JPS63115887A - Production of 7-amino-3-alkoxymethylcephalosporins - Google Patents

Production of 7-amino-3-alkoxymethylcephalosporins

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JPS63115887A
JPS63115887A JP26071786A JP26071786A JPS63115887A JP S63115887 A JPS63115887 A JP S63115887A JP 26071786 A JP26071786 A JP 26071786A JP 26071786 A JP26071786 A JP 26071786A JP S63115887 A JPS63115887 A JP S63115887A
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JP
Japan
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acid
ester
lower alcohol
group
salts
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Pending
Application number
JP26071786A
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Japanese (ja)
Inventor
Joji Nishikido
條二 錦戸
Kentaro Fukuzaki
福崎 顕太郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Cephalosporin Compounds (AREA)

Abstract

PURPOSE:To industrially and advantageously obtain the titled compound useful as a raw material for antibiotic substances having antimicrobial activity, by reacting aminocephalosporanic acids with a lower alcohol in the presence of a lower alcohol complex compound of boron trifluoride and halogenosulfonic acid or alkylsulfionic acid. CONSTITUTION:7-Aminocephalosporanic acids expressed by formula I [R1 is H or alkoxy; X is (substituted)acyloxy or carbamoyloxy] or derivatives or salts thereof at the carboxyl group are reacted with a lower alcohol, preferably 1-5C alcohol in the presence of a lower alcohol complex compound of boron trifluoride and a halogenosulfonic acid or, if necessary, alkylsulfonic acid, e.g. chlorosulfonic acid, etc., having a halogen as a substituent group in an organic solvent to afford the aimed compound expressed by formula II.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野〕 本発明は、7−アミノ−3−アルコキシメチル−5−セ
フェム−4−カルボン酸類の製造法に関するもので、さ
らに詳しくは、一般式(I)R1 OOH (式中、R,は水素原子またはアルコキシ基、Xは置換
されてもよいアシルオキシまたはカルバモイルオキシ基
を表わす。) で示される7−アミノセ7アロスボラン酸類、マたはそ
のカルボキシル基における誘導体あるいはそれらの塩を
、有機溶媒中、三フッ化ホウ素の低級アルコール錯化合
物とハロゲノスルホン酸またはハロゲンtea基として
有するかあるいは有しないアルキルスルホン酸の存在下
で、低級アルコールと反応させることf:特徴とする一
般式σDR貫 0OH (式中、Rtは水素原子ま九はアルコキシ基、−Fi低
級アルキル基を表わす。] で示される7−アミノ−3−アルコキシメチル−3−セ
フェム−4−カルボン#Ra、teはそのカルボキシル
基における誘導体あるいはそれらの塩の製造法に関する
ものである。
Detailed Description of the Invention (Industrial Field of Application) The present invention relates to a method for producing 7-amino-3-alkoxymethyl-5-cephem-4-carboxylic acids, more specifically, it relates to a method for producing 7-amino-3-alkoxymethyl-5-cephem-4-carboxylic acids, and more specifically, it relates to a method for producing 7-amino-3-alkoxymethyl-5-cephem-4-carboxylic acids. ) R1 OOH (wherein, R represents a hydrogen atom or an alkoxy group, and X represents an optionally substituted acyloxy or carbamoyloxy group.) Alternatively, a salt thereof is reacted with a lower alcohol in an organic solvent in the presence of a lower alcohol complex compound of boron trifluoride and a halogenosulfonic acid or an alkylsulfonic acid with or without a halogen tea group f: Characteristics 7-amino-3-alkoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid represented by the general formula σDR 0OH (wherein, Rt is a hydrogen atom, and nine represents an alkoxy group, and -Fi represents a lower alkyl group). Ra and te relate to methods for producing derivatives or salts thereof at the carboxyl group.

一般式■で示される7−アミノ−3−アルコキシメチル
−3−セフェム−4−カルボン酸類ハ。
7-amino-3-alkoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acids represented by the general formula (iii).

棟々の抗菌活性を有するセファロスポリン系抗生物質の
原料物質として重要な化合物である。
It is an important compound as a raw material for cephalosporin antibiotics that have extensive antibacterial activity.

(従来の技術) 一般式〇で示される7−アミノ−3−アルコキシメチル
−3−セフェム−4−カルボン酸類の製造方法としては
1次の方法が知られている。例えば、(I)5−アセト
キシメチル体を低級アルコールと反応させる方法C%公
昭5O−10873)。
(Prior Art) The following method is known as a method for producing 7-amino-3-alkoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acids represented by the general formula. For example, (I) a method of reacting a 5-acetoxymethyl compound with a lower alcohol (C% Kosho 5O-10873).

