JPS62267294A - Novel method for synthesizing nucloside - Google Patents

Novel method for synthesizing nucloside

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JPS62267294A
JPS62267294A JP61112135A JP11213586A JPS62267294A JP S62267294 A JPS62267294 A JP S62267294A JP 61112135 A JP61112135 A JP 61112135A JP 11213586 A JP11213586 A JP 11213586A JP S62267294 A JPS62267294 A JP S62267294A
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JP
Japan
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group
reaction
protecting group
formula
fluorinated
Prior art date
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Application number
JP61112135A
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Japanese (ja)
Inventor
Ryoji Noyori
良治 野依
Masahiko Hayashi
昌彦 林
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Sankyo Co Ltd
Original Assignee
Sankyo Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS62267294A publication Critical patent/JPS62267294A/en
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    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
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Abstract

PURPOSE:To obtain the titled compound in high yield and simply, by reacting a specific fluorinated saccharide with a silylated base in the presence of Lewis acid catalyst. CONSTITUTION:A fluorinated saccharide (e.g. O<2>', O<3>', O<5>'-tribenzyl-1-fluorinated-alpha- D-ribofuranose, etc.) shown by formula I [R<1> and R<2> are OH-protective group; l, m and n are 0-3 and l+m+n=2-3) is reacted with a compound [e.g. bis(trimethylsilyl)uracil, etc.] shown by formula B-[Si(CH3)3]p [B is pyrimidine or purine residue which may be replaced; p is 1-3) in the presence of Lewis acid catalyst (preferably silicon tetrafluoride, trimethylsilyl triflate or boron trifluoride) usually in an inert solvent such as diethyl ether, dichloromethane, etc., preferably at -78-100 deg.C for 30min-72hr to give the aimed compound shown by formula II (R<3> and R<4> are H or OH-protecting group).

Description

【発明の詳細な説明】 〔目 的〕 本発明は、ヌクレオシド類を高収率がっ簡便に、製造す
る製法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object] The present invention relates to a method for producing nucleosides easily and with high yield.

効率のよいヌクレオシド類の合成法の開発は、医学・薬
学的に興味ある天然ヌクレオシド類の合成、あるいはよ
り優れた作用ケ示す誘導体の効果的供給という観点から
重要な課題である。
The development of efficient methods for synthesizing nucleosides is an important issue from the viewpoint of the synthesis of natural nucleosides that are medically and pharmaceutically interesting, or the effective supply of derivatives that exhibit superior effects.

従来、ヌクレオシド類の化学的合成法としては、例えば
以下の方法が知られている。
Conventionally, the following methods are known as chemical synthesis methods for nucleosides.

1)臭化糖若しくは塩化糖と各種プリン塩基の銀塩若し
くは水銀塩などの重金属基音縮合させる重金属塩法 2)塩化2−デオキシリボースとプリンのナトリウム塩
を縮合させる上記1)の改良方法3)アシル化糖と塩基
を加熱溶融した後、ルイス酸等の酸触媒を加え、さらに
減圧下溶融する浴融法 4)アシル化糖とシリル化塩基t1ルイス酸触媒存在下
に反応させるホルブルユツケン法しかしながら、上記の
方法は、原料の糖が不安定である、低、収率である、操
作が煩雑である、経済的でない、大量合成に向かない又
は、生成物にα著しくはβの異性体が混じる等の問題点
があった。
1) A heavy metal salt method in which sugar bromide or chloride is condensed with a heavy metal base such as a silver salt or mercury salt of various purine bases 2) An improved method of 1) above in which 2-deoxyribose chloride is condensed with a sodium salt of purine 3) Bath melting method in which the acylated sugar and base are heated and melted, then an acid catalyst such as a Lewis acid is added, and further melted under reduced pressure.4) Holble-Yutsken method in which the acylated sugar and silylated base are reacted in the presence of a Lewis acid catalyst.However, The above methods have unstable starting sugars, low yields, complicated operations, are not economical, and are not suitable for large-scale synthesis, or the product is contaminated with α and especially β isomers. There were problems such as.

本発明者らは、ヌクレオシド類の高収率かつ簡便な合成
法について長年に亘り、鋭意研究會行った結果、(1)
非常圧安定で取り扱いやすい弗化糖と、シリル化塩基を
、ルイス酸触媒存在下反応させると、予想に反し、高収
率でヌクレオシド類が製造できること、(2)操作が容
易であり、経済的で大量合成に適すること、倉見い出し
本発明を完成した。
As a result of many years of intensive research into a high-yield and simple synthesis method for nucleosides, the present inventors have discovered (1)
Contrary to expectations, nucleosides can be produced in high yields by reacting fluorinated sugar, which is stable under extreme pressure and is easy to handle, with a silylated base in the presence of a Lewis acid catalyst. (2) It is easy to operate and economical. Kurami has completed the present invention by being suitable for large-scale synthesis.

〔構 成〕〔composition〕

本発明の製法は次式に示すようK、 一般式 (式中、B1及びB2は、同−又は異なって水酸基の保
護基を示し、tlm及びnは同−又は異なって0乃至3
11−示し、かつtとmとnの和は2乃至3t−示す。
The production method of the present invention uses K as shown in the following formula:
11-, and the sum of t, m, and n is 2 to 3t-.

)tP有する弗化糖と、一般式 %式%)() (式中、Bは、保護されていてもよいピリミジン若しく
はゾリン残基を示し、pは1乃至3r示す。)を有する
化合物t、ルイス酸触媒の存在下反応させ、所望により
保護基を除去することt特徴とする 一般式 (式中、B3及びB4は、同−又は異なって水素原子又
は水酸基の保護基會示し、t、m、n及びBは前記と同
意義を示す。)1−有する化合物の製造性である。
)tP and a compound t having the general formula %) () (wherein B represents an optionally protected pyrimidine or zoline residue, and p represents 1 to 3r); The reaction is carried out in the presence of a Lewis acid catalyst, and the protecting group is removed if desired.t General formula (wherein B3 and B4 are the same or different and represent a hydrogen atom or a protecting group for a hydroxyl group, t, m , n and B have the same meanings as above.) 1- Manufacturability of the compound having.

