JPS63122559A - Surface treating method for ink jet recording head - Google Patents
Surface treating method for ink jet recording headInfo
- Publication number
- JPS63122559A JPS63122559A JP26849786A JP26849786A JPS63122559A JP S63122559 A JPS63122559 A JP S63122559A JP 26849786 A JP26849786 A JP 26849786A JP 26849786 A JP26849786 A JP 26849786A JP S63122559 A JPS63122559 A JP S63122559A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- ink
- recording head
- face
- ejection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 20
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims abstract description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 16
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 abstract description 9
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- ODPYDILFQYARBK-UHFFFAOYSA-N 7-thiabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-triene Chemical compound C1=CC=C2SC2=C1 ODPYDILFQYARBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000001393 microlithography Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1606—Coating the nozzle area or the ink chamber
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
- B41J2202/11—Embodiments of or processes related to ink-jet heads characterised by specific geometrical characteristics
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、インクジェット記録ヘッドに関するものであ
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to an inkjet recording head.
[従来の技術]
近年コンピュータの普及に伴い各種の応用機種の開発が
盛んに行われている。とくに複写機、ファクシミリ、ワ
ードプロセッサその他いわゆるパーソナルコンピュータ
等のオフィスオートメーション用の事務機器の開発およ
び普及には著しいものがある。[Prior Art] With the spread of computers in recent years, various application models have been actively developed. In particular, the development and spread of office equipment for office automation, such as copying machines, facsimile machines, word processors, and so-called personal computers, has been remarkable.
これらの事務機器においては、処理されたデータあるい
は文章等の出力用機器としてのいわゆるプリンタが必須
の装置である。In these office machines, a so-called printer is an essential device for outputting processed data or text.
従来、このようなプリンタとしては、ワイヤドツトプリ
ンタ等のインパクト方式のプリンタや、静電複写方式を
用いたレーザービームプリンタ。Conventionally, such printers include impact printers such as wire dot printers and laser beam printers that use electrostatic copying.
熱転写プリンタ等のノンインパクト方式のプリンタが用
いられているが、インクジェット記録方式によるプリン
タも近年そのすぐれた特徴が注目されて各種の方式の開
発が進められている。Non-impact printers such as thermal transfer printers are used, but printers using inkjet recording methods have recently attracted attention for their excellent features, and various types of printers are being developed.
プリンタによる印字や画像が美しく精細であることが望
ましいことは言うまでもないことで、これらのプリンタ
技術の目標とする所もここにある。It goes without saying that it is desirable for prints and images produced by a printer to be beautiful and precise, and this is also the goal of these printer technologies.
そのための第1のインクジェット記録ヘッドとしては、
インク吐出ノズルを小さく形成し、インクを高速度かつ
高密度に吐出させるようにしたものがある。また、他の
インクジェット記録ヘッドとしては、インク吐出ノズル
を小さくかつ密接して配置することが考えられ、そのた
めにいわゆるマイクロリソグラフィの技術を用いた微細
加工方式を用いて多数の吐出口を密接して製作する方法
が知られている。The first inkjet recording head for this purpose is
There is one in which the ink ejection nozzle is formed small and the ink is ejected at high speed and with high density. In addition, in other inkjet recording heads, it is possible to arrange ink ejection nozzles small and close together, and for this purpose, a large number of ejection ports are arranged closely together using a microfabrication method using so-called microlithography technology. There are known methods for producing it.
第2図および第3図はこのような方法により製造された
従来のインクジェット記録ヘッドの構成例を示す。図に
おいて、1はたとえばシリコンウェハ等で形成された第
1の基板、2はたとえば5in2等により第1の基板1
表面に形成された層である。3はリソグラフィ等の手法
で形成されたノズル壁、4はたとえばガラス板で形成し
た第2の基板、5は第2の基板4をノズル壁3の上部の
接着層、6はノズルのインク吐出口である。このような
記録ヘッドは、たとえばノズル壁3を高さ25μm5幅
20μmの寸法とし、吐出口6がノズル壁3と同じ寸法
となるようにきわめて精細に加工されている。FIGS. 2 and 3 show an example of the structure of a conventional inkjet recording head manufactured by such a method. In the figure, 1 is a first substrate made of, for example, a silicon wafer, and 2 is a first substrate 1 made of, for example, 5in2.
