JPS6291880A - Radiation array sensor - Google Patents

Radiation array sensor

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JPS6291880A
JPS6291880A JP23282785A JP23282785A JPS6291880A JP S6291880 A JPS6291880 A JP S6291880A JP 23282785 A JP23282785 A JP 23282785A JP 23282785 A JP23282785 A JP 23282785A JP S6291880 A JPS6291880 A JP S6291880A
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Abstract

PURPOSE:To obtain an image having a high reliability, and to improve the S/N by arraying regularly each photoelectric transducing element along a linear groove. CONSTITUTION:A radiation array sensor 1 is constituted of a scintillator base material 2 formed by providing plural linear grooves 21, and a photoelectric transducing element 3 which has been inserted and provided in each of these linear grooves 21, and an exposed surface of the base material 2 is covered with a TiO2 film 4. Also, as for the element 3, transparent electrode films 33, 34 are formed on both faces of a semiconductor layer 32 of a pn structure, and also X-ray and a visible light shielding plate 35 is laminated. In this state, in the sensor 1, radiant ray which is irradiated from the upper face passes through the film 4 and made incident on the inside of the base material, and converted to visible light therein. However, since the photodetecting surface of the element 3 in set in the vicinity of the side of a visible light converting area, the light is made incident on the photodetecting surface efficiently and detected as an output of the respective elements 3. Also, since the element 3 is set to the linear grooves 21 which have been provided regularly at an equal interval, a distortion, etc. of an image are not generated, and the S/N can be improved.

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 この発明は、放射線アレイセンサに関する。さらに詳し
くは、対象物に放射線を照射した際の放射線計測器を計
測して画像を1りるための透過放射線のリニア型センザ
や二次元センサの素子として用いられる放射線アレイセ
ンサに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (a) Field of Industrial Application This invention relates to a radiation array sensor. More specifically, the present invention relates to a radiation array sensor used as an element of a linear type sensor or two-dimensional sensor for transmitting radiation for measuring an image with a radiation measuring device when radiation is irradiated onto an object.

(ロ)従来の技術 従来、対象物にX線等の放射線を照射しその透過放射線
間及び分布を多数の放射線計測器で計測して画像を得、
これに基づいて対象物内部の情報を得る方法が行なわれ
ており、ことにX線CT等で汎用されるようになってい
る。
(B) Conventional technology Conventionally, an object is irradiated with radiation such as X-rays, and the transmitted radiation and its distribution are measured using a number of radiation measuring instruments to obtain an image.
Based on this, a method of obtaining information inside an object has been carried out, and it has come to be widely used in X-ray CT and the like.

かかる透過放射線の画像を得るために従来、第6図に示
すようにNa I (TQ) 、Zn S、CdW 0
4等のシンチレータ母材(2の底部に)第1・ダイオー
ド(3)を接着し、シンチレータ上面より入射するX線
等の放射線をシンチレータ内で可視光に変換し、これを
電気信号に変換して強度を換算する放04I!センサ(
100)が多数用いられ、通常、画像計測域に、これら
を予め複Wi結合固定したリニア又は二次元アレイセン
サ(101)を第7図に示すごとく複数配列し、xlI
A源(5)から対象物(6)を透過するX線の強度分布
をh1測しうるよう用いられている。
In order to obtain images of such transmitted radiation, conventionally, as shown in FIG.
A first diode (3) is glued to the scintillator base material (on the bottom of 2), and radiation such as X-rays incident from the top surface of the scintillator is converted into visible light within the scintillator, which is then converted into an electrical signal. Radiation 04I to convert the intensity! Sensor (
100) are used, and usually a plurality of linear or two-dimensional array sensors (101) are arranged in advance in the image measurement area as shown in FIG.
It is used to measure h1 the intensity distribution of X-rays transmitted from the A source (5) through the object (6).

(ハ)発明が解決しようとする問題点 しかしながら、上記従来の放)1線センサ(100)で
は、予め複数1111.合してリニア又は二次元アレイ
センサ(101)とする際に、各センサ(100)を等
間隔に配置して固定するのが困難であり、その誤差によ
り得られた画像の信頼性が低下するという問題があった
。さらに、フォトダイオード(3)がシンチレータの底
面に接着されているためシンチレータ内で変換された可
視光の受光効率が不充分で分解能の優れた鮮明な画像が
得られ難いという問題点があった。
(c) Problems to be Solved by the Invention However, in the conventional radiation sensor (100), a plurality of 1111. When combining them to form a linear or two-dimensional array sensor (101), it is difficult to arrange and fix the sensors (100) at equal intervals, and this error reduces the reliability of the obtained image. There was a problem. Furthermore, since the photodiode (3) is glued to the bottom surface of the scintillator, there is a problem in that the reception efficiency of visible light converted within the scintillator is insufficient, making it difficult to obtain a clear image with excellent resolution.