Bl 、 B2 、 R5及びB4の定義における「水
酸基の保護基」としては、例えはホルミル、アセチル、
クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチ
ル、トリフルオロアセチル、メトキシアセチル、プロピ
オニル、n−ブチリル、(目−2−メチル−2−ブテノ
イル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイルのよう
な脂肪族アシル基;ベンゾイル、0−(ジブロモメチル
)へ7 ソイk、0− (メトキシカルボニル)ベンソ
イル、p−フェニルベンゾイル、2,4.6− )リメ
チルペンゾイル、p−1ルオイル、p−アニソイル、p
−クロロベンゾイル、p−ニトロベンゾイル、0−ニト
ロベンソイル、α−す7トイルのような芳香族アシル基
; メトキシメチル、エトキシメチル、n−プロポキシメチ
ル、イソプロポキシメチル、n−ブトキシメチル、t−
ブトキシメチル、2−メトキシエトキシメチル、2,2
.2− トリクロロエトキシメチル、ビス(2−クロロ
エトキシ)メチルのような低級アルキルオキシメチル基
;1−エトキシエチル、l−メチル−1−メトキシエチ
ル、1−(イソプロポキシ)エチル、2.2.2− )
 +770ロエチル、2−(フェニルゼレニル)エチル
のような置換エチル基;ベンジル、フェネチル、3−フ
ェニルゾロビル、p−メトキシベンジル、0−ニトロベ
ンジ/I/、T)−二トロペンゾル、p−ハロヘンシル
、p−シアノペンノル、ノフェニルメチル、トリフェニ
ルメチル、α著しくはβ−ナフチルメチル、α−ナフチ
ルジフェニルメチル、p−メ)キシフェニルジフェニル
メチルのようなアラルキル基; テトラヒドロビラン−2−イル、4−メトキシテトラヒ
ドロビラン−4−イルのようなテトラヒドロピラニル基
ニ トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルツ
メチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、メチルシイ
ラブルピルシリル、メチルジ−t−ブチルシリル、トリ
イソプロピルシリルのようなトリ低級アルキルシリル基
;エチリデン、イソプロピリデン、メトキシメチリデン
、エトキシエチリデン、ベンジリデン、シクロヘキシリ
ゾ/のようなアセタール又はケタール型保護基: メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキ
シカルlニル、2,2.2− )リクロロエトキシ力ル
ボニル、イソブトキシカルボニル、2− トIJメチル
シリルエチルオキシカルボニルのようなアルキルオキシ
カルIニル基;ビニルオキシカルボニル、アリルオキシ
カルゲニルのよりなアルケニルオキシカルボニル基又は
ペンジルオキシ力ルゼニル、p−メトキシペンジルオキ
シカルブニル、3.4−ノメトキシヘンシルオキシカル
ゼニル、0−ニトロベンシルオキシカルlニル、p−ニ
トロベンシルオキシカルlニルのようなアラルキルオキ
シカルボニル基 全示し、好適には脂肪族アシル基、芳香族アシル基又は
アラルキル基を挙げることができる。
Examples of the "hydroxyl protecting group" in the definitions of Bl, B2, R5 and B4 include formyl, acetyl,
Aliphatic acyl groups such as chloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl, trifluoroacetyl, methoxyacetyl, propionyl, n-butyryl, (2-methyl-2-butenoyl, isobutyryl, pentanoyl, pivaloyl; benzoyl, 0- (dibromomethyl) to 7 Soi k, 0-(methoxycarbonyl)benzoyl, p-phenylbenzoyl, 2,4.6-)limethylpenzoyl, p-1 luoyl, p-anisoyl, p
- aromatic acyl groups such as chlorobenzoyl, p-nitrobenzoyl, 0-nitrobenzoyl, α-su7toyl; methoxymethyl, ethoxymethyl, n-propoxymethyl, isopropoxymethyl, n-butoxymethyl, t-
butoxymethyl, 2-methoxyethoxymethyl, 2,2
.. Lower alkyloxymethyl groups such as 2-trichloroethoxymethyl, bis(2-chloroethoxy)methyl; 1-ethoxyethyl, l-methyl-1-methoxyethyl, 1-(isopropoxy)ethyl, 2.2.2 − )
+770 Substituted ethyl groups such as loethyl, 2-(phenylzelenyl)ethyl; benzyl, phenethyl, 3-phenylzolobyl, p-methoxybenzyl, 0-nitrobenzyl/I/, T)-nitropenzole, p-halohensyl, p- Aralkyl groups such as cyanopenol, nophenylmethyl, triphenylmethyl, α-especially β-naphthylmethyl, α-naphthyldiphenylmethyl, p-me)xyphenyldiphenylmethyl; tetrahydrobilan-2-yl, 4-methoxytetrahydrobilane Tetrahydropyranyl group nitrimethylsilyl such as -4-yl, tri-lower alkylsilyl such as triethylsilyl, isopropylzmethylsilyl, t-butyldimethylsilyl, methylsilylable pyrsilyl, methyldi-t-butylsilyl, triisopropylsilyl groups; acetal or ketal type protecting groups such as ethylidene, isopropylidene, methoxymethylidene, ethoxyethylidene, benzylidene, cyclohexylidine; methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, 2,2.2-) Alkyloxycarbonyl groups such as chloroethoxycarbonyl, isobutoxycarbonyl, 2-methylsilylethyloxycarbonyl; alkenyloxycarbonyl groups such as vinyloxycarbonyl, allyloxycargenyl or penzyloxycarbonyl, p - All aralkyloxycarbonyl groups such as methoxypenzyloxycarbinyl, 3,4-nomethoxyhensyloxycarzenyl, 0-nitrobenzyloxycarbinyl, p-nitrobenzyloxycarbinyl, are preferred. Examples include aliphatic acyl groups, aromatic acyl groups, and aralkyl groups.

Bの定義における[ピリイジン若しくはプリン残基」と
しては、例えば 一般式 一般式 若しくは、一般式 %式% 上記式中、B5及びB6は同−又は異なって、水素原子
、水酸基、置換された水酸基、メルカプト基、置換され
たメルカプト基、アミン基、置換されたアミノ基、ハロ
ゲン原子父は)・ログ原子又はイミノ基を示し、B、は
−・ロゲン原子又はハロゲン化されていてもよい低級ア
ルキル基を示す。
[Pyridine or purine residue] in the definition of B is, for example, the general formula, or the general formula % formula % In the above formula, B5 and B6 are the same or different, and are a hydrogen atom, a hydroxyl group, a substituted hydroxyl group, Mercapto group, substituted mercapto group, amine group, substituted amino group, halogen atom The parent represents a log atom or an imino group, and B represents a halogen atom or a lower alkyl group that may be halogenated. shows.

