジン環、ピロリジン環、ピペラジン環
を形成していてもよい。 A;メチン基(▲数式、化学式、表等があります▼)又
は窒素原子(▲数式、化学式、表等があります▼)、 B;低級アルキレン基、 R^5及びR^6;同一又は異って、水素原子、アルキ
ル基、ピリジル基、チエニル基、アダマンチル基、又は
1乃至3個の低級アルコキシ基で置換されていてもよい
フェニル基、 R^7;水素原子、低級アルキル基又はフェニル基、 R^8及びR^9;同一又は異って、水素原子又はアル
キル基、 X^1;ハロゲン原子又は有機スルホン酸残基、 R^1^0;低級アルキル基。]
[Claims] 1. General formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ [Symbols in the formula have the following meanings. R^1; Hydrogen atom, halogen atom, or lower alkyl group optionally substituted with a halogen atom, R^2; Formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. Groups represented by ▼, formula ▲ Numerical formula, chemical formula, There are tables, etc. ▼ Groups, or formulas ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ Groups R^3 and R^4; Same or different, hydrogen atom or lower alkyl group. However, R^3 and R^4 may be combined with the nitrogen atom to form a morpholine ring, a piperidine ring, a pyrrolidine ring, or a piperazine ring. A: Methine group (▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼) or nitrogen atoms (▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼) B: Lower alkylene groups R^5 and R^6: Same or different, Hydrogen atom, alkyl group, pyridyl group, thienyl group, adamantyl group, or phenyl group optionally substituted with 1 to 3 lower alkoxy groups, R^7; Hydrogen atom, lower alkyl group, or phenyl group, R^ 8 and R^9; the same or different, hydrogen atom or alkyl group. ] A phenyl (or phenylamino) alkylamine derivative or a salt thereof. 2. General formula (I) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ In the method for producing the phenyl (or phenylamino) alkylamine derivative represented by (I), (a) General formula (II) ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (II) React the thioamide compound shown by the general formula (III) ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (III) React with the haloketones shown by the general formula (III), or (b) General formula (IV) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(IV) By heating the amidrazone derivative represented by (IV) or (c) General formula (V) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(V) A manufacturing method that involves reacting the general formula (VI) with acylacetic acid esters represented by the formula (VI). [The symbols in the above general formula have the following meanings. R^1: Hydrogen atom, halogen atom, or lower alkyl group optionally substituted with a halogen atom, R^2; Formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. Groups represented by ▼, ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. etc. Groups represented by ▼, or groups represented by the formula ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, R^3 and R^4; Same or different, hydrogen atom or lower alkyl group. However, R^3 and R^4 may be combined with the nitrogen atom to form a morpholine ring, a piperidine ring, a pyrrolidine ring, or a piperazine ring. A: Methine group (▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼) or nitrogen atoms (▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼), B: Lower alkylene group, R^5 and R^6: Same or different a hydrogen atom, an alkyl group, a pyridyl group, a thienyl group, an adamantyl group, or a phenyl group optionally substituted with 1 to 3 lower alkoxy groups, R^7; a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a phenyl group, R^8 and R^9; same or different; hydrogen atom or alkyl group; X^1; halogen atom or organic sulfonic acid residue; R^1^0; lower alkyl group. ]
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