JPS6263930A - Image forming material - Google Patents

Image forming material

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Publication number
JPS6263930A
JPS6263930A JP20478885A JP20478885A JPS6263930A JP S6263930 A JPS6263930 A JP S6263930A JP 20478885 A JP20478885 A JP 20478885A JP 20478885 A JP20478885 A JP 20478885A JP S6263930 A JPS6263930 A JP S6263930A
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JP
Japan
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photosensitive resin
layer
resin layer
silica particles
image forming
Prior art date
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Pending
Application number
JP20478885A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Fumiaki Shinozaki
文明 篠崎
Kazuo Suzuki
一夫 鈴木
Tamotsu Suzuki
保 鈴木
Mikio Totsuka
三樹雄 戸塚
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6263930A publication Critical patent/JPS6263930A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials

Abstract

PURPOSE:To obtain an image forming material which prevents the adhesion between a base surface or back layer surface and the surface of a photosensitive resin layer or the surface of a protective layer and the reticulation by incorporating silica particles subjected to a hydrophobic surface treatment into the uppermost layer on the photosensitive resin layer side. CONSTITUTION:This image forming material is formed by incorporating the silica particles subjected to the hydrophobic surface treatment into the uppermost layer on the photosensitive resin layer side. The average particle sizes of the silica particles are preferably about 0.01-10mu, more particularly preferably about 0.01-1mu. The hydrophobic silica particles are obtd. by binding a compd. having a hydrophobic group by primary bonding or secondary bonding such as Van der Waals force to the surface of silica particles so as to have the hydrophobic characteristic. The amt. of the silica particles to be added is more preferably about 10-30wt% by the weight of the binder in the uppermost layer.

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は印刷版、返し用フィルム、カラーテストプリン
トおよびドライフィルムレジストなどに用いられるネガ
型またはポジ型画像形成材料に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Field of Industrial Application" The present invention relates to negative or positive image forming materials used for printing plates, return films, color test prints, dry film resists, and the like.

「従来の従術」 従来より、印刷、写真および金属等の微細加工など種々
の分野で使用されている画像形成材料は、基本的に支持
体(転写型の画像形成材料においては仮支持体とも称さ
れる)と、その上に設けられたフォトポリマーからなる
感光性樹脂層とから実質的に構成されている。
``Conventional techniques'' Conventionally, image forming materials used in various fields such as printing, photography, and microfabrication of metals, etc., are basically supported (or temporary supports in transfer-type image forming materials). It consists essentially of a photosensitive resin layer made of a photopolymer provided thereon.

たとえば、このような構成を有する転写型の画像形成材
料(感光性転写シート)は色校正に用いられる。色校正
用のカラープルーフィングシートは、各色版用の分解網
フィルムを通して画像形成材料を露光、現像して感光性
樹脂層上に分解画像を形成し、しかるのちこの分解画像
を任意の支持体(受像面)上に転写することにより得る
ことができる。また、多色画像は、上記支持体上に更に
別色の分解画像を転写する工程を繰シ返すことにより得
られる。
For example, a transfer type image forming material (photosensitive transfer sheet) having such a configuration is used for color proofing. Color proofing sheets for color proofing are made by exposing and developing an image forming material through a separation mesh film for each color plate to form a separation image on a photosensitive resin layer, and then applying this separation image to an arbitrary support ( image-receiving surface). Moreover, a multicolor image can be obtained by repeating the process of transferring further separated images of different colors onto the above-mentioned support.

更に、上記転写工程を簡略化するために、支持体と感光
性樹脂層との間に剥離層が設けられた画像形成材料本知
られている(特公昭4tタ一1q号、特開昭4t7−≠
/130号公報等参照)。
Furthermore, in order to simplify the transfer process, image forming materials are known in which a release layer is provided between the support and the photosensitive resin layer (Japanese Patent Publication No. 4T No. 1Q, Japanese Patent Publication No. 4T No. 7) −≠
/Refer to Publication No. 130, etc.).

いずれにしても、画像形成材料は実質的に支持体と感光
性樹脂層とからなシ、必要に応じてこの感光性樹脂層上
には保獲層が設けられるが、その製造は常法により行な
われる。すなわち、長尺シート状のポリエチレンテレフ
タレート等からなる支持体上に、感光性樹脂層用の塗布
液(以下、感光源と略す)を塗布した後、一定の温度で
加熱乾燥させ(乾燥工程)、そのまま連続的に巻き取る
(巻き取り工程)ことにより製造される。保護層が設け
られる場合には、一旦巻き取った後に保−要用の塗布液
を感光性樹脂層上に塗布、乾燥することにより製造され
る。さらに、巻き取られた画像形成材料は所望の規格寸
法に裁断する等の後処理が施され(加工工程)、製品化
される。
In any case, the image-forming material essentially consists of a support and a photosensitive resin layer, and if necessary, a retention layer is provided on the photosensitive resin layer, but it is manufactured by a conventional method. It is done. That is, after coating a coating solution for a photosensitive resin layer (hereinafter abbreviated as photosensitive source) on a long sheet-shaped support made of polyethylene terephthalate or the like, it is heated and dried at a constant temperature (drying step), It is manufactured by continuous winding (winding process). When a protective layer is provided, it is manufactured by once winding up, applying a coating solution for preservation onto the photosensitive resin layer, and drying it. Further, the wound image forming material is subjected to post-processing such as cutting into a desired standard size (processing step), and is manufactured into a product.