B 及びB6の定義における[置換された水酸基」の置
換基としては、好適には、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、 s−7’チル、
t−ブチル、ペンチル、ヘキシルのような低級アルキル
基會挙けることができる。
The substituents for the [substituted hydroxyl group] in the definitions of B and B6 are preferably methyl, ethyl, propyl,
Isopropyl, butyl, isobutyl, s-7'thyl,
Mention may be made of lower alkyl groups such as t-butyl, pentyl, hexyl.

B5及びB6の定義における「置換されたメルカプト基
」の置換基としては、好適には、前記低級アルキル基で
ある。
The substituent for the "substituted mercapto group" in the definitions of B5 and B6 is preferably the lower alkyl group.

B5及びB6の定義における「置換されたアミノ基」と
は、下記置換基が1又は2個アミノ基會置換している基
r示し、該置換基としては、前記低級アルキル基;低級
アルキルオキシ基;前記アラルキル基;アラルキルオキ
シ基;水酸基;2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシ
!口ぎルのようなヒドロキシ置換低級アルキル基;2−
アミノエチル、3−アミノプロビルのよりなアミノ置換
低級アルキル基又はフェニル、p −) IJル、p−
メトキシフェニル、p−クロロフェニル、αtL(はβ
−ナフチルのようなアリール基?挙げることができ、好
適には、アラルキル基、水酸基、低級アルキルオキシ基
又はアラルキルオキシ基である。
The "substituted amino group" in the definitions of B5 and B6 refers to a group substituted with one or two of the following substituents, and the substituents include the above-mentioned lower alkyl group; lower alkyloxy group ; Said aralkyl group; Aralkyloxy group; Hydroxyl group; 2-hydroxyethyl, 3-hydroxy! Hydroxy-substituted lower alkyl group such as 2-
Aminoethyl, 3-aminopropyl or more amino-substituted lower alkyl group or phenyl, p-) IJl, p-
Methoxyphenyl, p-chlorophenyl, αtL (β
-Aryl group like naphthyl? Preferably, they are an aralkyl group, a hydroxyl group, a lower alkyloxy group, or an aralkyloxy group.

B51R6及びB9の定義における「ハロゲン化されて
いてもよい低級アルキル基」としては、前記低級アルキ
ル基、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオ
ロメチル、トリフルオロエチル、ブロモメチル、クロロ
エチル、トリブロモメチル、トリクロロメチルを挙ける
ことができる。
The "optionally halogenated lower alkyl group" in the definitions of B51R6 and B9 includes the lower alkyl group, fluoromethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, trifluoroethyl, bromomethyl, chloroethyl, tribromomethyl, trichloromethyl. can be mentioned.

R5,R6及びB、の定義における「ハロゲン原子」と
は、弗素、塩素、臭素及び沃素を示す。
The "halogen atom" in the definitions of R5, R6 and B represents fluorine, chlorine, bromine and iodine.

Bの定義における「保護されていてもよい」の「保護基
」としては、水酸基の保護基の場合は、前記「水酸基の
保護基」と同様の基を示し、好適には、脂肪族アシル基
又は芳香族アシル基である。
In the definition of B, the "protecting group" that "may be protected" refers to the same group as the above-mentioned "hydroxyl protecting group" in the case of a hydroxyl group protecting group, and preferably an aliphatic acyl group. or an aromatic acyl group.

アミノ基又は置換されたアミノ基の保護基の場合、下記
の保護基が1又は2個アず)基ケ保護している基?示し
、核保護基としては、通常アミノ基の保護基として使用
するものであれば限定はないが、好適には、前記脂肪族
アシル基;前記芳香族アシル基又はN、N−ツメチルア
ミノメチレン、ベンジリデン、p−メトキシベンジリデ
ン、p−ニトロベンソリデン、サリシリデン、5−クロ
ロサリシリデ/、ソフェニルメチレン、(5−クロロ−
2−ヒドロキシフェニル)フェニルメチレンのようなシ
ッフ塩基荀形成する置換されたメチレン基である。
In the case of a protecting group for an amino group or a substituted amino group, there are one or two of the following protecting groups. The nuclear protecting group is not limited as long as it is normally used as a protecting group for amino groups, but preferably the above aliphatic acyl group; the above aromatic acyl group or N,N-tumethylaminomethylene , benzylidene, p-methoxybenzylidene, p-nitrobenzylidene, salicylidene, 5-chlorosalicylidene/, sophenylmethylene, (5-chloro-
2-Hydroxyphenyl) is a substituted methylene group that forms a Schiff base such as phenylmethylene.

メルカプト基の保護基の場合、通常、メルカプト基の保
護に用いられるものであれは限定は力いが、好適には、
前記脂肪族アシル基又は前記芳香族アシル基である。
In the case of a protecting group for a mercapto group, there are no limitations to what is normally used to protect a mercapto group, but preferably,
The aliphatic acyl group or the aromatic acyl group.

本発明の化合物il+及び(1111は、その分子中に
、数個の不斉炭素紮有し、その各々がS配位、S配位で
ある立体異性体が存在するが、その各々、あるいはそれ
らの混合体のいずれも本発明に包含される。
The compounds il+ and (1111) of the present invention have several asymmetric carbon ligations in their molecules, and there are stereoisomers in which each of them is S-coordinated or S-coordinated. Any mixture of these is included in the present invention.

本発明の合成法は、1位弗化糖(1)とトリメチ  。The synthesis method of the present invention uses 1-position fluorinated sugar (1) and trimethylene.

ルシリル化された核#塩基([1k、ルイス酸触媒の存
在下、溶媒中で反応させることにより、グリコシデージ
ョン反応を行い、Bf望により、保−基?除去し、化合
物(all k a造する方法である。
A glycosidation reaction is carried out by reacting in a solvent in the presence of a Lewis acid catalyst. It is a method of building.

各種核酸塩基のトリメチルシリル化反応は例えば、セア
ースら、シリレーシヨン・オブ・オーガニック・コンノ
lウンズ、 434j[、1961E。
Trimethylsilylation reactions of various nucleobases are described, for example, by Sears et al., Sirelation of Organic Knowledge, 434j [, 1961E.

(A、 E、 Pierce、 et、 al、 5i
lylation of OrganicCompou
nds、 434+ (196B))に記載の方法で常
法に従って実施できる。触媒はルイス酸であれば限定し
ないが、好ましくは四弗化ケイ素、トリメチルシリルト
リフラート、三弗化ホウ素のようなルイス酸が用いられ
る。
(A, E, Pierce, et al, 5i
Lylation of Organic Compou
nds, 434+ (196B)) in a conventional manner. The catalyst is not limited as long as it is a Lewis acid, but Lewis acids such as silicon tetrafluoride, trimethylsilyl triflate, and boron trifluoride are preferably used.

