JPS6230997A - 中性子遮蔽体 - Google Patents
中性子遮蔽体Info
- Publication number
- JPS6230997A JPS6230997A JP17040785A JP17040785A JPS6230997A JP S6230997 A JPS6230997 A JP S6230997A JP 17040785 A JP17040785 A JP 17040785A JP 17040785 A JP17040785 A JP 17040785A JP S6230997 A JPS6230997 A JP S6230997A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- pit
- chamber
- chemical synthesis
- cyclotron
- Prior art date
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- Granted
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- Particle Accelerators (AREA)
- Absorbent Articles And Supports Therefor (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、サイクロトロン室のような中性子発生源から
中性子が人の立入る作業場などに漏れ出すことを防止す
る中性子遮蔽体に関するものである。
中性子が人の立入る作業場などに漏れ出すことを防止す
る中性子遮蔽体に関するものである。
（従来の技術）
図にはサイクロトロン室２とそれに隣接する化学合成室
４の境界部分を示す。サイクロトロン室２と化学合成室
４の間はコンクリート壁６により遮蔽されており、サイ
クロトロン室２から化学合成室４へ中性子が漏れ出さな
いようになっている。
４の境界部分を示す。サイクロトロン室２と化学合成室
４の間はコンクリート壁６により遮蔽されており、サイ
クロトロン室２から化学合成室４へ中性子が漏れ出さな
いようになっている。
しかし、サイクロトロン室２と化学合成室４の間には電
気配線やガス配管を通す必要がある。そのため、例えば
図示のようにコンクリ−１〜壁６の下方を通ってサイク
ロトロン室２から化学合成室４へ通じるピット８が形成
され、このピット８内にパイプ１０が設置され、このパ
イプ１０内を通ってサイクロトロン室２から化学合成室
４へ通じる電気配線やガス配管が行なわれる。
気配線やガス配管を通す必要がある。そのため、例えば
図示のようにコンクリ−１〜壁６の下方を通ってサイク
ロトロン室２から化学合成室４へ通じるピット８が形成
され、このピット８内にパイプ１０が設置され、このパ
イプ１０内を通ってサイクロトロン室２から化学合成室
４へ通じる電気配線やガス配管が行なわれる。
ピット８を空間のままにすると、このピット８を通って
サイクロトロン室２から化学合成室４へ中性子が漏れ出
すので、このピット８には中性子遮蔽物質を充填する必
要がある。
サイクロトロン室２から化学合成室４へ中性子が漏れ出
すので、このピット８には中性子遮蔽物質を充填する必
要がある。
（発明が解決しようとする問題点）
安価な中性子遮蔽物質としては水が有効であることはよ
く知られている。そこで、図のような場合にも、ピット
８に水を満たすことが考えられる。
く知られている。そこで、図のような場合にも、ピット
８に水を満たすことが考えられる。
そこで、コンクリート壁６やコンクリート床１２へ水が
染み出すことを防出するためにピッ１−８を金属で内張
りをして水を満たしたとすれば、水にはその容器を腐食
する欠点がある。
染み出すことを防出するためにピッ１−８を金属で内張
りをして水を満たしたとすれば、水にはその容器を腐食
する欠点がある。
水以外の中性子遮蔽物質としては、流動パラフィンなど
、水素原子核を多くもつものも有効である。
、水素原子核を多くもつものも有効である。
しかし、流動パラフィンなどを大量に使用することは防
災上不適当であるし、コスト高にもなる。
災上不適当であるし、コスト高にもなる。
本発明は、防災−１−もコスト上も問題のない水を使用
して中性子漏れを遮蔽するとともに、水の容器を腐食す
ることなく、長期間安定して使用することのできる中性
子遮蔽体を提供することを目的とするものである。
して中性子漏れを遮蔽するとともに、水の容器を腐食す
ることなく、長期間安定して使用することのできる中性
子遮蔽体を提供することを目的とするものである。
（問題点を解決するための手段）
本発明の中性子遮蔽体は、中性子発生源に通じる空間に
容器を形成し、その容器に溶存酸素を除去した水を収容
し、その水を外気から遮断したものである。
容器を形成し、その容器に溶存酸素を除去した水を収容
し、その水を外気から遮断したものである。
溶存酸素を除去する一方法は水に酸素除去剤を溶解させ
ることである。酸素除去剤としては、亜硫酸ナトリウム
（Ｎａ−２ＳＯａ）などの還元剤が適当である。溶存酸
素を除去する他の方法は、窒素又は水素を通値したり、
水を沸騰させろことである。
ることである。酸素除去剤としては、亜硫酸ナトリウム
（Ｎａ−２ＳＯａ）などの還元剤が適当である。溶存酸
素を除去する他の方法は、窒素又は水素を通値したり、
水を沸騰させろことである。
水を外気から遮断する手段としては、機械構造的に低密
構造とすることもできるが、疎水性で酸素を通さない流
動体により水の表面を被うのが適当である。そのような
流動体の例としては、流動パラフィンのような飽和炭化
水素化合物が適当である。
構造とすることもできるが、疎水性で酸素を通さない流
動体により水の表面を被うのが適当である。そのような
流動体の例としては、流動パラフィンのような飽和炭化
水素化合物が適当である。
（作用）
容器に収容された水中の溶存酸素は除去されている。ま
た、容器内の水は外気から遮断されていることにより、
