JPS6280634A - Photometric device for camera - Google Patents

Photometric device for camera

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Publication number
JPS6280634A
JPS6280634A JP60220250A JP22025085A JPS6280634A JP S6280634 A JPS6280634 A JP S6280634A JP 60220250 A JP60220250 A JP 60220250A JP 22025085 A JP22025085 A JP 22025085A JP S6280634 A JPS6280634 A JP S6280634A
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JP
Japan
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light
mirror
lens
photoelectric conversion
photoelectric converting
Prior art date
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Pending
Application number
JP60220250A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuo Suda
康夫 須田
Akira Ishizaki
明 石崎
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Filing date
Publication date
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Priority to US06/913,259 priority patent/US4745426A/en
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Abstract

PURPOSE:To facilitate arranging a photoelectric converting means by inserting the photoelectric converting means to the optical path of the light which is made incident on the photoelectric converting part of a focus detector through a photographic lens and performing photometry for exposure control in accordance with the luminous flux going to the focus detector. CONSTITUTION:A vacancy 30 surrounded with a mirror box bottom part 29 is formed under a space 25 in a mirror box. A photometric device 31 for exposure control, a visual field mask 32, a field lens 33, a mirror 34, an image separating prism 35, a stop 37, a refocusing lens 38, a mirror 39, and a CCD sensor 40 as the photoelectric converting part of the focus detector are arranged there. The refocusing lens 38 is so arranged that it focuses the light passing the visual field mask 32 onto the CCD sensor 40.

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の利用分野) 本発明は、カメラに使用される露出制御用の測光装置の
改良に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Application of the Invention) The present invention relates to an improvement in a photometry device for controlling exposure used in a camera.

(発明の背景) 従来、−眼レフカメラの測光装置は、例えばファインダ
光学系のコンデンサレンズに形成したマイクロビームス
プリッタ等の光分割部材によって光電変換部へ光束を導
くもの、あるいは、ペンタプリズムの光束射出面に設け
られる2次結像レンズを介して光束な光電変換部に導く
ものなどが既に提案されている。
(Background of the Invention) Conventionally, photometry devices for eye-reflex cameras have been ones that guide a light beam to a photoelectric conversion unit using a light splitting member such as a micro beam splitter formed in a condenser lens of a finder optical system, or a light beam of a pentaprism. A method has already been proposed in which a light beam is guided to a photoelectric conversion section through a secondary imaging lens provided on an exit surface.

しかしながら、上記ようなものは、いづれもファインダ
視野での光量分布の阻害、ピント板上のスプリットイメ
ージプリズムによる測光感度分布の変化といった問題点
や、又、感度分布調整に多くの工数が必要であるといっ
た欠点を有していた。
However, all of the above methods have problems such as interference with the light intensity distribution in the viewfinder field of view, changes in the photometric sensitivity distribution due to the split image prism on the focusing plate, and a large amount of man-hours required to adjust the sensitivity distribution. It had such drawbacks.

第5,6及び7図は、従来技術の例を示す一眼レフカメ
ラの断面図であり、同部分は同符号によって示す。
5, 6, and 7 are cross-sectional views of a single-lens reflex camera showing examples of the prior art, and the same parts are designated by the same reference numerals.

第5図において、撮影レンズ1を透過した被写体光(光
軸を一点鎖線2で示す)は、ミラー3により上方に反射
され、ピント板4、光分割、部材5、コンデンサレンズ
6、ペンタプリズム7を経て接眼レンズ8に至り、前記
光分割部材5で分けられた光束は光電変換部9に入射さ
れる。10はフィルム面である。この方式においては、
接眼レンズ8より被写体を見たとき、光分割部材5によ
る光の分割のために、接眼レンズ8に至る光の一部が欠
けて見え、ファインダ中央部に輪郭のはつきりした陰影
が生ずるといった弊害がある。
In FIG. 5, the subject light (the optical axis is indicated by the dashed line 2) that has passed through the photographic lens 1 is reflected upward by the mirror 3, and is then reflected upward by the focusing plate 4, the light splitting member 5, the condenser lens 6, and the pentaprism 7. The light flux passes through the eyepiece lens 8 and is separated by the light splitting member 5, and enters the photoelectric conversion unit 9. 10 is a film surface. In this method,
When viewing the subject through the eyepiece 8, a portion of the light reaching the eyepiece 8 appears to be missing due to the division of light by the light splitting member 5, and a shadow with a sharp outline appears in the center of the viewfinder. There are negative effects.

