JPS62270593A - Diphosphonic acid compound - Google Patents

Diphosphonic acid compound

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Publication number
JPS62270593A
JPS62270593A JP10294887A JP10294887A JPS62270593A JP S62270593 A JPS62270593 A JP S62270593A JP 10294887 A JP10294887 A JP 10294887A JP 10294887 A JP10294887 A JP 10294887A JP S62270593 A JPS62270593 A JP S62270593A
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JP
Japan
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group
formula
salt
formulas
compound
Prior art date
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Pending
Application number
JP10294887A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Teruo Oku
照夫 奥
Eishiro Todo
藤堂 栄司郎
Chiyoshi Kasahara
千義 笠原
Katsuya Nakamura
克哉 中村
Hiroshi Kayakiri
浩 茅切
Shinji Hashimoto
眞志 橋本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

NEW MATERIAL:A compound shown by formula I {R<1>-A- is group shown by formula II-IV [R<1> is (substituted) aryl, heterocyclic or (substituted) lower alkyl; X is O or S]; R<2> is H or lower alkyl; R<1>-A- is group shown by formula II or IV when R<1> is unsubstituted lower alkyl} and a salt thereof. EXAMPLE:Tris(tertiary butylamine salt) of [N-(phenyl) thiocarbamoylmethylene]bis(phosphonic acid). USE:A remedy for bone disease such as osteroporosis Paget, osteolysis, malignant hypercalcemia, rheumatoid rheumatism, etc. PREPARATION:A compound (salt) shown by formula V is reacted with a compound shown by formula R<1>-NCN or an equivalent or a salt thereof.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、骨吸収阻害活性を有する新規なジホスホン
酸化合物に関するものであり医療の分野で利用される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a novel diphosphonic acid compound having bone resorption inhibitory activity, and is used in the medical field.

[従来の技術] 後述する目的化合物のアルキルエステル誘導体のある種
のものが殺虫効果を有することがアメリカ特許第390
6062号に記載きれており、またアシルアミノアルキ
リデンジホスホン酸化合物のある種のものが、歯みがき
粉中の研磨剤として有用であることが西ドイツ特許公開
公報第2741513号に記載きれているが、いずれに
記載の化合物も骨吸収阻害活性を有することはまったく
知られていない。
[Prior Art] U.S. Pat. No. 390 discloses that certain alkyl ester derivatives of target compounds described below have insecticidal effects.
6062, and West German Patent Publication No. 2741513 describes that certain acylaminoalkylidene diphosphonic acid compounds are useful as abrasives in toothpaste. It is not known at all that the compound described in 1. also has bone resorption inhibitory activity.

また抗炎症作用および抗リウマチ作用を有するある種の
ジホスホン酸化合物として、特開昭5142395号公
報に記載の化合物が知られている。
Furthermore, as a certain type of diphosphonic acid compound having anti-inflammatory and anti-rheumatic effects, a compound described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5142395 is known.

また骨疾患の治療に有用なある種のジホスホン酸化合物
として、特開昭61−43197号公報に記載のものが
知られている。
Furthermore, as a certain type of diphosphonic acid compound useful for the treatment of bone diseases, those described in JP-A-61-43197 are known.

=11− [問題点を解決するための手段] この発明の目的化合物である、ジホスホン酸化合物は新
規であり、次の一般式[I]で示される。
=11- [Means for Solving the Problems] The diphosphonic acid compound, which is the object compound of the present invention, is novel and is represented by the following general formula [I].

[式中、R”A−は式 (式中 R1は低級アルキノ呟低級アルコキシ、低級ア
ルキルチオ、ハロ(低級)アルキル、アシル、アシルア
ミノおよびハロゲンからなる群より選択された置換基で
置換されていてもよいアリール基もしくは複素環基、ま
たはアシルを有していてもよい複素環基で置換されてい
てもよい低級アルキル基、 XはOまたはSをそれぞれ意味する)で示される基、 R2は水素または低級アルキル基をそれぞれ意味し、 R1が非置換の低級アルキル基の場合は、R1−A−は
式 (式中、R1およびXはそれぞれ前と同じ意味)で示さ
れる基であるコ 目的化合物[T]またはその塩は下記反応式で示される
ような製造法によって製造することができる。
[wherein, R''A- is represented by the formula a lower alkyl group optionally substituted with a good aryl group or heterocyclic group, or a heterocyclic group optionally having acyl, a group represented by (X means O or S, respectively), R2 is hydrogen or When R1 is an unsubstituted lower alkyl group, R1-A- is a group represented by the formula (wherein R1 and X each have the same meanings as before). T] or a salt thereof can be produced by a production method as shown in the reaction formula below.

製造法1 H 聚遣迭ヱ C=0 製造法3 製造法4 =15= [式中、R3、R4、R5およびR6はそれぞれ保護さ
れたヒドロキシ基を意味し、R1、R2、AおよびXは
それぞれ前と同じ意味である]この明細書の以上および
以下の記載において、この発明の範囲内に包含される種
々の定義の好適な例を以下詳細に説明する。
Production method 1 H 聚迭迭ヱC=0 Production method 3 Production method 4 =15= [In the formula, R3, R4, R5 and R6 each mean a protected hydroxy group, and R1, R2, A and X are each having the same meaning as before] In the foregoing and following description of this specification, preferred examples of the various definitions falling within the scope of this invention are explained in detail below.

「低級」とは、特に指示がなければ、炭素原子1〜6個
を有する基を意味するものとする。
"Lower", unless otherwise specified, shall mean groups having 1 to 6 carbon atoms.

好適な「アリール基」としては、フェニル、ナフチル、
トリル、メシチル、クメニル等であり、好ましくはフェ
ニノ呟ナフチル、および例えばメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピL、ブチル、イソブチル、ペンチル、ヘ
キシル等の低級アルキル基で置換されたフェニルが挙げ
られる。
Suitable "aryl groups" include phenyl, naphthyl,
Examples include tolyl, mesityl, cumenyl, etc., preferably phenylnaphthyl, and phenyl substituted with a lower alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, pentyl, hexyl, etc.

好適な「複素環基ヨとしては、窒素原子、酸素原子また
は硫黄原子のようなペテロ原子少なくとも1個を含む飽
和または不飽和複紫車環基または複素多環基が挙げられ
る。
Suitable heterocyclic groups include saturated or unsaturated bicyclic groups or heteropolycyclic groups containing at least one petro atom such as a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.

このような意味における「複素環基」の好ましい例とし
ては、例えばピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピ
リジル、ピリジルN−オキシト、ジヒドロピリジル、テ
トラヒドロピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダ
ジニル、トリアジニル、トリアゾリル、テトラゾリル、
テトラゾリル等の窒素原子1〜4個を含む不飽和3〜8
員、さらに好ましくは5〜6員複素車環基; 例えばインドリル、イソインドリル、イントリジニル、
ベンゾイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、インダ
ゾリル、ベンゾトリアゾリル等の窒素原子1〜5個を含
む不飽和縮合複素環基;イ列えばオキサゾリル、イソオ
キサシリル、オキサジアソリル等の酸素原子1〜2個お
よび窒素原子1〜3個を含む不飽和3〜8員複素単環基
;例えばモルホリノ、シトノニル等の酸素原子1〜2個
および窒素原子1〜3個を含む飽和3〜8員複素単環基
; イ列えばベンズオキサシリル、ベンズオキサジアゾリル
等の酸素原子1〜2個および窒素原子1〜3個を含む不
飽和縮合複素環基: 例えばチアゾリル、インチアゾリル、チアジアゾリル等
の硫黄原子1〜2個および窒素原子1〜3個を含む不飽
和3〜8員複素単環基;例λ−ばチェニル等の硫黄原子
1〜2個を含む不飽和3〜8員複素単環基; 例えばヘンジチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル等の硫
黄原子1〜2個および窒素原子1〜3個を含む不飽和縮
合複素環基; 例えばフリル等の酸素原子1個を含む不飽和3〜8員複
素単環基: 例えばベンゾチェニル等の硫黄原子1〜2個を含む不飽
和縮合複素環基; 例えばベンゾフリル等の酸素原子1〜2個を含む不飽和
縮合複素環基等が挙げられる。
Preferred examples of "heterocyclic group" in this sense include pyrrolyl, imidazolyl, pyrazolyl, pyridyl, pyridyl N-oxyto, dihydropyridyl, tetrahydropyridyl, pyrimidyl, pyrazinyl, pyridazinyl, triazinyl, triazolyl, tetrazolyl,
Unsaturated 3-8 containing 1-4 nitrogen atoms such as tetrazolyl
member, more preferably a 5- to 6-membered heterocyclic group; for example, indolyl, isoindolyl, intridinyl,
Unsaturated fused heterocyclic groups containing 1 to 5 nitrogen atoms such as benzimidazolyl, quinolyl, isoquinolyl, indazolyl, benzotriazolyl; 1 to 2 oxygen atoms and nitrogen atoms such as oxazolyl, isoxasilyl, oxadiazolyl, etc. an unsaturated 3- to 8-membered heteromonocyclic group containing 1 to 3 atoms; a saturated 3- to 8-membered heteromonocyclic group containing 1 to 2 oxygen atoms and 1 to 3 nitrogen atoms, such as morpholino and cytononyl; Unsaturated fused heterocyclic groups containing 1 to 2 oxygen atoms and 1 to 3 nitrogen atoms, such as benzoxasilyl, benzoxadiazolyl, etc.: 1 to 2 sulfur atoms and nitrogen atoms, such as thiazolyl, inthiazolyl, thiadiazolyl, etc. An unsaturated 3- to 8-membered heteromonocyclic group containing 1 to 3 sulfur atoms; for example, an unsaturated 3- to 8-membered heteromonocyclic group containing 1 to 2 sulfur atoms such as λ-chenyl; for example, hendithiazolyl, benzothiadiazolyl Unsaturated fused heterocyclic groups containing 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms, such as; Unsaturated 3- to 8-membered heteromonocyclic groups containing 1 oxygen atom, such as furyl: Sulfur, such as benzochenyl Unsaturated fused heterocyclic group containing 1 to 2 atoms; Examples include unsaturated fused heterocyclic groups containing 1 to 2 oxygen atoms such as benzofuryl.

上記「アリール基」および「複素環基」は、前述の低級
アルキル基;低級アルコキシ基[例えばメトキシ、工l
・キシ、プロポキシ、イソプロポキシ、プ)・キシ、ペ
ンチルオキシ、ヘキシルオキジ等];低級アルキルチオ
基[例えばメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イ
ソプロピルチオ、ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシル
チオ等]:ハロ(低級)アルキル基、好ましくはモノ、
ジまたはトリハロ(低級)アルキル基[例えばクロロメ
チル、ブロモメチル、フルオロメチル、ジクロロメチル
、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、2−クロロ
エチル、2−ブロモエチル、3−クロロプロピル等]霊
低級アルカノイル基[例えばホルミル、アセチル、プロ
ピオニル、ヘキサノイル、ピバロイル等]、低級アルコ
キシカルボニル基[例えばメトキシカルボニル、エトキ
シカルボニル、第三級ブトキシカルボニル、第三級ペン
チルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等]
、アル(低級)アルコキシカルボニル基[例えばベンジ
ルオキシカルボニル等]、低級アルキルスルホニル基[
例えばメシル、エチルスルボニル等]、アリールスルホ
ニル基[例えばフェニルスルホニル、トシル等コ、等の
ようなアシル基;低級アルカノイルアミノ基[例えばホ
ルミルアミノ、アセチルアミノ、プロピルアミノ等コ、
低級アルキルスルボニルアミノ基[例えばメシルアミノ
、エチルスルホニルアミノ、プロピルスルホニルアミノ
等]、等のようなアシルアミノ基;およびハロゲン[例
えばフルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード等]よりなる群
から選択された置換基1個以上、好ましくは1〜3個、
さらに好ましくは1個または2個で置換されていてもよ
い。
The above-mentioned "aryl group" and "heterocyclic group" include the aforementioned lower alkyl group; lower alkoxy group [e.g. methoxy,
・oxy, propoxy, isopropoxy, propoxy, pentyloxy, hexyloxy, etc.]; lower alkylthio group [e.g., methylthio, ethylthio, propylthio, isopropylthio, butylthio, pentylthio, hexylthio, etc.]: halo(lower) alkyl group, preferably is a thing,
Di- or trihalo(lower) alkyl group [e.g. chloromethyl, bromomethyl, fluoromethyl, dichloromethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, 2-chloroethyl, 2-bromoethyl, 3-chloropropyl, etc.], lower alkanoyl group [e.g. formyl, acetyl, propionyl, hexanoyl, pivaloyl, etc.], lower alkoxycarbonyl groups [e.g., methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, tertiary butoxycarbonyl, tertiary pentyloxycarbonyl, hexyloxycarbonyl, etc.]
, Al(lower)alkoxycarbonyl group [e.g. benzyloxycarbonyl etc.], Lower alkylsulfonyl group [
For example, mesyl, ethylsulfonyl, etc.], arylsulfonyl groups [for example, phenylsulfonyl, tosyl, etc., etc., acyl groups; lower alkanoylamino groups [for example, formylamino, acetylamino, propylamino, etc.,
Substituents 1 selected from the group consisting of acylamino groups such as lower alkylsulfonylamino groups [e.g. mesylamino, ethylsulfonylamino, propylsulfonylamino, etc.]; and halogens [e.g. fluoro, chloro, bromo, iodo, etc.] or more, preferably 1 to 3,
More preferably, one or two may be substituted.

このような「低級アルキノ呟低級アルコキシ、低級アル
キルチオ、ハロ(低級)アルキル、アシル、アシルアミ
ノおよびハロゲンよりなる群から選択された置換基で置
換されていてもよいアリール基もしくは複素環基」の好
ましい例としては、フェニル基、ナフチル基、例えハト
リル、エチルフェニル、プロピルフェニル、クメニル、
ブチルフェニル、キシリル、メシチル等のモノまたはジ
またはトリ(低級)アルキルフェニル基、例えばメトキ
シフェニル、エトキシフェニル、プロポキシフェニル、
インプロポキシフェニル、ブトキシフェニル、ネオペン
チルオキシフェニル、ジメトキシフェニル等のモノまた
はジまたはl・す(低級)アルコキシフェニル基、例え
ばメチルチオフェニル、エチルチオフェニル、プロピル
チオフェニル、イソプロピルチオフェニル、ブチルチオ
フェニル、ジメチルチオフェニル停のモノまたはジまた
はトリ(低級)アルキルチオフェニル基、例えばフルオ
ロフェニル、クロロフェニル、ブロモフェニル、ヨード
フェニル、ジクロロフェニル、(フルオロ)クロロフェ
ニル、ショートフェニル、ジフルオロフェニル、トリフ
ルオロフェニル、トリクロロフェニル等のモノまたハシ
またはトリハロフェニル基、例えばクロロメチルフェニ
ル、ジクロロメチルフェニル、トリフルオロメチルフェ
ニル、ジ(トリフルオロメチル)フェニル等のモノまた
はジまたはトリ[ハロ(低級)アルキルフェニル基、例
えばホルミルアミノフェニル、アセチルアミノフェニル
、プロビ才ニルアミノフェニル、シ(アセチルアミノ)
フェニル等のモノまたはジまたはトリ(低級)アルカノ
イルアミノフェニル基、例えばメシルアミノフェニル、
エチルスルボニルアミノフェニル、プロピルスルホニル
アミノフェニル、ジ(メシルアミノ)フェニル等のモノ
またはジまたはトリ(低級)アルキルスルホニルアミノ
フェニル基等のモノまたはジまたはトリアジルアミノフ
ェニル基、イ列えハ(クロロ)トリフルオロメチルフェ
ニル、(フルオロ)トリフルオロメチルフェニル、ジ(
クロロ)クロロメチルフェニル等のハロゲンおよびハロ
(低級)アルキル置換フェニル基、例えハ(メトキシ)
トリフルオロメチルフェニル、(エトキシ)トリフルオ
ロメチルフェニル、ジ(メトキシ)クロロメチルフェニ
ル等の低級アルコキシおよびハロ(低級)アルキル置換
フェニル基、ピリジル基、例えばメチルビリジル、エチ
ルピリジル、プロピルピリジル、ジメチルピリジル等の
モノまたはジまたはトリ(低級)アルキルピリジル基、
イミダゾリル基、例えば第三級ブトキシカルボニルイミ
ダゾリル等の低級アルコキシカルボニル置換イミダゾリ
ル基のようなアシル基で置換されたイミダゾリル基等、
チェニル基、キノリル基、ベンゾ[b]チェニル基、ベ
ンゾチアゾリル基、例えばクロロベンゾチアゾリル、フ
ルオロベンツチアゾリル停のモノまたはジまたはトリハ
ロベンゾチアゾリル基等が挙げられ、それらの中でさら
に好ましいものとしては、フェニル基、ナフチル基、モ
ノ(01〜C4)アルキルフェニル基、モノ(01〜C
4)アルコキシフェニル基、モノ(C1〜C4)アルキ
ルチオフェニル基、モノまたはジハロフェニル基、モノ
[ハロ(01〜C)アルキルピリジル基、モノ(01〜
C4)アルカノイルアミノフェニル基、モノ(01〜C
4)アルキルスルホニルアミノフェニル基、ハロゲンお
よびハロ(01〜C4)アルキル置換フェニル基、C−
Cアルコキシおよびハロ(C1〜C4)アルキル置換フ
ェニル基、ピリジル基、モノ(01〜C4)アルキルピ
リジル基、イミダゾリル基、(C1〜C4)アルコキシ
カルボニルイミダゾリル基、チェニル基、キノリル基、
ベンゾ[b]チェニル基、ベンゾチアゾリル基およびモ
ノハロベンゾチアゾリル基が挙げられ、最も好ましいも
のはフェニル基、トリル基、ナフチル基、メトキシフェ
ニル基、メチルチオフェニル基、クロロフェニル基、フ
ルオロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリフルオロ
メチルフェニル基、アセチルアミノフェニル基、メシル
アミノフェニル基、(クロロ)トリフルオロメチルフェ
ニル基、(メトキシ)トリフルオロメチルフェニル基、
ピリジル基、メチルピリジル基、イミダゾリル基、第三
級ブトキシカルボニルイミダゾリル基、チェニル基、キ
ノリル基、ベンゾ[b]チェニル基、ベンゾチアゾリル
基およびクロロベンゾチアゾリル基である。
Preferred examples of such "aryl groups or heterocyclic groups optionally substituted with a substituent selected from the group consisting of lower alkoxy, lower alkylthio, halo(lower) alkyl, acyl, acylamino, and halogen" Examples include phenyl group, naphthyl group, such as hatryl, ethylphenyl, propylphenyl, cumenyl,
Mono- or di- or tri(lower) alkylphenyl groups such as butylphenyl, xylyl, mesityl, e.g. methoxyphenyl, ethoxyphenyl, propoxyphenyl,
Mono- or di- or l-(lower) alkoxyphenyl groups such as impropoxyphenyl, butoxyphenyl, neopentyloxyphenyl, dimethoxyphenyl, such as methylthiophenyl, ethylthiophenyl, propylthiophenyl, isopropylthiophenyl, butylthiophenyl, Dimethylthiophenyl-terminated mono- or di- or tri(lower) alkylthiophenyl groups, such as fluorophenyl, chlorophenyl, bromophenyl, iodophenyl, dichlorophenyl, (fluoro)chlorophenyl, short phenyl, difluorophenyl, trifluorophenyl, trichlorophenyl, etc. mono- or halo- or trihalophenyl groups, such as chloromethylphenyl, dichloromethylphenyl, trifluoromethylphenyl, di(trifluoromethyl)phenyl, mono- or di- or tri[halo(lower) alkylphenyl groups, such as formylaminophenyl, Acetylaminophenyl, Provinylaminophenyl, Cy(acetylamino)
mono- or di- or tri(lower)alkanoylaminophenyl groups such as phenyl, e.g. mesylaminophenyl,
Mono-, di-, or triacylaminophenyl groups such as mono-, di-, or tri-(lower) alkylsulfonylaminophenyl groups such as ethylsulfonylaminophenyl, propylsulfonylaminophenyl, di(mesylamino) phenyl, etc.; Trifluoromethylphenyl, (fluoro)trifluoromethylphenyl, di(
Halogen- and halo(lower)alkyl-substituted phenyl groups such as (chloro)chloromethylphenyl, e.g. ha(methoxy)
Lower alkoxy and halo(lower) alkyl substituted phenyl groups such as trifluoromethylphenyl, (ethoxy)trifluoromethylphenyl, di(methoxy)chloromethylphenyl, pyridyl groups such as methylpyridyl, ethylpyridyl, propylpyridyl, dimethylpyridyl, etc. mono- or di- or tri(lower) alkylpyridyl group,
imidazolyl groups, such as imidazolyl groups substituted with acyl groups such as lower alkoxycarbonyl-substituted imidazolyl groups such as tertiary butoxycarbonylimidazolyl;
Examples include chenyl group, quinolyl group, benzo[b]chenyl group, benzothiazolyl group, such as chlorobenzothiazolyl, fluorobenzthiazolyl-stopped mono- or di- or trihalobenzothiazolyl group, among which further Preferred examples include phenyl group, naphthyl group, mono(01-C4) alkylphenyl group, and mono(01-C4) alkylphenyl group.
4) Alkoxyphenyl group, mono(C1-C4) alkylthiophenyl group, mono- or dihalophenyl group, mono[halo(01-C)alkylpyridyl group, mono(01-C4)
C4) Alkanoylaminophenyl group, mono(01-C
4) Alkylsulfonylaminophenyl group, halogen and halo(01-C4)alkyl-substituted phenyl group, C-
C alkoxy and halo(C1-C4) alkyl-substituted phenyl group, pyridyl group, mono(01-C4) alkylpyridyl group, imidazolyl group, (C1-C4) alkoxycarbonylimidazolyl group, chenyl group, quinolyl group,
Examples include benzo[b]chenyl group, benzothiazolyl group, and monohalobenzothiazolyl group, and the most preferred ones are phenyl group, tolyl group, naphthyl group, methoxyphenyl group, methylthiophenyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, and dichlorophenyl group. group, trifluoromethylphenyl group, acetylaminophenyl group, mesylaminophenyl group, (chloro)trifluoromethylphenyl group, (methoxy)trifluoromethylphenyl group,
They are a pyridyl group, a methylpyridyl group, an imidazolyl group, a tertiary butoxycarbonylimidazolyl group, a chenyl group, a quinolyl group, a benzo[b]chenyl group, a benzothiazolyl group, and a chlorobenzothiazolyl group.

好適な「低級アルキル基」としては、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第三級
プチノ呟ペンチルヘキシル等のような直鎖または分枝鎖
アルキル基が挙げられ、それらの中でさらに好ましいも
のとしては01〜=24− C4アルキル基が挙げられ、最も好ましいものはメチル
基およびブチル基である。
Suitable "lower alkyl groups" include methyl, ethyl,
Straight chain or branched chain alkyl groups such as propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tertiary pentylhexyl, etc. are mentioned, and among them, 01-=24-C4 alkyl groups are more preferred. The most preferred are methyl and butyl groups.

R1の好適な1低級アルキル基」は前記アシルで置換さ
れていてもよい上記複素環基で置換きれていてもよい。
The preferred lower alkyl group for R1 may be substituted with the above-mentioned heterocyclic group which may be substituted with the above-mentioned acyl.

好適な「保護されたヒドロキシ基」としては、例えばメ
トキシ、工]・キシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブ
トキシ、第二級ブトキシ、イソプi・キシ、第三級ブト
キシ、ペンチルオキシ、ネオペンチルオキジ、ヘキシル
オキシ等の低級アルコキシ基、任意に置換されたアル(
低級)アルコキシ基、その例として、例えばベンジルオ
キジ、4−ニトロベンジルオキジ、ベンズヒドリルオキ
シ、i・リチルオキシ等のニトロ基で置換されていても
よいモノまたはジまたはトリフェニル(低級)アルコキ
シ基等のような常用の保護基で保護されたヒドロキシ基
が挙げられ、それらの中で好ましい例としては、低級ア
ルコキシ基が挙げられ、さらに好ましいものとしては0
1〜C4アルコキシ基が挙げられ、最も好ましいものは
エトキシ基およびイソプロポキシ基である。
Suitable "protected hydroxy groups" include, for example, methoxy, propoxy, impropoxy, butoxy, secondary butoxy, isopropoxy, tertiary butoxy, pentyloxy, neopentyloxy, Lower alkoxy groups such as hexyloxy, optionally substituted alkyl (
Examples include mono-, di-, or triphenyl (lower) alkoxy groups that may be substituted with a nitro group such as benzyloxy, 4-nitrobenzyloxy, benzhydryloxy, i-lythyloxy, etc. Among these, preferable examples include lower alkoxy groups, and more preferable ones include hydroxy groups protected with commonly used protecting groups such as
Mention may be made of 1 to C4 alkoxy groups, the most preferred being ethoxy and isopropoxy groups.

目的化合物[IIの好適な医薬として許容される塩類は
常用の無毒性塩類であり、例えばすトリウム塩、カリウ
ム塩等のアルカリ金属塩、例えばカルシウム塩、マグネ
シウム塩等のアルカリ土類金属塩またはアンモニウム塩
のような無機塩基塩;例えばメチルアミン塩、エチルア
ミン塩、プロピルアミン塩、イソプロピルアミン塩、ブ
チルアミン塩、第三級ブチルアミン塩、ジメチルアミン
塩、ジエチルアミン塩、トリメチルアミン塩、トリエチ
ルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシ
ルアミン塩、N、N’ −ジベンジルエチレンジアミン
塩等の有機アミン塩のような有機塩基塩、例えばギ酸塩
、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸
塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トル
エンスルホン酸塩等の有機酸付加塩、例えば塩酸塩、臭
化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸付加塩、例えば
アルギニン塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩等の
アミノ酸との塩等が挙げられる。
Suitable pharmaceutically acceptable salts of the target compound [II are conventional non-toxic salts, such as alkali metal salts such as thorium salts, potassium salts, alkaline earth metal salts such as calcium salts, magnesium salts, or ammonium salts. Inorganic base salts such as methylamine salts, ethylamine salts, propylamine salts, isopropylamine salts, butylamine salts, tertiary butylamine salts, dimethylamine salts, diethylamine salts, trimethylamine salts, triethylamine salts, pyridine salts, picoline organic base salts such as organic amine salts such as dicyclohexylamine salts, N,N'-dibenzylethylenediamine salts, e.g. formates, acetates, trifluoroacetates, maleates, tartrates, methanesulfonates; , organic acid addition salts such as benzenesulfonate, toluenesulfonate, inorganic acid addition salts such as hydrochloride, hydrobromide, sulfate, phosphate, etc., such as arginine salt, aspartate, glutamate, etc. Examples include salts with amino acids.

この点に関して付言すれば、化合物[■8]〜[1c]
は化合物[IIの範囲内に含まれ、従ってこれらの化合
物[Ia]〜[I c]の好適な塩類については」−記
目的化合物[IIで例示したような塩類を参照すればよ
い。
Regarding this point, I would like to add that compounds [■8] to [1c]
are included within the scope of compound [II, therefore, for suitable salts of these compounds [Ia] to [Ic], reference may be made to the salts exemplified for the target compound [II].

