JPS6261984A - Manufacture of beta-lactam compound - Google Patents

Manufacture of beta-lactam compound

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Publication number
JPS6261984A
JPS6261984A JP61212833A JP21283386A JPS6261984A JP S6261984 A JPS6261984 A JP S6261984A JP 61212833 A JP61212833 A JP 61212833A JP 21283386 A JP21283386 A JP 21283386A JP S6261984 A JPS6261984 A JP S6261984A
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JP
Japan
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substituted
compound
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Pending
Application number
JP61212833A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
エルンスト フンゲルビューラー
ヤロスラフ カルボダ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Novartis AG
Original Assignee
Ciba Geigy AG
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Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Geigy AG filed Critical Ciba Geigy AG
Publication of JPS6261984A publication Critical patent/JPS6261984A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Abstract] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は、式 (式中、R1は水素原子または低級アルキル基であり、
R2は普通の保護基R2で採掘されていることのある官
能基を担持することができる有機基であり、R3は水素
原子または普通のカルボキシル保護基R3である) で表される化合物またはその塩を製造するにあたり、 (、)式 〔式中、R1は前記と同じ意味であり、Wは後記式(2
)のチオカルがン酸基で置換することのできる基である
〕 で表される化合物を式 %式%() (式中、R2は前記と同じ意味であシ、2は酸素原子ま
たはイオウ原子である) で表されるチオカルボン酸基を導入する化合物で処理し
、 (b)式 (式中、R1、R2および2は前記と同じ意味でらる) で表される得られた化合物を、式 (式中、R3は普通のカルボキシル保護基である)で表
されるシュウ酸半エステルのアシル基を導入するアシル
化剤で処理し、 (c)式 (式中、R4、R2、R3および2は前記と同じ意味で
ある) で表される得られた化合物を、三価リンの有機化合物で
処理し、そして (d)式 (式中、R1,R2およびR3は前記と同じ意味である
) で表される得られた化合物からオキサリルエステル基(
−Co−Coo−R3)を除去するとともに、所望によ
シ、保護基R3および(または)基R2中に存在するこ
とのある保護基R2を任意の順序で除去してそれらの基
を水素原子で置換し、 そして所望によシ、塩形成性基を含有する式(I)の得
られた化合物を塩に変え、あるいは得られた塩を遊離化
合物に変えることからなる、前記式(1)で表される化
合物またはその塩の改良された製法に関する。 本発明の改良方法は、多数の驚くべき特徴にある。すな
わち、ヒドロキシル基が保護されていない、式(II)
の化合物をチオール化反応(工程a)において使用する
と、式(財)の3.4−トランス−化合物がほとんど単
独で生成することは、特に驚くべきことである。現在ま
で、このヒドロキシル基を保護することが常に常法とし
て実施されておシ、しかも、引き続くチオール化工程に
おいて3,4−シス−化合物が副生成物として常に生成
されていた。従って、式(n)および式■の中間体にお
ける1/−ヒドロキシ基を、現在まで通常であったよう
に、他のアシル基またはシリル基で選択的に採掘するこ
とが不必要であること、および、単一工程において、式
(5)の化合物を閉環化に必要なシュウ酸アシル基でア
ゼチジノン窒素において置換し、ならびに同じアシル基
で1′−位置のヒドロキシル基において保護的に置換す
ることは、かなり有利である。 また、中間体として必然的に得られるホスホランがβ−
2クタムーN−隣接カルボニルにおいてのみ形成する(
工程C)こと、および1′−オキサリルエステル基のカ
ルがニル基との理論的に可能な反応が起こらないことは
篤くべきことである。 最後に、本発明の改良方法は、式(至)のシュウ酸半エ
ステルのアシル基を式(■)の中間体から極めて容易に
(すなわち、異性化せずにあるいはベネム環構造に損傷
を与えないで)除去することができ、そして必要に応じ
てかつ反応条件に依存して、他の保護基R2iたはR3
であるいは水素原子で置換することができるという、驚
くべき特徴にある。 式(1)のペネム化合物の宿主(host)は公知であ
り、そして置換基R,,R2およびR5はとくに既知の
意味を有する。 本発明方法によって製造することのできる式(1)の化
合物は、例えば、次の特許明細書に開示されている。 チパーがイギ−(Ciba−Geigy)の英国特許第
2.013,676号、欧州特許第109.362号、
同第110,826号、同第112,283号、同第1
25.208号、同第125,207号、ベルギー国特
許@900,477号、欧州特許第148,128号;
ベーチャム(noacham)の欧州特許第46.36
3号】プリストルユマイヤーズ(Bristo1My@
rs)のオランダ国特許第7,909,055号、同第
7,909,056号;米国特許第4.2 g 2,1
50号;ファルミタリア(Farrni tal la
)のベルギー国特許第881,862号、英国特許第2
,097,786号、ドイツ国特許第3,312,39
3号、ベルギー国特許第900,316号;ヘキスト(
Hoecbst)の欧州特許第69,377号、英国特
許第2,122,619号、英国特許第2,140,8
07号;メルク(Merch)の欧州特許第2,210
号、欧州特許第72,014号、同第87,792号、
同第115,308号;ファイザー(Pfizer)の
欧州特許第130,025号、1’Ugx a 2,1
01号;サンキョーのベルギー国特許第889,151
号、ドイツ国特許第3,231,596号;シェリング
・コーポレーション(ScheringCorp)の米
国特許第4,443,463号、ベルギー国特許第88
1,012号、米国特許第4,423,055号、欧州
特許第35,188号、同第58,317号、米国特許
第4,431,654号、同第4,435,412号、
同*4,435,413号、同第4,503,064号
、欧州特許第109,044号、同第118.875号
、同第123,650号、同第121.502号;ジオ
ツギの欧州特許第115,969号;スミトモの欧州特
許第70,204号、同第126,587号;タケダの
欧州特許第69,373号でちる。 これらの特許刊行物中に記載される置換基R1、R2お
よびR3の定義は本発明の定義に含まれるものとする。 式(1)〜式(■)における置換基R1、R2、R2、
R3、R6、Wおよび2はとくに次の意味を有し、これ
に関連して基および化合物を特定する用語「低級」は、
特記しないかすシ、前記基および化合物が炭素原子1〜
7個好ましくは1〜4個を含有することを意味する。 低級アルキル基としてのR1は好ましくはメチル基ちる
いはまたエチル基、プロピル基、イソプロピル基または
ブチル基である。R1が水素原子または好ましくはメチ
ル基である化合物は好ましい。 R′2は好ましくは、例えば、ベナム化学において知ら
れている、炭素原子18個まで好吐しくけ10個まで最
も好ましくは5個までを含有する有機基であって、R2
は窒素原子5個まで好ましくは4個までおよび(または
)酸素原子5個まで、好ましくは2個ツで、および(ま
たは)イオウ原子3個まで好ましくけ2個までまたは最
も好ましくは1個を含有することができ、そしてR2は
その炭素原子1個を介してならびに窒素原子、酸素原子
、またはイオウ原子を介してベネム環に結合することが
できるものとし、そして例えば非置換または置換の低級
アリファチル基、低級アリファチルオキシ基、低級アリ
ファチルチオ基、シフロアリファチル基、シフロアリフ
ァチルオキシ基、シフロアリファチルチオ基、アリール
基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリール−低
級アリファチル基、アリール−低級アリファチルオキシ
基、アリール−低級アリファチルチオ基、複素環式基、
複素環式オキシ基、複素環式チオ基、複素環式−低級ア
リファチル基、複素環式−低級アリファチルオキシ基、
複素環式−低級アリファチルチオ基、複素環式−低級ア
リファチル基または複素環式チオ−低級アルケニル基で
あシ、前記のシフロアリファチルおよびヘテロサイクリ
ルは飽和または不飽和である。 1゛ノ、薯:′++ 低級アリファチル基は、例えば、低級アルキル基、また
低級アルケニル基であり、そして低級アリファチルオキ
シ基または低級アリファチルチオ基は酸素原子またはイ
オウ原子を介して結合する適当な低級アリールチオ基で
ある。 シフロアリファチル基は、例えばシクロアルキル基また
は不飽和シクロアルキル基例工ばシクロアルケニル基t
たけシクロアルカジェニル基である。シフロアリファチ
ルオキシ基またはシフロアリファチルチオ基は、酸素原
子またはイオウ原子を介して結合する対応するシフロア
リファチル基である。 アリール基は、例えば、適当な一環式あるいはまた多環
式の基、例えば、二環式基好ましくはフェニル基または
ナフチル基である。 アリールオキシ基またはアリールチオ基は、酸素原子ま
たはイオウ原子を介して結合する適当な了り−ル基であ
る。アリール低級アルケニル基、アリール低級アリフ了
チルオキシ基またはアリール−低級アリファチルチオ基
は、例えば、フエニルー低級アルキル基、フェニル−低
級アルコキシ基またはフェニル−低級アルキルチオ基で
ある。 複素環式基、複素環式オキシ基または複素環式チオ基は
好ましくは適当な一環式または多環式、好ましくは一環
式または二環式基あるいはまた三環式基であり、例えば
、窒素原子、酸素原子およびイオウ原子から成る群よシ
選択でnる少なくとも1つの異種原子を含有する不飽和
または部分的に飽和の一環式5員もしくは6員のへテロ
アリール基、特に環の窒素原子を含有するこの型の基で
あり、そして酸素原子およびイオウ原子から選択される
追加の環の異種原子を含有することができ、例えば、芳
香族性の適当なアザ−、ノアデー、トリアデー、テトラ
アザ−、オキサ−、オキサアゾ−、オキサノアデー、オ
キサトリアザ−、チア−、チアザ−、チアジアゾルまた
はチアトリアゾ環式基あるいは適当なノヒドロ基または
テトラヒドロ基、およびまた不飽和または部分的に飽和
の、例えは、5員もしくは6員のベンゾ、ノベンゾ、ピ
リドまたはピリミド誘導体であることができる。 適当なヘテロアリール基の例は、次の通りである:ピロ
リル基、例えば、2−またば3−一ロリル基、2−まだ
は3−ピロリジニル基、ソアゾニル基、例えば、イミダ
ゾリル基、例えば、1−.2−.4−または5−イミダ
ゾリル基、またはピラゾリル基、例えば、3−または4
−ビラグリル基、トリアゾリル基1例えば、1.2.3
−トリアゾル−4−イル基、L2,4− トリアゾル−
5−イル基または1,2.4− )リアゾル−3−イル
基、例えばIH−または2H−テトラゾルー5−または
−1−イル基、ビリツル基、例えば2−13−または4
−ビリゾル基、ノアソニル基、例工ば、ピリミジル基、
例えば、2−14−または5−ピリミジル基、またはピ
ラノニル基、例えば、2−ピラノニル基、トリアゾニル
基、例えば、1.2.4− トリアツノ−6−イル基ま
たは1,3.5−トリアノン−2−イル基、フリル基、
例えば、2−まだは3−フリル基、2−または3−テト
ラヒトミフリル基、チェニル基、例えば、2−または3
−チェニル基、オキサシリル基、例えば、2−または4
−オキサシリル基、オキサゾアゾリル基、例えば1゜2
.4−オキサゾアゾリル−3−イル基、1.2゜5−オ
キサジアゾル−3−イル基、1,2.4−オキサゾアゾ
ルー5−イル基または1,3.4−オキサノアゾル−2
−イル基、イソキサゾリル基、例えば、3−イソキサゾ
リル基、チアゾリル基、例えば、2−または4−チアゾ
リル基、チアノアゾリル基、例えば、1,2.4−チア
ジアゾル−3〜イル基、1,2.5−チアノアゾル−3
−イル基、1,2.4−チアノアゾル−5−イル基また
は1,3.4−チアノアゾル−2−イル基、またはイン
チアゾリル基、例えば、3−または4−イソチアグリル
基である。記載した5員および6員のへテロアリール基
はとくに飽和の形であることもできる。このような基の
例は次のと卦りである:ノヒドロイミダゾリル基例えば
、2,3−ノヒドロイミグゾリルー4−イル基、ノヒド
ロビリミノル基、例えば、1,2−ノヒドロピリド〜3
−イル基、ノヒドロビリミノル基、例えば、1゜2−ジ
ヒドロビリミド−4−イル基、ノヒドローおよびテトラ
ヒドロピラジニル基例えば、2.3〜ゾヒドロビラノン
−5−イル基または3.4.5゜6−テトラヒドロビラ
ノン−2−イル基またはノヒドローまたはテトラヒドロ
ピラジニル基例えば、2.3,4.5−テトラヒドロ−
1,2,4−トリアノン−6−イル基である。記載した
ヘテロアリール基の多環式誘導体は、例えば、インド−
ル−2−イル基、インドール−3−イル基、ベンズイミ
ダゾルー2−イル基、ベンゾピラゾール−3−イル基、
キノリン−2−イル基またはキノリン−4−イル基、ベ
ンゾチアゾール−2−イル基、ベンズオキサゾール−2
−イル基、ピリド[2,3−b:]]ピリドー3−イル
またはピリド(2,3−b)ビリp −4−イル基であ
る。 複素環式−低級アリファチル基、複素環式−低級アリフ
ァチルオキシ基または複素環式−低級アリノアチルチオ
基、複葉環式オキシ〜低級アリ7アチル基または複素環
式チオ−低級アリファチル基は、例えば、低級アルキル
基、低級アルコキシ基または低級アルキルチオ基であり
、前記基は1つまたは2つの複素環式基で置換さ几てお
り、好ましくはその炭素原子の1つを介しであるいは酸
素原子またはイオウ原子を介して結合した前述の複素環
式基の1つで置換さnており、あるいはその環窒素原子
の1個を介して暗合しておりかつ環異種原子として1〜
4個の窒素原子を含有する、不飽和あるいは部分的に飽
和の一環式5員もしくは6員のヘテロアリール基で置換
さnている。窒素原子を介して結合する最後に述べた基
は、例えば、イミダゾール−1−イル基、テトラヒドロ
−または4,5−ジヒドロ−イミダゾール−1−イル基
、ピラゾール−1−イル基、1,2.4−)リアグール
ー1−イル基、1,2.3−トリアゾール−1−イル基
、テトラゾール−1−イル基、テトラゾール−2−イル
基、1−ピリソニオ基、1.2−ジヒドロ−1−ピリジ
ル基、1.4−ジヒドロ−1−ピリツル基、1.2−ジ
ヒドロ−ピリミド−1−イル基または1.4−ジヒドロ
−ピリミド−1−イル基である。複素環式基は、また、
酸素原子またはイオウ原子を介して低級脂肪族基に請合
することができる。 上記の有機基R2は置換されていないか、あるいは次の
置換基から成る群より選択でnる1または2以上、好ま
しくは1または2あるいはまた3つの、同一もしくは相
異なる置換基で置換さnていることができる:遊離の、
エーテル化さnたあるいはエステル化さ詐た(保護さn
たものを包含する)ヒドロキシ基例えば、ヒドロヤシ基
、低級アルコキシ基、フェニル−低級アルコキシ基、低
級アルカノイルオキシ基またはハロダン原子;遊離のあ
るいはエーテル化さ詐たメルカプト基例えば、メルカプ
ト基、低級アルキルチオ基またはフェニルチオ基;低級
アルキル基;置換基〔ヒドロキシ基、低級アルコキシ基
、遊離もしくはエステル化さnたもしくはアミド化さn
たカルボキシ基(例えばカルボキシ基、低級アルコキシ
カルビニル基またはカルバモイル基)、非置換あるいは
N−低級アルキル化アミノ基(例えばアミノ基、低級ア
ルキルアミノ基またはノー低級アルキルアミノ基)、低
級アルキレンアミノ基、低級アルカノイルアミノ基、低
級アルコキシカル?ニルアミノ基(こnは置換さnてい
ないかあるいはアミノ基および/またはカルボキシ基で
置換されている)、メルカプト基、低級アルキルチオ基
またはスルホ基〕で置換されている低級アルキル基;低
級アルキレン基、非置換あるいは低級アルキル化アザ−
低級アルキレン基、オキサ−、ジオキサ−またはチアー
低級アルキレン基;置換されていないかあるいは置換さ
れた(保護されたものを包含する)アミン基、例えば、
アミノ基、低級アルキルアミノ基、ノー低級アルキルア
ミノ基、低級アルキレンアミノ基、グアニジノ基、カル
バモイルアミノ基、アシルアミノ基例えば低級アルカノ
イルアミノ基または低級アルコキシカルボニルアミノ基
(前記基は置換されていないかあるいはアミノ基および
/またはカルボキシ基で置換さnている);遊離のある
いは官能的に変性さnた(保設さnたものを包含する)
カルボキシ基またはスルホ基例えばカルボキシ基、エス
テル化カルボキシ基、例えば、低級アルコキシカルボニ
ル基、アミド化カルがキシ基、例えば、カルバモイル基
または置換カルバモイル基、例えば、カルバモイル基ま
たはN−モノ−またはN、N−ノー低級アルキル化カル
バモイル基、シアノ基、スルホ基またはスルファモイル
基;フェニル基あるいは置換基〔例えば、低級アルキル
基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシ基、低級アルコキ
シ基、カルボキシ基および/またはハロダン原子〕で置
換されたフェニル基;シクロアルキル基;ニトロ基、オ
キソ基および/またはオキシド基。 R2に関連して述べた基およびその置換基は、例えば、
次の意味を有する: 低級アルキル基は、例えば、n−プロピル基、イソプロ
ピル基、n−ブチル基、イソブチル基、5ec−ブチル
基またはt−ブチル基、およびまたn−インチル基、n
−ヘキシル基またはn−ヘプチル基であるが、好ましく
はメチル基またはエチル基である。 低級アルケニル基は、例えば、ビニル基、アリル基、2
−メチルアリル基、n−ゾロ(ニル基またはインゾロイ
ニル基である。 低級アルコキシ基は、例えば、メトキシ基、エトキシ基
、n−プロポキシ基、イソブトキシ基、n−ブトキシ基
、イソブトキシ基またはt−ブトキシ基ならびにn−イ
ンチルオキシ基、n−へキシルオキシ基またはn−へブ
チルオキシ基である。 低級アルキルチオ基は、例えば、メチルチオ基まだはエ
チルチオ基、およびまたn−プロピルチオ基、イソゾロ
ビルチオ基またはn−ブチルチオ基である。 シクロアルキル基は好ましくは環員3〜8個、最も好ま
しくは5または6個を含有し、そして、例えば、シクロ
ペンチル基またはシクロヘキシル基、またシクロプロピ
ル基およびシクロヘゲチル基である。シクロアルケニル
基は、例えば、環員5または6個を含有し、そしてシク
ロアルカソエニル基は、例えば、環員6個を含有し、そ
して、例えば、1−12−または3−シクロヘキセニル
基、1−または2−シクロペンテニル基または1.4−
シクロヘキサジェニル基である。 フェニル−低級アルキル基は、例えば、ベンジル基、1
−フェニルエチル!”! たは2−フェニルエチル基で
ある。 フェニル−低級アルコキシ基は、例えば、ペンゾルオギ
シ基または1−フェニルエトキシ基である。 低級アルカノイルオキシ基は、例えば、ホルミルオキシ
基、アセトキシ基またはプロピオニルオキシ基である。 ハロダン原子は、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素
原子またはヨウ素原子である。 低級アルキルアミノ基は、例えば、メチルアミノ基、エ
チルアミノ基、n−プロピルアミノ基、イソゾロピルア
ミノ基またはn−ブチルアミノ基であり、そしてノー低
級アルキルアミノ基は、例えば、ジメチルアミノ基、ノ
エチルアミノ基、ジ−n−ゾロピルアミノ基またはジイ
ソゾロビルアミノ基である。 低級アルキレンアミノ基は好ましくは炭素原子4〜6個
を有し、そして、例えば、ピロリツノ基またはピぜリッ
ツ基である。 低級アルカノイルアミノ基は、例えば、ホルミルアミノ
基、アセチルアミノ基またはプロピオニルアミノ基であ
る。 置換されていないかあるいはアミノ基および/まだはカ
ルゼギシ基で置換さnた低級アルコキシカルブニルアミ
ノ基は、例えば、メトキシカルぎニルアミノ基、エトキ
シカルゲニルアミノ基−またはインプロポキシカルビニ
ルアミノ基、およびまた2−アミノ−2−カルボキシエ
トキシカルビニルアミノ基である。 基R2の置換基としての低級アルキレン基は、直鎖状ち
るいは分枝鎖状であることができ、そして、例えば、有
機基R2の2個の隣位の炭素原子および/または異種原
子を炭素原子3〜5個で結合する。 このような基は、例えば、’ + 3− テOLJ’ 
し、 y基、1.4−ブチレン基、】−または2−メチ
ル−1゜3−プロピレン基または2,2−ツメチル−1
゜3−プロピレン基である。 非丙僕のあるいはアルギル化さnたアザー低級アルキレ
ン基、オキサ−低級アルキレン基、ノオキ←低級アルキ
レン基またはチアー低級アルキレン基は好ましくは直鎖
状であるが、また分枝鎖状であることができ、そして、
例えば、有機基R2中の隣位の炭素原子および/または
異種原子を炭素原子3〜5個で結合する。このような基
の例は、1−または2−アザ−1,3−プロピレン基、
1−アゾ−1,4−ブチレン基、1−メチル−1−アザ
−11−エチル−1−アザ−12−メチル−2−アゾ−
または2−エチル−2−アザ−1,3−プロピレン基ま
たは1−メチル−1−アゾ−または2−メチル−2−ア
ゾ−1,4−ブチレン基、およびまた1−オキサ−11
,3−ジオキサ−,1−チア−または1,3−ジチア−
1,3−プロピレン基、または1−オキサ−11,4−
ノオキサー、1−チア−または1 、4−・ジチア−1
,4−ブチレン基である。 N−モノー低級アルキル化カルバモイル基は、例えば、
N−メチルカルバモイル基、N−エチル力・ルバモイル
基’!たuN−fロビルカルパモイル基である。N、N
−ノー低級アルキル化カルパモイル基は、例えば、N、
N−ツメチルカルバモイル基またはN、N−ノエチルカ
ルパモイル基である。 低級アルカノイル基は、例えば、ホルミル基、アセチル
基またはプロピオニル基でらり、低級アルケノイル基は
、例えば、アクリロイル基であり、シクロアルカノイル
基は炭素原子5〜7個を含有し、そして、例えば、シク
ロヘキサノイル基であり、そしてフェニル−低級アルカ
ノイル基は、例jば、フェニルアセチル基である。 低級アルコキシスルホニル基は、例えば、メトキシスル
ホニル基またはエトキシスルホニル基である。 アミノ基およびカルブキシ基で置換さnうる低級アルコ
キシカルボニル基は、例えば、メタンスルホニル基、エ
トキシカルボニル4、n −テロボキシカル好?ニル基
または2−アミノ−2−カル?キシエトキ7カルボニル
基である。 以下金白 低級アルキルチオカルバモイル基は、例えば、メチルチ
オカルバモイル基またはエチルチオカルバモイル基であ
る。 低級アルカンスルホニル基は、例えば、メタンスルホニ
ル基、エタンスルホニルJ!−またはプロパンスルホニ
ル基fある。 適当な低級脂肪族基R2は、例えば、低級アルキル基、
例えば、メチル基、エチル基、インプロピル基、イソブ
チル基または5ee−ブチル基、あるいは置換基〔ヒド
ロキシ基、低級アルコキシ基例えばメトキシ基またはエ
トキシ基、低級アルカノイルオキシ基例えばアセチルオ
キシ基、)・ログン原子例えば、塩素原子または臭素原
子、メルカプト基、低級アルキルチオ基例えばメチルチ
オ基、アミン基、低級アルキルアミノ基例えばメチルア
ミノ基またはエチルアミン基、ノー低級アルキルアミノ
基例えばジメチルアミノ基、グアニジノ基、ホルムアミ
ジノ基、低級アルカノイルアミノ基例えばアセチルアミ
ノ基、低級アルコキシカルざニルアミノ例えばエトキシ
カルボニルアミノ基(こ7″L、はアミノ基およびカル
ブキシ基で置換さnている)、例えば2−アミノ−2−
カルビキシエトキシカルボニルアミノ基、カルブキシ基
、低級アルコキシカルブニル基例えば、メトキシ−また
はエトキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基、
スルファモイル基および/またはオキソ基〕で置換さn
ている低級アルキル基、好ましくはメチル4瓢エチル基
、n−プロピル基またはn−ブチル基である。このよう
な低級脂肪族基R2の典型的な代表例は、次の通りであ
る:例えば、メチル基、インプロピル基、イソブチル基
、5ee−ブチル基、ブチル基、ヒドロキシメチル基、
1−または2−ヒドロキシエチル某、メルカプトメチル
基、2−メチルチオエチル基、アミノメチル基、1−ま
たは2−アミノエチル基% 1−12−または3−アミ
ノプロピル基、1−.2−またt/i3−アミノブチル
基、グアニノルメチル基、1−捷たば2−グアニジルエ
チル基、1−.2−4たは3−グアニジルゾロビル−7
+(、ホルムアミジノメチル基、ホルムアミジノ−1−
捷たけ−2−エチル基捷たはホルムアミジノ−1−、−
2−または−3−プロピル基、カルゲキシメチル基、カ
ルバモイルメチル、l、21Jル?キシエチル基、2−
カルバモイルエチル基、カルバモイルオキシメチル基、
1−。 2−または3−カルバモイルオキシプロピル基、カルブ
キシ基または低級アルコキシカルRニル基例えばメトキ
シ力ルゲニル基。 アリール−低級アルケニル基R2は、例えば、非置換あ
るいは置換のフェニル−低級アルキル基、好ましくはフ
ェニルメチル基またはフェニルエチル基であり、ここで
tit換基は、例えば、低級アルキル基例えばメチル基
、ニトロ基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基例えばメ
トキシ基またはエトキシ基、カルブキシ基および/また
はハロダン原子例えば塩素原子である。 適当なシフロアリファチル基R2は、例えば、シクロア
ルケニル基例えば1−または2−シクロへキセニル基、
または好ましくはシクロヘキサジェニル基例、tば1,
4−シクロアルカノイル基である。 アリール基R2け1例えば、フェニルまたは好ましくは
置換されたフェニルであり、ここで置換基は次の置換基
から成る群より選択される1つあるいはまた2つである
:すなわち、アミノ基、低級アルキルアミノ基例えばメ
チル−またはエチルアミノ基、ジー低級アルキルアミノ
基、ジメチルアミン基、低級アルキル基例えばメチル基
、アミン低級アルキル基例えば2−アミノエチル基、低
級アルキルアミノ−低級アルキル基例えば2−メチルア
ミノエチル基、低級アルコキシカルボニルアミン−低級
アルキル基(この置換基はアミノ基およびカルボキシ基
で置換されている)例えば2−(2−アミノ−2−カル
?キシエトキシカルボニルアミノ)エチル基、低級アル
コキシカルボニルアミノ基(この置換基はアミン基およ
びカルボキシ基で置換さ扛ている)例えば2−アミノ−
2−カルボキシエトキシカルボニルアミ7基、ニド0基
、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基例えばメトキシ基ま
たはエトキシ基、ノ10デン原子例えば、塩素原子また
は臭素原子およびカルボキシ基。 複素環式基R2は好ましくは次の通りである:ピロリル
基またはジヒドロピロリル基(これらの基は置換されて
いないかあるいは1例えば低級アルキル基で置換さ1て
いる)例えば1−メチル−2−ピロリル基または4,5
−ジヒドロ−3−ピロリル基:ピロリジル基またはオキ
ソ−Ill[換ピロリジル基1例えば、2−または3−
ピロリジル基tたは2−オキソ−3−またVi2−オキ
ソ−5−ピロリ・ゾル基、ジアゾリル基(これらの基は
置換されていないかあるいは1例えば、カルボキシ基、
低級アルキル基、アミノ低級アルキル基またはアミン基
で置換されている)例えばイミダゾリル基またはピラゾ
リル基例えば1−.2−.4−または5゛−イミダゾリ
ル基、4−または5−メチル−1−イミダゾール基また
は4.5−ジメチル−1−イミダゾール基または2−ア
ミノ−4−イミダゾリル基、または3−ピラゾリル基ニ
トリアゾリル基(これは、置換さnていないかあるいは
、例えば、低級アルキル基、アミン基、カルボキシ−低
級アルキル基および/またはフェニル基で置換されてい
る)例えばII(−1,2,3−トリアゾール−4−イ
ル基、IF(−1,2,4−トリアゾール−3−イル基
または1r(−1,2,4−)リアゾール−5−イル基
、例えば、対応する非置換の基、l−メチル−IH〜1
,2.3−トリアゾール−4−イル基、5−メチル−甘
たは5−アミノ−IH−1,2,4−トリアゾール−3
−イル俵、3−メチル−1−フェニル−IH−1,2゜
4−トリアゾール−5−イル基、捷たは5−カルゼキシ
メチルー捷たは5〜フェニル〜IH−1゜2.4−トリ
アゾール−3−イル基;テトラゾリル基(こnば、置換
されていないかあるいは、例えば、低級アルキル基、カ
ル日?キシー低級アルキル基、スルホ−低級アルキル基
、ノー低級アルキルアミノ−低級アルキル基で置換さ几
ているかあるいは、ハロゲン原子のような置換基を有す
ることができるフェニル基で16喚されている)例えば
IH−テトラゾール−1−イル基、IH−または2H−
テトラゾール−5−イル基例えばl H−テトラゾール
−1−イル基、IH−テトラゾール−5−イル基、1−
カルボキシメチルー、  1−(2−カルボキシエチル
)−,1−(2−スルホエチル)−1l−(2−ジメチ
ルアミノエチル)−またはl−フェニル−IH−テトラ
ゾール−5−イル基、チアゾリル基(例えば%2−また
は4−チアゾリル基)またはイソチアゾリル基(例えば
、3−インチアゾリル基)〔こnらは置換されていなA
かあるいは、例えば、低級アルキル基またはアミノ基で
置換さルている〕例えば2−14−または5−チアゾリ
ル基、4−メチル−5−または5−メチル−4−チアゾ
リル基、2−アミノ−4−チアゾリル基、2−アミノ−
4−メチル−5−チアゾリル基、4,5−ジメチル−2
−チアゾリル基または3−イソチアゾリル基;チアジア
ゾリル基(これは置換されていないかあるいは1例えば
、低級アルキル基、ヒドロキシ基、アミノ基または低級
アルキルアミノ基で置換されている)例えば、1,2.