It is a layer formed on the surface. 3 is a nozzle wall formed by a method such as lithography, 4 is a second substrate formed of a glass plate, 5 is an adhesive layer on the upper part of the nozzle wall 3, and 6 is an ink discharge port of the nozzle. It is. In such a recording head, the nozzle wall 3 has, for example, a height of 25 μm and a width of 20 μm, and the ejection opening 6 is extremely precisely machined to have the same dimensions as the nozzle wall 3.
[発明が解決しようとする問題点]
第4図(A)および(B)は第2図および第3図示のイ
ンクジェット記録ヘッドの側断面を示し、インク7が吐
出されてインク滴8を形成する状態の2例を示している
。ここで、第4図(A)はノズル端面9がインクに濡れ
ることなくインク滴が真直に吐出される状態、第4図(
B)はノズル端面9の一部が吐出前にインクに濡らされ
ているために曲った方向にインク滴が吐出されようとし
ている状態である。[Problems to be Solved by the Invention] FIGS. 4(A) and 4(B) show side cross sections of the inkjet recording head shown in FIGS. 2 and 3, in which ink 7 is ejected to form ink droplets 8. Two examples of states are shown. Here, FIG. 4(A) shows a state in which ink droplets are ejected straight without the nozzle end surface 9 getting wet with ink, and FIG.
B) is a state in which ink droplets are about to be ejected in a curved direction because a part of the nozzle end face 9 is wetted with ink before ejection.
吐出口端面9は、インク吐出時にインクが濡れ拡がる場
合の他、キャリッジにインクジェット記録ヘッドを搭載
して記録を行う形態の装置では、ヘッドが印字を行いな
がら機械的に移動させられる際、またはキャリッジが記
録媒体の端部に達して復帰動作を行うとき等に起こる機
械的振動等によって、ノズル内のインク7がノズル先端
から外部に、すなわちノズル先端の端面9へ溢れ出てそ
こを濡らす場合がある。The ejection port end face 9 is used not only when ink gets wet and spreads during ink ejection, but also when the head is mechanically moved while printing in an apparatus that performs recording by mounting an inkjet recording head on a carriage, or when the carriage Due to mechanical vibrations that occur when the ink reaches the edge of the recording medium and performs a return operation, the ink 7 in the nozzle may overflow from the nozzle tip to the outside, that is, to the end surface 9 of the nozzle tip, wetting it. be.
このように溢れ出て端面9を濡らすインクが吐出口内に
再び戻ってくる場合や吐出口周辺を均一に濡らす場合に
は、吐出口インク滴8の吐出方向は第4図(A)に示す
ように真直となり、吐出状態すなわち記録状態は安定す
る。In this case, when the ink that overflows and wets the end face 9 returns to the ejection port, or when the area around the ejection port is uniformly wetted, the ejection direction of the ejection port ink droplets 8 is as shown in FIG. 4(A). The ejection state, that is, the recording state becomes stable.
しかしながら、従来のインクジェット記録ヘッドでは、
第2の基板4と接着層5との濡れ性の相違により、ノズ
ル端面9が不均一に濡らされたり、あるいは、−足温れ
た後にインク端面9に不均一なインクの残留状態が生じ
、従って第4図(II)のような不安定な吐出状態が生
じることになる。However, with conventional inkjet recording heads,
Due to the difference in wettability between the second substrate 4 and the adhesive layer 5, the nozzle end surface 9 may be unevenly wetted, or - After the feet have warmed up, the ink may remain unevenly on the ink end surface 9. Therefore, an unstable discharge state as shown in FIG. 4(II) will occur.
すなわち、吐出口端面の濡れと端面の表面状態とは強い
関係があり、吐出口端面の表面状態が適切でない場合に
は不安定な吐出状態が生じることになり、従って良好な
記録状態を維持できずに記録品位が低下することにもな
る。In other words, there is a strong relationship between the wetting of the end face of the ejection port and the surface condition of the end face, and if the surface condition of the end face of the ejection port is not appropriate, an unstable ejection state will occur, and therefore a good recording state cannot be maintained. This also results in a decrease in recording quality.