しかしながら、このような画像形成材料及び印刷版、返
し用フィルム、ドライフィルムレジスト等の画像形成材
料の支持体表面、あるいはその表面に設けたバック層面
と感光性樹脂層表面、あるいは保護層面との接着が生じ
易いとの欠点を有していた。
However, adhesion between the surface of the support of such image forming materials, printing plates, return films, dry film resists, etc., or the back layer surface provided on the surface and the surface of the photosensitive resin layer, or the surface of the protective layer is difficult. It has the disadvantage that it tends to occur.

特に光重合系感光性樹脂層は、基本的に光重合性モノマ
ー、光重合開始剤および有機重合結合剤から構成され、
七ツマ−は有機重合結合剤に対して一種の可塑剤のよう
な作用をするために、光重合系感光性樹脂層は若干軟質
状態で形成される。
In particular, the photopolymerizable photosensitive resin layer is basically composed of a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, and an organic polymerization binder,
Since the nitrate acts like a kind of plasticizer for the organic polymeric binder, the photopolymerizable photosensitive resin layer is formed in a slightly soft state.

このことは画像形成を良好にするためには必要であるが
、反面上記のような接着現象を生じ易くするものである
Although this is necessary to improve image formation, it also makes it easier for the above-mentioned adhesion phenomenon to occur.

更に特に保護層が設けられる場合、製造後数日間以上経
時すると表面にちりめん状のしわ、いわするレチキュレ
ーション現象を生じる事がある。
Furthermore, especially when a protective layer is provided, crepe-like wrinkles, a so-called reticulation phenomenon, may occur on the surface after several days or more have passed after manufacture.

これらの欠点を解消する方法として、粗いマット剤を感
光性樹脂層及び/あるいは保護層に粗いマット剤を添加
する方法が知られている。しかしながら、この方法では
接着を完全に防止できるほどのマット剤を添加すると、
ヘイズがかかり良好な画質が得られないという問題を生
じたり、レチキュレーション現象には十分な効果が得ら
れなかった。
As a method for solving these drawbacks, a method is known in which a rough matting agent is added to the photosensitive resin layer and/or the protective layer. However, with this method, if enough matting agent is added to completely prevent adhesion,
Problems arise in that good image quality cannot be obtained due to haze, and a sufficient effect on reticulation phenomenon cannot be obtained.

「発明が解決しようとする問題点」 本発明は、支持体表面あるいはパック層面と感光性樹脂
層表面あるいは保積層面との接着、及びレチキュレーシ
ョンが防止された画像形成材料を提供することをその目
的とするものである。
"Problems to be Solved by the Invention" The present invention aims to provide an image forming material in which adhesion and reticulation between the support surface or pack layer surface and the photosensitive resin layer surface or retaining layer surface are prevented. This is the purpose.

「問題点を解決するための手段」 本発明は、支持体とこの上に設けられた感光性樹脂層と
を有する画像形成材料において、感光性樹脂層側の最上
層に疎水性表面処理を施したシリカ粒子を有合せしめる
事を特徴とする画像形成材料により達成する事が出来る
"Means for Solving the Problems" The present invention provides an image forming material having a support and a photosensitive resin layer provided thereon, in which the uppermost layer on the side of the photosensitive resin layer is subjected to hydrophobic surface treatment. This can be achieved by using an image forming material characterized by containing silica particles.

本発明の代表的画像形成材料tま、パック/if、支持
体、感光性樹脂層及び保護層がこの順に設けられてなる
構成を有する。ただ12、本発明の画像形成材料は、上
記の構成に限定されるものではなく、たとえばバック層
及び/あるいは保護層が悪くてもよく、あるいは支持体
と光重合系感光性樹脂との間には、各種の中間層が設け
られた構成であっても良い。
A typical image forming material of the present invention has a structure in which a pack/if, a support, a photosensitive resin layer, and a protective layer are provided in this order. However, the image forming material of the present invention is not limited to the above-mentioned configuration; for example, the back layer and/or protective layer may be bad, or there may be a gap between the support and the photopolymerizable photosensitive resin. The structure may include various intermediate layers.

上記のような構成を有する本発明の画像形成材料は、た
とえば以下に述べるような方法により製造することがで
きる。
The image forming material of the present invention having the above structure can be produced, for example, by the method described below.

支持体の材料としては、化学的および熱的に安定であっ
て、かつ撓曲性を有する物質が用いられる。必要に応じ
て化学光線透過性であってもよい。
As the material for the support, a substance that is chemically and thermally stable and has flexibility is used. It may be transparent to actinic light if necessary.

具体的には、たとえば、ポリエチレン、ポリプロピレン
等のポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、j− ポリ塩化ビニリデン等のポリハロゲン化ビニル類、セル
ロースアセテート、ニトロセルロース、セロハン等のセ
ルロース誘導体類、ポリアミド類、ポリスチレン、ポリ
カーボネート、ポリイミド類が挙げられる。これらの中
で特に好ましいものは、寸法安定性および透明性におい
て優れた二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム
である。
Specifically, for example, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinyl halides such as j-polyvinylidene chloride, cellulose derivatives such as cellulose acetate, nitrocellulose, and cellophane, polyamides, polystyrene, Examples include polycarbonate and polyimides. Particularly preferred among these is biaxially oriented polyethylene terephthalate film, which is excellent in dimensional stability and transparency.

この支持体の光重合系感光性樹脂層が設けられる側と反
対側の表面には、バック層を設ける事が出来る。バック
層の例としては、マット剤がアセチルセルロース中に分
散状態で含有支持されてなる層がある。アセチルセルロ
ースとしては、たとえば、モノアセチルセルロース、ジ
アセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチ
ルブチルセルロースを挙げることができる。
A backing layer can be provided on the surface of this support opposite to the side on which the photopolymerizable photosensitive resin layer is provided. An example of the back layer is a layer in which a matting agent is contained and supported in a dispersed state in acetyl cellulose. Examples of acetylcellulose include monoacetylcellulose, diacetylcellulose, triacetylcellulose, and acetylbutylcellulose.