5−チアジアゾール−3−イル基、1.3.4−チアノ
アゾール−2−イル基、1゜2.4−チアジアゾール−
3−イル基、または1.2.4−チアジアゾール−5−
イル基、例えば、対応する非置換の基、また5−メチル
−捷たは5−アミノ−1,3,4−チアジアゾール−2
−イル基、3−メチル−1,2,4−チアジアゾール−
5−イル基、5−アミノ−または5−メチルアミノ−1
,2,4−チアジアゾール−3−イル基または4−ヒド
ロキシ−1,2,5−チアジアゾール−3−イル基、オ
キサシリル基またはイソキサゾリル基(こnらは置換さ
れていないかあるいは、例えば、アミノ基、低級アルキ
ル基および/またはフェニル基によって置換されている
)例えば2−または4−オキサシリル基または3−イン
キサゾリル基、例えば、対応する非置換の基、およびま
た4−メチル−2−オキサシリル基、4.5−ジフェニ
ル−2−オキサシリル基、2−アミノ−4−オキサシリ
ル基または5−メチル−3−イソキサゾリル基ニオキサ
ジアゾリル基〔これは置換されていないかあるいは、例
えば低級アルキル基、アミン基またはフェニル基(フェ
ニル基は、例えば、ニトロ基で置換さnていても工い)
で置換されている〕例えば1,2.4−オキサゾール−
5−イル基、1,2.4−オキサゾール−3−イル基ま
たは1,3.4−オキサゾール−2−イル基、例えば、
対応する非置換の基:およびまた5−メチル−1,3,
4−オキサジアゾール−2−イル基、5−フェニル−1
,3,4−オキサジアゾール−2−イル基または5−(
4−ニトロフェニル)−1,3,4−オキサシアソー 
ルー2−イル基、フリル基またはチェニル基(これらは
置換されていないかあるいは、例えば、ハロゲン原子低
級アルキル基またはアミノ−低級アルキル基で置換され
ている)例えば、2−または3−フリル基または2−ま
たは3−チェニA4、例えば、対応する非置換の基、5
−メチル−または5−アミノメチル−2−フリル基、ま
たは5−アミノメチル−2−チェニル基、オキソ基で置
換さnたテトラヒドロフリル基、例えば、2−オキソテ
トラヒドロフルー5−イル基、ピリジル基(これは置換
されていないかあるいは、例えばヒドロキシ基、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基、アミン基および/またはオキ
シド基で置換されている)例えば2−23−または4−
ピリジル基、例えば、対応する非置換の基、1−オキシ
ド−2−ピリジル基または4−クロロ−1−オキシド−
2−ピリジル基、または1,2−ジヒドロピロルノル基
(これは置換さnていないかあるいは、例えば、低級ア
ルキル基、アミン基、ジー低級アルキルアミノ基、オキ
ソ基および/またはカルボキシ基で置換されている)例
えば1,2−ジヒドロ−4−ピリミジル基、例えば、2
−オキソ−1,2−ジヒドロ−4−ピリミジル基または
6−メチル−15−メチル−16−アミノ−16−シメ
チルアミノー、5−カルボキシ基またば6−カルボキシ
−2−オキソ−1,2−ジヒドロ−4−ピリミジル基。 以下金白 複素環式低級脂肪族基R2の例は、次の通りである:非
置換または置換の複素環式メチル基、複素環式エチル基
または複素環式ゾロピル基、例えば、−コル−1−イル
メチル基またはジヒドロピロル−1−イルメチル基であ
シ、前記基は置換されていないかあるいは、低級アルキ
ル基またはハロゲン原子で置換されているものとし、そ
して、例えば、ピロル−1−イルメチル基、3−メチル
ピロル−1−イルメチル基、3.4−ジクロロピロル−
1−メチル基、2.3−または2.5−ジヒドロピロル
−1−イルメチル基、置換されていないかあるいはオキ
ソ置換されているピロリジルメチル基、例えば、2−ま
たは3−ピロリジルメチル基または2−オキソ−3−ピ
ロリジルメチル基またば2−オキソ−5−ピロリジルメ
チル基、ジアゾリルメチル基、例えば、イミダゾール−
1−イルメチル基、イミダゾール−4−イルメチル基ま
たはピラゾール−1−イルメチル基であシ、前記基は置
換されていないかあるいは、例えば、低級アルキル基で
置換さnているものとする;トリアゾリルメチル基、例
えば、IH−1,2,3−トリアゾール−1−イルメチ
ル基、1)I−1、2。 4−トリアゾール−1−イルメチル基またはIH−1,
2,4−)リアゾール−3−イルメチル基であり、前記
基は置換されていない空あるいは、例えば、低級アルキ
ル基、カルボキシ−低級アルキル基、アミノ基および/
またはフェニル基で置換されているものとし、例えば、
対応する非置換の基、4−捷たは5−メチル−1,2,
3−トリアゾール−1−イルメチル基捷たは5−メチル
−5−アミノ−または5−フェニル−II(−1,2゜
4−トリアゾール−3−イルメチル基;テトラゾリルメ
チル基、例えば、IH−テトラゾール−1−イルメチル
基、IH−テトラゾール−1−エト−1−イル基、IH
−テトラゾール−1−エト−2−イル基、IH−テトラ
ゾール−1−プロデーl−イル基、IH−テトラゾール
−1−プロプ−2−イル基、IH−テトラゾール−1−
グロブ−3−イル基、2H−テトラゾール−2−イルメ
チル基またはIH−テトラゾール−5−イルメチル基で
あり、前記基は置換されていないかあるいは、例えば、
低級アルキル基、カルゲキシ低級アルキル基、スルホ−
低級アルキル基、ジー低級アルキルアミノ−低級アルキ
ル基、アミノ基または)工二ル基(フェニル基はハロゲ
ン原子で置換されてもよい)で置換さnているものとし
、例えば、対応する非置換の基、5−アミノ−15−カ
ルボキシメチル−,5−(2−カル?キシエチル)−1
5−スルホメチル−15−(2−ジメチルアミノエチル
)−または5−フェニル−IH−テトラゾール−1−イ
ルメチル基、5−アミノ−15−カルボキシメチル−5
5−スルホメチル−15−(2−ジメチルアミノエチル
)−または5−フェニル−2H−テトラゾール−2−イ
ルメチル基、またば1−(2−カル?キシエチル)−ま
たは1−(2−ジメチルアミノエチ/I/)−2H−テ
トラゾール−5−イルメチル基、ピリジルメチル基また
はジヒドロピリジルメチル基、例えば、ピリジニオメチ
ル基、2−23−または4−ピリジルメチル基または1
.2−または1.4−ジヒドロピリド−1−イルメチル
基であり、前記基は置換されていないかあるいは、好筐
しくはオキソ基で置換され、そしてさらに、例えば、ノ
ーログン原子で置換されることができるものとし、例え
ば、2−オキソ−1,2−ジヒドロピリド−1−イルメ
チル基または4−オキソ−1,4−ジヒドロピリド−1
−イルメチル基、ジヒドロピリド−1−イルメチル基、
例えば、2H−1,2−ジヒドロ−またL/14H−1
,4−ジヒドロ−ピリミド−1−イルメチル基であり、
前記基は置換さ几ていないかあるいは、好ましくはオキ
ソ基で置換さしており、そしてさらに、例えば、低級ア
ルキル基、アミノ基、ノー低級アルキルアミノ基または
カルボキシ基で置換されることができ、例えば、2−オ
キソ−1,2−ジヒドロ−ピリミド−1−イルメチル基
、6−メチル−15−メチル−16−アミノ−16−シ
メチルアミノー、5−カルボキシ基または6−カルポキ
シー2−オキソ−1,2−ジヒドローピリド−1−イル
メチル基またば4−オキソ−1,4−ジヒドロ−ピリミ
ド−1−イルメチル基、フリルメチル基、例えば、2−
フリルメチル基、テトラヒドロフリルメチル基であり、
前記基は置換されていないかあるいは、例えば、オキソ
で置換さnているものとし、例えば、2−オキソテトラ
ヒドロフルー5−イルメチル基、チェニルメチル基、例
、tば、2−チェニルメチル基、オキサシリルメチル基
、チアゾリルメチル基またはチアジアゾリルメチル基で
あり、前記基/′i置換されていないかあるいは、例え
ば、アミン基で置換されているものとし、例えば2−ア
ミノ−オキサゾール−4−イルメチル基、2−アミノチ
アゾール−4−イルメチル基または5−アミノ−1,2
,4−チアゾジアゾール−3−イルメチル基、またはイ
ンドリルメチル基、例えば、インドール−3−イルメチ
ル基である。 特に好まし、い基R2は、特に顕著な抗生活性を有する
式(1)の化合物の中に存在するものである。 このような基R2の例は、アミノメチル基、2−アミノ
ゾロデー1−イル基、カルバモイルオキシメチル基、1
−メチルテトラゾール−5−イルチオメチル基、2−(
1−テトラゾリル)プロピル基、2−オキソ−5−テト
ラヒドロフリルメチル基、2−オキソ−5−ピロリジル
メチル基、2−アミノエチルチオ基、2−ホルムアミジ
ノエチルチオ基、2−カルバモイルオキシエチルチオ基
、1−イミダゾリル基、4,5−ジメチル−1−イミダ
ゾリル基、4−メチル−5−チアゾリル基、5−メチル
−4−チアゾリル基および2−アミノ−4−メチル−5
−チアゾリル基、および−tnらの保護された誘導体で
ある。 式(1)の化合物中に存在する官能基、すなわち、ヒド
ロキシ基、カル?キシ基、アミノ基またはスルホ基は普
通の保護基Rお工び/またはR3で保護することができ
る。普通の保護基は、とぐにペネム、Kニジリン、セフ
ァスポリンおよびペプチド化学において使用することの
できるものである。 このような保護基は、式(1)の化合物をその前駆物質
から合成する間5問題の官能基を望ましくない除去およ
び置換反応などから保護し、そしてベネム環構造を損傷
せずに除去することができる。 このよう々保護基は、容易に、すなわち、望ましく危い
二次反応を起こさないで、例えば加溶媒分解または還元
によシ、あるいは生理学的条件下で除去することができ
る。 この型の保護基およびその導入法および除去法は、例え
ば、次の文献に記載されている: J、F、W。 マクオーミイ(McOmie)、6有機化学における保
護基 (Protective  Groupg  i
n  Oragnlc  Chemistry)”、プ
レナム・プレス(P1@numPress )、ロンド
ン、ニューヨーク、1973;T、W、グリーン(Gr
eene)、1有機合成における保護基(Protec
tive Groupsin Organic Syn
thesig)”、ワイリー(Wiley)、ニューヨ
ーク、1981:″1ペプチド類(ThePeptid
es) ’ 、 Vot、I、シュレーダー・I’)7
ト・リューブケ(5chroeder und Luo
bka )、アカデミツク会プレス(Academic
 Pr@ms ) 、ロンドン、ニューヨーク、196
5;およびハウベン−ウニイル(Houbsn −We
yl )、′有機化学の方法(Methodender
 Organiseben Chemie )’、Vo
t、 15/ 1、rオルグ、チーメ・フェルラーグ(
Georg ThiemeVerlmg)、シュツノト
ガルト、1974゜式(1)の化合物において、基R2
中に存在するヒドロキシ基は、例えば、アシル基で保護
することができる。適当なアシル基の例は、次の通りで
ある:低級アルカノイル基(これは置換されていないか
あるいは・・o)fン原子で置換されている)例えばア
セチル基またはトリフルオロアセチル基、ベンゾイル基
(これは置換されていないかあるいはニトロ基で置換さ
れている)例えばベンゾイル基、4−ニトロベンゾイル
基または2,4−ジニトロベンゾイル基、低級アルコキ
シカルビニル基(これは置換されていないかあるいはハ
offン原子で置換されている)例えば2−ブロモエト
キシカルビニル基または2,2.2−トリクロロエトキ
シカルビニル基、 低9アルケニルオキシカルゴニル基
、例えは、アリルオキシカル72ニル基、アIJ−ルー
低級アルケニルオキシ力ルゴニル基(これは置換されて
い々いかあるいはアリール環において置換されている)
例えば3−7エニルアリルオキシカル?ニル(シンナミ
ルオキシカルボニル)基〔ここでアリール基すなわちフ
ェニル基は次の置換基の1,2またはそれより多い数の
置換基で置換されることができる:例えば、低級アルコ
キシ基例えばメトキシ基、)・ロダン原子例えば、塩素
原子または弗素原子、および/またはニトロ基〕、また
はフェニル−低級アルコキシカルボニル基(これは置換
されていないかあるいはニトロ基で置換されている)例
えば4−ニトロベンジルオキシカルボニル基。それ以上
の適当なヒドロキシ保護基の例は、次のとおシである:
三置換シリル基例えばトリー低級アルキルシリル基例え
ばトリメチルシリル基ま辻t−ブチル・ジメチルシリル
基、2−ハロー低級アルキル基例えば2−クロロ−12
−ブロモー、2−ヨードおよび2,2.2−)リクロロ
エチル基、およびフェニル−低級アルキル基(これは置
換されていないかあるいは)・ロダン原子例えば塩素原
子、低級アルコキシ基例えばメトキシ基および/または
ニトロ基で置換されている)例えば対応するベンジル基
。トリー低級アルキルシリル基、低級アルケニルオキシ
カル?ニル基およびハロゲン債換低級アルコキシ力ルゲ
ニル基は好ましいヒドロキシ保護基である。 基R2中に存在するカルボキシル基、およびまたペネム
環の3−位置またはシュウ酸半エステルの1−位置に存
在するカルボキシ基は、普通にエステル化された形で保
護され、エステル基はおだ畢かな条件下で、例えば、お
だやかに還元的例えば水添分解的々条件下で、あるいは
おだやかな加溶媒分解、例えば、加酸分解またはことに
塩基性もしくは中性の加水分解の条件下で容易に脱離す
ることができる。保護されたカルボキシ基は、また、異
なる官能的に変性されたカルボキシ基に、例えば、異な
るエステル化されたカルボキシ基に容易に転化すること
ができる、エステル化されたカルボキシ基であることが
できる。 このようなエステル化されたカルボキシ基は、エステル
化基として、好ましくは、1−位置で枝分れしたあるい
は1−位置または2−位置で適当に置換された低級アル
キル基を含む。−COOR色も包含する、エステル化さ
れた形の好ましいカルボキシ基は、なかでも、低級アル
コキシカルブニル基、例えば、メトキシカルブニル基、
エトキシカルNニル基、インゾロポキシカル?ニル基ま
たばtダトキシカルゲニル基、およびアリールまたはへ
テロアリールメトキシカルボニル基(1〜3個の7 ’
J−ル基を有するかあるいは1つの単環へテロアリール
基を有する)であり、前記の各基は1個”またはそれよ
シ多い、例えば、低級アルキル基例えばt−低級アルキ
ル基例えばt−ブチル基、ハロゲン原子例えば塩素原子
および/またはニトロ基で置換されていることができる
。このような基の例は、次の通りである:ペンジルオキ
シカルビニル基(これは置換されていないかあるいは、
例えば、前述のように置換されている)例えば4−ニト
ロペンシルオキシカルビニル基、ジフェニルメトキシカ
ルボニル基またはトリフェニルメトキシカルボニル基(
これは置換されていないかあるいは、例えば、前述のよ
うに置換されている)例えばジフェニルメトキシカルボ
ニル基、またはピコリルオキシカルブニル基、側光ば、
4−ピコリルオキシカルブニル基、またはフルフリルオ
キシカルボ=kM、例tば、2−フルフリルオキシカル
ボニル基(各々は置換されてい々いかあるいは、例えば
、前述のように置換されている)。さらに適当な基は、
次の通りである:低級アルカノイルメトキシカルブニル
基、例tば、アセトニルオキシカル?ニル基、アミイル
メトキシカルボニル基(ここでアロイル基は好ましくは
ベンゾイル基であり、このベンゾイル基は、例えばハロ
ゲン原子例えば臭素原子で置換されている)例えば、フ
ェナシルオキシカルボニル基、ハロー低級アルコキシカ
ルボニル基、例えば、2−ハロー低級アルコキシカルg
=ル基、例iは、2 P 212− ) vクロロエト
キシカルざニル基、2−クロロエトキシカルボニル基、
2−プロモエトキシ力ルゲニル基またば2−ヨードエト
キシ力ルゲニル基、マタハω−ハロー低級アルコキシカ
ルボニル基(ここで低級アルコキシ基は4〜7個の炭素
原子を含有する)例えば4−りaロプトキシ力ル7Iニ
ル基、フタルイミドメトキシカルブニル基、低級アルケ
ニルオキシ:)’J A/ &ニル基、f9Lttd、
アリルオキシカルブニル基、アリール低級アルケニルオ
キシカルボニル基(これは置換されていないかあるいは
アリール環において置換されている)例えば3−フェニ
ルアルコキシカルボニル(シンナミルオキシカルビニル
)〔ここでアリール環、すなわち、フェニル環は次の置
換基の1または2以上で置換されることができる:低級
アルコキシ基例えばメトキシ基、ハロゲン原子例えば塩
素原子またはフッ素原子、および/またはニトロ基〕、
またはエトキシカルボニル基(これは2−位置において
低級アルキルスルホニル基、シアノ基によって、あるい
は三置換シリル基列えばトリー低級アルキルシリル基ま
たはトリフェニルシリル基によって置換されている)例
えば2−メチルスルホニルエトキシカルボニル基、2−
シアノエトキシカルブニルg、2−トリメチルシリルエ
トキシカルボニル基または2− (ジー n−ブチルメ
チルシリル)エトキシ力ルゼニル基。 カルボキシ保護基はまたエステル化されたカルポキン基
であり、この基は生理学的条件下に脱離することができ
る。それは、経口的投与の場合にシいて胃腸管内で式(
I)の化合物が塩を形成することから保護し、こうして
早期の分泌を防止し、そしてとくにアシルオキシメトキ
シカルブニル基(ここでアシル基は、例えば、有機カル
ボン酸の基、好ましくは低級アルカンカルボン酸または
アリールカルボン酸例えば安息香酸の基であり、前記基
は、例えば、アミン基で置換されていることができ、あ
るいはここでアシルオキシメチル基はラクトンの基を形
成するものとする)である。このような基の例は次の通
りである:低級アルカノイルオキシメトキシカルボニル
基、アミノ−低級アルカノイルオキシメトキシカルボニ
ル基、好ましくはα−アミノ−低級アルカノイルオキシ
メトキシカルボニル基、低級アルカノイルアミノメトキ
シカルボニル基、ベンズアミノメトキシカルビニル基、
4−クロトノラクトニル基および4−ブチロラクトン−
4−イル基。生理学的条件下で脱離することができる、
他のエステル化されたカルボキン基R2の例は、次の通
シである:5−インダニルオキシカルゲニル基、3−フ
タリジルオキシカルブニルi、1−低級アルコキシカル
ボニルオキシー低級アルコキシカ/L/Wニル基、1−
低級フルコキシー低級アルコキシカルゴニル基または2
−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イルメトキシカ
ルビニル基(これはジオキソレン環の5−位置において
低級アルキル基またはフェニル基で置換されている)。 エステル化された形である他の保護されたカルボキン基
は、適当な有機シリルオキシカルブニル基であり、およ
びまた有機スタンニルオキシカルビニル基でちる。これ
らの基において、ケイ素原子ま、たはスズ原子は好まし
くは低級アルキル基好ましくはメチル基またはエチル基
、あるいは低級アルコキシ基例えばメトキシ基を置換基
として含有する。適当なシリル基およびスタンニル基は
、とくにトリー低級アルキルシリル基好ましくはトリメ
チルシリル基またはジメチル−t−ブチルシリル基、ま
たは適当に置換されたスタンニル基例えば)!j−n−
ブチルスタンニル基である。 好ましい保護された力#yk”キシ基は4−二トロペン
ゾルオキシカル?ニル基、低、Wアルケニルオキシカル
ボニル基杆ましくはアリルオキシカルビニル基、および
エトキシカルボニル基でアシ、前記基は2−位置におい
て低級アルキルスルホニル基、シアン基壇たけトリー低
級アルキルシリル基例えばトリメチルシリル基またはジ
−n−ブチル−メチルシリル基で置換されている。 4以下zl’L。 保護されたアミノ基は、例えば、容易に脱離可能なアシ
ルアミノ基、アシルイミノ基、エーテル化され次メルカ
プトアミノ基、シリルアミノ基ま念はスタンニルアミノ
基の形あるいはエナばノ基、ニトロ基またはアジド基の
形であること7!I;できる。 適当なアシルアミノ基において、アシル基は、例えば、
炭素原子18個までを含有する有機酸、好ましくはアル
カンカルボン酸(これは、側光ば、へロrン原子または
フェニル基で置換されていることができる)あるいは安
息香酸(これは、例えば、ハロダン原子、低級アルコキ
シ基またはニトロ基で置換されることができる)あるい
はカルボン酸半エステル、のアシル基である。このよう
なアシル基の例は、次の通りである:低級アルカノイル
基例えばホルばル基、アセチル基またはプロピオニル基
、ハロー低級アルカノイル基、例えば、2−ハロアセチ
ル基好ましくは2−フルオロ−12−プロモー、2−ヨ
ード−12,2,2−)リフルオロ−または2,2.2
−トリクロロアセチル基、ベンゾイル基または置換ベン
ゾイル基例えばベンゾイル基、ハロベンゾイル基例えば
、4−クロロペンゾイルX、 低iアルコキシベンゾイ
ル基例えば4−メトキシベンゾイル基、まtけニトロベ
ンゾイル基例えば4−ニトロベンゾイル基。 とくに適当なアシル基は、また、次の通りである:低級
アルケニルオキシカルビニル基、例えば、アリルオキシ
カルぎニル基、アリール−低級アルケニルオキシカルは
ニル基(これは置換されていないかあるいはアリール環
において置換されている)例えば3−フェニルアリルオ
キシカルビニル(シンナミルオキシカルゼニル)〔ここ
で了り−ル基、すなわち、フェニル基は次の基の1ま念
は2以上で置換ばれることができる:例えば、低級アル
コキシ基例えばメトキシ基、)・ロダン原子例えば塩素
原子または弗素原子および/またはニトロ基〕あるいは
低級アルコキシカルボニル基(これは置換されていない
かあるいは1−位置または2−位6tにおいて置換され
ている)fllえば低級アルコキシカルビニル基例えば
、メトキシ−またはエトキシ−カルボニル基、非置換廿
たは置換のペンシルオキシカルビニル基、例えば、ペン
シルオキシカルビニル基1fch4−二トロペン、ゾル
オキシカルビニル基、アロイルメトキシカルがニル基(
ここでアロイル基は好ましくはベンゾイル基または例え
ばハロダン原子例えば、臭素原子で置換されたベンゾイ
ル基である)flIえはフェナシルオキシカルビニル&
、2−ハロー低級アルコキシカルボニル基側光ば282
.2−)リクロロエトキシカルビニル?!、、2−クロ
ロエトキシカルブニル基、 2−ブロモエトキシカルボ
ニル賦または2−ヨードエトキシカルビニル基、または
2−(三置換シリル)エトキシカルボニル基例えば2−
トリー低級アルキルシリルエトキシカルデニル基例えば
2−トリメチルシリルエトキシ力ルゲニル基または2−
(ジ−n−ブチルメチルシリル)エトキシカルボニル基
、または2−)リアリールシリルエトキシカルゲニル、
IJえば2−トリフェニルシリルエトキシカルボニル基
。 アシルイミノ基
The present invention is based on the formula (wherein R1 is a hydrogen atom or a lower alkyl group,
(R2 is an organic group capable of carrying a functional group that may be extracted with a common protecting group R2, and R3 is a hydrogen atom or a common carboxyl protecting group R3) or a salt thereof In producing the formula (,) [wherein, R1 has the same meaning as above, W is the formula (2
) is a group in which the thiocal is a group that can be substituted with a phosphoric acid group] A compound represented by the formula % formula % () (wherein, R2 has the same meaning as above, and 2 is an oxygen atom or a sulfur atom) is treated with a compound that introduces a thiocarboxylic acid group represented by (b) (wherein R1, R2 and 2 have the same meanings as above), (c) is treated with an acylating agent that introduces an acyl group of an oxalic acid half ester of the formula (wherein R3 is a common carboxyl protecting group); 2 has the same meaning as above) is treated with an organic compound of trivalent phosphorus, and the resulting compound of formula (d) (wherein R1, R2 and R3 have the same meaning as above) is treated with an organic compound of trivalent phosphorus. ) from the obtained compound represented by oxalyl ester group (
-Co-Coo-R3) and, if desired, the protecting group R3 and/or the protecting group R2 that may be present in the group R2 are removed in any order to transform those groups into hydrogen atoms. and optionally converting the obtained compound of formula (I) containing a salt-forming group into a salt, or converting the obtained salt into the free compound. This invention relates to an improved method for producing the compound represented by or a salt thereof. The improved method of the present invention resides in a number of surprising features. That is, formula (II) in which the hydroxyl group is not protected
It is particularly surprising that the 3,4-trans-compound of formula (I) is formed almost exclusively when used in the thiolation reaction (step a). Until now, protection of this hydroxyl group has always been carried out as a conventional method, and moreover, 3,4-cis-compounds have always been produced as by-products in the subsequent thiolation step. It is therefore unnecessary to selectively mine the 1/-hydroxy groups in the intermediates of formula (n) and formula (II) with other acyl or silyl groups, as has been customary up to now; And, in a single step, the compound of formula (5) can be substituted at the azetidinone nitrogen with the oxalate acyl group necessary for ring closure and protectively substituted at the 1'-position hydroxyl group with the same acyl group. , is quite advantageous. In addition, phosphorane, which is inevitably obtained as an intermediate, is β-
Forms only in 2-term N-vicinal carbonyls (
It is serious that step C) and that the theoretically possible reaction of the 1'-oxalyl ester group with the cal-nyl group does not occur. Finally, the improved method of the present invention allows the acyl group of the oxalic acid half ester of formula (-) to be very easily converted from the intermediate of formula (■) (i.e., without isomerization or without damaging the benem ring structure). ) and, if necessary and depending on the reaction conditions, other protecting groups R2i or R3
It has the surprising feature that it can be replaced by a hydrogen atom or a hydrogen atom. The hosts of penem compounds of formula (1) are known and the substituents R, , R2 and R5 have especially known meanings. Compounds of formula (1) that can be produced by the method of the invention are disclosed, for example, in the following patent specifications: Ciba-Geigy British Patent No. 2.013,676, European Patent No. 109.362,
Same No. 110,826, Same No. 112,283, Same No. 1
25.208, Belgian Patent No. 125,207, Belgian Patent @900,477, European Patent No. 148,128;
Beecham European Patent No. 46.36
No. 3] Bristo1My@
rs) Dutch Patent Nos. 7,909,055 and 7,909,056; U.S. Patent No. 4.2 g 2,1
No. 50; Farmitalia
) Belgian Patent No. 881,862, British Patent No. 2
, 097,786, German Patent No. 3,312,39
No. 3, Belgian Patent No. 900,316; Hoechst (
Hoecbst) European Patent No. 69,377, British Patent No. 2,122,619, British Patent No. 2,140,8
No. 07; Merch European Patent No. 2,210
European Patent No. 72,014, European Patent No. 87,792,
No. 115,308; Pfizer European Patent No. 130,025, 1'Ugx a 2,1
No. 01; Sankyo Belgian Patent No. 889,151
German Patent No. 3,231,596; Schering Corp. U.S. Patent No. 4,443,463; Belgian Patent No. 88
No. 1,012, U.S. Patent No. 4,423,055, European Patent No. 35,188, European Patent No. 58,317, U.S. Patent No. 4,431,654, European Patent No. 4,435,412,
European Patent No. 4,435,413, European Patent No. 4,503,064, European Patent No. 109,044, European Patent No. 118.875, European Patent No. 123,650, European Patent No. 121.502; Patent No. 115,969; Sumitomo European Patent No. 70,204 and European Patent No. 126,587; Takeda European Patent No. 69,373. The definitions of substituents R1, R2 and R3 given in these patent publications are intended to be included in the definition of the present invention. Substituents R1, R2, R2 in formula (1) to formula (■),
R3, R6, W and 2 have, inter alia, the following meanings, and in this context the term "lower" specifying groups and compounds:
Unless otherwise specified, the above groups and compounds contain 1 to 1 carbon atom.
