JPS6288155A - Optical disk substrate - Google Patents

Optical disk substrate

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JPS6288155A
JPS6288155A JP60228392A JP22839285A JPS6288155A JP S6288155 A JPS6288155 A JP S6288155A JP 60228392 A JP60228392 A JP 60228392A JP 22839285 A JP22839285 A JP 22839285A JP S6288155 A JPS6288155 A JP S6288155A
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resin
ultraviolet curable
curable resin
resin film
hydrogen atom
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Shigeki Shimizu
茂樹 清水
Koji Ide
井手 廣司
Toshihiro Kobayashi
俊裕 小林
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Mitsubishi Kasei Corp
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Abstract

PURPOSE:To obtain a substrate having films of a UV-curing resin which are easily strippable from a metallic mold and have highly accurate and heat resistance groove structure and substantial hardness by forming the films of the specific novolack resin curable by UV rays having grooves for tracking on one or both faces of a prescribed transparent substrate. CONSTITUTION:The film which have the tracking grooves on the surface and consist of the novolak resin curable by UV rays expressed by constitutional formula are formed on one or both faces of the transparent substrate. In formula, n is 0-20 integer, R<1>, R<4> are a hydrogen atom, methyl group, R<2>, R<3> are a hydrogen atom, alkyl group or phenyl group of 1-6C. Any of a polymethyl methacrylate, polycarbonate, polystyrene, epoxy resin, vinyl chloride/vinyl acetate copolymer or glass is used as the transparent substrate. The film of the US-curing resin is formed by photocuring a compsn. consisting of 10-99.5% concn. of the novolak resin and 0.5-10wt% concn. of a polymn. initiator.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光デイスク基板に関するものである。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to an optical disk substrate.

詳しくは、紫外線硬化樹脂を用いて、透明な支持体の表
面に耐熱性の優れた。トラッキング用溝構造を形成した
元ディスク基板に関するものである。
Specifically, an ultraviolet curing resin was used to create a transparent support surface with excellent heat resistance. The present invention relates to an original disk substrate on which a tracking groove structure is formed.

〔従来の技術及びその問題点〕[Conventional technology and its problems]

元ディスク用の基板表面には、同心円又はスパイラル状
の微細な溝が読出し、書込み時のトラッキング用として
設けられている。この溝は。
Concentric or spiral fine grooves are provided on the surface of the original disk substrate for tracking during reading and writing. This groove.

通常、金型の表面に同心円又はスパイラル状の溝を形成
しておき、これを成形の際転写する方法で形成されてい
る。
Usually, concentric or spiral grooves are formed on the surface of a mold and then transferred during molding.

転写方法のうち主なものは、射出成形法又は紫外線硬化
樹脂を用いる方法であるが、後者の方が、得られた溝構
造に複屈折の発生等の問題がなく、高精度の溝の形成が
可能といわれている。
The main transfer methods are injection molding or a method using ultraviolet curing resin, but the latter does not cause problems such as birefringence in the resulting groove structure and allows for highly accurate groove formation. is said to be possible.

ここで用いられる紫外線硬化樹脂としては、既にビスフ
ェノール人を骨格構造に有する、付加重合性液状樹脂が
知られている。(特開昭36−7りtos)、l、かし
ながら、まだ溝の精度、耐熱性等が充分なものとは云え
ず、更に信頼の高い溝構造を有するディスクが、すなわ
ち高性能の紫外線樹脂が望まれている。
As the ultraviolet curing resin used here, an addition polymerizable liquid resin having a bisphenol skeleton in its skeleton structure is already known. (Japanese Unexamined Patent Publication No. 36-7), l However, it cannot be said that the groove precision and heat resistance are still sufficient, and a disk with a more reliable groove structure is needed, that is, a high-performance ultraviolet ray. Resin is desired.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

第1の目的は 金型からの剥離が容易で、高精度の溝構
造が形成され九基 板を提供することである。
The first objective is to provide a substrate that is easy to peel off from the mold and has a highly accurate groove structure formed therein.

第一の目的は 形成された溝構造のエツジの形状が高温
下でも十分な耐熱 性を有している基板を提供す ることである。
The first objective is to provide a substrate in which the edge shape of the formed groove structure has sufficient heat resistance even at high temperatures.

第3の目的は 形成された紫外線硬化樹脂皮膜が、特に
半導体レーザーの 波長領域に於て、高温下でも 十分な耐熱性を有している基 板を提供することである。
The third object is to provide a substrate in which the formed ultraviolet curable resin film has sufficient heat resistance even at high temperatures, especially in the wavelength range of semiconductor lasers.