アセチルセルロースは、特にその酢化度(アセチル化度
)が≠0−40%の範囲にあるのが好ましく、かつ平均
重合度が10−1100の範囲にあるのが好ましい。
The degree of acetylation (degree of acetylation) of acetylcellulose is preferably in the range of ≠0-40%, and the average degree of polymerization is preferably in the range of 10-1100.

マット剤としては、たとえば、二酸化ケイ素−乙一 (コロイダルシリカも含む)、酸化アルミニウム、ケイ
酸アルミニウム、水酸化アルミニウム、二酸化チタン、
炭酸カルシウム、酸化亜鉛等の微粒子状の無機化合物、
および架橋ポリスチレンなどの溶剤に不溶の有機重合体
で微粒子状のものを挙げることができる。これらのマッ
ト剤の平均粒径はバック層の層厚にもよっても異なるが
、θ、00j−10μmの範囲にあるのが好ましい。上
記マット剤は単独で使用してもよいし、あるいは二種以
上を併用してもよい。
Examples of matting agents include silicon dioxide-Otsuichi (including colloidal silica), aluminum oxide, aluminum silicate, aluminum hydroxide, titanium dioxide,
Fine particulate inorganic compounds such as calcium carbonate and zinc oxide,
and organic polymers insoluble in solvents such as crosslinked polystyrene in the form of fine particles. The average particle size of these matting agents varies depending on the thickness of the backing layer, but is preferably in the range θ, 00j-10 μm. The above matting agents may be used alone or in combination of two or more.

アセチルセルロースとマット剤との比率は、アセチルセ
ルロースに対するマット剤の含有比率が/〜to重量係
の範囲にあるように調整するのが好ましい。マット剤の
含有比率がこの範囲を越えた場合にはバック層と支持体
との接着性等全考慮した場合、充分でない場合もある。
The ratio of acetylcellulose to the matting agent is preferably adjusted so that the content ratio of the matting agent to acetylcellulose is in the range of / to weight ratio. If the content ratio of the matting agent exceeds this range, it may not be sufficient when taking into consideration all aspects such as the adhesiveness between the back layer and the support.

バック層の形成においては、先ず上記アセチルセルロー
スとマット剤とを適当な溶剤を用いて混合し、塗布液を
調製する。この場合の溶剤としては、たとえば、アセト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケト
ン類:酢酸メチル、酢酸エチルなどの酢酸エステル類;
メチルセロソルブ、ジオキサン、テトラヒドロフランな
どのエーテル類;および塩化メチレン、ジアセトンアル
コールを挙げることができる。これらのものは単独で使
用してもよいし、あるいは二種以上の混合溶媒として用
いてもよい。
In forming the back layer, first, the acetyl cellulose and a matting agent are mixed using a suitable solvent to prepare a coating solution. In this case, solvents include, for example, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone; acetate esters such as methyl acetate and ethyl acetate;
Ethers such as methyl cellosolve, dioxane, and tetrahydrofuran; and methylene chloride and diacetone alcohol can be mentioned. These solvents may be used alone or as a mixed solvent of two or more.

バック層は上記塗布液を通常の方法を用いて支持体上に
塗布、乾燥することにより形成することができる。
The back layer can be formed by applying the above coating solution onto a support using a conventional method and drying it.

なお、塗布液には必要に応じて、ポリエチレンテレフタ
レート(支持体)との密着性を高める目的でレゾルシン
などのエツチング剤やアンチハレーション剤を添加して
もよい。
Incidentally, an etching agent such as resorcinol or an antihalation agent may be added to the coating liquid, if necessary, for the purpose of increasing the adhesion to polyethylene terephthalate (support).

バック層の層厚は一般にo、oi〜jμmの範囲にある
のが好ましく、特に好ましくは0.7〜0.1μmの範
囲である。
The thickness of the back layer is generally preferably in the range of o, oi to j .mu.m, particularly preferably in the range of 0.7 to 0.1 .mu.m.

次に、支持体のもう一方の側には感光性樹脂層が設けら
れる。
Next, a photosensitive resin layer is provided on the other side of the support.

感光性樹脂層が光重合系感光性樹脂層の場合は、通常は
、常圧で1ro0c以上の沸点を有し、少なくとも一個
の付加重合によって光重合体を形成し得る多官能ビニル
モノマーまたはビニリデン化合物などのモノマー化合物
、有機重合体結合剤、および活性光線によって活性化さ
れる光重合開始剤からなり、必要に応じて熱重合禁止剤
が添加される。
When the photosensitive resin layer is a photopolymerizable photosensitive resin layer, it is usually a polyfunctional vinyl monomer or vinylidene compound that has a boiling point of 1ro0c or more at normal pressure and can form a photopolymer by addition polymerization. It consists of a monomer compound such as, an organic polymer binder, and a photopolymerization initiator activated by actinic rays, and a thermal polymerization inhibitor is added as necessary.