このことは、第2図および第3図示のインクジェット記
録ヘッドのみならず、上記第1のインクジェット記録ヘ
ッドにおいても前輪生じ得る問題点であるが、第2図お
よび第3図示のインクジェット記録ヘッドの如くインク
吐出口が密接して設けられている場合には、濡れは互に
隣接した吐出口周辺で起こるので、濡わが隣接する吐出
口同志で連結してしまいその影習はますます大きくなる
。その結果、記録された文字が歪んだり画像に乱れが起
こるなど、記録品位や画質に一層著しい悪影晋を与える
ことになるので、吐出口端面は一層厳格に管理される必
要がある。This is a problem that can occur in the front wheel not only in the inkjet recording head shown in FIGS. 2 and 3, but also in the first inkjet recording head. When the ink ejection ports are provided closely together, wetting occurs around the adjacent ejection ports, so that the wetting areas connect with the adjacent ejection ports, and the effect becomes even greater. As a result, the recorded characters are distorted and the image is disturbed, which has a more serious negative impact on the recording quality and image quality, so the end face of the ejection port needs to be controlled more strictly.
このためには、吐出口端面にインクをはじいて濡れない
ようにする撥液性の表面処理を施すことが考えられるが
、吐出口の内部はインクに対して逆に濡れの良い表面で
あることが望ましい。これは、吐出口内部の漏れが良い
と、駆動信号1バルスによる液滴吐出後の吐出に内部へ
のインク補充速度がそれだけ大きくなり、従ってより高
い速度の吐出の繰り返しが可能となるからである。To this end, it is possible to apply a liquid-repellent surface treatment to the end face of the ejection port to repel ink and prevent it from getting wet, but the inside of the ejection port must have a surface that is easily wetted by ink. is desirable. This is because if the leakage inside the ejection port is good, the ink replenishment speed inside the ejection port after ejecting a droplet by one pulse of the drive signal will be correspondingly higher, and therefore it will be possible to repeat ejection at a higher speed. .
従来より、インク吐出口の端面被覆によフて表面形状を
整える試み、すなわち、端面に被覆層を設けることによ
り均一表面化を行い、また記録液滴の吐出の安定化を図
る試みは為されている。しかしながら、吐出口を形成し
た後における被覆ないし表面処理は、吐出口内部に及ぶ
ことなしに行うことは技術的困難が伴い、吐出口内部に
被覆材料が侵入することによって、むしろ記録液の吐出
口への供給を妨げ、不安定な吐出状態に陥ってしまうこ
とがあった。また、このような悪影響が懸念されるが故
に被覆ないし表面処理に用い得る材料には制限があり、
表面処理の効果、の持続性を低下させる結果を生じるこ
ともあった。Up until now, attempts have been made to adjust the surface shape by coating the end faces of ink ejection ports, that is, to provide a coating layer on the end faces to make the surface uniform and to stabilize the ejection of recording droplets. There is. However, it is technically difficult to carry out coating or surface treatment after forming the ejection port without touching the inside of the ejection port, and if the coating material enters the inside of the ejection port, the recording liquid may be exposed to the ejection port. This could result in unstable discharge conditions. In addition, due to concerns about such negative effects, there are restrictions on the materials that can be used for coating or surface treatment.
This may also result in a reduction in the durability of the surface treatment effect.
本発明は、これら問題点を解決するために為されたもの
であり、煩雑で不確実な表面処理、表面処理効果の持続
性不足および表面処理可能な対象材料の制限を排除する
ことを目的としている。The present invention has been made to solve these problems, and aims to eliminate complicated and uncertain surface treatments, insufficient sustainability of surface treatment effects, and limitations on the materials that can be surface treated. There is.
[問題点を解決するための手段]
そのために、本発明では、インクジェット記録ヘッドの
インク吐出口を含む端面に対して物質を被着させること
により表面処理を行うインクジェット記録ヘッドの表面
処理方法において、吐出口の法線に対し傾いた方向から
物質を飛翔させて端面に被着させることを特徴とする。[Means for Solving the Problems] To this end, the present invention provides a surface treatment method for an inkjet recording head in which surface treatment is performed by applying a substance to the end face of the inkjet recording head including the ink ejection ports. It is characterized in that the substance is ejected from a direction oblique to the normal line of the discharge port and is deposited on the end face.