長期間にわたって水中に溶存酸素のない状態を維持する
ことができる。
た、容器内の水は外気から遮断されていることにより、
長期間にわたって水中に溶存酸素のない状態を維持する
ことができる。
（実施例）
図は本発明をサイクロトロン室２と化学合成室＝３−
４の間のピット８に適用した例を表わす。
サイクロトロン室２と化学合成室４の間のコンクリート
壁６の下方にサイクロトロン室２から化学合成室４につ
ながるピット８が形成されている。
壁６の下方にサイクロトロン室２から化学合成室４につ
ながるピット８が形成されている。
ピッ１−８の内側をステンレス板により内張すして、水
を収容することのできる容器とする。ピット８内にサイ
クロトロン室２から化学合成室４につながるパイプＩＯ
を設置する。
を収容することのできる容器とする。ピット８内にサイ
クロトロン室２から化学合成室４につながるパイプＩＯ
を設置する。
次に、ピット８にまず流動パラフィン１４を入れ、ホー
スによりその流動パラフィン１４の下側へ亜硫酸ナトリ
ウ１１を溶解した水１６を注ぎ入れる。これにより、ピ
ット８に収容された水１６はその表面が流動パラフィン
１４の被膜により気密を保って被われ、水１６は外気か
ら遮断される。
スによりその流動パラフィン１４の下側へ亜硫酸ナトリ
ウ１１を溶解した水１６を注ぎ入れる。これにより、ピ
ット８に収容された水１６はその表面が流動パラフィン
１４の被膜により気密を保って被われ、水１６は外気か
ら遮断される。
ここで、亜硫酸すｉ・リウ１５は水の飽和溶存酸素の１
敗より多鼠に溶解させておくことが望ましく、例えば亜
硫酸す１ヘリウム濃度をＪｏｇ／Ｑとする。
敗より多鼠に溶解させておくことが望ましく、例えば亜
硫酸す１ヘリウム濃度をＪｏｇ／Ｑとする。
なお、本発明は放射線遮蔽用水扉にも適用することがで
きる。
きる。
（発明の効果）
本発明の中性子遮蔽体は水を使用しているので、安価で
あり、防災上の問題もない。そして、使用する水の溶存
酸素を除去するとともに水と外気とを遮断しているので
、長期間にわたって容器を腐食することなく安定した中
性子遮蔽体として使用することができる。
あり、防災上の問題もない。そして、使用する水の溶存
酸素を除去するとともに水と外気とを遮断しているので
、長期間にわたって容器を腐食することなく安定した中
性子遮蔽体として使用することができる。
図は本発明の一実施例を示す断面図である。
２・・・・・・サイクロトロン室、
４・・・・・・化学合成室、
８・・・・・・ピット、
１４・・・・・・流動パラフィン、
１６・・・・・酸素除去剤を溶解させた水。
Claims (1)
- （１）中性子発生源に通じる空間に容器を形成し、その
容器に溶存酸素を除去した水を収容し、その水を外気か
ら遮断したことを特徴とする中性子遮蔽体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60170407A JPH0766074B2 (ja) | 1985-07-31 | 1985-07-31 | 中性子遮蔽体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60170407A JPH0766074B2 (ja) | 1985-07-31 | 1985-07-31 | 中性子遮蔽体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6230997A true JPS6230997A (ja) | 1987-02-09 |
| JPH0766074B2 JPH0766074B2 (ja) | 1995-07-19 |
Family
ID=15904349
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60170407A Expired - Fee Related JPH0766074B2 (ja) | 1985-07-31 | 1985-07-31 | 中性子遮蔽体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0766074B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS529798A (en) * | 1975-07-11 | 1977-01-25 | Toshiba Corp | Nuclear power plant |
| JPS5626297A (en) * | 1979-08-10 | 1981-03-13 | Hitachi Ltd | Nuclear reactor starttup method |
| JPS5740696A (en) * | 1980-08-25 | 1982-03-06 | Shindo Chiyuushirou | Shielding body |
-
1985
- 1985-07-31 JP JP60170407A patent/JPH0766074B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS529798A (en) * | 1975-07-11 | 1977-01-25 | Toshiba Corp | Nuclear power plant |
| JPS5626297A (en) * | 1979-08-10 | 1981-03-13 | Hitachi Ltd | Nuclear reactor starttup method |
| JPS5740696A (en) * | 1980-08-25 | 1982-03-06 | Shindo Chiyuushirou | Shielding body |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0766074B2 (ja) | 1995-07-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |