JPS6244491Y2 - - Google Patents

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JPS6244491Y2
JPS6244491Y2 JP4540882U JP4540882U JPS6244491Y2 JP S6244491 Y2 JPS6244491 Y2 JP S6244491Y2 JP 4540882 U JP4540882 U JP 4540882U JP 4540882 U JP4540882 U JP 4540882U JP S6244491 Y2 JPS6244491 Y2 JP S6244491Y2
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wiper
adjustment shaft
shaft
vertical wall
adjustment
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Description

【考案の詳細な説明】 この考案は可変抵抗器に関し、特に、ドライバ
調整溝が形成された調整軸を備える小型の可変抵
抗器における部品点数削減および加工上の問題点
に着目して改善が図られた可変抵抗器に関する。
[Detailed description of the invention] This invention relates to variable resistors, and in particular focuses on reducing the number of parts and solving processing problems in small variable resistors equipped with adjustment shafts with driver adjustment grooves. Regarding variable resistors.

第1図ないし第3図は第1の従来例を示し、第
1図は平面図、第2図は中央断面図、第3図は調
整軸を下方から示した斜視図である。
1 to 3 show a first conventional example, in which FIG. 1 is a plan view, FIG. 2 is a central sectional view, and FIG. 3 is a perspective view of the adjustment shaft seen from below.

ここに示した第1の従来例は、基本的には、基
板1と、調整軸2と、ワイパ3と、スペーサ4と
の4個の部品から構成されている。調整軸2の軸
部5は、基板1に設けられた穴6に挿入された後
で、その下端がかしめられ、それによつて調整軸
2は基板1に対して回転自在に保持される。基板
1の上面には、図示しないが、抵抗膜がC字状に
形成されている。調整軸2の頭部7の下部には、
段部8が形成され、この段部8には平坦面9が形
成される。ワイパ3は、調整軸2の段部8を受入
れる穴を備え、この穴は段部8の断面形状と同じ
輪郭を有している。したがつて、平坦面9が作用
して、ワイパ3は調整軸2と一体に回転するよう
になる。調整軸2の頭部7の上面には、ドライバ
調整溝11が形成されていて、ここにドライバ等
の先端を嵌め込んで調整軸2を回転させることに
より、一体にワイパ3も回転し、ワイパ3の接点
部10が前述の抵抗膜に接触しながらスライドす
ることによつて、この可変抵抗器によつて得られ
る抵抗値が調整される。
The first conventional example shown here is basically composed of four parts: a substrate 1, an adjustment shaft 2, a wiper 3, and a spacer 4. After a shaft portion 5 of the adjustment shaft 2 is inserted into a hole 6 provided in the substrate 1, its lower end is crimped, so that the adjustment shaft 2 is held rotatably relative to the substrate 1. Although not shown, a resistive film is formed in a C-shape on the upper surface of the substrate 1. At the lower portion of the head portion 7 of the adjustment shaft 2,
A step 8 is formed, and a flat surface 9 is formed on this step 8. The wiper 3 has a hole that receives the step 8 of the adjustment shaft 2, and this hole has the same contour as the cross-sectional shape of the step 8. Therefore, the flat surface 9 acts to rotate the wiper 3 integrally with the adjustment shaft 2. A driver adjustment groove 11 is formed on the upper surface of the head 7 of the adjustment shaft 2, and by fitting the tip of a screwdriver or the like into this groove and rotating the adjustment shaft 2, the wiper 3 also rotates integrally, and the contact portion 10 of the wiper 3 slides while contacting the aforementioned resistive film, thereby adjusting the resistance value obtained by this variable resistor.