(2)3−ヒドロキシメチル体をアルキル化する方法(
特公餡5O−10872)R3)Δ!−6−ハロメチル
体を低級アルコールと反応させた後に異性化する方法〔
ジャーナル・オプ・ザ・メディカル・ケミストリー(J
、 Med、 Chem、 )、  14. 115(
I971))である。
(2) Method for alkylating 3-hydroxymethyl compound (
Special public bean paste 5O-10872) R3) Δ! A method in which -6-halomethyl compound is reacted with a lower alcohol and then isomerized [
Journal of Medical Chemistry (J
, Med, Chem, ), 14. 115 (
I971)).

(発明が解決しようとする問題点) 前記(I)の方法は、収率が極めて低く 、 (21の
方法は、4位カルボキシル基を保護し、ジアゾメタンを
大量に使用しなければならず、また、(3)の方法は、
アルコールとの反応収率が低く、かつ4位カルボキシル
基を保護する必要があり、5工程となる等、いずれも工
業的製造方法としては、満足できるものではない。し友
がって、一般式〇で示される7−アミノ−5−フルコキ
シメテルー3−セフェム−4−カルボン酸類を工業的に
容易Kll造できる方法の出現が望まnていた。
(Problems to be Solved by the Invention) The method (I) has an extremely low yield; (The method 21 requires protecting the 4-position carboxyl group and using a large amount of diazomethane; , method (3) is
The yield of the reaction with alcohol is low, the 4-position carboxyl group needs to be protected, and the process requires 5 steps, which are unsatisfactory as industrial production methods. Therefore, it has been desired to develop a method for industrially easily producing 7-amino-5-flucoxymether-3-cephem-4-carboxylic acids represented by the general formula.

(問題点を解決するための手段) 本発明者らは、上述の背景下に7−アミノ−3−アルコ
キシメチル−5−セフェム−4−カルボン酸類またはそ
のカルボキシル基における誘導体またはそれらの塩類の
製造方法について、工業的に容易に行なうことができる
方法を鋭意検討した結果。
(Means for Solving the Problems) Under the above-mentioned background, the present inventors produced 7-amino-3-alkoxymethyl-5-cephem-4-carboxylic acids, derivatives at the carboxyl group, or salts thereof. This is the result of intensive research into methods that can be easily carried out industrially.

CI)                      
 ([0(R1,X、R,は前述の意味を表わす。)上
記一般式(I)の化合物から一般式〇〇の化合物を製造
する際に、有機溶媒中、三7ツ化ホウ素の低級アルコー
ル錯化合物とハロゲノスルホン酸またはハロゲンを置換
基として有するかあるいは有しないアルキルスルホン酸
の存在下で、一般式(I)の化合物と低級アルコールを
反応させることによシ、−工程で一般式〇の化合物が収
率よく製造されることを見い出し、さらに1本反応につ
いて鋭意検討を重ねた結果、不発明を完成するに至った
CI)
([0 (R1, By reacting the compound of the general formula (I) with a lower alcohol in the presence of an alcohol complex compound and a halogenosulfonic acid or an alkylsulfonic acid with or without a halogen as a substituent, the compound of the general formula (I) is reacted with a lower alcohol in the -step. After discovering that the compound can be produced in good yield and conducting intensive studies on one more reaction, they finally completed their invention.

すなわち、本発明の目的とするところは、優れた抗菌作
用を有するセファロスポリン系化合物の重要な中間体で
ある前記式〇を有する化合物1−。
That is, the object of the present invention is compound 1- having the above formula 〇, which is an important intermediate for cephalosporin compounds having excellent antibacterial activity.

前記式(I)を有する化合物から工業的に容易な操作で
、かつ高純度で得る方法を提供することKある。
It is an object of the present invention to provide a method for obtaining a compound having the formula (I) with industrially easy operation and with high purity.

以下1本発明について詳細に説明する。The present invention will be explained in detail below.

本発明において、R8のアルキルオキシ基としては、例
えは、メトキシ、ニドキシ、プロポキシまたはブトキシ
基等が挙げられる。
In the present invention, examples of the alkyloxy group for R8 include methoxy, nidoxy, propoxy, and butoxy groups.

また、Xで示される置換されていてもよいアシルオキシ
およびカルバモイルオキシ基としては。
Further, as the optionally substituted acyloxy and carbamoyloxy groups represented by X.