第ダの目的は 形成された紫外線硬化樹脂皮膜が、十分
な硬度を有する基 板を提供することである。
The second purpose is to provide a substrate in which the formed ultraviolet curable resin film has sufficient hardness.

かかる目的は、特定のノボラック樹脂誘導体を含有する
紫外線硬化樹脂組成物を使用することによシ達成された
This objective was achieved by using ultraviolet curable resin compositions containing specific novolak resin derivatives.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明の要旨は、透明な支持体の片面、あるいは両面に
、トラッキング用の溝を表面に有する紫外線硬化樹脂皮
膜を形成した光デイスク基板に於て、紫外線硬化樹脂皮
膜が下記構造式(1)で示されるノボラック系の樹脂を
光硬化させたものであることを特徴とする光ディスクの
基板に存する。
The gist of the present invention is to provide an optical disk substrate in which an ultraviolet curable resin film having tracking grooves on the surface is formed on one or both sides of a transparent support, wherein the ultraviolet curable resin film has the following structural formula (1). The substrate for an optical disk is characterized by being made of a photocured novolak resin shown in the following.

O=0 R’−0 8H! nはO−一〇の整数である。O=0 R'-0 8H! n is an integer of O-10.

R’、R’は水素原子又はメチル基を示す。R' and R' represent a hydrogen atom or a methyl group.

R1、R1は水素原子又は炭素数7〜乙のアルキル基又
はフェニル基を示す。
R1 and R1 represent a hydrogen atom, an alkyl group having 7 to 7 carbon atoms, or a phenyl group.

構造式(1)のノボラック系の樹脂はノボラック樹脂と
グリシジル(メタ)アクリレート誘導体との反応で合成
される。ノボラック樹脂は。
The novolak resin of structural formula (1) is synthesized by reacting a novolak resin with a glycidyl (meth)acrylate derivative. Novolac resin.

フェノール、クレゾール等のフェノール誘導体とホルム
アルデヒド、アセトン、ペンズアルデヒト等のカルボニ
ル化合物との縮合反応で合成可能である。
It can be synthesized by a condensation reaction between phenol derivatives such as phenol and cresol and carbonyl compounds such as formaldehyde, acetone, and penzaldehyde.

光硬化速度を上げる為に、紫外線硬化樹脂組成物は、ノ
ボラック系の樹脂以外に、光重合開始剤を含有するのが
一般的である。
In order to increase the photocuring speed, the ultraviolet curable resin composition generally contains a photopolymerization initiator in addition to the novolak resin.

光重合開始剤としては、紫外光を吸収し、ラジカルを発
生するタイプの化合物ならば、特に制限はない。
The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is a compound that absorbs ultraviolet light and generates radicals.

代表的なものとしては、p−tart−ブチルトリクロ
ロアセトフェノン、 !、2’−ジェトキシアセトフェ
ノン、コーヒドロキシーユーメチルー/−フェニルプロ
パン−7−オン等のア七トフェノン類;ベンゾフェノン
、ミヒラーケトン(ダ、ダ′−ビスジメチルア電ノベン
ゾフエノン)%コークロロチオキサントン、−一メチル
チオキサントン、コーエチルチオキサン、−一イソプロ
ピンチオキサン等のクトン類:ベンゾインなルエーテル
等のベンゾインエーテル類;ベンジルならびにべ/ジル
ジメチルケタール、ヒドロキシシクロへキシルフェニル
クトン等のペンシルクタール類等が挙げられる。
Representative examples include p-tart-butyltrichloroacetophenone, ! , 2'-jethoxyacetophenone, cohydroxy-umethyl-/-phenylpropan-7-one and other a7tophenones; benzophenone, Michler's ketone (da, da'-bisdimethylaelectronobenzophenone)% cochlorothioxanthone, -monomethylthioxanthone , coethylthioxane, and -isopropynethioxane; benzoin ethers such as benzoin ether; benzyl and benzyl dimethyl ketal; and pencil tars such as hydroxycyclohexylphenyl lactone.

このような光重合開始剤と一緒に増感斉11を加えると
光硬化速度が促進されて好適である。増感剤としては、
例えば光重合開始剤としてベンジルを使用する場合、n
−ブチルアミン、ジ−n−ブチルアミン、トリエチルア
ミン、ジエチルアミノエチルメタクリレート等のアミン
系化合物が好適である。
It is preferable to add sensitizing chemical 11 together with such a photopolymerization initiator because it accelerates the photocuring rate. As a sensitizer,
For example, when using benzyl as a photoinitiator, n
Amine compounds such as -butylamine, di-n-butylamine, triethylamine, diethylaminoethyl methacrylate, etc. are suitable.