It means containing 7 pieces, preferably 1 to 4 pieces. R1 as lower alkyl is preferably methyl or also ethyl, propyl, isopropyl or butyl. Compounds in which R1 is a hydrogen atom or preferably a methyl group are preferred. R'2 is preferably an organic group containing up to 18 carbon atoms, preferably up to 10 up to 10 carbon atoms, most preferably up to 5 carbon atoms, as known, for example, in Benam chemistry;
contains up to 5 nitrogen atoms, preferably up to 4 and/or up to 5 oxygen atoms, preferably up to 2, and/or up to 3 sulfur atoms, preferably up to 2 or most preferably 1 and R2 shall be capable of bonding to the benem ring via one of its carbon atoms as well as via a nitrogen, oxygen, or sulfur atom, and may be, for example, an unsubstituted or substituted lower arifatyl group. , a lower arifatyloxy group, a lower arifatylthio group, a ciflorarifatyl group, a ciflorarifatyloxy group, a ciflorarifatylthio group, an aryl group, an aryloxy group, an arylthio group, an aryl-lower arifatyl group, Aryl-lower aryfatyloxy group, aryl-lower aryfatylthio group, heterocyclic group,
Heterocyclic oxy group, heterocyclic thio group, heterocyclic-lower arifatyl group, heterocyclic-lower arifatyloxy group,
A heterocyclic-lower aryfatylthio group, a heterocyclic-lower aryphatyl group or a heterocyclic-lower aryphatyl group or a heterocyclic-lower aryphatyl group, and the above-mentioned cyfuroarifathyl and heterocyclyl are saturated or unsaturated. 1゛ノ、薯:'++ A lower arifatyl group is, for example, a lower alkyl group or a lower alkenyl group, and a lower arifatyloxy group or a lower arifatylthio group is bonded via an oxygen atom or a sulfur atom. It is a suitable lower arylthio group. A cyfuroarifatyl group is, for example, a cycloalkyl group or an unsaturated cycloalkyl group, such as a cycloalkenyl group.
It is a bamboo cycloalkagenyl group. A ciflorarifatyloxy group or a ciflorarifatylthio group is a corresponding ciflorarifatyl group bonded via an oxygen or sulfur atom. Aryl radicals are, for example, suitable monocyclic or also polycyclic radicals, such as bicyclic radicals, preferably phenyl or naphthyl radicals. An aryloxy group or an arylthio group is a suitable aryl group bonded via an oxygen or sulfur atom. The aryl lower alkenyl group, the aryl lower arylphrythyloxy group or the aryl-lower aryfatylthio group is, for example, a phenyl-lower alkyl group, a phenyl-lower alkoxy group or a phenyl-lower alkylthio group. A heterocyclic group, a heterocyclic oxy group or a heterocyclic thio group is preferably a suitable monocyclic or polycyclic, preferably monocyclic or bicyclic or also tricyclic group, for example a nitrogen atom , an unsaturated or partially saturated monocyclic 5- or 6-membered heteroaryl group optionally containing at least one heteroatom from the group consisting of oxygen and sulfur atoms, especially containing a ring nitrogen atom; radicals of this type, and may contain additional ring heteroatoms selected from oxygen atoms and sulfur atoms, such as suitable aza-, noade, triade, tetraaza-, oxa- -, oxazo-, oxanoade, oxatriaza-, thia-, thiaza-, thiadiazole or thiatriazo cyclic groups or suitable nohydro or tetrahydro groups, and also unsaturated or partially saturated, e.g. 5- or 6-membered benzo, nobenzo, pyrido or pyrimido derivatives. Examples of suitable heteroaryl groups are: pyrrolyl groups, e.g. 2-or 3-monoloryl groups, 2-or 3-pyrrolidinyl groups, soazonyl groups, e.g. imidazolyl groups, e.g. −. 2-. a 4- or 5-imidazolyl group, or a pyrazolyl group, e.g. 3- or 4
-Biragryl group, triazolyl group 1 e.g. 1.2.3
-triazol-4-yl group, L2,4- triazol-
5-yl group or 1,2.4-) lyazol-3-yl group, such as IH- or 2H-tetrazol-5- or -1-yl group, biritzyl group, such as 2-13- or 4
- birisol group, noasonyl group, e.g. pyrimidyl group,
For example, a 2-14- or 5-pyrimidyl group, or a pyranonyl group, such as a 2-pyranonyl group, a triazonyl group, such as a 1.2.4-triazon-6-yl group or a 1,3.5-trianon-2 -yl group, furyl group,
For example, a 2- or 3-furyl group, a 2- or 3-tetrahydromifuryl group, a chenyl group, e.g.
-chenyl group, oxacylyl group, e.g. 2- or 4
-Oxasilyl group, oxazoazolyl group, e.g. 1°2
.. 4-oxazazolyl-3-yl group, 1.2゜5-oxadiazol-3-yl group, 1,2.4-oxazoazol-5-yl group or 1,3.4-oxanoazol-2
-yl group, isoxazolyl group, e.g. 3-isoxazolyl group, thiazolyl group, e.g. 2- or 4-thiazolyl group, cyanoazolyl group, e.g. 1,2.4-thiadiazol-3-yl group, 1,2.5 -Thyanoazole-3
-yl group, 1,2.4-thianoazol-5-yl group or 1,3.4-thianoazol-2-yl group, or inthiazolyl group, such as 3- or 4-isothiagril group. The 5- and 6-membered heteroaryl groups mentioned can also be in particular in saturated form. Examples of such groups are the following: nohydroimidazolyl groups, such as 2,3-nohydroimigzolyl-4-yl groups, nohydrobiriminol groups, such as 1,2-nohydropyrido- 3
-yl group, nohydrobiriminol group, such as 1°2-dihydrobirimid-4-yl group, nohydro and tetrahydropyrazinyl group, such as 2.3-zohydrobyranon-5-yl group or 3.4.5゜6-tetrahydrobyranon-2-yl group or nohydro or tetrahydropyrazinyl group, e.g. 2,3,4,5-tetrahydro-
It is a 1,2,4-trianon-6-yl group. Polycyclic derivatives of the heteroaryl groups described are, for example, indo-
-2-yl group, indol-3-yl group, benzimidazol-2-yl group, benzopyrazol-3-yl group,
Quinolin-2-yl group or quinolin-4-yl group, benzothiazol-2-yl group, benzoxazole-2
-yl group, pyrido[2,3-b:]]pyrido-3-yl or pyrido(2,3-b) biryp-4-yl group. The heterocyclic-lower arifatyl group, the heterocyclic-lower arifatyloxy group, the heterocyclic-lower alinoacylthio group, the bicyclic oxy-lower ali7acyl group, or the heterocyclic thio-lower arifatyl group, for example, a lower alkyl group, a lower alkoxy group or a lower alkylthio group, said group being substituted with one or two heterocyclic groups, preferably via one of its carbon atoms or via an oxygen or sulfur atom. substituted with one of the above-mentioned heterocyclic groups bonded via a
Substituted with an unsaturated or partially saturated monocyclic 5- or 6-membered heteroaryl group containing 4 nitrogen atoms. The last-mentioned groups bonded via the nitrogen atom are, for example, the imidazol-1-yl group, the tetrahydro- or 4,5-dihydro-imidazol-1-yl group, the pyrazol-1-yl group, the 1,2. 4-) Liaguru-1-yl group, 1,2.3-triazol-1-yl group, tetrazol-1-yl group, tetrazol-2-yl group, 1-pyrisonio group, 1,2-dihydro-1-pyridyl group, 1,4-dihydro-1-pyrityl group, 1,2-dihydro-pyrimid-1-yl group or 1,4-dihydro-pyrimid-1-yl group. Heterocyclic groups also include
The lower aliphatic group can be attached via an oxygen atom or a sulfur atom. The above organic radicals R2 are unsubstituted or substituted with one or more, preferably one or two or also three, identical or different substituents selected from the group consisting of the following substituents: can be: free,
etherified or esterified (protected)
Hydroxy groups such as hydrococo, lower alkoxy, phenyl-lower alkoxy, lower alkanoyloxy or halodane atoms; free or etherified mercapto groups such as mercapto, lower alkylthio or phenylthio group; lower alkyl group; substituent [hydroxy group, lower alkoxy group, free or esterified or amidated
an unsubstituted or N-lower alkylated amino group (e.g. an amino group, a lower alkylamino group or no lower alkylamino group), a lower alkylene amino group, Lower alkanoylamino group, lower alkoxycar? a lower alkyl group substituted with a nylamino group (where n is unsubstituted or substituted with an amino group and/or a carboxy group), a mercapto group, a lower alkylthio group or a sulfo group; a lower alkylene group; Unsubstituted or lower alkylated aza-
lower alkylene groups, oxa-, dioxa- or thia lower alkylene groups; unsubstituted or substituted (including protected) amine groups, e.g.
An amino group, a lower alkylamino group, a no-lower alkylamino group, a lower alkyleneamino group, a guanidino group, a carbamoylamino group, an acylamino group such as a lower alkanoylamino group or a lower alkoxycarbonylamino group (the group may be unsubstituted or substituted with groups and/or carboxy groups); free or functionally modified (including retained)
Carboxy or sulfo groups, such as carboxy groups, esterified carboxy groups, such as lower alkoxycarbonyl groups, amidated carboxy groups, such as carbamoyl groups or substituted carbamoyl groups, such as carbamoyl groups or N-mono- or N,N -No lower alkylated carbamoyl group, cyano group, sulfo group or sulfamoyl group; phenyl group or substituent [e.g. lower alkyl group, nitro group, amino group, hydroxy group, lower alkoxy group, carboxy group and/or halodan atom] phenyl group substituted with; cycloalkyl group; nitro group, oxo group and/or oxide group. The groups mentioned in relation to R2 and their substituents are, for example,
Lower alkyl has the following meanings: Lower alkyl is, for example, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, 5ec-butyl or t-butyl, and also n-inchyl, n
-hexyl group or n-heptyl group, preferably methyl group or ethyl group. Lower alkenyl groups include, for example, vinyl group, allyl group, 2
- methylallyl group, n-zolo(nyl group or inzoloinyl group). Lower alkoxy groups are, for example, methoxy, ethoxy, n-propoxy, isobutoxy, n-butoxy, isobutoxy or t-butoxy groups; n-inchyloxy, n-hexyloxy or n-hebutyloxy. Lower alkylthio groups are, for example, methylthio or ethylthio, and also n-propylthio, isozolobylthio or n-butylthio. Cycloalkyl groups preferably contain 3 to 8 ring members, most preferably 5 or 6 ring members, and are, for example, cyclopentyl or cyclohexyl, also cyclopropyl and cyclohegetyl. Cycloalkenyl groups are , for example contains 5 or 6 ring members, and a cycloalkasoenyl group contains, for example, 6 ring members and, for example, a 1-12- or 3-cyclohexenyl group, a 1- or 2-cyclohexenyl group. -cyclopentenyl group or 1,4-
It is a cyclohexagenyl group. Phenyl-lower alkyl group is, for example, benzyl group, 1
-Phenylethyl! "! or 2-phenylethyl group. Phenyl-lower alkoxy group is, for example, penzoloxy group or 1-phenylethoxy group. Lower alkanoyloxy group is, for example, formyloxy group, acetoxy group or propionyloxy group. The halodane atom is, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.The lower alkylamino group is, for example, a methylamino group, an ethylamino group, an n-propylamino group, an isozolopylamino group. or n-butylamino group, and the no-lower alkylamino group is, for example, dimethylamino group, noethylamino group, di-n-zolopylamino group or diisozolobylamino group. The lower alkylene amino group is preferably a carbon atom The lower alkanoylamino group is, for example, a formylamino group, an acetylamino group or a propionylamino group. Lower alkoxycarbinylamino groups substituted with an amino group and/or a calzegoxy group are, for example, methoxycarginylamino, ethoxycargenylamino or impropoxycarbinylamino groups, and also 2-amino-2 -carboxyethoxycarbinylamino group. The lower alkylene group as a substituent of the group R2 can be linear or branched and, for example, The carbon atom and/or the heteroatom at the position are bonded with 3 to 5 carbon atoms.Such a group is, for example, ' + 3-teOLJ'
y group, 1,4-butylene group, ]- or 2-methyl-1゜3-propylene group or 2,2-methyl-1
゜3-Propylene group. The non-alkylated or algylated other lower alkylene group, oxa-lower alkylene group, oxy-lower alkylene group or thia-lower alkylene group is preferably linear, but may also be branched. I can do it, and
For example, adjacent carbon atoms and/or heteroatoms in the organic group R2 are bonded through 3 to 5 carbon atoms. Examples of such groups are 1- or 2-aza-1,3-propylene groups,
1-Azo-1,4-butylene group, 1-methyl-1-aza-11-ethyl-1-aza-12-methyl-2-azo-
or 2-ethyl-2-aza-1,3-propylene group or 1-methyl-1-azo- or 2-methyl-2-azo-1,4-butylene group, and also 1-oxa-11
, 3-dioxa-, 1-thia- or 1,3-dithia-
1,3-propylene group, or 1-oxa-11,4-
Nooxer, 1-thia- or 1,4-dithia-1
, 4-butylene group. The N-mono lower alkylated carbamoyl group is, for example,
N-methylcarbamoyl group, N-ethyl force/rubamoyl group'! is a uN-f lovylcarpamoyl group. N, N
-No-lower alkylated carpamoyl group is, for example, N,
N-trimethylcarbamoyl group or N,N-noethylcarpamoyl group. Lower alkanoyl is, for example, formyl, acetyl or propionyl, lower alkenoyl is, for example, acryloyl, cycloalkanoyl contains 5 to 7 carbon atoms and is, for example, cyclohexyl. A sanoyl group and a phenyl-lower alkanoyl group are, for example, a phenylacetyl group. A lower alkoxysulfonyl group is, for example, a methoxysulfonyl group or an ethoxysulfonyl group. The lower alkoxycarbonyl group which can be substituted with an amino group or a carboxy group is, for example, a methanesulfonyl group, an ethoxycarbonyl group, an n-teroboxyl group, or a lower alkoxycarbonyl group which can be substituted with an amino group or a carboxy group. Nyl group or 2-amino-2-cal? It is a xyethoxy7carbonyl group. Hereinafter, the term "Kinpaku lower alkylthiocarbamoyl group" is, for example, a methylthiocarbamoyl group or an ethylthiocarbamoyl group. Examples of the lower alkanesulfonyl group include methanesulfonyl group and ethanesulfonyl J! - or a propanesulfonyl group f. Suitable lower aliphatic groups R2 include, for example, lower alkyl groups,
For example, methyl group, ethyl group, inpropyl group, isobutyl group or 5ee-butyl group, or substituent [hydroxy group, lower alkoxy group such as methoxy group or ethoxy group, lower alkanoyloxy group such as acetyloxy group], rogone atom For example, a chlorine or bromine atom, a mercapto group, a lower alkylthio group such as a methylthio group, an amine group, a lower alkylamino group such as a methylamino group or an ethylamine group, a lower alkylamino group such as a dimethylamino group, a guanidino group, a formamidino group, Lower alkanoylamino groups, such as acetylamino groups, lower alkoxycarzanylamino groups, such as ethoxycarbonylamino groups (wherein 7"L is substituted with an amino group and a carboxy group), such as 2-amino-2-
carboxyethoxycarbonylamino group, carboxy group, lower alkoxycarbunyl group, such as methoxy- or ethoxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfo group,
sulfamoyl group and/or oxo group]
A lower alkyl group, preferably a methyl 4-ethyl group, n-propyl group or n-butyl group. Typical representatives of such lower aliphatic groups R2 are as follows: for example, methyl group, impropyl group, isobutyl group, 5ee-butyl group, butyl group, hydroxymethyl group,
1- or 2-hydroxyethyl, mercaptomethyl group, 2-methylthioethyl group, aminomethyl group, 1- or 2-aminoethyl group% 1-12- or 3-aminopropyl group, 1-. 2-Also, t/i3-aminobutyl group, guaninormethyl group, 1-sliced 2-guanidylethyl group, 1-. 2-4 or 3-guanidylzolobyl-7
+(, formamidinomethyl group, formamidino-1-
Katsutake-2-ethyl group or formamidino-1-, -
2- or -3-propyl group, calgeximethyl group, carbamoylmethyl, l, 21J l? xyethyl group, 2-
Carbamoylethyl group, carbamoyloxymethyl group,
1-. A 2- or 3-carbamoyloxypropyl group, a carboxy group or a lower alkoxycargenyl group, such as a methoxycargenyl group. The aryl-lower alkenyl group R2 is, for example, an unsubstituted or substituted phenyl-lower alkyl group, preferably a phenylmethyl group or a phenylethyl group, where the tit substituent is, for example, a lower alkyl group such as a methyl group, a nitro groups, hydroxy groups, lower alkoxy groups such as methoxy or ethoxy groups, carboxy groups and/or halodane atoms such as chlorine atoms. Suitable cyfuroarifatyl groups R2 are, for example, cycloalkenyl groups such as 1- or 2-cyclohexenyl groups,
or preferably a cyclohexagenyl group, tba1,
It is a 4-cycloalkanoyl group. Aryl group R2 is, for example, phenyl or preferably substituted phenyl, in which the substituents are one or more selected from the group consisting of the following substituents: amino, lower alkyl Amino groups such as methyl- or ethylamino groups, di-lower alkylamino groups, dimethylamine groups, lower alkyl groups such as methyl groups, amines lower alkyl groups such as 2-aminoethyl groups, lower alkylamino-lower alkyl groups such as 2-methylamino Ethyl group, lower alkoxycarbonylamine - lower alkyl group (this substituent is substituted with an amino group and a carboxy group) e.g. 2-(2-amino-2-carxyethoxycarbonylamino)ethyl group, lower alkoxycarbonyl an amino group (this substituent is substituted with an amine group and a carboxy group), e.g. 2-amino-
2-carboxyethoxycarbonylamine groups, nido groups, hydroxy groups, lower alkoxy groups such as methoxy or ethoxy groups, denene atoms such as chlorine or bromine atoms, and carboxy groups. The heterocyclic group R2 is preferably: a pyrrolyl group or a dihydropyrrolyl group (these groups are unsubstituted or substituted, e.g. with a lower alkyl group), e.g. 1-methyl-2 -pyrrolyl group or 4,5
-dihydro-3-pyrrolyl group: pyrrolidyl group or oxo-Ill [substituted pyrrolidyl group 1, e.g. 2- or 3-
pyrrolidyl group or 2-oxo-3- or Vi2-oxo-5-pyrroli sol group, diazolyl group (these groups may be unsubstituted or 1 e.g. carboxy group,
imidazolyl or pyrazolyl (e.g. 1-. 2-. 4- or 5'-imidazolyl group, 4- or 5-methyl-1-imidazole group, or 4,5-dimethyl-1-imidazole group, or 2-amino-4-imidazolyl group, or 3-pyrazolyl group, nitriazolyl group (this is unsubstituted or substituted, for example with lower alkyl, amine, carboxy-lower alkyl and/or phenyl groups, such as II(-1,2,3-triazol-4-yl) group, IF(-1,2,4-triazol-3-yl group or 1r(-1,2,4-)riazol-5-yl group, such as the corresponding unsubstituted group, l-methyl-IH~ 1
, 2,3-triazol-4-yl group, 5-methyl-sweet or 5-amino-IH-1,2,4-triazol-3
-yl Tawara, 3-methyl-1-phenyl-IH-1,2゜4-triazol-5-yl group, or 5-calzexymethyl- or 5-phenyl-IH-1゜2.4- triazol-3-yl; tetrazolyl (unsubstituted or unsubstituted, e.g., lower alkyl, carboxy-lower alkyl, sulfo-lower alkyl, no lower alkylamino-lower alkyl); for example IH-tetrazol-1-yl, IH- or 2H-
Tetrazol-5-yl group, such as lH-tetrazol-1-yl group, IH-tetrazol-5-yl group, 1-
Carboxymethyl-, 1-(2-carboxyethyl)-, 1-(2-sulfoethyl)-1l-(2-dimethylaminoethyl)- or l-phenyl-IH-tetrazol-5-yl, thiazolyl groups (e.g. % 2- or 4-thiazolyl group) or isothiazolyl group (e.g. 3-inchazolyl group) [these are unsubstituted A
or substituted with, for example, a lower alkyl group or an amino group] such as a 2-14- or 5-thiazolyl group, a 4-methyl-5- or 5-methyl-4-thiazolyl group, a 2-amino-4 -thiazolyl group, 2-amino-
4-methyl-5-thiazolyl group, 4,5-dimethyl-2
-thiazolyl group or 3-isothiazolyl group; thiadiazolyl group (which is unsubstituted or substituted with 1, for example a lower alkyl group, a hydroxy group, an amino group or a lower alkylamino group), for example 1, 2.