例えば、アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオ
キシなどのフルカッイルオキシ基;カルバモイルオキシ
基などが挙げられ、その置換されていてもよい置換基と
しては、ハロゲン原子、ニトロ基、アルキル基、アルコ
キシ基、アルキルチオ基、アシルオキシ基、アシルアミ
ノ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、スルファモイル
基、カルバモイル基、カルボアルコキシカルバモイル基
等の7シルオキシ基およびカルバモイルオキシ基の置換
基として知られている置換基が挙げられる。
Examples include fulcaryloxy groups such as acetoxy, propionyloxy, and butyryloxy; carbamoyloxy groups, etc., and examples of substituents that may be substituted include halogen atoms, nitro groups, alkyl groups, alkoxy groups, and alkylthio groups. , an acyloxy group, an acylamino group, a hydroxy group, a carboxyl group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, a carbalkoxycarbamoyl group, and other substituents known as substituents for a 7-syloxy group and a carbamoyloxy group.

また、(I)式および0式の化合物のカルボキシル基に
おける誘導体としては1例えは、次のようなものが挙げ
られる。エステル類があシ1反応に悪影響を与えないす
べてのエステルを含む。例えば、メチルエステル、エチ
ルエステル、プロピルエステル、イソプロピルエステル
、ブチルエステル、tert−ブチルエステル、メトキ
シメチルエステル、エトキシメチルエステル、フェノ中
ジメチルエステル、メチルチオメチルエステル、メチル
チオエチルエステル、フェニルチオメチルエステル。
Examples of derivatives of the carboxyl group of the compounds of formulas (I) and 0 include the following. Esters include all esters that do not adversely affect the reaction. For example, methyl ester, ethyl ester, propyl ester, isopropyl ester, butyl ester, tert-butyl ester, methoxymethyl ester, ethoxymethyl ester, phenodimethyl ester, methylthiomethyl ester, methylthioethyl ester, phenylthiomethyl ester.

ジメチルアミノエチルエステル、ジエチルアミノエチル
エステル、モルホリノエチルエステル、ピペリジノエチ
ルエステル、アセチルメチルエステル、フェナシルエス
テル、アセトギシメチルエステル、ピバロイルオキシメ
チルエステル、ベンゾイルオキシメチルエステル、メタ
ンスルホニルエチルエステル、トルエンスルホニルエチ
ルエステル、ブロモメチルエステル、ヨードエチルエス
テル、)!Jジクロロチルエステル、7タルイミトメチ
ルエステルなどの置換ま友は非置換のアルキルエステル
;シクロヘキシルエステル、シクロヘプチルエステルな
どのシクロアルキルエステル;フェニルエステル、トリ
ルエステル、キシリルニスfk、tフチルエステル、1
p−ニトロフェニルエステル、2.a−、)ニトロ7エ
ールエステル、p−メトキシフェニルエステル、)!J
クロロ7エエルエステル、1p−メタンスルホニルフェ
ニルエステル等の置換または非置換の7リールエステル
;ベンジルエステル、7エネチルエステル、p−/ロロ
ペンジルエステル%p−ニトロベンジルエステル、p−
メトキシベンジルエステル、ジフェニルメチルエステル
、トリチルエステルなどの置換もしくは非置換のアルキ
ルエステル、インダニルエステル;7タリジルエステル
等が挙げられる。
Dimethylaminoethyl ester, diethylaminoethyl ester, morpholinoethyl ester, piperidinoethyl ester, acetylmethyl ester, phenacyl ester, acetogysimethyl ester, pivaloyloxymethyl ester, benzoyloxymethyl ester, methanesulfonylethyl ester, toluene Sulfonyl ethyl ester, bromomethyl ester, iodoethyl ester, )! Substituted friends such as J dichlorotyl ester and 7-talimitomethyl ester are unsubstituted alkyl esters; cycloalkyl esters such as cyclohexyl ester and cycloheptyl ester; phenyl ester, tolyl ester, xylyl varnish fk, t-phthyl ester, 1
p-nitrophenyl ester, 2. a-,) Nitro 7 ale ester, p-methoxyphenyl ester,)! J
Substituted or unsubstituted 7-aryl esters such as chloro 7-ethyl ester, 1p-methanesulfonylphenyl ester; benzyl ester, 7-enethyl ester, p-/loropenzyl ester% p-nitrobenzyl ester, p-
Substituted or unsubstituted alkyl esters such as methoxybenzyl ester, diphenylmethyl ester, and trityl ester; indanyl ester; and 7-thalidyl ester.