この発明の目的化合物[IIの製造法を以下詳細に説明
する。
The method for producing the object compound [II] of the present invention will be explained in detail below.

製造法1 目的化合物[■8]またはその塩は、化合物[1[]ま
たはその塩に化合物[II[’lもしくはその均等物ま
たはそれらの塩を反応させることにより製造することが
できる。
Production method 1 The target compound [■8] or a salt thereof can be produced by reacting compound [1[] or a salt thereof with compound [II['l or an equivalent thereof or a salt thereof.

化合物[11Fの好適な塩類については、化合物[II
について例示した塩基との塩を参照すればよい。
For suitable salts of compound [11F, compound [II
Refer to the salts with bases exemplified above.

化合物[1[1]の好適な塩類については、化合物[I
Iについて例示した酸付加塩を参照すればよい。
For suitable salts of compound [1[1], compound [I
Reference may be made to the acid addition salts exemplified for I.

化合物[111]の均等物の好適な例としては、2一ビ
リジルインチオシアネー1・を分子間縮合に付すことに
より製造される3−(2−ピリジル)−3゜4−ジヒド
ロ−2H−とリド[1,2−a]−1,3゜5−トリア
ジン−2,4−ジオンのような化合物[I[[]の分子
間縮合化合物等が挙げられる。
A preferred example of the equivalent of compound [111] is 3-(2-pyridyl)-3゜4-dihydro-2H-, which is produced by subjecting 2-pyridyl thiocyane 1 to intermolecular condensation. Examples include intermolecular condensation compounds of [I[[ ] such as and lido[1,2-a]-1,3°5-triazine-2,4-dione.

この反応は通常、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ベ
ンゼン、クロロホルム、塩化メチレン、N、N−ジメチ
ルホルムアミドのような溶媒中で行われるが、反応に悪
影響を及ぼさない溶媒であればその他のいかなる溶媒中
でも反応を行うことができる。
This reaction is usually carried out in a solvent such as dioxane, tetrahydrofuran, benzene, chloroform, methylene chloride, N,N-dimethylformamide, but it can also be carried out in any other solvent that does not adversely affect the reaction. be able to.

さらにこの反応は、例えばすトリウム、カリウム等のア
ルカリ金属、例えばマグネシウム、カルシウム等のアル
カリ土類金属、それらの金属の水素化物または水酸化物
、例えばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド
、カリウム第三級ブトキシド等のアルカリ金属アルコキ
シド等のような塩基の存在下に行うことができる。
Furthermore, this reaction can be carried out with alkali metals such as thorium and potassium, alkaline earth metals such as magnesium and calcium, hydrides or hydroxides of these metals, such as sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium tertiary It can be carried out in the presence of a base such as an alkali metal alkoxide such as butoxide.

反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加熱下に
反応が行われる。
The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling or heating.

製造法2 目的化合物[Ib]またはその塩は、化合物[IV]も
しくはそのアミノ基における反応性誘導体またはそれら
の塩に、化合物[V]もしくはそのカルボキシ基におけ
る反応性誘導体またはそれらの塩を反応きせることによ
り製造することができる。
Production method 2 Target compound [Ib] or a salt thereof is obtained by reacting compound [IV] or a reactive derivative thereof at an amino group or a salt thereof with compound [V] or a reactive derivative thereof at a carboxyl group or a salt thereof. It can be manufactured by

化合物[■]のアミノ基における好適な反応性誘導体と
しては、化合物[IV]とアルデヒド、ケトン等のよう
なカルボニル化合物との反応によって生成するシップの
塩基型イミノまたはそのエナミン型互変異性体;化合物
[IV]とビス(トリメチルシリル)アセトアミド、モ
ノ(トリメチルシリル)アセトアミド、ビス(トリメチ
ルシリル)尿素等との反応によって生成するシリル誘導
体;化合物[IV]と三塩化燐またはホスゲンとの反応
によって生成する誘導体等が挙げられる。
Suitable reactive derivatives at the amino group of compound [■] include Ship's base type imino or its enamine type tautomer, which is produced by the reaction of compound [IV] with a carbonyl compound such as an aldehyde, a ketone, etc.; Silyl derivatives produced by the reaction of compound [IV] with bis(trimethylsilyl)acetamide, mono(trimethylsilyl)acetamide, bis(trimethylsilyl)urea, etc.; derivatives produced by the reaction of compound [IV] with phosphorus trichloride or phosgene, etc. can be mentioned.

化合物[IV]およびその反応性誘導体の好適な塩類に
ついては、化合物[1]について例示したような塩類を
参照すればよい。
For suitable salts of compound [IV] and its reactive derivatives, reference may be made to the salts exemplified for compound [1].

化合物[V]のカルボキシ基における好適な反応性誘導
体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化アミド
、活性化エステル等が挙げられる。
Suitable reactive derivatives of the carboxyl group of compound [V] include acid halides, acid anhydrides, activated amides, activated esters, and the like.

反応性誘導体の好適な例としては、酸塩化物;酸アジド
;例えばジアルキル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニル燐
酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸等の置換された燐
酸、ジアルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、例え
ばメタンスルホン酸等のスルホン酸、例えば酢酸、プロ
ピオン酸、酪酸、イソ醋酸、ピバリン酸、ペンタン酸、
イソペンタン酸、2−エチル醋酸、トリクロロ酢酸等の
脂肪族カルボン酸または例えば安息香酸等の芳香族カル
ボン酸のような酸との混合酸無水物:対称酸無水物;イ
ミダゾール、4−置換イミダゾール、ジメチルピラゾー
ル、トリアゾールまたはテトラゾールとの活性化アミド
;または例えばシアノメチルエステル、メトキシメチル
エステル、ジメチルイミノメチル[(cn3)2査=c
u−]エステル、ビニルエステル、プロパルギルエステ
ノ呟 p−ニトロフェニルエステル、2.4−ジニトロ
フェニルエステル、)・リクロロフェニルエステル、ペ
ンタクロロフェニルエステル、メシルフェニルエステル
、フェニルアソフェニルエステル、ブエニルチオエステ
ル、p−ニトロフェニルチオエステル、p−クレシルチ
オエステル ルチオエステル、ピラニルエステル、ピリジルエステル
、ピペリジルエステル、8−キノリルチオエステル等の
活性化エステル、または例えばN。
Suitable examples of reactive derivatives include acid chlorides; acid azides; substituted phosphoric acids such as dialkyl phosphoric acid, phenyl phosphoric acid, diphenyl phosphoric acid, dibenzyl phosphoric acid, halogenated phosphoric acid, dialkyl phosphorous acid, sulfurous acid, thiosulfuric acid, sulfuric acid. , sulfonic acids such as methanesulfonic acid, such as acetic acid, propionic acid, butyric acid, isoacetic acid, pivalic acid, pentanoic acid,
Mixed acid anhydrides with acids such as aliphatic carboxylic acids such as isopentanoic acid, 2-ethyl acetic acid, trichloroacetic acid or aromatic carboxylic acids such as benzoic acid: symmetrical acid anhydrides; imidazole, 4-substituted imidazole, dimethyl activated amides with pyrazoles, triazoles or tetrazoles; or e.g. cyanomethyl esters, methoxymethyl esters, dimethyliminomethyl [(cn3)2=c
u-]ester, vinyl ester, propargyl ester, p-nitrophenyl ester, 2,4-dinitrophenyl ester, )-lichlorophenyl ester, pentachlorophenyl ester, mesyl phenyl ester, phenyl asophenyl ester, buenyl thio ester, p - Activated esters such as nitrophenyl thioester, p-cresyl thioester ruthioester, pyranyl ester, pyridyl ester, piperidyl ester, 8-quinolyl thioester, or for example N.

N−ジメチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロキシ−2
−(IH)−ピリドン、N−ヒドロキシスクシンイミド
、N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシ−IH
−ベンゾトリアゾール等のN−ヒドロキシ化合物とのエ
ステル等が挙げられる。これらの反応性誘導体は、使用
する化合物[V]の種類によって、それらの中から任意
に選択することができる。
N-dimethylhydroxylamine, 1-hydroxy-2
-(IH)-pyridone, N-hydroxysuccinimide, N-hydroxyphthalimide, 1-hydroxy-IH
Examples include esters with N-hydroxy compounds such as -benzotriazole. These reactive derivatives can be arbitrarily selected from them depending on the type of compound [V] used.

化合物[V]およびその反応性誘導体の好適な塩類につ
いては、化合物[I]について例示したような塩類を参
照すればよい。
For suitable salts of compound [V] and its reactive derivatives, reference may be made to the salts exemplified for compound [I].

反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、ク
ロロホルム、塩化メチレン、塩化、エチレン、テトラヒ
ドロフラン、酢酸エチル、N.N−ジメチルホルムアミ
ド、ピリジンのような慣用の溶媒中で行われるが、反応
に悪影響を及ぼきない溶媒であればその他のいかなる有
機溶媒中でも反応を行うことができる。これらの慣用の
溶媒は水との混合物として使用してもよい。
The reaction is usually carried out using water, alcohols such as methanol and ethanol, acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride, chloride, ethylene, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N.I. The reaction is carried out in a conventional solvent such as N-dimethylformamide or pyridine, but the reaction can be carried out in any other organic solvent as long as it does not adversely affect the reaction. These customary solvents may also be used as a mixture with water.

この反応において、化合物[V]を遊離酸またはその塩
の形で使用する場合には、N,N’ −ジシクロへキシ
ルカルボジイミド=Nーシクロへキシル−N′−モルボ
リノエチルカルボジイミド;N−シクロヘキシル−N’
−(4−ジエチルアミノシクロヘキシル)カルボジイミ
ド、N,N’ −ジエチルカルボジイミド ルカルボジイミド;N−エチル−N’−(3−ジメチル
アミノプロピル)カルボジイミド:N。
In this reaction, when compound [V] is used in the form of a free acid or its salt, N,N'-dicyclohexylcarbodiimide=N-cyclohexyl-N'-morbolinoethylcarbodiimide; N-cyclohexyl -N'
-(4-diethylaminocyclohexyl)carbodiimide, N,N'-diethylcarbodiimiddlecarbodiimide;N-ethyl-N'-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide: N.

N′ −カルボニルビス(2−メチルイミダゾール);
ペンタメチレンケテン−N−シクロヘキシルイミン;ジ
フェニルケテンーNーシクロヘキシルイミン;エトキシ
アセチレン;1−アルコキシ−1−クロロエチレン;亜
燐酸トリアルキル;ポリ燐酸エチル;ポリ燐酸イソプロ
ピル;オキシ塩化燐(塩化ポスボリル):三塩化溝;塩
化チオニル:塩化オキザリル;例えばクロロギ酸エチル
、クロ1コギ酸イソプロピル等のハロギ酸低級アルキル
;トリフェニルホスフィン;2−エチル−7−ヒドロキ
シベンズイソオキサゾリウム塩;2−エチル−5−(m
−スルホフェニル)インオキサシリウムヒドロキシド分
子内塩;1−(1)−クロロヘンゼンスルホニルオキシ
)−6−10ローIH−ベンゾトリアゾール、N,N−
ジメチルホルムアミドと塩化チオニル、ホスゲン、クロ
ロギ酸トリクロロメチル、オキシ塩化燐等との反応によ
って調製したいわゆるビルスマイヤー試薬等のような慣
用の縮合剤の存在下に反応を行うのが好ましい。
N'-carbonylbis(2-methylimidazole);
Pentamethyleneketene-N-cyclohexylimine; diphenylketene-N-cyclohexylimine; ethoxyacetylene; 1-alkoxy-1-chloroethylene; trialkyl phosphite; ethyl polyphosphate; isopropyl polyphosphate; phosphorus oxychloride (posboryl chloride): Trichloride groove; thionyl chloride: oxalyl chloride; lower alkyl haloformate such as ethyl chloroformate, isopropyl chloroformate; triphenylphosphine; 2-ethyl-7-hydroxybenzisoxazolium salt; 2-ethyl-5 −(m
-sulfophenyl)inoxacillium hydroxide inner salt; 1-(1)-chlorohenzenesulfonyloxy)-6-10 rhoIH-benzotriazole, N,N-
Preferably, the reaction is carried out in the presence of a conventional condensing agent, such as the so-called Vilsmeier reagent prepared by the reaction of dimethylformamide with thionyl chloride, phosgene, trichloromethyl chloroformate, phosphorous oxychloride, and the like.

反応はまた、アルカリ金属炭酸水素塩、トリ(低級)ア
ルキルアミン、ピリジン、ジ(低級)アルキルアミノピ
リジン、N−(低級)アルキルモルホリン、N、N−ジ
(低級)アルキルベンジルアミン等のような無機塩基ま
たは有機塩基の存在下に行ってもよい。液状の塩基も溶
媒として使用することができる。
The reaction can also be performed with alkali metal bicarbonates, tri(lower)alkylamines, pyridine, di(lower)alkylaminopyridines, N-(lower)alkylmorpholines, N,N-di(lower)alkylbenzylamines, etc. It may be carried out in the presence of an inorganic base or an organic base. Liquid bases can also be used as solvents.

反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out under cooling or heating.

1盗珠1 目的化合物[Ic]またはその塩は、化合物[IV]も
しくはそのアミノ基における反応性誘導体またはそれら
の塩に、化合物[VI]もしくはそのスルホ基における
反応性誘導体またはそれらの塩を反応させることにより
製造することができる。
1 Thief 1 Target compound [Ic] or a salt thereof is obtained by reacting compound [IV] or a reactive derivative thereof at an amino group or a salt thereof with compound [VI] or a reactive derivative thereof at a sulfo group or a salt thereof. It can be manufactured by

化合物[Vf]およびその反応性誘導体の好適な塩類に
ついては、化合物[1]について例示したような塩類を
参照すればよい。
For suitable salts of compound [Vf] and its reactive derivatives, reference may be made to the salts exemplified for compound [1].

この反応は製造法2と実質的に同様にして行うことがで
き、従ってこの反応の反応方式および例えば塩基、反応
性誘導体、縮合剤、溶媒、反応温度等の反応条件につい
ては、製j[告」、の説明を参照すればよい。
This reaction can be carried out in substantially the same manner as Production Method 2, and therefore the reaction method and reaction conditions such as base, reactive derivative, condensing agent, solvent, reaction temperature, etc. ”, please refer to the explanation.

製造法4 目的化合物[1]またはその塩は、化合物[■コまたは
その塩をヒドロキシ保護基の脱離反応に付すことにより
製造することができる。
Production method 4 The target compound [1] or a salt thereof can be produced by subjecting the compound [■] or a salt thereof to an elimination reaction of the hydroxy protecting group.

この反応は加水分解、還元等のような常法によって行わ
れる。
This reaction is carried out by conventional methods such as hydrolysis, reduction, etc.

化合物[■]の好適な塩類については、化合物[1]で
例示したような塩類を参照すればよい。
For suitable salts of compound [■], refer to the salts exemplified for compound [1].

加水分解は塩基、ルイス酸を含めた酸、またはハロシラ
ン化合物の存在下に行うのが好ましい。
Hydrolysis is preferably carried out in the presence of a base, an acid including a Lewis acid, or a halosilane compound.

好適な塩基としては、例えばナトリウム、カリウム等の
アルカリ金属、例えばマグネシウム、カルシウム等のア
ルカリ土類金属、それらの金属の水酸化物または炭酸塩
または炭酸水素塩、例えばトリメチルアミン、トリエチ
ルアミン等のトリアルキルアミン、ピコリン、1.5−
ジアザビシクロ[4,3,0]ノナ−5−エン、1.4
−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン、1.8−ジ
アザビシクロ[5,4,O]ウンデカ−7−エン等のよ
うな無機塩基および有機塩基が挙げられる。
Suitable bases include, for example, alkali metals such as sodium and potassium, alkaline earth metals such as magnesium and calcium, hydroxides or carbonates or bicarbonates of these metals, trialkylamines such as trimethylamine, triethylamine, etc. , picoline, 1.5-
Diazabicyclo[4,3,0]non-5-ene, 1.4
Inorganic and organic bases such as -diazabicyclo[2,2,2]octane, 1,8-diazabicyclo[5,4,O]undec-7-ene, and the like.

好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸および例
えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、塩化水素、臭化水素等の
無機酸が挙げられる。
Suitable acids include, for example, formic acid, acetic acid, propionic acid,
Examples include organic acids such as trichloroacetic acid and trifluoroacetic acid, and inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, hydrogen chloride, and hydrogen bromide.

例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のトリハロ
酢酸等のようなルイス酸を使用する脱離は、例えばアニ
ソーノ呟 フェノール等の陽イオン捕捉剤の存在下に行
うのが好ましい。
Desorption using a Lewis acid such as a trihaloacetic acid such as trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, etc. is preferably carried out in the presence of a cation scavenger, such as anisophenol.

好適なハロシラン化合物としては、例えばヨードトリメ
チルシラン、ブロモトリメチルシラン等のハロトリ(低
級)アルキルシラン等が挙げられる。
Suitable halosilane compounds include, for example, halotri(lower)alkylsilanes such as iodotrimethylsilane and bromotrimethylsilane.

反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロロ
メタン、テトラヒドロフラン、それらの混合物中で行わ
れるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他
のいかなる溶媒中でも反応を行うことができる。液状の
塩基、酸またはハロシラン化合物も溶媒として使用する
とと一36= ができる。
The reaction is usually carried out in water, alcohols such as methanol and ethanol, methylene chloride, chloroform, tetrachloromethane, tetrahydrofuran, and mixtures thereof, but the reaction may also be carried out in any other solvent that does not adversely affect the reaction. It can be performed. If a liquid base, acid or halosilane compound is also used as a solvent, -36= can be obtained.

反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加熱下に
反応が行われる。
The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling or heating.

脱離反応に適用されうる還元法としては、化学的還元お
よび接触還元が挙げられる。
Reduction methods that can be applied to the elimination reaction include chemical reduction and catalytic reduction.

化学的還元に使用される好適な還元剤は、例えばスズ、
亜鉛、鉄等の金属または例えば塩化クロム、酢酸クロム
等の金属化合物と、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸、臭
化水素酸等の有機酸または無機酸との組合わせである。
Suitable reducing agents used for chemical reduction include, for example, tin,
Metals such as zinc and iron or metal compounds such as chromium chloride and chromium acetate, and formic acid, acetic acid, propionic acid,
It is a combination with an organic or inorganic acid such as trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, hydrochloric acid, or hydrobromic acid.

接触還元に使用される好適な触媒は、例えば白金板、白
金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等の
白金触媒、例えばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸化
パラジウム、パラジウム−次素、コロイドパラジウム、
パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム
等のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニッケ
ル、ラネーニッケル等のニッケル触媒、例えば還元コバ
ルト、ラネーコバルト等のコバルト触媒、例えば還元鉄
、ラネー鉄等の鉄触媒、例えば還元銅、ラネー銅、ウル
マン鋸等の銅触媒のような慣用の触媒である。
Suitable catalysts used for catalytic reduction are platinum catalysts such as platinum plates, platinum sponges, platinum black, colloidal platinum, platinum oxide, platinum wires, platinum catalysts such as palladium sponges, palladium black, palladium oxide, palladium-hypochloride, colloids. palladium,
Palladium catalysts such as palladium-barium sulfate, palladium-barium carbonate, nickel catalysts such as reduced nickel, nickel oxide, Raney nickel, cobalt catalysts such as reduced cobalt, Raney cobalt, iron catalysts such as reduced iron, Raney iron, etc. Conventional catalysts such as reduced copper, Raney copper, Ullmann saw copper catalysts, etc.

還元は通常、水、メタノール、エタノール、プロパツー
ル、N、N−ジメチルホルムアミドのような反応に悪影
響を及ぼさない常用の溶媒中、またはそれらの混合物中
で行われる。さらに化学的還元に使用する前記酸が液状
である場合には、それらを溶媒として使用することもで
きる。さらにまた、接触還元に使用される好適な溶媒と
しては、前記溶媒のほか、ジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等の慣用の溶媒、またはそれら
の混合物が挙げられる。
The reduction is usually carried out in conventional solvents that do not adversely affect the reaction, such as water, methanol, ethanol, propatool, N,N-dimethylformamide, or mixtures thereof. Furthermore, when the acids used for chemical reduction are liquid, they can also be used as a solvent. Furthermore, suitable solvents used in the catalytic reduction include, in addition to the above-mentioned solvents, conventional solvents such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, etc., or mixtures thereof.

この反応の反応温度は特に限定されず、通常冷却下ない
し加熱下に反応が行われる。
The reaction temperature of this reaction is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling or heating.

原料化合物[■]中、数種のものは新規化合物であり、
これらの化合物またはその塩は下記反応式で示される製
造法により製造することができる。
Several of the raw material compounds [■] are new compounds,
These compounds or salts thereof can be produced by the production method shown in the following reaction formula.

製造法A [■] またはその塩 H [■a] またはその塩 製Jl(且 [IX] もしくはそのアミノ基に おける反応性誘導体また はそれらの塩 ■ C=0 [■b] またはその塩 製造法C [■コ もしくはそのアミン基に おける反応性誘導体また はそれらの塩 [■C] またはその塩 製造法D [■d] またはその塩 [■e] またはその塩 [式中、Rは低級アルキル基を意味し、R1、R2、R
3、R4、R5、R6、AおよびXはそれぞれ前と同じ
意味である]。
Production method A [■] or a salt thereof H [■a] or a salt thereof Jl (and [IX] or a reactive derivative at its amino group or a salt thereof ■ C=0 [■b] or a salt thereof Production method C [■Co or a reactive derivative thereof at an amine group or a salt thereof [■C] or a salt thereof production method D [■d] or a salt thereof [■e] or a salt thereof [wherein R means a lower alkyl group] , R1, R2, R
3, R4, R5, R6, A and X each have the same meaning as before].

原料化合物の上記製造法を以下詳細に説明する。The above method for producing the raw material compound will be explained in detail below.

型Jb友Δ 化合物[■a]またはその塩は、化合物[■]またはそ
の塩に化合物[I[[]もしくはその均等物またはそれ
らの塩を反応させることにより製造することができる。
Type Jb friend Δ Compound [■a] or a salt thereof can be produced by reacting compound [■] or a salt thereof with compound [I [[] or an equivalent thereof or a salt thereof.

化合物[■]の好適な塩類については、化合物[1]に
ついて例示した塩基塩類を参照すればよい。
For suitable salts of compound [■], refer to the base salts exemplified for compound [1].

この反応は製造法1と実質的に同様にして行うことがで
きるので、この反応の反応方式および例λ、げ塩基、溶
媒、反応温度等の反応条件については、製j1法】工の
説明を参照すればよい。
This reaction can be carried out in substantially the same manner as Production Method 1, so for the reaction method and reaction conditions such as Example λ, base, solvent, and reaction temperature, please refer to the explanation of Production Method J1]. Just refer to it.

製造法B 化合物[■b]またはその塩は、化合物[IX]もしく
はそのアミン基における反応性誘導体またはそれらの塩
に化合物[V]もしくはそのカルボキシ基における反応
性誘導体またはそれらの塩を反応させることにより製造
することができる。
Production method B Compound [■b] or a salt thereof is obtained by reacting compound [IX] or a reactive derivative thereof at an amine group or a salt thereof with compound [V] or a reactive derivative thereof at a carboxyl group or a salt thereof. It can be manufactured by

化合物[IX]およびその反応性誘導体の好適な塩類に
ついては、化合物[I]で例示した塩類を参照すればよ
い。
For suitable salts of compound [IX] and its reactive derivatives, refer to the salts exemplified for compound [I].

この反応は製造法2と実質的に同様にして行うことがで
き、従ってこの反応の反応方式および例えば反応性誘導
体、縮合剤、溶媒、反応温度等の反応条件については製
jE沫」、の説明を参照すればよい。
This reaction can be carried out in substantially the same manner as Production Method 2, and therefore, the reaction method and reaction conditions such as reactive derivatives, condensing agents, solvents, reaction temperatures, etc., can be found in the explanation of the production method. Please refer to .

製造法C 化合物[■C]またはその塩は、化合物[IX]もしく
はそのアミノ基における反応性誘導体またはそれらの塩
に、化合物[VI]もしくはそのスルホ基における反応
性誘導体またはそれらの塩を反応許せることにより製造
することができる。
Production method C Compound [■C] or a salt thereof can react with compound [IX] or a reactive derivative at its amino group or a salt thereof with compound [VI] or a reactive derivative at its sulfo group or a salt thereof. It can be manufactured by

この反応は級遺羞遣と実質的に同様にして行うことがで
き、従ってこの反応の反応方式および例えば塩基、反応
性誘導体、縮合剤、溶媒、反応許44一 度等の反応条件については、製造法2の説明を参照すれ
ばよい。
This reaction can be carried out in substantially the same manner as the chemical reaction, and therefore the reaction scheme and reaction conditions such as base, reactive derivative, condensing agent, solvent, reaction conditions, etc. Please refer to the explanation of method 2.

製造法り 化合物[■e]またはその塩は、化合物[■d]または
その塩に低級アルキル化剤を反応さ廿ることにより製造
することができる。
Production method Compound [■e] or a salt thereof can be produced by reacting compound [■d] or a salt thereof with a lower alkylating agent.

化合物[■d]の好適な塩類については、化合物[1]
で例示した塩類を参照すればよい。
For suitable salts of compound [■d], compound [1]
Please refer to the salts exemplified in .

化合物[■e]の好適な塩類については、化合物[11
で例示した酸付加塩を参照すればよい。
For suitable salts of compound [■e], compound [11
Please refer to the acid addition salts exemplified in .

好適な低級アルキル化剤としては、例えば沃化メチル、
沃化エチノ呟沃化プロピル、沃化ブチル等の低級アルキ
ルハロゲン化物、例えばヘンゼンスルホン酸メチル、ト
ルエンスルホン酸エチル等のアレーンスルボン酸低級ア
ルキル、例えば硫酸ンメチル、硫酸ジエチル等の硫酸ジ
(低級)アルキル等が挙げられる。
Suitable lower alkylating agents include, for example, methyl iodide,
Lower alkyl halides such as propyl iodide and butyl iodide; lower alkyl arenesulfonates such as methyl henzenesulfonate and ethyl toluenesulfonate; ) alkyl, etc.

この反応は製造法1に例示した塩基の存在下に行うこと
ができる。
This reaction can be carried out in the presence of a base as exemplified in Production Method 1.

この反応は通常、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ベ
ンゼン、クロロホルム、塩化メチレン、N、N−ジメチ
ルホルムアミドのような溶媒中で行われるが、反応に悪
影響を及ぼさない溶媒であればその他のいかなる有機溶
媒中でも反応を行うことができ、上記低級アルキル化剤
が液体であればそれを溶媒として使用することができる
This reaction is usually carried out in a solvent such as dioxane, tetrahydrofuran, benzene, chloroform, methylene chloride, N,N-dimethylformamide, but it can also be carried out in any other organic solvent that does not adversely affect the reaction. If the lower alkylating agent is a liquid, it can be used as a solvent.

反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加熱下に
反応が行われる。
The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling or heating.

