JPS6228708A - Optical beam scanner and its manufacture - Google Patents

Optical beam scanner and its manufacture

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JPS6228708A
JPS6228708A JP16883085A JP16883085A JPS6228708A JP S6228708 A JPS6228708 A JP S6228708A JP 16883085 A JP16883085 A JP 16883085A JP 16883085 A JP16883085 A JP 16883085A JP S6228708 A JPS6228708 A JP S6228708A
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hologram
aberration
scanning
lens
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Shinya Hasegawa
信也 長谷川
Masayuki Kato
雅之 加藤
Fumio Yamagishi
文雄 山岸
Hiroyuki Ikeda
池田 弘之
Yushi Inagaki
雄史 稲垣
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Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概  要〕 本発明は、安価かつ高精度な光ビーム直線走査装置実現
のため、半導体レーザ、収差補正用ホログラムレンズ、
及び走査用ホログラムレンズのみの構成により、半導体
レーザのビーム整形を行い半導体レーザの縦モードの波
長のホッピングによる走査光のジッタの影響を抑え、半
導体レーザの発振波長のバラツキによる走査特性(直線
性)の劣化を吸収し、さらに走査用回折波の収差補正を
行う光ビーム走査装置と、前記収差補正用水ログラムレ
ンズを前記半導体レーザより短い波長のコヒーレント波
を補助光学系に入射して得られる球面収差波を参照波と
し、同じく他の補助光学系に入射して得られるコマ収差
波を物体波として作成する光ビーム装置の製造方法を提
供するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] The present invention aims to realize an inexpensive and highly accurate light beam linear scanning device by using a semiconductor laser, an aberration correction hologram lens,
By using only a scanning hologram lens, the beam shaping of the semiconductor laser is performed to suppress the influence of jitter on the scanning light due to wavelength hopping of the longitudinal mode of the semiconductor laser, and to improve scanning characteristics (linearity) caused by variations in the oscillation wavelength of the semiconductor laser. an optical beam scanning device that absorbs the deterioration of the scanning diffracted wave and further corrects the aberration of the scanning diffracted wave; The present invention provides a method for manufacturing a light beam device in which a coma aberration wave obtained by similarly entering another auxiliary optical system is created as an object wave by using a wave as a reference wave.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は、半導体レーザのビーム整形を行い。 The present invention performs beam shaping of a semiconductor laser.

半導体レーザのモードホッピングによる走査光のジッダ
の影響を抑え、走査光の収差を低減することのできる高
精度光ビーム直線走査装置及びその製造方法に関する。
The present invention relates to a high-precision optical beam linear scanning device that can suppress the influence of jitter on scanning light due to mode hopping of a semiconductor laser and reduce aberrations of scanning light, and a method for manufacturing the same.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

レーザプリンタなどにおけるレーザ光の高精度の直線走
査において、複雑で高価な回転多面鏡を用いたポリゴン
に代わって、小型、軽量、安価であり、構造が簡単で製
造が容易なホログラムレンズを用いた光ビーム装置が注
目されている。
In the high-precision linear scanning of laser beams in laser printers, etc., instead of polygons using complicated and expensive rotating polygon mirrors, we have used hologram lenses, which are small, lightweight, and inexpensive, and have a simple structure and are easy to manufacture. Light beam devices are attracting attention.

ホログラムレンズを用いた従来の光ビーム装置の原理を
第8図に示す。この例は9本出願人らが出願した方法(
特開昭57−2018)を用いている。
FIG. 8 shows the principle of a conventional light beam device using a hologram lens. This example is based on the method filed by the present applicants (9).
JP-A-57-2018) is used.

同図(a)はその斜視図であり、ホログラムスキャナ1
4(走査用ホログラムレンズ)は円板上に半導体レーザ
より、低い波長のコヒーレントな平面波と球面波を感光
板上で干渉させて作ったインターフェロメトリックゾー
ンプレート(IZP)を複数個設けたものである。この
ホログラムスキャナ14に再生波として発散波である半
導体レーザ光16を照射すると、その回折光17はフォ
トコンドラム15上に結像し、ホログラムスキャナ14
の回転に従って1回転あたり前記IZPの数と同じ回数
だけ該ドラム15上の所定領域を直線走査する。すなわ
ち、ホログラムスキャナ14は走査装置としての機能と
、結像レンズ、言い換えればビーム整形の機能を合わせ
持つものである。
Figure (a) is a perspective view of the hologram scanner 1.
4 (scanning hologram lens) is a disk with multiple interferometric zone plates (IZP) made by interfering coherent plane waves and spherical waves with a wavelength lower than that of a semiconductor laser on a photosensitive plate. be. When this hologram scanner 14 is irradiated with a semiconductor laser beam 16 which is a diverging wave as a reproduced wave, the diffracted light 17 forms an image on the photocondrum 15, and the hologram scanner 14
According to the rotation of the drum 15, a predetermined area on the drum 15 is linearly scanned the same number of times as the number of IZPs per rotation. That is, the hologram scanner 14 has both the function of a scanning device and the function of an imaging lens, in other words, a beam shaping function.

この場合、フォトコンドラム15上での解像度を高める
ためには、そこでの回折光17の結像ビーム径をできる
限り小さくする必要がある。そのためにはホログラムス
キャナ14上での照射ビーム径DHを大きくするのが望
ましい。
In this case, in order to increase the resolution on the photocondrum 15, it is necessary to make the imaging beam diameter of the diffracted light 17 there as small as possible. For this purpose, it is desirable to increase the diameter DH of the irradiation beam on the hologram scanner 14.

しかし、ビーム径DHを大きくすると非点収差。However, when the beam diameter DH is increased, astigmatism occurs.

及びコマ収差が発生しフォトコンドラム15上での結像
点が1点に定まらなくなるという問題を生じてしまい、
ビーム径DHを太き(し前記フォトコンドラム15上で
の結像ビーム径を小さくするという要求と相反するもの
となる。
Also, comatic aberration occurs and the image formation point on the photocondrum 15 is not fixed at one point.
This contradicts the requirement to increase the beam diameter DH (and decrease the diameter of the imaging beam on the photocondrum 15).

一方、上記問題とは別に、レーザ光源としての半導体レ
ーザは、小型、軽量、直接変調可能かつ安価なためホロ
グラムスキャナに用いることが重要となってきている。
On the other hand, apart from the above-mentioned problems, it has become important to use semiconductor lasers as laser light sources in hologram scanners because they are small, lightweight, directly modifiable, and inexpensive.

この場合、半導体レーザの縦モードは単一でないと走査
ビームが一点とならないので、シングルモードレーザが
必要である。
In this case, a single mode laser is required because the scanning beam will not be focused on a single point unless the semiconductor laser has a single longitudinal mode.

そのためには現在出回っている屈折率導波型半導体レー
ザが条件を満たす。しかし、DCバイアス時に例えシン
グルモードであっても、その発振波長が周囲温度、伝導
電流、及びパルス印加の変化などによって0.3nm〜
数nmはどずれるモードホッピングと呼ばれる現象を引
き起こす。モードホッピングが起こるとホログラムスキ
ャナ14で回折した回折光17は、第8図(al及び同
図(blの側面図の破線18で示すようにずれ、フォト
コンドラム15上での走査結像位置が100〜300μ
m程度までずれてしまい、レーザプリンタなどの高精度
直線スキャナなどに用いるためには、印字品質の劣化を
まねくため大きな問題となる。
For this purpose, the refractive index guided semiconductor lasers currently on the market meet the requirements. However, even if the oscillation wavelength is in single mode during DC bias, the oscillation wavelength may vary from 0.3 nm to 0.3 nm due to changes in ambient temperature, conduction current, and pulse application.
A distance of several nm causes a phenomenon called mode hopping. When mode hopping occurs, the diffracted light 17 diffracted by the hologram scanner 14 shifts as shown by the broken line 18 in the side view of FIGS. 100~300μ
This is a major problem when used in high-precision linear scanners such as laser printers because it causes deterioration in print quality.

前記走査光の収差の問題と、モードホッピングによる問
題とを解決するためにそれぞれ独立に幾つかの従来例が
提供されている。
Several conventional examples have been independently provided to solve the problems caused by the aberration of the scanning light and the problems caused by mode hopping.

