JPS6230864A - Hot dip metal coating apparatus - Google Patents
Hot dip metal coating apparatusInfo
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- JPS6230864A JPS6230864A JP16954485A JP16954485A JPS6230864A JP S6230864 A JPS6230864 A JP S6230864A JP 16954485 A JP16954485 A JP 16954485A JP 16954485 A JP16954485 A JP 16954485A JP S6230864 A JPS6230864 A JP S6230864A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、溶融金属めっき装置、特にロストリップを溶
融亜鉛めっきする装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a hot-dip metal plating apparatus, and particularly to a hot-dip galvanizing apparatus for loss strips.
（従来の技術）
近年、溶融金属めっき、特に溶融亜鉛め−９きは耐食性
を確保する安価な手段として背反しており、それに伴っ
て１、めっき品質の向上、生産性の向上を目的に、多く
の改善が試みられており、溶融金属めっきのすぐれた特
性によってより多くの分野に今後ともますます利用され
ようとしている。(Prior art) In recent years, hot-dip metal plating, especially hot-dip galvanizing, has been contradicted as an inexpensive means of ensuring corrosion resistance. Many improvements have been attempted, and due to the excellent properties of hot-dip metal plating, it will continue to be used in more and more fields.
ところで生産性の向上と共にめっき品質の確保を図るこ
とができるということから、最近雰囲気めっき法といわ
れる方法が提案されている。すなわち、めっき領域の雰
囲気を調整することによって、例えば酸素濃度を下げて
雰囲気を非酸化性とすることによって、ドロスの発生、
ノズル目詰り、ゼロスパングル製品製造時のめっき面の
さざ波生成を防止しようとする方法が提案されている（
特公昭５７−５３４２９号、特開昭５７−２０３７６４
号、その他）。Incidentally, a method called atmosphere plating method has recently been proposed because it can improve productivity and ensure plating quality. That is, by adjusting the atmosphere in the plating area, for example by lowering the oxygen concentration to make the atmosphere non-oxidizing, the generation of dross,
A method has been proposed to prevent nozzle clogging and ripple formation on the plating surface during the production of zero-spangle products (
Japanese Patent Publication No. 57-53429, Japanese Patent Publication No. 57-203764
issue, etc.).
すなわち、従来法にあっては、通板速度が太き（なると
ドロス発生量も飛躍的に増大するため、雰囲気中酸素量
を極力少なくしてドロス発生を抑えなければならない。That is, in the conventional method, the sheet passing speed is high (and the amount of dross generated increases dramatically, so the amount of oxygen in the atmosphere must be minimized to suppress dross generation.
そのため、周囲雰囲気の酸素濃度を例えば５０−１００
０ｐｐｚという狭い範囲内で微少量制御しなければなら
ない。なお、酸素濃度が低ずぎるとＺｎの茎気が発生し
てしまう。Therefore, the oxygen concentration in the surrounding atmosphere should be set to 50-100, for example.
The amount must be controlled within a narrow range of 0 ppz. Note that if the oxygen concentration is too low, Zn scum will be generated.
明らかにかかる方法は、操業上困難な多くの問題を抱え
ていることが分かる。It is clear that such a method suffers from a number of operational difficulties.
（発明が解決しようとする問題点）
したがって、本発明の目的は溶融金属めっきの生産性、
品質を改善する操作の容易な装置を提供することである
。(Problems to be Solved by the Invention) Therefore, the purpose of the present invention is to improve the productivity of hot-dip metal plating,
The objective is to provide an easy-to-operate device that improves quality.
また、本発明の別の目的は、いわゆる雰囲気めっきのｉ
ｌｌ整操作が極めて容易な７容融亜鉛めっき装置を提供
することである。Another object of the present invention is to perform so-called atmospheric plating.
It is an object of the present invention to provide a 7-capacity dip galvanizing apparatus that is extremely easy to adjust.