上述のワイパ3は、ばね性を有する金属材料か
ら構成されるが、このばね性によつて接点部10
が抵抗膜に一定の圧力をもつて接触させるために
は、ワイパ3の根元部分12は、基板1の上面か
ら一定の間隔を保つて支持されていなければなら
ない。そのために、スペーサ4が用いられ、この
スペーサ4は、基板1とワイパ3の根元部分12
との間に入れられる。しかしながら、このスペー
サ4は、このような可変抵抗器を構成するための
部品点数の増加をもたらし好ましくない。
The wiper 3 described above is made of a metal material having spring properties, and this spring property allows the contact portion 10 to
In order for the wiper 3 to contact the resistive film with a constant pressure, the root portion 12 of the wiper 3 must be supported at a constant distance from the upper surface of the substrate 1. For this purpose, a spacer 4 is used, which connects the substrate 1 and the root portion 12 of the wiper 3.
It can be placed between. However, this spacer 4 is undesirable because it increases the number of parts for constructing such a variable resistor.

上述のスペーサをなくした構造のものとして、
第4図および第5図に示す第2の従来例が提案さ
れている。第4図はワイパを上方から示した斜視
図であり、第5図は調整軸を下方から示した斜視
図である。
As a structure without the spacer mentioned above,
A second conventional example shown in FIGS. 4 and 5 has been proposed. FIG. 4 is a perspective view of the wiper from above, and FIG. 5 is a perspective view of the adjustment shaft from below.

第4図に示すように、ワイパ13の根元部分に
は、たとえば三角形または四角形のような円形で
ない形状の凹部14が絞り加工によつて形成さ
れ、この凹部14内に、穴15が設けられる。一
方、第5図に示すように、調整軸16の軸部17
と頭部18との境目には、上述の凹部14に対応
する形状の、すなわち図示の従来例では三角形の
凸部19が設けられる。
As shown in FIG. 4, a concave portion 14 having a non-circular shape, such as a triangular or square shape, is formed by drawing at the base portion of the wiper 13, and a hole 15 is provided within this concave portion 14. On the other hand, as shown in FIG.
A convex portion 19 having a shape corresponding to the above-mentioned concave portion 14, that is, triangular in the illustrated conventional example, is provided at the boundary between the head portion 18 and the concave portion 14.

このようなワイパ13と調整軸16とを備える
可変抵抗器においては、その組立て後の状態にお
いて、調整軸16の軸部17がワイパ13の穴1
5に挿入され、凸部19が凹部14に嵌まり込む
ことによつて、ワイパ13は調整軸16と一体に
回転するようになる。そして、凹部14の高さ方
向の寸法が、前述の第1の従来例のスペーサ4の
役目を果たし、スペーサの不要な構造が実現され
る。
In a variable resistor including such a wiper 13 and an adjustment shaft 16, in the assembled state, the shaft portion 17 of the adjustment shaft 16 is aligned with the hole 1 of the wiper 13.
5 and the convex portion 19 fits into the concave portion 14 , the wiper 13 rotates together with the adjustment shaft 16 . The height dimension of the recess 14 serves as the spacer 4 of the first conventional example described above, and a structure that does not require a spacer is realized.

しかしながら、この第2の従来例では、凹部1
4が絞り加工によつて形成されるので、その寸法
的な精度を出すのは比較的困難である。もし、凹
部14が設定値より大きく形成されたならば、凸
部19を受入れるときに遊びが生じ、調整軸16
の回転に対してワイパ13が適切に追従しなくな
るであろう。さらに重要な問題として、このよう
な場合、調整軸16とワイパ13との接触面積が
小さくなるので、調整軸16の回転中または調整
操作後において、ワイパ13が不所望に傾くこと
があり、それによつて調整されるべき抵抗値に変
化を生じさせることになり、特に半固定抵抗器に
おいては致命的な欠陥となる。他方、もし、凹部
14が設定値より小さく形成されたならば、凸部
19を受入れることが不可能となるであろう。
However, in this second conventional example, the recess 1
4 is formed by drawing, so it is relatively difficult to achieve dimensional accuracy. If the concave portion 14 is formed larger than the set value, play will occur when the convex portion 19 is received, and the adjustment shaft 16
The wiper 13 will not be able to properly follow the rotation of. A more important problem is that in such a case, the contact area between the adjustment shaft 16 and the wiper 13 becomes small, so the wiper 13 may tilt undesirably during the rotation of the adjustment shaft 16 or after the adjustment operation. This causes a change in the resistance value to be adjusted, which is a fatal defect especially in semi-fixed resistors. On the other hand, if the recess 14 were formed smaller than the set value, it would be impossible to receive the protrusion 19.