[作 用]
オなりち、本発明方法によれば、蒸着法あるいはスパッ
タリング法によりインクジェット記録ヘッドの吐出口端
面の表面処理を行うに際し、表面処理のための物質は吐
出口内方に被着せず、端面に被着するので、煩雑な工程
を経ずに確実な表面処理が可能となる。[Function] According to the method of the present invention, when performing surface treatment on the end face of the ejection port of an inkjet recording head by vapor deposition or sputtering, the substance for surface treatment does not adhere to the inside of the ejection port, and Since it adheres to the end face, reliable surface treatment is possible without complicated processes.
[実施例] 以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。[Example] Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
第1図(^) 、 (B)および(C)は本発明方法を
適用したインクジェット記録ヘッドの3例を示す模式的
断面図である。これら図において、10はノズル管もし
くはノズルq、12はノズル管もしくはノズル壁10の
表面に以下の工程により処理された表面層、16は吐出
口6に連通ずる液流路である。なお、同図(B)は上述
した第2図および第3図示の記録ヘッドに対応している
。FIGS. 1(^), (B) and (C) are schematic cross-sectional views showing three examples of inkjet recording heads to which the method of the present invention is applied. In these figures, 10 is a nozzle pipe or nozzle q, 12 is a surface layer treated on the surface of the nozzle pipe or nozzle wall 10 by the following process, and 16 is a liquid flow path communicating with the discharge port 6. Note that FIG. 2B corresponds to the recording head shown in FIGS. 2 and 3 described above.
本実施例においては、表面層12の形成を蒸着法により
行うものとし、その際被着される物質(蒸発気体)の飛
翔方向N2を吐出口6の法Hr’i +に対して傾ける
ようにする。このN、とN2との為す角度θは厳密に限
定する必要はないが、おおむね45@<θ〈90°の範
囲である。蒸発気体の流れに方向性があり、かつヘッド
が第1図(^)〜(C)のように配置されていると、蒸
着は吐出口端面と吐出口内の僅かの範囲に対して行われ
る。このため、吐出口内方に充填油を設ける等の処理を
要することなく、実質的に表面にのみ蒸着による薄膜が
形成される。In this embodiment, the surface layer 12 is formed by a vapor deposition method, and the flight direction N2 of the deposited substance (evaporated gas) is tilted with respect to the direction Hr'i + of the discharge port 6. do. The angle θ formed by N and N2 does not need to be strictly limited, but is generally in the range of 45@<θ<90°. When the flow of evaporated gas has directionality and the heads are arranged as shown in FIGS. 1(^) to (C), vapor deposition is performed on the end face of the ejection port and a small area within the ejection port. Therefore, a thin film is substantially formed only on the surface by vapor deposition, without requiring any treatment such as providing filling oil inside the discharge port.
ここで、蒸発気体の流れに方向性を与えるには、例えば
1G−’Torr以上の高真空下で、蒸発源と蒸着に係
る吐出口端面との距離を大ぎく取ることによって達成す
ることができ、加熱源としては、抵抗体ボート、電子ビ
ームが用いられる。なお、表面層12の形成は、蒸着法
の他、例えば低真空下でのスパッタリング法を用いても
行うことができ、この場合はスリットないしオリフィス
を設ければ、飛び出したターゲット物質に方向性を与え
ることができる。Here, giving directionality to the flow of the evaporated gas can be achieved by, for example, increasing the distance between the evaporation source and the end face of the ejection port involved in evaporation under a high vacuum of 1 G-'Torr or more. As the heating source, a resistor boat and an electron beam are used. In addition to the vapor deposition method, the surface layer 12 can also be formed using, for example, a sputtering method under a low vacuum. In this case, if a slit or orifice is provided, the directionality can be imparted to the ejected target material. can give.
吐出口端面に蒸着等を行う際には、第1図における軸N
+のまわりにヘッドにステップワイズに回転を与えるか
、または連続的に回転を与えることによって薄膜形成は
均一に行える。When performing vapor deposition on the end face of the discharge port, the axis N in Fig.
Thin film formation can be uniformly performed by rotating the head stepwise or continuously around +.
ここで、蒸着等に用いる物質としては、金属。Here, the substance used for vapor deposition etc. is metal.