5-thiadiazol-3-yl group, 1.3.4-thianoazol-2-yl group, 1゜2.4-thiadiazol-
3-yl group, or 1,2,4-thiadiazole-5-
yl group, such as the corresponding unsubstituted group, also 5-methyl-1 or 5-amino-1,3,4-thiadiazole-2
-yl group, 3-methyl-1,2,4-thiadiazole-
5-yl group, 5-amino- or 5-methylamino-1
, 2,4-thiadiazol-3-yl or 4-hydroxy-1,2,5-thiadiazol-3-yl, oxasilyl or isoxazolyl groups (which are unsubstituted or unsubstituted, e.g. amino groups) , lower alkyl and/or phenyl groups), e.g. 2- or 4-oxasilyl groups or 3-inxazolyl groups, e.g. the corresponding unsubstituted groups, and also 4-methyl-2-oxasilyl groups, 4 .5-diphenyl-2-oxasilyl group, 2-amino-4-oxasilyl group or 5-methyl-3-isoxazolyl group nioxadiazolyl group, which is unsubstituted or, for example, a lower alkyl group, an amine group or Phenyl group (phenyl group can be substituted with, for example, a nitro group)
For example, 1,2,4-oxazole-
5-yl, 1,2,4-oxazol-3-yl or 1,3,4-oxazol-2-yl, e.g.
Corresponding unsubstituted group: and also 5-methyl-1,3,
4-oxadiazol-2-yl group, 5-phenyl-1
,3,4-oxadiazol-2-yl group or 5-(
4-nitrophenyl)-1,3,4-oxacyaso
-2-yl, furyl or chenyl groups, which are unsubstituted or substituted, for example with halogen atoms or amino-lower alkyl groups, such as 2- or 3-furyl groups or 2- or 3-cheniA4, e.g. the corresponding unsubstituted group, 5
-methyl- or 5-aminomethyl-2-furyl group, or 5-aminomethyl-2-chenyl group, tetrahydrofuryl group substituted with oxo group, such as 2-oxotetrahydrofuryl group, pyridyl group (which may be unsubstituted or substituted, for example with hydroxy groups, halogen atoms, lower alkyl groups, amine groups and/or oxide groups), e.g. 2-23- or 4-
a pyridyl group, such as the corresponding unsubstituted group, 1-oxide-2-pyridyl group or 4-chloro-1-oxide-
2-pyridyl group, or 1,2-dihydropyrrolnor group, which is unsubstituted or substituted, for example with lower alkyl groups, amine groups, di-lower alkylamino groups, oxo groups and/or carboxy groups; 1,2-dihydro-4-pyrimidyl group, e.g. 2
-oxo-1,2-dihydro-4-pyrimidyl group or 6-methyl-15-methyl-16-amino-16-dimethylamino, 5-carboxy group or 6-carboxy-2-oxo-1,2-dihydro- 4-pyrimidyl group. Examples of the gold-paku heterocyclic lower aliphatic group R2 are as follows: an unsubstituted or substituted heterocyclic methyl group, a heterocyclic ethyl group or a heterocyclic zolopyl group, such as -col-1 -ylmethyl group or dihydropyrrol-1-ylmethyl group, said group being unsubstituted or substituted with a lower alkyl group or a halogen atom, and, for example, a pyrrol-1-ylmethyl group, 3-methylpyrrol-1-ylmethyl group, 3,4-dichloropyrrol-
1-methyl, 2,3- or 2,5-dihydropyrrol-1-ylmethyl, unsubstituted or oxo-substituted pyrrolidylmethyl, such as 2- or 3-pyrrolidylmethyl or 2-oxo-3-pyrrolidylmethyl group or 2-oxo-5-pyrrolidylmethyl group, diazolylmethyl group, e.g. imidazole-
1-ylmethyl, imidazol-4-ylmethyl or pyrazol-1-ylmethyl, said groups being unsubstituted or substituted, for example with lower alkyl; triazolyl Methyl group, for example IH-1,2,3-triazol-1-ylmethyl group, 1) I-1,2. 4-triazol-1-ylmethyl group or IH-1,
2,4-)lyazol-3-ylmethyl group, said group being unsubstituted or empty, such as lower alkyl group, carboxy-lower alkyl group, amino group and/or
or substituted with a phenyl group, for example,
the corresponding unsubstituted group, 4-dimethyl or 5-methyl-1,2,
3-triazol-1-ylmethyl group or 5-methyl-5-amino- or 5-phenyl-II (-1,2゜4-triazol-3-ylmethyl group; tetrazolylmethyl group, e.g. IH- Tetrazol-1-ylmethyl group, IH-tetrazol-1-eth-1-yl group, IH
-tetrazol-1-eth-2-yl group, IH-tetrazol-1-prodel-yl group, IH-tetrazol-1-prop-2-yl group, IH-tetrazol-1-
glob-3-yl, 2H-tetrazol-2-ylmethyl or IH-tetrazol-5-ylmethyl, said groups being unsubstituted or, for example,
lower alkyl group, calgexi lower alkyl group, sulfo-
The corresponding unsubstituted group, 5-amino-15-carboxymethyl-,5-(2-carxyethyl)-1
5-sulfomethyl-15-(2-dimethylaminoethyl)- or 5-phenyl-IH-tetrazol-1-ylmethyl group, 5-amino-15-carboxymethyl-5
5-sulfomethyl-15-(2-dimethylaminoethyl)- or 5-phenyl-2H-tetrazol-2-ylmethyl group, or 1-(2-carxyethyl)- or 1-(2-dimethylaminoethyl)- I/) -2H-tetrazol-5-ylmethyl, pyridylmethyl or dihydropyridylmethyl, for example pyridiniomethyl, 2-23- or 4-pyridylmethyl or 1
.. a 2- or 1,4-dihydropyrid-1-ylmethyl group, said group being unsubstituted or substituted, preferably with an oxo group, and can be further substituted, for example with a norogon atom; For example, 2-oxo-1,2-dihydropyrid-1-ylmethyl group or 4-oxo-1,4-dihydropyrid-1
-ylmethyl group, dihydropyrid-1-ylmethyl group,
For example, 2H-1,2-dihydro- or L/14H-1
,4-dihydro-pyrimid-1-ylmethyl group,
The groups are unsubstituted or substituted, preferably with oxo groups, and can be further substituted, for example with lower alkyl groups, amino groups, no-lower alkylamino groups or carboxy groups, for example: 2-oxo-1,2-dihydro-pyrimid-1-ylmethyl group, 6-methyl-15-methyl-16-amino-16-dimethylamino, 5-carboxy group or 6-carpoxy 2-oxo-1,2-dihydropyride -1-ylmethyl group or 4-oxo-1,4-dihydro-pyrimid-1-ylmethyl group, furylmethyl group, e.g. 2-
Furylmethyl group, tetrahydrofurylmethyl group,
Said radicals may be unsubstituted or substituted, for example with oxo, for example 2-oxotetrahydrofurylmethyl, thenylmethyl, e.g. a thiazolylmethyl group or a thiadiazolylmethyl group, which is unsubstituted or substituted, for example with an amine group, such as a 2-amino-oxazol-4-ylmethyl group, -aminothiazol-4-ylmethyl group or 5-amino-1,2
, 4-thiazodiazol-3-ylmethyl group, or indolylmethyl group, such as indol-3-ylmethyl group. Particularly preferred radicals R2 are those present in compounds of formula (1) which have particularly pronounced antimicrobial properties. Examples of such groups R2 are aminomethyl, 2-aminozolod-1-yl, carbamoyloxymethyl, 1
-methyltetrazol-5-ylthiomethyl group, 2-(
1-tetrazolyl)propyl group, 2-oxo-5-tetrahydrofurylmethyl group, 2-oxo-5-pyrrolidylmethyl group, 2-aminoethylthio group, 2-formamidinoethylthio group, 2-carbamoyloxyethylthio group group, 1-imidazolyl group, 4,5-dimethyl-1-imidazolyl group, 4-methyl-5-thiazolyl group, 5-methyl-4-thiazolyl group and 2-amino-4-methyl-5
-thiazolyl group, and protected derivatives of -tn et al. The functional groups present in the compound of formula (1), namely hydroxy group, cal? An xy group, an amino group or a sulfo group can be protected with a common protecting group R or R3. Common protecting groups are those readily available for use in penem, Knidyline, cephasporin and peptide chemistry. Such protecting groups protect the functional groups in question from undesirable removal and substitution reactions, etc. during the synthesis of the compound of formula (1) from its precursors, and allow removal without damaging the benem ring structure. I can do it. Such protecting groups can be easily removed, ie, without unwanted and hazardous secondary reactions, for example by solvolysis or reduction, or under physiological conditions. Protecting groups of this type and methods for their introduction and removal are described, for example, in the following documents: J, F, W. McOmie, 6 Protective Groups in Organic Chemistry
T. W. Green, Plenum Press, London, New York, 1973;
eeene), 1 Protecting groups in organic synthesis (Protec
tive Groupsin Organic Syn
thesig”, Wiley, New York, 1981: “1 The Peptides
es)', Vot, I, Schroeder I')7
5chroeder und Luo
bka), Academic Press (Academic
Pr@ms), London, New York, 196
5; and Houbsn-We
yl), 'Methodender of Organic Chemistry
Organiseben Chemie)', Vo
t, 15/1, rorg, Cime Verlag (
Georg ThiemeVerlmg), Schunotgard, 1974° In the compound of formula (1), the group R2
Hydroxy groups present therein can be protected, for example, with acyl groups. Examples of suitable acyl groups are: lower alkanoyl groups (which are unsubstituted or substituted with...o)f atoms, such as acetyl or trifluoroacetyl groups, benzoyl groups; (which may be unsubstituted or substituted with a nitro group), for example a benzoyl, 4-nitrobenzoyl or 2,4-dinitrobenzoyl group, a lower alkoxycarvinyl group (which may be unsubstituted or substituted with a nitro group). 2-bromoethoxycarbinyl group or 2,2,2-trichloroethoxycarbinyl group, lower 9 alkenyloxycargonyl group, such as allyloxycargonyl group, aIJ -lower alkenyloxy argonyl group (which may be substituted or substituted in the aryl ring)
For example, 3-7 enyl allyl oxycar? Nyl (cinnamyloxycarbonyl) group [wherein the aryl group, i.e. the phenyl group, can be substituted with one, two or more substituents of the following substituents: for example, a lower alkoxy group such as a methoxy group, ), a rhodan atom, e.g. a chlorine or fluorine atom, and/or a nitro group], or a phenyl-lower alkoxycarbonyl group (which is unsubstituted or substituted with a nitro group) e.g. 4-nitrobenzyloxycarbonyl Base. Further examples of suitable hydroxy protecting groups are as follows:
Trisubstituted silyl group, e.g. tri-lower alkylsilyl group, e.g. trimethylsilyl group, Matsuji t-butyl dimethylsilyl group, 2-halo lower alkyl group, e.g. 2-chloro-12
- bromo, 2-iodo and 2,2.2-)lichloroethyl groups, and phenyl-lower alkyl groups (which may or may not be substituted), rhodane atoms such as chlorine atoms, lower alkoxy groups such as methoxy groups and/or nitro (substituted with a group) such as the corresponding benzyl group. tri-lower alkylsilyl group, lower alkenyloxycal? Nyl groups and halogen-converted lower alkoxyl groups are preferred hydroxy protecting groups. The carboxyl group present in the radical R2, and also the carboxyl group present in the 3-position of the penem ring or in the 1-position of the oxalic acid half-ester, is usually protected in esterified form, and the ester group is mildly protected. Under mildly reductive conditions, such as hydrogenolytic conditions, or under mild solvolytic conditions, such as acidolytic or especially basic or neutral hydrolytic conditions. can be released. The protected carboxy group can also be an esterified carboxy group, which can be easily converted to a different functionally modified carboxy group, such as a different esterified carboxy group. Such esterified carboxy groups preferably contain lower alkyl groups branched at the 1-position or suitably substituted at the 1- or 2-position as the esterifying group. Preferred carboxy groups in esterified form, which also include the -COOR color, are inter alia lower alkoxycarbyl groups, such as methoxycarbyl groups,
Ethoxylic N-nyl group, inzolopoxycal? Nyl group or t datoxycargenyl group, and aryl or heteroarylmethoxycarbonyl group (1 to 3 7'
or one monocyclic heteroaryl group), each of the foregoing groups having one" or more, for example, a lower alkyl group, such as a t-lower alkyl group, such as a t-butyl group. groups, halogen atoms such as chlorine atoms and/or nitro groups. Examples of such groups are: penzyloxycarbinyl groups, which are unsubstituted or ,
For example, a 4-nitropentyloxycarbinyl group, a diphenylmethoxycarbonyl group or a triphenylmethoxycarbonyl group (substituted as described above)
for example a diphenylmethoxycarbonyl group, or a picolyloxycarbunyl group (unsubstituted or substituted, e.g. as described above),
A 4-picolyloxycarbunyl group, or a furfuryloxycarbo=kM, for example a 2-furfuryloxycarbonyl group, each of which is substituted or substituted, for example as described above. A further suitable group is
A lower alkanoylmethoxycarbunyl group, for example acetonyloxycarb? nyl group, amylmethoxycarbonyl group (wherein the aroyl group is preferably a benzoyl group, which benzoyl group is substituted, for example, with a halogen atom, e.g. a bromine atom), e.g. phenacyloxycarbonyl group, halo-lower alkoxycarbonyl group groups, e.g. 2-halo lower alkoxyl g
= group, example i is 2P212-) vchloroethoxycarzanyl group, 2-chloroethoxycarbonyl group,
2-promoethoxy group or 2-iodoethoxy group, mataha ω-halo lower alkoxycarbonyl group (wherein the lower alkoxy group contains 4 to 7 carbon atoms), e.g. 7I nyl group, phthalimidomethoxycarbunyl group, lower alkenyloxy:)'J A/ &nyl group, f9Lttd,
Allyloxycarbyl group, aryl lower alkenyloxycarbonyl group (which is unsubstituted or substituted in the aryl ring) e.g. 3-phenylalkoxycarbonyl (cinnamyloxycarbinyl) [where the aryl ring, i.e. The phenyl ring can be substituted with one or more of the following substituents: a lower alkoxy group such as a methoxy group, a halogen atom such as a chlorine or fluorine atom, and/or a nitro group],
or an ethoxycarbonyl group which is substituted in the 2-position by a lower alkylsulfonyl group, a cyano group, or by a trisubstituted silyl group, such as a tri-lower alkylsilyl group or a triphenylsilyl group, such as 2-methylsulfonylethoxycarbonyl group, 2-
cyanoethoxycarbyl group, 2-trimethylsilylethoxycarbonyl group or 2-(di-n-butylmethylsilyl)ethoxyruzenyl group. Carboxy protecting groups are also esterified carpoquine groups, which can be removed under physiological conditions. In the case of oral administration, it is expressed in the gastrointestinal tract (
It protects the compounds of I) from forming salts, thus preventing premature secretion, and in particular the acyloxymethoxycarbunyl group (where the acyl group is, for example, a group of an organic carboxylic acid, preferably a lower alkanecarboxylic acid). or a group of an arylcarboxylic acid, such as benzoic acid, which group can be substituted, for example, with an amine group, or where the acyloxymethyl group is intended to form a lactone group. Examples of such groups are: lower alkanoyloxymethoxycarbonyl group, amino-lower alkanoyloxymethoxycarbonyl group, preferably α-amino-lower alkanoyloxymethoxycarbonyl group, lower alkanoylaminomethoxycarbonyl group, benzyl group. aminomethoxycarvinyl group,
4-crotonolactonyl group and 4-butyrolactone-
4-yl group. can be desorbed under physiological conditions,
Examples of other esterified carboxyne groups R2 are as follows: 5-indanyloxycargenyl, 3-phthalidyloxycarbunyl, 1-lower alkoxycarbonyloxy-lower alkoxy/L /W nyl group, 1-
lower flukoxy lower alkoxycargonyl group or 2
-oxo-1,3-dioxolene-4-ylmethoxycarbinyl group, which is substituted with a lower alkyl group or a phenyl group in the 5-position of the dioxolene ring. Other protected carboxyne groups in esterified form are suitable organosilyloxycarbinyl groups and also organostannyloxycarbinyl groups. In these groups, the silicon atom or tin atom preferably contains a lower alkyl group, preferably a methyl group or an ethyl group, or a lower alkoxy group such as a methoxy group as a substituent. Suitable silyl and stannyl groups are in particular tri-lower alkylsilyl groups, preferably trimethylsilyl or dimethyl-tert-butylsilyl groups, or suitably substituted stannyl groups, for example)! j-n-
It is a butylstannyl group. Preferred protected groups include the 4-nitropenzoloxycarbonyl group, the lower W alkenyloxycarbonyl group or the allyloxycarbinyl group, and the ethoxycarbonyl group; Substituted in the 2-position by a lower alkylsulfonyl group, a cyanogen-based lower alkylsilyl group, such as a trimethylsilyl group or a di-n-butyl-methylsilyl group. Easily removable acylamino groups, acylimino groups, etherified submercaptoamino groups, and silylamino groups must be in the form of stannylamino groups, enabano groups, nitro groups, or azido groups7!I In a suitable acylamino group, the acyl group can be, for example,
Organic acids containing up to 18 carbon atoms, preferably alkanecarboxylic acids (which may be substituted with sidelights, heron atoms or phenyl groups) or benzoic acids (which may be substituted with e.g. (which can be substituted with a halodane atom, a lower alkoxy group or a nitro group) or an acyl group of a carboxylic acid half ester. Examples of such acyl groups are: lower alkanoyl groups such as phorbal, acetyl or propionyl, halo lower alkanoyl groups such as 2-haloacetyl, preferably 2-fluoro-12-promoyl. , 2-iodo-12,2,2-)refluoro- or 2,2.2
- trichloroacetyl group, benzoyl group or substituted benzoyl group such as benzoyl group, halobenzoyl group such as 4-chloropenzoyl X, low i alkoxybenzoyl group such as 4-methoxybenzoyl group, nitrobenzoyl group such as 4-nitrobenzoyl group . Particularly suitable acyl groups are also: lower alkenyloxycarvinyl groups, such as allyloxycarginyl groups, aryl-lower alkenyloxycarbyl groups, which are unsubstituted or aryl For example, 3-phenylallyloxycarbinyl (cinnamyloxycarzenyl) [where a ring group, i.e., a phenyl group, is substituted with two or more of the following groups] For example, a lower alkoxy group such as a methoxy group, a rhodane atom such as a chlorine or fluorine atom and/or a nitro group] or a lower alkoxycarbonyl group (which may be unsubstituted or substituted at the 1- or 2-position 6t) lower alkoxycarbinyl groups, such as methoxy- or ethoxy-carbonyl groups, unsubstituted or substituted pencyloxycarbinyl groups, e.g. pencyloxycarbinyl groups, 4-nitropene, soloxy carbinyl group, aroylmethoxycar is a nyl group (
The aroyl group here is preferably a benzoyl group or a benzoyl group substituted, for example by a halodane atom, for example by a bromine atom), or phenacyloxycarbinyl &
, 2-halo lower alkoxycarbonyl side light group 282
.. 2-) Lichloroethoxycarvinyl? ! , 2-chloroethoxycarbonyl group, 2-bromoethoxycarbonyl group or 2-iodoethoxycarbinyl group, or 2-(trisubstituted silyl)ethoxycarbonyl group, e.g.