光重合系感光性樹脂層の形成に使用できるビニルモノマ
ー又はビニリデン化合物は、たとえば、ポリオールの不
飽和エステル、特にアクリル酸又はメタクリル酸のエス
テルが好ましい。具体例としては、エチレングリコール
ジアクリレート、グリセリントリアクリレート、ポリア
クリレート、エチレングリコールジメタクリレート、/
、3−プロノンジオールジメタクリレート、ポリエチレ
ングリコールジメタクリレー)、/、、2.44−ブタ
ントリオ−ルートリメタクリレート、トリメチロールエ
タントリアクリレート、ペンタエリトリットジメタクリ
レート、ペンタエリトリットトリメタクリレート、ペン
タエリトリットテトラメタクリレート、ペンタエリトリ
ットジアクリレート、ペンタエリトリットトリアクリレ
ート、ペンタエリトリットテトラアクリレート、ジペン
タエリトリット−ポリアクリレート、/、J−プロノ髪
ンジオールージアクリレー)、/、j−ペンタンジオ−
ルージメタクリレート1.200〜ll00の範囲の分
子量を有するポリエチレングリコールのビスアクリレー
ト、ビスメタクリレート及び類似の化合物を挙げること
ができる。
The vinyl monomer or vinylidene compound that can be used to form the photopolymerizable photosensitive resin layer is preferably, for example, an unsaturated ester of polyol, particularly an ester of acrylic acid or methacrylic acid. Specific examples include ethylene glycol diacrylate, glycerin triacrylate, polyacrylate, ethylene glycol dimethacrylate,
, 3-prononediol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate), /, , 2.44-butane trio-root trimethacrylate, trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol Tetra methacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol-polyacrylate, /, J-pronohair dioludiacrylate), /, j-pentanedio-
Mention may be made of bisacrylates, bismethacrylates and similar compounds of polyethylene glycol with a molecular weight in the range from 1.200 to 1100.

またモノマー化合物としては、不飽和アミドを用いるこ
ともでき、その例としてはα、ω−ジアミンを有するア
クリル酸及びメタクリル酸の不飽和アミド及びエチレン
ビスメタクリルアミドを挙げることができる。不飽和ア
ミドのアルキレン鎖は炭素原子によって開かれていても
よい。ただし、光重合性上ツマ−はこれらの化合物に限
定されるものではない。
As the monomer compound, unsaturated amides can also be used, examples of which include unsaturated amides of acrylic acid and methacrylic acid with α,ω-diamines and ethylene bismethacrylamide. The alkylene chain of unsaturated amides may be open by carbon atoms. However, the photopolymerizable polymer is not limited to these compounds.

光重合開始剤としては、たとえば、ベンゾフェノン、ミ
ヒラーケトン(4t、+’−ビス(ジメチルアミノ)ベ
ンゾフェノン〕、≠、4I′−ビス(ジメチルアミノ)
ベンゾフェノン、グーメトキシ=t′−ジメチルアミノ
ベンゾフェノン、コーエチルアントラキノン、フエナン
トラギノン、及びその他の芳香族ケトンのような芳香族
ケトン類;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインエチルエーテル及びベンゾインフェニルエーテ
ルのようなベンゾインエーテル類:メチルベンゾイン、
エチルベンゾイン及びその他のベンゾイア類i fx 
ラUVc2− (o−クロロフェニル)−り。
Examples of the photopolymerization initiator include benzophenone, Michler's ketone (4t, +'-bis(dimethylamino)benzophenone), ≠, 4I'-bis(dimethylamino)
Aromatic ketones such as benzophenone, goomethoxy-t'-dimethylaminobenzophenone, coethyl anthraquinone, phenantraginone, and other aromatic ketones; such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin phenyl ether. Benzoin ethers: methylbenzoin,
Ethylbenzoin and other benzoias i fx
LaUVc2- (o-chlorophenyl)-ri.

j−ジフェニルイミダゾールニ着体、λ−(0−クロロ
フェニル) −4’、 −t −(m−メトキシフェニ
ル)イミダゾールニを体、 −2−(o −フルオロフ
ェニル)−≠1.t−ジフェニルイミタソール二量体1
λ−(0−メトキシフェニルl−4,j−ジフェニルイ
ミダゾールニ量体、J−(p−、メトキシフェニル)−
1jl、t−ジフェニルイミダゾールニ量体、コ、弘−
ジ(p−メトキシフェニル)−1−フェニルイミダゾー
ルニ量体、コー(コ。
j-diphenylimidazole, λ-(0-chlorophenyl)-4', -t-(m-methoxyphenyl)imidazole, -2-(o-fluorophenyl)-≠1. t-diphenylimitasol dimer 1
λ-(0-methoxyphenyl l-4,j-diphenylimidazole dimer, J-(p-, methoxyphenyl)-
1jl, t-diphenylimidazole dimer, Ko, Hiro-
Di(p-methoxyphenyl)-1-phenylimidazole dimer, Co(co).

グージメトキシフェニル)−4t、、t−ジフェニルイ
ミダゾールニ量体、コー(p−メチルメルカプトフェニ
ル)−p、t−ジフェニルイミタソール二量体、及び米
国特許第3.弘77、/に夕号、英国特許第1,014
7.Itり号及び米国特許第3.7r4t、J、17号
の各明細書に記載されているような2. グ、、t−)
リアクリルイミダゾール二量体を挙げることができる。
gudimethoxyphenyl)-4t, t-diphenylimidazole dimer, co(p-methylmercaptophenyl)-p,t-diphenylimitasol dimer, and U.S. Pat. Hiroshi 77, evening edition, British Patent No. 1,014
7. 2. as described in U.S. Pat. g,,t-)
Mention may be made of lyacrylimidazole dimers.