第9図は、前記走査光の収差の問題を解決するために9
本出願人らにより既特許出願された技術(特開昭58−
172617)であり、同図(a)の斜視図に示すよう
に、レーザ光源19から出射し、光学系により変換され
た平面波は収差補正用ホログラムレンズ20で収束球面
波として回折された後、一度交差させられホログラムス
キャナ21 (走査用ホログラムレンズ)に照射され、
その回折波22がフォトコンドラム23上に走査結像す
る。この技術の原理は、非点収差及び、コマ収差補正用
水ログラムレンズ20によって、フォトコンドラム23
上で発生する非点収差及び、コマ収差を打ち消す収差を
発生させれば、ホログラムスキャナ21によって発生し
た非点収差、及びコマ収差と打ち消し合い、フォトコン
ドラム23上では1点に結像するというものである。第
9図(b)は、上記収差を発生させるための収差補正用
ホログラムレンズ20の作成方法を示した図である。ま
ず、レーザ光源からの平面波22は、ハーフミラ−23
′結像レンズ24.ミラー25を介して結像点26(フ
ォトコンドラム23上の結像点に相当する)に結像する
。結像波27は、さらに発散球面波としてホログラムス
キャナ21に逆方向から照射され、その回折波は29で
1且交差された後ホログラムレンズ20上に物体波28
として照射される。
FIG. 9 shows a 9.
Technology for which an existing patent application has been filed by the applicants
172617), and as shown in the perspective view of FIG. The beams are crossed and irradiated to the hologram scanner 21 (scanning hologram lens),
The diffracted wave 22 scans and forms an image on the photocondrum 23. The principle of this technology is that a photocondrum 23 is used by a hydrogram lens 20 for astigmatism and coma correction.
If an aberration is generated that cancels the astigmatism and coma aberration generated by the hologram scanner 21, it will cancel out the astigmatism and coma aberration generated by the hologram scanner 21, and the image will be focused on a single point on the photocondrum 23. It is something. FIG. 9(b) is a diagram showing a method of creating an aberration-correcting hologram lens 20 for generating the above-mentioned aberrations. First, the plane wave 22 from the laser light source is transmitted to the half mirror 23.
'Imaging lens 24. An image is formed on an imaging point 26 (corresponding to the imaging point on the photocon drum 23) via a mirror 25. The imaged wave 27 is further irradiated to the hologram scanner 21 from the opposite direction as a diverging spherical wave, and the diffracted wave is crossed once at 29 and then forms an object wave 28 on the hologram lens 20.
It is irradiated as

上記のようにして作成されたホログラムレンズ20は、
ホログラムスキャナ21で発生する収差を打ち消す物体
波28によって作成されるため。
The hologram lens 20 created as described above is
This is because it is created by an object wave 28 that cancels aberrations generated in the hologram scanner 21.

31の方向から再生波である平行光をホログラムレンズ
20に照射すれば、上記作成時とは逆の経路をたどって
、収差のない回折波が結像点26上に結像する。上記技
術により非点収差及び、コマ収差の問題を解決している
When the hologram lens 20 is irradiated with parallel light, which is a reproduced wave, from the direction 31, a diffracted wave without aberration forms an image on the imaging point 26, following a path opposite to that at the time of creation. The above technique solves the problems of astigmatism and coma.

次に第10図(alは、前記モードホッピングによる影
響を解決するための従来例の一般的な原理を示した斜視
図である。なお、これに先立って、ホログラム再生光源
のスペクトル幅が広い時、ホログラムからの回折光が分
散してしまい収差が生じるので、ホログラムの後に、も
う一枚、前のホログラムの回折とは逆の方向に回折する
ホログラムを置いて、補償することが提案されている。
Next, FIG. 10 (al is a perspective view showing the general principle of a conventional example for solving the influence of mode hopping. Since the diffracted light from the hologram is dispersed, causing aberrations, it has been proposed to compensate by placing another hologram after the hologram that diffracts in the opposite direction to the diffraction direction of the previous hologram. .

(■C,[1,Burckhardt、 Be1l 5
yst、 Tech、 J。
(■C, [1, Burckhardt, Be1l 5
yst, Tech, J.

45、1841  (1966) ■D、 J、 DeBitetto、 Appl、 P
hys、 Lett。
45, 1841 (1966) ■D, J, DeBitetto, Appl, P
Hys, Lett.

9、417   (1966) ■” 0ptical Holography”  A
cademic press。
9, 417 (1966) ■”0ptical Holography”A
academic press.

N、 Y、 1971.1971. P、502 )こ
れと同様の考えであるのが、第10図(a)に示すもの
である。第10図(alの特徴は、ホログラムスキャナ
32の手前にホログラムレンズ33を有し、その特性は
ホログラムスキャナ32とは逆方向に回折するように設
定されていることである。
N, Y, 1971.1971. P, 502) A similar idea is shown in FIG. 10(a). The feature of FIG. 10 (al) is that it has a hologram lens 33 in front of the hologram scanner 32, and its characteristics are set to diffract in the direction opposite to that of the hologram scanner 32.

これにより2通常、半導体レーザ光35はホログラムレ
ンズ33で回折波36となり、さらに、ホログラムスキ
ャナ32によって回折され収束波37としてフォトコン
ドラム34上に結像する。次に、半導体レーザにおいて
モードホッピングが発生すると、ホログラムレンズ33
においては第10図(bl O側面図の破線38に示す
ように縦下方向にずれるが、ホログラムスキャナ32に
おいては逆に破線39に示すように縦上方向にずれるた
め、結局、フォトコンドラム34上の結像点はずれるこ
とはない。これにより、モードホッピングの影響を除去
しようとしている。
As a result, normally, the semiconductor laser beam 35 becomes a diffracted wave 36 by the hologram lens 33, is further diffracted by the hologram scanner 32, and is imaged on the photocondrum 34 as a convergent wave 37. Next, when mode hopping occurs in the semiconductor laser, the hologram lens 33
In the case of the hologram scanner 32, it shifts vertically downward as shown by the broken line 38 in the side view of FIG. The upper imaging point does not shift, which attempts to eliminate the effects of mode hopping.

第11図は、上記技術を利用した具体的な一従来例とし
て、既特許出願された技術(特開昭56=70517 
)である。この従来例は、第10図と全く同様として半
導体レーザ光40をホログラムレンズ41で一度回折さ
せ、その後、ホログラムスキャナ42によって回折走査
させ2スクリーン43上に結像させるものである。
FIG. 11 shows a technology for which an existing patent application has been filed (Japanese Patent Application Laid-Open No. 1983-70517) as a specific conventional example using the above technology.
). In this conventional example, a semiconductor laser beam 40 is once diffracted by a hologram lens 41 in exactly the same manner as shown in FIG.

第12図(blは、同じく第10図の技術を利用した他
の従来例として、既特許出願された技術(特開昭57−
181523)である。これは、同図(a)に示すよう
に半導体レーザ光を、光学系44を用いて変換した平面
波45をホログラムスキャナ46で回折走査させ、その
回折平面波47を結像レンズ48及びミラー49によっ
てスクリーン50上に結像させる形式のものに対して、
同図(b)に示すように補償用ホログラムレンズ51を
挿入し、その場合の具体的な配置などを与えたものであ
る。
FIG. 12 (bl is another conventional example using the technique shown in FIG.
181523). As shown in FIG. 4(a), a plane wave 45 converted from a semiconductor laser beam using an optical system 44 is diffracted and scanned by a hologram scanner 46, and the diffracted plane wave 47 is screened by an imaging lens 48 and a mirror 49. For those that form an image on 50,
As shown in FIG. 5B, a compensating hologram lens 51 is inserted, and the specific arrangement thereof is given.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上記従来例において、まず、非点収差及び、コマ収差を
解決するための第9図に示した従来例は。
In the above conventional examples, first, the conventional example shown in FIG. 9 is for solving astigmatism and coma aberration.

同図(b)に示すように収差補正用ホログラムレンズの
作成方法を示している。しかし、この従来例においては
、もし半導体レーザ光の使用を規定すると、収差補正用
ホログラムレンズの作成波としても同じ半導体レーザ光
を使用しなければならないが、半導体レーザ光のように
長い波長をホログラムとして記録できる高効率感光材料
は一般にはなく、その点を解決するための技術を与えて
いないという問題点を有していた。又、収差補正用ホロ
グラムレンズに入射する光は、平行光のため、レーザか
ら出射した光を、複数枚のレンズ群によるコリメータに
より、平行光にする必要があった。
As shown in FIG. 3(b), a method for creating an aberration correcting hologram lens is shown. However, in this conventional example, if the use of semiconductor laser light is stipulated, the same semiconductor laser light must be used as the wave to create the aberration correction hologram lens, but unlike the semiconductor laser light, it is difficult to produce a hologram with a long wavelength. There is generally no high-efficiency light-sensitive material capable of recording images, and there has been a problem in that no technology has been provided to solve this problem. Furthermore, since the light incident on the aberration correction hologram lens is parallel light, it is necessary to convert the light emitted from the laser into parallel light using a collimator made up of a plurality of lens groups.