tri-lower alkylsilylethoxycardenyl group, such as 2-trimethylsilylethoxycardenyl group or 2-trimethylsilylethoxycardenyl group;
(di-n-butylmethylsilyl)ethoxycarbonyl group, or 2-)lyarylsilylethoxycargenyl,
For example, IJ is a 2-triphenylsilylethoxycarbonyl group. Acylimino group

【おいて、アシル基は、例えば、12個
までの炭素原子を含有する有機ジカルボン酸、ことに適
当な芳香族、ジカルボン酸、例えば、フタル酸のアシル
基である。このような基は好ましくはアシルイミノ基で
ある。 エーテル化されたメルカゾトアミノ基は好ましくはフェ
ニルチオアミノ基(この基は置換ばれてAないかあるい
は低級アルキル基例えばメチル基またはブチル基、低級
アルコキシ基例えばメトキシ井、ハロダン原子例えば塩
素原子または臭素原子、および/またはニトロ基で置喚
これている)あるいはビリゾルチオアミノ基である。対
応する基は、例えば、2−または4−ニトロフェニルチ
オアミノ基または2−ビリゾルチオアミノ基である。 シリル−またはスタンニルアミノ基は好ましくは有機シ
リル−またはスタンニルアミノ基であり、ここでケイ素
原子またはスズ原子の置換基は好ましくは低級アルキル
基例えばメチル浦、工千ル基、n−ブチル基またはt−
グチル基、または低級アルコキシ基例え(ばメトキシ基
である。とくに適当なシリル基またはスタンニル基はト
リー低級アルキルシリル基好ましくはトリメチルシリル
基、およびま念ツメチルーt−ブチルシリル基、または
適当に置換されたスタンニル基例えばトリーn−グチル
スタンニル基である。 他の保ylこれたアi)基は、例えば、エナはノ基であ
り、この基は2−位置の二重結合において親電子置換基
例えばカルがニル基を含有する。この型の保護基は、例
えば、1−アシル−低級アルク−1−エン−2−イル基
であり、ここでアシル基は、例えば、低板アルカンカル
ゲン酸例えば酢酸、安息香酸(この酸は、例えば、低級
アルキル基例えばメチル基またはブチル基、低級アルコ
キシ基例えばメトキシ基、ハロダン原子例えば塩素原子
および/またはニトロ基で置換されていることができる
)、あるいは好ましくは炭酸の半エステル例えば炭酸の
低級アルキル半エステル例えば炭酸のメチル半エステル
もしくはエチル半エステルの相当する基であり、一方低
級アルクー]−エンは好ましくは1−プロインである。 適当な保護基は好ましくは1−低級アルカノイルデロデ
ー1−エン−2−イル基、例えば、】−アセチルゾロデ
ー】−エン−2−イル基、または1−低級アルコキシカ
ルがニルゾロデー1−エン−2−イル基例、tば】−エ
トキシカル?ニルゾロ7’−1−エン−1−イル基であ
る。 好ましい保護さf″したアミノ基は、例えば、アット基
、フタルイばド共、ニトロ基、低級アルケニルオキシカ
ルはニルアミノ基例えばアリルオキシカルぎニルアミノ
基、および非置換まfC,はニトロ置換のベンジルオキ
シカルがニルアミノ基である。 驚くべきことには、R2が保護されたアミノメチル基で
ある化合物において保護基としてシンナミルオキシカル
ボニル基を使用すると、式(11、式(財)、式■およ
び式■の結晶質中間体が得られる。 基R2中の保護づれたスルホ基は好ましくはエステル化
はれたスルホ基であり、例えば、脂肪族、環式脂肪族、
環式脂肪族−脂肪族、芳香族または芳香脂肪族のアルコ
ール、低級アルカノールにより、あるいはシリル基また
はスタンニル基例えばトリー低級アルキルシリル基によ
ってエステル化されたスルホ基である。スルホ基におい
て、ヒドロキシ基は、例えば、エステル化されたカルボ
キシ基におけるヒドロキシ基と同じ方法でエーテル化す
ることができる。 カルボキシル保護基としてのR3の意味は、上記に定義
した保護されたカルボキシ基から推定することができる
。 式(n)の化合物中のWは工程(a)において定義した
通りである。 以下余白 本発明の化合物の塩類は、好ましくは式(1)の化合物
の医薬的に許容されつる無毒の塩類である。 このような塩類は、例えば、式(I)の化合物中に存在
する酸基、例えば、カルボキン基およびスルホ基から形
成され、そしてそれらの例は次の通シである:金属塩類
およびアンモニウム塩類例えばアルカリ金属およびアル
カリ土類金属の塩類例えばナトリウム、カリウム、マグ
ネ7ウムまたはカルンウムの塩類、およびアンモニアと
のアンモニウム塩類あるいは適当な有機アミン例えば低
級アルキルアミン、例えば、トリエチルアミン、ヒトa
キン−低級アルキルアミン、例えば、2−ヒドロキシエ
チルアミン、ビス(2−ヒドロキノエテル)アミンまた
はトリス(2−ヒドロキシエチル)アミン、カルボン酸
の塩基性脂肪族エステル、fatば、2−ジエチルアミ
ノエチル4−アミノベンゾエート、低級アルキレンアミ
ン、ガニば、l−エテルピペリジン、シクロアルキルア
ミン、例えば、ジシクロヘキシルアミン、またはベンジ
ルアミン、例えば、 N 、 N’−ノベンソルエテレ
ンジアミン、ジベンジルアミンまたはN−ペンツルーβ
−フェネチルアミンとの塩類。塩基性基例えばアミノ基
を有する式(1)の化合物は、例えば、次の酸類と酸付
加塩を形成することができる:無機酸例えば塩酸、硫酸
またはリン酸、あるいは適当な有機カルボン酸またはス
ルホン酸、例えば、酢酸、コノ・り酸、フマル酸、マレ
イン酸、酒石酸、7−ウ酸、クエン酸、安息香酸、マン
デル酸、リンゴ酸、アスコルビン酸、メタンスルホンe
”!fcハ4− トルエンスルホン酸。酸基および塩基
性基を含有する式(1)の化合物は、また、分子内塩の
形、すなわち、双性イオンの形であることができる。 単離または精製のため、医薬的に許容されうる塩類を使
用することがまた可能でちる。医薬的に許容されうる無
毒性塩だけを治療学的に使用し、そしてそれが好ましい
。 本発明方法の個々の工程は、次の通りに実施する。 工程(&) 式(II)の出発化合物は公知である〔例えば、欧州特
許82113、ドイツ国公開明細書3,224,055
号、同3,013,997号またはS、ヘイネツ7アン
(Hanessian)ら、ジャーナルーオブ・アメリ
カン・ケミカル・ンサイアティ−(J−Am・Chem
、 Soc、 ) l 985 、107 、1438
−1439)かあるいはそれ自体公矧の方法で製造する
ことができる。基−5−5−R2で置換することのでき
る基WはM脱基、例えば、アシルオキシ基〔ここでアシ
ル基は、例えば、有機カル−J?ン酸の基、例えば、低
級アルカノイル基、例えば、アセチル基またはゾロビオ
ニル基、ベンゾイル基またはニトロ置換ベンゾイル基、
例えば、ベンゾイル基、4−ニトロベンゾイル基または
2.4−ジニトロベンゾイル基、またはフェニル−低級
アルカノイル基、例えば、フェニルアセチル基、スルホ
ニル基Ro−8O2−(ここでR8は有機基、例えば、
低級アルキル基またはヒドロキシ置換低級アルキル基例
えばメチル基、エテル基、t−ブチル基、2−ヒドロキ
ノエテル基、1−ヒドロキンゾロf−2−イル基または
l−ヒドロキ/−2−メチルグログ−2−イル基、ベン
ノル基、または場合によジ低級アルキル基または〕・ロ
グン原子で置換されていることのあるフェニル基例えば
フェニル基、4−ブロモフェニル基または4−メチルフ
ェニル基である)である〕、・・orン原子例えば臭素
原子、ヨウ素原子または好ましくは塩素原子、あるいは
またアット基である。Wは好ましくはアセトキ7基、ペ
ンツイルオキシ基、メタンスルホニル基、ベンゼンスル
ホニル基、トルエンスルホニル基−i *id塩素原子
である。 式(n)の出発化合物は、シス−またはトランス−化合
物あるいは/スートランスー化合物の混合物として使用
することができる。すなわち、アゼテノン環のC4原子
はR−、S−またはR,S−立体配置を有することがで
きる。 式(Iの基を導入する化合物は、対応するチオカルボン
酸H−8−C(−Z)−R2それら自体あるいはそれら
の塩類、例えば、アルカリ金属塩類、例えば、ナトリウ
ム塩またはカラリム塩である。 置換は有機溶媒の中で、例えば、低級ブルカノール例え
ばメタノールまたはエタノール、低級アルカノン例えば
アセトン、低級アルカンカルホキ/アミド例えばジメチ
ルホルムアミド、または同様な不活性溶媒の中で実施す
ることができる。この反応は室温において通常実施され
るが、また高温または低温において、例えば約0℃〜4
0℃の範囲の温度において実施できる。 導入される基は基R4−CH(OH)によってもっばら
トランス−位置に向けられる。 工程(b) 式(Mの中間体において、基R2中に存在する官能基、
例えば、カルH?キ/基、アミン基筒たはヒドロキシ基
は普通の保護基によって保護される。 式(■のカルボン酸のアシル基を導入するアシル化剤は
、式(■のカルボン酸自体あるいは反応性の官能性誘導
体またはその塩である。1′−ヒドロキノ基ならびにア
ミン基のアシル化に望ましいので少なくとも2当量のア
シル化剤を用いる必要がある。 式(■の遊離酸をアシル化に使用するとき、反応は一般
に適当な縮合剤の存在下に実施する。縮合剤の例は、次
の通シである:カルボジイミド、例1’、N 、 N’
−ソエチルカルゴジイミド、N 、 N’−ジゾロピル
カル〆ジイミド、N 、 N’−ジ7クロヘキシルカル
ボノイミドまたはN−エテル−N/〜3−ツメチルアミ
ノゾロビルカルボソイミド、適当なカルボニル化合物、
例えば、カルビニルジイミダゾール、または1,2−オ
キサシリウム化合物、例えば、2−エチル−5−フェニ
ル−1,2−オキサシリウム−3′−スルホネートまた
は2−L−ブチル−5−メチル−1,2−オキサゾリウ
ムノ!−クロレート、または適当なアノルアミノ化合物
、例えば、2−エトキ/−1−エトキ/カルゴニ・ルー
1,2−ジヒドキノリン。 縮合反応は好ましくは無水反応媒体の中で、好ましくは
不活性溶媒、例えば、塩化メチレン、ジメチルホルムア
ミド、アセトニトリルまたはテトラヒドロフランの中で
、望むならばあるいは必要に応じて冷却または加熱しな
がら、例えば、約−40℃〜+100℃、好ましくは約
−20℃〜+50℃の範囲の温度において、必要に応じ
て、不活性気体の雰囲気例えば窒累′lf−囲気中で実
施する。 式(V)のカルボン酸の反応性、すなわち、カルづ?千
ノ゛rミド形成性、官能t/I:誘導体は、好ましくは
、無機酸例えばハロケ゛ン化水素酸の無水物好ましくは
混合無水物であり、そして、例えば、対応するカルはン
酸・・ロダン化物、例えばカルボン酸臭化物または好ま
しくはカル1rン酸塩化物、およびまたカル72ン酸ア
ツトである。混合無水物の形成に適する他の無機酸類は
、リン含有酸類例えばリン酸、ソエチルリン酸または亜
リン酸、イオウ含有酸類例えば硫酸、または7アン化水
素酸である。 式(■のカルボン酸の反応性官能性誘導体は、また、有
機カルボン酸、例えば、置換されて匹ないかあるいは・
・ロダン原子例えば7ツ累原子または塩素原子あるいは
シアノ基で置換された低級アルカンカルビン酸、例えば
、ピバリン酸、インバレリン酸、トリフルオロ酢酸また
は71)酢酸と、あるいは炭酸の低級アルキル半エステ
ル例えば炭酸のエチルまたはインブチルの牛エステルと
、あるいは有機の、例えば、脂肪族または芳香族のスル
ホン酸例えばメタンスルホンriまたはp″″″トルエ
ンスルホン酸合することによって形成される。 式(■のカルボン酸の反応性官能性誘導体は、また、ビ
ニル系(vinylogous )アルコールすなわち
エノール例えばビニル系低級アルケノールとの活性化エ
ステル、イミノメチルエステルハライド例えdツメチル
イミノメチルエステルクロライド(これは式(V)のカ
ルボン酸から得られる)およ〜び、例えば、式((CH
,)2N@=C(C4)CH3)Ctoのジメチル−(
1−10ロエテリデン)−イミニウムク。 ライド(これは例えば、N、N−ジメチルアセタミドお
よびホスダンまたはオキサリルクロライドから得ること
ができる)、アリールエステル、例えば−・ロダン原子
例えば塩素原子および/またはニトロ基で置換されたフ
ェニルエステル例えばペンタクロロフェニル、4−ニト
ロフェニルマタハ2.4−ジニトロエステル、N−へテ
ロ芳香族エステル例えばN−ベンゾトリアゾールエステ
ル、またはN−ノア/ルアミノエステル例、t ij 
N−スク/ンイミノまたはN−フタルイミノエステルで
ある。 好lしいアシル化剤は酸ハライド例えばクロライド、最
も好ましくはアリルオキサレートクロライドである。 式(■のカルボン酸の反応性官能性誘導体、好ましくは
酸ハライドを用いるアシル化は、好ましくは適当な酸受
容体、例えば、適当な有機塩基の存在下に実施する。適
当な有機塩基の例は、次の通りである:アミン、例えば
、第三アミン、例えば、トリー低級アルキルアミン、例
えば、トリメチルアミン、トリエチルアミンまたはエチ
ルジインゾロビルアミン、またはN、N−ノー低級アル
キルアミン、例えば、N、N−ツメチルアニリン、また
は環式第三アミン、例えば、N−低級アルキル化モルホ
リン、例えば、N−メチルモルホリン、あるいは例えば
ビリノン型の塩基、例えばビリノンである。適当な酸受
容体は、また、無機塩基、例えば、アルカリ金属または
アルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩または重炭酸塩、
例えば、ナトリウム、カリウムまたはカルシウムの水酸
化物、ナトリウム、カリウムまたはカルシウムの炭酸塩
あるいはナトリウム、カリウムまたはカルシウムの重炭
酸塩である。 式(V)のカルボン酸の反応性官能性誘導体を用いるア
シル化は、好ましくは、不活性の、好ましくは無水の溶
媒または溶媒混合物、例えば、カルボキンアミド例えば
ホルムアミド例えばツメチルホルムアミド、ハロダン化
炭化水素例えば塩化メチレン、四塩化炭素またはクロロ
ベンゼン、ケI・ン例えばアセトン、環式エーテル、例
えば、テトラヒト07ラン、エステル、例え[,6[エ
テル、またはニトリル、例えば、アセトニトリル、また
はそれらの混合物の中で、必要に応じであるいは所望に
応じて、低温または高温、例えば、約−40℃〜+10
0℃、好ましくは一10℃〜+50℃の範囲の温度にお
いて、および、必安に応じて、不活性気体の雰囲気、例
えば、窒素の雰囲気中で実施する。 アシル化反応において使用すべき式(V)の酸の反応性
官能性誘導体は、その場で形成することができる。 工程(c) 三価のリンの有機化合物は、例えば、リン酸から誘導さ
れ、そして好ましくは低級アルカノール例えばメタノー
ルまたはエタノールとのエステル、および/または非置
換または置換の芳香族ヒドロキシ化合物、例えば、フェ
ノールまたはピロカテコールとのエステルであるか、あ
るいは式P(ORa)−N(Rb)2 (式中R&およ
びRb−は各々独立に他の低級アルキル基例えばメチル
基またはアリール基例えばフェニル基である)のアミド
エステルである。好ましい三価のリンの化合物は、トリ
ー低級アルキルホスファイト、例えばトリメチルホスフ
ァイト、トリエチルホスファイトまたはトリインゾロビ
ルホスファイトで6る。 この反応は好ましくは不活性有機溶媒、例えば、芳香族
炭化水素、例えば、ベンゼンまたはトルエン、エーテル
、例えば、ジオキサンまたはテトラヒト07ラン、また
はハロダン化炭化水素、例えば、塩化メチレンまたはク
ロロホルムの中で、約20〜80℃、好ましくは約40
〜60℃の範囲の温度において実施し、1モル当量の式
(至)の化合物を2モル当量のリン化合物と反応させる
。好ましい手順は、不活性溶媒中の式(5)の化合物を
反応器に装入し、そして好ましくは同一の不活性溶媒中
に溶解した、リン化合物を実質的な時間にわたって、例
えば、2〜4時間にわたって滴下し、そしてこの反応混
合物を約100〜110℃に加熱して反応を完結するこ
とである。 この方法の好ましい実施態様において、式(−′のの出
発物質を上記に示したように調製し、そして反応混合物
から単離せずに、三価のリンの有機化合物と反応させる
。 工程(d) 式(4)の得られた化合物において、保護基R3、R5
0−Co−Coおよび基R2中に存在する任意の保護基
R2例えば、保護されたカル?キフル基、ヒドロキシル
基、アミン基および/またはスルホ基をそれ自体公知の
方法で、例えば、加溶媒分解好ましくけ加水分解、アル
コーリシスまたはアシドリシスにより、あるいは還元好
ましくは水添分解またけ化学的還元により、必賢に応じ
て段階的におよび任意の順序であるいは同時に除去する
ことができ、そして水素で置換することができる。 こうして、オキサリルエステル基、−Co−Coo−R
。 は段階的におよび/または選択的に(すなわち、4−カ
ルボキル基に2ける保護基R3または他の保護基R2を
保持したまま)除去することができ、そして水素で置換
することかでさる。 この除去は、例えば、アルコール性条件下に、例えば、
アルカリ金属水酸化物、例えば、リチウム、ナトリウム
またはカリウムの水酸化物、あるいは対応する炭酸塩ま
たは、好ましくは重炭酸塩(好ましくは触媒tあるいは
等モル量までのi)の存在下に実施する。適轟な溶媒は
例えば水と水溶性溶媒例えば低級アルカノール例えばメ
タノールエタノールまたはインゾロパノール、低級ケト
ン例えばアセトン、低級環式エーテル例えばジオキサン
またはテトラヒドロフラン、低級ニトリル、例えば、ア
セトニトリル、低級アミド例えばジメチルホルムアミド
、または低級スルホキシド例えばジメチルスルホキシド
などとの混合物である。 1′−オキサリル保護基を必要に応じて選択的に除去す
るために、ケン化を好ましくは水性メタノール(約80
%)中で重炭酸ナトリウムの存在下に実施する。 以下余白 温度は使用する溶媒の凝結温度ないし沸点、すなわち、
約−20℃〜+100℃の範囲である。 反応は低温、すなわち、0℃〜20℃の範囲、最も好ま
しくは約O℃の温度において実施することが一般に好ま
しい。 また、R1基を後述する方法でまず除去し、次いで得ら
れた1′−シュウ酸半エステルを前述のアルカリ性条件
下に完全にヶノ化することが可能である。 保護されたカルボキシ基例えば−CCO−R5基はそれ
自体公知の方法で遊離化することができる。 例えば、2−位置において三置換シリル基で置換された
あるいは1−位置において低級アルコキシ基で置換され
たt−低級アルコキシカルボニル基まだは低級アルコキ
シカルぎニル基または置換もしくは非置換のジフェニル
メトキシカルボニル基は、例えばカルボン1!I2例え
ばギ酸またはトリフルオロ酢酸で処理し、必要に応じて
親核化合物例えばフェノールまたはアニソールを添加す
ることによって、遊離カルボキシ基に変換することがで
きる。非置換または置換のペンジルオキシカルメニル基
は、例えば、水添分解により、すなわち、金属の水素化
触媒例えば・母ラジウム触媒の存在下に水素で処理する
ことによって脱離することができる。また、適当に置換
されたペンシルオキシカル?ニル基fil、tハ4−二
トロペンジルオキシカルビニル基を化学的還元により遊
離力ルデキシ基に変換することが可能であシ、この変換
は1例えは。 アルカリ金属ジチオナイト例えばナトリウムジチオナイ
トで処理するか、あるいは還元性金属例えばスズで処理
するか、あるいは還元性金属塩例えばクロムω)塩例え
ば塩化クロム(ロ)で、通常金属と一緒に発生期の水素
を生成できる水素供与体1例えば、適当なカルデン酸例
えば低級アルカンカルデン酸(このカルデン酸は置換さ
れていないかあるいは1例えば、ヒげロキシでに換され
ている)、例えば、酢酸、ギ酸またはグリコール酸、ま
たはアルコールまたはチオールの存在下に、好ましくは
水を添加して、処理することによって実施する8アリル
保護基の除去は1例えば、パラジウム化合物、例えば、
テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムと、
アリル基の受容体例えばアセチルアセトンまだは、好ま
しくは、ノメト0ン、および必要に応じてトリフェニル
ホスフィンの存在下Vこ、カルボンm fllえば2−
エチルヘキサン酸またはその塩を添加して、反応させる
ことによって実施できる。前述のように1M元元金金属
たは金属塩で処理することによって、また、2−ハロー
低級アルコキシカルざニル基(必要に応じて2−ブロモ
−低級アルコキシカルボニル基を対応スル2−−1−1
’−AMアルコキシ力ルゴニル基に変換した後)または
アロイルメトキシカルボニル基を遊離カルボキシ基Kf
換することが可能であり。 一方70イルメトキシカルボニル基は、また、親核性(
好ましくは塩形成性)試薬例えばナトIJウムチオフェ
ノラートまだはヨウ化ナトリウムで処理することによっ
て脱離することができる。置換2−シリルエトキシカル
がニル、Th&i、フッ素アニオンを供与するフッ化水
素酸の塩、例えば、アルカリ台紐フッ化物1例えばフッ
化ナトリウムで巨大環式ポリエーテル(「クラウンエー
テル」)の存在K、処理するか、あるいは有機第四塩基
のフッ化物1例えば、フッ化テトラー低級アルキルアン
モニウム、例えば、フッ化テトラブチルアンモニウムで
処理することによって遊離カルボキシル基に転化するこ
とができる。有機シリル基またはスタンニル基例えばト
リー低級アルキルシリル基またはトリー低級アルキルス
タンニル基でコステル化されたカルボキシ基は、普通の
方法で、加溶媒分解により、例えば、水またはアルコー
ルで処理することによって遊離化することができる。2
−位置において低級アルキルスルホニル基またはシアノ
基によって置換された低級アルコキシカルブニル基は1
例えば、塩基例えばアルカリ金属水酸化物またはアルカ
リ土類金属水酸化物またはアルカリ金属炭酸塩またはア
ルカリ土類金属炭酸塩例、tばナトリウムまたはカリウ
ムの水酸化物まだはナトリウムまたはカリウムの炭酸塩
で処理することによって遊離のカルボキシ基に転化でき
る。 基R2が置換基として保護されたヒドロキシ基を含有す
る式(■)の化合物において、保護されたヒト・ロキシ
基はそれ自体公知の方法で遊離ヒーロキシ基に変換する
ことができる。例えば、適当なアシル基によりあるいは
有機シリル基またはスタンニル基によシ保護されたヒP
ロキシ基は、対応する保護されたアミノ基と同一の方法
(下記を参照)で遊離化する。トリー低級アルキルシリ
ル基は、また、例えば、フッ化テトラブチルアンモニウ
ムおよび酢酸で除去することができる(これらの条件下
で、三置換シリルエトキシ基で保護されたカルブキシ基
は脱離されない)。2−ノ・ロー低級アルキル基および
非置換もしくは置換のベンジル基は還元によって除去さ
れる◇ 保護されたアミン基を含有する式(■)の化合物におい
て、前記基はそれ自体公知の方法で、例えば、保護基の
性質に依存して、好ましくは加溶媒分解まだは還元によ
って遊離アミン基に変換することができる。例えば、2
−ノ・ロー低級アルコキシカルボニルアミノ基(必要に
応じて2−プロ七−低級アルコキシ力ルピニルアミノ基
を2・−ヨーp −低級アルコキシカルボニルアミノ基
に転化した後)、アロイルメトキシカルボニルアミノ基
または4−ニトロベンジルオキシカルビニルアミノ基は
、適当なカルボン酸例えば水性酢酸の存在下に適当な化
学的還元剤例えば亜鉛で処理するか、あるいはノ母ラジ
ウム触媒の存在下に水素で接融分解することによって脱
離することができる。アロイルメトキシカルボニルアミ
ノ基は、また、親核性(好ましくは塩形成性)試薬、例
えばナトリウムチオフェノラートで処理することによっ
て脱離することができ、そして4−ニトロベンジルオキ
シカルビニルアミノ基は、また、アルカリ金属ジチオナ
イト、例えば、ナトリウムジチオナイトで処理すること
によりて脱離することができる。非置換もしくは置換の
ベンジルオキシカルボニルアミノ基は、例えば、水添分
解によって、すなわち、適当な水素化触媒例えば・ぐラ
ジウム触媒の存在下に水素で処理することによって脱離
することができ、そしてアリルオキシカルボニルアミノ
基は。 例えば、アリル基の受容体、例えば、アセチルア七トン
または、好ましくは、ジメドン、および必妾に応じてト
リフェニルホスフィンの存在下に、・母ラジウム化合物
例えばテトラキス(トリフェニルホス2イン)ツクラジ
ウムと反応させることにより、およびカルボン酸例えば
2−エチルヘキサン酸またはその塩で処理することによ
って脱離することができる。有機シリル基またはスタン
ニル基で保護されたアミン基は、911えば、加水分解
まだはアルコーリシスによシ遊離化することができ、そ
して2−ハロー低級アルカノイル基、例えば、2−クロ
ロアセチル基で保護されたアミノ基は塩基の存在下にチ
オ尿素で、あるいはチオレート塩例えばアルカリ金属チ
オレートで、あるいはチオ尿素で処理し、そして引き続
いて得られた縮合生成物を加溶媒分解例えばアルコーリ
シスまたは加水分解することによって遊離化することが
できる。 2−置換シリルエトキシカルボニル基で保護されたアミ
ン基は、巨大環状ポリエーテル(「クラウンエーテル」
)の存在下に、フッ素アニオンを供与するフッ化水素酸
の塩例えばアルカリ金属フッ化物例えば7フ化ナトリウ
ムで処理するか、あるいは有機第四塩基例えばフッ化テ
トラー低級アルキルアンモニウム例えばフッ化テトラエ
チルアンモニウムで処理することによって遊離アミノ基
に変換することができる。アジド基またはニトロ基の形
で保護されたアミノ基は1例えば、還元により、例えば
、水素化触媒、例えば、酸化白金、・やラジウムまたは
ラネーニッケルの存在下に水素で接触水素化することに
よシ、あるいは酸例えば酢酸の存在下【亜鉛で処理する
ことによって、遊離アミン基に変換する。フタルイミド
基の形で保−されたアミン基は、ヒドラジンとの反応に
よシ遊離アミン基に変換することができる。さらに、ア
リールチオアミノ基は親核性試薬例えば亜硫酸で処理す
ることによってアミンに変換することができる。 保護された、とくにエステル化された、スルホ基は保護
されたカルブキシ基と同じ方法で遊離化する。 塩形成性基を含有する式(1)の化合物の塩類はそれ自
体公知の方法で製造することができる。こうして、遊離
のカルブキシ基またはスルホ基を含有する式(1)の化
合物の塩類は、例えば、金属化合物例えば、適当な有機
カルボン酸のアルカリ金属塩例えばα−エチルカプロン
酸のす) IJウム塩で処理するか、あるいは無機のア
ルカリ金属またはアルカリ土類金属の塩例えば、重炭酸
す) IJウムで処理するか、あるいはアンモニアまた
は適当な有機アミンで処理し、好ましくは化学瀘論的i
捷たはわずかに小過剰量の塩形成性剤を使用することに
よって形成することができる。式(1)の化合′吻の酸
付加塩は、普通の方法で、例えば、適当な酸または適当
なアニオン交換試薬で処理することンζよって得られる
。式(I)の内部塩は1例えば塩例えば酸付加塩を例え
ば弱塩基によって等延点に中和するか、あるいはイオン
交換剤で処理することによって形成することができる。 塩類は普通の方法で(金属およびアンモニウムの塩類は
、例えば、適当な酸で処理することにより、そして酸付
加塩は、例えば、適当な塩基で処理することによシ)遊
離化合物に転化することができる。 式(1)の得られる化合物のすべての引き続く転化にお
いて、弱アルカリ性または好ましくは中性の条件下で起
こる反応が好ましい。 本発明方法は、また、中間体として得られる化合物を出
発物質として使用し、そして残シの工程をそれを用いて
実施するか、あるいはこの方法を任意の段階でならびに
個々の工程(a)〜(d)において中止する実施態様を
包含する。さらに、出発物質は誘導体の形で使用するこ
とができ、あるいは。 場合により反応条件下で、その場で製造することができ
る。 以下余白 本発明は、式(1)、式(財)、式(6)および式(資
)の新規な化合物にも関する。 式(1)の新規な化合物は、とくにR2がシンナミルオ
キシカルボニルアミノメチル基であり、そしてR1およ
びR3は前記の意味を有し、R1の好ましい意味がメチ
ル基でありかつR5のそれがアリル基であるものである
。 式(V)の新規な化合物は、とくにR2がシンナミルオ
キシカルボニルアミノメチル基であり、そしてR2およ
び2が、前記の(特には好ましい)意味を有するもので
ある。 式(VDおよび式(4)の新規な化合物において、R2
お・よびR3は所定の(特Vこは好ましい)意味?有す
る。 式(1)、式(IV)、式(’vll)および式(■)
のとくに好ましい化合物は、R2がシンナミルオキシカ
ルボニルアミノメチル基である、結晶の形態のものであ
る。 本発明を次の実施例により我、明する。 実が11例において、次の略号を使用する:TLC:薄
層クロマトグラム IR:赤外スペクトル Uv:紫外スペクトル 実施例1 ゼチジノン (、)  水60rnlおよびIN水性NaOH40m
l中のN−アリルオキシカルポニルテオグリシンジシク
ロヘキシルアンモニワム塩14.2II(40ミリモル
)の溶液を、塩化メチレン20dずつの3つの部分で抽
出し、そして水相を0.IN水性HC1約l rntで
pH7−8に調節する。得られる水性チオール酸溶液を
゛、アセトニトリル100ml中(7) (3R,4R
,l’R)−3−(1’ヒドロキシエチル)−4−−<
ンゾイルオキシー2−アゼチジノン4.70.9(20
ミリモル)の溶液に、30℃において5分間かけて加え
る。次いで0.IN水性NILOH2−を25℃で加え
、そしてこのバッチを25℃で30〜35分間がきませ
る。仕上けのため、酢酸エチル250継およびNaCA
’301を分液ろう斗に装入し、次いで反応混合物を加
える。よく撮盆しセして水相を分離した後、有機相を5
%の水性Na I(CO3溶液50ゴで1回洗浄し、そ
してプライン50ゴで2回洗浄し、そして硫酸ナトリウ
ム上で乾燥する。溶媒を回転蒸発器で除去する。 表題化合物が非晶質粉末の形で得られる。粗生成物をシ
リカダルのクロマトグラフィー(トルエン/酢酸エチル
の2:3混合物)で8製することができる。Rf値=0
.23Cメルク(Merk)の板、トルエン/酢酸エテ
ル(1:4):ニンヒドリンで展開〕。 同一の化合物を、また、次のようにして得ることができ
る。 (b)  水360m1およびIN水性NaOH240
mi中のN−アリルオキシカルボニルチオグリシンジシ
クロヘキシルアンモニウム塩85.2!1(239ミリ
モル)の溶液を塩化メチレン40mJの3つの部分で抽
出し、そして水相をIN水性HC1約0.5mJでP1
′(7〜8に調節する。得られる水性チオール酸溶液r
1アセトニトリル300mAおよびH202oml中の
(3S、4R,1’R)−3−(1’−ヒドロキシエチ
ル)−4−t−ブチルスルホニル−2−アゼチジノン3
0.11 (128ミIJモル)の溶液に、28℃にお