その他には、カルボキシル基とN−ヒドロキシコハク酸
イミド、N−ヒドロキシ7タルイミド、ジメチルヒドロ
キシルアミン、ジエチルヒドロキシルアミン、1−ヒド
ロキシピペリジン、オキシムなどとの無水物が挙げられ
る。
Other examples include anhydrides of carboxyl groups and N-hydroxysuccinimide, N-hydroxy 7-thallimide, dimethylhydroxylamine, diethylhydroxylamine, 1-hydroxypiperidine, oxime, and the like.

また、アミド類があυ、アミド類としては、酸アミド、
N−置換酸アミド、N、N−ジ置換酸アミドのすべてを
含む。例えば、N−メチル酸アミド。
In addition, amides include acid amides,
Includes all N-substituted acid amides and N,N-disubstituted acid amides. For example, N-methyl acid amide.

N−エチル酸アミドなどのN−アルキル酸アミド;N−
フェニル酸アミドなどON−アリール酸アミド; N、
N−ジメチル敵アミド、N、N−ジエチル酸アミド、N
−エチル−N−メチル酸アミドなどON、N−ジアルキ
ル酸アミド;イミダゾール、4−置換イミダゾール、ト
リアゾロピリドンなどとの酸アミド類が挙げられる。ま
た、ジもしくはトリアルキルシリルあるいはペンツヒド
リルなどのカルボキシル基の保獲基等も含まれる。
N-alkyl acid amide such as N-ethylic acid amide; N-
ON-aryl amide such as phenyl amide; N,
N-dimethylamide, N,N-diethylamide, N
Examples thereof include ON, N-dialkyl acid amides such as -ethyl-N-methyl acid amide; acid amides with imidazole, 4-substituted imidazole, triazolopyridone, and the like. Also included are groups retaining carboxyl groups such as di- or trialkylsilyl or penthydryl.

前記式〇)および■で示される化合物の塩とは、それら
(おいて遊離に存在するカルボキシル基における塩また
はアミン基における酸付加塩を意味し、カルボキシ基に
おける塩としては1例えば、ナトリウム、カリウムなど
のアルカリ金属との塩;カルシウム、マグネシウムなど
のアルカリ土類金属との塩;アンモニウム塩;トリエチ
ルアミン。
The salts of the compounds represented by the above formulas 〇) and ① mean salts in the free carboxyl group or acid addition salts in the amine group, and examples of the salts in the carboxyl group include sodium, potassium, etc. Salts with alkali metals such as; salts with alkaline earth metals such as calcium and magnesium; ammonium salts; triethylamine.

ジエチルアミン、ピリジン、N−メチルピペリジン、N
−メ?ルモルホリン、N、N−ジメチルアニリンなどの
含輩素有機塩基との塩が挙げられ、また、アミン基にお
ける塩としては、塩酸、硫酸などの鉱酸との酸付加塩;
シュウ酸、ギ酸、トリクロル酢酸、トリフルオル酢酸な
どのカルボン酸と0F11を加[;メタンスルホン酸、
トルエンスルホン酸、す7タレンスルホン酸などのスル
ホン酸との塩が挙げられる。
diethylamine, pyridine, N-methylpiperidine, N
-Me? Examples include salts with organic bases containing organic bases such as lumorpholine and N,N-dimethylaniline; salts with amine groups include acid addition salts with mineral acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid;
Adding 0F11 with a carboxylic acid such as oxalic acid, formic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid [; methanesulfonic acid,
Examples include salts with sulfonic acids such as toluenesulfonic acid and sulfonic acid.

本発明の方法で使用される低級アルコールとしては、メ
チルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、メチルアルコールなどの
ような炭素数1〜5の1〜3級アルコールおよびそれら
の置換アルコールが用いられる。
As the lower alcohol used in the method of the present invention, primary to tertiary alcohols having 1 to 5 carbon atoms, such as methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl alcohol, and substituted alcohols thereof are used. .