製造法Aおよび製造法りの両反応は同時に行うことがで
き、この場合には化合物[I[[]と低級アルキル化剤
とをR2が水素である化合物[■]に加えて化合物[■
e]を得る。この製造法もこの発明の範囲内に包含され
る。
Both reactions of production method A and production method can be carried out simultaneously. In this case, compound [I[[] and a lower alkylating agent are added to compound [■] in which R2 is hydrogen, and compound [■]
e] is obtained. This manufacturing method is also included within the scope of this invention.

上記製造法によって得られた化合物は、粉砕、再結晶、
カラムクロマトグラフィー、再沈殿等のような常法によ
って単離、精製することができる。
The compound obtained by the above production method can be crushed, recrystallized,
It can be isolated and purified by conventional methods such as column chromatography, reprecipitation, etc.

化合物[I]およびその他の化合物には不斉戻素原子に
基づく立体異性体1個以上が含まれることがあり、その
ような異性体およびそれらの混合物はずへてこの発明の
範囲内に包含きれるものとする。
Compound [I] and other compounds may contain one or more stereoisomers based on asymmetric return atoms, and such isomers and mixtures thereof are included within the scope of this invention. shall be taken as a thing.

治療のためにこの発明の化合物[I]および医薬として
許容されるその塩類は、経口段ケー、非経口投与、外用
投与に適した有機もしくは無機固体状もしくは液状賦形
剤のような医薬として許容される担体と混合して、前記
化合物の一種を有効成分として含有する医薬製剤の形で
使用することができる。
For therapeutic purposes, the compound [I] of this invention and its pharmaceutically acceptable salts may be prepared in a pharmaceutically acceptable form such as an organic or inorganic solid or liquid excipient suitable for oral, parenteral or topical administration. It can be used in the form of pharmaceutical preparations containing one of the above compounds as an active ingredient, mixed with a carrier.

医薬製剤はカプセル、錠剤、糖衣錠、顆粒、溶液、懸濁
液、エマルジョン等とすればよい。所望に応じて、これ
らの製剤に助剤、安定剤、湿潤剤または乳化剤、緩衝液
およびその他の通常使用される添加剤が含まれていても
よい。
Pharmaceutical formulations may be capsules, tablets, dragees, granules, solutions, suspensions, emulsions, and the like. If desired, these formulations may contain auxiliaries, stabilizers, wetting agents or emulsifiers, buffers and other commonly used additives.

化合物[I]の投与量は患者の年齢および状態によって
変化するが、化合物[1]は平均1回投与量約0.1m
L 1 +ng、 10mg、50mg、100mg、
 250mg、 500mg、1.000mgで前記骨
疾患の治療に有効である。
The dose of compound [I] varies depending on the age and condition of the patient, but the average single dose of compound [1] is approximately 0.1 m
L 1 +ng, 10mg, 50mg, 100mg,
250 mg, 500 mg, and 1.000 mg are effective in treating the bone disease.

一般的には、1日当り0.1mg/個体〜約1000m
g/個体の間の量を投与すればよい。
Generally, 0.1mg/individual to about 1000m per day
Amounts between g/individual may be administered.

[発明の効果] 目的化合物[■]およびその塩類は、骨吸収阻害活性を
有し骨疾患の治療に有用である。
[Effects of the Invention] The target compound [■] and its salts have bone resorption inhibitory activity and are useful for treating bone diseases.

目的化合物[1]の有用性を示すために、化合物[I]
の代表的化合物数種の薬理試験結果を以下に示す。
In order to demonstrate the usefulness of the target compound [1], compound [I]
The pharmacological test results of several representative compounds are shown below.

駁験是 生後1〜2日のウィスター系ラット新生児の頭蓋冠を無
菌状態で切除し、ダルベツコ修正イーグル培養液で洗浄
し、中央縫合線に沿って分割した。頭蓋冠の半分ずつを
プールして異なる群に無作為化した。56°Cで1時間
加熱不活性化した仔牛脂児血清10%と共にダルベツコ
修正イーグル培養液2mQを含む多回部血中で頭蓋冠の
半分ずつを自由浮遊骨として個別に培養した。hpru
(1−34)(IXIOM)処理および試験化合物(1
×10−7またはI X 10−6M )処理を零時量
目から開始した。培養はすべて37°C5空気95%お
よびCO25%の大気圧下に6日間実施した。骨吸収を
6日後の培養液中のカルシウム蓄積測定により定量した
Experiment: The calvaria of neonatal Wistar rats 1-2 days old were excised under sterile conditions, washed with Dulbecco's modified Eagle's medium, and divided along the mid-suture line. The calvarial halves were pooled and randomized into different groups. Each half of the calvaria was cultured individually as free-floating bone in multiple volumes of blood containing 2 mQ of Dulbecco's modified Eagle's medium with 10% calf fat serum heat-inactivated for 1 hour at 56°C. hpru
(1-34) (IXIOM) Treatment and Test Compound (1
x 10-7 or I x 10-6 M) The treatment was started from the zero dose. All cultures were carried out at 37°C, 95% air and 5% CO2 at atmospheric pressure for 6 days. Bone resorption was quantified by measuring calcium accumulation in the culture medium after 6 days.

培養液中の総力ルシウム濃度を分光光度計(日立モデル
U −3200、日本、東京)を用いて0CPC法によ
り測定した。
The total lucium concentration in the culture solution was measured by the 0CPC method using a spectrophotometer (Hitachi model U-3200, Tokyo, Japan).

比較試験として同様の試験を、hPIH(I X 10
’M)のりを含む培養液、およびhPTHおよび試験化
合物のいずれをも含有しない培養液を用いて実施した。
As a comparative test, a similar test was conducted using hPIH (I
'M) It was carried out using a culture solution containing glue and a culture solution containing neither hPTH nor the test compound.

試験結果は、下記式によって計算した阻害百分率で表わ
した。
The test results were expressed as inhibition percentage calculated by the following formula.

C,: hPTHおよび試験化合物の両方で処理した培
養液中の総力ルシウム濃度 Co: hPT)(および試験化合物の両方とも用いな
い場合の対照培養液中の総力ルシウム濃度 CP; hPTHのみで処理した培養液中の総カルシウ
ム濃度 試験化合物 (a)[N−(フェニル)チオカルバモイルメチレン]
ビス(ホスホン酸)のトリス(第三級ブチルアミン)塩 (b)[N−(4−クロロフェニル)カルバモイルメチ
レン]ビス(ホスホン酸)のトリス(第三級ブチルアミ
ン)塩 <C)[N−(a−クロロフェニル)チオカルバモイル
メチレンコビス(ホスホン酸)の)・リス(第三級ブチ
ルアミン)塩 (d)[N−(2−ベンゾ[bコチェニル)チオカルバ
モイルメチレン]ビス(ホスホン酸)のジナトリウム塩 (e)  [N−(4−1−リフルオロメチルフェニル
)チオカルバモイルメチレン]ビス(ホスホン酸)のジ
ナトリウム塩 (f>[N−(3−トリフルオロメチルフェニル)チオ
カルバモイルメチレン 酸)のジナトリウム塩 (g>[N−(4−クロロ−3−トリフルオロメチルフ
ェニル)チオカルバモイルメチレンス(ポスポン酸)の
ジナトリウム塩 (h)[N−(4−メトキシ−3−トリフルオロメチル
フェニル)チオカルバモイルメチレン]ビス(ホスホン
酸)のジナトリウム塩 (i)[(2−ベンツ[b]チオフェンカルボキサミド
)メチレンコビス(ホスホン酸)のビス(第三級ブチル
アミン)塩 1[ ( 2−キノリンカルボキサミド)メチレン]ビ
ス(ホスホン酸)のトリス(第三級ブチルアミン)塩 (k)[(4−クロロフェニル)スルホニルアミノメチ
レン]ビス(ホスホン酸)のジナトリウム塩 (1)[N−(3−メシルアミノフェニル)チオカルバ
モイルメチレン]ビス(ホスホン酸)のシナ]・リウム
塩 越jO釦釆 上記の試験結果から明らかなように、目的化合物[1]
およびその塩類は、強い骨吸収阻害活性を有し、骨粗髭
症、バジェットの骨疾患、骨溶解、悪性カルシウム過剰
症および慢性関節リウマチのような骨代謝異常を特徴と
する骨疾患を治療する骨代謝改善剤として有用である。
C,: total lucium concentration in cultures treated with both hPTH and test compound Co: hPT) (and total lucium concentration CP in control culture without both test compounds; culture treated with hPTH only) Total calcium concentration in liquid Test compound (a) [N-(phenyl)thiocarbamoylmethylene]
Tris(tertiary butylamine) salt of bis(phosphonic acid) (b) [N-(4-chlorophenyl)carbamoylmethylene] tris(tertiary butylamine) salt of bis(phosphonic acid) <C) [N-(a -chlorophenyl)thiocarbamoylmethylene cobis(phosphonic acid))-lis(tert-butylamine) salt (d) Disodium salt of [N-(2-benzo[bcochenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosphonic acid) (e) Disodium salt of [N-(4-1-lifluoromethylphenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosphonic acid) (f>[N-(3-trifluoromethylphenyl)thiocarbamoylmethylene acid)] Sodium salt (g>[N-(4-chloro-3-trifluoromethylphenyl)thiocarbamoylmethylene (posponic acid) disodium salt (h)[N-(4-methoxy-3-trifluoromethylphenyl) thiocarbamoylmethylene] disodium salt of bis(phosphonic acid) (i) ] Tris(tertiary butylamine) salt of bis(phosphonic acid) (k) [(4-chlorophenyl)sulfonylaminomethylene] disodium salt of bis(phosphonic acid) (1) [N-(3-mesylaminophenyl) As is clear from the above test results, the target compound [1]
and its salts have strong bone resorption inhibitory activity and treat bone diseases characterized by abnormal bone metabolism such as osteoporosis, budget bone disease, osteolysis, malignant hypercalcemia and rheumatoid arthritis. It is useful as a bone metabolism improving agent.

[実施例] 以下製造例および実施例に従ってこの発明をさらに詳細
に説明する。
[Example] The present invention will be described in more detail below with reference to Production Examples and Examples.

製造例1 2−アミノベンゾ[bコチオフェン(1,11g)の無
水トルエン(4,5mB溶液に攪拌しなから二硫化炭素
(0,62g)およびトリエチルアミン(0,755g
)を順次加え、窒素気流中O〜5°Cで3日間攪拌する
。沈殿物を濾取し、無水トルエン(10mQ)で洗浄す
る。得られた白色粉末をクロロホルム(a、smQ)に
溶解させ、I・リエチルアミン(0,76g)を加え、
0°Cに冷却する。溶液にクロロぎ酸エチル(0,84
g)を20分間かけて滴下する。室温で1時間攪拌した
後、溶液をIN塩酸(5mQ)で2回、次いで飽和食塩
水で洗浄し、乾燥させる。溶媒を減圧留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにイ寸し、n−ヘキ
サンで溶出して、ベンゾ[bコチオフェン−2−インチ
オシアネート(118mg)を油状物として得る。
Production Example 1 A stirred solution of 2-aminobenzo[b-cothiophene (1,11 g) in anhydrous toluene (4,5 mB), carbon disulfide (0,62 g) and triethylamine (0,755 g)
) were added sequentially and stirred at 0 to 5°C in a nitrogen stream for 3 days. The precipitate is collected by filtration and washed with anhydrous toluene (10 mQ). The obtained white powder was dissolved in chloroform (a, smQ), and I. ethylamine (0.76 g) was added.
Cool to 0°C. Ethyl chloroformate (0,84
g) is added dropwise over 20 minutes. After stirring for 1 hour at room temperature, the solution is washed twice with IN hydrochloric acid (5 mQ), then with saturated brine, and dried. The solvent was evaporated under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography and eluted with n-hexane to obtain benzo[b-cothiophene-2-thiocyanate (118 mg) as an oil.

IR(液膜) i 2080 cm−1MMR(CDC
l2.8) : 7.06 (LH,s)、 7.32
−7.41(2B、m)、  7.63−7.73  
(2H,m)製造例2 60%油性水素化ナトリウム(120mg)の蒸留テト
ラヒドロフラン(4mA)中部濁液に室温でメチレンビ
ス(ホスホン酸)テトライソプロピル(688mg)を
一度に加える。混合物を数分間攪拌した後、水浴で冷却
し、フェニルイソチオシアネー1− (0,36m1l
 )を加える。反応混合物を室温で3時間攪拌した後メ
タノール(2mQ)を加えて加剰のフェニルインチオシ
アネートを分解する。混合物を減圧濃縮し、残渣をジエ
チルエーテルおよびIN塩酸の混合物に溶解させる。分
離した有機層を分取し水洗した後、硫酸マグネシウムで
乾燥さ七る。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、クロロホルムおよびメタノー
ル(30: 1 v/v)の混合溶媒で溶出して[N−
(フェニル)チオカルバモイJレメチレン]ビス(ポス
ポン酸)テトライソプロピル(0,75g)を結晶とし
て得る。
IR (liquid film) i 2080 cm-1MMR (CDC
l2.8): 7.06 (LH,s), 7.32
-7.41 (2B, m), 7.63-7.73
(2H, m) Preparation Example 2 To a suspension of 60% oily sodium hydride (120 mg) in distilled tetrahydrofuran (4 mA) at room temperature is added methylenebis(phosphonic acid)tetraisopropyl (688 mg) in one portion. After stirring the mixture for several minutes, it was cooled in a water bath and dissolved in phenylisothiocyanate 1- (0.36 ml
) is added. After stirring the reaction mixture at room temperature for 3 hours, methanol (2 mQ) is added to decompose the excess phenyl inthiocyanate. The mixture is concentrated under reduced pressure and the residue is dissolved in a mixture of diethyl ether and IN hydrochloric acid. The separated organic layer was collected, washed with water, and then dried with magnesium sulfate. The solvent was distilled off, and the residue was subjected to silica gel column chromatography and eluted with a mixed solvent of chloroform and methanol (30:1 v/v) to obtain [N-
Tetraisopropyl (phenyl)thiocarbamoy J remethylene]bis(posponate) (0.75 g) is obtained as crystals.

融点: 64−66°C IR(メタノール)  :  3300. 1600.
 1500. 1400. 1250゜1000 am
−’ NMR(CDC1a、8 ) ’ 1.2−1.6 (
24B1m)、4.31 (H(。
Melting point: 64-66°C IR (methanol): 3300. 1600.
1500. 1400. 1250°1000 am
-' NMR (CDC1a, 8) ' 1.2-1.6 (
24B1m), 4.31 (H(.

t、J=23.5Hz>、  4.65−5.0 (,
4H,m>、  7.2−7.45(3H,m>、  
7.75−7.85  (2H,m)、  1.0.2
4  (IH。
t, J=23.5Hz>, 4.65-5.0 (,
4H, m>, 7.2-7.45 (3H, m>,
7.75-7.85 (2H, m), 1.0.2
4 (IH.

brs) 製造例2と同様にして以下(製造例3〜27)の化合物
を得る。
brs) The following compounds (Production Examples 3 to 27) are obtained in the same manner as Production Example 2.

製造例3 [N−(4−フルオロフェニル メチレンコビス(ホスホン酸)テトライソプロピル 融点: 173−174℃ IR  (メタノール)  :  3450。 335
0.  1665  am″′INMR  (CDCl
2,  δ )  ;  1.26−1.50  (2
4B,m)、  3.62(IH.t,J=20Hz>
、  4.69−4.97 (4H,m>、  7.0
0(2H,t,J=8Hz)、 7.48 (2H.d
d,J=8および5Hz>、  7.56 (LH.s
)製】d礼↓ [N−(p−)リル)カルバモイルメチレン]ビス(ホ
スホン酸)テトライソプロピル融点: 96−98°C IR  (メタノール)  : 3300.  166
0  cm−’NMR (CDCl2,δ) : 1.
20−4.52 (24H.m)、 2.32(38,
s)、  3.53 (11(、tJ=20Hz>、 
 4.70−4.92(4.H.m>、  7.12 
(2H,d,J=8Hz)、  7.42 (2H,d
Production Example 3 [N-(4-Fluorophenylmethylenecobis(phosphonic acid)tetraisopropyl] Melting point: 173-174°C IR (methanol): 3450. 335
0. 1665 am'''INMR (CDCl
2, δ ); 1.26-1.50 (2
4B, m), 3.62 (IH.t, J=20Hz>
, 4.69-4.97 (4H, m>, 7.0
0 (2H, t, J=8Hz), 7.48 (2H.d
d, J=8 and 5Hz>, 7.56 (LH.s
) [N-(p-)lyl)carbamoylmethylene]bis(phosphonic acid)tetraisopropyl Melting point: 96-98°C IR (methanol): 3300. 166
0 cm-'NMR (CDCl2, δ): 1.
20-4.52 (24H.m), 2.32 (38,
s), 3.53 (11(, tJ=20Hz>,
4.70-4.92 (4.H.m>, 7.12
(2H, d, J=8Hz), 7.42 (2H, d
.

J=8Hz)、  8.69 (LH.s)梨j0外見 [N−(4−メトキシフェニル)カルバモイルメチレン
]ビス(ポスホン酸)テトライソプロピル 融点j 99−100℃ IR  (メタノール)  ’  3300.  16
60  am−’NMR (CDCl2,δ) : 1
.31−1.41 (24H.m)、 3.53(1M
,t,J=23Hz)、  3.79 (3B,s)、
  4.71−4.92(4H.m)、  6.86 
(2H,d,J=9Hz)、  7.44 (2H,d
J=8Hz), 8.69 (LH.s) Pear j0 Appearance [N-(4-methoxyphenyl)carbamoylmethylene]bis(posphonate)tetraisopropyl Melting point j 99-100°C IR (methanol)' 3300. 16
60 am-'NMR (CDCl2, δ): 1
.. 31-1.41 (24H.m), 3.53 (1M
,t,J=23Hz), 3.79 (3B,s),
4.71-4.92 (4H.m), 6.86
(2H, d, J=9Hz), 7.44 (2H, d
.

J=9Hz>、  8.65 (IH.s)製造例6 [N−(4−クロロフェニル)チオカルバモイルメチレ
ン]ビス(ホスホン酸)テトライソブ口ビル NMR(CDC13,8)  ’  1.21−1.4
6  (24H1m>、  4.30(LH,tj=2
2)+z)、 4.78 (4H,m>、 7.35お
よび7.78 (4H,ABq、J−8,8Hz)、 
 10.25 (LH,br s)製造例7 [N−(1−ナフチル)チオカルバモイルメチレンコビ
ス(ポスホン酸)テトライソプロピルIR(液膜) :
 3500.3320.2975.2925.1590
゜1380、1250.1000 cm””’NMR(
CDCIs、 S) ’ 1.37−1.47 (24
H1m)、4.51(LH,t、J=24Hz)、 4
.90 (4H,m)、 7.48−8.34(7H,
m)、 10.30 (IH,br s)製造例8 [N−(3−トリプルオロメチルフェニル)チオカルバ
モイルメチレンツビス(ポスボン酸)テ)・ライソブロ
ビル 融点: 49−51℃ IR(CH2C12) : 2980.2930.14
50.1385.1335゜1130、990 cm−
’ NMR(CDC13,l; ) ’ 1.25−1.5
7 (2487m)、4.34(11,t、J=23H
z>、 4..70−5.00 (4H,m)、 7.
50−7.60 (2H,m)、 8.04 (IH,
m)、 8.16 (1B、s)。
J=9Hz>, 8.65 (IH.s) Production Example 6 [N-(4-chlorophenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosphonic acid)tetraisobuvir NMR (CDC13,8)' 1.21-1.4
6 (24H1m>, 4.30 (LH, tj=2
2) +z), 4.78 (4H, m>, 7.35 and 7.78 (4H, ABq, J-8,8Hz),
10.25 (LH, br s) Production Example 7 [N-(1-naphthyl)thiocarbamoylmethylenecobis(posphonate)tetraisopropyl IR (liquid film):
3500.3320.2975.2925.1590
゜1380, 1250.1000 cm""'NMR (
CDCIs, S)' 1.37-1.47 (24
H1m), 4.51 (LH, t, J=24Hz), 4
.. 90 (4H, m), 7.48-8.34 (7H,
m), 10.30 (IH, br s) Production Example 8 [N-(3-Tripleomethylphenyl)thiocarbamoylmethylenezbis(posboxylic acid)te)-lysobrovir Melting point: 49-51°C IR (CH2C12): 2980.2930.14
50.1385.1335゜1130, 990 cm-
' NMR (CDC13, l; ) ' 1.25-1.5
7 (2487m), 4.34 (11,t, J=23H
z>, 4. .. 70-5.00 (4H, m), 7.
50-7.60 (2H, m), 8.04 (IH,
m), 8.16 (1B, s).

10.4  (IH,s) 製造例9 [N−(4−hリフルオロメチルフェニル)チオカルバ
モイルメチレンツビス(ホスホン酸)テトライソプロピ
ル 融点: 98−100℃ IR(ヌンヨール)  :  3250. 3200.
 1610. 1320. 1250゜1120 cm
−1 NMR(CDCIs、δ) 71.31−1.44 (
24H,m>、 4.32(IH,t、J=23Hz>
、 4.81 (4H,m)、 7.66および8.0
0 (4)1.ABq、J=8.5Hz>、  1.0
.43 (IT(、s)製造例10 [N−(3−クロロフェニル)チオカルバモイルメチレ
ンツビス(ホスホン酸)テ)・ライソブロビル 融点; 61−62℃ IR(液膜) :3450.3300.1595.15
50.1480゜1380、1260.1100.10
00 Cm−INMR(CDC1a、8 ) ’ 1−
21−144 (244m)、4.30(1)(、t、
J−23Hz>、  4.69−4.91  (4H,
m)、  7.20−7.37 (28,m>、  7
.65 (IH,br d、J=8)1z)、  8.
00(1B、br  s)、  10.27  (LH
,s)製造例11 [N−(2−クロロフェニル)チオカルバモイルメチレ
ンツビス(ホスホン酸)テトライソプロピル IR(液膜) : 3500.3300.1380.1
260゜990cm−1 NMR(CDC1s、S  )  ’  1.28−1
.43  (24t(1m)、  4.26(it(、
t、J−20Hz)、  4.76−4.95 (4B
、m>、  7.17−7.36 (2H,m>、 7
.76 (18,dd、J=8および2Hz>、 8.
45 (18,dd、J=8および2Hz)。
10.4 (IH,s) Production Example 9 [N-(4-h Lifluoromethylphenyl)thiocarbamoyl methylene bis(phosphonic acid)tetraisopropyl Melting point: 98-100°C IR (Nunyol): 3250. 3200.
1610. 1320. 1250°1120cm
-1 NMR (CDCIs, δ) 71.31-1.44 (
24H, m>, 4.32 (IH, t, J=23Hz>
, 4.81 (4H, m), 7.66 and 8.0
0 (4)1. ABq, J=8.5Hz>, 1.0
.. 43 (IT(,s) Production Example 10 [N-(3-chlorophenyl)thiocarbamoylmethylene bis(phosphonic acid)te)-lysobrovir Melting point; 61-62°C IR (liquid film): 3450.3300.1595.15
50.1480°1380, 1260.1100.10
00 Cm-INMR (CDC1a, 8)' 1-
21-144 (244m), 4.30(1)(,t,
J-23Hz>, 4.69-4.91 (4H,
m), 7.20-7.37 (28, m>, 7
.. 65 (IH,br d,J=8)1z), 8.
00 (1B, br s), 10.27 (LH
,s) Production Example 11 [N-(2-chlorophenyl)thiocarbamoylmethylenezbis(phosphonic acid)tetraisopropyl IR (liquid film): 3500.3300.1380.1
260°990cm-1 NMR (CDC1s, S)' 1.28-1
.. 43 (24t(1m), 4.26(it(,
t, J-20Hz), 4.76-4.95 (4B
, m>, 7.17-7.36 (2H, m>, 7
.. 76 (18, dd, J=8 and 2Hz>, 8.
45 (18,dd, J=8 and 2Hz).

10.20 (IH,s> 製造例12 [N−(4−フルオロフェニル)チオカルバモイルメチ
レンツビス(ボスホン酸)テトライソプロピル IR(液膜) : 3480.3300.1510.1
000 cm−INMR(CDCIs、l; ) ’ 
1.26−1.53 (24H1m>、4.326O− (HLt、J−2411z)、  4.70−4.94
 (4H,m)、  7.04−7.13 (2)1.
m>、  7.7t−7,78(2H,m)、  10
.19(’ILs) 製造例13 [N−(p−トリル)チオカルバモイルメチレンコビス
(ボスボン酸)テトライソプロピルIR(液膜) : 
3500.3300.1535.1385.1260゜
1000 cm’ NMR(CDC1s、8 ) ’ 1.21−1.43
 (24H1m>、2.35(3H,s)、 4.31
 (IH,t、J=20Hz)、 4.70−4.94
(4H,m>、 7.20 (2H,d、J=8)1z
)、 7.65 (2)1.d。
10.20 (IH,s> Production Example 12 [N-(4-fluorophenyl)thiocarbamoylmethylenezbis(bosphonic acid)tetraisopropyl IR (liquid film): 3480.3300.1510.1
000 cm-INMR (CDCIs, l; )'
1.26-1.53 (24H1m>, 4.326O- (HLt, J-2411z), 4.70-4.94
(4H, m), 7.04-7.13 (2)1.
m>, 7.7t-7,78(2H,m), 10
.. 19 ('ILs) Production Example 13 [N-(p-tolyl)thiocarbamoylmethylenecobis(bosubonic acid)tetraisopropyl IR (liquid film):
3500.3300.1535.1385.1260°1000 cm' NMR (CDC1s, 8)' 1.21-1.43
(24H1m>, 2.35 (3H, s), 4.31
(IH, t, J=20Hz), 4.70-4.94
(4H, m>, 7.20 (2H, d, J=8) 1z
), 7.65 (2)1. d.

J=8Hz>、 10.16 (LH,s)製造例14 [N−(2−メトキシフェニル)チオカルバモイルメチ
レンコビス(ホスホン酸)テトライソプロピル NMR(CDCIs、  δ )  :  1.18−
1.50  (24H,m>、  3.92(3H,m
)、  4.37 (IH,t、J=24Hz)、  
4.73−4.93(48,m)、  6.94−7.
03 (2H,m)、  7.16 (IH,td。
J=8Hz>, 10.16 (LH,s) Production Example 14 [N-(2-methoxyphenyl)thiocarbamoylmethylenecobis(phosphonic acid)tetraisopropyl NMR (CDCIs, δ): 1.18-
1.50 (24H, m>, 3.92 (3H, m
), 4.37 (IH, t, J=24Hz),
4.73-4.93 (48, m), 6.94-7.
03 (2H, m), 7.16 (IH, td.

J=8および2Hz>、 8.96 (IH,d、J=
8Hz>。
J=8 and 2Hz>, 8.96 (IH, d, J=
8Hz>.