（問題点を解決するための手段）
ここに、本発明者らは、めっき部周辺、つまり溶融金属
めっきを施した金属ストリップの通板領域を非酸化性雰
囲気に保ち、さらにその雰囲気中に水蒸気を１１００ｐ
ｐ以上、露点が雰囲気温度以下、好ましくは５％以下に
なるよう制御するこＬにより、あるいは二酸化炭素ガス
（ＣＯｔ）を１００ ｐｐ層以上、１０％（容積）以下
になるように制御するごとにより、Ｚｎの蒸発およびド
ロスの発生を抑えることができ、さらに予想外にも光沢
の良い製品とすることができることを知り、かかる方法
を容易に実施できる装置を見出し、本発明を完成した。(Means for Solving the Problem) Here, the present inventors maintain a non-oxidizing atmosphere around the plating part, that is, the passing area of the metal strip subjected to hot-dip metal plating, and further add water vapor to the atmosphere. 1100p
By controlling the dew point to be at least 100pp and below the ambient temperature, preferably at most 5%, or by controlling carbon dioxide gas (COt) so that it is at least 100 pp layer and at most 10% (volume). The inventors discovered that it is possible to suppress the evaporation of Zn and the generation of dross, and that it is possible to produce a product with unexpectedly good gloss.They discovered an apparatus that can easily carry out such a method, and completed the present invention.
よって、本発明の要旨とするところは、金属ストリップ
を連続的に浸漬する溶融金属めっき浴、該溶融金属めっ
き浴の上方に配置されめっき目付量を調整するガスワイ
ピングノズル、および前記溶融金属めっき浴に隣接して
設けられ前記ガスワイピングノズルを取り囲んで配置さ
れたシールボックスを備えるとともに、前記ガスワイピ
ングノズルに非酸化性ガスを供給する装置と、前記シー
ルボックス内に水蒸気および／または二酸化炭素ガスを
供給する装置と、前記シールボックス内の雰囲気の水蒸
気および／または二酸化炭素ガス濃度を制御する制御機
構とをさらに備えた、溶融金属めっき！ｊｉ置である。Therefore, the gist of the present invention is to provide a molten metal plating bath in which a metal strip is continuously immersed, a gas wiping nozzle arranged above the molten metal plating bath to adjust the plating weight, and a method for controlling the molten metal plating bath. and a seal box disposed adjacent to the gas wiping nozzle to surround the gas wiping nozzle, a device for supplying non-oxidizing gas to the gas wiping nozzle, and a device for supplying water vapor and/or carbon dioxide gas into the seal box. Molten metal plating, further comprising a supplying device and a control mechanism for controlling the water vapor and/or carbon dioxide gas concentration in the atmosphere within the seal box! It is placed in place.
このように、本発明はいわゆる雰囲気めっき法を実施す
るための装置であるが、その場合の調整する雰囲気はシ
ールボックスに囲まれた領域であるが、一般には溶融金
属めっき浴面からめっき金属が凝固するまでの金属スト
リップの通板領域である。As described above, the present invention is an apparatus for carrying out the so-called atmosphere plating method, in which case the atmosphere to be adjusted is an area surrounded by a seal box, but generally the plating metal is removed from the surface of the molten metal plating bath. This is the area where the metal strip is passed through until it solidifies.
本発明の場合、前記シールボックス内雰囲気への水蒸気
あるいは二酸化炭素ガス供給態様としては、予め非酸化
性のワイピングガスに混合するか、もしくは別途シール
ボックス内に供給すること等が考えられるが、ワイピン
グガスに予め７昆合することが操作が容易ということか
ら好ましい。In the case of the present invention, the water vapor or carbon dioxide gas may be supplied to the atmosphere inside the seal box by mixing it with non-oxidizing wiping gas in advance or supplying it separately into the seal box. It is preferable to add 70% to the gas in advance for ease of operation.