一方、モードホッピングの影響を除去するための第11
図の従来例は、基本的な考え方を示してはあるが具体的
な光ビーム走査装置にどのように適用したらよいかとい
う手段を与えていないという問題点を有していた。
On the other hand, the eleventh
The conventional example shown in the figure has a problem in that, although it shows the basic concept, it does not provide means for how to apply it to a specific light beam scanning device.

さらに、同じく第12図の従来例は、具体的な適用を示
しているが、その通用は同図(δ)のように再生波とし
て平面波を用いたものに対しであり又ホログラムスキャ
ナは単一空間周波数であり、従って結像機能を持たず、
そのため高価なコリメートレンズ44.結像レンズ48
が必要であった。
Furthermore, although the conventional example shown in Fig. 12 shows a specific application, it is generally applicable to those using a plane wave as a reproduction wave as shown in Fig. 12 (δ), and the hologram scanner is a single hologram scanner. is a spatial frequency and therefore has no imaging function,
Therefore, the expensive collimating lens 44. Imaging lens 48
was necessary.

本発明は上記各問題点を同時に除くために、安価かつ高
精度な光ビーム直線走査装置を実現するため、レンズを
用いることなく、半導体レーザ。
In order to solve the above-mentioned problems at the same time, the present invention uses a semiconductor laser without using a lens in order to realize an inexpensive and highly accurate light beam linear scanning device.

収差補正用ホログラムレンズ、及び走査用ホログラムレ
ンズのみの構成により、走査光の非点及び。
The configuration includes only an aberration correction hologram lens and a scanning hologram lens, which eliminates astigmatism and correction of scanning light.

コマ収差とモードホッピングによる問題点を同時に解決
し、さらに半導体レーザのビーム整形及び。
Simultaneously solving the problems caused by coma aberration and mode hopping, and further improving the beam shaping of semiconductor lasers.

半導体レーザの発振波長のロットのバラツキによる走査
特性(直線性)を吸収することのできる光ビーム走査装
置と、その具体的な製造方法を提供することを目的とす
る。
It is an object of the present invention to provide a light beam scanning device that can absorb scanning characteristics (linearity) due to lot-to-lot variations in the oscillation wavelength of a semiconductor laser, and a specific manufacturing method thereof.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は上記問題点を解決するために、レーザからの出
射波を位置的に空間周波数分布が異なる走査用ホログラ
ムレンズに入射しその回折波によって被走査面を走査す
る光ビーム走査装置において、前記レーザは半導体レー
ザであり、前記出射波の波面を変換して前記走査用回折
波の非点及び。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a light beam scanning device in which an emitted wave from a laser is incident on a scanning hologram lens having a positionally different spatial frequency distribution, and a surface to be scanned is scanned by the diffracted waves. The laser is a semiconductor laser, and converts the wavefront of the emitted wave to produce an astigmatism and an astigmatism of the scanning diffracted wave.

コマ収差を前記被走査面上において減少させる収差補正
用ホログラムレンズを有することを特徴とする光ビーム
走査装置及びその製造方法を提供するものである。
The present invention provides a light beam scanning device and a method for manufacturing the same, characterized by having an aberration-correcting hologram lens that reduces comatic aberration on the surface to be scanned.

〔作  用〕[For production]

上記光ビーム走査装置の構成手段において、半導体レー
ザから出射した発散球面波は収差補正用ホログラムレン
ズに入射し、ここで走査用ホログラムレンズによって発
生する走査光の走査面上での非点、及びコマ収差を打ち
消す収差を有する波面に変換される。次に、このように
変換された収差補正用ホログラムレンズからの回折波は
走査用ホログラムレンズに入射し、そこからの回折波は
収束球面波として被走査面上に走査結像する。この時、
走査用ホログラムレンズで発生する非点。
In the configuration means of the optical beam scanning device, the diverging spherical wave emitted from the semiconductor laser is incident on the aberration correction hologram lens, where the astigmatism and coma on the scanning surface of the scanning light generated by the scanning hologram lens are detected. It is converted into a wavefront with aberrations that cancel out the aberrations. Next, the diffracted wave from the aberration correction hologram lens thus converted is incident on the scanning hologram lens, and the diffracted wave from there is scanned and imaged on the surface to be scanned as a convergent spherical wave. At this time,
Astigmatism that occurs in scanning hologram lenses.

及びコマ収差は前記の収差により補正され、被走査面上
における非点及び、コマ収差は減少する。
and coma aberration are corrected by the aberrations described above, and astigmatism and coma aberration on the scanned surface are reduced.

また、収差補正用ホログラムレンズの回折角を。Also, the diffraction angle of the hologram lens for aberration correction.

走査用ホログラムレンズからの回折波による被走査面上
での走査点の変化が半導体レーザにおける眩モードのホ
ッピングに対して減少する角度に設定することにより、
走査光のジッタを減少させることができる。
By setting the angle at which the change in the scanning point on the scanned surface due to the diffracted wave from the scanning hologram lens is reduced with respect to the hopping of the glare mode in the semiconductor laser,
The jitter of scanning light can be reduced.

次に上記光ビーム走査装置の製造方法においては、収差
補正用ホログラムレンズの作成方法として、再生光とし
て用いる半導体レーザの波長λ・より短い波長λ2の光
を、補助光学系を通して球面収差を発生させて参照波と
し、一方、同じ波長λ2の光を補助光学系を通して走査
用ホログラムレンズによって発生する非点、及び、コマ
収差を打ち消すコマ収差を発生させて物体波とすること
により、半導体レーザによる波長λ1の再生光で前記作
用を有する収差補正用ホログラムレンズを作成すること
ができる。
Next, in the method of manufacturing the optical beam scanning device described above, as a method of creating a hologram lens for aberration correction, a spherical aberration is generated by passing light of wavelength λ of a semiconductor laser used as reproduction light and light of a shorter wavelength λ2 through an auxiliary optical system. On the other hand, light with the same wavelength λ2 is passed through the auxiliary optical system to generate coma aberration that cancels astigmatism and coma generated by the scanning hologram lens, and becomes an object wave. An aberration correcting hologram lens having the above-mentioned effect can be created using the reproduction light of λ1.

〔実 施 例〕〔Example〕

以下1本発明の実施例につき詳細に説明を行う。 Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described in detail.

(光ビーム走査装置の構成と動作(第1図(a))第1
図(a)は2本発明による光ビーム走査装置の構成側面
図である。半導体レーザ2から出射した発散球面波4は
、収差補正用ホログラムレンズ1に入射する1次に、そ
こからの回折波5はビーム径DHで軸3aを中心にして
回転する円板状のホログラムスキャナ3(走査用ホログ
ラムレンズ)に入射する。そこからの収束球面波である
回折波6はフォトコンドラム(特には図示せず)上の結
像点7に結像し、ホログラムスキャナ3の回転により走
査を行う。
(Configuration and operation of light beam scanning device (Fig. 1(a)) 1st
FIG. 2(a) is a side view of the configuration of a light beam scanning device according to the present invention. The diverging spherical wave 4 emitted from the semiconductor laser 2 enters the aberration correction hologram lens 1 in the first order, and the diffracted wave 5 from there is transmitted to a disc-shaped hologram scanner that rotates around an axis 3a with a beam diameter DH. 3 (scanning hologram lens). The diffracted wave 6, which is a convergent spherical wave, forms an image at an imaging point 7 on a photocondrum (not specifically shown), and is scanned by rotation of the hologram scanner 3.

以上の構成において、収差補正用ホログラムレンズ1は
、後述する適切な回折角に設定され、半導体レーザ2の
縦モードの波長のホ、ンビングに対して結像点7がずれ
ないように設定される。同時に、収差補正用ホログラム
レンズ1は、半導体レーザ2から出射した発散光をとり
こみ、然る後。
In the above configuration, the aberration correction hologram lens 1 is set at an appropriate diffraction angle, which will be described later, and is set so that the imaging point 7 does not shift with respect to the focusing of the wavelength of the longitudinal mode of the semiconductor laser 2. . At the same time, the aberration correction hologram lens 1 takes in the diverging light emitted from the semiconductor laser 2, and after a while.