反応は通常、適当々溶媒中で行われる。このような溶媒
としては、反応に悪影響を及ぼさないすべての有機溶媒
を用い得るが1例えば1反応に使用する低級アルコール
をそのまま使用できる他、アセトニトリル、プロピオニ
トリル、ベンゾニトリル、マロンジニトリルなどのニト
リル類;ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン
々どのニトロアルカン類;ニトロベンゼンなどの芳香族
炭化水素類;酢酸、ギ酸、プロピオン酸、トリフロロ酢
酸などの有機カルボン酸類およびそのエステル類;アセ
ト/、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
アセトフェノンなどのアルキルケトン類;ジクロルメタ
ン、クロロホルム、ジクロルエタン、四塩化炭素などの
)・ロゲン化アルカン類;ジクロルエチレン、トリクロ
ルエチレンなどのハロゲン化アルケン類;ホルムアミド
、ジメチルホルムアミ+°、アセトアミドなどの酸アミ
ド類;ジエチルエーテル、テトラヒドロ7ラン、エチレ
ングリコール、ジメチルエーテルなどのエーテル類;お
よびスルホラン等のスルホラン類、ジメチルスルホキシ
ド等であシ、これらの溶媒は2′8i以上混合して用い
ることもできる。
The reaction is usually carried out in a suitable solvent. As such a solvent, any organic solvent that does not adversely affect the reaction can be used.1 For example, the lower alcohol used in the reaction can be used as is, and acetonitrile, propionitrile, benzonitrile, malondinitrile, etc. Nitriles; Nitroalkanes such as nitromethane, nitroethane, and nitropropane; Aromatic hydrocarbons such as nitrobenzene; Organic carboxylic acids and their esters such as acetic acid, formic acid, propionic acid, and trifluoroacetic acid; Aceto/, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketones,
Alkyl ketones such as acetophenone; halogenated alkanes such as dichloromethane, chloroform, dichloroethane, carbon tetrachloride; halogenated alkenes such as dichloroethylene and trichlorethylene; acids such as formamide, dimethylformamide, acetamide, etc. Amides; ethers such as diethyl ether, tetrahydro7rane, ethylene glycol, dimethyl ether; and sulfolanes such as sulfolane, dimethyl sulfoxide, etc. These solvents can also be used in a mixture of 2'8i or more.

三フッ化ホウ素の低級アルコールの錯化合物の使用量は
、(I)式の化合物またはそのカルボキシル基における
誘導体Itはそれらの塩に対して、三フッ化ホウ素およ
び低級アルコールが当モル以上であればよいが、溶媒と
して使用することもできる。
The amount of the complex compound of boron trifluoride and lower alcohol to be used is as long as the amount of boron trifluoride and lower alcohol is equal to or more than the equivalent mole of the compound of formula (I) or its carboxyl group derivative It based on their salts. However, it can also be used as a solvent.

さらに、三フッ化ホウ素の低級アルコール錯化合物と共
存使用し得るノ・ログノスルホン酸またはハロゲンを置
換基として有するかあるいは有しないアルキルスルホン
酸としては、例え#−1、クロロスルホンe1フルオロ
スルホン酸等のノ10ゲノスルホン酸;トリフルオロメ
タンスルホン酸、メタンスルホン酸等のノ・ロゲンを置
換基として有するかあるいは有しないアルキルスルホン
酸が挙けられる。ハロゲノスルホン酸およびノ・ロゲン
を置換基として有するかあるいは有しないアルキルスル
ホン酸の使用量は、一般式(I)の化合物ま九はそのカ
ルボキシル基における誘導体またはそれらの塩に対し当
モル以上であればよい。
Further, examples of the chlorosulfonic acid or the alkylsulfonic acid with or without a halogen as a substituent that can be used together with the lower alcohol complex compound of boron trifluoride include #-1, chlorosulfone e1, fluorosulfonic acid, etc. Genosulfonic acids such as trifluoromethanesulfonic acid, methanesulfonic acid, etc.; and alkylsulfonic acids with or without nitrogen as a substituent, such as trifluoromethanesulfonic acid and methanesulfonic acid. The amount of halogenosulfonic acid and alkylsulfonic acid with or without halogen as a substituent may be at least the equivalent molar amount of the compound of general formula (I) based on the carboxyl group derivative or salt thereof. Bye.

一般に、使用溶媒および用いる三フッ化ホウ素の低級ア
ルコール錯化合物、さらKは、用いる低級アルコールの
量によって、ハロゲノスルホン酸およびハロゲンを置換
基として有するかあるいは有シないアルキルスルホン酸
の使用量は、個々の場合に応じ適宜増減することが望ま
しい。
In general, depending on the solvent used, the lower alcohol complex compound of boron trifluoride used, and the amount of lower alcohol used, the amount of halogenosulfonic acid and alkylsulfonic acid with or without halogen as a substituent is as follows: It is desirable to increase or decrease the amount as appropriate depending on each individual case.