第6図においては、撮影レンズ1を透過した被写体光が
ミラー3で反射され、ピント板4を経てペンタプリズム
7により方向転換され、接眼レンズ8に至っている。又
、ペンタプリズム7の光射出面に設けられる2次結像レ
ンズ11により、ピント板4の中央部が光電変換部9に
結像を与えるようにされる。この方式においては、第5
図図示例と異なり、ファインダ中央部に陰影が生ずるこ
とはないが、ピント板4の中央部を光電変換部9の中央
に結像させる調整手段のために多くの工数が必要となる
。さらに、ピント板4を通過した後の光束を測光するの
で、ピント板4のスプリットイメージプリズム4′等に
より、測光感度分布が影響されるといった欠点や、又、
ピント板4を自在に交換することができないといった問
題点がある。
In FIG. 6, the subject light transmitted through the photographic lens 1 is reflected by the mirror 3, passes through the focusing plate 4, is redirected by the pentaprism 7, and reaches the eyepiece lens 8. Furthermore, the secondary imaging lens 11 provided on the light exit surface of the pentaprism 7 causes the central portion of the focusing plate 4 to form an image on the photoelectric conversion unit 9 . In this method, the fifth
Unlike the illustrated example, a shadow does not appear in the center of the finder, but a large number of man-hours are required for the adjustment means for focusing the center of the focus plate 4 on the center of the photoelectric conversion unit 9. Furthermore, since the light flux after passing through the focusing plate 4 is photometered, there are drawbacks such as the photometric sensitivity distribution being affected by the split image prism 4' of the focusing plate 4, and
There is a problem that the focusing plate 4 cannot be freely replaced.

又、第7図は、ミラーボックスの底部に測光装置の光電
変換部12と焦点検出装置の光電変換部13とがそれぞ
れ配置された例を示すものであり、主ミラー14の中央
部には半透過部15が形成され、後方に光分割用ミラー
16が設けられる。光分割用ミラー16には、被写体側
の半透過面17とフィルム面10側の全反射面18とが
形成される。被写体からの光束は撮影レンズ1を通過し
赴後、主ミラー14によって2方向に分割され、一方の
光束はピント板4の方向に反射され、撮影視野の観察用
に供せられる。主ミラー14を透過した他方の光束の一
部は、被写体側の半透過面17で反射されて測光装置の
光電変換部12に入射され、残りの光束フ は、賃イルム面10側の全反射面18により反射されて
、焦点検出装置の光電変換部13に入射される。
Further, FIG. 7 shows an example in which the photoelectric conversion section 12 of the photometry device and the photoelectric conversion section 13 of the focus detection device are respectively arranged at the bottom of the mirror box, and a half-section is arranged at the center of the main mirror 14. A transmission section 15 is formed, and a light splitting mirror 16 is provided at the rear. The light splitting mirror 16 is formed with a semi-transmissive surface 17 on the subject side and a total reflection surface 18 on the film surface 10 side. After the light beam from the subject passes through the photographing lens 1, it is split into two directions by the main mirror 14, and one of the light beams is reflected toward the focusing plate 4 and is used for observing the field of view. A part of the other luminous flux that has passed through the main mirror 14 is reflected by the semi-transparent surface 17 on the subject side and enters the photoelectric conversion section 12 of the photometer, and the remaining luminous flux is totally reflected on the illumination surface 10 side. The light is reflected by the surface 18 and enters the photoelectric conversion unit 13 of the focus detection device.

測光装置の光電変換部12を上記のように配置すれば、
ファインダ内において、測光範囲だけが不自然に暗くな
るとか、或いはピント板4のスプリットイメージプリズ
ム4′によって測光感度分布が影響を受けるということ
はない。
If the photoelectric conversion section 12 of the photometric device is arranged as described above,
In the finder, only the photometric range does not become unnaturally dark, or the photometric sensitivity distribution is not affected by the split image prism 4' of the focusing plate 4.