この発明は、かかる問題点に鑑みなされたものであり、
ことに信頼性及び分解能に優れた放射線アレイはン1ノ
を提供しようとするものである。
This invention was made in view of such problems,
In particular, radiation arrays with excellent reliability and resolution are intended to provide the following benefits.

(ニ)問題点を解決するための手段 かくしてこの発明によれば、複数の線状溝を規則正しく
設けた断面櫛状のシンチレータ母材と、該シンチレータ
母材の各々の線状溝内に受光面が該線状溝の内側面に沿
うように挿設された光電変換素子とを備えてなる放射線
アレイセンサが提供される。
(d) Means for Solving the Problems Thus, according to the present invention, there is provided a scintillator base material having a comb-shaped cross section in which a plurality of linear grooves are regularly provided, and a light-receiving surface within each linear groove of the scintillator base material. and a photoelectric conversion element inserted along the inner surface of the linear groove.

この発明の最も特徴とする点は、アレイセンサを従来の
ごとく個々の放射線センサを結合して構成することなく
、一つのシンチレータ母材に複数の光電変換素子を組み
込んで構成したこと及びこれらの充電変換素子をシンチ
レータ母材に規則正しく設けた複数の線状溝内に受光面
が内側面に沿うように挿入配置して組込んだことにある
The most distinctive feature of this invention is that the array sensor is constructed by incorporating a plurality of photoelectric conversion elements into one scintillator base material, instead of being constructed by combining individual radiation sensors as in the past, and that the array sensor is constructed by incorporating a plurality of photoelectric conversion elements into one scintillator base material. The conversion element is inserted and assembled into a plurality of regularly provided linear grooves in the scintillator base material so that the light-receiving surface runs along the inner surface.

上記シンチレータ母材の線状溝は、解像度に応じた間隔
で設置ノられ、例えばダイシングマシーンによりシンチ
レータ表面を切削加工することにより簡便に作製するこ
とができる。溝幅や溝深さはn設する光電変換素子の形
状に応じて決定され、その好ましい例は後述する実施例
に示される。
The linear grooves of the scintillator base material are installed at intervals depending on the resolution, and can be easily produced by cutting the surface of the scintillator using a dicing machine, for example. The groove width and groove depth are determined according to the shapes of the photoelectric conversion elements provided, and preferable examples thereof will be shown in the examples described below.

一方、n設する光電変換素子としては、フォトダイオー
ド素子が適しており、クロスト−キングを防止して適正
な分解能を得る点で片面に受光面を有し他面が放射線や
可視光の遮断層が設定されたものや、放射線や可視光の
遮断層の両面に二つのフォトダイオードが積層されたも
ののごとき遮断層■δえたものを用いるのが好ましい。
On the other hand, a photodiode element is suitable as the photoelectric conversion element to be installed, and in order to prevent cross-talking and obtain appropriate resolution, it has a light-receiving surface on one side and a layer blocking radiation and visible light on the other side. It is preferable to use a material with a blocking layer .delta., such as one in which a radiation or visible light blocking layer is set and two photodiodes stacked on both sides of the blocking layer.

かかるフォトダイオード素子は、通常のシリコンウェハ
からなるものやアモルファスシリコンからなる一bのが
挙げられる。ことにアモルファスシリコンからなるフォ
トダイオード素子を用いると素子厚みを減少することが
でき、より解像度の優れたセンサを得ることが可能であ
る。なおこれらのフォトダイオード素子は、第8図に示
されるようにその端部に電気信号増幅回路が一体に組合
わされたものであってもよい。図中、(至)は光電変換
領域、(ト)は増幅及びスイッチング回路領域、(1)
は3i駐板をそれぞれ示す。
Examples of such photodiode elements include those made of ordinary silicon wafers and those made of amorphous silicon. In particular, when a photodiode element made of amorphous silicon is used, the element thickness can be reduced and a sensor with even better resolution can be obtained. Note that these photodiode elements may be integrally combined with an electric signal amplification circuit at the end thereof, as shown in FIG. In the figure, (to) is the photoelectric conversion area, (g) is the amplification and switching circuit area, (1)
indicate the 3i parking boards, respectively.