ホログラムスキャナ3によって発生する非点、及びコマ
収差を打ち消す収差を有する波面を発生するように作成
され、これにより、結像点7における収差を減少させる
。走査面上での走査光の収差を低減させるために、入射
させる波面は、どの様なものかを考える。
It is created to generate an aberrated wavefront that cancels the astigmatism and coma generated by the hologram scanner 3, thereby reducing the aberrations at the imaging point 7. In order to reduce the aberration of the scanning light on the scanning surface, consider what type of wavefront should be made incident.

第1図(b)において、ホログラムの位相伝達関数をφ
+−+ (x、y) 、入射2回折波の位相をφ、N(
x、y)、φつ(x、  y)とすると2次式の関係が
ある。
In Figure 1(b), the phase transfer function of the hologram is defined as φ
+−+ (x, y), the phase of the incident 2nd diffracted wave is φ, N(
x, y) and φ (x, y), there is a quadratic relationship.

φoVr(x、y) 一φ、N (x、y)  +φH(x、y)・・・・・
■ 後に説明するが本出願人が既特許出願した方法(特許出
願番号59−659 )によるホログラムスキャナでは
、再生光より低い波長でホログラムを作成する。この時
、ホログラム作成、再生条件が異なるため、φ:N(x
、y)が無収差であると、一般に、φ0uT(x、y)
は収差が生じる。一方、前記特許出願番号59−659
によって実施されている例では、ホログラム作成光学系
は、収差が最も低減する様に設計されている。
φoVr (x, y) - φ, N (x, y) + φH (x, y)...
(2) As will be explained later, in a hologram scanner based on a method for which the present applicant has previously applied for a patent (patent application number 59-659), a hologram is created using a wavelength lower than that of reproduction light. At this time, since the hologram creation and reproduction conditions are different, φ:N(x
, y) is aberration-free, then in general, φ0uT(x, y)
, aberrations occur. On the other hand, the patent application number 59-659
In the example implemented by , the hologram creation optical system is designed to minimize aberrations.

しかし、さらに収差の小さいビーム径を得るためには、
所望の回折波の位相をφ霊(XI)’)とすると、■よ
り。
However, in order to obtain a beam diameter with even smaller aberrations,
If the phase of the desired diffracted wave is φ (XI)'), then from ■.

φ+N(X)y) =φout(x、y) −φ、、(X、y)・・・・・
■ ■(x、  y) e S、  S :再生領域を満た
す入射波を、入射させれば、φ0LJT(XI>’)=
φ。、uy(x+y)+ つまり、無収差となる。ここ
で所望の回折波の位相とは、走査面上で無収差となる収
束球面波のことである。また、再生領域はディスクを回
転していくと変わっていくため、以下では、走査中央に
限ることとする(勿論、走査中央以外でも同様の話が成
り立つ)。
φ+N(X)y) =φout(x,y) −φ,,(X,y)・・・・・・
■ ■(x, y) e S, S: If the incident wave that fills the reproduction area is input, φ0LJT(XI>')=
φ. , uy(x+y)+ In other words, there is no aberration. Here, the desired phase of the diffracted wave refers to a convergent spherical wave with no aberration on the scanning plane. Furthermore, since the playback area changes as the disk rotates, the following discussion will be limited to the center of the scan (of course, the same argument holds true for areas other than the center of the scan).

そこで、第1図(blにおいて、ディスクに入射してい
る領域Sが走査中心である間、この再生領域S内の全て
の点で■を満たす様な入射波であれば。
Therefore, in FIG. 1 (bl), if the incident wave satisfies (2) at all points within the reproduction area S while the area S incident on the disk is the scanning center.

少なくとも走査中央では、収差は完全に除去されること
がわかる。よって収差補正用ホログラムレンズでは、■
を満たす位相の回折波5が出射される様に設計する。
It can be seen that at least at the center of the scan, aberrations are completely eliminated. Therefore, with a hologram lens for aberration correction, ■
It is designed so that a diffracted wave 5 having a phase satisfying the following is emitted.

又、この時第1図(a)において、収差補正用ホログラ
ムレンズ1に入射する角度を04.又、出射各をθh 
とすると、半導体レーザの発散光4のビーム径は紙面に
平行方向で(cosθb/cosθa)倍に変換される
At this time, in FIG. 1(a), the angle of incidence on the aberration correction hologram lens 1 is set to 04. Also, each output is θh
Then, the beam diameter of the diverging light 4 of the semiconductor laser is converted to (cos θb/cos θa) times in the direction parallel to the plane of the paper.

半導体レーザは通常、遠視野像で楕円のビームである。Semiconductor lasers typically have an elliptical beam in the far field pattern.

これは、接合部平行方向では出射口が大きく、接合部垂
直方向では出射口が小さいため。
This is because the exit port is large in the direction parallel to the joint, and small in the direction perpendicular to the joint.

回折像として、接合部垂直方向の遠視野像の方が。As a diffraction image, the far-field image in the direction perpendicular to the junction is better.

接合部平行方向のそれより大きくなるからである。This is because it is larger than that in the direction parallel to the joint.

通常、この楕円ビームをビーム整形するために、シリン
ドリカルレンズ、及び、プリズムペアが用いられるが高
価である。しかし1本方法によると。
Usually, a cylindrical lens and a prism pair are used to shape this elliptical beam, but these are expensive. But according to one method.

半導体レーザ接合部垂直方向、つまりビーム拡がり角の
大きい方向を紙面と平行方向に設定すると。
If the direction perpendicular to the semiconductor laser junction, that is, the direction where the beam divergence angle is large, is set parallel to the plane of the paper.

拡がり角の大きい方向のビームは、  (cosθb/
cosθ4)倍に変換されるため、容易にビーム整形を
行うことが可能となる。
The beam in the direction with a large divergence angle is (cosθb/
Since the beam is converted by a factor of cos θ4), beam shaping can be easily performed.

上記機能により、半導体レーザ、収差補正用ホログラム
レンズ、及びホログラムスキャナ(走査用ホログラムレ
ンズ)という簡単な構成により。
The above functions allow a simple configuration of a semiconductor laser, an aberration correction hologram lens, and a hologram scanner (scanning hologram lens).

結像レンズが全く介在しない、安価かつ信頼性の高い全
ホログラム方式の光ビーム走査装置を提供することがで
き、ビーム整形の機能があり、又非点、コマ収差とモー
ドホッピングの問題を同時に解決することができる。
We can provide an inexpensive and highly reliable all-hologram optical beam scanning device that does not involve any imaging lens, has a beam shaping function, and solves the problems of astigmatism, coma aberration, and mode hopping at the same time. can do.

(光ビーム装置の具体的設計(第2図))第2図は、モ
ードホッピングによる影響を防止するための第1図(a
lの光ビーム装置の具体的な設計例である。まず、直線
走査ホログラムスキャナ3の設計パラメータとして1作
成時の2つの発散球面波光源A1及びA2までのスキャ
ナ3からの距離ハf H+ = f H2=125.7
 mm、中心軸3aからホログラム入射点Pまでの半径
R=40mm、ホログラム入射点Pから2つの光源A1
及びA2までのy座標上の距離もR=40+u、ホログ
ラム入射角θ+ = 47.25°に定め、ホログラム
の作成用に波長325 nmのHe −Cdレーザ、再
生用に波長787nmの半導体レーザを用いることを仮
定して設計している。この時、走査中央での回折角も4
7.25 。
(Specific design of the light beam device (Fig. 2)) Fig. 2 shows the design of Fig. 1 (a) for preventing the influence of mode hopping.
This is a specific design example of a light beam device of 1. First, as a design parameter of the linear scanning hologram scanner 3, the distance from the scanner 3 to the two diverging spherical wave light sources A1 and A2 at the time of creation is f H+ = f H2 = 125.7
mm, radius R from central axis 3a to hologram incident point P = 40 mm, two light sources A1 from hologram incident point P
And the distance on the y coordinate to A2 is also set to R = 40 + u, hologram incident angle θ + = 47.25°, and a He-Cd laser with a wavelength of 325 nm is used to create the hologram, and a semiconductor laser with a wavelength of 787 nm is used for reproduction. It is designed with this assumption in mind. At this time, the diffraction angle at the center of the scan is also 4
7.25.

となる。以上の光ビーム走査方法は3本出願人が既特許
出願した方法(特許出願番号59−659)により作成
したものを用いている。
becomes. The above-mentioned light beam scanning method is based on a method for which three patents have been filed by the present applicant (patent application number 59-659).