紫外線硬化樹脂組成物は、適当な液状粘度を保つ為に、
ノボラック系の樹脂以外に、更に低粘度の付加重合性化
合物を含有させることができる。紫外線硬化W脂組成物
の重湯に於ける粘度は/aOOOapa以下、更に好ま
しくは10θ〜II 000 cpaの範囲が適当であ
ル、これKより金型表面の凹凸を、完全に抜機すること
が可能となる。
In order to maintain an appropriate liquid viscosity, the ultraviolet curable resin composition
In addition to the novolak resin, an addition polymerizable compound with a lower viscosity may be contained. The viscosity of the ultraviolet curable W resin composition in heavy hot water is preferably /aOOOapa or less, more preferably in the range of 10θ to II 000 cpa, which makes it possible to completely remove the unevenness of the mold surface. becomes.

低粘度の付加重合性化合物としては、λ−エチルへキシ
ルアクリレート、ラクリルメタクリレート、ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレート等の単官能性(メタ)アク
リレート化合物:l、3−ブタンジオールジ(メタ)ア
クリレート、へダーブタンジオールジ(メタ)アクリレ
ート、/、A−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレー
ト、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリ、レート、
ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ヒド
ロキシピパリン酸エステルネオペンチルグリコールジア
クリレート等の二官能性(メタ)アクリレート化合物ニ
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ト
リメチロールエタントリメタクリレート等の三官能性(
メタ)アクリレート化合物が挙げられるが。
Examples of low-viscosity addition polymerizable compounds include monofunctional (meth)acrylate compounds such as λ-ethylhexyl acrylate, lacryl methacrylate, and hydroxyethyl (meth)acrylate: l,3-butanediol di(meth)acrylate; hedarbutanediol di(meth)acrylate, /, A-hexanediol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate,
Difunctional (meth)acrylate compounds such as neopentyl glycol di(meth)acrylate and hydroxypiparic acid ester neopentyl glycol diacrylate Trifunctional (such as nitrimethylolpropane tri(meth)acrylate and trimethylolethane trimethacrylate)
Examples include meth)acrylate compounds.

特に充分な硬度を有する光硬化樹脂皮膜を得るには、上
述の付加重合性化合物の中から多官能性(メタ)アクリ
レート化合物を使用するのが有利である。
In particular, in order to obtain a photocurable resin film having sufficient hardness, it is advantageous to use polyfunctional (meth)acrylate compounds from among the above-mentioned addition polymerizable compounds.

紫外線硬化樹脂組成物中のノボラック糸の樹脂の濃度は
、lOX〜タデ、3重量X1好ましくは23%〜96重
量Sであ)、重合開始剤の濃度は0.2〜10重量%1
好ましくは7〜5重−%であり、付加重合性化合物の濃
度は0〜g9 、s重量S、好ましくはO〜70重量3
である。
The concentration of the resin of the novolac yarn in the ultraviolet curable resin composition is 1 OX to Tade, 3 wt.
It is preferably 7 to 5% by weight, and the concentration of the addition polymerizable compound is 0 to 70% by weight, preferably 0 to 70% by weight.
It is.

かくして得られた。液状紫外線硬化樹脂租成物をトラッ
キング用の溝形状が刻み込まれた金で支持体を通して紫
外光を照射して1g状樹脂を硬化させた後、支持体をそ
れに付増しt硬化樹脂皮膜とともに金をから剥離するこ
とによって元ディスク用の基板が得られる。
Thus obtained. After curing the 1g resin by irradiating the liquid ultraviolet curable resin pellets with ultraviolet light through a gold support with grooves carved for tracking, the support was added to it and the gold was applied together with the hardened resin film. By peeling it off, a substrate for the original disk is obtained.

透明支持体としては、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体
、ポリメタクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリカー
ボネート、エポキシ樹脂、ガラス等が使用される。
As the transparent support, vinyl chloride/vinyl acetate copolymer, polymethacrylate, polystyrene, polycarbonate, epoxy resin, glass, etc. are used.

得られた。トラッキング用の溝が設けられた基板表面に
有機又は無機の記録媒体を蒸着又は金石等の方法で付与
することによシ、元ディスクとなシ、半導体レーザー等
による記録・読出しが可能となる。
Obtained. By applying an organic or inorganic recording medium to the surface of the substrate provided with tracking grooves by vapor deposition or gold stone, it becomes possible to record and read from the original disk using a semiconductor laser or the like.

〔実施例〕〔Example〕

以下実施例を示すが、本発明はその要旨を越えない限シ
以下の実施例に限定されるものではない。
Examples will be shown below, but the present invention is not limited to the following examples as long as they do not exceed the gist of the invention.