それゆえに、この考案の主たる目的は、上述し
たような従来例の問題点を有利に解消し得る可変
抵抗器の構造を提供することである。
Therefore, the main objective of the present invention is to provide a variable resistor structure that can advantageously overcome the problems of the prior art as described above.

この考案は、要約すれば、調整軸の頭部に段部
を形成し、ワイパには、この段部を受入れる円形
部分と垂直壁部とを形成し、この円形部分は基板
に接触する状態とし、それによつて、まず、ワイ
パが調整軸に対して安定的に保持されるように
し、さらに、調整軸の段部には、側方に突出する
突起を設け、ワイパの垂直壁部にはこの突起を受
入れる穴または切欠きのような開口を形成し、そ
れによつて、ワイパが調整軸と一体に回転するよ
うに構成された可変抵抗器である。
In summary, this idea consists of forming a stepped portion on the head of the adjustment shaft, forming a circular portion for receiving the stepped portion and a vertical wall portion on the wiper, and placing the circular portion in contact with the substrate. First, the wiper is stably held on the adjustment shaft, and the step of the adjustment shaft is provided with a protrusion that protrudes laterally, and the vertical wall of the wiper is provided with a protrusion that protrudes laterally. The variable resistor is configured to form an opening such as a hole or notch for receiving a protrusion so that the wiper rotates together with the adjustment shaft.

この考案のその他の目的と特徴は以下に図面を
参照して行なう詳細な説明から一層明らかとなろ
う。
Other objects and features of this invention will become clearer from the detailed description given below with reference to the drawings.

第6図はこの考案の一実施例の中央断面図であ
る。第7図は第6図のワイパを上方から示した斜
視図である。第8図は第6図の調整軸を下方から
示した斜視図である。第9図は第6図の調整軸を
上方から示した斜視図である。
FIG. 6 is a central sectional view of an embodiment of this invention. FIG. 7 is a perspective view of the wiper of FIG. 6, viewed from above. FIG. 8 is a perspective view of the adjustment shaft shown in FIG. 6, viewed from below. FIG. 9 is a perspective view of the adjustment shaft shown in FIG. 6, viewed from above.

この実施例は、基本的に、基板20と、調整軸
21と、ワイパ22との3個の部品から構成され
る。基板20には、調整軸21の軸部23を受入
れる穴24が設けられ、軸部23が穴24に挿入
された後で、軸部23の下端がかしめられること
によつて、調整軸21は基板20に対して回転自
在に保持される。基板20の上面には抵抗膜25
がC字状に形成される。この抵抗膜25の両端に
は、それぞれ端子(図示せず)が接続される。ワ
イパ22は、適宜のばね性を有する金属材料から
構成され、その接点部26は、抵抗膜25に接触
する。ワイパ22は、また、基板20上に形成さ
れた引き出し導体27に接触するように構成さ
れ、この引き出し導体27にも、端子(図示せ
ず)が接続される。調整軸21の頭部28の上面
には、ドライバ調整溝29が設けられている。以
下、この実施例の特徴となる構成に触れながら、
各部分の詳細について説明する。
This embodiment basically consists of three parts: a substrate 20, an adjustment shaft 21, and a wiper 22. The substrate 20 is provided with a hole 24 that receives the shaft portion 23 of the adjustment shaft 21, and after the shaft portion 23 is inserted into the hole 24, the lower end of the shaft portion 23 is caulked, so that the adjustment shaft 21 is fixed. It is rotatably held relative to the substrate 20. A resistive film 25 is formed on the upper surface of the substrate 20.
is formed in a C-shape. Terminals (not shown) are connected to both ends of this resistive film 25, respectively. The wiper 22 is made of a metal material having appropriate spring properties, and its contact portion 26 contacts the resistive film 25. The wiper 22 is also configured to contact a lead-out conductor 27 formed on the substrate 20, and a terminal (not shown) is also connected to this lead-out conductor 27. A driver adjustment groove 29 is provided on the upper surface of the head 28 of the adjustment shaft 21 . Below, while referring to the configuration that is the feature of this example,
The details of each part will be explained.

