JPS6243005A - Conducting material - Google Patents

Conducting material

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JPS6243005A
JPS6243005A JP18041685A JP18041685A JPS6243005A JP S6243005 A JPS6243005 A JP S6243005A JP 18041685 A JP18041685 A JP 18041685A JP 18041685 A JP18041685 A JP 18041685A JP S6243005 A JPS6243005 A JP S6243005A
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JP
Japan
Prior art keywords
copper
conductive
derivatives
copper sulfide
polymer material
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Pending
Application number
JP18041685A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
一人 大植
五拾免 美子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野〕 本発明は、導電性高分子材料の製法に関する。[Detailed description of the invention] (Industrial application field) The present invention relates to a method for manufacturing conductive polymer materials.

さらに詳しくは、堅牢な高導電性を有する高分子材料の
製法に関するものである。
More specifically, the present invention relates to a method for producing a robust and highly conductive polymer material.

〔従来の技術] 導電性高分子材料には大別して2種類ある。項分子成形
体表面に導電性皮膜を形成したものと、導電性フィラー
をポリマー中に分散混入し、複合材としたものである。
[Prior Art] There are roughly two types of conductive polymer materials. One has a conductive film formed on the surface of the molecular molded product, and the other has a conductive filler dispersed in a polymer to form a composite material.

前者の製法としては、真空蒸着、イオンブレーティング
、スパッタリング、金属溶射、塗布、メッキなどがある
。後者の製法としては、金属、カーボンなどの粉を混入
する方法、金属、カーボン、メタライズドガラスなどの
繊維を混入する方法、金属フレークなどの薄片粉を混入
する方法などが知られている。
Examples of the former manufacturing method include vacuum evaporation, ion blating, sputtering, metal spraying, coating, and plating. Known methods for producing the latter include a method of mixing powder of metal, carbon, etc., a method of mixing fiber of metal, carbon, metallized glass, etc., and a method of mixing thin powder such as metal flake.

しかし、前者の製法の中には、高価であること、導電層
が基材から剥離しやすいこと、高分子材料の大きさや形
状が限定されているなどの欠点を有するものが多い。ま
た後者の製法では、導電化するためには多量のフィラー
を混入しなくてはならず表面導電を目的とした場合には
効率が悪い。また、フィラーの混入は一般に成形体の強
度および成形性の低下を招く。さらに、混入するものに
よっては透明性が失なわれたりする。
However, many of the former manufacturing methods have drawbacks such as being expensive, the conductive layer easily peeling off from the base material, and the size and shape of the polymer material being limited. Furthermore, in the latter manufacturing method, a large amount of filler must be mixed in order to make the material conductive, which is inefficient when surface conductivity is intended. In addition, the inclusion of filler generally causes a decrease in the strength and moldability of the molded article. Furthermore, transparency may be lost depending on what is mixed in.

一方、二l−IJル基を含有する高分子材料を銅塩と還
元性硫黄化合物を含む水溶液で処理することにより咳高
分子材料表面上に硫化銅からなる導電層が形成され、高
い導電性を持つ高分子材料が得られることは公知である
(特開昭57−21570号公Iiり。
On the other hand, by treating a polymer material containing a di-IJ group with an aqueous solution containing a copper salt and a reducing sulfur compound, a conductive layer made of copper sulfide is formed on the surface of the cough polymer material, resulting in high conductivity. It is known that a polymeric material having the following properties can be obtained (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-21570).

この技術は、前述の方法に比べ、密着性、安定性、導電
性などの点において優れたものであるが、ニトリル基を
含有しない高分子材料には適用できなかった。
Although this technique is superior to the above-mentioned methods in terms of adhesion, stability, and conductivity, it cannot be applied to polymeric materials that do not contain nitrile groups.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

本発明者らは、ニトリル基を含有しない高分子材料につ
いても堅牢、安定な高導電性を有する高分子材料を得る
べく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成するに至った
The present inventors have completed the present invention as a result of extensive research in order to obtain a polymer material that does not contain a nitrile group and has strong, stable, and highly conductive properties.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、高分子材料の表面または表面および内部に硫
化銅から成る導電層を形成せしめるに際し、メルカプト
基を含有する化合物を添加した浴で硫化銅形成処理を行
なう事を特徴とする導電性高分子材料の製造方法を提供
する。
The present invention provides a highly conductive material characterized by performing copper sulfide forming treatment in a bath containing a compound containing a mercapto group when forming a conductive layer made of copper sulfide on or inside a polymer material. A method for producing a molecular material is provided.

以下に本発明についてさらに詳しく説明する。The present invention will be explained in more detail below.