しかしながら、ミラーボックスの底部に測光装置の光電
変換部12と焦点検出装置の光電変換部13との収納空
間を確保することは困難であり、さらに、光分割用ミラ
ー16に半透過面17と全反射面18とを形成するため
に、光分割用ミラー16が大型になるといった問題点が
ある。
However, it is difficult to secure storage space at the bottom of the mirror box for the photoelectric conversion unit 12 of the photometry device and the photoelectric conversion unit 13 of the focus detection device. There is a problem that the light splitting mirror 16 becomes large in size in order to form the reflecting surface 18.

(発明の目的) 本発明の目的は、上述した問題点を解決し、光電変換手
段の配置を容易に行うことができ、コストを安くし、し
かもファインダの見えを向上させると共に、測光感度分
布を安定させることができるカメラの測光装置を提供す
ることである。
(Objective of the Invention) The object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, to facilitate the arrangement of photoelectric conversion means, to reduce costs, to improve viewfinder visibility, and to improve photometric sensitivity distribution. It is an object of the present invention to provide a photometry device for a camera that can be stabilized.

(発明の特徴) 上記目的を達成するために、本発明は、撮影レンズを通
して焦点検出装置の光電変換部に入射する光の光路中に
、該光路の光の一部な光電変換し、残りの光を通過させ
る光電変換手段を挿入し、以て、焦点検出装置に向かう
光束から露出制御のための測光を行うようにしたことを
特徴とする。
(Features of the Invention) In order to achieve the above object, the present invention photoelectrically converts a part of the light in the optical path of the light that enters the photoelectric conversion section of the focus detection device through the photographic lens, and A feature of the present invention is that a photoelectric conversion means that allows light to pass through is inserted, thereby performing photometry for exposure control from the light beam directed toward the focus detection device.

(発明の実施例) 第1図は、本発明の一実施例を示す一眼レフカメラの断
面図である。
(Embodiment of the Invention) FIG. 1 is a sectional view of a single-lens reflex camera showing an embodiment of the invention.

ボデー19の上方には、ピント板20、ペンタプリズム
21、接眼レンズ22が配置され、ファインダ光学系が
構成される。
A focusing plate 20, a pentaprism 21, and an eyepiece lens 22 are arranged above the body 19 to constitute a finder optical system.

ボデー19の内部には、主ミラー23及びサブミラー2
4が退避可能に設置されるミラーボックス内空間25が
形成され、主ミラー23の中央には半透過部26が設け
られる。27はシャッタ、28はフィルム面を示す。
Inside the body 19, a main mirror 23 and a submirror 2 are provided.
A mirror box interior space 25 is formed in which the main mirror 23 is retractably installed, and a semi-transparent part 26 is provided at the center of the main mirror 23. 27 is a shutter, and 28 is a film surface.

ミラーボックス内空間25の下方には、ミラーボックス
底部29により囲まれる空所30が形成され、露出制御
用の測光装置31、視野マスク32、フィールドレンズ
33、ミラー34、像分離プリズム35、絞り37、再
結像レンズ38、ミラー39及び焦点検出装置の光電変
換部であるCCDセンサ40が配置される。
A space 30 surrounded by a mirror box bottom 29 is formed below the mirror box inner space 25, and includes a photometer 31 for exposure control, a field mask 32, a field lens 33, a mirror 34, an image separation prism 35, and an aperture 37. , a re-imaging lens 38, a mirror 39, and a CCD sensor 40 which is a photoelectric conversion section of a focus detection device.

測光装置31は、光電変換部(後述)の他に干渉フィル
タ及びガラス基板(後述)を含むもので、光電変換部が
撮影レンズ(図示セス) f)予定結僧面近傍に位置す
るように設置される。
The photometry device 31 includes an interference filter and a glass substrate (described later) in addition to a photoelectric conversion section (described later), and is installed so that the photoelectric conversion section is located near the photographing lens (shown in the figure). be done.

そして、再結像レンズ38は、前記視野マス2320通
過光をCCDセンサ40上に結像するように配置される
。CCDセンサ40は、例えば4om素、2ラインを有
するものが使用される。41は自動絞り地板、42は自
動絞りレバーである。一点鎖線で示される43.44及
び45は光軸である。
The re-imaging lens 38 is arranged to image the light passing through the field mass 2320 onto the CCD sensor 40. The CCD sensor 40 used has, for example, a 4 ohm element and two lines. 41 is an automatic aperture base plate, and 42 is an automatic aperture lever. 43, 44 and 45 indicated by dashed lines are optical axes.