有機重合体結合剤としては、上記モノマー化合物及び光
重合開始剤との相溶性の点から特にビニル系高分子物質
が良好である。ビニル系高分子物質としては、たとえば
、ポリ塩化ビニル、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸メ
チル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、
ポリメタアクリル酸、ポリメタアクリル酸メチル、ポリ
ビニルエーテル、ポリビニルアセタール及びこれらの共
重合物等の種々のものが挙げられるが、これらに限定さ
れるものではない。
As the organic polymer binder, vinyl polymer substances are particularly preferred from the viewpoint of compatibility with the above-mentioned monomer compounds and photopolymerization initiators. Examples of vinyl polymer substances include polyvinyl chloride, polyacrylic acid, polymethyl acrylate, polyethyl acrylate, polybutyl acrylate,
Various examples include, but are not limited to, polymethacrylic acid, polymethyl methacrylate, polyvinyl ether, polyvinyl acetal, and copolymers thereof.

ここで、七ツマー化合物と、有機重合体結合剤の混合比
は、使用されるモノマー化合物と有機重合体結合剤の組
合せによってもその適正比は呉なるが、一般には/:/
θ乃至、!:/ (重量比)の範囲が好ましい。またこ
のとき、光重合開始剤の添加量は七ツマー化合物の使用
重量に対してθ。
Here, the proper mixing ratio of the seven-mer compound and the organic polymer binder varies depending on the combination of the monomer compound and the organic polymer binder used, but in general, /:/
θ~,! A range of :/ (weight ratio) is preferable. In addition, at this time, the amount of the photopolymerization initiator added is θ relative to the weight of the heptamer compound used.

O/〜コθ重量係の範囲が好ましい。A range of O/ to θ weight ratio is preferable.

熱重合禁止剤としては、たとえば、p−メトキシフェノ
ール、ハイドロキノン、アルキル又はアリール置換ハイ
ドロキノン、ターシャリ−ブチルカテコール、ピロガロ
ール、ナフチルアミン、β−ナフトール、ツェナチアジ
ン、ピリジン、ニトロベンゼン、o−トルキノン、アリ
ールホスファイトを挙げることができるが、これらに限
定されるものではない。
Examples of thermal polymerization inhibitors include p-methoxyphenol, hydroquinone, alkyl- or aryl-substituted hydroquinone, tertiary-butylcatechol, pyrogallol, naphthylamine, β-naphthol, zenathiazine, pyridine, nitrobenzene, o-torquinone, and aryl phosphite. However, it is not limited to these.

また、感光性樹脂層が光解離系樹脂層の場合は、光解離
する化合物として米国特許第274411t号、同第J
j4t74’+j号等に記載されているオルトキノンジ
アジド化合物、特開昭14−/73μ!号に記載されて
いる主鎖にオルトエステル基を有する化合物、特開昭4
O−3714tり号に記載された主鎖にシリルエーテル
基金有する化合物等が挙げられる。
In addition, when the photosensitive resin layer is a photo-dissociable resin layer, as a photo-dissociable compound, US Pat.
Orthoquinone diazide compound described in No. j4t74'+j etc., JP-A-14-1973-/73μ! Compounds having an orthoester group in the main chain described in JP-A No. 4
Examples include compounds having a silyl ether group in the main chain as described in No. O-3714t.

この場合は、有機塩合体結合剤は必らずしも必−l 3
 − 要でね、ないが、ノボラック型フェノール樹脂等を用い
ることができる。結合剤は光解離系樹脂層の約po〜り
O重量係の範囲で用いることができる。
In this case, the organic salt coalescing binder is not necessarily required.
- Although it is not necessary, novolac type phenol resin etc. can be used. The binder can be used in a range of approximately po to o o weight of the photo-dissociable resin layer.

感光性樹脂層が、光重合系樹脂層の場合に層が軟質のた
め圧、本発明の効果が特に著しく顕われる。
When the photosensitive resin layer is a photopolymerizable resin layer, the effect of the present invention is particularly remarkable because the layer is soft.

感光性樹脂層の層厚は一般に0.2〜izoμmの範囲
にあり、好ましくはコ〜iooμmの範囲にある。
The thickness of the photosensitive resin layer is generally in the range of 0.2 to 10 μm, preferably in the range of 1 to 10 μm.

これら感光性樹脂層の材料およびその形成方法の詳細に
ついては、九とえは特公昭4tA−/132を号、特公
昭4I7−jjjlZ号、特開昭≠7−グ1r3o号、
特開昭4t、r−23337号、特開昭弘ター41/号
、特開昭j/−タ10/号、特開昭!タータフ/≠0号
などの各公報に記載されている。本発明の効果は、感光
性樹脂層の硬さがVieat法による軟化点がt000
以下、特に40°C以下の場合に%に顕著である。
For details on the materials of these photosensitive resin layers and their formation methods, please refer to Kutoe No. 4tA-/132, No. 4I7-jjjlZ, No. 1r3o, No. 7-g1r3o,
JP-A 4t, r-23337, JP-A 41/, JP-A 10/, JP-A! It is described in various publications such as Tartuff/≠No.0. The effect of the present invention is that the hardness of the photosensitive resin layer has a softening point of t000 according to the Vieat method.
Below, it is particularly noticeable in % when the temperature is below 40°C.

着色物質を使用する場合には、着色物質は感光性樹脂層
に含有されてもよいし、あるいは別に色−/4t− 材層を設けてこの中に含有されてもよい。色材層は感光
性樹脂層の上部および下部のどちらにでも設けることが
できるが、画像露光工程における感光性樹脂層の感度(
光重合性)の点から、色材層の上に感光性樹脂層を設け
るのが好ましい。また、着色物質としては公知の顔料お
よび染料を用いることができる。着色物質および色材層
の詳細については、たとえば特開昭jター97/110
号公報に開示されている。
When a colored substance is used, the colored substance may be contained in the photosensitive resin layer, or may be contained in a separate color/4t material layer. The coloring material layer can be provided either above or below the photosensitive resin layer, but the sensitivity of the photosensitive resin layer in the image exposure process (
From the viewpoint of photopolymerizability, it is preferable to provide a photosensitive resin layer on the coloring material layer. Furthermore, known pigments and dyes can be used as the coloring substance. For details of coloring substances and coloring material layers, see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 97/110.
It is disclosed in the publication No.

