JPS6281802A - Oscillator - Google Patents

Oscillator

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JPS6281802A
JPS6281802A JP22026185A JP22026185A JPS6281802A JP S6281802 A JPS6281802 A JP S6281802A JP 22026185 A JP22026185 A JP 22026185A JP 22026185 A JP22026185 A JP 22026185A JP S6281802 A JPS6281802 A JP S6281802A
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JP
Japan
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layer
emitter
oscillation
base
circuit
Prior art date
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Pending
Application number
JP22026185A
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Japanese (ja)
Inventor
Naoki Yokoyama
直樹 横山
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To attain a stable high frequency oscillation output by providing a resonance circuit between the emitter and base of a hot electron transistor (RHET) utilizing a resonance tunneling effect where a super lattice layer is formed between an emitter layer and a base layer. CONSTITUTION:A resonance circuit (tank circuit) RC is connected between the emitter and collector of an oscillation active element Q being the RHET and a bias is applied by using a bias power supply V1 to cause the resonance tunneling in the super lattice layer formed between the emitter layer and the base layer. The operating region of the oscillation active element Q in this state exists in the negative resistance region and the oscillation output is extracted from the collector side while oscillation is caused between the emitter and base. The resonance tunneling effect is maintained sufficiently even in the terra Herz zone and since the RHET is a 3-terminal element, the oscillation circuit and the output circuit are separated completely an a stable high frequency output is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 本発明は、発振器に於いて、エミッタ層とベース層との
間に形成された超格子層をキャリヤが共鳴トンネリング
する形式の半導体装置と、そのエミッタ・ベース間に挿
入された共振回路と、その半導体装置のコレクタ層から
導出され発振器・流が取り出される出力端とを備えてな
る構成を採ることに依り、例えばテラ・ヘルツ帯に達す
る高い周波数の発振を安定に継続できるようにする。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] The present invention provides a semiconductor device in which carriers resonantly tunnel through a superlattice layer formed between an emitter layer and a base layer in an oscillator, and its emitter base layer. By adopting a configuration that includes a resonant circuit inserted between them and an output end from which an oscillator current is derived from the collector layer of the semiconductor device, high frequency oscillations reaching the terahertz band, for example, can be achieved. Ensure stable continuation.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は、共鳴トンネリング効果を利用するホット・エ
レクトロン・トランジスタ(resonant−tun
neling  hot  electron  tr
ansistor:RHET)を発振能動素子とする発
振器に関する。
The present invention describes a hot electron transistor (resonant-tunnel) that utilizes the resonant tunneling effect.
neling hot electron tr
The present invention relates to an oscillator using an oscillating active element (RHET) as an oscillating active element.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

現在まで、数多くの種類の発振器が実用化されてきたが
、近年、電子機器の高速化に起因して、著しく高い周波
数の発振を安定に継続できるものが要求されている。
Many types of oscillators have been put into practical use to date, but in recent years, as electronic equipment has become faster, there has been a demand for oscillators that can stably continue oscillation at extremely high frequencies.

第2図は高い周波数で発振させることを狙って開発され
た発振器の要部回路説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram of the main part circuit of an oscillator developed with the aim of oscillating at a high frequency.

図に於いて、RTDは2端子の共鳴トンネリング素子(
要すれば、Applied  Physics  l、
etters、vol、46 (5) pp508−5
10.Mar、  1. 1985.)、PGはパルス
発生器、Rは抵抗、Lはインダクタ、0、は出力端をそ
れぞれ示している。
In the figure, the RTD is a two-terminal resonant tunneling device (
In short, Applied Physics l,
etters, vol, 46 (5) pp508-5
10. Mar, 1. 1985. ), PG is a pulse generator, R is a resistor, L is an inductor, and 0 is an output terminal.

図から明らかなように、この発振器では、発振能動素子
である共鳴トンネリング素子RTDの構造上から発振回
路と出力回路とは分離されていない。
As is clear from the figure, in this oscillator, the oscillation circuit and the output circuit are not separated from each other due to the structure of the resonant tunneling device RTD, which is an oscillation active device.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

一般に、高い周波数、例えばテラ・ヘルツ程度の発振を
安定に継続し得る発振器は存在していないと推定される
Generally, it is estimated that there is no oscillator that can stably continue oscillation at a high frequency, for example, terahertz.

例えば、第2図に見られる発振器では、発振回路と出力
回路とが共通化されているので、発振の不安定化は免れ
ないと考えられる。
For example, in the oscillator shown in FIG. 2, since the oscillation circuit and the output circuit are shared, it is considered that oscillation becomes unstable.