溶媒は反応を阻害しないものであれば特に限定はないが
、好適には、ジエチルエーテル、ノオキサンのようなエ
ーテル類、ジクロロメタン、ジクロロエタンのようなハ
ロゲン化炭化水素類、アセトニトリルのようなニトリル
類等の極性溶媒である。
The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but suitable examples include ethers such as diethyl ether and nooxane, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and dichloroethane, and nitriles such as acetonitrile. It is a polar solvent.

反応温度は特に限定しないが、−78℃〜100℃位が
好適であり、30分〜72時間反応を実施するのが好ま
しい。式(IV&)または式(F/b) k有する核酸
塩基の□置換基が、水素原子、水酸基、置換された水酸
基、置換されたアミノ基、置換されたメルカプト基、メ
ルカプト基、ハロゲン原子、−・ロゲン化されていても
よい低級アルキル基であるか、式(IVc)k有する核
酸塩基の置換基が酸素原子、硫黄原子及びイミノ基の場
合は、そのままシリル化反応を行うことができるが、ア
ミノ基の場合は、例えにアセチル基のような低級脂肪族
アシル基尋の保護基によりアミノ基を保護後シリル化す
るのが好ましい。また使用する核酸塩基(BH)がプリ
ン化合物である場合には、反応生成吻である7位と9位
の異性体の生成比が反応温度九より変化することもある
Although the reaction temperature is not particularly limited, it is preferably about -78°C to 100°C, and the reaction is preferably carried out for 30 minutes to 72 hours. The substituent of the nucleobase having formula (IV &) or formula (F/b) k is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a substituted hydroxyl group, a substituted amino group, a substituted mercapto group, a mercapto group, a halogen atom, - - If the substituent of the optionally logogenated lower alkyl group or the nucleobase having the formula (IVc)k is an oxygen atom, a sulfur atom, or an imino group, the silylation reaction can be carried out as is, In the case of an amino group, it is preferable to protect the amino group with a protecting group such as a lower aliphatic acyl group such as an acetyl group and then silylate it. Further, when the nucleobase (BH) used is a purine compound, the production ratio of isomers at the 7th and 9th positions, which are the reaction product proboscis, may vary from the reaction temperature 9.

反応終了後、目的化合物は常法に従って反応混合物から
単離することができる。例えば、再結晶、分取用薄層ク
ロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により
精製して、純品を得ることができる。
After completion of the reaction, the target compound can be isolated from the reaction mixture according to conventional methods. For example, a pure product can be obtained by purification by recrystallization, preparative thin layer chromatography, column chromatography, etc.

保護基の除去はその種類によって異なるが、一般にこの
分野の技術において周知の方法によって以下の様に実施
される。
Removal of the protecting group varies depending on the type of protecting group, but is generally carried out as follows by methods well known in the art.

まず水酸基の保護基の除去については、水酸基の保護基
が、アルキルオキシカルボニル基又はアラルキル基であ
る場合には、還元剤と接触させることにエリ除去するこ
とができる。例えは、ノ譬ラジウム炭素、白金のような
触媒ケ用い、常温にて接触還元を行うか、または硫化ナ
トリウム、硫化カリウムのようなアルカリ金属硫化物を
使用して実施される。反応は溶媒の存在下で行われ、使
用される溶媒としては本反応に関与しないものでめれば
特に限定はないが、メタノール、エタノールのようなア
ルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのような
エーテル類または酢酸のような脂肪酸およびこれらの有
機溶媒と水との混合溶媒が好適でめる。
First, regarding the removal of the protecting group for the hydroxyl group, when the protecting group for the hydroxyl group is an alkyloxycarbonyl group or an aralkyl group, it can be removed by contacting with a reducing agent. For example, catalytic reduction is carried out using a catalyst such as radium on carbon or platinum at room temperature, or using an alkali metal sulfide such as sodium sulfide or potassium sulfide. The reaction is carried out in the presence of a solvent, and the solvent used is not particularly limited as long as it is not involved in this reaction, but alcohols such as methanol and ethanol, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, or Preferred are fatty acids such as acetic acid and mixed solvents of these organic solvents and water.

反応温度は通常、0℃乃至室温付近でbす、反応時間は
原料化合物および還元剤の種類によって異なるが、通常
は5分乃至12時間である。
The reaction temperature is usually around 0° C. to room temperature, and the reaction time varies depending on the raw material compound and the type of reducing agent, but is usually 5 minutes to 12 hours.

水酸基の保−基が、脂肪族アシル基、芳香族アシル基又
はアルキルオキシカルボニル基である場合には、水性溶
媒の存在下に塩基で処理することにより除去することが
できる。使用される溶媒としては通常の加水分解反応に
使用されるものであれば特に限定はなく、水おるいは水
とメタノール、エタノール、n−グロノ9ノールのよう
なアルコール類もしくはテトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類のような有機溶媒との混合溶媒が
好適である。塩基としては、化合物の他の部分に影響を
与えないものであれは特に限定はないが、好適には炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩
、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ
金属水酸化物又は濃アンモニア−メタノールを用いて実
施される。核酸塩基部の脱保護には濃アンモニアーメタ
ノールケ用い、他の場合は1規定水酸化す) IJウム
水1lWk用いるのが好適である0反応源度は特に限定
はないが、副反応r抑制するために0℃乃至150℃付
近が好適である。反応時間は原料化合物の種類および反
応温度などにより異なるが、通常1乃至10時間である
When the hydroxyl group is an aliphatic acyl group, aromatic acyl group or alkyloxycarbonyl group, it can be removed by treatment with a base in the presence of an aqueous solvent. The solvent used is not particularly limited as long as it is used in ordinary hydrolysis reactions, and water or water and alcohols such as methanol, ethanol, n-gulononol, or tetrahydrofuran or dioxane are used. Mixed solvents with organic solvents such as ethers are suitable. The base is not particularly limited as long as it does not affect other parts of the compound, but suitable bases include alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, sodium hydroxide, and potassium hydroxide. It is carried out using alkali metal hydroxides or concentrated ammonia-methanol. For deprotection of the nucleic acid base moiety, concentrated ammonia methanol is used; in other cases, 1N hydroxide is used).It is preferable to use 1Wk of IJum water.The degree of reaction source is not particularly limited, but side reactions can be suppressed. Therefore, a temperature around 0°C to 150°C is suitable. The reaction time varies depending on the type of raw material compound, reaction temperature, etc., but is usually 1 to 10 hours.