なお3本特許出願番号59−659は9本出願人らによ
る前記特開昭57−2018におけるホログラムディス
クの偏心、及び面ぶれによる走査位置変動が大きいこと
や、ブラッグ角条件を満足しないため。
Note that the three patent applications No. 59-659 are due to large scanning position fluctuations due to eccentricity and surface wobbling of the hologram disk in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-2018 filed by the ninth applicant, and the Bragg angle condition is not satisfied.

光利用効率が小さい問題点を改良したものである。This is an improvement over the problem of low light utilization efficiency.

また、半導体レーザの発振波長は、ロフトにより±10
nm程度ばらつくが、この平均値は2通常782 nm
のため、これを再生波長とした。しがし。
Also, the oscillation wavelength of the semiconductor laser varies by ±10 depending on the loft.
Although it varies by about nm, the average value is 2 usually 782 nm.
Therefore, this was selected as the reproduction wavelength. Shigashi.

半導体レーザの発振波長の±10nmのバラツキに対し
ての走査特性(直線性など)の劣化は1本特許によれば
防止できることは後に示す。
It will be shown later that according to this patent, deterioration of scanning characteristics (linearity, etc.) due to variations of ±10 nm in the oscillation wavelength of a semiconductor laser can be prevented.

次に、収差補正用ホログラムレンズの回折角の設定方法
について説明を行う。まず、走査用ホログラムレンズ入
射角θ+ = 47.25°であるから。
Next, a method for setting the diffraction angle of the aberration correction hologram lens will be explained. First, the scanning hologram lens incidence angle θ+ = 47.25°.

回折波5の入射角もθ+ = 47.25°である。こ
の時、第2図より、  tanθ1=(ayR)/aと
なり、R=40mlであるから、  a=IQm、  
ay  =50.8mmと設定する。次に、上記のよう
に設定した光ビーム装置において2発振波長787nm
の半導体レーザの波長が、1モード=0.3nmホッピ
ングした時に結像点7に戻るためには、第2図の収差補
正用ホログラムレンズ1がらの回折波5の出射角のずれ
角Δθtが0.045であればよいことが数値計算より
分かる。今、収差補正用ホログラムレンズ1の中心回折
角をθ〆、モードホッピングによる波長のずれ量をΔλ
、また。ホログラムレンズ1の中心空間周波数をfとす
ると。
The incident angle of the diffracted wave 5 is also θ+ = 47.25°. At this time, from Figure 2, tanθ1=(ayR)/a, and since R=40ml, a=IQm,
Set ay = 50.8 mm. Next, in the light beam device set as above, two oscillation wavelengths of 787 nm were set.
In order for the wavelength of the semiconductor laser to return to the imaging point 7 after hopping by 1 mode = 0.3 nm, the deviation angle Δθt of the output angle of the diffracted wave 5 from the aberration correction hologram lens 1 shown in FIG. 2 must be 0. Numerical calculations show that .045 is sufficient. Now, the central diffraction angle of the aberration correction hologram lens 1 is set to θ, and the amount of wavelength shift due to mode hopping is set to Δλ.
,Also. Let f be the center spatial frequency of the hologram lens 1.

の関係がある。一方、半導体レーザの中心発振波長をλ
とすると。
There is a relationship between On the other hand, the center oscillation wavelength of the semiconductor laser is λ
If so.

λ tanθイ −−・Δθd ・・・・・・■Δ λ となる。今、λ−787nm= 7.87X 10−’
 11m+ 、Δλ−0,3tm = 0.3 X 1
0  N、Δθi = 0.045°= 0.039×
(π/ 180 ) radであるから、これらの値を
0式に代入して、θ〆= 64.28°となる。すなわ
ち。
λ tan θ i −−・Δθd ...■Δ λ. Now, λ-787nm = 7.87X 10-'
11m+, Δλ-0,3tm = 0.3 X 1
0 N, Δθi = 0.045° = 0.039×
(π/180) rad, so by substituting these values into equation 0, θ〆=64.28°. Namely.

ホログラムレンズ1の中心回折角を64.28°とすれ
ば、モードホッピングの影響を最小限に抑えることがで
きる。これより、第2図において、収差補正用ホログラ
ムレンズ1をホログラムスキャナ3に対して。
By setting the central diffraction angle of the hologram lens 1 to 64.28°, the influence of mode hopping can be minimized. From this, in FIG. 2, the aberration correction hologram lens 1 is placed against the hologram scanner 3.

θ=θに一θ+ = 64.28−47.25 = 1
7.03°傾けて設定すればよいことがわかる。なお1
以上は1モードホツプとしたが、更にモードホップして
も。
θ=θ to θ+ = 64.28-47.25 = 1
It can be seen that the setting should be made at an angle of 7.03°. Note 1
The above example uses one mode hop, but you can also do more mode hops.

以上の設定値で良い。The above settings are fine.

以上のように設定することにより、モードホッピングに
よる影響を抑制した光ビーム走査装置を提供することが
できる。
By setting as described above, it is possible to provide a light beam scanning device in which the influence of mode hopping is suppressed.

(収差補正用ホログラムレンズの作成方法(第3図)) 次に、光ビーム走査装置の製造方法として、収差補正用
ホログラムレンズ1の作成方法について第3図(a)の
説明図を用いて説明を行う。まず、走査用ホログラムレ
ンズの収差を補正する方法について述べる。第2図と異
なる所は、第3図(C)では。
(Method for creating a hologram lens for aberration correction (Fig. 3)) Next, as a method for manufacturing a light beam scanning device, a method for creating a hologram lens for aberration correction 1 will be explained using the explanatory diagram in Fig. 3(a). I do. First, a method for correcting aberrations of the scanning hologram lens will be described. The difference from Figure 2 is in Figure 3 (C).

まず、収差補正用ホログラムレンズ1に入射する光8は
、半導体レーザ光の垂直平行光であることである。他の
パラメータは前述の設計値を引き続き用いる。今、第3
図(a)の収差補正用ホログラムレンズ1を作成しよう
とする場合、再生波である半導体レーザ光を用いるとそ
れをホログラムとして高効率で記録できる感光材料は一
般にはない。
First, the light 8 incident on the aberration correction hologram lens 1 is vertical parallel light of a semiconductor laser beam. For other parameters, the previously described design values will continue to be used. Now, the third
When trying to create the aberration correcting hologram lens 1 shown in FIG. 1A, there is generally no photosensitive material that can record the reproduced wave as a hologram with high efficiency when using semiconductor laser light.

そこで、半導体レーザ光より波長の短いレーザ光でホロ
グラムレンズ1を作成することを考える。
Therefore, consider creating the hologram lens 1 using a laser beam having a shorter wavelength than that of a semiconductor laser beam.

この場合、半導体レーザ光(再生波)の波長をλ21作
成波の波長をλ1とする。すなわち。
In this case, the wavelength of the semiconductor laser light (regenerated wave) is λ21, and the wavelength of the created wave is λ1. Namely.

λ2〉λ1である。λ2>λ1.

第3図fa)において、結像点7における結像ビーム径
を小さくするために、ホログラムスキャナ3上での入射
波5の入射ビーム径DHを大きくすると、ホログラムス
キャナ3により発生する収差によって結像点7において
非点及びコマ収差を生じる。
In Fig. 3fa), when the incident beam diameter DH of the incident wave 5 on the hologram scanner 3 is increased in order to reduce the diameter of the imaging beam at the imaging point 7, the aberrations generated by the hologram scanner 3 cause the imaging Astigmatism and coma aberration occur at point 7.

そこで、非点及び、コマ収差を打ち消すような収差を前
記ホログラムレンズ1の波長λ1の作成波に持たせれば
よい。つまり、λ2で再生してφrN(x、y)=φo
ur(X、)’)−φs  (x、  y)の位相が発
生できるような波面を波長λ1で作ればよい。そのため
の波長λ1での収差は計算により、いわゆる外向きのコ
マ収差であればよいことがわかった。この外向きのコマ
収差は、いわゆるレンズのプリズム作用を用いて発生で
きる。つまり第3図(b)の収束球面波12が、所定角
αだけ傾けた凹レンズ9に対して光軸から距離y2だけ
ずれて入射すると、その出射波は外向きの収束コマ収差
波13となる。これをホログラムレンズ1の作成のため
の物体波とする。この場合のコマ収差波13は、半導体
レーザで再生すると第3図(a)における回折波5と全
く同一の関係となるように設定される。但し、ホログラ
ムレンズの向きは■で示した方に合す。この時1作成波
長λ+  (488mm。
Therefore, the created wave of the wavelength λ1 of the hologram lens 1 may have an aberration that cancels the astigmatism and coma aberration. In other words, by reproducing at λ2, φrN (x, y) = φo
A wavefront that can generate a phase of ur (X, )') - φs (x, y) may be created at wavelength λ1. Through calculations, it has been found that the aberration at wavelength λ1 for this purpose may be so-called outward coma aberration. This outward comatic aberration can be generated using the so-called prism effect of the lens. In other words, when the convergent spherical wave 12 shown in FIG. 3(b) enters the concave lens 9 tilted by a predetermined angle α at a distance y2 from the optical axis, the output wave becomes an outward convergent comatic aberration wave 13. . This is used as an object wave for creating the hologram lens 1. The coma aberration wave 13 in this case is set so that when reproduced by a semiconductor laser, it has exactly the same relationship as the diffracted wave 5 in FIG. 3(a). However, the direction of the hologram lens should match the direction indicated by ■. At this time, 1 created wavelength λ+ (488mm.

Arレーザ)、凹レンズ9の各パラメータとして。Ar laser), as each parameter of the concave lens 9.

レンズ厚みD○+ = 20.99 m、屈折率1.5
52 (波長488nm) 、曲率R2=65m、入射
位置y2=16.71鶴、入射焦点の光軸からの距離y
 3 = 28.06鰭、入射焦点距離f 2 = 1
12.3 m、傾は角α=17.7°、凹レンズ9とホ
ログラム感光面との距離12 = 140 **、ホロ
グラム感光面の中心から凹レンズ9までの水平距離63
=81mmと設定し、最適な外向きのコマ収差波13を
得た。第3図(b)に示すように、参照波は垂直平面波
とする。
Lens thickness D○+ = 20.99 m, refractive index 1.5
52 (wavelength 488 nm), curvature R2 = 65 m, incident position y2 = 16.71 Tsuru, distance y from the optical axis of the incident focus
3 = 28.06 fins, input focal length f 2 = 1
12.3 m, tilt angle α = 17.7°, distance between concave lens 9 and hologram photosensitive surface 12 = 140 **, horizontal distance from the center of hologram photosensitive surface to concave lens 9 63
= 81 mm, and an optimal outward comatic aberration wave 13 was obtained. As shown in FIG. 3(b), the reference wave is a vertical plane wave.

以上のようにして作成したホログラムレンズ1を用いて
第3図(11)の光ビーム走査装置を構成する。
The light beam scanning device shown in FIG. 3 (11) is constructed using the hologram lens 1 created as described above.

勿論、この時このホログラムレンズに、垂直平行光の半
導体レーザ(λ2)を入射した時の、中心回折角は64
.28°となる。但し、第3図(a)の構成は第2図の
構成パラメータと同じである。異なるのは、収差補正用
ホログラムレンズに入射する光は、半導体レーザの垂直
平行光(λ2)であることである。
Of course, at this time, when a semiconductor laser (λ2) of vertical parallel light is incident on this hologram lens, the central diffraction angle is 64
.. It becomes 28°. However, the configuration in FIG. 3(a) has the same configuration parameters as in FIG. 2. The difference is that the light incident on the aberration correction hologram lens is vertical parallel light (λ2) from a semiconductor laser.

次に、この時の、第3図(a)の走査用ホログラムスキ
ャナからの走査回折波6の収差像を、第4図(a)に示
す。ここでは、レーザプリンタに適用することを考慮し
、 A 4 (216mm)を走査するとした。
Next, FIG. 4(a) shows an aberration image of the scanning diffracted wave 6 from the scanning hologram scanner of FIG. 3(a) at this time. Here, considering application to a laser printer, it is assumed that A4 (216 mm) is scanned.

又1通常、必要となるビーム径を同図(b)に示す。1. The normally required beam diameter is shown in FIG. 1(b).

このビーム径を回折像とするための、該走査ホログラム
入射ビーム径DHを定めた時の収差像が同図(alであ
る。結像距離は、337mで、入射径D Hは、3.8
mである。これより1本方法ではほぼ完全に無収差で走
査されることがわかる。なお、第5図に、このホログラ
ムレンズ1を用いないで。
The aberration image when the scanning hologram incident beam diameter DH is determined in order to make this beam diameter a diffraction image is shown in the same figure (al).The imaging distance is 337 m, and the incident diameter DH is 3.8 m.
It is m. It can be seen from this that the one-line method scans almost completely without aberration. Note that this hologram lens 1 is not used in FIG.

無収差の結像レンズを用いた場合のビーム径を示す。こ
れより、大幅な収差補正がなされていることがわかる。
The beam diameter is shown when using an aberration-free imaging lens. It can be seen from this that significant aberration correction has been made.

なお、第6図には、第4図(blのビーム径を得るため
にφ、N (x、y)=φ(x、y)−φ+(x、y)
式を用いて計算した理想的な収差補正を示すが、これよ
り本方法は、はぼ理想に近い収差補正と考えられる。
In addition, in Fig. 6, in order to obtain the beam diameter of Fig. 4 (bl), φ, N (x, y) = φ (x, y) - φ + (x, y)
The ideal aberration correction calculated using the formula is shown below, and from this it can be considered that the present method is a near-ideal aberration correction.

以上により、走査用ホログラムレンズの収差補正波面の
作成法が得られた。しかし、収差補正用ホログラムレン
ズに入射する光は、半導体レーザの平行光(λ2)であ
り、半導体レーザの発散光を平行光にする光学系が必要
である。
As described above, a method for creating an aberration-correcting wavefront for a scanning hologram lens was obtained. However, the light incident on the aberration correction hologram lens is parallel light (λ2) from the semiconductor laser, and an optical system is required to convert the diverging light from the semiconductor laser into parallel light.

そこで次に、更に半導体レーザの発散光をとりこむ方法
について述べる。
Next, a method for capturing the diverging light of the semiconductor laser will be described.

このためには、半導体レーザの発散光を、平行光にする
方法を得ればよい。これについては、既に本出願人らが
特許を出願している(qrAo6o%3+1go*In
)第7図(alに示す様に1発振波長787 nmの半
導体レーザからガラスキャップ(ここでは一般的な値と
して、厚み9.3mm、屈折率1.5とした)を通り。
For this purpose, it is sufficient to find a method to convert the diverging light of the semiconductor laser into parallel light. Regarding this, the present applicants have already applied for a patent (qrAo6o%3+1go*In
) As shown in FIG. 7 (al), a semiconductor laser with an oscillation wavelength of 787 nm passes through a glass cap (here, the thickness is 9.3 mm and the refractive index is 1.5 as general values).

収差を受けた発散波を平行光にするホログラムレンズの
作成方法について示す。これを再生波長より低い波長λ
lで作成するには、いわゆる正の球面収差波が必要であ
る。しかし、ホログラムと。
A method for creating a hologram lens that converts aberrated diverging waves into parallel lights will be described. This is the wavelength λ lower than the reproduction wavelength.
To create a waveform with 1, a so-called positive spherical aberration wave is required. But with holograms.

収差発生光学系の間隔が通常、狭(なるため、多重干渉
によるノイズがあり一方の作成波も容易に入射できなか
った。そこで、前記特許出願では。
Since the spacing between the aberration generating optical systems is usually narrow, there is noise due to multiple interference and it is difficult for one of the created waves to enter easily.Therefore, in the above-mentioned patent application.

負の球面収差波を一旦交差させて正の球面収差として記
録する方法をとった。
A method was adopted in which the negative spherical aberration waves were once crossed and recorded as positive spherical aberration.

第7図(blにおいても、ホログラム作成波長をArレ
ーザ(488nm)とする。この収束球面波10が凸レ
ンズ8に入射すると、そこからの出射波は、負の収束球
面収差波となる。そこで該球面収差波を交差部分θで一
旦交差させると、逆に正の発散球面収差波11とするこ
とができる。この正の発散球面収差波をホログラムレン
ズ1の作成のための作成波とする。また、もう一方の作
成波はここでは仮に垂直平行波としておく。
In FIG. 7 (bl as well, the hologram creation wavelength is assumed to be Ar laser (488 nm). When this convergent spherical wave 10 enters the convex lens 8, the output wave therefrom becomes a negative convergent spherical aberration wave. Once the spherical aberration waves intersect at the intersection θ, they can be turned into a positive diverging spherical aberration wave 11. This positive diverging spherical aberration wave is used as a created wave for creating the hologram lens 1. , the other created wave is assumed to be a vertical parallel wave here.