さらに、本発明の画像形成材料は酸素による感度の低下
を防!Hする意味から酸素透過性の小さい保護層を設け
ることができる。保護層は、たとえばポリビニルアルコ
ール、ポリ酢酸ビニル、メチルビニルエーテル・無水マ
レイン酸共重合体、ポリビニルピロリドン、ゼラチン、
アラビアゴム々どの高分子物質の溶液を塗布、乾燥する
ことによシ形成することができる。保護層の膜厚として
はθ、/μからjμ、好ましくはθ9.2μから3μ、
より好ましくはOo、2μからλμ程麿である。
Furthermore, the image forming material of the present invention prevents a decrease in sensitivity due to oxygen! A protective layer with low oxygen permeability can be provided from the viewpoint of H. The protective layer may be made of, for example, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, methyl vinyl ether/maleic anhydride copolymer, polyvinylpyrrolidone, gelatin,
It can be formed by applying a solution of a polymeric substance such as gum arabic and drying it. The thickness of the protective layer is θ, /μ to jμ, preferably θ9.2μ to 3μ,
More preferably, it is Oo, about 2μ to λμ.

本発明に用いられる疎水性シリカ粒子は、この保護層あ
るいは保護層を設けない場合は、最上層となる感光性樹
脂層に添加される。好ましいシリカ粒子の平均粒子サイ
ズは約0.01−10μであり、特に好ましくは約0,
0/−/μである。
The hydrophobic silica particles used in the present invention are added to this protective layer or, if no protective layer is provided, to the photosensitive resin layer that is the uppermost layer. Preferred silica particles have an average particle size of about 0.01-10μ, particularly preferably about 0.
It is 0/-/μ.

疎水性シリカ粒子は、シリカ粒子の表面に疎水基を有す
る化合物を/成績合、又はVan  d@rWaals
力のごとき2成績合により結合させ、疎水性を付与させ
たものである。
Hydrophobic silica particles are produced by adding a compound having a hydrophobic group to the surface of the silica particles, or by Van d@rWaals
They are bonded together by a combination of two components, such as force, to impart hydrophobicity.

この様表例としては、シリカ粒子表面の5t−OH基に
各種の反応を行うものがある。これらを以下に示す。以
下Rはアルキル基を示す。
Examples of this type include those in which various reactions are performed on 5t-OH groups on the surface of silica particles. These are shown below. Hereinafter, R represents an alkyl group.

(il  5i−OH+ROH−+5i−0−R(II
)  8l−OH+S02α→5i−o−αS i −
0−(’l+ RM g B r −+S i −0−
R(Ilil  S 1−OH+S tα4→S i 
−0−8i Q!! a(iV)sioH+5iF4−
+5i−o−siF’a(V)  5iOH+(?/−
8t(R)3−+5i−0−8iR3(Vll)  5
10H+CH2N2−+5iOCH3(IX)  5i
OH+SO2α→810α(X)  510H+Ti(
144→5iOHTi(J4l 7− その他シランカップリング剤で表面処理する方法、界面
活性剤を吸着させる方法、モノマーを吸着させ高分子化
する方法など種々の方法がある。
(il 5i-OH+ROH-+5i-0-R(II
) 8l-OH+S02α→5i-o-αS i −
0−('l+ RM g B r −+S i −0−
R(Ilil S 1-OH+S tα4→S i
-0-8i Q! ! a(iV)sioH+5iF4-
+5i-o-siF'a(V) 5iOH+(?/-
8t(R)3-+5i-0-8iR3(Vll) 5
10H+CH2N2-+5iOCH3(IX) 5i
OH+SO2α→810α(X) 510H+Ti(
144→5iOHTi(J4l 7-) There are various other methods such as a method of surface treatment with a silane coupling agent, a method of adsorbing a surfactant, and a method of adsorbing a monomer to form a polymer.

この様な例は、ILER著”Th@ Chemistr
yof  5iLiCA’  A Wiley−Int
ersai*naaPublication、JOHN
 WILEY & 5ONS/P72年発行のPj70
〜jタタ、ソフト技研出版部発行、粉体の表面改質技術
資料集(/りlλ年発行、小石ら著)に載っている。
An example of this can be found in “Th@Chemist” by ILER.
yof 5iLiCA' A Wiley-Int
ersai*naaPublication, JOHN
WILEY & 5ONS/Pj70 published in 1972
~ J Tata, Published by Soft Giken Publishing Department, Powder Surface Modification Technical Data Collection (published in 1999, written by Koishi et al.).

この様なもののうち、日本アエロジル■製アエロジルR
−972、触媒化成工業■製(2)O8CAL、08C
AP、富士デヴイリン■製サイロイド271゜JOIr
%λsj、/41./lコ、などが市販されているので
簡便に入手する事が出来る。
Among these products, Aerosil R manufactured by Nippon Aerosil ■
-972, Catalysts & Chemicals Industry ■ (2) O8CAL, 08C
AP, Thyroid 271° JOIr made by Fuji Devirin■
%λsj, /41. /l, etc. are commercially available and can be easily obtained.