水酸基の保護基が、アルキルオキシメチル基、テトラヒ
ドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、アセタール
又はケタール型保護基又は置換エチル基でおる場合には
、溶媒中、酸で処理することにより、除去することがで
きる。使用される酸としては、好適には塩酸、酢酸−硫
酸、トシル酸などである。溶媒としては、本反応に関与
しないものでおれば特に限定はないが、メタノール、エ
タノールのようなアルコール類、テトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類またはこれらの有機溶媒
と水との混合溶媒が好適である。反応温度は通常0℃乃
至50℃で実施され、反応時間は原料化合物および酸の
種類によって異なるが、通常10分乃至18時間である
When the protecting group for the hydroxyl group is an alkyloxymethyl group, a tetrahydropyranyl group, a tetrahydrofuranyl group, an acetal or ketal type protecting group, or a substituted ethyl group, it can be removed by treatment with an acid in a solvent. can. Preferred acids used include hydrochloric acid, acetic acid-sulfuric acid, and tosylic acid. The solvent is not particularly limited as long as it does not participate in this reaction, but alcohols such as methanol and ethanol, tetrahydrofuran,
Ethers such as dioxane or a mixed solvent of these organic solvents and water are suitable. The reaction temperature is usually 0°C to 50°C, and the reaction time is usually 10 minutes to 18 hours, although it varies depending on the raw material compound and the type of acid.

水酸基の保護基がアルケニルオキシカルゲニル基である
場合は、通常、前記水酸基の保護基が脂肪族アシル基、
芳香族アシル基またはアルキルオキシカルボニル基であ
る場合の除去反応の条件と同様にして塩基と処理するこ
とにより脱離させることができる。なおアリルオキシカ
ルボニルの場合は、特にノ9ラジウムおよびトリフェニ
ルホスフィンするいはニッケルテトラカルボニルを使用
して除去する方法が簡便で、副反応が少な〈実施するこ
とができる。
When the protecting group for the hydroxyl group is an alkenyloxycargenyl group, the protecting group for the hydroxyl group is usually an aliphatic acyl group,
It can be removed by treatment with a base under the same conditions as the removal reaction for aromatic acyl groups or alkyloxycarbonyl groups. In the case of allyloxycarbonyl, removal using radium and triphenylphosphine or nickel tetracarbonyl is particularly convenient and can be carried out with fewer side reactions.

水酸基の保護基が、トリ低級アルキルシリル基である場
合は、保護基の除去は、弗化テトラブチルアンモニウム
のような弗素アニオ/?f−生成する化合物で処理する
ことにより実施することができる。使用される溶媒とし
ては特に限定はないが、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類が好適である。反応は好適には、
室温付近において10乃至18時間処理することによっ
て行われる。
When the protecting group for the hydroxyl group is a tri-lower alkylsilyl group, the protecting group can be removed using a fluoride anionic compound such as tetrabutylammonium fluoride. This can be carried out by treatment with a compound that produces f-. The solvent used is not particularly limited, but ethers such as tetrahydrofuran and dioxane are suitable. The reaction preferably comprises
This is carried out by processing for 10 to 18 hours at around room temperature.

なお、上記の様な水酸基の保護基ケ除去する操作によっ
て、メルカプト基の保護基または/およびアミノ基の保
護基が同時に除去されることもある。
In addition, by the above-described operation for removing the hydroxyl group-protecting group, the mercapto group-protecting group and/or the amino group-protecting group may be removed at the same time.

反応終了後、目的化合物は常法に従って反応混合物から
単離することができる。例えに、再結晶、分取用薄層ク
ロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー轡により
精製して、純品を得ることができる。
After completion of the reaction, the target compound can be isolated from the reaction mixture according to conventional methods. For example, a pure product can be obtained by purification by recrystallization, preparative thin layer chromatography, or column chromatography.

次にメルカプト基の保護基の除去については、メルカプ
ト基の保護基が、脂肪族アシル基または芳香族アシル基
である場合には、塩基で処理することにより除去するこ
とができる。反応条件は、水酸基の保護基が脂肪族アシ
ル基、芳香iアシル基又はアルキルオキシカルボニル基
でるる場合において記載した除去反応の条件と同様であ
る。
Next, regarding the removal of the protecting group for the mercapto group, when the protecting group for the mercapto group is an aliphatic acyl group or an aromatic acyl group, it can be removed by treatment with a base. The reaction conditions are the same as those for the removal reaction described in the case where the hydroxyl protecting group is an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group or an alkyloxycarbonyl group.

なお、この反応により、水酸基の保護基または/および
アミノ基の保護基が同時に除去されることもある。
Note that this reaction may also simultaneously remove a hydroxyl group-protecting group and/or an amino group-protecting group.

反応終了後、目的化合物は、それぞれ常法に従って反応
混合物から採取され、さらに必要ならば例えば再結晶法
、分取用薄層クロマトグラフィー、カラムクロマトグラ
フィーなどによって精製することができる。
After the completion of the reaction, the desired compounds are collected from the reaction mixture according to conventional methods, and if necessary, they can be further purified, for example, by recrystallization, preparative thin layer chromatography, column chromatography, etc.

アミノ基の保護基の除去については、 アミノ基の保護基が、脂肪族アシル基、芳香族アシル基
又はシッフ塩基ケ形成する置換されたメチレン基である
場合には、塩基で処理することにより除去することがで
き、反応条件は水酸基の保護基が脂肪族アシル基、芳香
族アシル基又はアルキルオキシカルボニル基である場合
において記載した除去反応の条件と同様である。
Regarding the removal of the protecting group of the amino group, if the protecting group of the amino group is an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group, or a substituted methylene group that forms a Schiff base, it can be removed by treatment with a base. The reaction conditions are the same as those for the removal reaction described in the case where the hydroxyl protecting group is an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group or an alkyloxycarbonyl group.

なお、上記の様なアミノ基の保護基を除去する操作によ
って、水酸基の保護基または/およびメルカプト基の保
護基が同時に除去されることもある。
In addition, by the above-mentioned operation for removing the amino group-protecting group, the hydroxyl group-protecting group and/or the mercapto group-protecting group may be removed at the same time.

反応終了後、目的化合物は常法に従って反応混合物から
単離することができる。例えは、再結晶、分取用薄層ク
ロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により
精製して、純品を得ることができる。
After completion of the reaction, the target compound can be isolated from the reaction mixture according to conventional methods. For example, a pure product can be obtained by purification by recrystallization, preparative thin layer chromatography, column chromatography, etc.

なお、上記の水酸基の保護基の除去反応、アミノ基の除
去反応及びメルカプト基の保護基の除去反応は、順不同
で、希望する除去反応?順次実施することができる。
Note that the above-mentioned hydroxyl-protecting group removal reaction, amino group removal reaction, and mercapto-protecting group removal reaction may be carried out in any order, depending on the desired removal reaction. It can be carried out sequentially.

出発原料である弗化糖(1)は、公知の化合物であり、
対応する1−0−アセチル化糖若しくは1位が無保護の
糖r用い、安価で、入手容易な弗化水累−ピリジン混合
物t、常法に従い1作用させること罠より効率よく合成
できる。
The starting material, fluorinated sugar (1), is a known compound,
It can be synthesized more efficiently by using the corresponding 1-0-acetylated sugar or a sugar in which the 1-position is unprotected, using an inexpensive and easily available fluorinated water-pyridine mixture, and reacting with the conventional method.

以下に実施例を示し、本発明を具体的に述べる。尚、生
成物は、全て公知化合物であり、6各の生成物の機器デ
ータは、公知化合物のそれと一致し、これに基づき、α
体とβ体の生成比r決定した。
EXAMPLES The present invention will be specifically described with reference to Examples below. All of the products are known compounds, and the instrumental data for each product corresponds to that of known compounds, and based on this, α
The production ratio r of isomers and β-bodies was determined.

以下に、得られた化合物の機器データを記載する。尚、
IH−NMRのデータは全て、90 MHzで測定し、
溶媒としてcnct、 を用いた。
Instrumental data of the obtained compounds are described below. still,
All IH-NMR data were measured at 90 MHz;
cnct was used as a solvent.

3.6〜3.8(m、2)1) 4.0〜4.2 (m 、 I B )4.3〜4.8
 (m 、 9 I()6、28    (d lJ 
=5 Hz 、I E )7.0〜7.4 (m 、 
15 H)7.7     (d 、 J =88z 
、 IB )8.6     (bs、IH) 3.6〜4.1 (m 、 4 H) 4.3〜4.6 (un 、 5 H)4.8    
 (a、IH) 5.1     (s、1B) 5.3     (d、J=8Hz、1)1)6.1 
    (d * J ”2Hz 、I H)7.0〜
7.4 (m 、 15 B )7.9     (d
、J−8Hz、1B)8.7     (bs、IB) 4.6〜4.9 (m 、 3 H) 5、6〜5.9 (m * 3 B )6.32   
(d、J=5.3Hz、IH)7.2〜7.7 、7.
8〜8.2 (m 、 16 B )9.0     
(bs、IH) 4.4〜4.8 (m 、 3 E )6.0〜6.5
 (m 、 3 H) 7.2〜7.6 、7.8〜8.2(m、20H)8.
3(β、IB) 8.6     (a、IH) 2.18    (s、3H) 2.20    (s、3H) 4.8〜5.2 (m 、 2 H) 3.6〜4.0 (m 、 3 H) 6.8    (t、J=3)1z 、IH)7、7 
   (d e J 〜8 Ez、I H)2.4  
   (s、3H) 2・2     (s、3B) 4.8〜5.2 (m 、 2 H) 3.6〜4.0 (m 、 3 B )6.6    
 (t、J=3Hz、IH)7.9     (d、J
=8Hz、IH)2.05 、2.10 (各8.各3
B)2.5〜2.7 (m 、 2 B )4.2〜4
.4 (m 、 3 )] )5.4     (bd
、1)1) 6.6     (bs、IH) 7、4〜7゜6 、8.0〜8.4 (m、 5H)8
.5    (s、IE) 8.6     (s、IH) 2.07.2.15(各8.各3H) 2、7〜3.2 (m a 2 H) 4.39    (a、3B) 5.50   (bd、1)1) 6.52   (t、J=6Hz、IH37,2〜’1
.’l 、 7.8〜8.2 (rrr 、 5 )1
 )8.4     (a、IB) 8.7     (s、IB) 9.9     (a、IB) 3.6〜3.7 (m 、 2 H) 3.9〜4.2 (m 、 3 H) 4、:3−4.7 (m 、 5 B )5.4〜5−
7 (m a 2 H) 5.9     (d、J=6Hz、IH)7.8  
   (d a J 〜8 Hz −I B )8.5
     (bs、IH) 減圧下、加熱乾燥後、アルがン置換した反応容器にo2
’ 、 o5’ 、 o5’ −)リペンノルー1−弗
化−α−D−リIフラノ−X (5001m9.1.1
8mmot) kとり、ここに、アセトニトリル(5r
lll)に溶がしたビス(トリメチルシリル)ウラシル
(36o1ng+1.40 mmoL) kシリンジ食
用いて加えた。次いで0℃下、四フッ化ケイ素のアセト
ニトリル清液(0,08M 、 1.5mA+、 0.
12mmot) k加え、この温度で2時間攪拌した。
3.6-3.8 (m, 2) 1) 4.0-4.2 (m, IB) 4.3-4.8
(m, 9 I()6, 28 (d lJ
=5 Hz, IE)7.0-7.4 (m,
15 H) 7.7 (d, J = 88z
, IB) 8.6 (BS, IH) 3.6-4.1 (m, 4 H) 4.3-4.6 (un, 5 H) 4.8
(a, IH) 5.1 (s, 1B) 5.3 (d, J=8Hz, 1) 1) 6.1
(d*J”2Hz, IH)7.0~
7.4 (m, 15 B) 7.9 (d
, J-8Hz, 1B) 8.7 (bs, IB) 4.6-4.9 (m, 3H) 5, 6-5.9 (m*3B) 6.32
(d, J=5.3Hz, IH) 7.2-7.7, 7.
8-8.2 (m, 16 B) 9.0
(bs, IH) 4.4-4.8 (m, 3E) 6.0-6.5
(m, 3H) 7.2-7.6, 7.8-8.2 (m, 20H)8.
3 (β, IB) 8.6 (a, IH) 2.18 (s, 3H) 2.20 (s, 3H) 4.8-5.2 (m, 2H) 3.6-4.0 (m, 3H) 6.8 (t, J=3)1z, IH)7,7
(d e J ~8 Ez, I H) 2.4
(s, 3H) 2・2 (s, 3B) 4.8~5.2 (m, 2H) 3.6~4.0 (m, 3B) 6.6
(t, J=3Hz, IH) 7.9 (d, J
=8Hz, IH) 2.05, 2.10 (8 each, 3 each
B) 2.5-2.7 (m, 2B) 4.2-4
.. 4 (m, 3)] )5.4 (bd
, 1) 1) 6.6 (bs, IH) 7, 4~7゜6, 8.0~8.4 (m, 5H) 8
.. 5 (s, IE) 8.6 (s, IH) 2.07.2.15 (each 8. each 3H) 2, 7-3.2 (m a 2 H) 4.39 (a, 3B) 5 .50 (bd, 1) 1) 6.52 (t, J=6Hz, IH37,2~'1
.. 'l, 7.8~8.2 (rrr, 5)1
) 8.4 (a, IB) 8.7 (s, IB) 9.9 (a, IB) 3.6-3.7 (m, 2 H) 3.9-4.2 (m, 3 H ) 4, : 3-4.7 (m, 5 B) 5.4-5-
7 (m a 2 H) 5.9 (d, J=6Hz, IH) 7.8
(d a J ~8 Hz - I B )8.5
(bs, IH) After heating and drying under reduced pressure, o2 was added to the reaction vessel replaced with arganese.
', o5', o5' -) Ripenno-1-fluoride-α-D-lyfurano-X (5001m9.1.1
8mmot) k, add acetonitrile (5r
Bis(trimethylsilyl)uracil (36o1 ng + 1.40 mmoL) dissolved in K syringe was added. Next, at 0°C, silicon tetrafluoride was added to an acetonitrile solution (0.08M, 1.5mA+, 0.08M, 1.5mA+,
12 mmot) was added, and the mixture was stirred at this temperature for 2 hours.

反応終了後、反応Rk飽和炭酸水素す) IJウム水溶
液(201d)にあけ、酢酸エチル(50mJx2)で
抽出した。有機層を飽和炭酸水素す) IJウム水溶液
(20mjx2)、  飽和食塩水(10mJX1)で
洗浄後溶媒を留去した。
After the reaction was completed, the reaction mixture was poured into a saturated hydrogen carbonate solution (201d) and extracted with ethyl acetate (50 mJ x 2). The organic layer was washed with a saturated aqueous solution of hydrogen carbonate (20 mJ x 2) and saturated brine (10 mJ x 1), and the solvent was distilled off.

得られた粗生成物葡シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(シリカ20v、ヘキサン:酢酸エチル1:1)に供
し、表記化合物(514η。
The obtained crude product was subjected to silica gel column chromatography (silica 20v, hexane:ethyl acetate 1:1) to yield the title compound (514η).

85チ)を得た。α−アノマーとβ−アノマーの比率(
1:5.2)はI HNMEにおいて、ウリジン誘導体
の塩基部(6位)の積分比により求めた。
85 chi) was obtained. Ratio of α-anomer and β-anomer (
1:5.2) was determined by the integral ratio of the base part (6th position) of the uridine derivative in I HNME.

実施例1と同様の方法を用い、下記の様に条Ftl−変
えて以下の実施例2〜3t−行った。
The following Examples 2 to 3 were carried out using the same method as in Example 1, with the column Ftl changed as described below.

TABLE  1 条 件       生成物 2   ソクロロメタン    *     84 1
.5:13   ジエチルエーテル    *    
  82  1.1:1*)  81F4ガスヶ反応溶
媒に、2分間4人した。
TABLE 1 Condition Product 2 Sochloromethane * 84 1
.. 5:13 Diethyl ether *
82 1.1:1*) 4 people were exposed to 81F4 gas reaction solvent for 2 minutes.

実施例1と同様の方法に従い、弗化糖として、0” J
 O” + 0” −Fリペンソル−l−弗化−β−D
−リボフラノースτ使用し、下記の様に条件を変えて、
以下の実施例4〜6を行った。
According to the same method as in Example 1, 0"J
O" + 0" -FRepensol-l-Fluoride-β-D
−Using ribofuranose τ and changing the conditions as below,
Examples 4-6 below were conducted.

TABLE 2 実施例  済 媒   SiFν伽oA%  Yiel
d(11α:β4  ソクロロメタy     *  
   82  2.1:15  アセトニトリル   
10    88  1:5.26  ジエチルエーテ
ル  *     82  1.4:1実施例1と同様
の方法に従い、触媒ヶ変えて、実施例7〜8を行った。
TABLE 2 Example Completed Medium SiFν佽oA% Yiel
d(11α:β4 sochloromethy *
82 2.1:15 Acetonitrile
10 88 1:5.26 Diethyl ether * 82 1.4:1 Examples 7 and 8 were carried out in the same manner as in Example 1 except that the catalyst was changed.

TABLE  3 実施例   触 媒     rnoL% yield
(%)α:β7   トリメチルシリルトリフラート5
0   82  1:48  三弗化ホウ素     
50  84 1:3乙 実施例1と同様の操作により、021 、 Osr 、
 Os/ −トリベンゾイル−1−弗化−〇−りlフラ
ノース(48ON、1.03mmot)及びビス(トリ
メチルシリル)ウラシル(356,6wI、 1.30
mmot)のアセトニトリル溶液に、0℃で四弗化ケイ
素のアセトニトリル溶W (0,08M + 2.5m
 + 0.2 mmot) k加え、この温度で4時間
攪拌した。反応終了後、実施例1と同様に処理し、β体
の表記化合物(470■、82%)rll友、対応する
α体は、生成しなかった。
TABLE 3 Example Catalyst rnoL% yield
(%)α:β7 Trimethylsilyl triflate 5
0 82 1:48 Boron trifluoride
50 84 1:3 By the same operation as in Example 1, 021, Osr,
Os/-tribenzoyl-1-fluoride-〇-trifuranose (48ON, 1.03 mmot) and bis(trimethylsilyl)uracil (356,6 wI, 1.30
Into the acetonitrile solution of silicon tetrafluoride W (0.08M + 2.5m
+ 0.2 mmot) k and stirred at this temperature for 4 hours. After the reaction was completed, the reaction mixture was treated in the same manner as in Example 1, and the β-form of the title compound (470 cm, 82%) was not produced, nor was the corresponding α-form.

15ONMR(CDCA 5)  δ 二 63.7,
71.4,73.8,80.8゜88.48.103.
4 、128−130l28−130(aro。
15ONMR (CDCA 5) δ 2 63.7,
71.4, 73.8, 80.8°88.48.103.
4, 128-130l28-130 (aro.

133.4,133.6,139.4,161.8,1
65.2実施例9と同様の方法に従い、触媒を変えて、
実施例10〜llk行つ几、この場合においても、β体
のみが生成した。
133.4, 133.6, 139.4, 161.8, 1
65.2 Following a method similar to Example 9, changing the catalyst,
In Examples 10 to 11, only the β-form was produced in this case as well.

10   )リメチルシリルトリフラート   50 
    8711  三弗化ホウ素      50 
  85実施例12 0”、O”、O”、N’−テトラ
ペyゾイルアデノクン 実施例9と同様の方法に従い、弗化糖(300■r 0
.65 mmot)及びビス(トリメチルシリル)ウラ
シルの代りに、N6−ペンゾイルーN6.N9−ビス(
トリメチルシリル)アデニン(30711v。
10) Limethylsilyl triflate 50
8711 Boron trifluoride 50
85 Example 12 0", O", O", N'-tetrapeyzoyladenokune Following the same method as in Example 9, fluorinated sugar (300 ■ r 0
.. 65 mmot) and N6-penzoyl-N6.65 instead of bis(trimethylsilyl)uracil. N9-bis(
trimethylsilyl) adenine (30711v.

0.8 mmot) k用い実施し、次いでナトリウム
メチラートを用い保護基を除去したところ、アデノシン
’に82饅で得ることができた。α体は得られなかった
When the protecting group was removed using sodium methylate, adenosine' could be obtained in 82 mm. α-form was not obtained.

ラシル 05 、 o5−ジアセチル−2−デオキシ−1−弗化
−リゼフラノース(101,0■+ 0.46 mmo
t)とビス(トリメチルシリル)−5−フルオロウラ’
/)’(189N+0.69mmot)のアセトニトリ
ル(2d)溶液に、−20℃にて、0.08M 81F
4−アセトニトリル@液(0,5d 、 Q、05mm
ot) k加え、2時間攪拌した。実施例1の方法に従
って後処理し、得られ友粗生成物會シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(酢酸エチル−ヘキサン=2:1)に
供し、表記化合物(115岬、76チ)を得た。α体と
β体の比は2:3であった。
Rasil 05, o5-diacetyl-2-deoxy-1-fluorinated-lyzefuranose (101,0 + 0.46 mmo
t) and bis(trimethylsilyl)-5-fluoroura'
/)' (189N+0.69mmot) in acetonitrile (2d) solution at -20°C, 0.08M 81F
4-acetonitrile@liquid (0.5d, Q, 05mm
ot) k was added and stirred for 2 hours. After treatment according to the method of Example 1, the obtained crude product was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate-hexane = 2:1) to obtain the title compound (115, 76). The ratio of α and β forms was 2:3.

アデニン 実施例13の方法に従い、核酸塩基として、N6−ペン
ゾイルーN6.N9−ビス(トリメチルシリル)アデニ
ン倉用い、実施したところ表記目的化合物=1681、
α体とβ体の比=l:1で得ることができた。
Adenine According to the method of Example 13, N6-penzoyl-N6. When conducted using N9-bis(trimethylsilyl)adenine, the indicated target compound = 1681,
It was possible to obtain the α-form and β-form at a ratio of 1:1.

実施例1の操作により、02/ 、 Os1. 、0s
l−トリベンジル−1−弗化−D−アラビノフラノース
(200η+ 0.47 mr++oA )及びビス(
トリメチルシリル)ウラシル(154〜+ 0.6 m
r+1ot)のアセトニトリル溶液に、四弗化ケイ素の
アセトニトリル溶液(0,08M 、 1.2mL 0
.9mmot) k 0℃で加え、この温度で3時間攪
拌後、後処理をし、α体の表記化合物(201mg、8
4%)を得ることができた。β体は得られなかった。
By the operation of Example 1, 02/, Os1. ,0s
l-tribenzyl-1-fluorinated-D-arabinofuranose (200η+ 0.47 mr++oA) and bis(
trimethylsilyl) uracil (154~+0.6 m
Add silicon tetrafluoride acetonitrile solution (0.08M, 1.2mL 0
.. 9 mmot) k was added at 0°C, stirred at this temperature for 3 hours, and then post-treated to obtain the α-form of the title compound (201 mg, 8
4%). β-body was not obtained.

L5CN■(CDC6,)δ: 65.7 、70.1
 、72.1.73.4゜82.4 、84.0 、8
8.7 、92.3 、102.5 、128−138
 (benzyl )、141.9 、149.6 、
163.2アラビノ一ス誘導体を基質にした場合には、
水酸基の保護基としてベンゾイル、ベンジルのいずれt
用いても、またアセトニトリル、ジクロロメタン、ジエ
チルエーテルのいずれの溶媒中でも、α−アノマーのみ
が得られた。
L5CN■(CDC6,)δ: 65.7, 70.1
, 72.1.73.4° 82.4 , 84.0 , 8
8.7, 92.3, 102.5, 128-138
(benzyl), 141.9, 149.6,
When using 163.2 arabinose derivative as a substrate,
Either benzoyl or benzyl can be used as a protecting group for the hydroxyl group.
Only the α-anomer was obtained in any of the solvents used: acetonitrile, dichloromethane, and diethyl ether.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1及びR^2は、同一又は異なって水酸基
の保護基を示し、l、m及びnは同一又は異なって0乃
至3を示し、かつlとmとnの和は2乃至3を示す。)
を有する弗化糖と、 一般式 B−〔Si(CH_3)_3〕_p (II)(式中、B
は、保護されていてもよいピリミジン若しくはプリン残
基を示し、pは1乃至3を示す。)を有する化合物を、
ルイス酸触媒の存在下反応させ、所望により保護基を除
去することを特徴とする 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R^3及びR^4は、同一又は異なって水素原
子又は水酸基の保護基を示し、l、m、n及びBは前記
と同意義を示す。)を有する化合物の製造法。
[Claims] General formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (I) (In the formula, R^1 and R^2 are the same or different and represent a protecting group for a hydroxyl group, l, m, and n are the same or different and represent 0 to 3, and the sum of l, m, and n represents 2 to 3.)
and a fluorinated sugar having the general formula B-[Si(CH_3)_3]_p (II) (wherein, B
represents an optionally protected pyrimidine or purine residue, and p represents 1 to 3. ),
General formulas ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(III) (In the formula, R^3 and R^4 are the same or differently, a hydrogen atom or a hydroxyl group-protecting group, and l, m, n and B have the same meanings as above.
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