製造例 O紫外線硬化樹脂組成物の調液 紫外線が除かれた黄色照明下においてノボラック樹脂誘
導体1重合開始剤、付加重合性化合物を室温にて配合し
、液状紫外線硬化樹脂組成物A、Bを作成、以下の実施
例に使用した。
Production Example O Preparation of UV Curable Resin Composition Liquid UV curable resin compositions A and B were prepared by blending Novolak Resin Derivative 1 polymerization initiator and addition polymerizable compound at room temperature under yellow lighting with UV rays removed. , used in the following examples.

又、特開昭36−ククデOよに記載されている付加重合
性組成物を含有する液状紫外線硬化樹脂組成物Oを作成
し、以下の比較例に使用した。
In addition, a liquid ultraviolet curable resin composition O containing an addition polymerizable composition described in JP-A-36-Kukude O was prepared and used in the following comparative example.

A組成物 ノボ2ツク樹脂誘導体 3部部 ■ 付加重合性化合物 弘θ部 OH,−0−0−OH=O3lt。A composition Novo 2 Tsuku resin derivative 3 parts ■ Addition polymerizable compound Hiro θ part OH, -0-0-OH=O3lt.

■ 重合開始剤 3部 B組成物 ノボラック樹脂誘導体 50部 OH。■ Polymerization initiator 3 parts B composition Novolak resin derivative 50 parts Oh.

付加重合性化合物 75部 OR,−0−0−OH=OH。Addition polymerizable compound 75 parts OR, -0-0-OH=OH.

重合開始剤 3部 00B。Polymerization initiator 3 parts 00B.

0組成物 付加重合性化合物 93部 OCR,0 重合開始剤 3部 00H。0 composition Addition polymerizable compound 93 parts OCR, 0 Polymerization initiator 3 parts 00H.

実施例/、コ、比較例1 ニッケルメッキした金型に、前述し曳索外線硬化樹脂組
成物A、B、Oを被値し、その上よクシ2ンカツプリン
グ剤(日本コニカ)をスピンコートしたガラス支持体を
該紫外線硬化樹脂組成物の膜厚がroμになるように圧
着し。
Example/Comparative Example 1 A nickel-plated mold was coated with the above-mentioned tow line curing resin compositions A, B, and O, and then spin-coated with a comb springing agent (Nippon Konica). A glass support was pressed so that the film thickness of the ultraviolet curable resin composition was roμ.

八z:f/di  の紫外線を照射後、支持体を硬化樹
脂皮膜とともに金型から剥離し、深さ7θθ^、ピッチ
八6μの溝を表面に有する元ディスク用基板を得た。
After irradiation with ultraviolet rays of 8z:f/di, the support was peeled off from the mold together with the cured resin film to obtain an original disk substrate having grooves on the surface with a depth of 7θθ^ and a pitch of 86μ.

基板上の光硬化膜の耐熱性試験を次のように実施した。A heat resistance test of the photocured film on the substrate was conducted as follows.

加熱によるトラッキング溝の深さ変化人らびに透過惠変
化は、基板試料を室温から/r℃/分の昇温速度で昇温
しなからg J Ormのレーザー光をトラック溝面に
照射して得られる回折像の光強度ならびに透過光強度を
測定し、各々の光強度が昇温開始時(ioo%)の90
%に低下した時点の温度を求める。表7に結果表  7 参考例11コ 次に、実施例1−2で得られた元ディスク基板上にTe
8. S”Isの組成を有する記録媒体を市販のマグネ
トロン型スパッタ装置(アネルバ裂’IJOB機)によ
1)3oo^の膜厚に成膜したところ、いずれも/ M
n2におけるO/Nが!rOdE以上と、良好なる情報
記録が可能であった。なお、記録再生にはナカミチ裂評
価装置(oMslooo)を用いた。
Changes in tracking groove depth and transmission depth due to heating can be observed by heating the substrate sample from room temperature at a heating rate of /r°C/min, and then irradiating the track groove surface with a laser beam of g J Orm. The light intensity and transmitted light intensity of the obtained diffraction image were measured, and each light intensity was 90% of that at the start of temperature rise (ioo%).
Find the temperature when the temperature drops to %. Table 7 shows the results. 7 Reference Example 11 Next, Te was deposited on the original disk substrate obtained in Example 1-2.
8. When a recording medium having a composition of S"Is was deposited to a film thickness of 1) 3oo^ using a commercially available magnetron type sputtering device (Anelva's IJOB machine), both /M
O/N in n2! Good information recording was possible with rOdE or higher. Note that a Nakamichi fissure evaluation device (oMslooo) was used for recording and reproduction.