本発明のシリカ粒子の用いる方法は、有機溶媒中に分散
可能なために、有機溶剤系の塗布液の感光性樹脂層用ま
たは保護層用の塗布液中に分散して用いることができる
し、水系の塗布液の場合は乳化分散して用いることもで
きる。
In the method of using the silica particles of the present invention, since they can be dispersed in an organic solvent, they can be used by being dispersed in an organic solvent-based coating solution for a photosensitive resin layer or a protective layer. In the case of an aqueous coating solution, it can also be emulsified and dispersed.

本発明は、特に親水性樹脂を水系溶媒に溶解し−/I− て用いる保護層用の塗布液に乳化分散l、7て使用する
ことが好ましい。
In the present invention, it is particularly preferable to dissolve the hydrophilic resin in an aqueous solvent and use it as an emulsified dispersion in a coating solution for a protective layer.

・ 本発明に用いるシリカ粒子の添加itJよ、最上1
−の結合剤に対して、(但し、最上1−が感光性樹脂層
の場合は、結合剤の他に、モノマー化合物または光解離
化合物を加えた総皺に対して)/重葉俤〜to重量係、
好゛ましくはJJti4〜4’1)tt96、より好ま
しくは10重量係〜30重量優程度添加される。
・ Addition of silica particles used in the present invention, Mogami 1
- to the binder (however, if the uppermost layer is a photosensitive resin layer, in addition to the binder, a monomer compound or a photodissociation compound is added to the total wrinkles) / heavy leaves ~ to weight officer,
It is preferably added in an amount of JJti4 to 4'1)tt96, more preferably 10 to 30% by weight.

「実施例」 次に本発明の実施例および比較例’t=jir:載する
"Example" Next, examples of the present invention and comparative examples are listed.

ただし、以下の各側は本発明を制限するものではない。However, the following aspects do not limit the present invention.

実施例/ パック層形成用塗布液として、下記組成を有する溶液を
調製した。
Example/ A solution having the following composition was prepared as a coating solution for forming a pack layer.

バック層用塗布液 レゾルシン(エツチング剤1     .2.J’hジ
アセチルセルロース(酢化1f:   0.3に9j1
十〇、j俤、平均重合度: 16θ アセテートフレクスv −A c、:、ダイセ
ル■製) ニー酸化り”イ素(平均粒径:41−θmμ θ、/K
gTT−乙0θ、日本アエロジル■製) メタノール               I K、9
メチルTチルケトン         JOKgこの塗
布液をポリエチレンテレフタレー トフイルム(支持体
、厚さ”、100μmや長さ:コ000 m l上に均
一に塗布し、乾燥(乾燥温度:720°C)[7て、乾
燥膜厚が0.3μmの実質的にジアセチルセルロースと
二酸化ケイ素とからなるバック層を設けた後、巻き取っ
た。
Back layer coating liquid resorcin (etching agent 1.2.J'h diacetylcellulose (acetic acid 1f: 0.3 to 9j1
10, j, average degree of polymerization: 16θ acetate flex v -A c, :, made by Daicel ■) Ni-oxidized ion oxide (average particle size: 41-θmμ θ, /K
gTT-Otsu0θ, manufactured by Nippon Aerosil ■) Methanol I K, 9
Methyl T-methylketone JOKg This coating solution was uniformly applied onto a polyethylene terephthalate film (support, thickness: 100 μm, length: 000 ml) and dried (drying temperature: 720°C) [7. After providing a back layer having a thickness of 0.3 μm and consisting essentially of diacetyl cellulose and silicon dioxide, the film was wound up.

次に、感光性樹脂層形成用の塗布液として、下記組成を
1する溶液を調製した。この場合に、下記の組成を有す
るカーボン分散液は別に8!4製j〜でおき、混合した
Next, a solution having the following composition was prepared as a coating solution for forming a photosensitive resin layer. In this case, a carbon dispersion having the following composition was prepared separately in an 8!4 product and mixed.

カーボン分散液 カーボンブラック          タ、rK41(
MA−too、三菱化成工業■製) ベンジルメタアクリレ−ト・メタ /C4tKgクリル
酸共重合体(モル比ニ ア、2/27、コt ’cのメチ ルエチルケトン溶液の極限粘 度二〇、lλcps ) メチルエチルケトン       Jj、plQメチル
七ロソルプアセテート   3t、?b感光性樹脂層用
塗布液 メチルエチルケトン         11Kgメチル
セロソルブアセテート7、 !に5ベンジルメタアクリ
レート・メ   ≠、jKgタクリル酸共重合体(モル
比ニ ア2/コア、コzchcのメチ ルケトン溶液の極限粘度: θ・l−2Cp園) ペンタエリスリトールテトラア   j、jrKgクリ
レート ミヒラーケトン          θ、/jK4コ、
λ′−ビス(0−クロロフ  。、/jKgエニル)−
≠、弘 1’l’′ 一テトラフェニルビイミダゾ −z2/− 一ル 二酸化ケイ素            0,41に、g
(w:コjJ、富士デビイソン■製) カーボン分散液           211に4この
ようにして調製した感光性樹脂−形成用塗布液を支持体
の上記バック層とは反対側の表面に塗布し、乾燥(乾燥
温度:/(700C)l〜て、乾燥膜厚が2.≠μmの
感光性樹脂層を設け、巻き取った。
Carbon dispersion carbon black ta, rK41 (
MA-too, manufactured by Mitsubishi Kasei Corporation) Benzyl methacrylate meth/C4tKg acrylic acid copolymer (molar ratio near, 2/27, intrinsic viscosity of methyl ethyl ketone solution of t'c 20, lλcps) Methyl ethyl ketone Jj, plQ methyl heptalosolp acetate 3t,? b Coating liquid for photosensitive resin layer Methyl ethyl ketone 11Kg Methyl cellosolve acetate 7,! 5 Benzyl methacrylate Me ≠, jKg tacrylic acid copolymer (molar ratio near 2/core, intrinsic viscosity of methyl ketone solution of cozchc: θ・l-2Cp garden) Pentaerythritol tetraa j, jrKg acrylate Michler Ketone θ, /jK4ko,
λ'-bis(0-chlorof.,/jKgenyl)-
≠, Hiro 1'l'' 1-tetraphenylbiimidazo-z2/- monyl silicon dioxide 0,41, g
(W: CojJ, manufactured by Fuji Davison ■) Carbon dispersion liquid 211 to 4 The photosensitive resin-forming coating liquid prepared in this manner was applied to the surface of the support opposite to the back layer, and dried ( A photosensitive resin layer having a dry film thickness of 2.≠μm was provided at a drying temperature of /(700C) l and wound up.