本反応は、実質的には無水の状態で使用するのが好まし
いため、反応系内に脱水剤が添加されていてもよい。
Since this reaction is preferably used in a substantially anhydrous state, a dehydrating agent may be added to the reaction system.

反応温度は%に限定はなく、通常、反応は一20〜90
Cで行われ、反応に要する時間は、主として出発物質、
試薬の量、溶媒の覆類、量1反応温度等によって異なシ
、数分から数十時間である。
The reaction temperature is not limited to %, and usually the reaction temperature is -20 to 90%.
C, and the time required for the reaction mainly depends on the starting materials,
The reaction time varies depending on the amount of reagent, type of solvent used, reaction temperature, etc., and ranges from several minutes to several tens of hours.

反応終了後、目的物は常法によって反応混合物から採取
される。例えば1反応混合物に氷水を加えた後1反応混
合物の溶液tpH3〜4または6〜7Kv4!Iする。
After the reaction is completed, the target product is collected from the reaction mixture by a conventional method. For example, after adding ice water to one reaction mixture, the solution of one reaction mixture has a pH of 3 to 4 or 6 to 7 Kv4! I do.

析出した結晶tP取するか、もしくFiXAD−II(
オルガノ社製)、HP−20〔三菱化成工業(株)〕等
のカラムにかけて溶出させ、溶出液tpHf!II!L
、析出した結晶を炉取する。0式のカルボキシル基にお
ける誘導体の場合、容易に脱離できるものは脱離して遊
離のカルボン酸またはその塩として、目的物を得ること
ができる。
Either collect the precipitated crystal tP or use FiXAD-II (
Organo Co., Ltd.), HP-20 (Mitsubishi Chemical Industries, Ltd.), etc. to elute the eluate, tpHf! II! L
, the precipitated crystals are collected in a furnace. In the case of derivatives of the carboxyl group of formula 0, those that can be easily eliminated can be eliminated to obtain the desired product as a free carboxylic acid or a salt thereof.

(実施例) 次に1本発明1に実施例によシ説明するが、本発明は、
これらの実施例によシ限定されるものではない。
(Example) Next, the present invention 1 will be explained based on an example.
The invention is not limited to these examples.

実施例1 7−7ミノセフアロスポラン@7.20r、メタノール
5.939をニトロメタン1sttKR濁させ、三フッ
化ホウ素・メタノール錯化合物42.7 t(三フッ化
ホウ素5191含有)、フルオロスルホン酸16.5f
1に順次加えて、25Cで10分間反応させる。反応液
を冷却し、飽和炭酸水素す) IJウム水溶液によって
、反応液fpH5,5に調整する。その後、アセトン1
801Rtを加え、水冷下1時間攪拌した後、析出晶t
−F取し、氷水5.0 m。
Example 1 7-7 Minosephalosporan @ 7.20r, methanol 5.939 was clouded with nitromethane 1sttKR, boron trifluoride/methanol complex compound 42.7 t (containing 5191 boron trifluoride), fluorosulfonic acid 16 .5f
1 and reacted at 25C for 10 minutes. Cool the reaction solution and adjust the pH of the reaction solution to 5.5 using a saturated aqueous solution of hydrogen carbonate. Then acetone 1
After adding 801Rt and stirring for 1 hour under water cooling, the precipitated crystals t
-F taken, ice water 5.0 m.

アセトン10mで順次洗浄すれば、7−アミノ−3−メ
トキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸4.95
 f (収率65.91 ) f:得る。
If sequentially washed with 10 m of acetone, 7-amino-3-methoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid 4.95
f (Yield 65.91) f: Obtain.

IR(nujol)crrl−’ ; 3160 (−
NH! )、1800(β−ラクタムシC二〇 )、1
620 (−C0OHνC=0)、1100 (C%OC% ) NMR(CF、C00D)贈;3.62(3H;s;−
C馬OCH,)3.77 (2H; s ; C”−C
H,)4.86 (2H;s ;−CH,QC馬〕5.
43(2H;S;C’−H,0丁−H〕実施例2 7−アミツセ7アロスボラン酸1.44P、メタノール
1.19 fをニトロメタン3−に懸濁させ。
IR(nujol)crrl-'; 3160 (-
NH! ), 1800 (β-lactamid C20), 1
620 (-C0OHνC=0), 1100 (C%OC%) NMR (CF, C00D); 3.62 (3H; s; -
C horse OCH,) 3.77 (2H; s; C”-C
H,)4.86 (2H;s;-CH,QC horse]5.
43 (2H; S; C'-H, 0-H) Example 2 1.44 P of 7-amituse 7 allosboranic acid and 1.19 f of methanol were suspended in 3-nitromethane.