なお、シンチレータ母材としては、公知の種々の固体シ
ンチレータを用いることができるが、CdWOa結晶を
用いるのが好ましい。またアレイセンサのシンチレータ
母材の露出面には、外部からの可視光の入射を防止しか
つ内部で変換された可視光の外部への漏れを防止するた
めにTlO2のごとき可視光反射性の膜で被覆しておく
ことが好ましい。
Although various known solid scintillators can be used as the scintillator base material, it is preferable to use CdWOa crystal. In addition, a visible light reflective film such as TlO2 is applied to the exposed surface of the scintillator base material of the array sensor to prevent visible light from entering from the outside and to prevent visible light converted inside from leaking to the outside. It is preferable to cover it with

(ホ)作 用 この発明の放射線アレイセンサは、予め規則正しく設け
られたシンチレータ母材の線状溝に対応して光電変換素
子が複数設定されており、その個々の櫛状の凸部と光電
変換素子が一つの放射線センサとして働くものである。
(E) Function In the radiation array sensor of the present invention, a plurality of photoelectric conversion elements are set corresponding to the linear grooves of the scintillator base material that are regularly provided in advance, and each of the comb-shaped convex portions and the photoelectric conversion The element functions as one radiation sensor.

そして各々の櫛状態の凸部に上面より入射した放射線は
可視光に変換されると共に側方に受光面を位置する光電
変換素子により迅速に検知されることとなる。
The radiation incident on each comb-shaped convex portion from the top surface is converted into visible light and is quickly detected by a photoelectric conversion element having a light-receiving surface located on the side.

(へ)実施例 第1〜3図は、この発明の放射線アレイセンサの一実施
例を示す構成説明図である。図において、故fJ4I!
ilアレイセンサ(1)は、Cd WO4結晶(1mm
X 26mm X 4mm >に0.8mm間隔で幅0
.6mmffさ3.2mmの線状fi21)を複数設け
てなる断面櫛状のシンチレータ母材(2と、この線状溝
31)各々に挿設されたフォトダイオード素子(3)と
から構成され、シンチレータ母材(2)の露出面には、
白色のT + 02膜(4)が被覆されてなる。
(F) Embodiment FIGS. 1 to 3 are configuration explanatory diagrams showing an embodiment of the radiation array sensor of the present invention. In the figure, the late fJ4I!
The il array sensor (1) is made of Cd WO4 crystal (1 mm
X 26mm X 4mm > Width 0 at 0.8mm intervals
.. The scintillator is composed of a scintillator base material (2) having a comb-shaped cross section and a photodiode element (3) inserted into each of the linear grooves 31. On the exposed surface of the base material (2),
It is coated with a white T+02 film (4).

上記フォトダイオード素子(3)は、PN構造の半導体
層のの両面にITOからなる透明電極膜(ト)(至)を
形成しかつ片面にアルミニウム板(銅板やタングステン
板なども使用可能)からなるX線及び可視光遮断板(ト
)を積層してなり、各線状#42+)の内壁面に遮断M
因表面及び受光面が沿うように挿入し光学接着剤(受光
面側)及びアラルダイト等の接着剤(遮断板側)で固定
されてなる。なお、01)はフJ +−ダイオード素子
(3)の出力リード線であり、電気イ3号増幅回路及び
表示部に接続されている。
The photodiode element (3) has a transparent electrode film made of ITO formed on both sides of a semiconductor layer with a PN structure, and an aluminum plate (copper plate, tungsten plate, etc. can also be used) on one side. It is made by laminating X-ray and visible light blocking plates (G), and a blocking plate (M) is placed on the inner wall surface of each linear #42+).
It is inserted so that the front surface and the light-receiving surface are aligned and fixed with an optical adhesive (on the light-receiving surface side) and an adhesive such as Araldite (on the shielding plate side). Note that 01) is the output lead wire of the FJ + - diode element (3), which is connected to the electric No. 3 amplifier circuit and the display section.

かかる放射線アレイセンサ(1)において、上面より照
射するl11m線は、可視光反射性のTi 02膜(4
)を通過してシンチレータ母材内に入射し、そこで可視
光に変換されるが、フォトダイオード素子の受光面が可
視光変換域の側方に近接して設定されているため、効率
良く受光面に入光しそれぞれのフォトダイオード素子の
出力として検知されることとなる。そして遮断板(ト)
により隣接するフォトダイオード間のクロスト−キング
も防止されている。また、フォトダイオード素子が等間
隔で規則正しく設けられた線状溝に設定されているため
、従来のアレイセンサのような組立時の誤差に基づ(画
像の歪み等も生じない。従って均一でかつ分解能に優れ
、しかもS/N比が大き〈従来に比して低い放射線エネ
ルギーで鮮明な画像を提供することができる。
In such a radiation array sensor (1), the l11m ray irradiated from the top surface is transmitted through the visible light reflective Ti02 film (4
) and enters the scintillator base material, where it is converted into visible light. However, since the light receiving surface of the photodiode element is set close to the side of the visible light conversion area, the light receiving surface is efficiently converted into visible light. The light enters and is detected as the output of each photodiode element. and a blocking plate (g)
This also prevents crosstalk between adjacent photodiodes. In addition, since the photodiode elements are set in linear grooves that are regularly provided at equal intervals, there is no distortion during assembly (image distortion, etc.) that occurs in conventional array sensors. It has excellent resolution and a large S/N ratio (can provide clear images with lower radiation energy than conventional methods).

なお、上記実施例においては、白色のTi02111(
4)が被覆されているため、外部からの迷光の入射が防
止されかつ内部で変換された可視光の外部への漏れも防
止され、分解能、感度がより向上(例えば、未被iii
の二倍程度)されている。
In addition, in the above example, white Ti02111 (
4), it prevents stray light from entering from the outside and also prevents visible light converted inside from leaking to the outside, further improving resolution and sensitivity (for example,
(approximately twice as much).

上記実施例における線状溝の深さは、CdWO。The depth of the linear groove in the above example is CdWO.

をシンチレータ母材として用いた場合に最も適合化され
たものである。すなわち、シンチレータCdWOaとそ
の透過放射線量との関係は第5図に示すごとくであり、
約311Imで汎用されるX線の透過は押えられている
。従って、線状溝の深さは約3鴫と設定するのが、入射
放射線のシンチレーション効率及びアレイセンサの小型
・軽量化の点で最し好ましい。
It is most suitable when used as the scintillator base material. That is, the relationship between the scintillator CdWOa and its transmitted radiation dose is as shown in FIG.
The transmission of commonly used X-rays at approximately 311 Im is suppressed. Therefore, it is most preferable to set the depth of the linear groove to about 3 mm in terms of scintillation efficiency of incident radiation and miniaturization and weight reduction of the array sensor.

また、上記実施例におけるフォトダイオード素子は、シ
リコンウェハからなるPN構造の厚ざ0.6鴫のもので
あるが、アモルファスシリコン半導体を用いたPIN構
造の半導体層を用いることににす、フォトダイオード素
子の厚みを著しく減少〈例えば厚さ2ffIIII)さ
せることができる。
Furthermore, although the photodiode element in the above embodiment has a PN structure made of a silicon wafer and has a thickness of 0.6 mm, a photodiode using a PIN structure semiconductor layer using an amorphous silicon semiconductor The thickness of the element can be significantly reduced (for example to a thickness of 2ffIII).

第4図は、この発明の放射線アレイセンサの他の一実施
例を示す第3図相当図である。第4図の故ff4線アレ
イセンナは、前記実施例のフォトダイオード素子(3)
として、可視光及びX線の遮断飯田を介してPIN構造
の半導体(32A)  (32[3)と透明電極膜(3
3A)  (33B)  <34A)  (34B>と
からなる二つのフォトダイオードをVIWIシた複合フ
ォトダイオード素子を用いた以外同様な構成からなる。
FIG. 4 is a diagram corresponding to FIG. 3 showing another embodiment of the radiation array sensor of the present invention. The late FF4-line array sensor shown in FIG. 4 consists of the photodiode element (3) of the above embodiment.
As a result, the PIN structure semiconductor (32A) (32[3) and the transparent electrode film (3
3A) (33B) <34A) (34B>) The structure is similar except that a composite photodiode element in which two photodiodes consisting of VIWI are used is used.

なお、(31△)(31B>はそれぞれのフォトダイオ
ードの出力リード線である。かかる実施例の放射線アレ
イセンサにおいては隣接する線状溝間の各々のシンチレ
ータ部内で変換され左右に分散された可視光が、これら
を介して対向配置された二つのフォトダイオードの受光
面に直接的に入光するため、検出感度をより向上させる
ことができる。かかる半導体(32A)  (32B)
としては、アモルファスシリコン半導体を用いるのが線
状溝の幅を増加させることなく容易に積層構造とするこ
とができる点好ましい。
Note that (31Δ)(31B> is the output lead wire of each photodiode. In the radiation array sensor of this embodiment, the visible light is converted within each scintillator section between adjacent linear grooves and is distributed to the left and right. Since light directly enters the light-receiving surfaces of the two photodiodes arranged oppositely through these, the detection sensitivity can be further improved. Such semiconductors (32A) (32B)
Therefore, it is preferable to use an amorphous silicon semiconductor because a layered structure can be easily formed without increasing the width of the linear groove.