メルカプト基を含有する化合物としては、脂肪族化合物
として、チオグリコール酸及びその誘導体、メルカプト
プロピオン酸及びその誘導体、チオール、チオカルバミ
ン酸及びその誘導体、チオ尿素及びその誘導体等が挙げ
られる。芳香族化合物としては、チオール及びその誘導
体、チオカルボン酸及びその誘導体、チオ尿素及びその
誘導体等が挙げられる。複素還式化合物としては、メル
カプトチアヅール及びその誘導体、メルカプトヘンジチ
アゾール及びその誘導体、メルカプトチアジアゾール及
びその誘導体、メルカプトベンズイミダゾール及びその
誘導体メルカプトトリアジン及びその誘導体等が挙げら
れる。
Examples of the compound containing a mercapto group include thioglycolic acid and its derivatives, mercaptopropionic acid and its derivatives, thiol, thiocarbamic acid and its derivatives, thiourea and its derivatives, etc. as aliphatic compounds. Examples of the aromatic compound include thiol and its derivatives, thiocarboxylic acid and its derivatives, thiourea and its derivatives, and the like. Examples of the heterocyclic compound include mercaptothiadur and its derivatives, mercaptohendithiazole and its derivatives, mercaptothiadiazole and its derivatives, mercaptobenzimidazole and its derivatives, mercaptotriazine and its derivatives, and the like.

これらの化合物は粉末、液体、水分散液、溶剤に溶解し
た液又はエマルジョンの形態で、硫化銅形成処理時に添
加される。これら化合物の添加量は特に限定されないが
、通常高分子材料に対する該化合物の重量割合としては
0.02〜30%の範囲で使用される。使用量は30重
量%以上では導電性レベルはほぼ一定であり、化合物に
よっては高分子材料への密着性を低下させる場合があり
、好ましくない。また、使用量が0.02重量%以下の
場合は、高分子材料への密着性が悪く、導電性レベルの
悪いものしか得られない。
These compounds are added during the copper sulfide forming process in the form of powders, liquids, aqueous dispersions, solutions in solvents, or emulsions. The amount of these compounds added is not particularly limited, but the weight ratio of these compounds to the polymer material is usually in the range of 0.02 to 30%. When the amount used is 30% by weight or more, the conductivity level is almost constant, and depending on the compound, the adhesion to the polymeric material may be lowered, which is not preferable. Furthermore, if the amount used is less than 0.02% by weight, the adhesion to the polymeric material is poor and only a poor conductivity level can be obtained.

本発明に用いられる高分子材料の種類には格別の限定は
ないが、例えば、ポリオレフィン(ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリ−4−メチルペンテン−1等)、ポリ
エステル(脂肪族ポリエステル、芳香族ポリエステル、
不飽和ポリエステル)ポリスチレンおよびその誘導体(
ポリスチレン、ポリ−ミーメチルスチレン、ポリ−p−
メチルスチレン)、ポリカーボネート(脂肪族ポリカー
ボネート、芳香族ポリカーボネート)、ポリ (メタ)
アクリル酸エステル類、ポリエーテル(脂肪族ポリエー
テル、芳香族ポリエーテル)、ハロゲン含有ポリマー(
ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニ
リデン、ポリテトラフルオロエチレン等)、ポリビニル
アルコール誘導体(ポリビニルブチラール、ポリビニル
ホルマール、ポリ酢酸ビニル等)、セルロース誘導体(
銅アンモニウムレーヨン、ビスコースレーヨン、セルロ
ースアセテート等)、ポリアミド(脂肪族ポリアミド、
芳香族ポリアミド、絹、羊毛等の蛋白質繊維等)、カル
ボキシル基含有ポリマー((メタ)アクリル酸を(コ)
モノマーとするポリマー等)、アミノ基を含むポリマー
(ポリベンズイミダゾール、ポリトリアジンポリエチレ
ンイミン等)ウレタン基含有ポリマー(ポリテトラメチ
レンへキサメチレンウレタン、ポリへキサメチレンテト
ラメチレンウレタン等)、尿素結合を含むポリマー(ポ
リへキサメチレン尿素ポリへブタメチレン尿素等)、ジ
エン系ゴム(天然ゴム、SBR等)、シリコン系ポリマ
ーなどが挙げられる。
There are no particular limitations on the type of polymeric material used in the present invention, but examples include polyolefins (polyethylene, polypropylene, poly-4-methylpentene-1, etc.), polyesters (aliphatic polyesters, aromatic polyesters,
unsaturated polyester) polystyrene and its derivatives (
polystyrene, poly-methylstyrene, poly-p-
methylstyrene), polycarbonate (aliphatic polycarbonate, aromatic polycarbonate), poly(meth)
Acrylic esters, polyethers (aliphatic polyethers, aromatic polyethers), halogen-containing polymers (
Polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinylidene fluoride, polytetrafluoroethylene, etc.), polyvinyl alcohol derivatives (polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl acetate, etc.), cellulose derivatives (
copper ammonium rayon, viscose rayon, cellulose acetate, etc.), polyamide (aliphatic polyamide,
aromatic polyamide, protein fibers such as silk and wool), carboxyl group-containing polymers ((meth)acrylic acid)
Polymers containing amino groups (polybenzimidazole, polytriazine polyethyleneimine, etc.) Polymers containing urethane groups (polytetramethylene hexamethylene urethane, polyhexamethylenetetramethylene urethane, etc.), containing urea bonds Examples include polymers (polyhexamethylene urea, polyhexamethylene urea, etc.), diene rubbers (natural rubber, SBR, etc.), silicone polymers, and the like.