これに三フッ化ホウ素・メタノール錯化合物(三7)化
ホウ素51%含有) 8.549%フルオロスルホン酸
3j I fを順次加えて、25Cで10分間攪拌する
(この間に反応液は完溶する)。反応液を冷却し、減圧
下ニトロメタンおよびメタノールを留去後、水10−5
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてp H7,5に
調整する。この液を)IP−20C三菱化成工業(株)
製〕のカラムにかけ(溶出は水を使用〕、溶出液を35
%塩酸水によ’) P H5,5Kv4整し、析出晶を
戸数した。
To this, boron trifluoride/methanol complex compound (containing 51% boron trifluoride) and 8.549% fluorosulfonic acid 3j If were sequentially added and stirred at 25C for 10 minutes (during this time, the reaction solution was completely dissolved). ). After cooling the reaction solution and distilling off nitromethane and methanol under reduced pressure, 10-5% of water was added.
Add saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution to adjust pH to 7.5. This liquid) IP-20C Mitsubishi Chemical Industries, Ltd.
(used water for elution), and the eluate was
% hydrochloric acid solution to adjust the pH to 5,5Kv4, and count the precipitated crystals.

氷水10gIt、冷メタノール10−で洗浄すると。Washing with 10 g of ice water and 10 g of cold methanol.

目的物0,86 f (収率63.2%)が得られた。The target product 0.86 f (yield 63.2%) was obtained.

このもののNMRおよびIRは、実施例1で取得され次
ものと一致した。
NMR and IR of this product were obtained in Example 1 and were consistent with the following.

実施例3 7−7ミノセ7アロスボラン酸2.88?、メタノール
1.1 ? fをニトロメタン5rtlに懸濁させ、三
7ツ化ホウ素・メタノール錯化合物(三7ツ化ホウ素5
1 %含有)8.54f、フルオロスルホン酸5.51
9を順次加えて、25Cで15分間攪拌する。反応液を
冷却し、減圧下ニトロメタンとメタノールを留去、水1
00−を加え、この溶液をHP−20[三菱化成工業(
株)製]のカラムにかける。目的物を含む溶出液t−p
H5,5に調整した後、析出晶をF取し、氷水15m%
冷メタノール5−で洗浄すると、目的物が1.50 f
 (収率55.8チ)得られた。
Example 3 7-7minose7 allosborane acid 2.88? , methanol 1.1? f was suspended in 5rtl of nitromethane, and a boron trisulfide/methanol complex compound (boron trisulfide 5rtl) was suspended in 5rtl of nitromethane.
1%) 8.54f, fluorosulfonic acid 5.51
Add 9 in sequence and stir at 25C for 15 minutes. The reaction solution was cooled, nitromethane and methanol were distilled off under reduced pressure, and water 1
00- was added, and the solution was mixed with HP-20 [Mitsubishi Chemical Corporation (
Co., Ltd. column. Eluate containing the target substance t-p
After adjusting the temperature to 5.5, the precipitated crystals were collected by F and soaked in ice water (15m%).
When washed with cold methanol 5-, the target material is 1.50 f.
(yield: 55.8 cm).

このものは、NMR,IRとも実施例1の取得物と一致
した。
Both NMR and IR of this product matched those obtained in Example 1.

実施例4 7−アミツセ7アロスボ2ン酸2.88?、)fiノー
ル1.19 tを塩化メチレン3−に懸濁させ、三7ツ
化ホウ素・メタノール錯化合物(三7)化ホウ素s 1
%含有) 8.54 t、フルオロスルホン酸Aj I
 fを順次加えて、25C,15分間攪拌する。反応液
を冷却し、氷水20−を加え友後。
Example 4 7-amituse 7 allosbodic acid 2.88? ,) 1.19 t of finol is suspended in methylene chloride 3- to form a boron trisulfide/methanol complex compound (boron trisulfate s 1)
% content) 8.54 t, fluorosulfonic acid Aj I
Add f sequentially and stir at 25C for 15 minutes. Cool the reaction solution, add 20ml of ice water, and leave.

アンモニア水(27%)によって反応液のpHを3.5
1Ci!ll整する。析出晶を戸数し、氷水10−、メ
タノール5−で洗浄すると、目的物が1.6 Of(収
率57.5係)得られた。
The pH of the reaction solution was adjusted to 3.5 with aqueous ammonia (27%).
1 Ci! Ill arrange it. The precipitated crystals were separated and washed with 10 parts of ice water and 5 parts of methanol to obtain 1.6 of the desired product (yield: 57.5 parts).