金属酸化物、窒素化合物、有機化合物等およそ一般に蒸
着等で用いられる物質はすべて使用可能である。原子と
しては、/J2 、Sb、As、Ba、Di、Cd。All substances commonly used in vapor deposition, such as metal oxides, nitrogen compounds, and organic compounds, can be used. Atoms include /J2, Sb, As, Ba, Di, and Cd.
Cr、Go、Cu、八u、Fe、Pb、Mg、Mn、N
i、Se、Si、Ag、Ti、Zn。Cr, Go, Cu, 8u, Fe, Pb, Mg, Mn, N
i, Se, Si, Ag, Ti, Zn.
Sn、Ta、Mo、W、Ph、In、Ge、Te等であ
り、その他これら原子どうしの化合物、ハロゲン化物、
窒化物が用いられる。また高融点の有機化合物類、銅フ
タロシアニンやペリレン、キナクリドンのような有機顔
料、テトラフルオロエチレン、ポリエチレン。Sn, Ta, Mo, W, Ph, In, Ge, Te, etc., and other compounds of these atoms, halides,
Nitride is used. Also high melting point organic compounds, organic pigments such as copper phthalocyanine, perylene, quinacridone, tetrafluoroethylene, polyethylene.
ボッパラフェニレンスルフィドのような高分子化合物が
用いられる。A polymeric compound such as Boppara phenylene sulfide is used.
このように表面層12を成膜したヘッドに対して、その
後、層12が金属であるならばアニール処理あるいは不
動態化等の耐久性向上の処理を施してもよい。蒸着して
被覆層を形成するときの膜厚は500人〜lOμmの範
囲であることが望ましい。The head on which the surface layer 12 has been formed in this manner may then be subjected to a treatment for improving durability, such as annealing or passivation, if the layer 12 is made of metal. The film thickness when forming the coating layer by vapor deposition is preferably in the range of 500 μm to 10 μm.
また、表面形状を整える場合、いわゆる平坦化を求める
場合は膜厚を大とし、一方インクに対する濡れ性を均一
化することのみを求める場合は、膜厚を小としても充分
にその効果が得られる。In addition, if you want to improve the surface shape, so-called flattening, the film thickness should be large, but if you only want to make the wettability uniform for ink, you can achieve the desired effect even if the film thickness is small. .
(実施例)
第1図(B)、第2図および第3図示の例えば特開昭5
5−128470号に開示されるような発熱素子を設け
たヘッドに対し、θ=70°としてヘッドをN1軸のま
わりに回転させながら、Crを電子ビーム蒸着した。蒸
着後のCr層の厚さは、0.5μmであった。この蒸着
によって、吐出口6の内方には、Crは付着していなか
った。(Example) For example, as shown in Fig. 1 (B), Fig. 2, and Fig. 3,
Cr was deposited by electron beam on a head provided with a heating element as disclosed in Japanese Patent No. 5-128470 while rotating the head around the N1 axis with θ=70°. The thickness of the Cr layer after vapor deposition was 0.5 μm. Due to this vapor deposition, no Cr was attached inside the discharge port 6.
(印字試験)
このヘッドを用いて、下記の条件
信号パルス条件
印加パルス幅、10μSeC
パルス周波数;3にllz
印加エネルギー; o、o2mJ/ 1パルス(発熱素
子1個あたり)
Lヱ二皿基
水 70 重量部
ジエチレングリコール 26 重量部ダイレクト
ブラック1544 重量部でインク吐出実験を行っ
たとき、10’回以上にわたり安定した吐出および着弾
点精度の高いすぐれた記録を行うことができた。(Printing test) Using this head, the following conditions signal pulse condition applied pulse width, 10μSeC pulse frequency; Parts by weight Diethylene glycol 26 parts by weight Direct Black 1544 parts by weight When an ink ejection experiment was carried out, stable ejection and excellent recording with high impact point accuracy could be performed over 10 times or more.