尚、測光装置31については、第2図及び第3図により
後述する。
The photometric device 31 will be described later with reference to FIGS. 2 and 3.

第1図において、撮影レンズ(図示せず)を透過した光
(光軸43)は、主ミラー23によりファインダ光学系
への反射光(光軸44)と測光及び焦点検出系への透過
光(光軸45)とに分割される。前記の透過光はさらに
、サブミラー24により反射され、測光装置31に導か
れる。
In FIG. 1, light (optical axis 43) transmitted through a photographic lens (not shown) is reflected by the main mirror 23 to the finder optical system (optical axis 44) and transmitted light (optical axis 44) to the photometry and focus detection system. The optical axis 45) is divided into two parts. The transmitted light is further reflected by the sub-mirror 24 and guided to the photometry device 31.

測光装置31に導かれた光の一部は、後述する光電変換
部により露出制御用の電力に変換される。
A portion of the light guided to the photometry device 31 is converted into electric power for exposure control by a photoelectric conversion section, which will be described later.

又、視野マスク32を通過した光は、フィールドレンズ
33及びミラー34により像分離プリズム35に入射さ
れ、像分離プリズム35により二つの像に分離される。
Further, the light that has passed through the field mask 32 is incident on an image separation prism 35 by a field lens 33 and a mirror 34, and is separated into two images by the image separation prism 35.

像分離プリズム35には、異なった傾斜部35 a 、
 35 bが形成され、且つフィールドレンズ33によ
り、撮影レンズ(図示せず)の射出瞳上に投影されてい
るので、像分離プリズム35で分離された二つの像は、
撮影レンズの射出瞳上でそれぞれ異なる領域を通過した
光束が再結像レンズ38及びミラー39を介してCOD
センナ4oに入射される。したがって、フィールドレン
ズ33よりCCDセンサ40にいたる光学系は、公知の
位相差検出方式の焦点検出系として作用し、視野マスク
32の僧門の光量分布の位相差を検出することにより、
撮影レンズのデフォーカス量が演算される。
The image separation prism 35 has different inclined parts 35a,
35b is formed and projected onto the exit pupil of the photographic lens (not shown) by the field lens 33, the two images separated by the image separation prism 35 are
The light beams that have passed through different areas on the exit pupil of the photographic lens are converted to COD via the re-imaging lens 38 and the mirror 39.
The light is input to Senna 4o. Therefore, the optical system from the field lens 33 to the CCD sensor 40 acts as a focus detection system using a known phase difference detection method, and by detecting the phase difference in the light intensity distribution of the ostium of the field mask 32,
The amount of defocus of the photographic lens is calculated.

第2図は、測光装置31の正面図、第3図は同じく測光
装置31の詳細部を示す斜視図である。
FIG. 2 is a front view of the photometric device 31, and FIG. 3 is a perspective view showing details of the photometric device 31.

測光装置31は、ガラス基板46の表裏に、干渉フィル
タ47、光電変換部48が配、置されて構成される。破
線で示す49は、視野マスク32(第1図)の開口部で
ある。
The photometric device 31 is configured such that an interference filter 47 and a photoelectric conversion section 48 are disposed on the front and back sides of a glass substrate 46 . 49 indicated by a broken line is an opening of the field mask 32 (FIG. 1).

光電変換部48は、線状に配置されるアモルファスシリ
コン受光素子50.51,52、透光部53 、54 
、55及ヒアモルファスシリコン受光素子50.51.
52をそれぞれ接続する接続部56.57とから構成さ
れ、接続部56.57は、接続端子58.59により、
対数圧縮回路(後述)に接続される。
The photoelectric conversion section 48 includes linearly arranged amorphous silicon light receiving elements 50, 51, 52, and light transmitting sections 53, 54.
, 55 and hyamorphous silicon photodetector 50.51.
The connecting portions 56,57 are connected to each other by connecting terminals 58,59.
Connected to a logarithmic compression circuit (described later).

アモルファスシリコン受光素子50.51゜52は、線
状に形成されるアモルファスシリコン層60,61.6
2と、上下に積層配置される上部電極63.64.65
及び下部電極66゜67.68とから構成される。
The amorphous silicon light receiving elements 50, 51, 52 are made of amorphous silicon layers 60, 61, 6 formed in a linear shape.
2, and upper electrodes 63, 64, 65 arranged in a stacked manner above and below.
and a lower electrode 66°67.68.