このもののNMR,IRu、実施例1の取得物と一致し
た。
The NMR and IRu of this product matched those obtained in Example 1.

実施例5 7−アミノセ7アロスボランlR2,88p、メタノー
ル1.19fiアセトニトリル3−に遷濁させ、三フフ
化ホウ素・メタノール錯化合物(三フッ化ホウ素51 
嘩含有) 8.54 f、フルオロスルホン酸3.31
 Fを順次加えて、25U、15分間反応させる。反応
液を冷却し、氷水20+ntt−加えた後、アンモニア
水(271)によって反応液のpHを5.5KllI4
整する。析出晶を戸数し、氷水10−、メタノール5−
で洗浄すると、目的物が1.481(収率55.5 %
 )得られた。このもののNMR。
Example 5 7-aminose7 allosborane lR2,88p, methanol 1.19fi was suspended in acetonitrile 3-, boron trifluoride/methanol complex compound (boron trifluoride 51
8.54 f, fluorosulfonic acid 3.31
Add F sequentially and react at 25 U for 15 minutes. After cooling the reaction solution and adding 20+ntt- of ice water, the pH of the reaction solution was adjusted to 5.5KllI4 with aqueous ammonia (271).
Arrange. Count the precipitated crystals, add 10 parts of ice water and 5 parts of methanol.
The target product was 1.481 (yield 55.5%
) obtained. NMR of this thing.

IRは、実施例1の取得物と一致した。The IR was consistent with that obtained in Example 1.

実施例6 フー7ミノセフアロスボラン酸2.88f、メタノール
2.579をニトロメタン6−に!@濁させ。
Example 6 Fu 7 2.88f of minosephalosboranic acid and 2.579f of methanol to nitromethane 6-! @ Muddy.

三フッ化ホウ素・メタノール錯化合物(三7ツ化ホウ素
51%含有)17.1?、)リフルオロメタンスルホン
酸9.929を順次加えて、25C130分間攪拌する
(この間に反応液を完溶する)。反応液を冷却し、メタ
ノール100wtf:加えた希釈液t−HPLcにより
分析した結果、7−アミノ−3−メトキシメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸が60.6 %の収率で生成
していることが確認された。
Boron trifluoride/methanol complex compound (contains 51% boron trifluoride) 17.1? ,) Add 9.929 g of fluoromethanesulfonic acid one after another and stir for 130 minutes at 25C (during which time the reaction solution is completely dissolved). The reaction solution was cooled and analyzed by t-HPLC of a diluted solution containing 100 wtf of methanol. As a result, 7-amino-3-methoxymethyl-3-
It was confirmed that cephem-4-carboxylic acid was produced in a yield of 60.6%.

(発明の効果〕(Effect of the invention〕

Claims (1)

【特許請求の範囲】 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1は水素原子またはアルコキシ基、Xは置
換されてもよいアシルオキシまたはカルバモイルオキシ
基を表わす。) で示される7−アミノセフアロスポラン酸類、またはそ
のカルボキシル基における誘導体あるいはそれらの塩を
、有機溶媒中、三フッ化ホウ素の低級アルコール錯化合
物とハロゲノスルホン酸またはハロゲンを置換基として
有するかあるいは有しないアルキルスルホン酸の存在下
で、低級アルコールと反応させることを特徴とする一般
式(II)▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_1は水素原子またはアルコキシ基、R_2
は低級アルキル基を表わす。) で示される7−アミノ−3−アルコキシメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸類、またはそのカルボキシル基
における誘導体あるいはそれらの塩の製造法。
[Claims] General formula (I) ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) (In the formula, R_1 represents a hydrogen atom or an alkoxy group, and X represents an optionally substituted acyloxy or carbamoyloxy group. 7-aminocephalosporanic acids represented by the formula (7-aminocephalosporanic acids), or derivatives thereof at the carboxyl group, or salts thereof, in an organic solvent, with a lower alcohol complex compound of boron trifluoride and a halogenosulfonic acid or a halogen as a substituent. General formula (II), which is characterized by reacting with a lower alcohol in the presence of an alkyl sulfonic acid or not, includes numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. , R_2
represents a lower alkyl group. ) A method for producing 7-amino-3-alkoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acids represented by the following, or derivatives at the carboxyl group thereof, or salts thereof.
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