JPS6271633U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6271633U JPS6271633U JP1985163395U JP16339585U JPS6271633U JP S6271633 U JPS6271633 U JP S6271633U JP 1985163395 U JP1985163395 U JP 1985163395U JP 16339585 U JP16339585 U JP 16339585U JP S6271633 U JPS6271633 U JP S6271633U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- photomask
- metal
- thin film
- semiconductor element
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
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- 239000012780 transparent material Substances 0.000 claims 1
Description
第１図は、本考案の一実施例を説明するための
フオトマスクの平面図であり、第２図は同底面図
である。 尚、図において、１……フオトマスク基板、２
……半導体素子パターン、３……表裏判定用半導
体素子パターンである。
フオトマスクの平面図であり、第２図は同底面図
である。 尚、図において、１……フオトマスク基板、２
……半導体素子パターン、３……表裏判定用半導
体素子パターンである。
Claims (1)
- ソーダガラスあるいは石英等の透明な材料を平
板状に加工した基板の表面に、金属や金属酸化物
で形成された光を遮断するための薄膜パターンに
付した半導体装置製造用のフオトマスクにおいて
、半導体素子パターンの非対称領域に表裏決定用
半導体素子パターンを有することを特徴とするフ
オトマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985163395U JPS6271633U (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985163395U JPS6271633U (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6271633U true JPS6271633U (ja) | 1987-05-07 |
Family
ID=31091552
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985163395U Pending JPS6271633U (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6271633U (ja) |
-
1985
- 1985-10-24 JP JP1985163395U patent/JPS6271633U/ja active Pending