10.45  (LH,s) 製造例15 [N−(3,4−ジクロロフェニル)チオカルパモイル
メテレンコビス(ホスホン酸)テトライソプロピル 融点: 90−92℃ IR(ヌジョール)  :  3300. 3200.
 1260. 990  cm−’NMR(CDC]、
s、S ) :1.32−1.71 (24)11m>
、4.29(1B、t、J=23Hz)、  4.67
−4.94  (4B、m)、  7.45(IH,d
、J=9Hz)、 7.65 (IH,dd、J=9お
よび2Hz>、 8.14 (IH,d、J=2Hz)
、 10.30 (LH,s)製造例16 [N−(2−ベンゾ[bコチェニル)チオカルバモイル
メチレン]ビス(ホスボン酸)テトライソプロピル IR(液膜): 3500.3210.1600.15
80.1380゜1260、 LIOo、 1000 
cm−’NMR(CDC13,δ) : 1.23−1
.44 (24H,m>、 4.31(1B、t、J=
22)1z)、  4.66−4.94  (4H,m
)、  7.26−7.40 (3H,m>、 7.6
6−7.80 (2H,m)、 11.11(LH,s
) 製造例17 [N−(2−トリフルオロメチルフェニル)チオカルバ
モイルメチレン]ビス(ホスボン酸)テトライソプロピ
ル IR(液膜) F 3330.2980.1530.1
460.1380゜1320、1260.1170.1
140゜1100 cm−1 NMR(CDCl2.8 ) : 1.20−1.50
 (24H,m>、 4.48(IH,t、J=23H
z)、  4.70−5.00  (4H,m)、  
7.41(IH,t、J=8Hz)、  7.’60 
(LH,t、J=8Hz)、  7.72(IH,d、
J=8H2)、  7.87 (IH,d、J=8Hz
>、  9.91(IH,s) 製造例18 [N−(4−クロロ−3−トリフルオロメチルフェニル
)チオカルバモイルメチレン]ビス(ホスボン酸)テト
ライソプロピル 融点: 101−102℃ IR(ヌジa−L)  :  3150. 3100.
 1390. 1320. 1210゜1000 cn
n−1 NMR(CDCl2.δ) : 1.25−1.46 
(24H,m)、 4.33(IH,t、J=22Hz
>、  4.74−4.97 (4H,m)、  7.
54(1,H,d、J=8Hz)、 、8.05 (I
H,dd、J=8および3Hz>、  8.22 (L
H,d、J=3Hz>、  10.41 (LH,s)
梨」l」l [N−(4−メトキシ−3−トリフルオロメチルフェニ
ル)チオカルバモイルメチレン]ビス(ボスホン酸)テ
トライソプロピル IR(液膜) : 3450.3250.1500.1
260゜1140 cm−’ NMR(CDC1s、S) :1.34−1.44 (
24H1m)、3.92(3H,s)、 4.32 (
1B、t、J=23Hz>、 4.70−4.94(4
H,m)、 7.02 (LH,d、J=8Hz)、 
7.93 (LH。
10.45 (LH,s) Production Example 15 [N-(3,4-dichlorophenyl)thiocarpamoylmethelencobis(phosphonic acid)tetraisopropyl Melting point: 90-92°C IR (Nujol): 3300. 3200.
1260. 990 cm-'NMR (CDC),
s, S): 1.32-1.71 (24) 11m>
, 4.29 (1B, t, J=23Hz), 4.67
-4.94 (4B, m), 7.45 (IH, d
, J=9Hz), 7.65 (IH, dd, J=9 and 2Hz>, 8.14 (IH, d, J=2Hz)
, 10.30 (LH,s) Production Example 16 [N-(2-benzo[b-cochenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosboxylic acid)tetraisopropyl IR (liquid film): 3500.3210.1600.15
80.1380°1260, LIOo, 1000
cm-'NMR (CDC13, δ): 1.23-1
.. 44 (24H, m>, 4.31 (1B, t, J=
22) 1z), 4.66-4.94 (4H, m
), 7.26-7.40 (3H, m>, 7.6
6-7.80 (2H, m), 11.11 (LH, s
) Production Example 17 [N-(2-trifluoromethylphenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosboxylic acid)tetraisopropyl IR (liquid film) F 3330.2980.1530.1
460.1380°1320, 1260.1170.1
140゜1100 cm-1 NMR (CDCl2.8): 1.20-1.50
(24H, m>, 4.48 (IH, t, J=23H
z), 4.70-5.00 (4H, m),
7.41 (IH, t, J=8Hz), 7. '60
(LH, t, J=8Hz), 7.72 (IH, d,
J=8H2), 7.87 (IH, d, J=8Hz
>, 9.91 (IH, s) Production Example 18 [N-(4-chloro-3-trifluoromethylphenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosboxylic acid)tetraisopropyl Melting point: 101-102°C IR (Nujia -L): 3150. 3100.
1390. 1320. 1210゜1000cn
n-1 NMR (CDCl2.δ): 1.25-1.46
(24H, m), 4.33 (IH, t, J=22Hz
>, 4.74-4.97 (4H, m), 7.
54 (1, H, d, J = 8 Hz), , 8.05 (I
H, dd, J=8 and 3Hz>, 8.22 (L
H, d, J=3Hz>, 10.41 (LH, s)
Pear"l"l [N-(4-methoxy-3-trifluoromethylphenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(bosphonic acid)tetraisopropyl IR (liquid film): 3450.3250.1500.1
260°1140 cm-' NMR (CDC1s, S): 1.34-1.44 (
24H1m), 3.92 (3H,s), 4.32 (
1B, t, J=23Hz>, 4.70-4.94 (4
H, m), 7.02 (LH, d, J=8Hz),
7.93 (LH.

br s)、 7.95 (IH,dd、J=8および
2Hz )製造例20 [N−(4−)リフルオロメチルフェニルルバモイルメ
チレン]ビス(ホスホン酸)テトライソプロピル 融点: 136−137℃ IR  (Xジa−IL)  :  3250.  3
200.  1670,  1600.  1540。
br s), 7.95 (IH, dd, J=8 and 2Hz) Production Example 20 [N-(4-)lifluoromethylphenylrubamoylmethylene]bis(phosphonic acid)tetraisopropyl Melting point: 136-137°C IR (Xia-IL): 3250. 3
200. 1670, 1600. 1540.

1320、 1250, 1120. 950 cm−
1BMR (CDC1s,S) ’ t. 30−1−
 42 (24H,m)、 3. 58(IH.t,J
=22Hz>、  4.73−4.91  (4H,n
n>、  7.57および7.66 (each 2H
,d,J−7Hz)、 9.05(1B,s) 製造例21 (N−メチルカルバモイルメチレン スホン酸)テトライソプロピル 融点: 96−100℃ IR  (ヌジうール)  :  3270,  16
40,  1255.  980  cm−1BMR 
(CDCl2,δ) i 1.2−1.5 (24H,
m>、 2:85 (3H。
1320, 1250, 1120. 950 cm-
1BMR (CDC1s, S)' t. 30-1-
42 (24H, m), 3. 58 (IH.t, J
=22Hz>, 4.73-4.91 (4H, n
n>, 7.57 and 7.66 (each 2H
, d, J-7Hz), 9.05 (1B, s) Production Example 21 Tetraisopropyl (N-methylcarbamoylmethylenesulfonate) Melting point: 96-100°C IR (nudium): 3270, 16
40, 1255. 980 cm-1BMR
(CDCl2, δ) i 1.2-1.5 (24H,
m>, 2:85 (3H.

d,、C4Hz>、 3.48 (IH,t,J=23
Hz>、 4.65−4.95(4H,m>、 6.8
6 (1B,br)製造例22 [N−(n−ブチル)チオカルバモイルメチレンコビス
(ホスホン酸)テトライソプロピルIR (液膜) :
 3500, 3350. 1545, 1385。
d,, C4Hz>, 3.48 (IH, t, J=23
Hz>, 4.65-4.95 (4H, m>, 6.8
6 (1B, br) Production Example 22 [N-(n-butyl)thiocarbamoylmethylenecobis(phosphonic acid)tetraisopropyl IR (liquid film):
3500, 3350. 1545, 1385.

1260 cm−1 NMR (C20,δ) : 0.95 (3H.t.
J=7Hz>、 1.21−1.54(26H,m>、
 1.59−1.74 (2H,m)、 3.64 (
2H,dt。
1260 cm-1 NMR (C20, δ): 0.95 (3H.t.
J=7Hz>, 1.21-1.54 (26H, m>,
1.59-1.74 (2H, m), 3.64 (
2H, dt.

J=7Hz)、  4.23 (IH,t、J=23H
z)、  4.65−4.89(4)1.m)、  8
.56 (1B、br m)製jI汁饅 [N−(4−メチルチオフェニル)チオカルバモイルメ
チレン]ビス(ホスホン酸)テトライソプロピル IR(ヌ九−ル)  :  1480. 1450. 
1090. 920゜810 cm−1 NMR(CDC13,8> ’ 1.15−1.5 (
24H1m)、2.47(IH,s)、 4.27 (
IH,t、J=21Hz)、 4.5−4.95(4B
、m)、  7.26 (2H,d、J=8.6Hz>
、  7.76 (2H。
J=7Hz), 4.23 (IH, t, J=23H
z), 4.65-4.89(4)1. m), 8
.. 56 (1B, br m) jI soup bun [N-(4-methylthiophenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosphonic acid)tetraisopropyl IR (N9-9): 1480. 1450.
1090. 920°810 cm-1 NMR (CDC13,8>' 1.15-1.5 (
24H1m), 2.47 (IH,s), 4.27 (
IH, t, J=21Hz), 4.5-4.95 (4B
, m), 7.26 (2H, d, J=8.6Hz>
, 7.76 (2H.

d、J4.6Hz)、 10.2 (IH,s)製jl
江都 [N−(4−メシルアミノフェニル)チオカルバモイル
メチレンコビス(ホスホン酸)テトライソプロピル 融点: 141−143°C IR(ヌ九−ル)  j  3300. 3100. 
1610. 1510. 1420゜1380、133
5.1250.1150゜1000 am−’ NMR(CDC1a、8 ) =1.33−1.67 
(24H9m)、3.02(31(、s)、  4.3
0 (IH,t、J=23)1z)、  4.70−4
.92(4H,rn)、 7.29および7.50 (
each 2H,d。
d, J4.6Hz), 10.2 (IH, s) jl
Eto [N-(4-mesylaminophenyl)thiocarbamoylmethylene cobis(phosphonic acid)tetraisopropyl Melting point: 141-143°C IR (nu9-r) j 3300. 3100.
1610. 1510. 1420°1380, 133
5.1250.1150°1000 am-' NMR (CDC1a, 8) = 1.33-1.67
(24H9m), 3.02 (31(,s), 4.3
0 (IH, t, J=23)1z), 4.70-4
.. 92 (4H, rn), 7.29 and 7.50 (
each 2H, d.

JJHz)、  7.45 (IH,s)、  10.
23 (IH,s)製造例25 [N−(3−メシルアミノフェニル)チオカルバモイル
メチレン]ビス(ボスホン酸)テトライソプロピル 融点: 144−145℃ IR(液膜) : 3450.3150.1600.1
380.1240゜1150 cm−’ NMR(CDCl2.δ) : 1.34−1.48 
(24H,m)、 3.06(3)1.s)、 4.3
1 (1B、t、J=22Hz>、 4.73−4.9
1(4H,nn)、  6.84 (ILbr s)、
  7.12 (LH,br d。
JJHz), 7.45 (IH,s), 10.
23 (IH,s) Production Example 25 [N-(3-mesylaminophenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(bosphonic acid)tetraisopropyl Melting point: 144-145°C IR (liquid film): 3450.3150.1600.1
380.1240°1150 cm-' NMR (CDCl2.δ): 1.34-1.48
(24H, m), 3.06 (3) 1. s), 4.3
1 (1B, t, J=22Hz>, 4.73-4.9
1 (4H, nn), 6.84 (ILbr s),
7.12 (LH,br d.

J=6Hz)、 7.32−7.39 (2H,m>、
 7.98 (IH。
J=6Hz), 7.32-7.39 (2H, m>,
7.98 (IH.

br s)、 10.29 (LH,br s)製造例
26 [N−(a−アセチルアミノフェニル ルバモイルメチレン]ビス(ホスホン酸)テトライソプ
ロピル IR (液膜) : 3500, 3300. 169
0, 1515, 1385。
br s), 10.29 (LH, br s) Production Example 26 [N-(a-acetylaminophenylrubamoylmethylene]bis(phosphonic acid)tetraisopropyl IR (liquid film): 3500, 3300. 169
0, 1515, 1385.

1260、 1100 cm−’ NM!? (CDCl2,δ) ’ 1.13−165
 (24H,m)、 2.21(3H,s)、 4.3
4 (IH,t,J=22Hz>、 4.58−4.9
8(4)1.m)、 7.55および7.76 (28
,d,J=7Hz)。
1260, 1100 cm-' NM! ? (CDCl2, δ)' 1.13-165
(24H, m), 2.21 (3H, s), 4.3
4 (IH, t, J=22Hz>, 4.58-4.9
8(4)1. m), 7.55 and 7.76 (28
, d, J=7Hz).

10、20 (IH.s) 製造例27 [N−(3−アセチルアミノフェニル)チオカルバモイ
ルメチレン]ビス(ホスホン酸)テトライソプロピル IR (液膜) : 3450, 3300, 169
0. 1610. 1550。
10, 20 (IH.s) Production Example 27 [N-(3-acetylaminophenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosphonic acid)tetraisopropyl IR (liquid film): 3450, 3300, 169
0. 1610. 1550.

1260、 1110 cm−’ NMR’(CDC13= 8 ) ’ 1.10 1.
62 (24H,m)、2−17(3H,s)、 4.
30 (1B,t,J=22Hz)、 4.55−5.
00(4H.m)、 7.30−7.62 (3H,m
)、 8.15 (IH.s)梨33−翻 メチレンビス(ポスホン酸)テトライソプロピル(66
8mg)およびカリウム第五級ブトキシド( 224m
g ) c7)無水トルエン(5mQ)中温合物を1時
間還流する。溶液を室温まで冷却し、3−(2一ピリジ
ル)−3.4−ジヒドロ−2H−ピリド[1.2−aコ
ー1.3.5−トリアジン−2.4−ジオン(2.0g
)および無水テトラヒドロフラン( 25mtr )を
加え、混合物を60°Cで30分間攪拌する。反応混合
物を氷水浴で冷却し、IN塩酸を加える。有機層を分取
し、水層を酢酸エチルで抽出する。有機層を合わせ、飽
和食塩水で洗浄し、乾燥させた後減圧濃縮する。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付しメタノール
、塩化メチレンおよびジエチルエーテル( 1 : 1
0 : 30v/v)の混合溶媒で溶出して、[N−(
2−ピリジル)カルバモイルメチレン]ビス(ホスホン
酸)テトライソプロピル(1.42g)を油状物として
得る。
1260, 1110 cm-'NMR'(CDC13=8)' 1.10 1.
62 (24H, m), 2-17 (3H, s), 4.
30 (1B, t, J=22Hz), 4.55-5.
00 (4H.m), 7.30-7.62 (3H,m
), 8.15 (IH.s) pear 33-transformed methylene bis(posphonate) tetraisopropyl (66
8mg) and potassium quint-butoxide (224m
g) c7) Reflux the warm mixture of anhydrous toluene (5 mQ) for 1 hour. The solution was cooled to room temperature and 3-(2-pyridyl)-3.4-dihydro-2H-pyrido[1.2-a-triazine-2.4-dione (2.0 g
) and anhydrous tetrahydrofuran (25 mtr) are added and the mixture is stirred at 60 °C for 30 min. Cool the reaction mixture in an ice-water bath and add IN hydrochloric acid. Separate the organic layer and extract the aqueous layer with ethyl acetate. The organic layers are combined, washed with saturated brine, dried, and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography using methanol, methylene chloride and diethyl ether (1:1).
0:30v/v) mixed solvent, [N-(
Tetraisopropyl 2-pyridyl)carbamoylmethylenebis(phosphonate) (1.42 g) is obtained as an oil.

IR C液膜) : 3360. 3250. 169
0 cm−’NMR (CDC13,l; ) :1.
 20 1− 58 (24H.tn)、 2. 30
(1)1,br s)、 3.60 (18,t.J=
20Hz)、 4.67−5、05 (4H.m)、 
7.06 (LH,dd,J=7および5Hz)、 7
.60−7.77 (18,m)、 8.12 (IH
.d。
IRC liquid film): 3360. 3250. 169
0 cm-'NMR (CDC13,l; ): 1.
20 1-58 (24H.tn), 2. 30
(1) 1,br s), 3.60 (18,t.J=
20Hz), 4.67-5, 05 (4H.m),
7.06 (LH, dd, J=7 and 5Hz), 7
.. 60-7.77 (18, m), 8.12 (IH
.. d.

J=7Hz>、 8.30 (IH.br d,、C5
Hz>、 9.11(IH,br s) 製造例29 2−ベンゾ[b]チオフェンカルボン酸(356mg>
および塩化オキサリル(0,3smQ)から合成した2
−ベンゾ[b]チオフェンカルボン酸クロリドの塩化メ
チレン(2mQ )溶液に、5℃で(アミノメチレン)
ビス(ホスホン酸)テトラエチル(606mg)、ピリ
ジン(316mg)および微量の4−(ジメチルアミン
)ピリジンの塩化メチレン(8mQ)中温合物を加える
。酢酸エチルを加えながら室温で2時間攪拌した後、反
応混合物を水、IN塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液および飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥させ、減圧濃縮する。残渣にジイソプロピルエーテ
ルを加え、濾過して〔(2−ベンゾ[b]チオフェンカ
ルボキサミド)メチレン]ビス(ホスホン酸)テトラエ
チル(790mg)を白色粉末として得、酢酸エチルお
よびn−ヘキサンの混合溶媒より再結晶する。
J=7Hz>, 8.30 (IH.br d,, C5
Hz>, 9.11 (IH, br s) Production Example 29 2-benzo[b]thiophenecarboxylic acid (356mg>
and 2 synthesized from oxalyl chloride (0,3smQ)
-benzo[b]thiophenecarboxylic acid chloride in a solution of methylene chloride (2 mQ) at 5°C (aminomethylene).
A warm mixture of bis(phosphonate)tetraethyl (606 mg), pyridine (316 mg) and a trace amount of 4-(dimethylamine)pyridine in methylene chloride (8 mQ) is added. After stirring at room temperature for 2 hours while adding ethyl acetate, the reaction mixture is washed successively with water, IN hydrochloric acid, saturated aqueous sodium bicarbonate solution, and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. Diisopropyl ether was added to the residue and filtered to obtain [(2-benzo[b]thiophenecarboxamide)methylene]bis(phosphonic acid)tetraethyl (790 mg) as a white powder, which was recrystallized from a mixed solvent of ethyl acetate and n-hexane. do.

融点:120−121℃ IR(ヌジB−ル)  :  3210. 1640.
 1630  cm−’NMR(CDC13,f; )
 ’ 1.30−1.42 (12H1m)、4.09
−4.41 (8H,m)、 5.22 (IH,td
、J=20および9Hz>、6.63  (18,d、
J=9Hz)、7.38−7.50(2Lm)、  7
.85 (LH,s)、  7.85−7.92 (2
H,m>製造例29と同様にして、以下(製造例30〜
33)の化合物を得る。
Melting point: 120-121°C IR: 3210. 1640.
1630 cm-'NMR (CDC13, f; )
' 1.30-1.42 (12H1m), 4.09
-4.41 (8H, m), 5.22 (IH, td
, J=20 and 9Hz>,6.63 (18,d,
J=9Hz), 7.38-7.50 (2Lm), 7
.. 85 (LH,s), 7.85-7.92 (2
H, m> In the same manner as Production Example 29, the following (Production Examples 30 to 30)
Compound 33) is obtained.

製造例30 [(2−キノリンカルボキサミド)メチレン]ビス(ホ
スポン酸)テトラエチル 融点: 5111−59℃ IR(ヌジョール)  :  3500. 3400.
 1680  am−1HMR(CDC13,8) ’
 1.10−1.55 (12H1m)、1.04−4
.45 (8H,m>、 5.24 (IH,td、J
=20および9Hz)、 7.65 (IH,t、J=
7H2)、 7.32 (IH,t。
Production Example 30 Tetraethyl [(2-quinolinecarboxamide)methylene]bis(phosponate) Melting point: 5111-59°C IR (Nujol): 3500. 3400.
1680 am-1HMR (CDC13,8)'
1.10-1.55 (12H1m), 1.04-4
.. 45 (8H, m>, 5.24 (IH, td, J
=20 and 9Hz), 7.65 (IH,t,J=
7H2), 7.32 (IH, t.

J−7Hz>、 7.90 (IH,d、J=7Hz)
、 8.17 (LH,d。
J-7Hz>, 7.90 (IH, d, J=7Hz)
, 8.17 (LH, d.

J=7Hz)、 8.29 (2H,q、J=10およ
び8Hz ) 。
J=7Hz), 8.29 (2H,q, J=10 and 8Hz).

8.25 (1B、d、J=9Hz) 製造例31 (ペンソイルアミノメチレン)ビス(ホスホン酸)テト
ラエチル 7l− IR(C)ICl3) + 3430.1665.16
00.1580.1480゜1390、1368 cm
−1 NMR(CDCl2.δ)i 1.31 (6H,t、
J=7)1z)、 1.35(6H,t、J=7Hz)
、  4.05−4.35 (8H,m)、  5.2
6(IH,dt、J=10. 22Hz)、  6.7
7 (IH,d、J=10Hz)。
8.25 (1B, d, J=9Hz) Production Example 31 (Pensoylaminomethylene)bis(phosphonic acid)tetraethyl 7l- IR(C)ICl3) + 3430.1665.16
00.1580.1480°1390, 1368 cm
-1 NMR(CDCl2.δ)i 1.31 (6H,t,
J=7)1z), 1.35(6H,t, J=7Hz)
, 4.05-4.35 (8H, m), 5.2
6 (IH, dt, J=10.22Hz), 6.7
7 (IH, d, J=10Hz).

7.40−7.60  (3H,m)、  7.81 
 <2H,d、J=8Hz>製造例32 [(4−クロロベンゾイルアミノ)メチレン]ビス(ホ
スホン酸)テトラエチル NMR(CDCl2. δ )  :  1.31  
(6H,t、J=7Hz)、  1.35(6H,t、
J=7Hz)、 4.22 (4H,qJ=7)1z)
、 4.23(4)1.q、J=7Hz)、  5.2
4  (IH,dt、J=10. 22Hz)。
7.40-7.60 (3H, m), 7.81
<2H, d, J=8Hz> Production Example 32 [(4-chlorobenzoylamino)methylene]bis(phosphonic acid)tetraethyl NMR (CDCl2. δ): 1.31
(6H, t, J=7Hz), 1.35 (6H, t,
J=7Hz), 4.22 (4H, qJ=7)1z)
, 4.23(4)1. q, J=7Hz), 5.2
4 (IH, dt, J=10.22Hz).

4.23 (4H,q、J=7Hz>、 5.24 (
LH,dtJ=10゜22Hz)、 6.82 (IJ
l、d、J=10Hz)、 7.44 (2H,d。
4.23 (4H, q, J=7Hz>, 5.24 (
LH, dtJ=10°22Hz), 6.82 (IJ
l, d, J=10Hz), 7.44 (2H, d.

J=8Hz)、 7.74 (2H,d、J:8Hz)
製造例33 [(2−ピリジンカルボキサミド)メチレン]ビス(ホ
スホン酸)テトラエチル IR(液膜) ’ 3500.3400.1685 c
m−’NMR(CDCl2.δ) :1.28−1.3
7 (12H,m)、 4.15−4.32 (8)1
.m>、 5.18 (1)1.td、J=20および
10Hz)、  7.27−7.51  (H(、m)
、  7.82−7.91  (LH。
J=8Hz), 7.74 (2H, d, J:8Hz)
Production Example 33 [(2-pyridinecarboxamide)methylene]bis(phosphonic acid)tetraethyl IR (liquid film)' 3500.3400.1685 c
m-'NMR (CDCl2.δ): 1.28-1.3
7 (12H, m), 4.15-4.32 (8)1
.. m>, 5.18 (1)1. td, J = 20 and 10 Hz), 7.27-7.51 (H(, m)
, 7.82-7.91 (LH.

td、J=8および2Hz>、 8.17 (LH,d
、J=8Hz)。
td, J=8 and 2Hz>, 8.17 (LH,d
, J=8Hz).

8.54  (IH,d、J40Hz>、  8.58
−8.62  (LH,m>製造例34 2−[1−(第三級ブトキシカルボニル)イミダゾール
−4−イル]酢酸(45mg)および(アミノメチレン
)ビス(ホスホン酸)テトラエチル(91mg)のN、
N−ジメチルホルムアミド(1mu )溶液に窒素気流
中水塩浴下で攪拌しながら、N−エチル−N’−(3−
ジメチルアミノプロピル)カルボジイミドの塩酸塩(4
2mg)を加え、5°Cで36時間攪拌する。反応混合
物をクロロホルム(10mQ )で希釈し、冷INクエ
ン酸水溶液(10mQ )で洗浄する。洗液をクロロホ
ルム(10mQ )で2回抽出し、有機層を全部合わせ
、硫酸ナトリウムで乾燥させ減圧濃縮する。残渣を酢酸
エチル(10mQ)に溶解させ、水(xomQ)で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後減圧濃縮して、[
[2−(1−(第三級ブトキシカルボニル)イミダゾー
ル−4−イル)アセトアミド]メチレン]ビス(ホスホ
ン酸)テトラエチル(67mg)を無色油状物として得
る。
8.54 (IH, d, J40Hz>, 8.58
-8.62 (LH, m> Production Example 34 N of 2-[1-(tert-butoxycarbonyl)imidazol-4-yl]acetic acid (45 mg) and (aminomethylene)bis(phosphonic acid)tetraethyl (91 mg) ,
N-ethyl-N'-(3-
dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (4
2 mg) and stirred at 5°C for 36 hours. The reaction mixture is diluted with chloroform (10 mQ) and washed with cold IN aqueous citric acid (10 mQ). The washings are extracted twice with chloroform (10 mQ), and all the organic layers are combined, dried over sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was dissolved in ethyl acetate (10 mQ), washed with water (xomQ), dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to give [
Tetraethyl [2-(1-(tert-butoxycarbonyl)imidazol-4-yl)acetamido]methylene]bis(phosphonate) (67 mg) is obtained as a colorless oil.

NMR(CDCl2.8 ) ’ 1.32 (6H9
t、J=61(z>、133(68,t、J=6)+z
)、 1.62 (9H,s)、 3.60 (2H,
s)。
NMR (CDCl2.8)' 1.32 (6H9
t, J=61(z>,133(68,t,J=6)+z
), 1.62 (9H,s), 3.60 (2H,
s).

4.1−4.3 (8H,m)、 5.06 (IH,
dt、J:12Hz。
4.1-4.3 (8H, m), 5.06 (IH,
dt, J: 12Hz.

24Hz>、 7.28 (11(、s)、 7.59
 (LH,d、J=12Hz>。
24Hz>, 7.28 (11(,s), 7.59
(LH, d, J=12Hz>.

8.07 (IH,s) 製造例35 (アミノメチレン)ビス(ホスホン酸)テトラエチル(
661mg)のピリジン(2mQ)溶液に室温で攪拌し
ながらベンゼンスルホン酸クロリド(0,s5ma )
および4−(ジメチルアミノ)ピリジン(50mg)を
加え、同温で4時間攪拌する。反応混合物を酢酸エチル
(2omn )で希釈し、IN塩酸で4回、水、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄する。硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を減圧留去する。残渣をシリカゲル
(20g)カラムクロマトグラフィーに付し、クロロホ
ルムおよびメタノール(20: 1 v/v)の混合溶
媒で溶出して、(フェニルスルホニルアミノメチレン)
ビス(ボスホン酸)テ[・ラエチル(364mg)を黄
色油状物として得る。
8.07 (IH,s) Production Example 35 (aminomethylene)bis(phosphonic acid)tetraethyl (
661 mg) of pyridine (2 mQ) was added with benzenesulfonic acid chloride (0.s5 mA) while stirring at room temperature.
and 4-(dimethylamino)pyridine (50 mg) were added, and the mixture was stirred at the same temperature for 4 hours. The reaction mixture is diluted with ethyl acetate (2 omn) and washed successively with 4 portions of IN hydrochloric acid, water, and saturated aqueous sodium bicarbonate solution. After drying over magnesium sulfate, the solvent is distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel (20 g) column chromatography and eluted with a mixed solvent of chloroform and methanol (20:1 v/v) to obtain (phenylsulfonylamino methylene).
Bis(bosphonate)te[·laethyl (364 mg) is obtained as a yellow oil.

IR(C)ICl3)   :  3390.  30
00.  1343.  1256゜1165 cm−
’ NMR(CDCl2.δ) ; 1.25 (6H,t
、J=7Hz>、 1.28(6H,t、J=7Hz)
、 3.90−4.20 (8H,m>、 4.23(
IH,t、J=22)1z)、  5.68  (IH
,br  s)、  7.45−7.60 (3H,m
)、 7.91 (2H,dd、J=2.8Hz)製造
例35と同様にして、以下(製造例36〜40)の化合
物を得る。
IR(C)ICl3): 3390. 30
00. 1343. 1256°1165 cm-
'NMR (CDCl2.δ); 1.25 (6H, t
, J=7Hz>, 1.28 (6H,t, J=7Hz)
, 3.90-4.20 (8H, m>, 4.23(
IH, t, J=22)1z), 5.68 (IH
, br s), 7.45-7.60 (3H, m
), 7.91 (2H, dd, J=2.8Hz) In the same manner as in Production Example 35, the following compounds (Production Examples 36 to 40) are obtained.

製造例36 (トシルアミノメチレン)ビス(ホスホン酸)テトラエ
チル NMR(CDC13,S ) ’ 1.21.45 (
1,2H1m>、2.42(3H,s)、 3.9−4
.4 (9H,m>、 7.3および7.75(4H,
ABq、J=8.4Hz) 製造例37 [(4−10ロフエニル)スルホニルアミノメチレンコ
ビス(ホスホン酸)テトラエチル融点: 130−13
1℃ NMR(CDCl2.S ) ’ 1.27 (6H1
t、J=6Hz)、1.30(6H,t、J=6Hz>
、  3.90−4.30 (8H,m>、  5.3
2(IH,br s)、  7.48 (2H,d、J
=8Hz)、  7.84 (2H。
Production Example 36 Tetraethyl (tosylaminomethylene)bis(phosphonic acid) NMR (CDC13,S)' 1.21.45 (
1,2H1m>, 2.42 (3H,s), 3.9-4
.. 4 (9H, m>, 7.3 and 7.75 (4H,
ABq, J=8.4Hz) Production Example 37 [(4-10 Lofenyl)sulfonylaminomethylenecobis(phosphonic acid)tetraethyl Melting point: 130-13
1°C NMR (CDCl2.S)' 1.27 (6H1
t, J = 6Hz), 1.30 (6H, t, J = 6Hz>
, 3.90-4.30 (8H, m>, 5.3
2 (IH, br s), 7.48 (2H, d, J
=8Hz), 7.84 (2H.

d、J=8Hz) 製造例38 [(3,4−ジクロロフェニル)スルホニルアミノメチ
レンコビス(ポスホン酸)テトラエチル融点: 104
−106℃ IR(ヌジョール)  :  3600. 3400.
 3000. 1630. 1200゜1160、10
70 cm−’ NMR(CDC13,8) ’ 1.20−1.40 
(12)1.m)、 4.00−4.40 (9H,m
>、 7.58 (LH,d、J:8.5Hz)、 7
.74(LH,dd、 J=9.0および2Hz)、 
7.99 (IH,d。
d, J=8Hz) Production Example 38 [(3,4-dichlorophenyl)sulfonylaminomethylenecobis(posphonate)tetraethyl Melting point: 104
-106℃ IR (Nujol): 3600. 3400.
3000. 1630. 1200°1160, 10
70 cm-' NMR (CDC13,8)' 1.20-1.40
(12)1. m), 4.00-4.40 (9H, m
>, 7.58 (LH, d, J: 8.5Hz), 7
.. 74 (LH, dd, J=9.0 and 2Hz),
7.99 (IH, d.

J−2Hz) 1」Δη [(2−チェニル)スルホニルアミノメチレンコビス(
ホスホン酸)テトラエチル IR(液膜) : 3070.2960.1255.1
155゜1020 cm−’ NMR(CDC13,8) ’ 1.21.5 (12
H1m>、2.3 (IHlbr)、  4.0−4.
35 (9H,m)、  7.09 (LH,dd、J
=4Hzおよび5Hz>、 7.60 (LH,dd、
J4Hzおよび5Hz)、 7.66 (IH,ddj
4Hzおよび4Hz )製造例40 [(8−キノリル)スルホニルアミノメチレン]ビス(
ホスボン酸)テトラエチル NMR(CDCl2.8 ) j 1.10 (6H,
t、J=7Hz)、 1.19(68,t、J=7Hz
)、 3.80−4.20 (8H,m)、 4.40
(IH,t、J−22Hz)、 7.57 (IH,d
d、J=8.4)1z)。
J-2Hz) 1”Δη [(2-chenyl)sulfonylaminomethylenecobis(
Tetraethyl phosphonate IR (liquid film): 3070.2960.1255.1
155°1020 cm-' NMR (CDC13,8)' 1.21.5 (12
H1m>, 2.3 (IHlbr), 4.0-4.
35 (9H, m), 7.09 (LH, dd, J
=4Hz and 5Hz>, 7.60 (LH, dd,
J4Hz and 5Hz), 7.66 (IH, ddj
4Hz and 4Hz) Production Example 40 [(8-quinolyl)sulfonylaminomethylene]bis(
Tetraethyl phosphonate NMR (CDCl2.8) j 1.10 (6H,
t, J=7Hz), 1.19(68,t, J=7Hz
), 3.80-4.20 (8H, m), 4.40
(IH, t, J-22Hz), 7.57 (IH, d
d, J=8.4)1z).

7.65 (IH,t、J−8Hz)、 8.06 (
IH,d、J=8Hz)。
7.65 (IH, t, J-8Hz), 8.06 (
IH, d, J = 8Hz).

8.29 (IH,dd、J=8.2Hz>、 8.3
3 (11(、d。
8.29 (IH, dd, J=8.2Hz>, 8.3
3 (11(, d.

J=8Hz)、 9.07 (IH,dd、J=4.2
Hz)製造例41 63.9%油性水素化ナトリウム(44mg)の蒸留テ
トラヒドロフラン(2,OmQ)中部濁液にメチレンビ
ス(ホスホン酸)テトライソプロピル(344mg)を
5°Cで一度に加え、室温で30分間攪拌する。混合物
を水浴で冷却し4−クロロフェニルイソシアネート(1
54mg)を加え、5℃で30分間、次いで室温で1時
間攪拌して、[N−(4−クロロフェニル)カルバモイ
ルコニタンコヒス(ホスボン酸)テトライソプロピルの
ナトリウム塩を含む溶液を得る。得られた溶液に沃化メ
チル(426mg)を室温で加え同温度で5時間攪拌し
た後、塩化アンモニウムの水溶液を加える。分離した油
状物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄
して乾燥さぜる。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにイオし、n−ヘキサンおよ
び酢酸エチル(1: lv/v)の混合溶媒で溶出して
、1−[N−(4−クロロフェニル)カルバモイルコニ
タン−1,1−ビス(ホスホン酸)テトライソプロピル
(399mg )を無色油状物として得る。
J=8Hz), 9.07 (IH, dd, J=4.2
Hz) Production Example 41 To a suspension of 63.9% oily sodium hydride (44 mg) in distilled tetrahydrofuran (2, OmQ) was added methylenebis(phosphonic acid)tetraisopropyl (344 mg) all at once at 5°C, and the solution was stirred at room temperature for 30 min. Stir for a minute. The mixture was cooled in a water bath and 4-chlorophenylisocyanate (1
54 mg) and stirred at 5° C. for 30 minutes and then at room temperature for 1 hour to obtain a solution containing the sodium salt of [N-(4-chlorophenyl)carbamoylconitancohis(phosboxylate)tetraisopropyl]. Methyl iodide (426 mg) was added to the resulting solution at room temperature, stirred at the same temperature for 5 hours, and then an aqueous solution of ammonium chloride was added. The separated oil is extracted with ethyl acetate, and the extract is washed with saturated brine and dried. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography and eluted with a mixed solvent of n-hexane and ethyl acetate (1: lv/v) to obtain 1-[N-(4-chlorophenyl)carbamoylconitane. Tetraisopropyl-1,1-bis(phosphonate) (399 mg) is obtained as a colorless oil.

IR(ヌ九−ル)  :  3350. 1695  
am−’tJMR(CDCl2.8 ’) 41.20
−1.55 (241(、石)、 1.70(3B、t
、ト14Hz)、 4.68−4.92 (4H,m>
、 7.28(2H,dj=8Hz)、 7.52 (
2H,d、J=8Hz)、 9.29(IH,s) 製造例2と同様にして、以下(実施例1〜31)の化合
物を得る。
IR: 3350. 1695
am-'tJMR(CDCl2.8') 41.20
-1.55 (241 (, stone), 1.70 (3B, t
, 14Hz), 4.68-4.92 (4H, m>
, 7.28 (2H, dj=8Hz), 7.52 (
2H, d, J=8 Hz), 9.29 (IH, s) In the same manner as in Production Example 2, the following compounds (Examples 1 to 31) are obtained.

実施例1 [N−(フェニル)チオカルバモイルメチレン]ビス(
ホスホン酸)のトリス(第三級ブチルアミン塩) 融点:140℃ NMR(C20,8> : 135 (27H,br 
s)、 4.05 (it(、t。
Example 1 [N-(phenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(
Tris (tertiary butylamine salt) of phosphonic acid) Melting point: 140°C NMR (C20,8>: 135 (27H, br
s), 4.05 (it(,t.

J−20Hz)、 7.3−7.75 (5H,+n)
曵皇刻1 [N−(4−クロロフェニル)カルバモイルメチレン]
ビス(ホスホン酸)のトリス(第三級ブチルアミン)塩 融点i 206−210℃ IR(ヌジョール)  :  3700−2000. 
1660. 1540. 1150゜1090、825
 cm−1 NMR(C20,8)  ’  1.4  (27t(
、br  s)、 3.23  <1)1.t。
J-20Hz), 7.3-7.75 (5H, +n)
Hanhuangki 1 [N-(4-chlorophenyl)carbamoylmethylene]
Tris(tertiary butylamine) salt of bis(phosphonic acid) Melting point i 206-210°C IR (Nujol): 3700-2000.
1660. 1540. 1150°1090, 825
cm-1 NMR (C20,8)' 1.4 (27t(
, br s), 3.23 <1)1. t.

、C20Hz)、 7.40および7.50 (4H,
ABq。
, C20Hz), 7.40 and 7.50 (4H,
ABq.

J=9Hz) 実施例3 [N−(フェニル)カルバモイルメチレン]ビア9− ス(ホスホン酸)のトリス(第三級ブチルアミン)塩 融点: 207−209℃ IR(ヌジタール)  :  3700−2000. 
1650. 1600. 1150゜1130、106
5.960 cm−’NMR(C20,S ) ’ 1
.40 (27H9br s)、3.25 (IHlt
J=9Hz) Example 3 Tris(tert-butylamine) salt of [N-(phenyl)carbamoylmethylene]via9-s(phosphonic acid) Melting point: 207-209°C IR (nugital): 3700-2000.
1650. 1600. 1150°1130, 106
5.960 cm-'NMR(C20,S)' 1
.. 40 (27H9br s), 3.25 (IHlt
.

、C20Hz>、 7.15−7.6 (5)t、m)
火農忽1 [N−(4−フルオロフェニル)カルバモイルコニタン
コビス(ホスホン酸)のトリス(第三級ブチルアミン)
塩 融点: 209−211°C IR(スジ3−ル)  :  3700−2000  
(br)、  1650  cm−1HMR(C20,
8) ’ 1.36 (27H1s)、3.23 (L
H,t−9J:20Hz)、 7.14 (2H,t、
J=8Hz>、 7.50 (28゜dd、 J=8お
よび51(z ) 実施例5 [N−(3,4−ジクロロフェニル)カルバモイルメチ
レン]ビス(ホスホン酸)のトリス(第三級ブチルアミ
ン)塩 一80= 融点: 21.6−220℃ IR(ヌジョール)  :  3600−2100  
(br)、  1660  cm−’NMR(C20,
8) : 1.35 (27H4)、 3.30 (I
H,t。
, C20Hz>, 7.15-7.6 (5)t, m)
Fire Agriculture 1 [N-(4-fluorophenyl)carbamoylconitan bis(phosphonic acid) tris(tertiary butylamine)
Salt melting point: 209-211°C IR: 3700-2000
(br), 1650 cm-1HMR (C20,
8)' 1.36 (27H1s), 3.23 (L
H, t-9J: 20Hz), 7.14 (2H, t,
J=8Hz>, 7.50 (28°dd, J=8 and 51(z)) Example 5 Tris(tertiary butylamine) of [N-(3,4-dichlorophenyl)carbamoylmethylene]bis(phosphonic acid) Salt 80 = Melting point: 21.6-220℃ IR (Nujol): 3600-2100
(br), 1660 cm-'NMR (C20,
8): 1.35 (27H4), 3.30 (I
H,t.

J−20Hz)、 7.38 (1)1.d、d、J−
9および2Hz>。
J-20Hz), 7.38 (1)1. d, d, J-
9 and 2Hz>.

7.50 (ILd、J=9t(z)、 7.81 (
LH,d、J=2Hz)実施例6 [N−(+)−)リル)カルバモイルメチレン]ビス(
ホスホン酸)のトリス(第三級ブチルアミン)塩 融点: 221−230℃ IR(ヌ九−ル)  ’  3700−2000  (
br)、  1655  am−’NMR(C20,δ
 >  :  1.36  (27H,s)、  2.
32  (3Ls)。
7.50 (ILd, J=9t(z), 7.81 (
LH, d, J = 2 Hz) Example 6 [N-(+)-)lyl)carbamoylmethylene]bis(
Tris (tertiary butylamine) salt of phosphonic acid) Melting point: 221-230°C
br), 1655 am-'NMR (C20, δ
>: 1.36 (27H, s), 2.
32 (3Ls).

3.27 (IH,t、J=20Hz)、7.25 (
2H,d、J=8Hz>。
3.27 (IH, t, J=20Hz), 7.25 (
2H, d, J = 8Hz>.

7.40 (2H,d、J=8Hz) 実施例7 [N−(4−メトキシフェニル)カルバモインレメチレ
ン]ビス(ホスホン酸)のトリス(第三級ブチルアミン
)塩 融点: 214−220°C IR(スジョール)  :  3700−2300  
(br)、  1650  cm−’NMR(C20,
δ> : 1.37 (27)1.s)、 3.27 
(IH,t。
7.40 (2H, d, J=8Hz) Example 7 Tris(tertiary butylamine) salt of [N-(4-methoxyphenyl)carbamoin remethylene]bis(phosphonic acid) Melting point: 214-220°C IR (Sujoor): 3700-2300
(br), 1650 cm-'NMR (C20,
δ>: 1.37 (27)1. s), 3.27
(IH, t.

J=20Hz)、3.85 (38,s)、  7.0
2 (2H,d。
J=20Hz), 3.85 (38,s), 7.0
2 (2H, d.

J=8Hz>、7.45 (2H,d、C3Hz)実施
例8 1−[N−(4−クロロフェニル)カルバモイル]エタ
ンー1.1−ビス(ホスホン酸)のトリス(第三級ブチ
ルアミン)塩 融点: 237−239℃ IR(ヌ九−ル)  :  3700−2000  (
br)、  1650  cm−1HMR(C20、δ
) : 1.36 (27H,s)、 1.56 (3
8,t。
J=8Hz>, 7.45 (2H, d, C3Hz) Example 8 Melting point of tris(tert-butylamine) salt of 1-[N-(4-chlorophenyl)carbamoyl]ethane-1,1-bis(phosphonic acid) : 237-239℃ IR: 3700-2000 (
br), 1650 cm-1HMR (C20, δ
): 1.36 (27H,s), 1.56 (3
8,t.

J=14Hz)、 7.38 (2H,d、J=8Hz
)、 7.50 (2Ld、J=8Hz) 夾舅珂1 [N−(4−クロロフェニル)チオカルバモイルメチレ
ン]ビス(ホスホン酸)のトリス(第三級ブチルアミン
)塩 融点: 206−208℃ NMR(C20,δ) : 1.34 (27Lm>、
 4.08 (IH,t。
J=14Hz), 7.38 (2H,d, J=8Hz
), 7.50 (2Ld, J=8Hz) Tris(tert-butylamine) salt of [N-(4-chlorophenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosphonic acid) Melting point: 206-208℃ NMR( C20, δ): 1.34 (27Lm>,
4.08 (IH, t.

J=22Hz>、 7.47および7.60 (4H,
ABq。
J=22Hz>, 7.47 and 7.60 (4H,
ABq.

J=8)1z) 実施例10 [N−(1−ナフチル)チオカルバモイルメチレン]ビ
ス(ポスポン酸)のビス(第三級ブチルアミン)塩 融点: 160’C(分解) NMR(C20,δ)=1.35 (18H,s)、 
4.24 (LH,t。
J=8)1z) Example 10 Bis(tert-butylamine) salt of [N-(1-naphthyl)thiocarbamoylmethylene]bis(posonic acid) Melting point: 160'C (decomposition) NMR(C20, δ)= 1.35 (18H, s),
4.24 (LH,t.

J=22Hz>、 7.60−8.23 (78,m)
実施例11 [N−(3−トリフルオロメチルフェニル)チオカルハ
モイルメチレンコビス(ホスポン酸)のジナトリウム塩 融点=218°C(分解) IR(ヌジョール)  :  3300. 1600.
 14.10. 1170. 1130゜1.070.
890 cm’ NMR(C20,l; ) ’ 4−21 (IH,t
、J=20Hz)、 7−60−7.77 (2H,+
n)、 7.82 (IH,m)、 8.10 (LH
,s)実施例12 [N−(4−トリフルオロメチルフェニル)チオカルバ
モイルメチレン]ビス(ホスホン酸)のジナトリウム塩 融点:218°C(分解) IR(ヌジa−ル) 二 3260. 1610. 1
425. 1400. 1335゜1170、1065
 cm−’ NMR(C20,δ) : 4.11 (IH,t、J
=20.7)1z)、 7.80および7.88 (4
H,ABq、J=8.8Hz)火】d」す [N−(3−クロロフェニル)チオカルバモイルメチレ
ン]ビス(ホスポン酸)のシナ)・リウム塩 融点:224℃(分解) IR(ヌジョール)  :  3300. 3200.
 2350. 1595. 1400゜1255、12
00.1170.1090 cm−’実施例14 [N−(2−クロロフェニル)チオカルバモイルメチレ
ン]ビス(ホスホン酸)のジナトリウム塩 融点: 255−257℃(分解) IR(ヌジシール)  ’  3700−2400  
(br)、  1590. 1150゜1120 cm
−1 84一 実施例15 [N−(4−フルオロフェニル)チオカルバモイルメチ
レンコビス(ホスホン酸)のジナトリウム塩 融点: 247−249°C(分解) IR(ス九−ル)  ’  3700−2300  (
br)、  1220゜1090 cm’ NMR(C20,8) ’ 4. to (LHlt、
J=21Hz)、?−21(2H,tJ=9Hz)、 
7.58 (2H,dd、J=9および5Hz) 火1目1秒 [N−(p−トリル)チオカルバモイルメチレンコビス
(ホスホン酸)のジナトリウム塩融点: 255−25
8℃(分解) IR(Xジ、−ル)  :  3700−2300  
(br、)、  1520゜1150 cm−’ NMR(C20,δ) : 2.37 (3H,s)、
 4.04 (LH,t、。
J=22Hz>, 7.60-8.23 (78,m)
Example 11 [Disodium salt of N-(3-trifluoromethylphenyl)thiocarhamoylmethylene cobis(phosponic acid) Melting point = 218°C (decomposition) IR (Nujol): 3300. 1600.
14.10. 1170. 1130°1.070.
890 cm' NMR (C20,l; )' 4-21 (IH,t
, J=20Hz), 7-60-7.77 (2H, +
n), 7.82 (IH, m), 8.10 (LH
, s) Example 12 Disodium salt of [N-(4-trifluoromethylphenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosphonic acid) Melting point: 218°C (decomposition) IR (nudial) 2 3260. 1610. 1
425. 1400. 1335°1170, 1065
cm-' NMR (C20, δ): 4.11 (IH, t, J
=20.7)1z), 7.80 and 7.88 (4
H, ABq, J = 8.8 Hz) Tue] d's[N-(3-chlorophenyl)thiocarbamoylmethylene] bis(phosponic acid) Cina) lithium salt Melting point: 224°C (decomposition) IR (Nujol): 3300. 3200.
2350. 1595. 1400°1255, 12
00.1170.1090 cm-'Example 14 Disodium salt of [N-(2-chlorophenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosphonic acid) Melting point: 255-257°C (decomposition) IR (nudisil)' 3700-2400
(br), 1590. 1150°1120 cm
-1 84-Example 15 Disodium salt of [N-(4-fluorophenyl)thiocarbamoylmethylenecobis(phosphonic acid) Melting point: 247-249°C (decomposition) IR (Skyl)' 3700-2300 (
br), 1220°1090 cm' NMR (C20,8)' 4. to (LHlt,
J=21Hz),? -21 (2H, tJ=9Hz),
7.58 (2H, dd, J=9 and 5Hz) Fire 1 second 1 second [Disodium salt of N-(p-tolyl)thiocarbamoylmethylenecobis(phosphonic acid) Melting point: 255-25
8℃ (decomposition) IR (X di, -l): 3700-2300
(br,), 1520°1150 cm-' NMR (C20, δ): 2.37 (3H, s),
4.04 (LH,t,.

J:20Hz>、 7.32および7.52 (2H,
dd、、C8)1z)火−施例17 [N−(2−メトキシフェニル イルメチレン]ビス(ホスホン酸)のジナトリウム塩 融点=227℃(分解) IR  (スジョール)  :  3605,  33
50,  1600.  1540,  1400。
J: 20Hz>, 7.32 and 7.52 (2H,
dd,, C8) 1z) Fire - Example 17 Disodium salt of [N-(2-methoxyphenylylmethylene]bis(phosphonic acid) Melting point = 227°C (decomposition) IR (Sujol): 3605, 33
50, 1600. 1540, 1400.

1240、 1160. 1050 cm−’NMR 
(C20,S ) ’ 3. 90 (3H,s)、4
− 09 ( LH.t。
1240, 1160. 1050 cm-'NMR
(C20,S)' 3. 90 (3H,s), 4
-09 (LH.t.

J=20Hz)、 7.03−7.19 (2H,m)
、 7.37 (1)1.t。
J=20Hz), 7.03-7.19 (2H, m)
, 7.37 (1)1. t.

J=8)1z)、  8.14 (ILd,J=8)1
z)叉11汁l [N−(3.4−ジクロロフェニル)チオカルバモイル
メチレン]ビス(ホスホン酸)のジナトリウム塩 融点j 24B−250℃(分解) IR  (ヌ九−ル)  :  3700−2300 
 (br)、  1190。
J=8)1z), 8.14 (ILd, J=8)1
z) 11 juice l Disodium salt of [N-(3,4-dichlorophenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosphonic acid) Melting point j 24B-250°C (decomposition) IR (N9-9): 3700-2300
(br), 1190.

1090 cm−’ NMR (C20,S ) :4.03 (LH,t,
J=20Hz)、 7.53−7、64 (2H,m>
、 8.03 (1.)1.s>火1−佐l CN−C2−ピリジル)カルバモイルメチレン]ビス(
ボスボン酸)のジナトリウム塩融点: >300℃ IR  (スジうール)  ’  3700−2100
  (br)、  1675  cm−’NMR  (
C20, δ )  :  3.47  (18,t,
J=20Hz)、  7.27(LH.tJ=6Hz>
、 7.83 (1.T(、d,J=8Hz)、 7.
95(IH.t.J=8Hz)、 8.29 (IH.
d,J=6Hz)犬嵐孤迎 (N−(2−ベンツ゛[b]チェニル)チオカルバモイ
ルメチレン]ビス(ポスボン酸)のジナトリウム塩 融点i >280℃ IR  (ヌジョール)  :  3700−2:to
o  (br)、  1460,  1410。
1090 cm-' NMR (C20,S): 4.03 (LH,t,
J=20Hz), 7.53-7, 64 (2H, m>
, 8.03 (1.)1. s>Fire1-Sal CN-C2-pyridyl)carbamoylmethylene]bis(
Disodium salt of bosonic acid) Melting point: >300℃
(br), 1675 cm-'NMR (
C20, δ): 3.47 (18,t,
J=20Hz), 7.27(LH.tJ=6Hz>
, 7.83 (1.T(,d,J=8Hz), 7.
95 (IH.t.J=8Hz), 8.29 (IH.t.J=8Hz),
d, J = 6Hz) Inuarashi Koei (N-(2-benz[b]chenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(posboxylic acid) disodium salt Melting point i >280°C IR (Nujol): 3700-2:to
o (br), 1460, 1410.

1230、 1160 cm−’ NMR (C20,8 ) ’ 4. 02 (IH,
t.J=20Hz)、 7. 35−7、47 (2H
,m)、 7.45 (LH,s)、 7.85 (I
H,d。
1230, 1160 cm-' NMR (C20,8)' 4. 02 (IH,
t. J=20Hz), 7. 35-7, 47 (2H
, m), 7.45 (LH,s), 7.85 (I
H,d.

J:11Hz)、 7.97 (IH,d,J=15H
z>衷]■(’II丼 [N−(2−トリフルオロメチルフェニル)テオカルバ
モイルメチレン]ビス(ホスホン酸)のジナトリウム塩 融点 : 212’C(分解) IR  (ヌジョール)  :  3250,  24
00.  1530,  1410,  1320。
J: 11Hz), 7.97 (IH, d, J=15H
z>衷】■('IIdon [N-(2-trifluoromethylphenyl)theocarbamoylmethylene]bis(phosphonic acid) disodium salt Melting point: 212'C (decomposition) IR (nujol): 3250, 24
00. 1530, 1410, 1320.