ワイパ22は、基板20、より正確には引き出
し導体27と接触する円形部分30と、この円形
部分30の外周から立上がる垂直壁部31とを有
する。この垂直壁部31の上端から延びて前述の
接点部26が形成される。円形部分30の中心に
は、調整軸21の軸部23を受入れる穴32が形
成される。このように、円形部分30と垂直壁部
31とによつて、まず、一定の空間が規定され
る。
The wiper 22 has a circular portion 30 that contacts the substrate 20, more precisely, the lead-out conductor 27, and a vertical wall portion 31 rising from the outer periphery of the circular portion 30. The aforementioned contact portion 26 is formed extending from the upper end of this vertical wall portion 31 . A hole 32 for receiving the shaft portion 23 of the adjustment shaft 21 is formed at the center of the circular portion 30 . In this way, first, a certain space is defined by the circular portion 30 and the vertical wall portion 31.

調整軸21の頭部28には、上述の円形部分3
0と垂直壁部31とによつて規定される空間内に
受入れられる段部33が設けられる。この段部3
3の底面は、ワイパ22の円形部分30に接触
し、、それによつてワイパ22の円形部分30が
基板20と調整軸21とによつて挟まれることに
なる。したがつて、ワイパ22の調整軸21に対
する傾き方向の位置決めが確実に達成される。
The head 28 of the adjustment shaft 21 has the above-mentioned circular portion 3.
A step 33 is provided which is received within the space defined by the vertical wall 31 and the vertical wall 31 . This step 3
3 contacts the circular portion 30 of the wiper 22, so that the circular portion 30 of the wiper 22 is sandwiched between the base plate 20 and the adjustment shaft 21. Therefore, positioning of the wiper 22 in the inclination direction with respect to the adjustment shaft 21 is reliably achieved.

ワイパ22の垂直壁部31には、開口としての
穴34が形成される。この穴34は、図示の実施
例では、垂直壁部31からワイパ22の外周の水
平壁部35にまで延びて設けられている。水平壁
部35において穴34が延びる距離は任意であ
り、穴34は実質的に垂直壁部31にのみ形成さ
れていてもよい。また、逆に、穴34は、水平壁
部35の外周縁にまで延び、穴ではなく切欠きと
して形成されてもよい。他方、調整軸21の段部
33には、側方に突出する突起36が設けられ
る。この突起36は、上述の穴34内に受入れら
れるものである。このようにして、突起36が穴
34内に係合し、ワイパ22が調整軸21と一体
に回転する構成が実現される。
A hole 34 serving as an opening is formed in the vertical wall portion 31 of the wiper 22 . In the illustrated embodiment, the hole 34 is provided extending from the vertical wall portion 31 to a horizontal wall portion 35 on the outer periphery of the wiper 22 . The distance that the hole 34 extends in the horizontal wall portion 35 is arbitrary, and the hole 34 may be formed substantially only in the vertical wall portion 31. Conversely, the hole 34 may extend to the outer peripheral edge of the horizontal wall portion 35 and may be formed as a notch instead of a hole. On the other hand, the stepped portion 33 of the adjustment shaft 21 is provided with a protrusion 36 that protrudes laterally. This protrusion 36 is to be received within the hole 34 described above. In this way, a configuration is realized in which the protrusion 36 engages within the hole 34 and the wiper 22 rotates together with the adjustment shaft 21.

第10図はこの考案の他の実施例の調整軸の正
面図である。ここに示した調整軸21は、突起3
6および軸部23の形状に特徴がある。すなわ
ち、突起36は、その両側面にテーパが形成さ
れ、かつ軸部23の上部にもテーパが形成され、
これらのテーパは上方に向かつて拡がる形状にさ
れている。このような形状の突起36および軸部
23によれば、穴34および32に嵌まり込むと
き、テーパが有利に作用して、突起36および軸
部23が穴34および32に密に嵌まり込むこと
を可能にする。このことは、調整軸21の回転と
ワイパ22との回転との間に遊びを生じさせるこ
とを防止するとともに、穴34および32と突起
36および軸部23との各間での寸法誤差を吸収
するという利点もある。さらに、たとえば、調整
軸21を基板20の穴24に挿入する前に、予め
ワイパ22を調整軸21に仮に固定しておくこと
を可能にする。すなわち、突起36および軸部2
3のテーパを利用すれば、穴34および32にこ
の突起36および軸部23をそれぞれ食い込ませ
ることが可能となり、それによつてワイパ22
を、組立て工程において、調整軸21と一体に取
扱うことができ、或る意味での部品点数の削減と
同様の意味を持つ。
FIG. 10 is a front view of the adjustment shaft of another embodiment of this invention. The adjustment shaft 21 shown here is attached to the protrusion 3
6 and the shape of the shaft portion 23 are distinctive. That is, the protrusion 36 is tapered on both sides, and the upper part of the shaft portion 23 is also tapered.
These tapers are shaped to widen upward. According to the projection 36 and the shaft portion 23 having such a shape, when the projection 36 and the shaft portion 23 are fitted into the holes 34 and 32, the taper acts advantageously, and the projection 36 and the shaft portion 23 are tightly fitted into the holes 34 and 32. make it possible. This prevents play between the rotation of the adjustment shaft 21 and the rotation of the wiper 22, and also absorbs dimensional errors between the holes 34 and 32, the protrusion 36, and the shaft portion 23. There is also the advantage of doing so. Furthermore, for example, it is possible to temporarily fix the wiper 22 to the adjustment shaft 21 before inserting the adjustment shaft 21 into the hole 24 of the substrate 20. That is, the protrusion 36 and the shaft portion 2
By using the taper No. 3, it becomes possible to make the protrusion 36 and the shaft portion 23 bite into the holes 34 and 32, respectively, and thereby the wiper 22
can be handled integrally with the adjustment shaft 21 in the assembly process, which in a sense has the same meaning as reducing the number of parts.