実施例j、 4(、比較例コ ニラクルメッキした金型に、前述した紫外線硬化樹脂組
成物A〜0を被接し、その上よシボリカーボネート支持
体を圧着し、紫外光を照射後、支持体を硬化樹脂皮膜と
ともに金型から剥離し、実施例/〜−と同様の溝形状を
表面に有する光デイスク基板を得た。得られた硬化樹脂
皮膜の鉛筆硬度を測定したところ、表−に記されている
ような良好な結果が得られた。
Examples J, 4 (Comparative Example) The above-mentioned ultraviolet curable resin compositions A to 0 were applied to a conical plated mold, a shibori carbonate support was pressed onto the mold, and after irradiation with ultraviolet light, the support was cured. It was peeled off from the mold together with the resin film to obtain an optical disk substrate having a groove shape on the surface similar to that of Examples/--.When the pencil hardness of the obtained cured resin film was measured, it was shown in Table--. Good results were obtained.

表  コ 参考例3、グ 次に実施例3〜lIで得られた元ディスク基板に’rb
、、 Pa丁、なる組成をもつ膜厚J00^の光磁気記
録媒体を市販の電子ビーム蒸着装置にて成膜し、前述の
評価機を用いて記録特性を測定したところ、いずれも/
 +1!H2におけるC/Nが4(j−dB以上の良好
な結果を得た。
Table Co Reference Example 3, G Next, the original disk substrate obtained in Examples 3 to 1I
When a magneto-optical recording medium with a film thickness of J00^ having a composition of .
+1! Good results were obtained with a C/N of 4 (j-dB or more) in H2.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、金型からの剥離が容易で。 According to the present invention, peeling from the mold is easy.

高精度の溝構造を有し、耐熱性硬度に優れtフしディス
ク基板が得られる。
A disk substrate with a highly precise groove structure and excellent heat resistance and hardness can be obtained.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)透明な支持体の片面、あるいは両面に、トラッキ
ング用の溝を表面に有する紫外線硬化樹脂皮膜を形成し
た光ディスク基板に於て、紫外線硬化樹脂皮膜が下記構
造式( I )で示されるノボラック系の樹脂を光硬化さ
せたものであることを特徴とする光ディスク基板。 ▲数式、化学式、表等があります▼…( I ) nは0〜20の整数である。 R^1、R^4は水素原子又はメチル基を示す。 R^2、R^3は水素原子又は炭素数1〜6のアルキル
基又はフェニル基を示す。
(1) In an optical disk substrate in which an ultraviolet curable resin film having tracking grooves on the surface is formed on one or both sides of a transparent support, the ultraviolet curable resin film is a novolak represented by the following structural formula (I). An optical disc substrate characterized by being made of a photo-cured resin. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼...(I) n is an integer from 0 to 20. R^1 and R^4 represent a hydrogen atom or a methyl group. R^2 and R^3 represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group.
(2)透明な支持体が、ポリメタクリル酸メチル、ポリ
カーボネート、ポリスチレン、エポキシ樹脂、塩化ビニ
ル/酢酸ビニル共重合体、ガラスのいずれかであること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光ディスク基
板。
(2) The transparent support is any one of polymethyl methacrylate, polycarbonate, polystyrene, epoxy resin, vinyl chloride/vinyl acetate copolymer, and glass. Optical disc substrate.
(3)ノボラック系の樹脂が下記の構造式で示されるも
のであることを特徴とする特許請求範囲第1項記載の光
ディスク基板。 ▲数式、化学式、表等があります▼n=0〜5
(3) The optical disc substrate according to claim 1, wherein the novolac resin is represented by the following structural formula. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼n=0-5
(4)紫外線硬化樹脂皮膜が、ノボラック系の樹脂を少
なくとも10重量%、ならびに光重合開始剤を0.5な
いし10重量%含有させた組成物を光硬化させたもので
あることを特徴とする紫外線硬化樹脂皮膜を施した特許
請求の範囲第1項記載の光ディスク基板。
(4) The ultraviolet curable resin film is characterized in that it is obtained by photo-curing a composition containing at least 10% by weight of a novolac resin and 0.5 to 10% by weight of a photopolymerization initiator. An optical disc substrate according to claim 1, which is coated with an ultraviolet curable resin film.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02214040A (en) * 1989-02-14 1990-08-27 Victor Co Of Japan Ltd Information recording medium

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH02214040A (en) * 1989-02-14 1990-08-27 Victor Co Of Japan Ltd Information recording medium

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