本発明の一つの態様によれば、前記ガスワイピングノズ
ルに至るまでに前記非酸化性ガスに水草気および／また
は二酸化炭素ガスを混合して混合非酸化性ガスとするこ
とにより前記シールボックス内に水蒸気および／または
二酸化炭素ガスを供給し、前記制御ａｆｊｉが該混合非
酸化性ガスの中の水蒸気および／または二酸化炭素ガス
の検出センサーと該センサーの検出信号に応じて前記の
水蒸気および／または二酸化炭素ガスと前記非酸化性ガ
スとの配合比を決定し、前記ソールボックス内の雰囲気
の水蒸気および／または二酸化炭素ガス濃度を制御する
制御装置から構成されるようにしてもよい。According to one aspect of the present invention, the non-oxidizing gas is mixed with waterweed and/or carbon dioxide gas to form a mixed non-oxidizing gas before reaching the gas wiping nozzle. Water vapor and/or carbon dioxide gas is supplied, and the control afji connects a sensor for detecting water vapor and/or carbon dioxide gas in the mixed non-oxidizing gas and detects the water vapor and/or carbon dioxide according to the detection signal of the sensor. It may also include a control device that determines the blending ratio of carbon gas and the non-oxidizing gas and controls the concentration of water vapor and/or carbon dioxide gas in the atmosphere within the sole box.
さらに、前記非酸化性ガスを前記ガスワイピングノズル
を経て前記シールボックス内に供給するとともに、前記
の水蒸気および／または二酸化炭素ガスを直接に該シー
ルボックス内に供給し、前記制御機構が、該シールボッ
クス内の雰囲気中の水蒸気および／または二酸化炭素ガ
スの検出センサーと該センサーの検出信号に応じて前記
の水蒸気および／または二酸化炭素ガスの前記シールボ
ックス内への供給量を決定する制′４Ｂ装置とから構成
されるようにしてもよい。Furthermore, the non-oxidizing gas is supplied into the seal box via the gas wiping nozzle, and the water vapor and/or carbon dioxide gas is directly supplied into the seal box, and the control mechanism A sensor for detecting water vapor and/or carbon dioxide gas in the atmosphere inside the box, and a control device 4B that determines the amount of water vapor and/or carbon dioxide gas to be supplied into the seal box according to the detection signal of the sensor. It may also be made up of:
水蒸気濃度は好ましくは１０００〜１１００００ｐｐで
ある。The water vapor concentration is preferably 1,000 to 110,000 pp.
また、Ｃｏ２ガス濃度は好ましくは、０．１〜５％であ
る。Further, the Co2 gas concentration is preferably 0.1 to 5%.
このような水蒸気および二酸化炭素ガスである弱酸化性
ガスを非酸化性雰囲気中に封入することによって、酸素
含有量を調整する場合と比較してはるかに容易に雰囲気
調整ができろうこれは水蒸気、二酸化炭素ガスは酸素と
比較して弱酸化性であって、むしろそのためそれらの濃
度を多少多くしてもドロス発生を抑制することができ、
酸素の場合のように微妙な濃度コントロールを要しない
のである。By sealing weakly oxidizing gases such as water vapor and carbon dioxide gas into a non-oxidizing atmosphere, the atmosphere can be adjusted much more easily than adjusting the oxygen content. Carbon dioxide gas is weakly oxidizing compared to oxygen, so even if its concentration is increased somewhat, dross generation can be suppressed.
Unlike the case of oxygen, delicate concentration control is not required.
かくして、本発明によれば、めっき雰囲気の調整が容易
であって、金属蒸気の発生およびドロスの発生を効果的
に阻止するとともにめっき光沢が増しためっき面が得ら
れるという効果がみられる。Thus, according to the present invention, the plating atmosphere can be easily adjusted, the generation of metal vapor and dross can be effectively prevented, and a plated surface with increased plating gloss can be obtained.
なお、めっき光沢について言えば、通常めっき終了後、
スキンパスを行って光沢を出していたのであったが、本
発明によれば、めっきままで十分それに匹敵する光沢が
得られるのである。Regarding the plating gloss, after the plating is finished,
Previously, a skin pass was performed to achieve gloss, but according to the present invention, it is possible to obtain a gloss comparable to that with the as-plated process.