1150、 1060 cm−’ NMR (C20,S ) ’ 4. ta (LH.
t,J=21Hz)、 7. 52−7、60 (IH
,m)、  7.65−7.76 (2H,m)、  
7.83(LH.d.J=8)1z) 実施例22 [N−(4−クロロ−3−トリフルオロメチルフェニル
)チオカルバモイルメチレン スホン酸)のジナトリウム塩 融点:245℃(分解) IR  (ヌジョール>  :  3350,  32
00,  1620.  1560.  14g5。
1150, 1060 cm-' NMR (C20,S)' 4. ta (LH.
t, J=21Hz), 7. 52-7, 60 (IH
, m), 7.65-7.76 (2H, m),
7.83 (LH.d.J=8)1z) Example 22 Disodium salt of [N-(4-chloro-3-trifluoromethylphenyl)thiocarbamoylmethylenesulfonic acid) Melting point: 245°C (decomposed) IR (Nujor>: 3350, 32
00, 1620. 1560. 14g5.

1415、 1320 cm−1 NMR (C20,δ) : 4.00 (IHi,J
=20Hz)、 7.68(LH,d,J=9Hz)、
 7.88 (IH.d,J=9Hz>、 8.29(
IH,s) 実1■江翻 IN−(4−メトキシ−3−トリフルオロメチルフェニ
ル)チオカルバモ、イルメチレン]ヒス(ポスボン酸)
のジナトリウム塩 融点: 249−252℃(分解) IR  (ス九−ル)  :  3250,  235
0,  1505,  1325.  1280。
1415, 1320 cm-1 NMR (C20, δ): 4.00 (IHi, J
= 20Hz), 7.68 (LH, d, J = 9Hz),
7.88 (IH.d, J=9Hz>, 8.29(
IH, s) Fruit 1 In-(4-methoxy-3-trifluoromethylphenyl)thiocarbamo, ylmethylene]his(posubonic acid)
Disodium salt Melting point: 249-252℃ (decomposition) IR (Skyl): 3250, 235
0, 1505, 1325. 1280.

1130 cm−’ NMR (C20,δ) : 4.05 (IH,t,
J−20Hz>、 7.28(18,d,J=9Hz>
、  ?.77  (1)1,dj=9Hz>、  7
.97(IH.d,J:2Hz> 求施例24 (N−メチルカルバモイルメチレン スボン酸)のビス(第三級ブチルアミン)塩融点;22
9℃(分解〉 IR  (スジゴール)  :  3600−2000
.  1645.  1150  cm−’NMR (
C20,l; ) :1.、36 (18H,s)、2
.79 (3H,s)。
1130 cm-' NMR (C20, δ): 4.05 (IH, t,
J-20Hz>, 7.28 (18, d, J=9Hz>
, ? .. 77 (1) 1, dj=9Hz>, 7
.. 97 (IH.d, J: 2Hz> Example 24 Bis(tertiary butylamine) salt melting point of (N-methylcarbamoylmethylenesulfonic acid); 22
9℃ (decomposition) IR (sujigor): 3600-2000
.. 1645. 1150 cm-'NMR (
C20,l; ) :1. , 36 (18H,s), 2
.. 79 (3H, s).

3、22 (IH,t,J=21Hz)実施例25 [N−(n−ブチル)チオカルバモイルメチレン]ビス
(ホスボン酸)のジナトリウム塩融点: >250℃ IR(スジシール)  :  3500. 3250.
 1560. 1280. 1180゜1065 cm
”” NMR(C20,8) ’ 0.94 (3H1t、J
=7Hz)、1.33−1.51(2H,m)、 1.
51−1.69 (2H,m)、  3.61 (2H
,t。
3, 22 (IH, t, J = 21 Hz) Example 25 Disodium salt of [N-(n-butyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosboxylic acid) Melting point: >250°C IR (sudisil): 3500. 3250.
1560. 1280. 1180°1065 cm
"" NMR (C20,8) ' 0.94 (3H1t, J
=7Hz), 1.33-1.51 (2H, m), 1.
51-1.69 (2H, m), 3.61 (2H
,t.

J=8Hz)、  3.91 (1)1.t、、J=2
1Hz)実施例26 [N−(4−トリフルオロメチルフェニル)カルバモイ
ルメチレンコビス(ホスホン酸)のジナトリウム塩 融点: >250°C IR(スジシール)  :  3700−3000  
(br)、  2300. 1650゜1600、13
35.1100 am−’NMR(C20,S ) ’
 3.31. <1)1.t、J=20Hz)、7.7
0(4H,s) 実施例27 [N−(4−メチルチオフェニル モイルメチレン]ビス(ホスホン酸)のジナトリウム塩 融点=215°C(分解〉 IR  (スジシール)  :  3500,  33
00.  1500,  1390,  11.70。
J=8Hz), 3.91 (1)1. t, , J=2
1 Hz) Example 26 Disodium salt of [N-(4-trifluoromethylphenyl)carbamoylmethylene cobis(phosphonic acid) Melting point: >250°C IR (striped seal): 3700-3000
(br), 2300. 1650°1600, 13
35.1100 am-'NMR(C20,S)'
3.31. <1)1. t, J=20Hz), 7.7
0(4H,s) Example 27 Disodium salt of [N-(4-methylthiophenylmoylmethylene]bis(phosphonic acid) Melting point = 215°C (decomposition) IR (striped seal): 3500, 33
00. 1500, 1390, 11.70.

1065 am−’ NMR  (C20,l;  )  : 2.5  (
IH,s)、 4.09  <18.t。
1065 am-' NMR (C20,l; ): 2.5 (
IH,s), 4.09 <18. t.

J−211+z)、  7.4  (2H,d,J=8
.6Hz)、  7.59  (2H。
J-211+z), 7.4 (2H, d, J=8
.. 6Hz), 7.59 (2H.

dj=8.6Hz> 実施例28 [N−(4−メシルアミノフェニル)チオカルバモイル
メチレン]ビス(ホスホン酸)のジナトリウム塩 融点=225℃(分解) IR  (スジシール) :  3200.  235
0,  1510.  1320。
dj=8.6Hz> Example 28 Disodium salt of [N-(4-mesylaminophenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosphonic acid) Melting point = 225°C (decomposition) IR (striped seal): 3200. 235
0, 1510. 1320.

1150 cm−’ NMR (C20.8 ) ’ 3. 12 (3)1
.s)、4. 08 (LH,t。
1150 cm-' NMR (C20.8)' 3. 12 (3)1
.. s), 4. 08 (LH, t.

、C20Hz)、 7.34および7.65 (eac
h 2H,d。
, C20Hz), 7.34 and 7.65 (eac
h 2H, d.

J=9Hz ) 実施例29 [N−C3−メシルアミノフェニル バモイルメチレン]ビス(ホスホン酸)のジナトリウム
塩 融点:212℃〈分解) IR  (スジシール)  :  3300,  24
00,  1620.  1340,  1160。
J=9Hz) Example 29 Disodium salt of [N-C3-mesylaminophenylbamoylmethylene]bis(phosphonic acid) Melting point: 212°C (decomposition) IR (striped seal): 3300, 24
00, 1620. 1340, 1160.

1080 cm””’ NMR (C20,δ) : 3.12 (3)1.s
)、 4.80 (IH,t。
1080 cm""' NMR (C20, δ): 3.12 (3)1. s
), 4.80 (IH, t.

J=20Hz>、7.22−7.25  (LH,br
 d,J=6Hz>。
J=20Hz>, 7.22-7.25 (LH, br
d, J=6Hz>.

7、45−7.49  (2H,m>、  7.73 
(IH,br s)実施例39 [N−(4−アセチルアミノフェニル ルバモイルメチレン]ビス(ホスホン*)のジナトリウ
ム塩 融点:218℃(分解) IR  (スジシール)  :  3250,  23
50,  1660.  1510,  1400。
7, 45-7.49 (2H, m>, 7.73
(IH, br s) Example 39 Disodium salt of [N-(4-acetylaminophenylrubamoylmethylene]bis(phosphone*)) Melting point: 218°C (decomposition) IR (striped seal): 3250, 23
50, 1660. 1510, 1400.

1140、 1060 cm−1 NMR (C20,8 ) ’ 2. 18 (3H,
s)、 4. 80 (IH,t。
1140, 1060 cm-1 NMR (C20,8)' 2. 18 (3H,
s), 4. 80 (IH, t.

J−20)1z)、 7.50および7.64 (2H
,d,J=8Hz>夫1作丼 [N−(3−アセチルアミノフェニル)チオカルバモイ
ルメチレンコビス(ホスホン酸)のジナトリウム塩 融点:209°C(分解) IR  (スジシール)  :  3200,  23
50,  1670,  1605,  1550。
J-20) 1z), 7.50 and 7.64 (2H
, d, J = 8 Hz > Huo Isakudon [Disodium salt of N-(3-acetylaminophenyl)thiocarbamoylmethylenecobis(phosphonic acid) Melting point: 209°C (decomposition) IR (striped seal): 3200, 23
50, 1670, 1605, 1550.

=92− 1160、 1080 cm−’ NMR  (C20,  δ )  :  2.16 
 (311,s)、  4.80  (H(、t。
=92-1160, 1080 cm-' NMR (C20, δ): 2.16
(311,s), 4.80 (H(,t.

J=20Hz)、7.35−7.57 (2H,m)、
7.76  (HLbr s) 製造例29と同様にして、以下(実施例32〜37)の
化合物を得る。
J=20Hz), 7.35-7.57 (2H, m),
7.76 (HLbr s) In the same manner as in Production Example 29, the following compounds (Examples 32 to 37) are obtained.

実施例32 [(2−ベンゾ[b]チオフェンカルボキサミド)メチ
レン]ビス(ホスボン酸)のビス(第三級ブチルアミン
)塩 融点; 234−238°C IR  (スジシール)  :  3700−2050
  (br)、  1640  cm−’NMR (C
20,l; ) ’ 1.40 (18H,s)、4.
59 (IH,t。
Example 32 Bis(tert-butylamine) salt of [(2-benzo[b]thiophenecarboxamide)methylene]bis(phosphonic acid) Melting point; 234-238°C IR (sudisil): 3700-2050
(br), 1640 cm-'NMR (C
20,l; )' 1.40 (18H,s), 4.
59 (IH, t.

J=20Hz>、 7.43−7.58 (2H,m>
、 7.95−8.08(28,m)、 8.11 (
1)1,s)実施例33 [(2−キノリンカルボキサミド)メチレン]ビス(ホ
スホン酸)のトリス(第三級ブチルアミン)塩 IR  (スジシール)  :  3700−2000
  (br)、  1660  cm−1NMR(C2
0,l; ) j 1.46 (27H,s)、 4.
61 (IH,t。
J=20Hz>, 7.43-7.58 (2H, m>
, 7.95-8.08 (28, m), 8.11 (
1) 1,s) Example 33 [(2-quinolinecarboxamido)methylene]bis(phosphonic acid) tris(tertiary butylamine) salt IR (sudisyl): 3700-2000
(br), 1660 cm-1 NMR (C2
0,l; ) j 1.46 (27H,s), 4.
61 (IH, t.

J=20Hz)、  7.76 (IH,t、J=11
Hz>、  7.94  (1,H。
J=20Hz), 7.76 (IH, t, J=11
Hz>, 7.94 (1,H.

t、J=11)+z>、  8.08 (IH,d、J
=8Hz)、  8.20(2H,、tJ=11Hz>
、  8.58 (LH,d、J=8Hz)実施例34 (ベンゾイルアミノメチレン)ビス(ポスホン酸)のジ
ナトリウム塩 融点: >260℃ NMR(C20,8) : 4.66 (LH,t、J
=20Hz)、 7.20−7.50 (3H,m>、
 7.85 (2H,d、J=8Hz)実施例35 [(4−クロロベンゾイルアミン)メチレン]ビス(ホ
スホン酸)のジナトリウム塩 融点: >260℃ NMR(C20,δ) i 4.65 (IH,tj=
20Hz)、 7.55(2Ld、J=91(z)、 
7.83 (2)1.d、J=9)+z>実施例36 [(2−ピリジンカルボキサミド)メチレンコビス(ホ
スホン酸)のジナトリウム塩 融点: >300℃ IR(スジミール)  :  3700−2300  
(br)、  1670  cm−1BMR(C20,
δ) : 4.64 (LH,t、、T=20H2)、
 7.64−7.71  (LH,m)、  8.04
−8.14  (2H,m>、  8.66(IH,d
J=5Hz) 去】■4打 [(2−(イミダゾール−4−イル)アセトアミド)メ
チレン]ビス(ポスホン酸) 融点: 247−250°C NMR(C20,l;  )  : 3−77  (2
H1s)、 4.55  (IHlt。
t, J=11)+z>, 8.08 (IH, d, J
=8Hz), 8.20(2H,,tJ=11Hz>
, 8.58 (LH, d, J=8Hz) Example 34 Disodium salt of (benzoylaminomethylene)bis(posphonic acid) Melting point: >260°C NMR (C20,8): 4.66 (LH, t, J
=20Hz), 7.20-7.50 (3H, m>,
7.85 (2H, d, J = 8 Hz) Example 35 Disodium salt of [(4-chlorobenzoylamine)methylene]bis(phosphonic acid) Melting point: >260°C NMR (C20, δ) i 4.65 ( IH,tj=
20Hz), 7.55 (2Ld, J=91(z),
7.83 (2)1. d.
(br), 1670 cm-1BMR (C20,
δ): 4.64 (LH,t,,T=20H2),
7.64-7.71 (LH, m), 8.04
−8.14 (2H, m>, 8.66 (IH, d
J=5Hz) ■4 strokes [(2-(imidazol-4-yl)acetamido)methylene]bis(posphonic acid) Melting point: 247-250°C NMR (C20,l; ): 3-77 (2
H1s), 4.55 (IHlt.

、C21Hz>、 7.24 (LH,s)、 8.5
1 (18,s)製造例35と同様にして、以下(実施
例38〜43)の化合物を得る。
, C21Hz>, 7.24 (LH,s), 8.5
1 (18, s) In the same manner as in Production Example 35, the following compounds (Examples 38 to 43) are obtained.

実施例38 (フェニルスルホニルアミノメチレン)ビス(ホスホン
酸) 融点: 215−216℃ NMR(C20,δ >  :  3.95  (LH
,t、J=21Hz>、  7.50−7.70 (3
H,m)、 7.89 (IH,dd、J=1.8Hz
)実施例39 (l・シルアミノメチレン)ビス(ホスホン酸)融点:
 232−233°C NMR(C20,δ )  i  3.98  (IH
4,J=21Hz)、  7.78  および7.41
 (4H,ABq、J=8.1Hz>火]α乳す [(4−クロロフェニル)スルホニルアミノメチレン]
ビス(ホスホン酸)のジナトリウム塩融点: >260
℃ NMR(C201) : 3.80 (IHl、J=2
0Hz)、 7.59(2H,d、J=8Hz>、 7
.88 (2B、d、J=8Hz)実施例41 [(3,4−ジクロロフェニル)スルホニルアミノメチ
レンコビス(ホスホン酸) 融点j >250℃ IR(スジミール)  :  3100. 1345.
 1270. 1230゜1050 cm−’ NMR(C20,8) : 3.74 (1)1.t、
J=20Hz)、 7.70(IH,d、J=9Hz>
、 7.80 (LH,d、J=9Hz>、 8.09
(IH,s) 実施例42 [(2−チェニル)スルホニルアミノメチレン]ビス(
ポスホン酸) 融点:231°C(分解) IR(スジミール>  :  3540. 1325.
 1165  cm−1BMR(C20,8) : 3
.98 (IH,t、J=21Hz)、 7.1−7.
2(IH,m>、 7.73 (IH,d、J=3.5
Hz)、 7.79 (IH。
Example 38 (Phenylsulfonylaminomethylene)bis(phosphonic acid) Melting point: 215-216°C NMR (C20, δ > 3.95 (LH
, t, J=21Hz>, 7.50-7.70 (3
H, m), 7.89 (IH, dd, J=1.8Hz
) Example 39 (l-cylaminomethylene)bis(phosphonic acid) Melting point:
232-233°C NMR (C20, δ) i 3.98 (IH
4, J=21Hz), 7.78 and 7.41
(4H, ABq, J=8.1Hz>Tuesday) α Milk [(4-chlorophenyl)sulfonylaminomethylene]
Disodium salt of bis(phosphonic acid) Melting point: >260
°C NMR (C201): 3.80 (IHL, J=2
0Hz), 7.59 (2H, d, J=8Hz>, 7
.. 88 (2B, d, J = 8 Hz) Example 41 [(3,4-dichlorophenyl)sulfonylaminomethylene cobis(phosphonic acid) Melting point j >250°C IR (Sujimil): 3100. 1345.
1270. 1230°1050 cm-' NMR (C20,8): 3.74 (1)1. t,
J=20Hz), 7.70(IH, d, J=9Hz>
, 7.80 (LH, d, J=9Hz>, 8.09
(IH,s) Example 42 [(2-chenyl)sulfonylaminomethylene]bis(
(Posphonic acid) Melting point: 231°C (decomposition) IR (Sujimeal>: 3540. 1325.
1165 cm-1BMR (C20,8): 3
.. 98 (IH, t, J=21Hz), 7.1-7.
2 (IH, m>, 7.73 (IH, d, J=3.5
Hz), 7.79 (IH.

d、J=5Hz> K五何郵 [(8−キノリル)スルホニルアミノメチレン]ビス(
ホスホン酸)のジナトリウム塩融点i >260℃ NMR(C20,δ) :3.65 (IH,t、J=
19Hz)、 7.61(LH,dJ=3.7Hz)、
 7.65 (IH,tj=7Hz>。
d, J = 5Hz>
Phosphonic acid) disodium salt Melting point i >260°C NMR (C20, δ): 3.65 (IH, t, J=
19Hz), 7.61 (LH, dJ=3.7Hz),
7.65 (IH, tj=7Hz>.

8.11 (LH,d、J=7Hz)、 8.40 (
18,dJ=7Hz>。
8.11 (LH, d, J=7Hz), 8.40 (
18, dJ=7Hz>.

8.44 (IH,d、J=7Hz)、 8.96 (
1)1.d、J=3Hz)K凰輿M [N−(フェニル)チオカルバモイルメチレンコビス(
ホスホン酸)テトライソプロピル(0,101g)(7
)塩化メチレン(4mll)溶液に5℃でヨードトリメ
チルシラン(0,1smQ)を一度に加え、室温で30
分間攪拌した後、水で抽出する。抽出液を塩化メチレン
で洗浄し、溶媒を減圧下、トルエンと共沸留去する。得
られた[N−(フェニル)チオカルバモイルメチレンコ
ビス(ホスボン酸)を含む残渣をエタノール(2,1m
fl)に溶解させ、第三級ブチルアミン(0,11mQ
 )を加える。溶媒を留去し、残渣をエタノールおよび
ジエチルエーテルの混合溶媒で粉末化する。得られた粉
末を水に溶解さ廿、凍結乾燥させて[N−(フェニル)
チオカルバモイルメチレンコビス(ポスホン酸)のトリ
ス(第三級ブチルアミン)塩(93mg)を無色粉末と
して得る。
8.44 (IH, d, J=7Hz), 8.96 (
1)1. d, J=3Hz) K凰輿M [N-(phenyl)thiocarbamoylmethylenecobis(
Tetraisopropyl phosphonate (0,101g) (7
) Iodotrimethylsilane (0.1 smQ) was added at once to a methylene chloride (4 ml) solution at 5°C, and the mixture was heated for 30 min at room temperature.
After stirring for a minute, extract with water. The extract is washed with methylene chloride, and the solvent is azeotropically distilled off with toluene under reduced pressure. The resulting residue containing [N-(phenyl)thiocarbamoylmethylenecobis(phosboxylic acid) was dissolved in ethanol (2.1 m
fl) and tertiary butylamine (0.11 mQ
) is added. The solvent is distilled off, and the residue is powdered with a mixed solvent of ethanol and diethyl ether. The resulting powder was dissolved in water and lyophilized to give [N-(phenyl)
Tris(tert-butylamine) salt (93 mg) of thiocarbamoyl methylene cobis(posphonic acid) is obtained as a colorless powder.

融点=140℃ NMR(C20,f; ) =1.35 (27H,b
r s)、 4−05 (IH9tJ=20Hz>、 
7.3−7.75 <5H,m)実施例44と同様にし
て、以下(実施例45〜54)の化合物を得る。
Melting point = 140°C NMR (C20, f; ) = 1.35 (27H, b
rs), 4-05 (IH9tJ=20Hz>,
7.3-7.75 <5H, m) In the same manner as in Example 44, the following compounds (Examples 45 to 54) are obtained.

火1−例μ [N−(4−クロロフェニル)カルバモイルメチレン]
ビス(ホスホン酸)のトリス(第三級ブチルアミン)塩 融点: 206−210℃ IR(ヌ九−ル)  :  3700−2000. 1
660. 1540. 1150゜1090、825 
Cm ’ NMR(C20,8>  ’  1.4  <27!(
、br  s)、  3.23  (LHlt。
Fire 1 - Example μ [N-(4-chlorophenyl)carbamoylmethylene]
Tris(tertiary butylamine) salt of bis(phosphonic acid) Melting point: 206-210°C IR: 3700-2000. 1
660. 1540. 1150°1090, 825
Cm'NMR(C20,8>' 1.4 <27!(
, br s), 3.23 (LHlt.

J=20Hz>、 7.40および7.50 (4H,
ABq。
J=20Hz>, 7.40 and 7.50 (4H,
ABq.

J=9Hz ) K攬久郵 [N−(フェニル)カルバモイルコニタン]ヒス(ホス
ポン酸)のトリス(第三級ブチルアミン)塩 融点: 207−209°C IR(スジョール)  :  3700−2000. 
1650. 1600. 1150゜1130、106
5.960 cm−’NMR(、C20,8) :1.
40 (27H,br s)、 3.25 (lf(、
’t。
J=9Hz) Tris(tertiary butylamine) salt of [N-(phenyl)carbamoylconitane]his(phosponic acid) Melting point: 207-209°C IR (sujoor): 3700-2000.
1650. 1600. 1150°1130, 106
5.960 cm-'NMR (,C20,8): 1.
40 (27H,br s), 3.25 (lf(,
't.

J=20Hz>、 7.15−7.6 (5H,m)9
9一 実施例47 [N−(4−フルオロフェニル)カルバモイルメチレン
]ビス(ホスホン酸)のトリス(第三級ブチルアミン)
塩 融点: 209−211℃ IR(スジシール)  :  3700−2000  
(br)、  1650  cm−1HMR(C20,
8> : 1.36 (27H,s)、 3.23 (
IH,t。
J=20Hz>, 7.15-7.6 (5H, m)9
91 Example 47 Tris(tertiary butylamine) of [N-(4-fluorophenyl)carbamoylmethylene]bis(phosphonic acid)
Salt melting point: 209-211℃ IR (streak seal): 3700-2000
(br), 1650 cm-1HMR (C20,
8>: 1.36 (27H, s), 3.23 (
IH,t.

J=20Hz>、 7.14 (2H,t、J−8Hz
)、 7.50 (2H。
J=20Hz>, 7.14 (2H,t, J-8Hz
), 7.50 (2H.

dd、 J=8および5Hz) 実施例48 [N−(3,4−ジクロロフェニル)カルバモイルメチ
レン]ビス(ホスホン酸)のトリス(第三級ブチルアミ
ン)塩 融点: 216−220℃ IR(スジ3−ル)  :  3600−2100  
(br)、  1660  am−1HMR(C20,
δ)’ : 1.35 (27H,s)、 3.30 
(LH,t。
dd, J=8 and 5 Hz) Example 48 Tris(tert-butylamine) salt of [N-(3,4-dichlorophenyl)carbamoylmethylene]bis(phosphonic acid) Melting point: 216-220°C IR ): 3600-2100
(br), 1660 am-1HMR (C20,
δ)': 1.35 (27H, s), 3.30
(LH,t.

J=20Hz)、 7.38 (IH,dd、J=9お
よび2Hz)。
J=20Hz), 7.38 (IH, dd, J=9 and 2Hz).

7.50 (LH,d、J=9Hz)、 7.81 (
IH,d、J=2Hz>実施例49 [N−(p−トリル)カルバモイル、メチレンコビス(
ホスホン酸)のトリス(第三級ブチルアミン)塩 融点: 221−230℃ IR(スジョール)  :  3700−2000  
(br)、  1655  cm  ’NMR(C20
,f;  )  ’  1.36  (27H,s)、
  2.32  (3H,s)。
7.50 (LH, d, J=9Hz), 7.81 (
IH, d, J = 2 Hz > Example 49 [N-(p-tolyl)carbamoyl, methylenecobis(
Tris (tertiary butylamine) salt of phosphonic acid Melting point: 221-230°C IR (sujoor): 3700-2000
(br), 1655 cm' NMR (C20
,f; )' 1.36 (27H,s),
2.32 (3H, s).

3.27 (1)1.t、J=20H2)、 7.25
 (2H,d、J=8Hz)。
3.27 (1)1. t, J=20H2), 7.25
(2H, d, J=8Hz).

7.40 (20,d、J=8Hz) 実施例50 [N−(4−メトキシフェニル)カルバモイルメチレン
]ビス(ホスホン酸)のトリス(第三級ブチルアミン)
塩 融点: 214−220℃ IR(スジョール>  :  3700−2300  
(br)、  1650  am−1HMR(C20,
δ) :1.37 (27H,s)、 3.27 (I
H,t。
7.40 (20,d, J=8Hz) Example 50 Tris(tertiary butylamine) of [N-(4-methoxyphenyl)carbamoylmethylene]bis(phosphonic acid)
Salt melting point: 214-220℃ IR (Sujoor>: 3700-2300
(br), 1650 am-1HMR (C20,
δ): 1.37 (27H,s), 3.27 (I
H,t.

、C20)1z)、 3.85 (3H,s)、 7.
02 (28,d。
, C20)1z), 3.85 (3H,s), 7.
02 (28, d.

J=8)1z)、 7.45 (2H,d、J=8Hz
>実施例51 1−[N−(4−10口フエニル)カルバモイルコニタ
ン−1,1−ビス(ホスホン酸)のトリス(第三級ブチ
ルアミン)塩 融点i 237−239℃ IR(ヌンヨール)  :  3700−2000  
(br)、  1650  cm−’NMR(D20.
f; ) ’ 1.36 (27H1s)、1.56 
(3H9t。
J=8)1z), 7.45 (2H,d, J=8Hz
>Example 51 Tris(tertiary butylamine) salt of 1-[N-(4-10 phenyl)carbamoylconitane-1,1-bis(phosphonic acid) Melting point i 237-239°C IR (Nunyol): 3700- 2000
(br), 1650 cm-'NMR (D20.
f;)' 1.36 (27H1s), 1.56
(3H9t.

J−141(z>、  7.38 (2!(、d、J=
8)1z)、  7.50 (2H。
J-141(z>, 7.38 (2!(, d, J=
8) 1z), 7.50 (2H.

ci、J=suz) 衷1■」煕 [N−(4−クロロフェニル)チオカルバモイルメチレ
ン]ビス(ホスホン酸)のトリス(第三級ブチルアミン
)塩 融点:206−208℃ NMR(D20,8 ) :1.34 (27H1m>
、4.08 (IHlt。
ci, J=suz) Tris(tertiary butylamine) salt of [N-(4-chlorophenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosphonic acid) Melting point: 206-208°C NMR (D20,8): 1.34 (27H1m>
, 4.08 (IHlt.