いて5分間かけて加える。次いで、0.IN水性NaO
H12,71Jを25℃で加え、そしてパッチを25℃
で30分間かきまぜる。仕上けのため、酢酸エテル70
0dおよびNaC1901を分液ろう斗に取り、次いで
反応混合物を加える。よく振盪しそして有機相を分離し
た後、有機相を54 NaHCOs水溶液100−で1
回、そして塩酸ナトリウム濃溶液100 mlで2回洗
浄し、そしてkWナナトリウム上乾燥する。溶媒を回転
蒸発器で完全に除去する。 次いでCH2C42100−を、部分的に結晶質の残留
物に加え、そして結晶質の未反応の抽出物をい過で単離
しそして乾燥する。涙液を蒸発により濃縮し、そしてシ
リカダル30(lのクロマトグラフィーにかけ、トルエ
ン/酢酸エチル(4:6)で溶離する。得られた表題化
合物は0.23のRf値〔メルク板、トルエン/酢酸エ
チル(4:1);ニンヒドリンで展開コをもつ。 (c)IN水性NaOH1,2ml中のN−アリルオキ
シカルボニルチオグリシンジシクロヘキシルアンモニウ
ム塩42411(1,2ミリモル)溶液を、塩化メチレ
ン1゜5mlの3つの部分で抽出し、そして水相を01
IN水性HC1でp)(8−9に調節する。得られるチ
オール酸水溶液を、アセトニトリル1.71!Ll中の
(3S、4R,1’R)−3−(1’−ヒドロキシエチ
ル)−4−アセトキシ−2−アゼチジノン173.21
n9(1ミIJ %ル)の溶液に25℃において加える
。次いで0、IN水性NaOHO,1ゴを加え、そして
パッチを21〜23℃で35分間かきまぜる。仕上げを
実施例1(a)におけるよりに実施する。粗生成物をク
ロマトグラフィー(トルエン/酢dエテルの2−3混合
物)により8製した後、表題化合物が得られる。 実兄例2 ル、+jキシレート 塩化メチレン〔アロックス(AIOX)で新しく濾過し
た)80ml甲の(3S 、4R,1’R)−3−(1
’−ヒドロキシエチル)−4−(N−アリルオキシカル
?ニルグリシルナオ)−2−アゼチジノン2.88.9
(10,0ミリモル)の溶液に、−10℃〜−15℃に
おいて攪拌し力つ湿気を排除しながら、新しく蒸留した
塩化アリルオキサリル3.86ml (31,5ミリモ
ル)およびN−エテルヅイソプロビルアミン7.69d
(44,8ミリモル)を連続的に加え、そしてかきまぜ
を−10℃におし4て30分間つづける。IRの試料は
、1820crn−’において特性的オキサルイミド−
カルボニル吸収を示す。 仕上げのため、反応混合物をCH2C6250−で希釈
し、氷冷水で3回、そして氷水および飽和N a HC
Os水溶液5rILlで1回洗浄する。水相をCH2C
62で1回抽出する。合わせた有機相をN a 2 S
 O4上で乾燥し、真空蒸発して濃縮し、そして粗生成
物を高真空下に乾燥する。アリル(3S、4R,1’R
)−2−(4−(N−アリルオキシカル?ニルグリシル
チオ)−3−(1’−アリルオキシオキサリルオキシエ
チル)−2−オキソ−1−アゼチノニル〕−2−オキソ
アセテートを含有する粘性外買物〔IR(CH2Cl2
)1760(C)〕をノオキサン30解中に溶解し、そ
してこの溶液を室温で箪素下でトリエチルホスファイト
7rnlc 40.2 ミリモル)で処理する。室温で
15時間後、それ以上のオキサルイミドをIRスペクト
ル中に検出することがでさない(1820α−1におけ
る帯)。この反応混合物を真空蒸発により濃縮し、沙w
i物を3×2蛯の部分のトルエンおよび3×2mlのデ
カンで洗浄し、そして過剰のホスファイト/ホスフェー
トを除去するための分離剤の各々を高真空下でストリッ
ピング除去する。 粗ホスホラン’l化のためにノオキサ7250M中に溶
解し、そして105〜110℃で5時間かき1せる。ア
リル(5R,68,1’R) −2−アリルオキシカル
+Rニルアミノメチル−6−(1’−(アリルオキシオ
キザリルオキシ)エチル)−2−’?ネムー3−カルボ
キシレートを含有する反応混合物〔分析のため、粗壌化
生成物の試料をシリカゲルおよびトルエン/酢酸エチル
の4:1混合物溶離液で精製す;8 UV(EtOH)
315 nm : I R(CH2C62)3440(
NI():1790.1770,1745゜1720(
C)”)を、真空蒸発により約15WLlK濃縮し、次
いでメタノール/H20(8:2)100mj!および
飽和N * HCOs水浴液251nlを0℃で加える
。 20分後、反応混合物を酢酸エチル300−およびH2
O50rnl中に注ぐ。有機相を分離し、そして水相を
再び酢酸エチル1OO11Llで抽出する。合わせた有
機相をN1□S04上で乾燥し、そして50m1の体積
に真空濃縮する。残留物を塩化メチレン200TILl
で希釈し、N a 2 SO4上で乾燥し、そして完全
に真空濃縮する。残留物をシリカゲル80Iのクロマト
グラフィーにかけ、トルエン/酢酸エチル(3:2)で
溶離する。表題化合物がエーテル/ヘキサン(3ニア)
から結晶化後に得られる。融点:・141−141.5
℃;Rf値=0.20Cメルク板、トルエン/酢酸エチ
ル(1:l))。 実施例3 テトラヒドロフラン7.5a中のアリル(5R,6R。 1’R) −2−アリルオキシカルがニルアミノメチル
−6−(1’−ヒドロキシエチル)−2−ペネム−3−
カル?キシレート313■(0,85ミリモル)お・よ
びツメトン174.6〜(1,24ミリモル)の溶液を
、アルゴンで5分間フラッジ−し、次いでデトラキス(
トリフェニルホスフィン)ノやラジウム27■(0,0
23ミリモル)をアルコ゛ンの下で室温において加える
、約5分後に沈殿が形成し始め、そしてさらに2時間か
きまぜた後、濾過によシ単離し、テトラヒドロ7ラン約
10m7で洗浄シフ、次いでH2O4m1中に溶解する
。微量の活性炭をマイクロスパチュラでペーノユ色溶液
に加え、次いで2つの微量のトンシル(TonsllX
フーラー土)を加える。次いでこの混合物を5分間よく
かきまぜ、ヒフ口(Hyflo)で沖過し、そして高真
空下に濃縮する。密な結晶のスラリーを冷エタノール3
dで希釈し、そして吸引濾過する。無色の結晶をテトラ
ヒドロフラン2rnlで洗浄し、そして高真空下に乾燥
する。表題化合物はRf値=0.50 (TLC: N
20 。 0PTI UPC42) ; Cα3g0=+176(
c=0.5゜N20)を有する。 実施例4 (a)  IN水性NaOH1,2rnt中のN −シ
’ 7ナミルオキシカルゴニルテオグリシン30 L8
jn9(1,2ミリモル)の溶液を、0.IN水性HC
1で−8に調節し、そしてアセトニドニル2rILl中
の(3R14R1′R)−(1/−ヒドロキシエチル)
−4−ベンゾイルオキシ−2−アゼデジノン235m1
II(1ミリモル)に25℃において加える。0.1 
N NaOH*f(=i液0.1−を加え、そしてこの
反応混合物を25分間25−26℃でかき唸ぜる。 仕上けのため、この反応混合物?酢酸エテル20彪およ
びグライン10rLlで抽出する。有機相を5%N a
HCOs水溶液5dで洗浄し、プライン51で2回洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして回転蒸発器で溶
媒を除去する。残留物をトルエン/酢けζエテル(2:
3)20mJ中に溶解し、シリカケ°ル19とともeこ
15分間かきまぜ、G2Iラスフリットで沖過し、そし
て沈縮する。表題化合物が非晶質粉末の形で得られる。 融点100−101℃の結晶質表ら化合物が、塩化メチ
レン/ノインゾロビルエーテル(約1.1)から得られ
る。 同一化合物を、また、次のようにして得ることがでさる
: (θ 方法(a)の手順に従い、(:3t<、4R,l
’R) −3−(1′−ヒドロキシエチル)−4−アセ
トキシ−2−アゼチジノン173■(1ミリモル)から
出発し、そげ粗生成物をクロマトグラフィーにかける〔
シリカケ゛ル、トルエン/酢酸エチル(2:3>3゜(
C)方法(LL)の手順に従い、(3S、4R,1’R
) −3−(1′−ヒドロキシエチル)−4−t−ブチ
ルスルホニル−2−アゼチジノン235d(1ミリモル
)から出発し、そして粗生成物をクロマトグラフィーに
かける〔シリカゲル、トルエン/酢酸エチル(2:3)
)。 以下余白 出発物質のN−シンナミルオキシカ/L/ボニルチオグ
リシンは、次のようにして製造することができる:トル
エン25ゴ中のシンナミルアルコール13.4g(10
0ミリモル)の溶液を、トルエン中のホスダンの20%
溶液78m1の溶液に0℃で15分間かけて滴加する。 赤味がかったかっ色の乳濁液を室温に加温し、その間2
時間9素を吹込みかつかきまぜる。トルエンを真空(0
,1トル)下にストリッピング除去し、そして残留物を
グリシン3.75g(50ミリモル)、水121mおよ
び30%NaOH水溶液6.77m1の溶液に0℃で加
える。次いで、さらに30%NaOH水溶液6.07m
1を5〜15℃で10分間かけて滴加する。この反応混
合物を2時間かきまぜ(p)112)、次いで酢酸エチ
ル70mおよび水70m1の中に注入する。 水相を分離し、酢酸エチル20Mで洗浄し、2N水性)
(C1でpH1〜2に調節し、そして沈殿したN−シン
ナミルオキシカルビニルグリシンを合計120m1量の
酢酸エチルで抽出する。合わせた有機相をプラインlQ
mlで1回洗浄し、Na2SO4上で乾燥し、そして回
転蒸発器で溶媒を除去する。 表題化合物を酢酸エチル50mJおよびヘキサン25m
1から結晶化する。融点:129〜130℃。 酢酸エチル66ゴ中のN−シンナミルオキシカルビニル
グリシン7.81.9(33,2ミ1,1モル)の懸濁
液に、クロロギ酸イソブチル4.76ゴ(36,4ミリ
モ/I/)を−10℃〜−15℃において加え、次いで
同じ温度でN−メチルモルホリン4 ml (36,3
ミリモル)を滴加する。この反応混合物を一10℃〜−
15℃において1時間かきまぜる。さらにN−メチルモ
ルホリンIJ(36,3ミリモル)全30分間かけて滴
加し、その間同時に硫化水素の気体を導入する。硫化水
素の添加が完了した後、攪拌下で窒素の弱光を一10℃
〜−15℃において1時間かけて導入する。次いで、2
N水性HCt23.2mを滴加し、その時温度は約O℃
に上昇し、そして窒素をさらに30分間かけて吹込む。 次いで反応混合物を酢酸エチル300m中に注ぎ、そし
て水相(pi−112)を分離し、次いで酢酸エチルで
抽出する。合わせた有機相をプライン20mで2回洗浄
し、Na 2 S Oaで乾燥し、そして回転蒸発器で
溶媒を除去する。0℃において粗生成物をエーテル/ヘ
キサンから再結晶化すると、融点67〜69℃の分析的
に純粋な表題化合物が得られる。 実施例5 塩化メチレン3.2ml中の(3S、4R,1’R)−
3−(r−ヒドロキシエチル)−4−(N−シンナミル
オキシカルぎニルグリシルチオ)−2−7ゼチジン(実
施例4の粗生成物) 3101n9(0,852ミリモ
ル)の溶液に、−10℃〜−15℃において、かきまぜ
かつ湿気を排除しながら、新しく蒸留した塩化アリルオ
キサリン0.216WLl(1,75ミリモル)および
N−エチルジイソゾロビルアミン0.30 tM(1,
75ミリモル)を連続的に加え、そしてかきまぜを−1
0℃で30分間続ける。IR試料(CH2Cl2)は、
1820 cm−’に特徴あるオキサルイミド−カルボ
ニルの吸収を示す。 仕上げのため、反応混合物をCH2Ct22mlで希釈
し、そして緩衝水溶液4dずつの2つの部分で洗浄する
。水相をCH2C22で1回抽出する。合わせた有機相
をNa2SO4上で乾燥し、真空蒸発によシf&縮し、
そして粗生成物を高真空乾燥する。アリル(38,4R
,1’R)−2−(4−(N−シンナミルオキシカルボ
ニルグリシルチオ)−3−(1′−アリルオキシオキサ
リルオキシエチル)−2−オキソ−1−アゼチジニル〕
−2−オキソア1725(L!lり〕を、ジオキサン0
.37ゴ中に溶解し、そしてこの溶液を室温において窒
素の下にトリ二゛チルホスファイト0.51ml (2
,1ミリモル)で処理する。室温において15時間後、
IRスペクトル中にそれ以上のオキサリルイミドを検出
することができない(1820cm−’における帯)。 この反応混合物から過剰のホスファイト/ホスフェート
を真空〔パルプチェーブ(bulb tubθ):0.
1トル〕下に除去する。残留組ホスホランを環化のため
にジオキサン3.3コ中に溶かし、そして100℃で1
2時間かきまぜる。アリル(5R168,1’R)−2
−シンナミルオキシカルゲニルアミノメチル−6−(1
′−(アリルオキシオキサリルオキシ)エチルクー2−
ペネム−3−カルデキシレートを含有する反応混合物〔
分析のため、粗環化生成物の試料をシリカゲルで精製し
、トルエン/酢酸エチル(9:1)で溶離する:融点8
7−88℃、UVスJクト# (Etol() =31
5℃m、IRスペクトル(CF2Cl2中)=3440
(NH)、1795.1770,1745.1720(
ご)〕を、室温で蒸発によシ濃縮し、そして残留物をメ
タノール4d中に溶解する。次いで54 NaHCOs
水溶液2rnlを0℃で滴下し、そして沈殿した表題化
合物を濾過によシ単離し、そしてメタノールから再結晶
化する。融点:178〜180℃。 実施例6 一カルゴン酸 テトラヒドロフラン1rnl中のアリル(5R,6S。 1’R)−6−(1’−ヒドロキシエチル)−2−シン
ナミルオキクカル?ニルアミノメチル−2−ペネム−2
−カルがキシレート48■(0,108ミリモル)およ
びジメドム(dimedoms ) 22.3 mり(
0,159ミIJモル)の溶液を、5分間窒素でフラッ
シュし、次いでテトラキス(トリフェニルホスフィン)
パラジウム1.61n9を室温で加える。表題化合物は
約30分径沈殿し始める。さらに2.5時間かきまぜた
後、生成物を濾過によシ単離し、テトラヒドロフランで
よく洗浄し、そして高真空下に乾燥すると、表題化合物
が得られる:R4=0.50 (TLC:H2O,0P
TI UPC12) : U V スヘクトル(H2O
中):328nm0 以下余白
An acyl group is, for example, an acyl group of an organic dicarboxylic acid containing up to 12 carbon atoms, especially of suitable aromatic dicarboxylic acids, such as phthalic acid. Such groups are preferably acylimino groups. The etherified mercazotoamino group is preferably a phenylthioamino group (this group is unsubstituted or a lower alkyl group such as a methyl or butyl group, a lower alkoxy group such as a methoxy group, a halodane atom such as a chlorine or bromine atom, and/or substituted with a nitro group) or a bilysolthioamino group. Corresponding groups are, for example, 2- or 4-nitrophenylthioamino groups or 2-birisolthioamino groups. The silyl- or stannylamino group is preferably an organic silyl- or stannylamino group, in which the substituent on the silicon or tin atom is preferably a lower alkyl group, such as a methylura group, a methoxyl group, or a n-butyl group. or t-
A butyl group, or a lower alkoxy group such as a methoxy group. Particularly suitable silyl or stannyl groups are a tri-lower alkylsilyl group, preferably a trimethylsilyl group, and a trimethyl-t-butylsilyl group, or a suitably substituted stannyl group. For example, the tri-n-gtylstannyl group.Other conservative groups are, for example, the eno group, which has an electrophilic substituent at the double bond in the 2-position, such as the cal-nylstannyl group. Contains groups. Protecting groups of this type are, for example, 1-acyl-lower alk-1-en-2-yl groups, where the acyl group is, for example, a lower alkanecargenic acid such as acetic acid, benzoic acid (which acid is For example, a lower alkyl group such as a methyl or butyl group, a lower alkoxy group such as a methoxy group, a halodane atom such as a chlorine atom and/or a nitro group), or preferably a half ester of carbonic acid, such as a lower The alkyl half ester is the corresponding group of the methyl or ethyl half ester of carbonic acid, while the lower alk]-ene is preferably 1-proyne. Suitable protecting groups are preferably the 1-lower alkanoylderode-1-en-2-yl group, such as the ]-acetylzoloderode-1-en-2-yl group, or the 1-lower alkoxycarylderode-1-en-2-yl group, or 2-yl group example, t]-ethoxylic? Nylzolo 7'-1-en-1-yl group. Preferred protected f'' amino groups are, for example, at groups, phthalibados, nitro groups, lower alkenyloxycarboxylic groups such as nylamino groups, such as allyloxycargynylamino groups, and unsubstituted fC, nitro-substituted benzyloxy groups. Cal is a nylamino group. Surprisingly, when a cinnamyloxycarbonyl group is used as a protecting group in a compound where R2 is a protected aminomethyl group, formulas (11, A crystalline intermediate of (2) is obtained. The protected sulfo group in group R2 is preferably an esterified sulfo group, such as aliphatic, cycloaliphatic,
Cycloaliphatic - a sulfo group esterified with an aliphatic, aromatic or araliphatic alcohol, lower alkanol, or with a silyl or stannyl group, such as a tri-lower alkylsilyl group. In a sulfo group, the hydroxy group can be etherified, for example, in the same way as the hydroxy group in an esterified carboxy group. The meaning of R3 as a carboxyl protecting group can be deduced from the protected carboxyl group defined above. W in the compound of formula (n) is as defined in step (a). The salts of the compound of the present invention are preferably pharmaceutically acceptable non-toxic salts of the compound of formula (1). Such salts are formed, for example, from acid groups present in the compounds of formula (I), such as carboxyne groups and sulfo groups, and examples thereof are as follows: metal salts and ammonium salts, for example alkali metal and alkaline earth metal salts such as sodium, potassium, magnesium or carunium salts, and ammonium salts with ammonia or suitable organic amines such as lower alkyl amines such as triethylamine, human a
quinine-lower alkylamines, such as 2-hydroxyethylamine, bis(2-hydroquinoethyl)amine or tris(2-hydroxyethyl)amine, basic aliphatic esters of carboxylic acids, fat, 2-diethylaminoethyl 4-aminobenzoate , lower alkylene amines, ganiba, l-ethelpiperidine, cycloalkylamines, such as dicyclohexylamine, or benzylamines, such as N,N'-nobensol etherenediamine, dibenzylamine or N-pentrue β
-Salts with phenethylamine. Compounds of formula (1) having a basic group, for example an amino group, can form acid addition salts, for example, with the following acids: inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid or phosphoric acid, or suitable organic carboxylic acids or sulfonic acids. Acids, such as acetic acid, cono-phosphoric acid, fumaric acid, maleic acid, tartaric acid, 7-uric acid, citric acid, benzoic acid, mandelic acid, malic acid, ascorbic acid, methanesulfone
"!fc 4-Toluenesulfonic acid. The compounds of formula (1) containing acid and basic groups can also be in the form of internal salts, i.e. in the form of zwitterions. Isolation Or for purification it is also possible to use pharmaceutically acceptable salts. Only pharmaceutically acceptable non-toxic salts are used therapeutically and are preferred. Individuals of the method of the invention The steps are carried out as follows: Step (&) The starting compounds of formula (II) are known [for example, EP 82113, DE 3,224,055]
No. 3,013,997 or S. Hanessian et al., Journal of American Chemical Science (J-Am Chem.
, Soc, ) l 985 , 107 , 1438
-1439) or can be produced by a conventional method. The group W which can be substituted with the group -5-5-R2 is M-degrouped, for example, an acyloxy group [herein, the acyl group is, for example, an organic car-J? acid groups, such as lower alkanoyl groups, such as acetyl or zolobionyl groups, benzoyl groups or nitro-substituted benzoyl groups,
For example, a benzoyl group, a 4-nitrobenzoyl group or a 2,4-dinitrobenzoyl group, or a phenyl-lower alkanoyl group, such as a phenylacetyl group, a sulfonyl group Ro-8O2- (where R8 is an organic group, e.g.
a lower alkyl group or a hydroxy-substituted lower alkyl group, such as a methyl group, an ether group, a t-butyl group, a 2-hydroquinoether group, a 1-hydroquinzolof-2-yl group or a l-hydroxy/-2-methylglog-2-yl group, a benyl group, or optionally a di-lower alkyl group or a phenyl group, such as a phenyl group, a 4-bromophenyl group or a 4-methylphenyl group, which may be substituted with a di-lower alkyl group or a logone atom],... An orion atom is, for example, a bromine atom, an iodine atom or preferably a chlorine atom, or alternatively an at group. W is preferably an acetyloxy group, a pentyloxy group, a methanesulfonyl group, a benzenesulfonyl group, a toluenesulfonyl group-i*id chlorine atom. The starting compounds of formula (n) can be used as cis- or trans-compounds or mixtures of/su-trans-compounds. That is, the C4 atom of the azetenone ring can have an R-, S- or R,S-configuration. Compounds introducing a group of formula (I) are the corresponding thiocarboxylic acids H-8-C(-Z)-R2 themselves or their salts, such as alkali metal salts, such as sodium salts or caralim salts. Substitution can be carried out in an organic solvent, for example a lower vulcanol such as methanol or ethanol, a lower alkanone such as acetone, a lower alkane carboxy/amide such as dimethylformamide, or a similar inert solvent.The reaction is carried out at room temperature. It is usually carried out at high or low temperatures, e.g.