この収差波により作成したホログラムレンズを第7図+
a)の様にして平行光になる様に収差波の要因となるパ
ラメータを最適化する。この時、第7図(a)において
、逆に平行光をホログラムレンズに入射してその収束光
が、半導体レーザのガラス窓を通った後2回折限界まで
絞れていれば、その収束点に半導体レーザの出射口を置
けば、平行光が得られることがわかる。そこで第7図(
a)において。
Figure 7+ shows the hologram lens created by this aberration wave.
As shown in a), the parameters that cause the aberration wave are optimized so that the beam becomes parallel. At this time, in Fig. 7(a), if parallel light is incident on the hologram lens and the convergent light is narrowed down to the 2-diffraction limit after passing through the glass window of the semiconductor laser, then the convergence point will be the semiconductor laser. It can be seen that parallel light can be obtained by positioning the laser exit. Therefore, Figure 7 (
In a).

回折限界まで絞れる様に、すなわち、波面収差が最も小
さくなる様に、収差光学系のパラメータを。
The parameters of the aberrational optical system should be adjusted so that the aperture can be narrowed down to the diffraction limit, that is, so that the wavefront aberration is minimized.

減衰最小自乗法を用いて最適化した。この結果。It was optimized using the damped least squares method. As a result.

凸レンズ8の各パラメータとして、レンズ厚みd=7.
62mm、曲率R+ = 26.289m 、レンズ屈
折率1.73903 (488nm) 、入射焦点比1
11t f + = 31m。
As each parameter of the convex lens 8, lens thickness d=7.
62mm, curvature R+ = 26.289m, lens refractive index 1.73903 (488nm), entrance focal ratio 1
11t f + = 31m.

凸レンズ8と、ホログラム感光面との距離1l=32.
4mと設定し、最適な正の発散球面収差波11を得た。
The distance 1l between the convex lens 8 and the hologram photosensitive surface is 32.
By setting the distance to 4 m, an optimal positive diverging spherical aberration wave 11 was obtained.

この結果、このホログラムレンズに、第7図(a)の光
路と逆、つまり垂直平行光の半導体レーザ(λ2778
7 nm)を入射し、ガラス窓を通った後の波面収差は
、 NAo、33で、最大で0.1λ以下となり、 R
ayleighの1/4波長則を下回っているため3回
折限界に近いホログラムレンズと言える。また、焦点距
離は10.75011となる。そこでこのパラメータで
作成したホログラムレンズを第7図(a)において、f
え = 10.750mとすれば平行光となる。
As a result, this hologram lens has a semiconductor laser (λ2778
7 nm), the wavefront aberration after passing through the glass window is NAo 33, the maximum is less than 0.1λ, and R
Since it is below Ayleigh's 1/4 wavelength rule, it can be said to be a hologram lens close to the 3rd diffraction limit. Further, the focal length is 10.75011. Therefore, the hologram lens created with these parameters is f
If E=10.750m, it becomes parallel light.

そこで、第3図(blにおいて参照波である垂直平行光
を、第7図(b)の収差波に換えてホログラムを作成し
、再生を行うと、半導体レーザからの発散光はまず仮想
的に平行光に変換されこの仮想的な平行光により、物体
波である。前記走査用ホログラムレンズの収差を補正す
る収差波が発生できることがわかる。つまり、半導体レ
ーザからの発散光をとりこみ走査用ホログラムレンズの
収差補正波を発生するホログラムレンズの作成法は、第
3図(C)の様になる。パラメータは前述した通りであ
る。こうして作成したホログラムレンズを第2図の様に
設定する。そして半導体レーザ出射口と収差補正用ホロ
グラムレンズの間隔flを10.750mと設定すれば
よい。こうして1本実施例によれば。
Therefore, when a hologram is created and reproduced by replacing the vertical parallel light that is the reference wave in Fig. 3 (bl) with the aberration wave in Fig. 7 (b), the diverging light from the semiconductor laser first becomes virtual. This virtual parallel light is converted into parallel light and is an object wave.It can be seen that an aberration wave that corrects the aberration of the scanning hologram lens can be generated.In other words, the diverging light from the semiconductor laser is taken in and the scanning hologram lens The method for creating a hologram lens that generates an aberration correction wave is as shown in Figure 3 (C).The parameters are as described above.The hologram lens created in this way is set as shown in Figure 2.Then, the semiconductor The distance fl between the laser exit aperture and the aberration correction hologram lens may be set to 10.750 m.According to this embodiment.

半導体レーザと収差補正用ホログラムレンズ、走査用ホ
ログラムレンズのみを用い、殆ど無収差の高精度直線走
査が可能となる。なお、第4図(b)のビーJ、4″L
を得るためには、この収差補正用ホログラムレンズのN
Aは0.3であれば良いため、この例では、このN A
 = 0.33の収差補正で充分である。
Using only a semiconductor laser, an aberration correction hologram lens, and a scanning hologram lens, highly accurate linear scanning with almost no aberrations is possible. In addition, B J, 4″L in Fig. 4(b)
In order to obtain N of this aberration correction hologram lens,
Since A only needs to be 0.3, in this example, this N A
= 0.33 aberration correction is sufficient.

又、この時モードホッピングについては、第2図の設定
を行ったため、 0.3 nmのモードホッピングに対
して、副走査方向は、7μm (走査中央)。
Also, regarding mode hopping at this time, since the settings shown in Figure 2 were made, the sub-scanning direction was 7 μm (scanning center) for mode hopping of 0.3 nm.

8μm (走査端)、又、走査方向は、最大45μm(
走査端)と大幅に低減できることがわかった。
8μm (scanning edge), and scanning direction maximum 45μm (
It was found that it was possible to significantly reduce the scanning edge).

又、ビーム整形比は、この場合(cos (64,28
°)/cos(0°) ) =0.43倍となった。さ
らに、設計波長787 nmに対し、±10nmのずれ
のあるレーザでも本方式によれば、走査特性(直線性な
ど)は良好であることがわかった。なお、この収差補正
用ホログラムは、必要な伝達関数がわかったため。
Also, the beam shaping ratio in this case is (cos (64, 28
°)/cos(0°)) = 0.43 times. Furthermore, it was found that even with a laser having a deviation of ±10 nm from the design wavelength of 787 nm, the scanning characteristics (linearity, etc.) are good according to this method. Note that this aberration correction hologram was created because the necessary transfer function was known.

これを直接、電子ビームで描いたり、CGHで作成する
のも可能となるのは言うまでもない。又。
Needless to say, it is also possible to directly draw this with an electron beam or create it with CGH. or.

ここでは第1図においての半導体レーザの入射角θαを
Ooとしたが、これに限らないことはいうまでもない。
Here, the incident angle θα of the semiconductor laser in FIG. 1 is set to Oo, but it goes without saying that the angle of incidence is not limited to this.

又、収差補正用の補助光学系については1球面光学素子
について限ったわけではなく。
Further, the auxiliary optical system for aberration correction is not limited to a single spherical optical element.