以上述べたような表面層は、吐出口形成後にその端面に
被着して形成するものであるので、吐出口形成後の端面
が加工時の粗い表面のままであったり、あるいは加工時
の精度不良によって吐出の中心線に対して傾いて形成さ
れたようなものであっても、その後に被覆する層によっ
てこの不揃いの端面形状を修正し、平滑なもの、あるい
は吐出中心線に対して垂直な面に補正することができる
。あるいは、平滑な吐出口端面の仕上げ状態であっても
、これを被覆する際にその表面を任意な粗面状態に仕上
げることも可能である。すなわち、均一表面を形成する
と共に、吐出口端面の表面形状をも任意に加工すること
ができるようになる。The surface layer described above is formed by adhering to the end surface of the discharge port after it is formed, so the end surface after the discharge port is formed may remain the rough surface that was used during processing, or the accuracy during processing may deteriorate. Even if the end face is formed at an angle to the center line of the discharge due to a defect, the uneven end face shape can be corrected by the subsequent coating layer, and the end face can be made smooth or perpendicular to the center line of the discharge. It can be corrected on the surface. Alternatively, even if the end face of the ejection port is finished in a smooth state, it is possible to finish the surface into an arbitrary roughened state when coating it. In other words, it becomes possible to form a uniform surface and to arbitrarily process the surface shape of the end face of the ejection port.
従って、本実施例に係る方法により処理された表面を有
するインクジェット記録ヘッドでは、インク吐出口端面
がインクによって不均一に濡れることがなく、インク滴
の吐出方向が第4図(A)に示すように安定して真直と
なり、従ってすぐれた印字品質9画質を得ることが可能
となる。Therefore, in the inkjet recording head having the surface treated by the method according to the present example, the end face of the ink ejection port will not be unevenly wetted by ink, and the ejection direction of the ink droplets will be as shown in FIG. 4(A). Therefore, it becomes possible to obtain an excellent print quality.
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、吐出エネルギ発
生の原理およびノズル形態のいかんにかかわらず、また
、ヘッド材料のいかんにかかわらず、吐出口内部をマス
キングしたり表面処理後に入念な洗浄を施す等煩雑な工
程を要することなく、簡単かつ確実に表面処理が可能と
なる。また、ヘッドの吐出口表面および近傍が均一材質
化ならびに平滑化され、これにより安定した吐出動作や
高い印字品位を得ることが可能となる。さらに、ヘッド
の吐出口表面および近傍の表面の仕上げが安定し、大量
生産における製品のばらつきが大幅に減少する。加えて
、表面処理に用いる材料の選択の幅が広がり、耐久性の
高い材料を適宜用いることができるので、記録ヘッドの
長寿命化も達成できる。[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, the inside of the ejection port can be masked or surface treated regardless of the principle of ejection energy generation and the nozzle form, and regardless of the head material. Surface treatment can be performed easily and reliably without requiring complicated processes such as careful cleaning afterwards. Furthermore, the surface and vicinity of the ejection port of the head are made of uniform material and smoothed, thereby making it possible to obtain stable ejection operation and high printing quality. Furthermore, the finish of the head ejection port surface and nearby surfaces is stabilized, and product variations in mass production are significantly reduced. In addition, the range of selection of materials used for surface treatment is widened, and highly durable materials can be used as appropriate, making it possible to extend the life of the recording head.