第4図は、第2図及び第3図に示す光電変換部48と接
続される回路図の一例を示すものである。
FIG. 4 shows an example of a circuit diagram connected to the photoelectric conversion section 48 shown in FIGS. 2 and 3. FIG.

光電変換部48の接続端子58は、基準電圧を有する電
源vc及び演算増幅器69の非反転入力端と接続され、
接続端子59は反転入力端と接続される。前記演算増幅
器69の出力端と反転入力端との間には対数圧縮ダイオ
ード70をもつ帰還回路が接続され、対数圧縮ダイオー
ド70と演算増幅器69とにより対数圧縮回路が形成さ
れる。
A connection terminal 58 of the photoelectric conversion unit 48 is connected to a power supply VC having a reference voltage and a non-inverting input terminal of an operational amplifier 69,
Connection terminal 59 is connected to the inverting input terminal. A feedback circuit having a logarithmic compression diode 70 is connected between the output terminal and the inverting input terminal of the operational amplifier 69, and the logarithmic compression diode 70 and the operational amplifier 69 form a logarithmic compression circuit.

演算増幅器69の出力端は可変抵抗71を介して演算増
幅器720反転入力端と接続される。
The output terminal of operational amplifier 69 is connected to the inverting input terminal of operational amplifier 720 via variable resistor 71 .

前記反転入力端は、抵抗73をもつ帰還回路に接続され
ると共に、可変抵抗74を介してアース接続される。演
算増幅器72の非反転入力端には電源■が接続される。
The inverting input terminal is connected to a feedback circuit having a resistor 73 and to ground via a variable resistor 74. A power supply (2) is connected to the non-inverting input terminal of the operational amplifier 72.

演算増幅器72及び抵抗71.73.74が反転増幅回
路を構成する。
Operational amplifier 72 and resistors 71, 73, and 74 constitute an inverting amplifier circuit.

演算増幅器72の出力端は、フィルムの感度情報l5O
1撮影レンズの開放絞り情報Ayo及び開放絞り補正情
報Ay+2がそれぞれ入力する演算制御回路75に入力
可能に接続される。
The output terminal of the operational amplifier 72 receives film sensitivity information l5O.
It is connected so as to be inputtable to an arithmetic control circuit 75 into which the maximum aperture information Ayo and the maximum aperture correction information Ay+2 of each photographing lens are respectively input.

前記演算制御回路75は絞り制御装置76及びシャッタ
速度制御装置77とを制御するように接続される。
The arithmetic control circuit 75 is connected to control an aperture control device 76 and a shutter speed control device 77.

第1図、第2図、第3図及び第4図によって、以下、動
作を説明する。
The operation will be explained below with reference to FIGS. 1, 2, 3, and 4.

側光装置31を通過する光の一部がアモルファスシリコ
ン受光素子50.51.52によって受光されると、光
電変換されて電流が発生される。この発生電流は1、対
数圧縮回路により受光量の対数に比例する電流に対数圧
縮され、反転増幅回路により反転増幅されて、演算制御
回路75に入力される。
When a part of the light passing through the side light device 31 is received by the amorphous silicon light receiving element 50, 51, 52, it is photoelectrically converted and a current is generated. This generated current is logarithmically compressed by a logarithmic compression circuit to a current proportional to the logarithm of the amount of received light, inverted and amplified by an inverting amplifier circuit, and input to the arithmetic control circuit 75 .

演算制御回路75においては、前記反転増幅回路の情報
と、フィルムの感度情報ISO,開放絞り情報Avo及
び開放絞り補正情報Aycとにより、撮影レンズの絞り
値とシャッタ速度とが演算決定され、絞り制御装置76
及びシャッタ速度制御装置77とが制御される。
In the calculation control circuit 75, the aperture value and shutter speed of the photographic lens are calculated and determined based on the information from the inverting amplifier circuit, the film sensitivity information ISO, the maximum aperture information Avo, and the maximum aperture correction information Ayc, and the aperture control is performed. device 76
and a shutter speed control device 77 are controlled.