これは結局、発振器を構成する発振能動素子として適切
な動作をするデバイスが存在しないことに最大の理由が
ある。
Ultimately, the biggest reason for this is that there is no device that operates properly as an oscillation active element constituting an oscillator.

本発明は、RHETを用いることに依り、構成が簡単で
動作が安定な発振器を実現させようとするものである。
The present invention aims to realize an oscillator with a simple configuration and stable operation by using RHET.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明者は、さきに、実用性充分なRHETを提供した
(要すれば、特願昭60−160314号参照)。
The present inventor has previously provided a RHET with sufficient practicality (see Japanese Patent Application No. 160314/1983 if necessary).

第3図は該RHETを説明する為の図であり、(A)は
要部切断側面図、(B)は図(A)に対応させたエネル
ギ・バンド・ダイヤグラムをそれぞれ表している。
FIG. 3 is a diagram for explaining the RHET, in which (A) is a cut-away side view of the main part, and (B) is an energy band diagram corresponding to diagram (A).

第3図(A)に於いて、1はn+型GaAsコレクタ層
、2はA/!、Ga、−、AsDレクタ側ポテンシャル
・バリヤ層、3はn+型GaAsベース層、4は超格子
層、5はn+型GaAsエミッタ層、6はエミッタ電極
、7はベース電極、8はコレクタ電極をそれぞれ示し、
第3図(B)に於いて、E、は伝導帯の底、Elはフェ
ルミ・レベル、EXはサブ・バンドのエネルギ・レベル
をそれぞれ表している。
In FIG. 3(A), 1 is an n+ type GaAs collector layer, 2 is A/! , Ga, -, AsD potential barrier layer on the rectifier side, 3 is an n + type GaAs base layer, 4 is a superlattice layer, 5 is an n + type GaAs emitter layer, 6 is an emitter electrode, 7 is a base electrode, and 8 is a collector electrode. Each shows
In FIG. 3(B), E represents the bottom of the conduction band, El represents the Fermi level, and EX represents the energy level of the sub-band.

尚、超格子層4はAlXGa1−XASバリヤ層4Aと
GaAsウェル層4Bとからなっていて、図示例では二
つのバリヤ層と一つのウェル層で構成されているが、必
要あれば複数のウェル層及びそれを形成する為のバリヤ
層を用いて良い。
The superlattice layer 4 is composed of an AlXGa1-XAS barrier layer 4A and a GaAs well layer 4B, and in the example shown, it is composed of two barrier layers and one well layer, but if necessary, multiple well layers can be formed. and a barrier layer may be used to form it.

第4図(A)乃至(C)はRHETの動作原理を説明す
る為のエネルギ・ハンド・ダイヤグラムを表し、第3図
に於いて用いた記号と同記号は同部分を示すか或いは同
じ意味を持つものとする。
Figures 4 (A) to (C) represent energy hand diagrams for explaining the operating principle of RHET, and symbols used in Figure 3 indicate the same parts or have the same meaning. shall have it.

図に於いて、Exはウェル層4B内に生成されるサブ・
バンドのエネルギ・レベル、qはキャリヤ(電子)の電
荷量、φ、はコレクタ側ポテンシャル・バリヤ層2とベ
ース層3との間に於ける伝導帯底不連続値(condu
ction  band  discontinuit
y)、VBはへ一ス・エミッタ間電圧をそれぞれ示して
いる。
In the figure, Ex is a sub-layer generated in the well layer 4B.
The band energy level, q is the charge amount of carriers (electrons), and φ is the conduction band bottom discontinuity value between the collector side potential barrier layer 2 and the base layer 3.
ction band discontinuit
y) and VB indicate the hemi-emitter voltage, respectively.

第4図(A)はベース・エミッタ間電圧■1が2 Ex
 / qより小さい(0か或いはOに近い)場合に於け
るエネルギ・バンド・ダイヤグラムである。
Figure 4 (A) shows the base-emitter voltage ■1 is 2 Ex
This is an energy band diagram when / is smaller than q (0 or close to O).

図示の状態では、コレクタ・エミッタ間に電圧VCEが
印加されているが、ベース・エミッタ間電圧VIIEが
殆どOであるので、エミッタ層5に於けるエネルギ・レ
ベルがウェル層4Bに於けるサブ・バンドのエネルギ・
レベルE8と相違している為、エミッタ層5に於ける電
子は超格子層4をトンネリングしてベース層3に抜ける
ことは不可能であり、従って、RHETには電流が流れ
ていない。
In the illustrated state, voltage VCE is applied between the collector and emitter, but since the base-emitter voltage VIIE is almost O, the energy level in the emitter layer 5 is lower than that in the well layer 4B. band energy
Since the level is different from E8, it is impossible for electrons in the emitter layer 5 to tunnel through the superlattice layer 4 and escape to the base layer 3, and therefore no current flows through the RHET.