第1図(A) 、 (B)および(C)は本発明方法を
適用可能なインクジェット記録ヘッドの3例を示す模式
的断面図、
第2図および第3図は、それぞれ、第1図(11)に示
した記録ヘッドの斜視図および正面図、第4図(A)お
よび(B)はインクジェット記録ヘッドのインク滴吐出
状態を説明するための側断面図である。
1・・・第1の基板、
2・・・表面層、
3・・・吐出ノズル壁、
4・・・第2基板、
5・・・接着層、
7・・・インク、
8・・・インク滴、
9・・・吐出口端面、
lO・・・ノズル管もしくはノズル壁、12・・・表面
層、
16・・・インク流路。
第2図
第3図
第4図1 (A), (B) and (C) are schematic cross-sectional views showing three examples of inkjet recording heads to which the method of the present invention can be applied, and FIGS. 2 and 3 are respectively FIG. 11) are a perspective view and a front view of the recording head, and FIGS. 4(A) and 4(B) are side sectional views for explaining the ink droplet ejection state of the inkjet recording head. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... First substrate, 2... Surface layer, 3... Discharge nozzle wall, 4... Second substrate, 5... Adhesive layer, 7... Ink, 8... Ink Droplet, 9... End face of ejection port, lO... Nozzle pipe or nozzle wall, 12... Surface layer, 16... Ink channel. Figure 2 Figure 3 Figure 4
Claims (1)
対して物質を被着させることにより表面処理を行うイン
クジェット記録ヘッドの表面処理方法において、前記吐
出口の法線に対し傾いた方向から前記物質を飛翔させて
前記端面に被着させることを特徴とするインクジェット
記録ヘッドの表面処理方法。In a surface treatment method for an inkjet recording head that performs surface treatment by depositing a substance on an end face including an ink ejection opening of an inkjet recording head, the substance is ejected from a direction oblique to the normal line of the ejection opening. A method for surface treatment of an inkjet recording head, characterized in that the surface treatment method for an inkjet recording head is applied to the end surface.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26849786A JPS63122559A (en) | 1986-11-13 | 1986-11-13 | Surface treating method for ink jet recording head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26849786A JPS63122559A (en) | 1986-11-13 | 1986-11-13 | Surface treating method for ink jet recording head |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63122559A true JPS63122559A (en) | 1988-05-26 |
Family
ID=17459318
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26849786A Pending JPS63122559A (en) | 1986-11-13 | 1986-11-13 | Surface treating method for ink jet recording head |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63122559A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0255140A (en) * | 1988-07-05 | 1990-02-23 | Tektronix Inc | Ink-jet head and manufacture thereof |
US6243112B1 (en) | 1996-07-01 | 2001-06-05 | Xerox Corporation | High density remote plasma deposited fluoropolymer films |
-
1986
- 1986-11-13 JP JP26849786A patent/JPS63122559A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0255140A (en) * | 1988-07-05 | 1990-02-23 | Tektronix Inc | Ink-jet head and manufacture thereof |
US6243112B1 (en) | 1996-07-01 | 2001-06-05 | Xerox Corporation | High density remote plasma deposited fluoropolymer films |
US6444275B1 (en) | 1996-07-01 | 2002-09-03 | Xerox Corporation | Method for remote plasma deposition of fluoropolymer films |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3245193B2 (en) | Print head of inkjet printer | |
TWI311527B (en) | ||
US6612688B2 (en) | Liquid ejection method | |
CA1169292A (en) | Nozzle plate for ink jet print head | |
EP0682988B1 (en) | Acoustic deposition of material layers | |
EP0629504B1 (en) | Orifice plate for ink jet printer | |
US7926177B2 (en) | Method of forming hydrophobic coating layer on surface of nozzle plate of inkjet printhead | |
JP2006192622A (en) | Liquid-delivering head, liquid-delivering apparatus, and method for manufacturing liquid-delivering head | |
JP2005238842A (en) | Method for forming hydrophobic coating film on nozzle plate surface of ink-jet printhead | |
EP0638425B1 (en) | Method for modifying phase change ink jet printing heads to prevent degradation of ink contact angles | |
EP0585854B1 (en) | Ink jet head manufacturing method using ion machining and ink jet head manufactured thereby | |
DE69732940T2 (en) | Liquid ejection head, liquid ejection head cartridge, liquid ejection device, printing system, and liquid ejection head kit | |
EP0968824A1 (en) | Method for processing discharge port of ink jet head, and method for manufacturing ink jet head | |
US20020086136A1 (en) | Nozzle plate assembly of micro-injecting device and method for manufacturing the same | |
JPS63122559A (en) | Surface treating method for ink jet recording head | |
JPH06183006A (en) | Liquid jet recording head and liquid jet recorder employing it | |
KR100428650B1 (en) | Method for manufacturing head of ink jet printer | |
JP4446704B2 (en) | Droplet discharge head, manufacturing method thereof, and image forming apparatus | |
JP2004175038A (en) | Ink discharge device and method for manufacturing the same | |
JPH11188876A (en) | Ink jet recording head, and ink jet recording apparatus equipped therewith | |
JPS634955A (en) | Liquid jet recording head | |
JPH06340073A (en) | Ink jet head | |
JPS60132768A (en) | Inkjet recording head | |
JP3460421B2 (en) | Method of manufacturing inkjet head | |
JP2795215B2 (en) | Ink jet recording head |