第1図、第2図及び第3図に示す実施例においては、ポ
デー19のミラーボックス底部29により形成される空
所3oに焦点検出装置の光学系を収容し、サブミラー2
4から前記焦点検出装置の光学系へ導かれる光路中に、
ガラス基板46、感度補正用干渉フィルタ47及び光電
変換部48により一体に構成される測光装置31を設け
るようにしたので、測光装置31用の干渉フィルタを新
たに設ける必要がない。
In the embodiments shown in FIGS. 1, 2, and 3, the optical system of the focus detection device is housed in the space 3o formed by the mirror box bottom 29 of the podium 19, and the submirror 2
In the optical path guided from 4 to the optical system of the focus detection device,
Since the photometric device 31 that is integrated with the glass substrate 46, the sensitivity correction interference filter 47, and the photoelectric conversion section 48 is provided, there is no need to newly provide an interference filter for the photometric device 31.

そして、測光装置31用の2次結像レンズや光分割部材
といった測光用結像光学系が必要でなく、さらに、サブ
ミラー24を測光と焦点検出用とに共用でき、コストを
安くすることができる。
Further, there is no need for a photometric imaging optical system such as a secondary imaging lens or a light splitting member for the photometric device 31, and furthermore, the submirror 24 can be used for both photometry and focus detection, making it possible to reduce costs. .

又、前記の2次結像レンズ又は光分割部材の省略は、測
光用結像光学系と測光用受光素子との位置合わせも不要
となるので、従来多(の工数を必要とする測光感度分布
の調整手段をほとんどなくすことができる。
In addition, the omission of the secondary imaging lens or light splitting member eliminates the need for alignment between the photometric imaging optical system and the photometric light receiving element, so the photometric sensitivity distribution, which conventionally requires a large number of man-hours, can be improved. The adjustment means can be almost eliminated.

そして、主ミラー23により撮影レンズからの光束が分
割されるので、ファインダ視野の部分的な光量落ちが生
じることがな(、又、スプリットイメージプリズムが測
光感度分布に全く影響することがないので、ピント板2
0を自由 (に交換することができる。
Since the light beam from the photographing lens is divided by the main mirror 23, there is no possibility of partial drop in light intensity in the viewfinder field of view (also, since the split image prism has no effect on the photometric sensitivity distribution, Focus board 2
0 can be freely exchanged for (.

さらに、又、ガラス基板46の光射出側に線状のアモル
ファスシリコン受光素子50.51゜52をすだれ状に
配置し、光入射側に測光及び焦点検出用の干渉フィルタ
47を設け、分光感度が補正されるようにしたので、単
一のガラス基板46が使用でき、又、測光装置31の受
光面積を大きくして効率を良くすることができる。
Furthermore, linear amorphous silicon light receiving elements 50, 51, 52 are arranged in a blind pattern on the light output side of the glass substrate 46, and an interference filter 47 for photometry and focus detection is provided on the light input side, so that the spectral sensitivity can be improved. Since the correction is made, a single glass substrate 46 can be used, and the light receiving area of the photometric device 31 can be increased to improve efficiency.

(発明と実施例の対応) 光電変換部48が本発明の光電変換手段に相当し、CC
Dセンサ40が焦点検出装置の光電 4変換部に相当す
る。
(Correspondence between the invention and the embodiments) The photoelectric conversion section 48 corresponds to the photoelectric conversion means of the present invention, and the CC
The D sensor 40 corresponds to the photoelectric 4 converter of the focus detection device.

(変形例) 図示実施例においては、線状のアモルファスシリコン受
光素子50.51.52を使用したが、他の材質による
受光素子を使用してもよく、又、線状ではなく、粒状の
受光素子を点在させるようにしてもよい。又、測光装置
31以外の構造も図示実施例には限定されない。
(Modification) In the illustrated embodiment, a linear amorphous silicon light receiving element 50, 51, 52 is used, but a light receiving element made of other materials may be used. The elements may be scattered. Further, structures other than the photometric device 31 are not limited to the illustrated embodiment.