第4図(B)はベース・エミッタ間電圧VIIEが2 
EX / qに殆ど等しい場合に於けるエネルギ・バン
ド・ダイヤグラムである。
Figure 4 (B) shows that the base-emitter voltage VIIE is 2.
This is an energy band diagram in the case where EX/q is almost equal.

図示の状態では、エミッタ層5に於けるエネルギ・レベ
ルがウェル層4Bに於けるサブ・バンドのエネルギ・レ
ベルExと整合する為、エミ・ツタ層5に於ける電子は
共鳴トンネリング効果で超格子層4を抜けてベース層3
に注入され、そこでポテンシャル・エネルギ(0,3(
eV))が運動エネルギに変換されるので、電子は所謂
ホットな状態となり、ベース層3をバリスティックに通
過してコレクタ層lに到達するものである。
In the illustrated state, since the energy level in the emitter layer 5 matches the energy level Ex of the sub-band in the well layer 4B, electrons in the emitter layer 5 enter the superlattice due to resonance tunneling effect. Pass through layer 4 to base layer 3
, where the potential energy (0,3(
Since the electrons (eV)) are converted into kinetic energy, the electrons are in a so-called hot state and ballistically pass through the base layer 3 to reach the collector layer l.

第4図(C)はベース・エミッタ間電圧VIEが2 E
x / qより大きい場合に於けるエネルギ・バンド・
ダイヤグラムである。
Figure 4 (C) shows that the base-emitter voltage VIE is 2 E
Energy band when x/q is larger than
This is a diagram.

図示の状態では、エミッタ層5に於けるエネルギ・レベ
ルがウェル層4Bに於けるサブ・バンドのエネルギ・レ
ベルEXより高くなってしまうので共鳴トンネリング効
果は発生せず、再びエミッタ層5からベース層3に抜け
る電子はなくなって電流は低減されるが、超格子層4に
於ける二つのバリヤ層4Aのうち、ベース層3に近い側
のバリヤ層4Aを適当に低くしておけば、電子はエミッ
タ層5に近い側のバリヤ層4Aを直接トンネリングする
ので、ある有限の値のコレクタ電流を流すことができる
In the illustrated state, the energy level in the emitter layer 5 is higher than the sub-band energy level EX in the well layer 4B, so no resonant tunneling effect occurs, and the energy level from the emitter layer 5 to the base layer is increased again. However, if the barrier layer 4A of the two barrier layers 4A in the superlattice layer 4, which is closer to the base layer 3, is appropriately lowered, the electrons will be reduced. Since the barrier layer 4A on the side closer to the emitter layer 5 is directly tunneled, a collector current of a certain finite value can flow.

第5図は前記説明したようなRHETに於けるベース・
エミッタ間電圧■、とコレクタ電流■。
Figure 5 shows the base structure in RHET as explained above.
Emitter voltage ■, and collector current ■.

との関係を説明する線図であり、第4図(A)乃至(C
)について説明したRHETの動作を集大成したものと
考えて良く、第3図及び第4図に於いて用いた記号と同
記号は同部分を示すか或いは同じ意味を持つものとする
4(A) to (C) are diagrams explaining the relationship between
), and the same symbols as those used in FIGS. 3 and 4 indicate the same parts or have the same meanings.

図では、横軸にベース・エミッタ間電圧■。を、また、
縦軸にコレクタ電流1cをそれぞれ採っである。
In the figure, the horizontal axis represents the base-emitter voltage ■. Also,
The collector current 1c is plotted on the vertical axis.

図から明らかなように、RHETに於ける■。As is clear from the figure, ■ in RHET.

対ICの関係は、所謂、N字形の微分負性抵抗特性を示
している。従って、この特性を利用すれば著しく高い周
波数で発振する発振器を容易に実現することができるも
のである。
The relationship with IC shows a so-called N-shaped differential negative resistance characteristic. Therefore, by utilizing this characteristic, it is possible to easily realize an oscillator that oscillates at a significantly high frequency.

前記したようなことから、本発明の発振器に於いては、
エミッタ層(例えばn+型GaAsエミッタ層5)とベ
ース層(例えばn+型GaAsベース層3)との間に形
成された超格子層(例えば超格子層4)からなるエミッ
タ側ポテンシャル・バリヤ層及びベース層とコレクタ層
(例えばn+型GaAsコレクタ層1)との間に形成さ
れたコレクタ側ポテンシャル・バリヤ層(例えばAI。
As described above, in the oscillator of the present invention,
An emitter-side potential barrier layer consisting of a superlattice layer (for example, superlattice layer 4) formed between an emitter layer (for example, n+ type GaAs emitter layer 5) and a base layer (for example, n+ type GaAs base layer 3), and a base layer. A collector-side potential barrier layer (eg, AI) formed between the layer and the collector layer (eg, n+ type GaAs collector layer 1).