J=22Hz)、 7.47および7.60 (4H,
ABq。
J=22Hz), 7.47 and 7.60 (4H,
ABq.

J=8Hz ) 実施例53 [N−(1−ナフチル)チオカルバモイルメチレン アミン)塩 融点:160°C(分解) ’ NMR (D20. 8) : 1.35 (18
H.s)、 4.24 (LH,t−。
J=8Hz) Example 53 [N-(1-naphthyl)thiocarbamoylmethyleneamine) Salt melting point: 160°C (decomposition)' NMR (D20.8): 1.35 (18
H. s), 4.24 (LH,t-.

J:22Hz)、 7.60−8.23 (7H,m>
火11M1部 (N−メチル力ルバモイルメブルン)ビス(ポスポン酸
)のビス(第三級ブチルアミン)塩融点:229°C(
分解) IR  (ヌ九−ル)  ’  3600−2000.
  1645.  1150  am−’NMR (D
20. 8 ) ’ 1. 36 (18H,s)、2
,79 (3H−s)。
J:22Hz), 7.60-8.23 (7H, m>
Fire 11M 1 part (N-methyl rubbermoyl mebrun) bis(tertiary butylamine) salt of bis(posonic acid) Melting point: 229°C (
Disassembly) IR (nu9-ru)' 3600-2000.
1645. 1150 am-'NMR (D
20. 8) '1. 36 (18H,s), 2
, 79 (3H-s).

3、22 (LH,tJ=21Hz> 火簾典堕 [N−(3−トリフルオロメチルフェニル)チオカルバ
モイルメチレンツヒス(ホスポン酸)テトライソプロピ
ル(2g)の塩化メチレン(36mQ )溶液に0℃で
ヨードトリメチルシラン(2. 86mρ)を加え、同
温で4時間攪拌する。反応混合物に水( 40mQ )
を加え、水層を分取して塩化メチレンで4回洗浄した後
、濃縮する。残渣をアセ]・ニトリル( 30mQ )
に溶解許せ、第三級ブチルアミン(534mg)を加え
る。生成した沈殿を濾取し、?a液に更に第三級ブチル
アミン(534mg)を加える。生成した沈殿を濾取し
、先の沈殿と合わせて、ダウエックス( Dowex 
) 50wX 8 ( H+型、5mQ ) (商標:
ダウケミカル社製)のカラムクロマトグラフィーに付し
て水で溶出する。溶出液を濃縮し、得られた[N−(3
−1−リフルオロメチルフェニル)チオカルバモイルメ
チレンコヒス(ホスポン酸)を含む残渣を水( 2Qm
Q )に溶解許せ、酢酸ナトリウム( 266mg )
を加える。混合物を60℃で20分間攪拌した後、エタ
ノールを加えなから100°Cに加熱する。混合物を冷
却後生成した沈殿物を濾取し、減圧下乾燥許せて[N−
(3−トリフルオロメチルフェニル)チオカルバモイル
メチレン]ビス(ポスポン酸)のジナトリウム塩( 5
44mg)を得る。
3, 22 (LH, tJ = 21 Hz>) [N-(3-trifluoromethylphenyl)thiocarbamoylmethylene phosponate] Tetraisopropyl (phosponic acid) was added to a solution of tetraisopropyl (2 g) in methylene chloride (36 mQ) at 0°C. Add iodotrimethylsilane (2.86mρ) and stir at the same temperature for 4 hours.Water (40mQ) is added to the reaction mixture.
The aqueous layer is separated, washed four times with methylene chloride, and then concentrated. Acetonitrile (30mQ)
tertiary butylamine (534 mg) is added. Filter the formed precipitate and Further add tertiary butylamine (534 mg) to liquid a. The generated precipitate is collected by filtration, combined with the previous precipitate, and mixed with Dowex.
) 50wX 8 (H+ type, 5mQ) (Trademark:
The sample was subjected to column chromatography (manufactured by Dow Chemical Company) and eluted with water. The eluate was concentrated and the obtained [N-(3
-1-Lifluoromethylphenyl)thiocarbamoylmethylene cohis (phosponic acid) was dissolved in water (2Qm
Q) Sodium acetate (266mg)
Add. The mixture is stirred at 60°C for 20 minutes and then heated to 100°C without adding ethanol. After cooling the mixture, the formed precipitate was collected by filtration and dried under reduced pressure.
Disodium salt of (3-trifluoromethylphenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(posonic acid) (5
44 mg).

融点=218°C(分解) IR  (スジョール)  j  3300,  16
00,  1410.  1170,  1130。
Melting point = 218°C (decomposition) IR (Sujoor) j 3300, 16
00, 1410. 1170, 1130.

1070、 890 cm−1 NMR (D20.8 ) ’ 4. 21 (IH,
t,J=20Hz>、7. 60−7、77  (2H
,m)、  7.82  (LH,m>、  8.10
  (LH,s)実施例55と同様にして、以下(実施
例56〜74)の化合物を得る。
1070, 890 cm-1 NMR (D20.8)' 4. 21 (IH,
t, J=20Hz>, 7. 60-7, 77 (2H
, m), 7.82 (LH, m>, 8.10
(LH,s) In the same manner as in Example 55, the following compounds (Examples 56 to 74) are obtained.

104一 実施例56 [N−(4−トリフルオロメチルフェニル)チオカルバ
モイルメチレンコビス(ホスホンm)のジナトリウム塩 融点=218℃(分解) T.R(スジシール)  : 3260.  1610
.  1425,  1400,  1335。
104-Example 56 [Disodium salt of N-(4-trifluoromethylphenyl)thiocarbamoylmethylene cobis(phosphone m) Melting point = 218°C (decomposition) T. R (streak seal): 3260. 1610
.. 1425, 1400, 1335.

11、70. 1065 cm”” NMR (D20,8 ) ’ 4. 11 (IH,
t−、J=20.7Hz)、7. 80および7.88
 (4H,ABq.J=8.8Hz>実施例57 [N−(3−クロロフェニル)チオカルバモイルメチレ
ンコビス(ホスポン酸)のジナトリウム塩 融点; 224”C(分解) IR  (x九−x)  :  3300.  320
0,  2350.  1595,  1400。
11, 70. 1065 cm"" NMR (D20,8)' 4. 11 (IH,
t-, J=20.7Hz), 7. 80 and 7.88
(4H, ABq.J=8.8Hz>Example 57 [Disodium salt melting point of N-(3-chlorophenyl)thiocarbamoylmethylenecobis(phosponic acid); 224"C (decomposition) IR (x9-x) : 3300. 320
0,2350. 1595, 1400.

1255、 1200, 1170. 1090 cm
−INMR (D20,δ) : 4.12 (IH,
t,J:20Hz>、 7.31−7、56  (3H
.m)、  7.88  (LH,s)害JIL競 [N−(2−’/ロロフエニル)テオカルバモイルメチ
レン]ビス(74、スホン酸)のシナI・リウム塩 融点: 255−257°C〈分解) IR(スジョール)  ’  3700−2400  
(br)、  1590. 1150゜1120 cm
−’ 実施例59 [N−(4−フルオロフェニル)チオカルバモイルメチ
レン]ビス(ホスホン酸)のシナ(・リウム塩 融点: 247−249″’c(分解)゛   IR(
スジョール)  :  3700−2300  (br
)、  1220゜1090 cm−’ NMR(D20.δ) : 4.10 (IH,tj=
21Hz)、 7.21(2H,t、J=9H2)、 
7.58 (2H,dd、J=9および5Hz) 実施例60 [N−(p−1□リル)チオカルバモイルメチレンコビ
ス(ホスホン酸)のジナトリウム塩融点: 255−2
58℃(分解) IR(ヌ九−ル)  ’  3700−2300  (
br、)、  1520゜1150 cm”” NMR(D20.δ) : 2.37 (3H,s)、
 4.04 (IH,t。
1255, 1200, 1170. 1090 cm
-INMR (D20, δ): 4.12 (IH,
t, J: 20Hz>, 7.31-7, 56 (3H
.. m), 7.88 (LH, s) Harm JIL Competition [N-(2-'/Rolophenyl) Theocarbamoylmethylene] Bis(74, Sulfonic Acid) Cina I Lium Salt Melting Point: 255-257°C <Decomposition ) IR (Sujoor)' 3700-2400
(br), 1590. 1150°1120 cm
-' Example 59 Cina(.lium salt of [N-(4-fluorophenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosphonic acid) Melting point: 247-249''c (decomposition)゛ IR(
Sujoor): 3700-2300 (br
), 1220°1090 cm-' NMR (D20.δ): 4.10 (IH,tj=
21Hz), 7.21 (2H, t, J=9H2),
7.58 (2H, dd, J=9 and 5Hz) Example 60 Disodium salt of [N-(p-1□lyl)thiocarbamoylmethylenecobis(phosphonic acid) Melting point: 255-2
58°C (decomposition) IR (nucle) '3700-2300 (
br, ), 1520°1150 cm"" NMR (D20.δ): 2.37 (3H, s),
4.04 (IH, t.

J=20Hz>、 7.32および7.52 (2H,
dd、J−8Hz)実施例61 [N−(2−メトキシフェニル)チオカルバモイルメチ
レン]ビス(ホスボン酸)のジナトリウム塩 融点: 227”C(分解) IR(スジョール’)  :  3605. 3350
. 1600. 1540. 1,400゜1240、
1160.1.050 cm−’NMR(D20.E 
) ’ 3.90 (3H1s)、4.09 (IHl
t。
J=20Hz>, 7.32 and 7.52 (2H,
dd, J-8Hz) Example 61 Disodium salt of [N-(2-methoxyphenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosboxylic acid) Melting point: 227"C (decomposition) IR (Sujol'): 3605. 3350
.. 1600. 1540. 1,400°1240,
1160.1.050 cm-'NMR (D20.E
)' 3.90 (3H1s), 4.09 (IHl
t.

J=20Hz)、 7.03−7.19 (2B、m>
、 7.37 (IH,t。
J=20Hz), 7.03-7.19 (2B, m>
, 7.37 (IH, t.

J−8Hz)、 8.1.4 (IH,d、J=8Hz
>実施例62 [N−(3,4−ジクロロフェニル)チオカルバモイル
メチレン]ビス(ホスホン酸)のジナトリウム塩 融点: 248−250℃〈分解) IR(スジョール)  ’  3700−2300  
(br)、  1190゜1090 cm−’ 7−N (D20.l; ) ’ 4.03 (IH1
tJ=20Hz>、7.53−7.64  (2H,m
)、  8.03 (LH,s)実施例63 [N−(2−ピリジル)カルバモイルメチレンコビス(
ホスホン酸)のジナトリウム塩融点: >300℃ IR(スジョール)  :  3700−2100  
(br)、  1675  cm−’NMR(D20.
l; ) ’ 3.47 (IHlt、J=20Hz)
、7.27(1)1.t、J=6Hz)、 7.83 
(IH,d、J=8Hz)、 7.95(1B、t、J
−8Hz)、 8.29 (1)1.d、J=6Hz)
K鳳■倶 [N−(2−ベンゾ[b]チェニル)チオカルバモイル
メチレン]ビス(ボスホン酸)のジナトリウム塩 融点j >280℃ IR(スジョール)  :  3700−2300  
(br)、  1460. 1410゜1230、11
60 cm−’ NMR、(D20.δ) i 4.02 (1B、t、
J=20Hz>、 7.35−7.47 (2H,m)
、 7.45 (LH,s)、 7.85 (LH,d
J-8Hz), 8.1.4 (IH, d, J=8Hz
>Example 62 Disodium salt of [N-(3,4-dichlorophenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosphonic acid) Melting point: 248-250°C (decomposition) IR (Sujor)' 3700-2300
(br), 1190°1090 cm-' 7-N (D20.l; )' 4.03 (IH1
tJ=20Hz>, 7.53-7.64 (2H, m
), 8.03 (LH,s) Example 63 [N-(2-pyridyl)carbamoylmethylenecobis(
Disodium salt of phosphonic acid) Melting point: >300°C IR (Sujoor): 3700-2100
(br), 1675 cm-'NMR (D20.
l;)' 3.47 (IHlt, J=20Hz)
, 7.27(1)1. t, J=6Hz), 7.83
(IH, d, J=8Hz), 7.95 (1B, t, J
-8Hz), 8.29 (1)1. d, J=6Hz)
Disodium salt of Khoji [N-(2-benzo[b]chenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(bosphonic acid) Melting point j >280°C IR (Sujol): 3700-2300
(br), 1460. 1410°1230, 11
60 cm-' NMR, (D20.δ) i 4.02 (1B, t,
J=20Hz>, 7.35-7.47 (2H, m)
, 7.45 (LH,s), 7.85 (LH,d
.

J=11Hz>、 7.97 (IH,d、J=15H
z)408一 実施例65 [N−(2−トリフルオロメチルフェニル)チオカルバ
モイルメチレン]ビス(ホスホン酸)のジナトリウム塩 融点:212°C〈分解) IR(ヌ九−ル)  :  3250. 2400. 
1530. 1410. 1320゜1150、106
0 cm−’ NMR(D20,8 ) ’ 4.16 (IHlt、
J=21Hz)、7.52−7.60 (LH,m)、
 7.65−7.76 (2H,m)、 7.83(I
H,d、J=8Hz) 実施例66 [N−(4−クロロ−3−トリフルオロメチルフェニル
)チオカルバモイルメチレン]ヒス(ホスホン酸)のジ
ナトリウム塩 融点:245°C(分解) IR(スジョール)  :  3350. 3200、
1620. 1560. 1485゜1415、132
0 cm−’ NMR(D20.δ) : 4.00 (IH,t、J
=20Hz>、 7.68(LH,d、J=9Hz>、
 7.88 (IH,d、J=9Hz)、 8.29(
LH,s) 実施例67 [N−(4−メ)・キシ−3−(・リフルオロメチルフ
ェニル)チオカルバモイルメチレン(ホスホン酸)のジ
ナトリウム塩 融点: 249−252″’c(分解〉IR  (スジ
うール)  :  3250,  2350.  15
05,  1325,  1280。
J=11Hz>, 7.97 (IH, d, J=15H
z) 408-Example 65 Disodium salt of [N-(2-trifluoromethylphenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosphonic acid) Melting point: 212°C (decomposition) IR (nucle): 3250. 2400.
1530. 1410. 1320°1150, 106
0 cm-' NMR (D20,8)' 4.16 (IHlt,
J=21Hz), 7.52-7.60 (LH, m),
7.65-7.76 (2H, m), 7.83 (I
H, d, J = 8 Hz) Example 66 Disodium salt of [N-(4-chloro-3-trifluoromethylphenyl)thiocarbamoylmethylene]his(phosphonic acid) Melting point: 245°C (decomposition) IR (Sujol ): 3350. 3200,
1620. 1560. 1485°1415, 132
0 cm-' NMR (D20.δ): 4.00 (IH, t, J
=20Hz>, 7.68(LH, d, J=9Hz>,
7.88 (IH, d, J=9Hz), 8.29 (
LH,s) Example 67 Disodium salt of [N-(4-me)xy-3-(-lifluoromethylphenyl)thiocarbamoylmethylene (phosphonic acid) Melting point: 249-252''c (decomposition) IR (Suji wool): 3250, 2350.15
05, 1325, 1280.

1130 am−1 NMR (C20,δ) : 4.05 (IH,t,
J=20)1z)、 7.28(IH,d,J=9Hz
>、 7.77 (IH.d,J=9Hz)、 7.9
7(1u,a,J=2Hz> 実施例68 [N−(n−ブチル)チオカルバモイルメチレンコビス
(ホスボン酸)のジナトリウム塩融点: >250℃ IR  (スジヲール)  :  3500,  32
50,  1560.  1280,  1180。
1130 am-1 NMR (C20, δ): 4.05 (IH, t,
J=20)1z), 7.28(IH,d,J=9Hz
>, 7.77 (IH.d, J=9Hz), 7.9
7 (1u, a, J=2Hz> Example 68 [Disodium salt of N-(n-butyl)thiocarbamoylmethylenecobis(phosboxylic acid)] Melting point: >250°C IR (sujiwor): 3500, 32
50, 1560. 1280, 1180.

1065 cm’ IJMR (C20,δ) : 0.94 (3H.t
J=7Hz>、 1.33−1.、51(2)1.m>
、 1.51−1.69 (2H.m>、 3.61 
(2B,t。
1065 cm' IJMR (C20, δ): 0.94 (3H.t
J=7Hz>, 1.33-1. , 51(2)1. m>
, 1.51-1.69 (2H.m>, 3.61
(2B, t.

J=8Hz)、 3.91 (LH.t,J=2].H
z)実施例69 [N−(4−hリフルオロメチルフェニル)カルバモイ
ルメチレン]ビス(ホスボン酸)のジナトリウム塩 融点i >250℃ T.R(スジョール)  :  3700−3000 
 (br)、  2300,  1650。
J=8Hz), 3.91 (LH.t, J=2].H
z) Example 69 Disodium salt of [N-(4-hlifluoromethylphenyl)carbamoylmethylene]bis(phosboxylic acid) Melting point i >250°C T. R (Sujoor): 3700-3000
(br), 2300, 1650.

1600、 1335. 1100 cm−’NMR 
(C20,l; ) ’ 3. 31 (LH.t,J
=20Hz>、 7− 70(4H.s) 実施例70 [N−(4−メチルチオフェニル)チオカルバモイルメ
チレン]ビス(ホスホン酸)のジナトリウム塩 融点: 215”C(分解) IR  (スジ?−ル)  :  3500.  33
00,  1500,  1390,  1170。
1600, 1335. 1100 cm-'NMR
(C20, l; )' 3. 31 (LH.t, J
=20Hz>, 7-70 (4H.s) Example 70 Disodium salt of [N-(4-methylthiophenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosphonic acid) Melting point: 215"C (decomposition) IR (streak?- ): 3500.33
00, 1500, 1390, 1170.

1065 cm−1 NMR (C20,8 ) ’ 2. 5 (LH,s
)、4. 09 (IH,t。
1065 cm-1 NMR (C20,8)' 2. 5 (LH,s
), 4. 09 (IH, t.

J=21Hz)、 7.4 (2H,d,J=8.6H
z)、 7.59 (2H。
J=21Hz), 7.4 (2H, d, J=8.6H
z), 7.59 (2H.

d, J=8. 6Hz ) 火1d汁n [N−(4−メシルアミノフェニル)チオカルバモイル
メチレン]ビス(ポスホン酸)のジナトリウム塩 融点:225℃(分解) IR  (ヌ九−ル)  :  3200,  235
0.  1510,  1320。
d, J=8. 6Hz) Disodium salt of [N-(4-mesylaminophenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosphonic acid) Melting point: 225°C (decomposition) IR (nu9-9): 3200, 235
0. 1510, 1320.

1150 am’ NMR (C20,l; ) :3.12 (3H.s
)、4.08 (IH.t。
1150 am' NMR (C20,l; ): 3.12 (3H.s
), 4.08 (IH.t.

J=20Hz)、 7.34および7.65 (eac
h 2H,d。
J=20Hz), 7.34 and 7.65 (eac
h 2H, d.

、C9Hz) 実施例72 [N−(3−メシルアミノフェニル)チオカルバモイル
メチレン]ビス(ボスホン酸)のジナトリウム塩 融点=212℃(分解) IR  (スジラール’I  :  3300,  2
400.  1620.  1340.  11.60
, C9Hz) Example 72 Disodium salt of [N-(3-mesylaminophenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(bosphonic acid) Melting point = 212°C (decomposition) IR (Sudiral'I: 3300, 2
400. 1620. 1340. 11.60
.

1080 cm−1 NMR  (C20,8  )  ’  3.12  
(3H,s)、 4.80  (IH,t。
1080 cm-1 NMR (C20,8)' 3.12
(3H, s), 4.80 (IH, t.

J=2(lHz>、 7.22−7.25 (IH.b
r d,J=6Hz)。
J=2 (lHz>, 7.22-7.25 (IH.b
r d, J = 6 Hz).

7、45−7.49 (2H.m)、 7.73 (I
H,br s)112一 実施例73 [N−(4−アセチルアミノフェニル)チオカルバモイ
ルメチレンコビス(ホスボン酸)のジナトリウム塩 融点:218℃(分解) IR  (スジョール)  :  3250.  23
50,  1660,  1510,  1400。
7, 45-7.49 (2H.m), 7.73 (I
H, br s) 112-Example 73 Disodium salt of [N-(4-acetylaminophenyl)thiocarbamoylmethylenecobis(phosboxylic acid)] Melting point: 218°C (decomposition) IR (Sujol): 3250. 23
50, 1660, 1510, 1400.

1140、 1060 cm−1 NMR (C20,8 ) :2. 18 (3)1.
s)、 4. 80 (18.t。
1140, 1060 cm-1 NMR (C20,8): 2. 18 (3)1.
s), 4. 80 (18.t.

J=20Hz>、 7.50および7.64 (2)1
,d.J=8Hz)実施例74 [N−(3−アセチルアミノフェニル ルバモイルメチレン]ビス(ホスホン酸)のジナトリウ
ム塩 融点=209℃(分解) IR  (スジョール)  :  3200,  23
50,  1670.  1605、 1550。
J=20Hz>, 7.50 and 7.64 (2)1
, d. J=8Hz) Example 74 Disodium salt of [N-(3-acetylaminophenyllbamoylmethylene]bis(phosphonic acid) Melting point = 209°C (decomposition) IR (Sujol): 3200, 23
50, 1670. 1605, 1550.

1160、 1080 cm−’ NMR (C20,8 ) :2. 16 (3H.s
)、 4−80 (LH.t。
1160, 1080 cm-' NMR (C20,8): 2. 16 (3H.s
), 4-80 (LH.t.

J=20Hz)、 7.35−7.57 (2H,m>
、 7.76 (IH。
J=20Hz), 7.35-7.57 (2H, m>
, 7.76 (IH.

brs) 実施例75 [N−(フェニル)チオカルバモイルメチレン]ビス(
ホスホン酸)のトリス(第三級ブチルアミン)塩(9,
07g)をダウエックス(Dowex )50wX 8
 (H+型、76mp )のカラムク07トグラフイー
に何して水で溶出する。溶出液を濃縮して、[N−(フ
ェニル)チオカルバモイルメチレン]ビス(ホスホン酸
)を含む残渣を得る。得られた残渣を水に溶解させ、酢
酸ナトリウ11の1M水溶液(34,2mR)に加え、
混合物を30分間攪拌する。エタノール(t6oma 
)を加えた後、加熱して沈殿物を生成させる。混合物を
冷却し、生成した沈殿物を濾取して、[N−(フェニル
)チオカルバモイルメチレン]ビス(ホスポン酸)のジ
ナトリウム塩(6,07g)を得る。
brs) Example 75 [N-(phenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(
tris(tertiary butylamine) salt (phosphonic acid) (9,
07g) to Dowex 50wX 8
(H+ form, 76 mp) was subjected to column chromatography and eluted with water. The eluate is concentrated to obtain a residue containing [N-(phenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosphonic acid). The obtained residue was dissolved in water and added to a 1M aqueous solution of sodium acetate 11 (34.2 mR),
Stir the mixture for 30 minutes. Ethanol (t6oma
) and then heated to form a precipitate. The mixture is cooled and the formed precipitate is collected by filtration to obtain the disodium salt of [N-(phenyl)thiocarbamoylmethylene]bis(phosponic acid) (6.07 g).

融点:216℃(分解) IR(スジシール)  :  3500. 3300.
 1505. 1175. 1145゜920 cm’ NMR(D20.δ) i 4.10 (IH,t、J
−21Hz>、 7.3−7.75(5H,m> 実施例76 [(2−ベンゾ[bコチオフェンカルボキザミド)メチ
レン]ビス(ポスホン酸)テトラエチル(463mg)
の塩化メチレン(2mQ)溶液に5°Cでヨード)・リ
メチルシラン(1mQ)を一度に加える。混合物を5°
Cで1時間攪拌し、2日間冷蔵庫中で放置した後、室温
で1時間攪拌する。反応混合物を水で抽出し、抽出液を
塩化メチレンおよびジエチルエーテルで洗浄した後、減
圧濃縮する。
Melting point: 216°C (decomposition) IR (streak seal): 3500. 3300.
1505. 1175. 1145°920 cm' NMR (D20.δ) i 4.10 (IH, t, J
-21Hz>, 7.3-7.75 (5H, m>) Example 76 [(2-benzo[b-cothiophenecarboxamide)methylene]bis(posphonate)tetraethyl (463mg)
To a solution of methylene chloride (2 mQ) at 5°C, add iodo-rimethylsilane (1 mQ) all at once. Mixture 5°
C. for 1 hour, left in the refrigerator for 2 days, and then stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture is extracted with water, the extract is washed with methylene chloride and diethyl ether, and then concentrated under reduced pressure.

残渣を水に溶解させ、第三級ブチルアミン(183mg
)を加え、凍結乾燥さゼて、[(2−ベンゾ[b]チオ
フェンカルボキサミド)メチレン]ビス(ホスホン酸)
のビス(第三級ブチルアミン)塩(277mg)を白色
粉末として得る。
The residue was dissolved in water and tertiary butylamine (183 mg
) and lyophilized to obtain [(2-benzo[b]thiophenecarboxamide)methylene]bis(phosphonic acid).
The bis(tert-butylamine) salt (277 mg) of the following is obtained as a white powder.

融点: 234−238’C IR(スジシール)  i  3700−2050  
(br)、  1640  cm−’NMR(D20.
δ) : 1.40 (18H,s)、 4.59 (
18,t。
Melting point: 234-238'C IR (streak seal) i 3700-2050
(br), 1640 cm-'NMR (D20.
δ): 1.40 (18H,s), 4.59 (
18,t.

J=20Hz)、 7.43−7.58 (2H,m>
、 7.95−8.08(2H,m>、 8.11 (
LH,s)115一 実施例77 実施例76と同様にして、[(2−キノリン力ルポキザ
ミド)メチレンコビス(ホスホン酸)のトリス(第三級
ブチルアミン)塩を得る。
J=20Hz), 7.43-7.58 (2H, m>
, 7.95-8.08 (2H, m>, 8.11 (
LH,s) 115 - Example 77 In the same manner as in Example 76, the tris(tert-butylamine) salt of [(2-quinoline lupoxamide) methylene bis(phosphonic acid) is obtained.

IR(スジシール)  :  3700−2000  
(br)、  1660  cm−1BMR(D20.
S ) ’ 1.46 (27H9s)、4.61. 
(LHlt。
IR (line sticker): 3700-2000
(br), 1660 cm-1BMR (D20.
S)' 1.46 (27H9s), 4.61.
(LHLt.

J−20Hz>、 7.76 (LH,tj=11Hz
)、 7.94 (IH。
J-20Hz>, 7.76 (LH, tj=11Hz
), 7.94 (IH.

t、J=11Hz)、 8.08 (IH,d、J=8
Hz)、 8.20(2H,t、J41Hz)、 8.
58 (IH,d、J=8Hz)実施例78 実施例76と同様にして、[(2−ピリジンカルボキサ
ミド)メチレンコビス(ホスホン酸)を得る。
t, J=11Hz), 8.08 (IH, d, J=8
Hz), 8.20 (2H, t, J41Hz), 8.
58 (IH, d, J=8 Hz) Example 78 In the same manner as in Example 76, [(2-pyridinecarboxamide)methylenecobis(phosphonic acid) is obtained.