:発明の効果) 以上説明したように、本発明によれば、撮影レンズを通
して焦点検出装置の光電変換部に入射する光の光路中に
、該光路の光の一部を光電変換し、残りめ光を通過させ
る光電変換手段を挿入し、以て、焦点検出装置に向かう
光束から露出制御のための測光を行うようにしたから、
光電変換手段の配置を容易に行うことができ、コストを
安くし、しかもファインダの見えを向上させると共に、
測光感度分布を安定させることができる。
(Effects of the Invention) As described above, according to the present invention, in the optical path of the light that enters the photoelectric conversion section of the focus detection device through the photographic lens, a part of the light in the optical path is photoelectrically converted, and the remaining part is converted into an optical path. By inserting a photoelectric conversion means that allows light to pass through, photometry for exposure control is performed from the light beam directed toward the focus detection device.
The photoelectric conversion means can be easily arranged, the cost can be reduced, and the visibility of the finder can be improved.
The photometric sensitivity distribution can be stabilized.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例を備えた一眼レフカメラの断
面図、第2図は本発明の一実施例を示す正面図、第3図
は本発明の一実施例の詳細を示す斜視図、第4図は本発
明に係る光電変換部に接続される回路の回路図、第5図
は従来形の一例を示す断面図、第6図は従来形の他の例
を示す断面図、第7図は従来形の別の例を示す断面図で
ある。 19・・・ボデー、23・・・主ミラー、24・・・丈
プミラー、25・・・ミラーボックス内空間、26・・
・半透過部、29・・・ミラーボックス底部、30・・
・空所、31・・・測光装置、32・・・視野マスク、
33・・・フィールドレンズ、34・・・ミラー、35
・−・像分離プリズム、38・・・再結像レンズ、39
・・−ミラー、40・・・CCDセンサ、43゜44.
45・・・光軸、46−・・ガラス基板、47・・・干
渉フィルタ、48・・・光電変換部、49・・・開口部
、50,51.52−・・アモルファスシリコン受光素
子、53,54.55・・・透光部、58.59・・・
接続端子、60,61.62・・・アモルファスシリコ
ン層、63,64.65・・・上部電極、66.67.
68・・・下部電極。 特許出願人   キャノン株式会社 代 埋 人    中   村    稔第1図 第4図 150AVOAV11゜ 第5図 第6図
Fig. 1 is a sectional view of a single-lens reflex camera equipped with an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a front view showing an embodiment of the invention, and Fig. 3 is a perspective view showing details of an embodiment of the invention. 4 is a circuit diagram of a circuit connected to the photoelectric conversion unit according to the present invention, FIG. 5 is a sectional view showing an example of a conventional type, and FIG. 6 is a sectional view showing another example of the conventional type. FIG. 7 is a sectional view showing another example of the conventional type. 19...Body, 23...Main mirror, 24...Length mirror, 25...Space inside mirror box, 26...
・Semi-transparent part, 29...Mirror box bottom, 30...
・Vacancy, 31...Photometric device, 32...Field mask,
33...Field lens, 34...Mirror, 35
---Image separation prism, 38...Re-imaging lens, 39
...-Mirror, 40...CCD sensor, 43°44.
45... Optical axis, 46-... Glass substrate, 47... Interference filter, 48... Photoelectric conversion unit, 49... Opening, 50, 51.52-... Amorphous silicon light receiving element, 53 , 54.55...transparent part, 58.59...
Connection terminal, 60, 61. 62... Amorphous silicon layer, 63, 64. 65... Upper electrode, 66.67.
68...lower electrode. Patent applicant: Minoru Nakamura, Canon Co., Ltd. Figure 1 Figure 4 150 AVOAV 11° Figure 5 Figure 6

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1、撮影レンズの予定結像面近傍に配置された光電変換
手段を有するカメラの測光装置において、撮影レンズを
通して焦点検出装置の光電変換部に入射する光の光路中
に、該光路の光の一部を光電変換し、残りの光を通過さ
せる前記光電変換手段を挿入したことを特徴とするカメ
ラの測光装置。
1. In a camera photometry device having a photoelectric conversion means arranged near the expected image forming plane of the photographic lens, part of the light in the optical path that enters the photoelectric conversion section of the focus detection device through the photographic lens is 1. A photometry device for a camera, characterized in that said photoelectric conversion means is inserted for photoelectrically converting a portion of the light and passing the remaining light.
JP60220250A 1985-10-04 1985-10-04 Photometric device for camera Pending JPS6280634A (en)

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US06/913,259 US4745426A (en) 1985-10-04 1986-09-30 Light measuring device for a camera

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01147438A (en) * 1987-12-03 1989-06-09 Canon Inc Light receiving device for camera

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01147438A (en) * 1987-12-03 1989-06-09 Canon Inc Light receiving device for camera

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