It can be carried out at temperatures in the range of 0°C. The groups introduced are oriented predominantly in the trans-position by the group R4-CH(OH). Step (b) In the intermediate of the formula (M, a functional group present in the group R2,
For example, Cal H? The groups, amine groups or hydroxy groups are protected by conventional protecting groups. The acylating agent for introducing the acyl group of the carboxylic acid of the formula (■) is the carboxylic acid of the formula (■) itself or a reactive functional derivative or a salt thereof. Therefore, it is necessary to use at least 2 equivalents of acylating agent. When the free acid of formula (■) is used for acylation, the reaction is generally carried out in the presence of a suitable condensing agent. Examples of condensing agents include Common: carbodiimide, example 1', N, N'
-soethylcargodiimide, N,N'-dizolopylcarpdiimide, N,N'-di7chlorohexylcarbonimide or N-ethyl-N/~3-tumethylaminozolobylcarbosoimide, a suitable carbonyl compound ,
For example, carbinyldiimidazole, or 1,2-oxacillium compounds, such as 2-ethyl-5-phenyl-1,2-oxacillium-3'-sulfonate or 2-L-butyl-5-methyl-1,2- Oxazolium no! -chlorate, or a suitable ananolamino compound, such as 2-ethoxy/-1-ethoxy/cargoni-1,2-dihydroquinoline. The condensation reaction is preferably carried out in an anhydrous reaction medium, preferably in an inert solvent such as methylene chloride, dimethylformamide, acetonitrile or tetrahydrofuran, with cooling or heating as desired or necessary, e.g. The process is carried out at a temperature in the range -40 DEG C. to +100 DEG C., preferably about -20 DEG C. to +50 DEG C., optionally in an inert gas atmosphere, such as a nitrogen atmosphere. The reactivity of the carboxylic acid of formula (V), i.e., carboxylic acid? The intermediate-forming, functional t/I: derivatives are preferably anhydrides, preferably mixed anhydrides, of inorganic acids, such as hydrohalic acids, and, for example, the corresponding carboxylic acids... eg carboxylic acid bromides or preferably carboxylic acid chlorides, and also carboxylic acid chlorides. Other inorganic acids suitable for forming mixed anhydrides are phosphorus-containing acids such as phosphoric acid, soethylphosphoric acid or phosphorous acid, sulfur-containing acids such as sulfuric acid, or heptahydrohydric acid. Reactive functional derivatives of carboxylic acids of the formula (■) may also include organic carboxylic acids, e.g.
・lower alkanecarbic acids substituted with rhodan atoms, e.g. 7 atoms or chlorine atoms or cyano groups, e.g. pivalic acid, invaleric acid, trifluoroacetic acid or 71) acetic acid, or lower alkyl half esters of carbonic acid, e.g. It is formed by combining with the bovine ester of ethyl or inbutyl or with an organic, e.g. aliphatic or aromatic, sulfonic acid such as methanesulfone ri or p'''' toluenesulfonic acid. Functional derivatives may also include activated esters with vinylogous alcohols or enols, such as vinylic lower alkenols, iminomethyl ester halides, such as d-methyliminomethyl ester chloride, which are derived from carboxylic acids of formula (V). ) and, for example, the formula ((CH
,)2N@=C(C4)CH3)Cto dimethyl-(
1-10 loeteridene)-Iminiumc. (which can be obtained, for example, from N,N-dimethylacetamide and phosdan or oxalyl chloride), aryl esters, e.g. phenyl esters substituted with rhodane atoms e.g. chlorine atoms and/or nitro groups e.g. Chlorophenyl, 4-nitrophenylmataha 2,4-dinitro ester, N-heteroaromatic ester such as N-benzotriazole ester, or N-nor/ruamino ester example, t ij
N-succinimino or N-phthalimino ester. Preferred acylating agents are acid halides such as chlorides, most preferably allyl oxalate chloride. Acylation with a reactive functional derivative of a carboxylic acid of formula (■), preferably an acid halide, is preferably carried out in the presence of a suitable acid acceptor, such as a suitable organic base. Examples of suitable organic bases is: an amine, such as a tertiary amine, such as a tri-lower alkylamine, such as trimethylamine, triethylamine or ethyldiinzolobylamine, or a N,N-no-lower alkylamine, such as N,N Suitable acid acceptors are also inorganic bases, such as alkali metal or alkaline earth metal hydroxides, carbonates or bicarbonates;
For example, sodium, potassium or calcium hydroxides, sodium, potassium or calcium carbonates or sodium, potassium or calcium bicarbonates. Acylation with reactive functional derivatives of carboxylic acids of formula (V) is preferably carried out in inert, preferably anhydrous solvents or solvent mixtures, such as carboxamides such as formamides such as trimethylformamide, halodanized carbonized Hydrogen such as methylene chloride, carbon tetrachloride or chlorobenzene, hydrogen such as acetone, cyclic ethers such as tetrahydroether, esters such as [,6[ether], or nitriles such as acetonitrile, or mixtures thereof. and, as necessary or desired, at low or high temperatures, e.g., from about -40°C to +10°C.
It is carried out at a temperature in the range of 0 DEG C., preferably -10 DEG C. to +50 DEG C. and, if necessary, in an atmosphere of an inert gas, for example nitrogen. The reactive functional derivative of the acid of formula (V) to be used in the acylation reaction can be formed in situ. Step (c) The organic compound of trivalent phosphorus is, for example, derived from phosphoric acid and preferably an ester with a lower alkanol such as methanol or ethanol, and/or an unsubstituted or substituted aromatic hydroxy compound, such as phenol. or an ester with pyrocatechol, or of the formula P(ORa)-N(Rb)2, where R& and Rb- are each independently another lower alkyl group, such as a methyl group or an aryl group, such as a phenyl group. It is an amide ester of Preferred trivalent phosphorous compounds are tri-lower alkyl phosphites such as trimethyl phosphite, triethyl phosphite or triinzolobyl phosphite. The reaction is preferably carried out in an inert organic solvent, such as an aromatic hydrocarbon, such as benzene or toluene, an ether, such as dioxane or tetrahydrochloride, or a halodanated hydrocarbon, such as methylene chloride or chloroform. 20-80℃, preferably about 40℃
Performed at a temperature in the range of ~60<0>C, one molar equivalent of a compound of formula (-) is reacted with two molar equivalents of a phosphorus compound. A preferred procedure is to charge a reactor with a compound of formula (5) in an inert solvent and to react the phosphorus compound, preferably dissolved in the same inert solvent, over a substantial period of time, e.g. dropwise over a period of time and heating the reaction mixture to about 100-110° C. to complete the reaction. In a preferred embodiment of this process, a starting material of formula (-' is prepared as indicated above and is reacted with the trivalent phosphorous organic compound without isolation from the reaction mixture. Step (d) In the obtained compound of formula (4), protecting groups R3, R5
0-Co-Co and any protecting group R2 present in the group R2, for example a protected car? Kyfur groups, hydroxyl groups, amine groups and/or sulfo groups can be removed in a manner known per se, for example by solvolysis, preferably by hydrolysis, alcoholysis or acidolysis, or by reduction, preferably by hydrogenolysis or chemical reduction. , can be removed stepwise and in any order or simultaneously, and replaced by hydrogen, as appropriate. Thus, the oxalyl ester group, -Co-Coo-R
. can be removed stepwise and/or selectively (ie, while retaining the protecting group R3 or other protecting group R2 on the 4-carboxyl group) and by substitution with hydrogen. This removal may be carried out under alcoholic conditions, e.g.
It is carried out in the presence of an alkali metal hydroxide, for example lithium, sodium or potassium hydroxide, or the corresponding carbonate or, preferably, bicarbonate (preferably catalyst t or up to equimolar amounts of i). Suitable solvents are, for example, water and water-soluble solvents such as lower alkanols such as methanolethanol or inzolopanol, lower ketones such as acetone, lower cyclic ethers such as dioxane or tetrahydrofuran, lower nitriles such as acetonitrile, lower amides such as dimethylformamide, or lower sulfoxides. For example, it is a mixture with dimethyl sulfoxide. Saponification is preferably carried out in aqueous methanol (approximately 80%
%) in the presence of sodium bicarbonate. The margin temperature below is the condensation temperature or boiling point of the solvent used, that is,
It ranges from about -20°C to +100°C. It is generally preferred that the reaction be carried out at a low temperature, ie, at a temperature in the range of 0<0>C to 20<0>C, most preferably about 0<0>C. It is also possible to first remove the R1 group by the method described below and then completely convert the obtained 1'-oxalic acid half ester under the above-mentioned alkaline conditions. Protected carboxy groups, such as the -CCO-R5 group, can be liberated by methods known per se. For example, a t-lower alkoxycarbonyl group substituted with a trisubstituted silyl group in the 2-position or a lower alkoxy group in the 1-position or a lower alkoxycarginyl group or a substituted or unsubstituted diphenylmethoxycarbonyl group For example, Carbon 1! I2 can be converted into a free carboxy group by treatment with for example formic acid or trifluoroacetic acid and optionally adding a nucleophilic compound such as phenol or anisole. Unsubstituted or substituted penzyloxycarmenyl groups can be removed, for example, by hydrogenolysis, ie by treatment with hydrogen in the presence of a metal hydrogenation catalyst, such as a parent radium catalyst. Also, a suitably substituted pencil oxycar? It is possible to convert the nyl group fil, t to a free rhodexy group by chemical reduction, and this conversion is one example. The nascent hydrogen is usually treated with an alkali metal dithionite, such as sodium dithionite, or with a reducing metal, such as tin, or with a reducing metal salt, such as chromium ω) salt, such as chromium chloride. Hydrogen donors capable of producing 1, for example, suitable caldic acids such as lower alkane caldic acids (which caldic acids are unsubstituted or substituted with 1, for example with hydrogenyloxy), such as acetic acid, formic acid or Removal of the 8-allylic protecting group is carried out by treatment in the presence of glycolic acid, or an alcohol or a thiol, preferably with the addition of water, for example with a palladium compound, e.g.
Tetrakis(triphenylphosphine)palladium,
Acceptors of allyl groups, such as acetylacetone, preferably in the presence of nometone, and optionally triphenylphosphine, or carbonyl, for example 2-
This can be carried out by adding ethylhexanoic acid or a salt thereof and reacting. By treatment with 1M elemental gold metal or metal salt as described above, a 2-halo lower alkoxycarzanyl group (if necessary, a 2-bromo-lower alkoxycarbonyl group can be converted to a corresponding sulfur 2--1 -1
'-AM after converting alkoxycarbonyl group into free carboxy group Kf) or aroylmethoxycarbonyl group
It is possible to exchange. On the other hand, the 70ylmethoxycarbonyl group also has nucleophilicity (
Preferably salt-forming reagents, such as sodium thiophenolate, can be removed by treatment with sodium iodide. The presence of macrocyclic polyethers ("crown ethers") with substituted 2-silylethoxycaryl, Th&i, salts of hydrofluoric acid that donate fluorine anions, e.g. alkaline platform fluorides 1 e.g. sodium fluoride K , or can be converted to a free carboxyl group by treatment with an organic quaternary base fluoride 1, such as a tetra-lower alkyl ammonium fluoride, such as tetrabutylammonium fluoride. Carboxyl groups costelated with organosilyl or stannyl groups, such as tri-lower alkylsilyl groups or tri-lower alkyl stannyl groups, can be liberated in the usual manner by solvolysis, e.g. by treatment with water or alcohol. can do. 2
A lower alkoxycarbunyl group substituted by a lower alkylsulfonyl group or a cyano group in the - position is 1
For example, bases such as alkali metal hydroxides or alkaline earth metal hydroxides or alkali metal carbonates or alkaline earth metal carbonates, such as sodium or potassium hydroxides or sodium or potassium carbonates. It can be converted to a free carboxy group by In compounds of formula (■) in which the group R2 contains a protected hydroxy group as a substituent, the protected human-roxy group can be converted into a free heroxy group in a manner known per se. For example, H-P protected by a suitable acyl group or by an organosilyl or stannyl group.
Roxy groups are liberated in the same manner as the corresponding protected amino groups (see below). Tri-lower alkylsilyl groups can also be removed, for example, with tetrabutylammonium fluoride and acetic acid (under these conditions, carboxy groups protected with trisubstituted silylethoxy groups are not removed). 2-no-low lower alkyl groups and unsubstituted or substituted benzyl groups are removed by reduction◇ In compounds of formula (■) containing protected amine groups, said groups can be removed in a manner known per se, e.g. Depending on the nature of the protecting group, it can be converted into the free amine group, preferably by solvolysis or reduction. For example, 2
-lower alkoxycarbonylamino group (after converting the 2-pro7-lower alkoxylupinylamino group to a 2·-iop-lower alkoxycarbonylamino group if necessary), aroylmethoxycarbonylamino group, or - The nitrobenzyloxycarbinylamino group can be treated with a suitable chemical reducing agent, such as zinc, in the presence of a suitable carboxylic acid, such as aqueous acetic acid, or catalytically decomposed with hydrogen in the presence of a parent radium catalyst. It can be removed by The aroylmethoxycarbonylamino group can also be removed by treatment with a nucleophilic (preferably salt-forming) reagent, such as sodium thiophenolate, and the 4-nitrobenzyloxycarbonylamino group It can also be desorbed by treatment with an alkali metal dithionite, for example sodium dithionite. An unsubstituted or substituted benzyloxycarbonylamino group can be removed, for example, by hydrogenolysis, i.e. by treatment with hydrogen in the presence of a suitable hydrogenation catalyst, such as a gradium catalyst, and allyl Oxycarbonylamino group. For example, in the presence of an acceptor for an allyl group, such as acetyl-heptaton or, preferably, dimedone, and optionally triphenylphosphine, react with a parent radium compound such as tetrakis(triphenylphos-2yne)tucladium. and by treatment with a carboxylic acid such as 2-ethylhexanoic acid or a salt thereof. Amine groups protected with organosilyl or stannyl groups can be liberated by hydrolysis or alcoholysis, for example, and protected with 2-halo lower alkanoyl groups, e.g. 2-chloroacetyl groups. The amino groups obtained are treated with thiourea in the presence of a base, or with a thiolate salt such as an alkali metal thiolate, or with thiourea, and the resulting condensation product is subsequently subjected to solvolysis, e.g. alcoholysis or hydrolysis. It can be liberated by An amine group protected by a 2-substituted silylethoxycarbonyl group is a macrocyclic polyether (“crown ether”).
) in the presence of a fluorine anion-donating salt of hydrofluoric acid, such as an alkali metal fluoride, such as sodium heptafluoride, or with an organic quaternary base, such as a tetra-lower alkyl ammonium fluoride, such as tetraethylammonium fluoride. It can be converted to a free amino group by treatment. Amino groups protected in the form of an azide or nitro group can be prepared, for example, by reduction, e.g. by catalytic hydrogenation with hydrogen in the presence of a hydrogenation catalyst, e.g. platinum oxide,... or radium or Raney nickel. , or converted to free amine groups by treatment with zinc in the presence of an acid such as acetic acid. Amine groups retained in the form of phthalimide groups can be converted into free amine groups by reaction with hydrazine. Additionally, arylthioamino groups can be converted to amines by treatment with nucleophilic reagents such as sulfite. Protected, especially esterified, sulfo groups are liberated in the same way as protected carboxy groups. Salts of the compound of formula (1) containing a salt-forming group can be produced by methods known per se. Thus, salts of compounds of formula (1) containing free carboxy or sulfo groups can be prepared, for example, from metal compounds such as alkali metal salts of suitable organic carboxylic acids, such as α-ethylcaproic acid. or with an inorganic alkali metal or alkaline earth metal salt, such as bicarbonate, or with ammonia or a suitable organic amine, preferably with a chemical
It can be formed by mixing or by using a slight excess of salt-forming agent. Acid addition salts of compounds of formula (1) are obtained in conventional manner, for example by treatment with a suitable acid or a suitable anion exchange reagent. Internal salts of formula (I) can be formed, for example, by neutralizing a salt, such as an acid addition salt, to the isotropic point, for example with a weak base, or by treating it with an ion exchange agent. Salts can be converted to the free compounds in the usual manner (metal and ammonium salts, for example, by treatment with a suitable acid, and acid addition salts, for example, by treatment with a suitable base). I can do it. In all subsequent conversions of the resulting compounds of formula (1), reactions taking place under weakly alkaline or preferably neutral conditions are preferred. The process of the invention also uses the compounds obtained as intermediates as starting materials and carries out the remaining steps with them, or the process can be carried out at any stage as well as in the individual steps (a) to Includes embodiments that discontinue at (d). Furthermore, the starting materials can be used in the form of derivatives, or alternatively. It can be prepared in situ, optionally under reaction conditions. The present invention also relates to novel compounds of formula (1), formula (7), formula (6) and formula (2). The novel compounds of formula (1) are particularly characterized in that R2 is a cinnamyloxycarbonylaminomethyl group, and R1 and R3 have the meanings given above, the preferred meaning of R1 is a methyl group and that of R5 is an allyl group. It is the basis. The novel compounds of formula (V) are in particular those in which R2 is a cinnamyloxycarbonylaminomethyl group and R2 and 2 have the abovementioned (particularly preferred) meanings. In the novel compounds of formula (VD and formula (4)), R2
・And R3 have a predetermined (Special V is preferred) meaning? have Formula (1), Formula (IV), Formula ('vll) and Formula (■)
Particularly preferred compounds are those in crystalline form, in which R2 is a cinnamyloxycarbonylaminomethyl group. The invention will be illustrated by the following examples. In the 11 examples, the following abbreviations are used: TLC: thin layer chromatogram IR: infrared spectrum Uv: ultraviolet spectrum Example 1 Zetidinone (,) 60 rnl water and 40 m IN aqueous NaOH
A solution of 14.2 II (40 mmol) of N-allyloxycarponylteoglycine dicyclohexylammonium salt in 0.1 d of methylene chloride is extracted with three portions of 20 d of methylene chloride, and the aqueous phase is diluted with 0.1 d of methylene chloride. Adjust the pH to 7-8 with about 1 rnt of IN aqueous HCl. The resulting aqueous thiol acid solution was dissolved in 100 ml of acetonitrile (7) (3R,4R
, l'R)-3-(1'hydroxyethyl)-4--<
Zoyloxy-2-azetidinone 4.70.9 (20
millimolar) solution over 5 minutes at 30°C. Then 0. IN aqueous NILOH2- is added at 25°C and the batch is aged at 25°C for 30-35 minutes. For finishing, 250% ethyl acetate and NaCA
Charge the '301 into a separatory funnel and then add the reaction mixture. After separating the aqueous phase by placing it in a tray, remove the organic phase by 5 minutes.
% aqueous Na I (CO3 solution) and twice with Prine 50 g and dried over sodium sulfate. The solvent is removed on a rotary evaporator. The title compound is an amorphous powder. The crude product can be prepared by chromatography on silica dal (2:3 mixture of toluene/ethyl acetate). Rf value = 0.
.. 23C Merck plate, developed with toluene/ethyl acetate (1:4):ninhydrin]. The same compound can also be obtained as follows. (b) 360 ml of water and 240 ml of IN aqueous NaOH
A solution of N-allyloxycarbonylthioglycine dicyclohexylammonium salt 85.2!1 (239 mmol) in mi was extracted with three portions of 40 mJ of methylene chloride, and the aqueous phase was extracted with IN aqueous HC1 with about 0.5 mJ of P1
'(adjust to 7-8. The resulting aqueous thiol acid solution r
(3S,4R,1'R)-3-(1'-hydroxyethyl)-4-t-butylsulfonyl-2-azetidinone 3 in 300 mA of acetonitrile and 202 oml of H2
0.11 (128 mmol) over 5 minutes at 28°C. Then 0. IN aqueous NaO
H12,71J was added at 25°C and the patch was incubated at 25°C.
Stir for 30 minutes. For finishing, 70% ethyl acetate
0d and NaC1901 in a separatory funnel, then add the reaction mixture. After good shaking and separation of the organic phase, the organic phase was diluted with 54 NaHCOs aqueous solution 100-1.
twice and twice with 100 ml of concentrated sodium hydrochloride solution and dried over kW sodium sodium chloride. The solvent is completely removed on a rotary evaporator. CH2C42100- is then added to the partially crystalline residue and the crystalline unreacted extract is isolated by filtration and dried. The lachrymal fluid is concentrated by evaporation and chromatographed on silica dal 30 (l), eluting with toluene/ethyl acetate (4:6). The title compound obtained has an Rf value of 0.23 [Merck board, toluene/acetic acid]. Ethyl (4:1); developed with ninhydrin. (c) A solution of N-allyloxycarbonylthioglycine dicyclohexylammonium salt 42411 (1.2 mmol) in 1.2 ml of IN aqueous NaOH was dissolved in 1.5 ml of methylene chloride. Extract in 3 parts and aqueous phase 0.01
Adjust p) (8-9 with IN aqueous HCl. The resulting aqueous thiol acid solution was diluted with (3S,4R,1'R)-3-(1'-hydroxyethyl)-4 in 1.71!Ll of acetonitrile. -acetoxy-2-azetidinone 173.21
Add to a solution of n9 (1 μIJ%) at 25°C. Then add 0,1 IN aqueous NaOHO, and stir the patch for 35 minutes at 21-23°C. Finishing is carried out as in Example 1(a). After chromatography of the crude product (2-3 mixtures of toluene/acetic acid and ether) the title compound is obtained. Example 2: 80 ml of (3S, 4R, 1'R)-3-(1
'-Hydroxyethyl)-4-(N-allyloxycar?nylglycylnao)-2-azetidinone 2.88.9
3.86 ml (31,5 mmol) of freshly distilled allyloxalyl chloride and N-ethelduisopropyl were added to a solution of (10,0 mmol) at -10°C to -15°C with stirring and vigorous removal of moisture. Amine 7.69d
(44.8 mmol) were added continuously and stirring continued for 30 minutes at -10°C. The IR sample contains a characteristic oxalimide at 1820 crn-'.
Shows carbonyl absorption. For work-up, the reaction mixture was diluted with CH2C6250-, three times with ice-cold water, and diluted with ice-water and saturated Na HC.
Wash once with Os aqueous solution 5rILl. The aqueous phase is CH2C
Extract once at 62. The combined organic phases were dissolved in Na2S
Dry over O4, concentrate by evaporation in vacuo and dry the crude product under high vacuum. Allyl (3S, 4R, 1'R
)-2-(4-(N-allyloxycal?nylglycylthio)-3-(1'-allyloxyoxalyloxyethyl)-2-oxo-1-azetinonyl]-2-oxoacetate-containing viscous liquid [ IR(CH2Cl2
) 1760(C)] is dissolved in Nooxane 30 solution and this solution is treated with triethyl phosphite 7rnlc (40.2 mmol) under silica at room temperature. After 15 hours at room temperature no more oxalimide can be detected in the IR spectrum (band at 1820α-1). The reaction mixture was concentrated by vacuum evaporation and
The material is washed with 3×2 portions of toluene and 3×2 ml of decane and stripped under high vacuum of each of the separating agents to remove excess phosphite/phosphate. For crude phosphorane conversion, dissolve in Nooxa 7250M and stir at 105-110°C for 5 hours. Allyl(5R,68,1'R) -2-allyloxycal+Rnylaminomethyl-6-(1'-(allyloxyoxalyloxy)ethyl)-2-'? Reaction mixture containing Nemu 3-carboxylate [For analysis, a sample of the crude product is purified on silica gel and eluent with a 4:1 mixture of toluene/ethyl acetate; 8 UV (EtOH)
315 nm: IR(CH2C62)3440(
NI():1790.1770,1745°1720(
C)") is concentrated by vacuum evaporation to about 15 WLlK, then 100 mj of methanol/H20 (8:2) and 251 nl of saturated N*HCOs water bath are added at 0 °C. After 20 min, the reaction mixture is dissolved in ethyl acetate 300 mj! and H2
Pour into O50rnl. The organic phase is separated and the aqueous phase is extracted again with 10011 Ll of ethyl acetate. The combined organic phases are dried over N1□S04 and concentrated in vacuo to a volume of 50 ml. Pour the residue into 200 TIL of methylene chloride.
, dry over Na 2 SO 4 and concentrate completely in vacuo. The residue is chromatographed on silica gel 80I, eluting with toluene/ethyl acetate (3:2). The title compound is ether/hexane (3-near)
obtained after crystallization from Melting point: ・141-141.5
°C; Rf value = 0.20C Merck plate, toluene/ethyl acetate (1:l)). Example 3 Allyl(5R,6R.1'R)-2-allyloxycal in tetrahydrofuran 7.5a is nylaminomethyl-6-(1'-hydroxyethyl)-2-penem-3-
Cal? A solution of xylate 313 (0.85 mmol) and tsumetone 174.6 (1.24 mmol) was flushed with argon for 5 minutes and then detrakis (
triphenylphosphine) and radium 27■ (0,0
23 mmol) was added at room temperature under alcohol, a precipitate began to form after about 5 minutes, and after stirring for a further 2 hours, it was isolated by filtration, washed with about 10 m7 of tetrahydro7ranine, then washed in H2O4 ml. dissolve. Add a small amount of activated charcoal to the Paenoille color solution with a micro spatula, then add two small amounts of TonsllX.
Add Fuller's soil). The mixture is then stirred well for 5 minutes, filtered through a Hyflo, and concentrated under high vacuum. Dense crystal slurry in cold ethanol 3
d and filter with suction. The colorless crystals are washed with 2 rnl of tetrahydrofuran and dried under high vacuum. The title compound has an Rf value of 0.50 (TLC: N
20. 0PTI UPC42); Cα3g0=+176(
c=0.5°N20). Example 4 (a) N-Si'7namyloxycargonylteoglycine 30 L8 in IN aqueous NaOH 1,2rnt
A solution of jn9 (1.2 mmol) was added to 0. IN aqueous HC
1 to -8 and (3R14R1′R)-(1/-hydroxyethyl) in acetonidonyl 2rILl.
-4-benzoyloxy-2-azededinone 235ml
II (1 mmol) at 25°C. 0.1
Add 0.1-N NaOH*f (= 0.1 - solution i) and stir the reaction mixture for 25 minutes at 25-26 °C. The organic phase was diluted with 5% Na
Wash with aqueous HCOs 5d, twice with prine 51, dry over sodium sulfate and remove the solvent on a rotary evaporator. The residue was mixed with toluene/vinegar ζ ether (2:
3) Dissolve in 20 mJ, stir with silica kettle 19 for 15 minutes, filter through a G2I lath frit, and settle. The title compound is obtained in the form of an amorphous powder. A crystalline, superficial compound with a melting point of 100-101 DEG C. is obtained from methylene chloride/noinzolobyl ether (approximately 1.1). The same compound can also be obtained as follows: (θ Following the procedure of method (a), (:3t<,4R,l
Starting from 173 μm (1 mmol) of -3-(1′-hydroxyethyl)-4-acetoxy-2-azetidinone, the crude product is chromatographed.