(ト)発明の効果 この発明の放射線アレイセン12は、個々の光電変換素
子が線状溝に沿って規則正しく配列されているため、信
頼性の高いi!i像を得ることができる。
(G) Effects of the Invention The radiation array sensor 12 of the present invention has highly reliable i! i-image can be obtained.

さらに、光電変換素子がシンチレータの底面ではなく個
々のシンチレータ分画部の側方に設けられているため、
シンチレーション光の受光効率も向上されており、S/
N比も改善されたものである。
Furthermore, since the photoelectric conversion element is provided on the side of each scintillator fraction rather than on the bottom of the scintillator,
The scintillation light reception efficiency has also been improved, and S/
The N ratio has also been improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、この発明の放射線アレイセンサの一実/II
例を示す断面図、第2図は同じく平面図、第3図は同じ
く部分断面図、第4図は、他の実施例を示す第3図相当
図、第5図はシンチレータ厚みと透過放射線量との関係
を示ずグラフ、第6図は従来の放射線センサを示す構成
説明図、第7図は従来の放射線アレイセンサの使用状態
を示す構成説明図、第8図A、Bはこの発明の放射線ア
レイセンサに用いる光電変換素子の他の一例を示す平面
図及び断面図である。 (1)・・・・・・放04線アレイセンサ、(′2J・
・・・・・シンチレータ母材、(3)・・・・・・フォ
トダイオード素子、(/I)・・・・・・Ti 02膜
、  31)・・・・・・線状溝。 第4図 第5図 シンチレータ(CdW(2)博−(mm)第6図 3     ゛ 第8図 第7図
FIG. 1 shows an example of the radiation array sensor of the present invention/II
FIG. 2 is a plan view, FIG. 3 is a partial sectional view, FIG. 4 is a view equivalent to FIG. 3 showing another example, and FIG. 5 is a scintillator thickness and transmitted radiation dose. 6 is a diagram showing the structure of a conventional radiation sensor, FIG. 7 is a diagram showing the structure of a conventional radiation array sensor in use, and FIGS. FIG. 7 is a plan view and a cross-sectional view showing another example of a photoelectric conversion element used in a radiation array sensor. (1)...... Radiation 04-ray array sensor, ('2J・
...Scintillator base material, (3)...Photodiode element, (/I)...Ti02 film, 31)...Linear groove. Fig. 4 Fig. 5 Scintillator (CdW (2) width (mm) Fig. 6 Fig. 3 ゛ Fig. 8 Fig. 7

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、複数の線状溝を規則正しく設けた断面櫛状のシンチ
レータ母材と、該シンチレータ母材の各々の線状溝内に
受光面が該線状溝の内側面に沿うように挿設された光電
変換素子とを備えてなる放射線アレイセンサ。 2、シンチレータ母材がTiO_2膜で被覆されてなる
特許請求の範囲第1項記載のセンサ。 3、光電変換素子が、片面に受光面を有し他面に放射線
や可視光の遮断層を備えたフォトダイオードからなる特
許請求の範囲第1項記載のセンサ。 4、光電変換素子が、放射線や可視光の遮断層の両面に
二つのアモルファスフォトダイオードを備えてなる特許
請求の範囲第1項記載のセンサ。
[Scope of Claims] 1. A scintillator base material having a comb-shaped cross section in which a plurality of linear grooves are regularly provided, and a light-receiving surface within each linear groove of the scintillator base material along the inner surface of the linear groove. A radiation array sensor comprising a photoelectric conversion element inserted as shown in FIG. 2. The sensor according to claim 1, wherein the scintillator base material is coated with a TiO_2 film. 3. The sensor according to claim 1, wherein the photoelectric conversion element is a photodiode having a light-receiving surface on one side and a radiation and visible light blocking layer on the other side. 4. The sensor according to claim 1, wherein the photoelectric conversion element comprises two amorphous photodiodes on both sides of a radiation and visible light blocking layer.
JP23282785A 1985-10-17 1985-10-17 Radiation array sensor Expired - Lifetime JPH0627843B2 (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017519186A (en) * 2014-04-17 2017-07-13 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. Radiation detector having a photosensitive element capable of having a high aspect ratio

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JP2017519186A (en) * 2014-04-17 2017-07-13 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. Radiation detector having a photosensitive element capable of having a high aspect ratio

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