（作用）
添付図面の第１図および第２図は、いずれも本発明にか
かる金属溶融めっき装置を、溶融亜鉛めっきを例にとっ
て略式で示すもので、連続的にめっき浴１０に供給され
る鋼板ストリップ１１はめっき浴１０を出てからめっき
亜鉛が凝固するまでの少なくとも一部の領域がシールボ
ックス１２によって囲まれている。ワイピングノズル１
３からは、例えばＡｒガスまたはＮｔガスである非酸化
性ガスが吹き出され、シールボックス１２内は非酸化性
雰囲気に保持される。(Function) FIGS. 1 and 2 of the accompanying drawings both schematically show a metal hot-dip plating apparatus according to the present invention, taking hot-dip galvanizing as an example, and in which steel sheets are continuously supplied to a plating bath 10. At least a portion of the strip 11 from the time it leaves the plating bath 10 until the plating zinc solidifies is surrounded by a seal box 12. Wiping nozzle 1
3, a non-oxidizing gas such as Ar gas or Nt gas is blown out, and the inside of the seal box 12 is maintained in a non-oxidizing atmosphere.
すでに述べたように水蒸気もしくはＣＯ２ガスの添加は
別途該雰囲気内に供給してもよく、あるいはワイピング
ガス中にそれらの弱酸化性ガスを予め添加しておいても
よい。As already mentioned, water vapor or CO2 gas may be added to the atmosphere separately, or the weakly oxidizing gas may be added to the wiping gas in advance.
第１図は、供給ａｌＧからの水蒸気および／または二酸
化炭素ガス（以下、「水蒸気」で代表する）が、ガスワ
イピングノズルに至る前に非酸化性ガス供給装置１８か
らの非酸化性ガスに配合される場合を示す。ガスワイピ
ングノズルに至る供給導管の適宜位置に設けられたセン
サー２０（水蒸気の場合露点計であってもよい）により
混合非酸化性ガス中の水蒸気量が決定され、その信号が
制御装面２２に送られ、目標値と比較して、その差違に
応した量だけ弁２４を開閉し、水蒸気の配合量、つまり
シールボックス内雰囲気の水１気濃度を調節すなお、シ
ールボックス内は周囲環境からの影響を阻止するために
わずかに正圧とするのが好ましい。FIG. 1 shows that water vapor and/or carbon dioxide gas (hereinafter referred to as "steam") from the supply alG is mixed with the non-oxidizing gas from the non-oxidizing gas supply device 18 before reaching the gas wiping nozzle. Indicates when The amount of water vapor in the mixed non-oxidizing gas is determined by a sensor 20 (which may be a dew point meter in the case of water vapor) located at an appropriate location in the supply conduit leading to the gas wiping nozzle, and the signal is sent to a control panel 22. The valve 24 is opened and closed by the amount corresponding to the difference, and the water vapor concentration in the atmosphere inside the seal box is adjusted. A slightly positive pressure is preferred to prevent effects.
第２図は、シールボックス１２内に直接に水蒸気を供給
する場合を示すものである。したがって・この場合はシ
ールボックス内雰囲気の露点を触接測定し、その信号を
制御装置２２に送り、それにより上記雰囲気内への水蒸
気供給用の弁２４を調節するのである。FIG. 2 shows a case where water vapor is directly supplied into the seal box 12. Therefore, in this case, the dew point of the atmosphere inside the seal box is tactilely measured and a signal thereof is sent to the control device 22, thereby regulating the valve 24 for supplying water vapor into the atmosphere.
第２図の場合が雰囲気調整用としては正確であるが、第
１図の場合はワイピングガスに予め水蒸気を混合させる
ため操作は蔀単となる。The case shown in FIG. 2 is accurate for adjusting the atmosphere, but in the case shown in FIG. 1, the operation is simple because water vapor is mixed in advance with the wiping gas.
なお、センサーの種類は特に制限はない。測定ガスの種
類に応じ適宜のものを容易に選択できるである。Note that there are no particular restrictions on the type of sensor. An appropriate one can be easily selected depending on the type of gas to be measured.