融点:277℃(分解) IR(スジシール)  :  3150. 1670.
 1640. 1615  am−’NMR(DMSO
−d6.δ) : 4.60 (IH,td、J=20
および10Hz>、 7.63−7.70 (IH,m
>、 8.00−8.10(IH,m>、 8.37 
(LH,d、J=10t(z)、 8.70 (IH。
Melting point: 277°C (decomposition) IR (streak seal): 3150. 1670.
1640. 1615 am-'NMR (DMSO
-d6. δ): 4.60 (IH, td, J=20
and 10Hz>, 7.63-7.70 (IH, m
>, 8.00-8.10 (IH, m>, 8.37
(LH, d, J=10t(z), 8.70 (IH.

br d、J=5Hz) [(2−ピリジンカルボキサミド)メチレン]ビス(ホ
スポン酸) (180mg )および酢酸ナトリウム三
水和物(165mg)の水(2mQ)中温合物を室温で
30分間攪拌した後濾過する。濾液にエタノール(6m
Q)を加え、加熱して不溶物を濾去する。濾液を放置し
、析出した結晶を濾取して、[(2−ピリジンカルボキ
サミド)メテレンコビス(ホスポン酸)のジナトリウム
塩(131mg)を白色粉末として得る。
After stirring a warm mixture of [(2-pyridinecarboxamido)methylene]bis(phosponic acid) (180 mg) and sodium acetate trihydrate (165 mg) in water (2 mQ) at room temperature for 30 minutes Filter. Add ethanol (6m
Add Q), heat and filter off insoluble matter. The filtrate was allowed to stand, and the precipitated crystals were collected by filtration to obtain disodium salt (131 mg) of [(2-pyridinecarboxamide)metelenchobis(phosponic acid) as a white powder.

融点: >300℃ IR(ヌ九−ル)  :  3700−2300  (
br)、  1670  cm−’NMR(D20.δ
) : 4.64 (1B、t、c20Hz)、 7.
64−7.71. (IH,m)、 8.04−8.1
4 (2H,+n)、 8.66(1)1.dJ=5H
2) 実施例78と同様にして、以下(実施例79および80
)の化合物を得る。
Melting point: >300℃ IR: 3700-2300 (
br), 1670 cm-'NMR (D20.δ
): 4.64 (1B, t, c20Hz), 7.
64-7.71. (IH, m), 8.04-8.1
4 (2H, +n), 8.66 (1) 1. dJ=5H
2) In the same manner as Example 78, the following (Examples 79 and 80)
) is obtained.

実施例79 (ベンゾイルアミノメチレン)ヒス(ホスホン酸)のジ
ナトリウム塩 融点: >260℃ NMR(D20,8  )  ’  4.66  (I
H,tj=20Hz)、 ?−20−7,50(3H,
m)、  7.85  (28,d、J=8Hz)実施
例80 [(4−クロロベンゾイルアミノ)メチレン]ビス(ホ
スホン酸)のジナトリウム塩 融点i >260℃ NMR(D20.δ) : 4.65 (LH,tj=
20Hz)、 7.55(2H,dJ=9Hz)、 7
.83 (2H,d、J=9Hz)実施例81 [(2−(1−(第三級ブトキシカルボニル)イミダゾ
ール−4−イル)アセトアミド]メチレン]ビス(ポス
ポン酸)テ]・ラエチル(67mg)の塩化メチレン(
1mll)溶液に、窒素気流中氷水浴下で攪拌しながら
ヨードトリメチルシラン(0,12nQ )を滴下する
。混合物を同条件下で1時間、更に室温で2時間攪拌す
る。水冷下撹拌しながら、水(1mQ)を反応混合物に
加え、15分間攪拌する。水(4mQ )およびクロロ
ホルム(41nQ)を加え、水層を分取し、クロロホル
ム(5mQ)で4回洗浄した後、減圧濃縮して黄色油状
物(70mg )を得る。得られた油状物を水(0,5
mQ)に溶解さU−1室温で3時間攪拌して白色沈殿物
を得、濾取する。残渣を冷水(1mQ)で洗浄して[(
2−(イミダゾール−4−イル)アセトアミド)メチレ
ン]ビス(ホスホン酸)(20mg)の白色粉末を得る
Example 79 Disodium salt of (benzoylaminomethylene)his(phosphonic acid) Melting point: >260°C NMR (D20,8)' 4.66 (I
H,tj=20Hz), ? -20-7,50 (3H,
m), 7.85 (28, d, J=8 Hz) Example 80 Disodium salt of [(4-chlorobenzoylamino)methylene]bis(phosphonic acid) Melting point i >260°C NMR (D20.δ): 4 .65 (LH,tj=
20Hz), 7.55 (2H, dJ=9Hz), 7
.. 83 (2H, d, J = 9 Hz) Example 81 [(2-(1-(tert-butoxycarbonyl)imidazol-4-yl)acetamido]methylene]bis(posponate)te]-raethyl (67 mg) Methylene chloride (
Iodotrimethylsilane (0.12 nQ) was added dropwise to the 1 ml solution while stirring under an ice-water bath in a nitrogen stream. The mixture is stirred under the same conditions for 1 hour and then at room temperature for 2 hours. Water (1 mQ) was added to the reaction mixture while stirring under water cooling, and the mixture was stirred for 15 minutes. Water (4 mQ) and chloroform (41 nQ) were added, the aqueous layer was separated, washed four times with chloroform (5 mQ), and concentrated under reduced pressure to obtain a yellow oil (70 mg). The obtained oil was mixed with water (0.5
U-1 dissolved in mQ) was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a white precipitate, which was collected by filtration. The residue was washed with cold water (1 mQ) [(
A white powder of 2-(imidazol-4-yl)acetamido)methylene]bis(phosphonic acid) (20 mg) is obtained.

融点: 247−250℃ NMR(D20− 8  )  ’  3.77  (
2H9s)、 4.55  (IHlt。
Melting point: 247-250°C NMR (D20-8)' 3.77 (
2H9s), 4.55 (IHlt.

J=21Hz)、 7.24 (11,s)、 8.5
1 (IH,s)実施例82 (フェニルスルホニルアミノメチレン)ビス(ホスホン
酸)テトラエチル(400mg)の塩化メチレン(4m
Q)溶液に、窒素気流中氷水浴下で攪拌しながらヨード
トリメチルシラン(Q、3mQ)を滴下し同温で30分
間、更に室温で1.5時間攪拌する。水冷下、反応混合
物に水(1omQ)およびクロロホルム(3mQ)を加
える。水層を分取し、クロ1コポルムで洗浄し、減圧濃
縮する。得られた残渣をエタノールで洗浄して(フェニ
ルスルホニルアミノメチレン)ビス(ホスホン酸) (
194mg)の−1,19− 白色粉末を得る。
J=21Hz), 7.24 (11,s), 8.5
1 (IH,s) Example 82 (phenylsulfonylaminomethylene)bis(phosphonic acid)tetraethyl (400mg) in methylene chloride (4m
Q) Add iodotrimethylsilane (Q, 3mQ) dropwise to the solution while stirring in an ice-water bath in a nitrogen stream, and stir at the same temperature for 30 minutes and then at room temperature for 1.5 hours. Water (1 omQ) and chloroform (3 mQ) are added to the reaction mixture under water cooling. The aqueous layer is separated, washed with chlorine, and concentrated under reduced pressure. The resulting residue was washed with ethanol and (phenylsulfonylaminomethylene)bis(phosphonic acid) (
194 mg) of -1,19- white powder is obtained.

融点: 215−216℃ NMR(D20.δ) : 3.95 (IN、t、J
=21H7>、 7.50−7.70 (3H,m>、
 7.89 <LH,dd、J=1.8Hz)実施例8
2と同様にして、以下(実施例83〜86)の化合物を
得る。
Melting point: 215-216°C NMR (D20.δ): 3.95 (IN, t, J
=21H7>, 7.50-7.70 (3H,m>,
7.89 <LH, dd, J=1.8Hz) Example 8
The following compounds (Examples 83 to 86) are obtained in the same manner as in 2.

実施例83 (トシルアミノメチレン〕ビス(ホスホン酸〕融点: 
232−233″′C NMR(D20.8) : 3.98 (IH,t、J
=21Hz)、 7.78および7.41 (4H,A
Bq、J4.IHz)火hグ復 [(4−クロロフェニル)スルホニルアミノメチレン]
ビス(ボスホン酸) 融点: 255−256°C(分解) NMR(D2CLδ) : 3.94 (LH,t、J
=22Hz>、7.60(2)1.d、J=8Hz)、
 7.88 (2H,d、J=8Hz)実施例78と同
様にして、[(4−クロロフェニル)スルホニルアミノ
メチレン]ヒス(ホスボン酸)および酢酸ナトリウム三
水和物から、[(4一クロロフェニル)スルホニルアミ
ノメチレン]ビス(ボスホン酸)のジナトリウム塩を得
る。
Example 83 (Tosylaminomethylene]bis(phosphonic acid) Melting point:
232-233'''C NMR (D20.8): 3.98 (IH, t, J
=21Hz), 7.78 and 7.41 (4H,A
Bq, J4. IHz) Fire [(4-chlorophenyl)sulfonylaminomethylene]
Bis(bosphonic acid) Melting point: 255-256°C (decomposition) NMR (D2CLδ): 3.94 (LH, t, J
=22Hz>, 7.60(2)1. d, J=8Hz),
7.88 (2H, d, J=8Hz) In the same manner as in Example 78, [(4-chlorophenyl)sulfonylaminomethylene]his(phosphonic acid) and sodium acetate trihydrate were prepared from [(4-chlorophenyl) The disodium salt of sulfonylaminomethylene]bis(bosphonic acid) is obtained.

融点:>260℃ NMR(D20.l; ) ’ 3.80 (1,)I
、t、J−20Hz)、7.59(2H’、d、J=8
Hz>、 7.88 (2H,d、J=8Hz>実施例
85 [(S、a−ジクロロフェニル)スルホニルアミノメデ
レンコビス(ホスホン酸) 融点: >250℃ IR(スジシール) ;  3100. 1345. 
1270. 1230゜1050 cm−” NMR([)20.δ) : 3.74 (IH,t、
J=20Hz>、 7.70(IH,d、、T−9Hz
)、 7.80 (IH,d、J=9Hz>、 8.0
9(LH,s) 実施例86 [(2−チェニル)スルホニルアミノメチレン]ビス(
ホスホン酸) 融点:231℃(分解) IR(フジ1−ル)  :  3540. 1325.
 1165  cm  ’NMR(D20.8 ) :
 3.98 (IH,t、J=21Hz>、 7.1−
7.2(]、H,m>、  7.73 (IH,d、J
=3.5Hz>、  7.79 (11゜dJ=5Hz
) 実施例87 実施例84と同様にして、[(8−キノリル)スルホニ
ルアミノメチレン]ビス(ホスホン酸)のジナトリウム
塩を得る。
Melting point: >260°C NMR (D20.l; )' 3.80 (1,)I
, t, J-20Hz), 7.59 (2H', d, J=8
Hz>, 7.88 (2H, d, J=8Hz>Example 85 [(S,a-dichlorophenyl)sulfonylaminomedelencobis(phosphonic acid) Melting point: >250°C IR (Sdisil); 3100. 1345.
1270. 1230°1050 cm-” NMR ([)20.δ): 3.74 (IH,t,
J=20Hz>, 7.70(IH, d,, T-9Hz
), 7.80 (IH, d, J=9Hz>, 8.0
9(LH,s) Example 86 [(2-chenyl)sulfonylaminomethylene]bis(
Phosphonic acid) Melting point: 231°C (decomposition) IR (Fuji 1-l): 3540. 1325.
1165 cm' NMR (D20.8):
3.98 (IH, t, J=21Hz>, 7.1-
7.2(], H, m>, 7.73 (IH, d, J
=3.5Hz>, 7.79 (11°dJ=5Hz
) Example 87 In the same manner as in Example 84, the disodium salt of [(8-quinolyl)sulfonylaminomethylene]bis(phosphonic acid) is obtained.

融点: >260℃ NMR(D20.8 ) ’ 3.65 (IHlt、
J=19Hz>、7.61(LH,J d、J=3.7
H7)、 7.65 (IH,t、J=7Hz)。
Melting point: >260°C NMR (D20.8)' 3.65 (IHlt,
J=19Hz>, 7.61 (LH, J d, J=3.7
H7), 7.65 (IH, t, J=7Hz).

8.11 (IJ(、d、J=7Hz)、 8.40 
(IH,d、J=7Hz)。
8.11 (IJ(,d,J=7Hz), 8.40
(IH, d, J=7Hz).

8.44 (IH,d、J=7Hz)、 8.96 (
1B、d、、C3Hz)會
8.44 (IH, d, J=7Hz), 8.96 (
1B, d,, C3Hz) Meeting

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1−A−は式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼またはR^1−SO_2−NH−(式
中、R^1は低級アルキル、低級アルコキシ、低級アル
キルチオ、ハロ(低級)アルキル、アシル、アシルアミ
ノおよびハロゲンからなる群より選択された置換基で置
換されていてもよいアリール基もしくは複素環基、また
はアシルを有していてもよい複素環基で置換されていて
もよい低級アルキル基、 XはOまたはSをそれぞれ意味する)で示される基、 R^2は水素または低級アルキル基をそれぞれ意味し、 R^1が非置換の低級アルキル基の場合は、R^1−A
−は式 ▲数式、化学式、表等があります▼またはR^1−SO
_2−NH− (式中、R^1およびXはそれぞれ前と同じ意味)で示
される基である] で示されるジホスホン酸化合物およびその塩。
(1) General formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [In the formula, R^1-A- is the formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ Numerical formulas, chemical formulas,
▼ or R^1-SO_2-NH- (wherein R^1 is a substitution selected from the group consisting of lower alkyl, lower alkoxy, lower alkylthio, halo(lower) alkyl, acyl, acylamino, and halogen) an aryl group or a heterocyclic group which may be substituted with a group, or a lower alkyl group which may be substituted with a heterocyclic group which may have an acyl group, X means O or S, respectively) R^2 means hydrogen or a lower alkyl group, respectively, and when R^1 is an unsubstituted lower alkyl group, R^1-A
- is a formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or R^1-SO
A diphosphonic acid compound and a salt thereof, which is a group represented by _2-NH- (wherein R^1 and
(2)R^1が低級アルキル、低級アルコキシ、低級ア
ルキルチオ、ハロ(低級)アルキル、低級アルコキシカ
ルボニル、低級アルカノイルアミノ、低級アルキルスル
ホニルアミノおよびハロゲンからなる群より選択された
置換基で置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基
、ピリジル基、イミダゾリル基、チエニル基、キノリル
基、ベンゾチエニル基もしくはベンゾチアゾリル基、ま
たは低級アルコキシカルボニルを有していてもよいイミ
ダゾリルで置換されていてもよい低級アルキル基である
特許請求の範囲第1項記載の化合物。
(2) R^1 is substituted with a substituent selected from the group consisting of lower alkyl, lower alkoxy, lower alkylthio, halo(lower) alkyl, lower alkoxycarbonyl, lower alkanoylamino, lower alkylsulfonylamino, and halogen; a phenyl group, naphthyl group, pyridyl group, imidazolyl group, thienyl group, quinolyl group, benzothienyl group or benzothiazolyl group, or a lower alkyl group optionally substituted with imidazolyl optionally having lower alkoxycarbonyl; A compound according to claim 1.
(3)R^1−A−が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は、フェニル基、ナフチル基、低級アル
キルフェニル基、低級アルコキシフェニル基、低級アル
キルチオフェニル基、モノ−またはジハロフェニル基、
ハロ(低級)アルキルフェニル基、低級アルカノイルア
ミノフェニル基、低級アルキルスルホニルアミノフェニ
ル基、ハロゲンおよびハロ(低級)アルキルで置換され
たフェニル基、低級アルコキシおよびハロ(低級)アル
キルで置換されたフェニル基、ピリジル基、ベンゾ[b
]チエニル基または低級アルキル基、Xは、OまたはS
をそれぞれ意味する)で示される基、R^2が水素であ
る特許請求の範囲第2項記載の化合物。
(3) R^1-A- is the formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. , mono- or dihalophenyl group,
Halo (lower) alkylphenyl group, lower alkanoylaminophenyl group, lower alkylsulfonylaminophenyl group, phenyl group substituted with halogen and halo (lower) alkyl, phenyl group substituted with lower alkoxy and halo (lower) alkyl, Pyridyl group, benzo[b
]thienyl group or lower alkyl group, X is O or S
3. The compound according to claim 2, wherein R^2 is hydrogen.
(4)R^1がフェニル基、モノハロフェニル基、モノ
[ハロ(低級)アルキル]フェニル基またはモノ(低級
)アルキルスルホニルアミノフェニル基である特許請求
の範囲第3項記載の化合物。
(4) The compound according to claim 3, wherein R^1 is a phenyl group, a monohalophenyl group, a mono[halo(lower)alkyl]phenyl group, or a mono(lower)alkylsulfonylaminophenyl group.
(5)[N−(フェニル)チオカルバモイルメチレン]
ビス(ホスホン酸)のジナトリウム塩である特許請求の
範囲第4項記載の化合物。
(5) [N-(phenyl)thiocarbamoylmethylene]
5. The compound according to claim 4, which is a disodium salt of bis(phosphonic acid).
(6)R^1−A−が式 ▲数式、化学式、表等があります▼で示される基 である特許請求の範囲第2項記載の化合物。(6) R^1-A- is the formula ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. The groups indicated by ▼ The compound according to claim 2, which is (7)R^1−A−が式 R^1−SO_2−NH−で示される基 である特許請求の範囲第2項記載の化合物。(7) R^1-A- is the formula Group represented by R^1-SO_2-NH- The compound according to claim 2, which is (8)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1−A−は式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼またはR^1−SO_2−NH−(式
中、R^1は低級アルキル、低級アルコキシ、低級アル
キルチオ、ハロ(低級)アルキル、アシル、アシルアミ
ノおよびハロゲンからなる群より選択された置換基で置
換されていてもよいアリール基もしくは複素環基、また
はアシルを有していてもよい複素環基で置換されていて
もよい低級アルキル基、 XはOまたはSをそれぞれ意味する)で示される基、 R^2は水素または低級アルキル基をそれぞれ意味し、 R^1が非置換の低級アルキル基の場合は、R^1−A
−は式 ▲数式、化学式、表等があります▼またはR^1−SO
_2−NH− (式中、R^1およびXはそれぞれ前と同じ意味)で示
される基である] で示されるジホスホン酸化合物またはその塩の製造法に
おいて (イ)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^2は水素または低級アルキル基を意味する
] で示される化合物またはその塩に式 R^1−NCX [式中、R^1は低級アルキル、低級アルコキシ、低級
アルキルチオ、ハロ(低級)アルキル、アシル、アシル
アミノおよびハロゲンからなる群より選択された置換基
で置換されていてもよいアリール基もしくは複素環基、
またはアシルを有していてもよい複素環基で置換されて
いてもよい低級アルキル基、 XはOまたはSをそれぞれ意味する] で示される化合物もしくはその均等物またはそれらの塩
を反応させて式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1、R^2およびXはそれぞれ前と同じ意
味] で示されるジホスホン酸化合物またはその塩を得るかま
たは (ロ)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^2は前と同じ意味] で示される化合物もしくはそのアミノ基における反応性
誘導体またはそれらの塩に式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1は前と同じ意味] で示される化合物もしくはそのカルボキシ基における反
応性誘導体またはそれらの塩を反応させて式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1およびR^2はそれぞれ前と同じ意味]
で示されるジホスホン酸化合物またはその塩を得るかま
たは (ハ)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^2は前と同じ意味] で示される化合物もしくはそのアミノ基における反応性
誘導体またはそれらの塩に式 R^1−SO_−OH [式中、R^1は前と同じ意味] で示される化合物もしくはそのスルホ基における反応性
誘導体またはそれらの塩を反応させて式▲数式、化学式
、表等があります▼ [式中、R^1およびR^2はそれぞれ前と同じ意味]
で示されるジホスホン酸化合物またはその塩を得るかま
たは (ニ)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1−A−は式 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ (式中、R^1およびXはそれぞれ前と同じ意味)で示
される基、 R^3、R^4、R^5およびR^6はそれぞれ保護さ
れたヒドロキシ基を意味し、 R^2は前と同じ意味である] で示される化合物またはその塩をヒドロキシ保護基の脱
離反応に付して式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1−A−およびR^2はそれぞれ前と同じ
意味] で示されるジホスホン酸化合物またはその塩を得ること
を特徴とするジホスホン酸化合物またはその塩の製造法
(8) General formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [In the formula, R^1-A- is the formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ Numerical formulas, chemical formulas,
▼ or R^1-SO_2-NH- (wherein R^1 is a substitution selected from the group consisting of lower alkyl, lower alkoxy, lower alkylthio, halo(lower) alkyl, acyl, acylamino, and halogen) an aryl group or a heterocyclic group which may be substituted with a group, or a lower alkyl group which may be substituted with a heterocyclic group which may have an acyl group, X means O or S, respectively) R^2 means hydrogen or a lower alkyl group, respectively, and when R^1 is an unsubstituted lower alkyl group, R^1-A
- is a formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or R^1-SO
_2-NH- (In the formula, R^1 and etc. ▼ [In the formula, R^2 means hydrogen or a lower alkyl group] A compound or its salt represented by the formula R^1-NCX [In the formula, R^1 is lower alkyl, lower alkoxy, lower an aryl group or a heterocyclic group optionally substituted with a substituent selected from the group consisting of alkylthio, halo (lower) alkyl, acyl, acylamino and halogen;
or a lower alkyl group optionally substituted with a heterocyclic group optionally having acyl, X means O or S respectively] or an equivalent thereof or a salt thereof is reacted to form a compound of the formula ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, R^1, R^2 and There are chemical formulas, tables, etc. ▼ [In the formula, R^2 has the same meaning as before] The compound represented by or its reactive derivative at the amino group, or their salt has the formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [Formula [In the formula, R^1 and Each R^2 has the same meaning as before]
Obtain the diphosphonic acid compound or its salt represented by (c) Formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [In the formula, R^2 has the same meaning as before] Reaction in the compound represented by the formula or its amino group A compound represented by the formula R^1-SO_-OH [wherein R^1 has the same meaning as above] or a reactive derivative at its sulfo group or a salt thereof is reacted with the reactive derivative or a salt thereof to obtain the formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [In the formula, R^1 and R^2 each have the same meaning as before]
Obtain a diphosphonic acid compound or a salt thereof, or (d) formula ▲ There is a mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ [In the formula, R^1-A- is the formula ▲ There is a mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ or ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1 and X each have the same meaning as before), R^3, R^4, R^5 and R^6 are each protected. R^2 means a hydroxy group, and R^2 has the same meaning as before] The compound represented by or its salt is subjected to the elimination reaction of the hydroxy protecting group to form the formula ▲ mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ [Formula wherein R^1-A- and R^2 each have the same meaning as above.] A method for producing a diphosphonic acid compound or a salt thereof, which is characterized in that a diphosphonic acid compound or a salt thereof is obtained.
(9)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1−A−は式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼またはR^1−SO_2−NH−(式
中、R^1は低級アルキル、低級アルコキシ、低級アル
キルチオ、ハロ(低級)アルキル、アシル、アシルアミ
ノおよびハロゲンからなる群より選択された置換基で置
換されていてもよいアリール基もしくは複素環基、また
はアシルを有していてもよい複素環基で置換されていて
もよい低級アルキル基、 XはOまたはSをそれぞれ意味する)で示される基、 R^2は水素または低級アルキル基をそれぞれ意味し、 R^1が非置換の低級アルキル基の場合は、R^1−A
−は式 ▲数式、化学式、表等があります▼またはR^1−SO
_2−NH− (式中、R^1およびXはそれぞれ前と同じ意味)で示
される基である] で示されるジホスホン酸化合物またはその塩を有効成分
として含有する骨代謝改善剤。
(9) General formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [In the formula, R^1-A- is the formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ Numerical formulas, chemical formulas,
▼ or R^1-SO_2-NH- (wherein R^1 is a substitution selected from the group consisting of lower alkyl, lower alkoxy, lower alkylthio, halo(lower) alkyl, acyl, acylamino, and halogen) an aryl group or a heterocyclic group which may be substituted with a group, or a lower alkyl group which may be substituted with a heterocyclic group which may have an acyl group, X means O or S, respectively) R^2 means hydrogen or a lower alkyl group, respectively, and when R^1 is an unsubstituted lower alkyl group, R^1-A
- is a formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or R^1-SO
A bone metabolism improving agent containing a diphosphonic acid compound or a salt thereof as an active ingredient.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02104593A (en) * 1988-10-14 1990-04-17 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Combination of medical compound with diphosphonic acid derivative
JPH07508934A (en) * 1992-07-21 1995-10-05 カーノードメタルボックス ピーエルシー Device for extracting drawn products from punches
JP2014221897A (en) * 2008-03-17 2014-11-27 キャボット コーポレイションCabot Corporation Modified pigments having reduced phosphate release, and dispersions and inkjet ink compositions therefrom

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3906062A (en) * 1974-08-09 1975-09-16 Monsanto Co Alpha,alpha-diphosphonato acetanilides
US4029697A (en) * 1975-04-30 1977-06-14 Joh. A. Benckiser Gmbh N-acyl-1-amino alkane-1,1-diphosphonic acid compounds, process of making same, and compositions for and method of using same
US4094782A (en) * 1975-04-30 1978-06-13 Joh. A. Benckiser N-acyl-1-amino alkane-1,1-diphosphonic acid compounds and compositions for and method of using same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3906062A (en) * 1974-08-09 1975-09-16 Monsanto Co Alpha,alpha-diphosphonato acetanilides
US4124371A (en) * 1974-08-09 1978-11-07 Monsanto Company α,α-DIPHOSPHONATO ACETANILIDES
US4029697A (en) * 1975-04-30 1977-06-14 Joh. A. Benckiser Gmbh N-acyl-1-amino alkane-1,1-diphosphonic acid compounds, process of making same, and compositions for and method of using same
US4094782A (en) * 1975-04-30 1978-06-13 Joh. A. Benckiser N-acyl-1-amino alkane-1,1-diphosphonic acid compounds and compositions for and method of using same

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02104593A (en) * 1988-10-14 1990-04-17 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Combination of medical compound with diphosphonic acid derivative
JPH0778024B2 (en) * 1988-10-14 1995-08-23 藤沢薬品工業株式会社 Pharmaceutical preparation containing a conjugate of a pharmaceutical compound and a diphosphonic acid derivative
JPH07508934A (en) * 1992-07-21 1995-10-05 カーノードメタルボックス ピーエルシー Device for extracting drawn products from punches
JP2014221897A (en) * 2008-03-17 2014-11-27 キャボット コーポレイションCabot Corporation Modified pigments having reduced phosphate release, and dispersions and inkjet ink compositions therefrom

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