Ga、−、Asコレクタ側ポテンシャル・バリヤ層2)
を有してなる半導体装置と、該半導体装置に於けるエミ
ッタ・ベース間に接続された共振回路(例えば共振回路
RC)と、該半導体装置のコレクタ側から導出され発振
電流が取り出される出力端(例えば出力端OT)とを備
えてなる構成を採っている。
Ga, -, As collector side potential barrier layer 2)
a resonant circuit (for example, a resonant circuit RC) connected between the emitter and base of the semiconductor device, and an output terminal (for example, a resonant circuit RC) derived from the collector side of the semiconductor device from which an oscillation current is extracted. For example, the configuration includes an output terminal (OT).

〔作用〕[Effect]

前記構成に依ると、発振能動素子である半導体装置に於
いて発生する共鳴トンネリング効果はテラ・ヘルツ帯の
発振に充分対処することが可能であり、また、発振回路
と出力回路とが分離されていることから、そのような高
い周波数の発振を安定に′m続することができる。
According to the above configuration, the resonant tunneling effect generated in the semiconductor device, which is an oscillation active element, can sufficiently cope with terahertz band oscillation, and the oscillation circuit and output circuit are separated. Therefore, such high frequency oscillation can be stably continued for a long time.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は本発明一実施例の要部回路説明図を表し、第2
図乃至第5図に於いて用いた記号と同記号は同部分を示
すか或いは同じ意味を持つものとする。
FIG. 1 shows an explanatory diagram of the main part circuit of one embodiment of the present invention, and FIG.
The same symbols as those used in FIGS. 5 to 5 indicate the same parts or have the same meanings.

図に於いて、Qは第3図乃至第5図について説明した発
振能動素子である半導体装置、RCは共振回路(タンク
回路)、RLは負荷抵抗、■1は半導体装置Qを動作領
域を微分負性抵抗領域に設定する為にベース・エミッタ
間に電圧を印加する電源、■2はコレクタ・エミッタ間
に電圧を印加する為の電源をそれぞれ示している。尚、
ベース・エミッタ間に印加される電圧はパルス電圧であ
っても良い。
In the figure, Q is the semiconductor device which is the oscillating active element explained in FIGS. 3 to 5, RC is the resonant circuit (tank circuit), RL is the load resistance, and 1 is the differential operation area of the semiconductor device Q. A power supply for applying a voltage between the base and emitter in order to set the negative resistance region, and 2 indicate a power supply for applying a voltage between the collector and emitter, respectively. still,
The voltage applied between the base and emitter may be a pulse voltage.

この発振器に於いては、前記したように、電源■2から
コレクタ・エミッタ間に電圧を印加しておき、電源v1
から印加する電圧で、半導体装置Qの動作領域を微分負
性抵抗領域に設定すると、エミッタ・ベース間で発振す
るので、発振電流を負荷抵抗RLが接続されているコレ
クタから出力端oTに取り出すようにする。
In this oscillator, as mentioned above, a voltage is applied between the collector and emitter from the power supply v1, and
When the operating region of the semiconductor device Q is set to the differential negative resistance region with a voltage applied from Make it.

この発振器では、ベース接地回路になっているので、入
力インピーダンスは小さいが出力インピーダンスは大で
あり、出力回路に影響されることなく発振条件が定まり
、更に、電圧増幅される利点がある。尚、前記したよう
に、ベース・エミッタ間にパルス電圧を印加すると、パ
ルスが入力された場合のみ発振が起こり、断続発振器と
して使用することができる。
Since this oscillator has a common base circuit, the input impedance is small but the output impedance is large, the oscillation conditions are determined without being affected by the output circuit, and there is an advantage that the voltage can be amplified. As described above, when a pulse voltage is applied between the base and emitter, oscillation occurs only when a pulse is input, and it can be used as an intermittent oscillator.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明に依る発振器では、エミッタ層とへ−ス層との間
に形成された超格子層からなるエミッタ側ポテンシャル
・バリヤ層並びにベース層とコレクタ層との間に形成さ
れたコレクタ側ポテンシャル・バリヤ層を有してなる半
導体装置と、該半導体装置に於けるエミッタ・ベース間
に接続された共振回路と、前記半導体装置のコレクタ層
から導出され発振電流が取り出される出力端とを備えて
なる構成を採っている。
In the oscillator according to the present invention, an emitter-side potential barrier layer consisting of a superlattice layer formed between an emitter layer and a base layer, and a collector-side potential barrier layer formed between a base layer and a collector layer. A configuration comprising a semiconductor device having a layer, a resonant circuit connected between an emitter and a base of the semiconductor device, and an output terminal from which an oscillation current is extracted from a collector layer of the semiconductor device. are taken.

この構成に依ると、RHETである半導体装置に於いて
は、その共鳴トンネリング効果がテラ・ヘルツ帯に於い
ても充分に維持され、また、3端子素子であることから
発振回路と出力回路とは完全に分離され、出力回路に影
響されることなく発振条件が定まり、テラ・ヘルツ帯の
ような高い周波数帯に於いても安定な発振を持続するこ
とができる。
According to this configuration, in a semiconductor device that is a RHET, its resonant tunneling effect is sufficiently maintained even in the terahertz band, and since it is a three-terminal device, the oscillation circuit and output circuit are It is completely separated, the oscillation conditions are determined without being affected by the output circuit, and stable oscillation can be maintained even in high frequency bands such as the terahertz band.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明一実施例の要部回路説明図、第2図は従
来例の要部回路説明図、第3図(A)並びに(B)はR
HETの要部切断側面図並びにエネルギ・バンド・ダイ
ヤグラム、第4図(A)乃至(C)はRHETの動作を
説明する為のエネルギ・バンド・ダイヤグラム、第5図
はRHETのベース・エミッタ間電圧対コレクタ電流の
関係を説明する為の線図をそれぞれ表している。 図に於いて、QはRHET、RCは共振回路、RLは負
荷抵抗、■、はRHETのベース・エミッタ間に電圧を
供給する為の電源、■2はRHETのコレクタ・エミッ
タ間に電圧を供給する為の電源、OTは出力端をそれぞ
れ示している。 特許出願人   富士通株式会社 代理人弁理士  相 谷 昭 司 代理人弁理士  渡 邊 弘 一 実施例の要部回路説明図 第1図 従来例の要部回路説明図 簗2図 RHETの動作を説明する為のエネルギ・パンみ・ダイ
ヤグラム第4図
Fig. 1 is an explanatory diagram of the main part circuit of one embodiment of the present invention, Fig. 2 is an explanatory diagram of the main part circuit of the conventional example, and Figs. 3 (A) and (B) are R
A cutaway side view of the main part of the HET and an energy band diagram. Figures 4 (A) to (C) are energy band diagrams for explaining the operation of the RHET. Figure 5 is the voltage between the base and emitter of the RHET. Each shows a diagram for explaining the relationship between the collector current and the collector current. In the figure, Q is the RHET, RC is the resonant circuit, RL is the load resistance, ■, is the power supply for supplying voltage between the base and emitter of the RHET, and ■2 is the voltage that is supplied between the collector and emitter of the RHET. The power supply and OT for this purpose each indicate the output end. Patent Applicant: Fujitsu Ltd. Representative Patent Attorney: Akira Aitani Representative Patent Attorney: Hiroshi Watanabe Figure 1: Explanatory diagram of the essential circuit of the embodiment Figure 1: Explanatory diagram of the essential circuit of the conventional example Figure 2: Explains the operation of RHET Energy panning diagram Figure 4 for

Claims (1)

【特許請求の範囲】 エミッタ層とベース層との間に形成された超格子層から
なるエミッタ側ポテンシャル・バリヤ層並びにベース層
とコレクタ層との間に形成されたコレクタ側ポテンシャ
ル・バリヤ層を有してなる半導体装置と、 該半導体装置に於けるエミッタ・ベース間に接続された
共振回路と、 前記半導体装置のコレクタ層から導出され発振電流が取
り出される出力端と を備えてなることを特徴とする発振器。
[Claims] It has an emitter-side potential barrier layer made of a superlattice layer formed between an emitter layer and a base layer, and a collector-side potential barrier layer formed between a base layer and a collector layer. A semiconductor device comprising: a resonant circuit connected between an emitter and a base of the semiconductor device; and an output terminal from which an oscillation current is extracted from a collector layer of the semiconductor device. oscillator.
JP22026185A 1985-10-04 1985-10-04 Oscillator Pending JPS6281802A (en)

Priority Applications (1)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008523752A (en) * 2004-12-14 2008-07-03 テレ フィルター ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Oscillator with two one-port surface wave resonators

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS597242A (en) * 1982-07-06 1984-01-14 Daido Steel Co Ltd Method and device for inspecting fitting of screw thread

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