Silica gel, toluene/ethyl acetate (2:3>3゜(
C) Following the procedure of method (LL), (3S, 4R, 1'R
) -3-(1'-Hydroxyethyl)-4-t-butylsulfonyl-2-azetidinone 235d (1 mmol) and the crude product is chromatographed [silica gel, toluene/ethyl acetate (2: 3)
). The starting material N-cinnamyl oxica/L/bonylthioglycine can be prepared as follows: 13.4 g of cinnamyl alcohol (10 g) in 25 g of toluene.
0 mmol) solution of 20% of phosdan in toluene
Add dropwise to 78 ml of solution over 15 minutes at 0°C. Warm the reddish-brown emulsion to room temperature, while
Blow in and stir for 9 minutes. Toluene in vacuum (0
, 1 torr) and the residue is added at 0° C. to a solution of 3.75 g (50 mmol) of glycine, 121 ml of water and 6.77 ml of 30% aqueous NaOH solution. Then, 6.07 m of 30% NaOH aqueous solution was added.
1 was added dropwise over 10 minutes at 5-15°C. The reaction mixture is stirred for 2 hours (p) 112) and then poured into 70 ml of ethyl acetate and 70 ml of water. Separate the aqueous phase and wash with ethyl acetate 20M (2N aqueous)
(Adjust the pH to 1-2 with C1 and extract the precipitated N-cinnamyloxycarvinylglycine with a total amount of 120 ml of ethyl acetate. The combined organic phases are
Wash once with ml, dry over Na2SO4 and remove the solvent on a rotary evaporator. The title compound was dissolved in 50 mJ of ethyl acetate and 25 mJ of hexane.
Crystallize from 1. Melting point: 129-130°C. To a suspension of 7.81.9 (33.2 mm/l) of N-cinnamyloxycarvinylglycine in 66 mm of ethyl acetate was added 4.76 mm (36.4 mm/l) of isobutyl chloroformate. ) was added at -10°C to -15°C, then at the same temperature 4 ml of N-methylmorpholine (36,3
mmol) dropwise. This reaction mixture was heated to -10℃~-
Stir for 1 hour at 15°C. Further, N-methylmorpholine IJ (36.3 mmol) was added dropwise over a total of 30 minutes, during which time hydrogen sulfide gas was simultaneously introduced. After the addition of hydrogen sulfide is complete, add a weak nitrogen light under stirring to -10°C.
Introduce over 1 hour at ~-15°C. Then 2
23.2 m of N aqueous HCt was added dropwise, at a temperature of about 0°C.
and sparge with nitrogen for an additional 30 minutes. The reaction mixture is then poured into 300 ml of ethyl acetate, and the aqueous phase (pi-112) is separated off and then extracted with ethyl acetate. The combined organic phases are washed twice with a 20 m prine, dried over Na 2 S Oa and the solvent is removed on a rotary evaporator. Recrystallization of the crude product from ether/hexane at 0<0>C gives the analytically pure title compound, mp 67-69<0>C. Example 5 (3S,4R,1'R)- in 3.2 ml of methylene chloride
3-(r-Hydroxyethyl)-4-(N-cinnamyloxycarginylglycylthio)-2-7zetidine (crude product of Example 4) A solution of 3101n9 (0,852 mmol) was added at -10°C to At −15° C., with stirring and exclusion of moisture, 0.216 WLl (1,75 mmol) of freshly distilled allyloxaline chloride and 0.30 tM (1,
75 mmol) and stirring until -1
Continue at 0°C for 30 minutes. The IR sample (CH2Cl2) is
A characteristic oxalimide-carbonyl absorption is shown at 1820 cm-'. For work-up, the reaction mixture is diluted with 22 ml of CH2Ct and washed with two portions of 4 d each of aqueous buffer solution. The aqueous phase is extracted once with CH2C22. The combined organic phases were dried over Na2SO4, concentrated by vacuum evaporation,
The crude product is then dried under high vacuum. Allyl (38,4R
, 1'R)-2-(4-(N-cinnamyloxycarbonylglycylthio)-3-(1'-allyloxyoxalyloxyethyl)-2-oxo-1-azetidinyl]
-2-oxoa 1725 (L!l), dioxane 0
.. 0.51 ml of tridimethylphosphite (2
, 1 mmol). After 15 hours at room temperature,
No further oxarylimide can be detected in the IR spectrum (band at 1820 cm-'). Excess phosphite/phosphate was removed from the reaction mixture under vacuum [bulb tube θ: 0.
1 Torr]. The remaining phosphorane was dissolved in 3.3 ml of dioxane for cyclization and heated at 100° C.
Stir for 2 hours. Allyl(5R168,1'R)-2
-cinnamyloxycargenylaminomethyl-6-(1
'-(allyloxyoxalyloxy)ethylcou2-
Reaction mixture containing penem-3-caldexylate [
For analysis, a sample of the crude cyclization product is purified on silica gel and eluted with toluene/ethyl acetate (9:1): mp 8
7-88°C, UV protection # (Etol() = 31
5 °C m, IR spectrum (in CF2Cl2) = 3440
(NH), 1795.1770, 1745.1720 (
)] is concentrated by evaporation at room temperature and the residue is dissolved in 4d of methanol. Then 54 NaHCOs
2rnl of aqueous solution are added dropwise at 0° C. and the precipitated title compound is isolated by filtration and recrystallized from methanol. Melting point: 178-180°C. Example 6 Allyl (5R,6S. 1'R)-6-(1'-hydroxyethyl)-2-cinnamyl oxycarboxylic acid in 1 rnl of tetrahydrofuran monocargonic acid? Nylaminomethyl-2-penem-2
- Cal xylate 48 μm (0.108 mmol) and dimedoms 22.3 μm (
A solution of tetrakis(triphenylphosphine) was flushed with nitrogen for 5 minutes and then treated with tetrakis(triphenylphosphine).
Add 1.61n9 palladium at room temperature. The title compound begins to precipitate about 30 minutes in diameter. After stirring for a further 2.5 hours, the product is isolated by filtration, washed well with tetrahydrofuran and dried under high vacuum to give the title compound: R4=0.50 (TLC: H2O,0P
TI UPC12): U V Schector (H2O
Medium): 328nm0 or less margin

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1は水素原子または低級アルキル基であり
、R_2は普通の保護基R^0_2で保護されているこ
とのある官能基を担持することができる有機基であり、
R_3は水素原子または普通のカルボキシル保護基R^
0_3である) で表される化合物またはその塩を製造するにあたり、 (a)式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、R_1は前記と同じ意味であり、Wは後記式(
III)のチオカルボン酸基で置換することのできる基で
ある〕 で表される化合物を式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R_2は前記と同じ意味であり、Zは酸素原子
またはイオウ原子である) で表されるチオカルボン酸基を導入する化合物で処理し
、 (b)式 ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、R_1、R_2およびZは前記と同じ意味であ
る) で表される得られた化合物を、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (式中、R^0_3は普通のカルボキシル保護基である
)で表されるシュウ酸半エステルのアシル基を導入する
アシル化剤で処理し、 (c)式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) (式中、R_1、R_2、R^0_3およびZは前記と
同じ意味である) で表される得られた化合物を、三価リンの有機化合物で
処理し、そして (d)式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) (式中、R_1、R_2およびR^0_3は前記と同じ
意味である) で表される得られた化合物からオキサリルエステル基(
−CO−COO−R^0_3)を除去するとともに、所
望により、保護基R^0_3および(または)基R_2
中に存在することのある保護基R^0_2を任意の順序
で除去してそれらの基を水素原子で置換し、 そして所望により、塩形成性基を含有する式( I )の
得られた化合物を塩に変え、あるいは得られた塩を遊離
化合物に変えることからなる、前記式( I )で表され
る化合物またはその塩の製法。 2、R_1は水素原子またはメチル基であり、Wはアシ
ルオキシ基、スルホニル基−SO_2−R_0であり、
ここでR_0は有機基、ハロゲン原子またはアジド基で
あり、Zは酸素原子またはイオウ原子であり、R_2は
炭素原子18個まで好ましくは10個まで最も好ましく
は5個までを含有する有機基であって、R_2は窒素原
子5個まで好ましくは4個まで、および(または)酸素
原子5個まで好ましくは2個まで、および(または)イ
オウ原子3個まで好ましくは2個まで最も好ましくは1
個を含有することができ、そしてR_2はその炭素原子
の1個を介してならびに窒素原子、酸素原子またはイオ
ウ原子を介してペネム環に結合することができるものと
し、そしてR^0_3はカルボキシル保護基である特許
請求の範囲第1項記載の方法。 3、R_1は水素原子またはメチル基であり、Wは低級
アルカノイルオキシ基、またはベンゾイルオキシ基もし
くはフェニル−低級アルカイルオキシ基(各々は置換さ
れていないかあるいはニトロで置換されているものとす
る)、−SO_2−R_0基〔ここでR_0は低級アル
キル基、ヒドロキシ−置換低級アルキル基、ベンジル基
、またはフェニル基(フェニル基は置換されていないか
あるいは例えば低級アルキル基またはハロゲン原子で置
換されているものとする)である〕またはハロゲン原子
であり、Zは酸素原子またはイオウ原子であり、R_2
は非置換または置換の低級アリファチル基、低級アリフ
ァチルオキシ基、低級アリファチルチオ基、シクロアリ
ファチル基、シクロアリファチルオキシ基、シクロアリ
ファチルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリ
ールチオ基、アリール−低級アリファチル基、アリール
−低級アリファチルオキシ基、アリール−低級アリファ
チルチオ基、複素環式基、複素環式オキシ基、複素環式
チオ基、複素環式−低級アリファチル基、複素環式−低
級アリファチルオキシ基、複素環式−低級アリファチル
チオ基、複素環式−低級アリファチル基または複素環式
チオ−低級アリファチル基であり、前記のシクロアリフ
ァチル基および複素環式基は飽和または不飽和であるも
のとし、そしてR^0_3は低級アルキル基、アリール
メチル基、ヘテロアリールメチル基、低級アルカノイル
メチル基、アロイルメチル基、ハロ−低級アルキル基、
低級アルケニル基、2−低級アルキルスルホニルエチル
基、2−シアノエチル基、2−トリ−低級アルキルシリ
ルエチル基または2−トリフェニルシリルエチル基であ
る特許請求の範囲第1項記載の方法。 4、R^0_3がアリル基である特許請求の範囲第1項
記載の方法。 5、R_1は水素原子またはメチル基であり、Wはベル
ジルオキシ基であり、Zは酸素原子またはイオウ原子で
あり、R_2はアミノメチル基、2−アミノプロプ−1
−イル基、カルバモイルオキシメチル基、1−メチルテ
トラゾール−5−イルチオメチル基、2−(1−テトラ
ゾリル)プロピル基、2−オキソ−5−テトラヒドロフ
リルメチル基、2−オキソ−5−ピロリジルメチル基、
2−アミノエチルチオ基、2−ホルムアミジノエチルチ
オ基、2−カルバモイルオキシエチルチオ基、1−イミ
ダゾール基、4,5−ジメチル−1−イミダゾリル基、
4−メチル−5−チオゾリル基、5−メチル−4−チア
ゾリル基および2−アミノ−4−メチル−5−チアゾリ
ル基、およびそれらの保護された誘導体の基であり、そ
してR^0_3はアリル基である特許請求の範囲第1項
記載の方法。 6、R^0_2はアリルオキシカルボニル基である特許
請求の範囲第1項記載の方法。 7、(3R、4R、1′R)−3−(1′−ヒドロキシ
エチル)−4−ベンゾイルオキシ−2−アゼチジノンま
たは(3S、4R、1′R)−3−(1′−ヒドロキシ
エチル)−4−t−ブチルスルホニル−2−アゼチジノ
ンとN−アリルオキシカルボニルチオグリシンとを反応
させ、得られた(3S、4R、1′R)−3−(1′−
ヒドロキシエチル)−4−(N−アリルオキシカルボニ
ルグリシルチオ)−2−アゼチジノンを、N−エチルジ
イソプロピルアミンの存在下に、塩化アリルオキサリル
で処理し、得られたアリル(5S、6R、1′R)−2
−アリルオキシカルボニルアミノメチル−6−〔1′−
(アリルオキシオキサリルオキシ)エチル〕−2−ペネ
ム−3−カルボキシレートから1′−ヒドロキシ基およ
び3−カルボキシ基において保護基を除去し、そして(
5R、6S、1′R)−2−アミノメチル−6−(1′
−ヒドロキシエチル)−2−ペネム−3−カルボン酸を
単離することからなる特許請求の範囲第1項記載の方法
。 8、R^0_2はシンナミルオキシカルボニル基である
特許請求の範囲第1項記載の方法。 9、(3R、4R、1′R)−3−(1′−ヒドロキシ
エチル)−4−ベンゾイルオキシ−2−アゼチジノン、
(3R、4R、1′R)−3−(1′−ヒドロキシエチ
ル)−4−アセトキシ−2−アゼチジノンまたは(3R
、4R、1′R)−3−(1′−ヒドロキシエチル)−
4−t−ブチルスルホニル−2−アゼチジノンとN−シ
ンナミルオキシカルボニルチオグリシンとを反応させ、
得られた(3S、4R、1′R)−3−(1′−ヒドロ
キシエチル)−4−(N−シンナミルオキシカルボニル
グリシルチオ)−2−アゼチジノンを、N−エチルジイ
ソプロピルアミンの存在下に、塩化アリルオキサリルで
処理し、得られたアリル(5S、6R、1′R)−2−
アリルオキシカルボニルアミノメチル−6−〔1′−(
アリルオキシオキサリルオキシ)エチル〕−2−ペネム
−3−カルボキシレートから1′−ヒドロキシ基および
3−カルボキシ基において保護基を除去し、そして(5
R、6S、1′R)−2−アミノメチル−6−(1′−
ヒドロキシエチル)−2−ペネム−3−カルボン酸を単
離することからなる特許請求の範囲第1項記載の方法。 10、中間体として得られた化合物を出発物質として使
用し、そしてそれを用いて残りの工程を実施するか、あ
るいは方法を任意の段階で中断するか、あるいは個々の
工程(a)〜(d)からなる特許請求の範囲第1項〜第
6項のいずれか1項に従う方法。 11、中間体として得られた化合物を出発物質として使
用し、そしてそれを用いて残りの工程を実施するか、あ
るいはこの方法を任意の段階で中断するか、あるいは個
々の工程(a)〜(d)からなる特許請求の範囲第1項
〜第8項のいずれか1項に従う方法。 12、R_2はシンナミルオキシカルボニルアミノメチ
ル基であり、そしてR_1およびR_3は所定の意味を
有する特許請求の範囲第1項記載の式( I )の化合物
。 13、特許請求の範囲第12項記載のアリル(5R、6
S、1′R)−3−(1′−ヒドロキシエチル)−2−
シンナミルオキシカルボニルアミノメチル−ペネム−3
−カルボキシレート。 14、R_2はシンナミルオキシカルボニルアミノメチ
ル基であり、そしてR_1およびZは所定の意味を有す
る特許請求の範囲第1項記載の式(IV)の化合物。 15、特許請求の範囲第14項記載の(3S、4R、1
′R)−3−(1′−ヒドロキシエチル)−4−(N−
シンナミルオキシカルボニルグリシルチオ)−2−アゼ
チジノン。 16、R_1、R_2、R^0_3およびZは所定の意
味を有する特許請求の範囲第1項記載の式(VI)の化合
物。 17、特許請求の範囲第16項記載のアリル(3S、4
R、1′R)−2−〔4−(N−アリルオキシカルボニ
ルグリシルチオ)−3−(1′−アリルオキシオキサリ
ルオキシエチル)−2−オキソ−1−アゼチジニル〕−
2−オキソアセテート。 18、特許請求の範囲第16項記載のアリル(3S、4
R、1′R)−2−〔4−(N−シンナミルオキシカル
ボニルグリシルチオ)−3−(1′−アリルオキシオキ
サリルオキシエチル)−2−オキソ−1−アゼチジニル
〕−オキソアセテート。 19、R_1、R_2およびR^0_3は所定の意味を
有する特許請求の範囲第1項記載の式(VIII)の化合物
。 20、特許請求の範囲第19項記載のアリル(5R、6
S、1′R)−2−アリルオキシカルボニルアミノメチ
ル−6−〔1′−(アリルオキシオキサリルオキシ)エ
チル〕−2−ペネム−3−カルボキシレート。 21、特許請求の範囲第19項記載のアリル(5R、6
S、1′R)−2−シンナミルオキシカルボニルアミノ
メチル−6−〔1′−(アリルオキシオキサリルオキシ
)エチル〕−2−ペネム−3−カルボキシレート。
[Claims] 1. Formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (I) (In the formula, R_1 is a hydrogen atom or a lower alkyl group, and R_2 is protected with a common protecting group R^0_2. is an organic group that can carry a functional group that may contain
R_3 is a hydrogen atom or a normal carboxyl protecting group R^
0_3) In producing the compound or its salt represented by (a) Formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (II) [In the formula, R_1 has the same meaning as above, and W has the same meaning as described below. formula(
It is a group that can be substituted with the thiocarboxylic acid group of is an oxygen atom or a sulfur atom). has the same meaning as above) The obtained compound represented by the formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (V) (In the formula, R^0_3 is a common carboxyl protecting group) (c) Formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (VII) (In the formula, R_1, R_2, R^0_3 and Z are The obtained compound represented by (same meaning as above) is treated with an organic compound of trivalent phosphorus, and the resulting compound represented by (d) formula ▲ has a numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (VIII) (wherein R_1 , R_2 and R^0_3 have the same meanings as above) from the obtained compound represented by the oxalyl ester group (
-CO-COO-R^0_3) and, if desired, protecting group R^0_3 and/or group R_2
the protective groups R^0_2 that may be present in the resulting compound of formula (I) are removed in any order and these groups are replaced by hydrogen atoms, and optionally containing salt-forming groups. A method for producing a compound represented by the formula (I) or a salt thereof, which comprises converting into a salt or converting the obtained salt into a free compound. 2, R_1 is a hydrogen atom or a methyl group, W is an acyloxy group, a sulfonyl group -SO_2-R_0,
where R_0 is an organic group, a halogen atom or an azide group, Z is an oxygen atom or a sulfur atom, and R_2 is an organic group containing up to 18 carbon atoms, preferably up to 10 and most preferably up to 5. and R_2 contains up to 5 nitrogen atoms, preferably up to 4 nitrogen atoms, and/or up to 5 oxygen atoms, preferably up to 2 oxygen atoms, and/or up to 3 sulfur atoms, preferably up to 2 sulfur atoms, and most preferably up to 2 sulfur atoms.
and R_2 shall be capable of bonding to the penem ring through one of its carbon atoms as well as through a nitrogen, oxygen or sulfur atom, and R^0_3 shall be a carboxyl-protected The method according to claim 1, wherein the method is a group of: 3. R_1 is a hydrogen atom or a methyl group, and W is a lower alkanoyloxy group, or a benzoyloxy group or a phenyl-lower alkyloxy group (each is unsubstituted or substituted with nitro) , -SO_2-R_0 group [where R_0 is a lower alkyl group, a hydroxy-substituted lower alkyl group, a benzyl group, or a phenyl group (the phenyl group is unsubstituted or substituted with, for example, a lower alkyl group or a halogen atom) ] or a halogen atom, Z is an oxygen atom or a sulfur atom, and R_2
is an unsubstituted or substituted lower arifatyl group, lower arifatyloxy group, lower arifatylthio group, cycloarifatyl group, cycloarifatyloxy group, cycloarifatylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, aryl-lower arifatyl group, aryl-lower arifatyloxy group, aryl-lower arifatylthio group, heterocyclic group, heterocyclic oxy group, heterocyclic thio group, heterocyclic-lower arifatyl group, a heterocyclic-lower arifatyloxy group, a heterocyclic-lower arifatylthio group, a heterocyclic-lower arifatyl group, or a heterocyclic thio-lower arifatyl group, and the above-mentioned cycloariphatyl group and heterocycle The formula group shall be saturated or unsaturated, and R^0_3 is a lower alkyl group, an arylmethyl group, a heteroarylmethyl group, a lower alkanoylmethyl group, an aroylmethyl group, a halo-lower alkyl group,
The method according to claim 1, wherein the group is a lower alkenyl group, a 2-lower alkylsulfonylethyl group, a 2-cyanoethyl group, a 2-tri-lower alkylsilylethyl group, or a 2-triphenylsilylethyl group. 4. The method according to claim 1, wherein R^0_3 is an allyl group. 5, R_1 is a hydrogen atom or a methyl group, W is a bersyloxy group, Z is an oxygen atom or a sulfur atom, R_2 is an aminomethyl group, 2-aminoprop-1
-yl group, carbamoyloxymethyl group, 1-methyltetrazol-5-ylthiomethyl group, 2-(1-tetrazolyl)propyl group, 2-oxo-5-tetrahydrofurylmethyl group, 2-oxo-5-pyrrolidylmethyl group ,
2-aminoethylthio group, 2-formamidinoethylthio group, 2-carbamoyloxyethylthio group, 1-imidazole group, 4,5-dimethyl-1-imidazolyl group,
4-methyl-5-thiazolyl, 5-methyl-4-thiazolyl and 2-amino-4-methyl-5-thiazolyl groups, and their protected derivatives, and R^0_3 is an allyl group. The method according to claim 1. 6. The method according to claim 1, wherein R^0_2 is an allyloxycarbonyl group. 7, (3R, 4R, 1'R)-3-(1'-hydroxyethyl)-4-benzoyloxy-2-azetidinone or (3S, 4R, 1'R)-3-(1'-hydroxyethyl) -4-t-butylsulfonyl-2-azetidinone and N-allyloxycarbonylthioglycine were reacted to obtain (3S,4R,1'R)-3-(1'-
The resulting allyl (5S, 6R, 1'R )-2
-allyloxycarbonylaminomethyl-6-[1'-
(allyloxyoxalyloxy)ethyl]-2-penem-3-carboxylate is removed from the protecting groups at the 1'-hydroxy and 3-carboxy groups and (
5R, 6S, 1'R)-2-aminomethyl-6-(1'
2. A process according to claim 1, which comprises isolating 2-penem-3-carboxylic acid (-hydroxyethyl)-2-penem-3-carboxylic acid. 8. The method according to claim 1, wherein R^0_2 is a cinnamyloxycarbonyl group. 9, (3R, 4R, 1'R)-3-(1'-hydroxyethyl)-4-benzoyloxy-2-azetidinone,
(3R, 4R, 1'R)-3-(1'-hydroxyethyl)-4-acetoxy-2-azetidinone or (3R
, 4R, 1'R)-3-(1'-hydroxyethyl)-
4-t-butylsulfonyl-2-azetidinone and N-cinnamyloxycarbonylthioglycine are reacted,
The obtained (3S, 4R, 1′R)-3-(1′-hydroxyethyl)-4-(N-cinnamyloxycarbonylglycylthio)-2-azetidinone was added in the presence of N-ethyldiisopropylamine. , treated with allyloxalyl chloride, the obtained allyl (5S, 6R, 1'R)-2-
Allyloxycarbonylaminomethyl-6-[1'-(
Allyloxyoxalyloxy)ethyl]-2-penem-3-carboxylate was deprotected from the 1'-hydroxy and 3-carboxy groups and (5
R, 6S, 1'R)-2-aminomethyl-6-(1'-
2. A process according to claim 1, which comprises isolating hydroxyethyl)-2-penem-3-carboxylic acid. 10. Use the compound obtained as an intermediate as starting material and carry out the remaining steps with it or interrupt the process at any stage or carry out individual steps (a) to (d) ) A method according to any one of claims 1 to 6. 11. Either the compound obtained as an intermediate is used as starting material and the remaining steps are carried out with it, or the process is interrupted at any stage or the individual steps (a) to ( d). 12. A compound of formula (I) according to claim 1, wherein R_2 is a cinnamyloxycarbonylaminomethyl group, and R_1 and R_3 have the defined meanings. 13. Allyl (5R, 6
S, 1'R)-3-(1'-hydroxyethyl)-2-
Cinnamyloxycarbonylaminomethyl-penem-3
- Carboxylate. 14. A compound of formula (IV) according to claim 1, wherein R_2 is a cinnamyloxycarbonylaminomethyl group, and R_1 and Z have the defined meanings. 15, (3S, 4R, 1
'R)-3-(1'-hydroxyethyl)-4-(N-
Cinnamyloxycarbonylglycylthio)-2-azetidinone. 16. The compound of formula (VI) according to claim 1, wherein R_1, R_2, R^0_3 and Z have the prescribed meanings. 17, allyl (3S, 4
R, 1'R)-2-[4-(N-allyloxycarbonylglycylthio)-3-(1'-allyloxyoxalyloxyethyl)-2-oxo-1-azetidinyl]-
2-Oxoacetate. 18, allyl (3S, 4
R, 1'R)-2-[4-(N-cinnamyloxycarbonylglycylthio)-3-(1'-allyloxyoxalyloxyethyl)-2-oxo-1-azetidinyl]-oxoacetate. 19. The compound of formula (VIII) according to claim 1, wherein R_1, R_2 and R^0_3 have the prescribed meanings. 20, allyl (5R, 6
S, 1'R)-2-allyloxycarbonylaminomethyl-6-[1'-(allyloxyoxalyloxy)ethyl]-2-penem-3-carboxylate. 21, allyl (5R, 6
S, 1'R)-2-cinnamyloxycarbonylaminomethyl-6-[1'-(allyloxyoxalyloxy)ethyl]-2-penem-3-carboxylate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06220054A (en) * 1992-06-18 1994-08-09 Tanabe Seiyaku Co Ltd Method for removing protecting group of carboxyl group

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06220054A (en) * 1992-06-18 1994-08-09 Tanabe Seiyaku Co Ltd Method for removing protecting group of carboxyl group

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