非球面光学素子でも可能であることも勿論である。Of course, it is also possible to use an aspherical optical element.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、半導体レーザ、収差補正用ホログラム
レンズ、及び走査用ホログラムレンズのみの構成により
、非点及びコマ収差とモードホッピングによる問題点を
同時に解決し、安価かつ高精度な光ビーム走査装置と、
その具体的な製造方法を提供することが可能となる。
According to the present invention, problems caused by astigmatism and coma aberration and mode hopping can be simultaneously solved by a configuration consisting of only a semiconductor laser, an aberration correction hologram lens, and a scanning hologram lens, and an inexpensive and highly accurate light beam scanning device is provided. and,
It becomes possible to provide a specific manufacturing method thereof.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(alは、光ビーム走査装置の構成側面図。 第1図(b)は、入射波の位相と回折波の位相との関係
を説明するためのホログラムスキャナの構成図。 第2図は、光ビーム走査装置の具体的な設計を示した側
面図。 第3図(a)、 (b)、 (C)は、それぞれ収差補
正用ホログラムレンズの作成方法を示した説明図。 第4図(a)は、第1図の光ビーム走査装置による走査
回折波の収差像を示した図。 第4図(b)は、被走査面上でのビーム径を示した図。 第5図は、無収差収束レンズを用いた場合の走査回折波
の収差像を示した図。 第6図は、第4図(b)のビーム径を得るための走査回
折波の理想的な収差像を示した図。 第7図(a)は、半導体レーザからの発散波を平行光に
するホログラムレンズの作成法を示す図。 第7図(blは、ホログラムレンズの作成法を示す図。 第8図(−は、側面図。 第9図(a)は、非点収差の問題を解決するための一従
来例の構成斜視図。 第9図(b)は、第9図(a)における非点収差補正用
ホログラムレンズの製造方法を示した説明図。 第11図は、モードホッピングの問題を解決するための
具体的な一従来例の構成側面図。 第12図(a)は、モードホッピングの問題を解決する
ための具体的な他の従来例の基本となる構成側面図。 第12図(b)は、モードホッピングの問題を解決する
ための具体的な他の従来例の構成側面図である。 1 ・・・ 収差補正用ホログラムレンズ。 2 ・・・ 半導体レーザ。 3 ・・・ ホログラムスキャナ。 4 ・・・ 発散球面波。 5.6 ・・・ 回折波。 7 ・・・ 結像点。 8 ・・・ 凸レンズ。 9 ・・・ 凹レンズ。 10.12 ・・・ 収束球面波。 11 ・・・ 正の発散球面収差波。 13 ・・・ 外向きのコマ収差波。 DH・・・ ビーム径。 α ・・・ 傾は角。 力−ピ′−ム漣査条ξ1Lの構方叉イ月弓面図第1図(
α) 回宕日支の(0) 第1図 (b) 尤ヒ・−ム走麦技置η具イ本β9な設計第2図 第3図 (G) 第3図 (b) 収差補正用水ロブ′ラムレレズめイ乍仄方上第3図(O
) 被走査面上で・め乙゛−ムイ盃 第4図(b) (Q) A上記中央 X!○mm −3゜ 糸占イ象しンス゛S、用vf二扇%A箇i紀田トh第5
図 (A4の岸〃ト) 8°       IQ’        12゜)き
εの刈5こξLイ、椰ミ、 X−0mm 囁スク   。’           2”    
          4°             
6゜回−角 、走査回折5I!、の理想、杓r、−J又粂イ象第6図 走査端 X層108mm 8°      10’      12゜入射う支 】1 第7図 (b) (c)#l−を図 (b)項11面図 ホロフパラムレシス′S用(・1;メむkの九ヒーム裟
lの原理第8図 (0) #+、を図 (b)   A−4面 図 非、!ンム乙4Lの聞易lと解ソζ′1′うfchσ)
−44し神もイクリ第9図 (O)#+ ネ先図 (b)  イ貝り @ 図 モードソi%、11ヒ:°レフ′めFAI!JΣ解次T
ろ1ニハめ賛す梃伊」の原理第10図 モード′ホッげンク゛め間月88.#−,&iろf二め
の−ネdし姻aイク弓  (イ呉弓 面 )5り )(
0)基本構成(4ルj面図) →り (b)堝−爪(側面図) モードホラとンデめ問題を解、汲(ろにぬN亡nJ来硬
゛J第12図
Figure 1 (al is a side view of the configuration of the optical beam scanning device. Figure 1 (b) is a configuration diagram of the hologram scanner for explaining the relationship between the phase of the incident wave and the phase of the diffracted wave. FIG. 3 is a side view showing a specific design of the light beam scanning device. FIGS. Figure (a) is a diagram showing an aberration image of the scanning diffraction wave by the light beam scanning device of Figure 1. Figure 4 (b) is a diagram showing the beam diameter on the scanned surface. Figure 6 shows an ideal aberration image of the scanning diffracted wave to obtain the beam diameter of Figure 4(b) when an aberration-free converging lens is used. Figure 7 (a) is a diagram showing a method for creating a hologram lens that converts diverging waves from a semiconductor laser into parallel light. Figure 7 (bl is a diagram showing a method for creating a hologram lens). Figures (- are side views. Figure 9 (a) is a perspective view of the configuration of a conventional example for solving the problem of astigmatism. Figure 9 (b) is a side view of Figure 9 (a). An explanatory diagram showing a method of manufacturing a hologram lens for point aberration correction. Fig. 11 is a side view of the configuration of a specific conventional example for solving the mode hopping problem. Fig. 12 (a) is a mode hopping A side view of the basic configuration of another specific conventional example for solving the problem. FIG. 12(b) is a side view of the configuration of another specific conventional example for solving the mode hopping problem. 1... Hologram lens for aberration correction. 2... Semiconductor laser. 3... Hologram scanner. 4... Diverging spherical wave. 5.6... Diffraction wave. 7... Imaging Point. 8... Convex lens. 9... Concave lens. 10.12... Convergent spherical wave. 11... Positive diverging spherical aberration wave. 13... Outward comatic aberration wave. DH... Beam diameter. α ... Inclination is angle. Force - beam angle ξ 1L configuration fork lunar bow plane view Figure 1 (
α) Reproduction (0) Fig. 1 (b) Design β9 Design Fig. 2 Fig. 3 (G) Fig. 3 (b) Water for aberration correction Rob 'Ram Les Lesbian from above Figure 3 (O
) On the surface to be scanned, the target is shown in Figure 4 (b) (Q) A above center X! ○mm -3゜ Thread reading image S, for vf 2 fans % A kita toh 5th
Diagram (A4 shore) 8° IQ' 12°) ε's cutting 5 pieces ξ L's, palm, X-0mm whispering. '2''

6°-angle, scanning diffraction 5I! , the ideal of , r, -J and kumei image Fig. 6 Scanning end 11th view for holophparamresis'S (・1; Memu k's nine-heem principle Figure 8 (0) #+, figure (b) Easy l and solution ζ′1′ufchσ)
-44 Shikami also Ikuri Figure 9 (O) #+ Neko figure (b) Ikairi @ figure mode soi%, 11hi: °ref'me FAI! JΣ solution next T
10th principle of "force that praises the first day" mode 88. #-, &ilof second -ne dshi marriage aiku bow (iikuyumi side) 5ri)(
0) Basic configuration (4-rule J side view) → Ri (b) 堝-Tsume (side view) Solving the mode hora and undime problems, drawing (Roninu N death n J coming hard ゛J Fig. 12)

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)レーザから出射した再生波を位置的に空間周波数
分布が異なる走査用ホログラムレンズに入射しその回折
波によって被走査面を走査する光ビーム走査装置におい
て、前記レーザは半導体レーザであり、前記再生波の波
面を変換して前記回折波の収差を前記被走査面上におい
て減少させる収差補正用ホログラムレンズを有すること
を特徴とする光ビーム走査装置。
(1) In a light beam scanning device in which a reproduced wave emitted from a laser is incident on a scanning hologram lens having a positionally different spatial frequency distribution and the scanned surface is scanned by the diffracted wave, the laser is a semiconductor laser, and the laser is a semiconductor laser; A light beam scanning device comprising an aberration correction hologram lens that converts a wavefront of a reproduced wave to reduce aberrations of the diffracted wave on the scanned surface.
(2)前記収差補正用ホログラムレンズは前記半導体レ
ーザと前記走査用ホログラムレンズの間の前記再生波の
光路上に配置され、該収差補正用ホログラムレンズ上で
の前記回折角は前記走査用ホログラムレンズからの前記
回折波による前記被走査面上での走査点の変化が前記半
導体レーザにおける縦モードの波長のモードホッピング
に対して減少する角度に設定されることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の光ビーム装置装置。
(2) The aberration correction hologram lens is disposed on the optical path of the reproduced wave between the semiconductor laser and the scanning hologram lens, and the diffraction angle on the aberration correction hologram lens is determined by the scanning hologram lens. Claim 1, characterized in that the change in the scanning point on the scanned surface due to the diffracted wave from The light beam device device described in .
(3)光ビーム走査装置の製造方法において、レーザ光
である再生波の波長λ_2よりも短い波長λ_1のレー
ザ光を用い球面収差波を参照波とし、コマ収差波を物体
波として収差補正用ホログラムレンズを作成することを
特徴とする光ビーム走査装置の製造方法。
(3) In a method for manufacturing an optical beam scanning device, a laser beam having a wavelength λ_1 shorter than the wavelength λ_2 of a reproduced wave, which is a laser beam, is used, a spherical aberration wave is used as a reference wave, and a coma aberration wave is used as an object wave to produce an aberration correction hologram. A method for manufacturing a light beam scanning device, comprising the step of creating a lens.
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