上記巻き取られたローνを温度2z0C,湿度jt%(
RH)の雰囲気中に/週間放置した。
The above wound raw ν is heated to a temperature of 2z0C and a humidity of jt% (
It was left in an atmosphere of RH for 1 week.

別に、下記組成の保獲層形成用の塗布液?[製し、この
塗布液をこの感光性樹脂層の上に塗布し、乾燥(乾燥温
度:100°CAして、乾燥膜厚がi、zμmの保護層
を設けた。
Separately, is there a coating liquid for forming a retention layer with the following composition? This coating solution was coated on the photosensitive resin layer and dried (drying temperature: 100° CA) to provide a protective layer with a dry thickness of i and z μm.

保護層用の塗布液 ポリビニルアルコール         ぶ糊(GL 
 O!IN、日本合成化学工業■製)水       
                27Kgメタノール
              jKfJJ − アエロジル R−97ノ       0.りに9(ジ
メチルジクロルシランで 表面処理したシリカ) このように1.て、順にパック層、支持体、感光性樹脂
層および保護層からなる画像形成材料を製造し、試料■
とした。
Coating liquid for protective layer Polyvinyl alcohol glue (GL
O! IN, manufactured by Nippon Gosei Kagaku Kogyo ■) Water
27Kg methanol jKfJJ - Aerosil R-97no 0. Rini 9 (Silica surface treated with dimethyldichlorosilane) In this way, 1. An image forming material consisting of a pack layer, a support, a photosensitive resin layer and a protective layer is manufactured in this order, and sample
And so.

〔比較例/〕[Comparative example/]

実施例1において、保護層のアエロジルR−27,2の
替りにアエロジル200 (表面処理の無いシリカ粒子
)を同量用いた。これ以外はすべて実施例/の方法と同
様の操作を行なうことにより、画像形成材料を製造し試
料■とした。
In Example 1, the same amount of Aerosil 200 (silica particles without surface treatment) was used in place of Aerosil R-27,2 in the protective layer. Except for this, an image forming material was produced by performing the same operations as in Example 1 and designated as Sample 2.

〔比較例λ〕[Comparative example λ]

実施例/において、保護層のアエロジルR−272を除
去し、これ以外は実施例/の方法と同様の操作を行なう
ことにより、画像形成材料を製造し試料■とした。
In Example 1, the protective layer Aerosil R-272 was removed, and the same procedure as in Example 2 was carried out except for this to produce an image forming material, which was designated as sample 2.

〔画像形成材料の評価〕[Evaluation of image forming materials]

得られた各々の画像形成材料について、パック層と保護
層とが重なる様に重さね合わせ、4to0c70%R)
’I条件下に3日間放置して、接着とレチキュレーショ
ンの発生の状態を調らべた。試料の大きさはrnn×r
crnとし、荷重は2句の重りを用い、試料のサンプル
はj枚とし、た。
For each of the obtained image forming materials, the pack layer and the protective layer were stacked so that they overlapped (4to0c70%R).
The cells were left under 'I conditions for 3 days to examine the state of adhesion and reticulation. The sample size is rnn×r
crn, two weights were used as the load, and the number of samples was j.

得られた結果を第1表に示す。The results obtained are shown in Table 1.

第1表 実施例1  I   O係     無比較例1   
II   jO係     有比較例コ  11   
ioo係     布筒1表に示された結果から明らか
なように、本発明で示されるごとき、最上層に疎水性表
面処理を施しだシリカ粒子を含有する画像形成材料(実
施例1)は、接着もレチキュレーションの発生が無かっ
た。
Table 1 Example 1 IO section Non-comparative example 1
II jO Section Comparative Examples 11
As is clear from the results shown in Table 1, the image forming material (Example 1) containing silica particles on the top layer that has been subjected to a hydrophobic surface treatment as shown in the present invention has no adhesive properties. No reticulation occurred either.

更に、この材料はくも9、表面の汚れ等はなく、画像形
成材料としてきれいな面状を示していた。
Further, this material had no spiders 9 or stains on the surface, and had a clean surface as an image forming material.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 支持体上に感光性樹脂層を設けた画像形成材料において
、感光性樹脂層側の最上層に疎水性表面処理を施したシ
リカ粒子を含有せしめる事を特徴とした画像形成材料。
An image forming material comprising a photosensitive resin layer provided on a support, wherein the uppermost layer on the side of the photosensitive resin layer contains silica particles subjected to a hydrophobic surface treatment.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0342650A2 (en) * 1988-05-18 1989-11-23 Toray Industries, Inc. Printing plate
JP2001175000A (en) * 1999-10-12 2001-06-29 E I Du Pont De Nemours & Co Composite photosensitive element

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