シールボックス内雰囲気の水蒸気またはＣＯ□ガス量が
ｔｏｏｐｐｍ未満であると、Ｚｎの蒸気が発生し、品質
上トラブルを起こす。上限は、水蒸気の場合、雰囲気ガ
スの露点がワイピングガスの温度以下となる量であれば
良い。当然のことながら露点がガス温度以上になると、
結露してしまうので、ノズルから水滴を出すことになり
品質上良くない。好ましくは５容積％以下である。ＣＯ
２ガスの場合、上限は１０容積％である。If the amount of water vapor or CO□ gas in the atmosphere inside the seal box is less than toppm, Zn vapor will be generated, causing quality problems. In the case of water vapor, the upper limit may be an amount such that the dew point of the atmospheric gas is equal to or lower than the temperature of the wiping gas. Naturally, when the dew point exceeds the gas temperature,
Since condensation occurs, water droplets come out from the nozzle, which is not good in terms of quality. Preferably it is 5% by volume or less. C.O.
For two gases, the upper limit is 10% by volume.
なお、本発明はめっき浴組成には左右されない。Note that the present invention is not dependent on the plating bath composition.
たとえば、Ｚｎめっきにおける低Ｐｂ（０，０３％以下
）操業、その他合金めっきにも採用できる。For example, it can be applied to low Pb (0.03% or less) operation in Zn plating and other alloy plating.
なお、本発明が適用される連続溶融金属めっき法それ自
体良く知られているものであって、以上の説明だけで十
分であって、これ以上の説明を要しないものと考えられ
る。The continuous hot-dip metal plating method to which the present invention is applied is itself well known, and the above explanation is sufficient and no further explanation is considered necessary.
次に、本発明を実施例に関連させてさらに詳細に説明す
る。Next, the present invention will be explained in more detail in connection with examples.
実施例
添付図面の第１図に示すと同様の溶融亜鉛めっき装置を
使って中１２００１１１１１の鋼ストリップの連続溶融
亜鉛めっきを行った。通板速度は１２０ＩＩ／分、めっ
き目付量は１００ｇ／ｗ”となるように調整した。シー
ルボックス１２内はＮ２ガスのワイピングガスによって
内圧１０ｍｍＡｑの非酸化性雰囲気とし、予めこのワイ
ピングガスＧこ水広気または二酸化炭素ガスを添加する
ことによってシールボックス内雰囲気の弱酸化性ガスの
量を水蒸気の場合０．５％、二酸化炭素ガスの場合１％
に調整した。EXAMPLES Continuous hot-dip galvanizing was carried out on a steel strip of medium size 120011111 using a hot-dip galvanizing apparatus similar to that shown in FIG. 1 of the accompanying drawings. The sheet threading speed was adjusted to 120 II/min, and the plating weight was adjusted to 100 g/w''.The inside of the seal box 12 was made into a non-oxidizing atmosphere with an internal pressure of 10 mmAq by N2 wiping gas, and this wiping gas By adding air or carbon dioxide gas, the amount of weakly oxidizing gas in the seal box atmosphere can be reduced to 0.5% for water vapor and 1% for carbon dioxide gas.
Adjusted to.
７日間という長期間の連続めっき操作にもかかわらず、
水蒸気量はほぼ０．５％と一定であり、また、二酸化炭
素の場合も１％と常に一定に保持できた。そのためめっ
き操作中のドロス発生量、Ｚｎ蒸気の発生量は著しく少
なく抑えることができた。Despite continuous plating operation for a long period of 7 days,
The amount of water vapor was kept constant at approximately 0.5%, and the amount of carbon dioxide was always kept constant at 1%. Therefore, the amount of dross generated and the amount of Zn vapor generated during the plating operation could be significantly reduced.
第１図および第２図は、本発明にかかる７８融金属めっ
き装置の概略を示す略式説明図である。FIGS. 1 and 2 are schematic explanatory diagrams showing an outline of a 78 molten metal plating apparatus according to the present invention.