本発明で得られる導電性を有する高分子材料の基体とな
る材料の形状は、繊維状、フィルム状、シート状、多孔
膜、塗膜、粉末等のいかなる形状であってもよい。
The material forming the base of the conductive polymer material obtained in the present invention may be in any shape such as fiber, film, sheet, porous membrane, coating, powder, etc.

本発明でいう高分子材料の表面または表面および内部に
硫化銅からなる導電層を形成させる方法としては、1価
の銅イオン供給源とぶ元性硫黄化合物とを含む液の中に
メルカプhxを含有する化合物を添加し、加熱処理によ
り硫化銅形成処理を行なう。1価の銅イオンの供給源と
しては、塩化第2銅、硫酸銅、硝酸銅、酢酸第2銅、シ
ュウ酸銅等の2価の銅塩:塩化第1銅、ヨウ化第1銅、
シアン化第1銅、チオシアン酸第1銅等の銅塩がある。
As a method for forming a conductive layer made of copper sulfide on the surface or inside of a polymeric material as used in the present invention, mercaphx is contained in a solution containing a monovalent copper ion source and a source sulfur compound. Copper sulfide formation treatment is performed by adding a compound to form copper sulfide by heat treatment. Sources of monovalent copper ions include divalent copper salts such as cupric chloride, copper sulfate, copper nitrate, cupric acetate, and copper oxalate: cuprous chloride, cuprous iodide,
There are copper salts such as cuprous cyanide and cuprous thiocyanate.

また、還元性硫黄化合物としては、スルホキシル酸塩、
亜二千オン酸塩、チオ硫酸塩、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩
、ピロ亜硫酸塩、チオ尿素等を用いることができる。
In addition, as reducing sulfur compounds, sulfoxylates,
Dithionite, thiosulfate, sulfite, bisulfite, pyrosulfite, thiourea, etc. can be used.

更に、2価の銅イオンを1価の銅イオンに還元し得る還
元剤としては金属銅、硫酸ヒドロキシルアミン、ia第
1i、バナジン酸アンモン、フルフラール、次亜リン酸
ソーダ、ブドウ糖等を挙げることができる。
Further, examples of reducing agents capable of reducing divalent copper ions to monovalent copper ions include metallic copper, hydroxylamine sulfate, ia 1i, ammonium vanadate, furfural, sodium hypophosphite, glucose, and the like. can.

更に、硫黄原子および硫黄イオンの両方、もしくは、い
ずれか一方を放出し得る化合物としては、硫化ナトリウ
ム、亜硫酸、亜ニチオン酸、亜ニチオン酸ナトリウム、
チオ硫酸ナトリウム、酸性亜硫酸ナトリウム、ピロ亜硫
酸ナトリウム、二硫化硫黄、二酸チオ尿素、硫化水素、
ロンガリットc、ロンガリット2等が挙げられる。
Furthermore, compounds that can release both or either one of sulfur atoms and sulfur ions include sodium sulfide, sulfite, dithionite, sodium dithionite,
Sodium thiosulfate, sodium acid sulfite, sodium pyrosulfite, sulfur disulfide, thiourea diacid, hydrogen sulfide,
Rongalit c, Rongalit 2, etc. are mentioned.

硫化銅形成処理は、通常、前述の銅塩と還元性硫黄銅化
合物の水溶液中にメルカプト基を含有する化合物を添加
し、その中に高分子材料を浸1Mする。浸漬条件は、一
般に、20〜150℃、好ましくは30℃から100℃
の温度で10分〜10時間、浴比1:10〜200であ
るのがよい。加熱処理を行なう場合、処理浴の温度を0
.5〜b 室温から徐々に加熱するとよい。処理浴のp)Iは、通
常1.5〜6であり、必要に応じて硫酸、塩酸、リン酸
の如き無機酸、クエン酸、シュウ酸、酢酸、の如き有機
酸、およびリン酸水素ニナトリウム、クエン酸ナトリウ
ム、酢酸ナトリウムの如き塩及びこれらの混合物等のp
H調整剤が用いられる。
In the copper sulfide formation treatment, a mercapto group-containing compound is usually added to an aqueous solution of the above-mentioned copper salt and a reducible sulfur copper compound, and the polymeric material is immersed therein for 1M. Immersion conditions are generally 20-150°C, preferably 30°C to 100°C.
The bath ratio is preferably 1:10 to 200 for 10 minutes to 10 hours at a temperature of 1:10 to 200. When performing heat treatment, the temperature of the treatment bath is set to 0.
.. 5-b It is best to gradually heat from room temperature. p)I of the treatment bath is usually 1.5 to 6, and if necessary, inorganic acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, organic acids such as citric acid, oxalic acid, acetic acid, and dihydrogen phosphate are added. salts such as sodium, sodium citrate, sodium acetate, and mixtures thereof, etc.
H regulator is used.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明方法を実施例により更に説明する。 The method of the present invention will be further explained below with reference to Examples.

実施例−l ポリアミドのトリコント編地(70d/24f 、目付
120g/n?)を精練し、乾燥した。硫酸iM0.0
5mol/lとチオ硫酸ナトリウム0.05mol/l
を溶解させた液21中にメルカプト基を含有する化合物
として2−メルカプトベンズイミダゾールの1%メタノ
ール溶液を5cc添加し、よく攪拌した。この浴に上記
の編地50gを投入し、室温から50’Cまで徐々に昇
温し、50’Cで60分間攪拌しながら硫化銅形成処理
を行なった。処理後編地の水洗を行ない、乾燥した。得
られた硫化銅含有編地の表面電気抵抗は3X10zΩ/
口であり、きわめて高い導電性を有していた。
Example-1 A polyamide trichote knitted fabric (70d/24f, area weight 120g/n?) was scoured and dried. Sulfuric acid iM0.0
5 mol/l and sodium thiosulfate 0.05 mol/l
5 cc of a 1% methanol solution of 2-mercaptobenzimidazole as a compound containing a mercapto group was added to the solution 21 in which 2-mercaptobenzimidazole was dissolved, and the mixture was thoroughly stirred. 50 g of the above knitted fabric was placed in this bath, the temperature was gradually raised from room temperature to 50'C, and copper sulfide formation treatment was performed at 50'C while stirring for 60 minutes. After treatment, the knitted fabric was washed with water and dried. The surface electrical resistance of the obtained copper sulfide-containing knitted fabric was 3×10zΩ/
It had extremely high electrical conductivity.

一方、比較例として実施例−1において2−メルカプト
ベンズイミダゾールを添加しない浴で同様な硫化銅形成
処理を行った所、編地に付着していた硫化銅は水洗によ
り脱落して、導電性を全く示さない編地しか得られなか
った。
On the other hand, as a comparative example, when the same copper sulfide forming treatment was performed in a bath without 2-mercaptobenzimidazole in Example 1, the copper sulfide adhering to the knitted fabric was removed by washing with water, and the conductivity was improved. Only knitted fabrics that showed no characteristics were obtained.

実施例−2 ポリエチレンテレフタレート繊維の平織物(75d/3
6f 、目付100g/耐)を精練し、乾燥した。硫酸
銅15g/f 、チオ硫酸ナトリウムISg#! 、ク
エン酸12g#! 、リン酸2ナトリウムを含む液11
中にメルカプト含有化合物として2−メルカプトベンゾ
チアゾールの1%メタノール液を3cc添加し、よ(攪
拌した。この溶液に上記織物30gを浸漬し、攪拌しな
がら55℃で3時間、硫化銅形成処理を行なった後、水
洗して乾燥した。処理されたポリエチレンテレフタレー
ト織物の表面電気抵抗は5.5X10”Ω/口であった
。比較のため本実施例において2−メルカプトベンゾチ
アゾールを添加せずに硫化銅形成処理を行なったところ
、ポリエチレンテレフタレート繊維には硫化銅は全く付
着せず、導電性のない織物しか得られなかった。
Example-2 Plain woven fabric of polyethylene terephthalate fiber (75d/3
6f, basis weight 100g/durability) was scoured and dried. Copper sulfate 15g/f, sodium thiosulfate ISg#! , 12g of citric acid #! , liquid 11 containing disodium phosphate
3 cc of 1% methanol solution of 2-mercaptobenzothiazole as a mercapto-containing compound was added to the solution and stirred. 30 g of the above fabric was immersed in this solution and subjected to copper sulfide forming treatment at 55°C for 3 hours while stirring. After treatment, it was washed with water and dried. The surface electrical resistance of the treated polyethylene terephthalate fabric was 5.5 x 10"Ω/mouth. For comparison, sulfurization was performed in this example without adding 2-mercaptobenzothiazole. When the copper forming treatment was carried out, no copper sulfide adhered to the polyethylene terephthalate fibers, and only a non-conductive fabric was obtained.

実施例−3 羊毛を非イオン系界面活性剤2g/lを含む60℃の温
浴中で30分間攪拌し、油成分を除去した後乾燥した。
Example 3 Wool was stirred for 30 minutes in a 60°C hot bath containing 2 g/l of a nonionic surfactant to remove oil components, and then dried.

硫酸銅0.05mol#! 、チオ硫酸ナトリウム0.
05111OI/l、亜硫酸水素ナトリウム0.05m
o l / l、を含む溶液10100O中にジエチル
チオウレアの5%エタノール溶液を5cc添加し、分散
させた。この液の中に上記の羊毛50gを投入し、60
°Cの温度で30分間攪拌しながら硫化銅形成処理を行
なった後、水′fC!−て乾燥した。処理された羊毛の
比抵抗値は2.5Ω・cmであり、更に10回の繰り返
し?先ifa 2kにおいても4.2Ω・cmであり、
すくれな導電性を示した。比較のため本実施例において
ジエチルチオウレアを添加せずに硫化銅形成処理を行な
ったところ、比)氏抗(直は8X10’ Ω・cmであ
り、更に2回の洗濯により>11 z性は失なわれた。
Copper sulfate 0.05mol#! , sodium thiosulfate 0.
05111OI/l, sodium bisulfite 0.05m
5 cc of a 5% ethanol solution of diethylthiourea was added and dispersed in a solution containing 10,100 O of diethylthiourea. Put 50g of the above wool into this solution,
After carrying out the copper sulfide formation treatment with stirring for 30 minutes at a temperature of °C, water'fC! - dried. The resistivity value of the treated wool is 2.5Ω・cm, and the process is repeated 10 times. Even in the previous ifa 2k, it was 4.2Ω・cm,
It showed excellent conductivity. For comparison, when copper sulfide formation treatment was performed without adding diethylthiourea in this example, the relative resistance (direct) was 8 x 10' Ωcm, and after washing twice, the z property was >11. I was told.

〔発明の効果] 本発明の方法は、堅牢な高導電性を有する高分子材料を
製造することができるものである。また、本発明の方法
により得られた、導電性を有する高分子材料に対しては
、形状ごとに種々の用途が考えられる。例えば、導電性
フィルム、シートとしては液晶表示電極、EL発光体用
透明電極、電子写真、帯電防止フィルムなどへの応用が
考えられる。導電性粉末としては導電性塗料、導電性接
着剤、導電性ゴム、導電性プラスチック材料等の導電性
フィラーなどへの応用が考えられる。導電性玖維として
はあらゆる分野の繊維製品に混入する事により、制電カ
ーペット、制電防止服、制電手袋等に利用する事ができ
る。
[Effects of the Invention] The method of the present invention makes it possible to produce a robust and highly conductive polymer material. Furthermore, the conductive polymer material obtained by the method of the present invention can be used in various ways depending on its shape. For example, the conductive film or sheet may be applied to liquid crystal display electrodes, transparent electrodes for EL light emitters, electrophotography, antistatic films, etc. The conductive powder may be applied to conductive fillers such as conductive paints, conductive adhesives, conductive rubber, and conductive plastic materials. By mixing the conductive fibers into textile products in all fields, they can be used in anti-static carpets, anti-static clothing, anti-static gloves, etc.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1、高分子材料の表面または表面および内部に硫化銅か
ら成る導電層を形成せしめるに際し、メルカプト基を含
有する化合物を添加した浴で硫化銅形成処理を行なう事
を特徴とする導電性高分子材料の製法。
1. A conductive polymer material characterized by carrying out a copper sulfide formation treatment in a bath containing a mercapto group-containing compound when forming a conductive layer made of copper sulfide on or inside the polymer material. manufacturing method.
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