JPS6242954U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6242954U JPS6242954U JP1985132923U JP13292385U JPS6242954U JP S6242954 U JPS6242954 U JP S6242954U JP 1985132923 U JP1985132923 U JP 1985132923U JP 13292385 U JP13292385 U JP 13292385U JP S6242954 U JPS6242954 U JP S6242954U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stroke
- surface plate
- slight raising
- fine
- lift cylinder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims 2
Description
第１図は本考案の一実施例の部分縦断面図、第
２図はその要部拡大図、第３図は異なる作業状態
での第２図と同様の要部拡大図、第４図は従来例
の部分縦断面図である。 １１……上定盤、１２……下定盤、１５……キ
ヤリヤ、１６……ワーク、１８……第１の微少上
昇用シリンダ、１９……第２の微少上昇用シリン
ダ。
２図はその要部拡大図、第３図は異なる作業状態
での第２図と同様の要部拡大図、第４図は従来例
の部分縦断面図である。 １１……上定盤、１２……下定盤、１５……キ
ヤリヤ、１６……ワーク、１８……第１の微少上
昇用シリンダ、１９……第２の微少上昇用シリン
ダ。
Claims (1)
- キヤリヤに保持させたワークを上下の定盤によ
つて研摩加工する平面研摩装置において、上記上
定盤を、直列に接続したストローク固定の第１の
微少上昇用シリンダとストローク可変の第２の微
少上昇用シリンダとを介して昇降自在に吊設し、
２つの微少上昇用シリンダのストローク差を上定
盤の微少上昇ストロークとしたことを特徴とする
平面研摩装置における上定盤微少上昇装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985132923U JPH0440850Y2 (ja) | 1985-08-30 | 1985-08-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985132923U JPH0440850Y2 (ja) | 1985-08-30 | 1985-08-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6242954U true JPS6242954U (ja) | 1987-03-14 |
| JPH0440850Y2 JPH0440850Y2 (ja) | 1992-09-25 |
Family
ID=31032760
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985132923U Expired JPH0440850Y2 (ja) | 1985-08-30 | 1985-08-30 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0440850Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20230117671A (ko) | 2020-12-14 | 2023-08-08 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | 방사선 검출기, 검출기 모듈 및 방사선 검출기 제조 방법 |
-
1985
- 1985-08-30 JP JP1985132923U patent/JPH0440850Y2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20230117671A (ko) | 2020-12-14 | 2023-08-08 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | 방사선 검출기, 검출기 모듈 및 방사선 검출기 제조 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0440850Y2 (ja) | 1992-09-25 |