Claims (3)
き浴、該溶融金属めっき浴の上方に配置されめっき目付
量を調整するガスワイピングノズル、および前記溶融金
属めっき浴に隣接して設けられ前記ガスワイピングノズ
ルを取り囲んで配置されたシールボックスを備えるとと
もに、前記ガスワイピングノズルに非酸化性ガスを供給
する装置と、前記シールボックス内に水蒸気および／ま
たは二酸化炭素ガスを供給する装置と、前記シールボッ
クス内の雰囲気の水蒸気および／または二酸化炭素ガス
濃度を制御する制御機構とをさらに備えた、溶融金属め
っき装置。(1) A molten metal plating bath in which the metal strip is continuously immersed, a gas wiping nozzle disposed above the molten metal plating bath to adjust the plating weight, and a gas wiping nozzle provided adjacent to the molten metal plating bath in which the gas a device for supplying non-oxidizing gas to the gas wiping nozzle; a device for supplying water vapor and/or carbon dioxide gas into the seal box; and a device for supplying water vapor and/or carbon dioxide gas into the seal box; A molten metal plating apparatus further comprising a control mechanism for controlling water vapor and/or carbon dioxide gas concentration in an atmosphere therein.
化性ガスに水蒸気および／または二酸化炭素ガスを混合
して混合非酸化性ガスとすることにより前記シールボッ
クス内に水蒸気および／または二酸化炭素ガスを供給し
、前記制御機構が該混合非酸化性ガスの中の水蒸気およ
び／または二酸化炭素ガスの検出センサーと該センサー
の検出信号に応じて前記の水蒸気および／または二酸化
炭素ガスと前記非酸化性ガスとの配合比を決定し、前記
シールボックス内の雰囲気の水蒸気および／または二酸
化炭素ガス濃度を制御する制御装置から構成される、特
許請求の範囲第１項記載の装置。(2) By mixing water vapor and/or carbon dioxide gas with the non-oxidizing gas to form a mixed non-oxidizing gas before reaching the gas wiping nozzle, water vapor and/or carbon dioxide gas is introduced into the seal box. and the control mechanism detects water vapor and/or carbon dioxide gas in the mixed non-oxidizing gas, and the water vapor and/or carbon dioxide gas and the non-oxidizing gas according to the detection signal of the sensor. 2. The apparatus according to claim 1, further comprising a control device that determines a blending ratio of carbon dioxide and water vapor and controls the concentration of water vapor and/or carbon dioxide gas in the atmosphere within the seal box.
経て前記シールボックス内に供給するとともに、前記の
水蒸気および／または二酸化炭素ガスを直接に該シール
ボックス内に供給し、前記制御機構が、該シールボック
ス内の雰囲気中の水蒸気および／または二酸化炭素ガス
の検出センサーと該センサーの検出信号に応じて前記の
水蒸気および／または二酸化炭素ガスの前記シールボッ
クス内への供給量を決定する制御装置とから構成される
、特許請求の範囲第１項記載の装置。(3) The non-oxidizing gas is supplied into the seal box via the gas wiping nozzle, and the water vapor and/or carbon dioxide gas is directly supplied into the seal box, and the control mechanism A sensor for detecting water vapor and/or carbon dioxide gas in the atmosphere within the seal box, and a control device that determines the amount of water vapor and/or carbon dioxide gas to be supplied into the seal box according to the detection signal of the sensor. An apparatus according to claim 1, comprising:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16954485A JPS6230864A (en) | 1985-07-31 | 1985-07-31 | Hot dip metal coating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16954485A JPS6230864A (en) | 1985-07-31 | 1985-07-31 | Hot dip metal coating apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6230864A true JPS6230864A (en) | 1987-02-09 |
Family
ID=15888445
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16954485A Pending JPS6230864A (en) | 1985-07-31 | 1985-07-31 | Hot dip metal coating apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6230864A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0663454A1 (en) * | 1994-01-14 | 1995-07-19 | Thyssen Stahl Aktiengesellschaft | Process for suppressing the zinc vaporisation during hot dip coating of a steel strip |
| JP4988045B2 (en) * | 2008-10-01 | 2012-08-01 | 新日本製鐵株式会社 | Hot-dip plated steel plate manufacturing method and hot-dip plating apparatus |
| JP2018090870A (en) * | 2016-12-06 | 2018-06-14 | 日新製鋼株式会社 | Hot dipping facility, and plating metal strip production method using the same |
-
1985
- 1985-07-31 JP JP16954485A patent/JPS6230864A/en active Pending
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| US9598756B2 (en) | 2008-10-01 | 2017-03-21 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation | Method for producing hot dip plated steel sheet and apparatus for hot dip plating |
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