以上のように、この考案によれば、ワイパには
円形部分と垂直壁部とを有し、この円形部分が基
板に接触しながら、調整軸の段部が円形部分およ
び垂直壁部によつて規定される空間内に受入れら
れた状態となつているので、ワイパが安定に保持
される。したがつて、調整後の抵抗値が変動する
ことは防止される。また、ワイパが調整軸と一体
に回転するようにするために、突起およびこれを
受入れる開口による係合手段が適用され、この係
合手段の一方を構成する開口は、金属板を打抜く
ことによつて形成されることができるので、その
寸法および位置における精度が高く、したがつ
て、回転における遊びは生じない。また、ワイパ
の接点部が、垂直壁部の上端から延びたところに
設けられるので、スペーサなどの余分な部品は不
要となる。
As described above, according to this invention, the wiper has a circular part and a vertical wall part, and while this circular part is in contact with the substrate, the stepped part of the adjustment shaft is moved by the circular part and the vertical wall part. Since the wiper is received within the defined space, the wiper is stably held. Therefore, fluctuations in the adjusted resistance value are prevented. In addition, in order to allow the wiper to rotate together with the adjustment shaft, an engagement means consisting of a protrusion and an opening for receiving the protrusion is applied, and the opening constituting one of the engagement means is formed by punching a metal plate. It can thus be formed with high precision in its dimensions and position, and therefore no play in rotation occurs. Furthermore, since the contact portion of the wiper is provided extending from the upper end of the vertical wall portion, extra parts such as spacers are not required.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図ないし第3図は第1の従来例を示し、第
1図は平面図、第2図は中央断面図、第3図は調
整軸を下方から示した斜視図である。第4図およ
び第5図は第2の従来例の要部を示し。第4図は
ワイパを上方から示した斜視図、第5図は調整軸
を下方から示した斜視図である。第6図はこの考
案の一実施例の中央断面図である。第7図は第6
図のワイパを上方から示した斜視図である。第8
図は第6図の調整軸を下方から示した斜視図であ
る。第9図は第6図の調整軸を上方から示した斜
視図である。第10図はこの考案の他の実施例の
調整軸の正面図である。 図において、20は基板、21は調整軸、22
はワイパ、23は軸部、24は穴、25は抵抗
膜、26は接点部、28は頭部、30は円形部
分、31は垂直壁部、32は穴、33は段部、3
4は開口としての穴、36は突起である。
1 to 3 show a first conventional example, in which FIG. 1 is a plan view, FIG. 2 is a central sectional view, and FIG. 3 is a perspective view of the adjustment shaft seen from below. FIGS. 4 and 5 show the main parts of the second conventional example. FIG. 4 is a perspective view of the wiper from above, and FIG. 5 is a perspective view of the adjustment shaft from below. FIG. 6 is a central sectional view of an embodiment of this invention. Figure 7 is the 6th
FIG. 2 is a perspective view of the wiper shown in the figure from above. 8th
This figure is a perspective view showing the adjustment shaft of FIG. 6 from below. FIG. 9 is a perspective view of the adjustment shaft shown in FIG. 6, viewed from above. FIG. 10 is a front view of the adjustment shaft of another embodiment of this invention. In the figure, 20 is a substrate, 21 is an adjustment shaft, 22
is a wiper, 23 is a shaft portion, 24 is a hole, 25 is a resistive film, 26 is a contact portion, 28 is a head portion, 30 is a circular portion, 31 is a vertical wall portion, 32 is a hole, 33 is a step portion, 3
4 is a hole as an opening, and 36 is a protrusion.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】 基板と調整軸とワイパとを備え、調整軸の軸部
が基板に設けられた穴に挿入された状態で調整軸
が基板に対して回転自在に保持され、基板には抵
抗膜がC字状に形成され、調整軸とワイパとはワ
イパが調整軸の軸部を受入れた状態で互いに係合
する係合手段によつて一体に回転するようにさ
れ、ワイパの回転に応じてワイパの接点部が抵抗
膜に接触しながらスライドする可変抵抗器におい
て、 前記ワイパは、前記基板と接触する円形部分
と、この円形部分の外周から立上がる垂直壁部と
を有し、この垂直壁部の上端から延びて前記接点
部が形成され、 前記調整軸の頭部は、前記円形部分に接し前記
円形部分および前記垂直壁部によつて規定される
空間内に受入れられる段部を備え、 前記係合手段は、前記段部から側方に突出する
突起と、前記垂直壁部に形成され前記突起を受入
れる開口とを備えることを特徴とする可変抵抗
器。
[Claim for Utility Model Registration] A board, an adjustment shaft, and a wiper are provided, and the adjustment shaft is rotatably held relative to the board with the shaft portion of the adjustment shaft inserted into a hole provided in the board. A resistive film is formed in a C-shape, and the adjusting shaft and the wiper are rotated together by engaging means that engage with each other when the wiper receives the shaft portion of the adjusting shaft. In a variable resistor in which a contact portion of the wiper slides while being in contact with a resistive film in response to rotation, the wiper has a circular portion that contacts the substrate and a vertical wall portion rising from the outer periphery of the circular portion. , the contact portion extends from an upper end of the vertical wall portion, and the head of the adjustment shaft contacts the circular portion and is received in a space defined by the circular portion and the vertical wall portion. A variable resistor, wherein the engaging means includes a protrusion projecting laterally from the step part, and an opening formed in the vertical wall part and receiving the protrusion.
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