JPS62266174A - Coating method - Google Patents

Coating method

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Publication number
JPS62266174A
JPS62266174A JP10929786A JP10929786A JPS62266174A JP S62266174 A JPS62266174 A JP S62266174A JP 10929786 A JP10929786 A JP 10929786A JP 10929786 A JP10929786 A JP 10929786A JP S62266174 A JPS62266174 A JP S62266174A
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JP
Japan
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coating
pitch
thickness
head
wet film
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Pending
Application number
JP10929786A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiaki Takei
武居 良明
Yoshihiko Eto
嘉彦 江藤
Satoshi Goto
聡 後藤
Hiroyuki Nomori
野守 弘之
Kunio Ito
国雄 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Publication of JPS62266174A publication Critical patent/JPS62266174A/en
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Abstract

PURPOSE:To enhance the uniformity of leveling and a film thickness by eliminating liquid dripping, by forming a film under such a coating condition that the value calculated from the viscosity of a coating solution, the thickness of the wet film after coating and a coating pitch enters a specific range using a spiral coating device. CONSTITUTION:If a ball screw 10 is rotated at predetermined rotational frequency when a substrate 1 rotates at predetermined rotational frequency, a coating head 4 moves in parallel to a rotary shaft 3 and, therefore, if a coating solution is supplied to the coating head 4, spiral coating is performed. In this case, when the viscosity of the coating solution is set to 7(CP), the thickness of a wet film to hw(cm) and a coating pitch to lambda(cm), it is necessary that a coating condition satisfies formula I and the thickness hw of the wet film is 0.1-40mum on a dry basis.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は塗布方法に関し、詳しくはピッチムラや液ダレ
等の膜厚ムラのないスパイラル塗布方法の改良に関する
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a coating method, and more particularly to an improvement in a spiral coating method that eliminates unevenness in film thickness such as pitch unevenness and liquid dripping.

[発明の背景] 従来15pLm程度の塗膜を形成する塗布手段としては
、ディップ(浸漬)塗布法やスパイラル塗布法が知られ
ている。しかしディップ塗布法では生産効率が悪く、ま
た感光体の両端(上下)で不均一塗膜となる等の問題が
あるので、かかる欠点のないスパイラル塗布法が試みら
れている。
[Background of the Invention] Conventionally, dip coating methods and spiral coating methods are known as coating means for forming a coating film of about 15 pLm. However, the dip coating method has problems such as poor production efficiency and non-uniform coating at both ends (top and bottom) of the photoreceptor, so attempts have been made to develop a spiral coating method that does not have these drawbacks.

従来からスパイラル塗布法は、特開昭52−11965
1号や同60−150053号において知られており、
塗膜表面をいかに滑らかにして膜厚ムラをなくすかとい
う点から種々の研究がなされている。しかしこれらの従
来法はいずれもスパイラル塗布の一般的方法を提案する
に止まり、具体的かつ妥当な塗布条件を提案していない
ため、実際に実施した時に上記両公報が言うほど膜厚ム
ラが改善されていた訳ではないことが判った。本発明は
、従来法で提示されなかった具体的かつ妥当な塗布条件
を提案する技術である。
Traditionally, the spiral coating method was disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-11965.
It is known from No. 1 and No. 60-150053,
Various studies have been conducted on how to smoothen the surface of the coating film and eliminate unevenness in film thickness. However, all of these conventional methods only propose a general method for spiral coating and do not propose specific and appropriate coating conditions, so when they are actually implemented, the film thickness unevenness does not improve as much as the above publications say. It turned out that this was not the case. The present invention is a technology that proposes specific and appropriate coating conditions that have not been proposed by conventional methods.

一般に塗膜表面の平滑性を担保する式として下記のレベ
リングの式が知られている。
Generally, the following leveling formula is known as a formula for ensuring the smoothness of the coating film surface.

を局−に入4η/γhW4 式中、lj4は凹凸の振幅が坪になるまでの時間入は塗
布ピッチ ηは塗布液粘度 γは表面張力 り一はウェット膜厚 には定数 である。
4η/γhW4 where lj4 is the time required for the amplitude of the unevenness to become tsubo, the coating pitch η is the coating liquid viscosity γ, the surface tension is a constant for the wet film thickness.

」−記から明らかなように、レベリングをするには、を
坏を小さくすることであり、tXAを小さくするには、
入及びηを小さくし、 h−を大きくすればよいと考え
られる。
” - As is clear from the text, leveling is achieved by reducing the value, and in order to reduce tXA,
It is thought that it is sufficient to reduce the input and η and increase h-.

しかし、塗布の生産性の向にをはかるためには、入を大
きくしなければならず、入を大きくするとt坏は大きく
なりレベリングしにくくなる。
However, in order to improve the productivity of coating, it is necessary to increase the input, and when the input is increased, the tread becomes larger and leveling becomes difficult.

そのためηを小さくしてhWを大きくすることが考えら
れる。しかしηを小さくすれば液ダレを生じやすく、ま
たht+を大きくすることはやはり液ブレを生ずるとい
う欠点がある。
Therefore, it is conceivable to reduce η and increase hW. However, reducing η tends to cause liquid dripping, and increasing ht+ also causes liquid blurring.

従って生産性を向」ニするために入を大きくしようとす
ることは、レベリングの観点からは、逆行し、故に生産
性及びレベリングを同時に満たす条件を見い出すことは
非常に困難である。
Therefore, trying to increase input in order to improve productivity goes against the grain from a leveling perspective, and it is therefore extremely difficult to find conditions that simultaneously satisfy productivity and leveling.

一方電子写真感光体の製造においては、最近機能分離型
感光体の開発が進み、電荷輸送層(以下、 CTLとい
う)上に電荷発生層(以下、CGLという)を、あるい
はCGL−LにCTI、を塗布によって形成している。
On the other hand, in the production of electrophotographic photoreceptors, the development of functionally separated photoreceptors has recently progressed, and a charge generation layer (hereinafter referred to as CGL) is placed on a charge transport layer (hereinafter referred to as CTL), or CTI, CGL-L, etc. It is formed by coating.

CGLの膜厚としては0.1〜5川m 、CTLの膜厚
としては5〜40/7.mが適当である。
The film thickness of CGL is 0.1 to 5 m, and the film thickness of CTL is 5 to 40/7. m is appropriate.

CGL、 CTLの膜厚が不均一に設けられると、帯電
電位、感度が不均一となり、複写機等に用いた場合、画
像にムラが生じることになる。
If the thickness of the CGL or CTL is non-uniform, the charging potential and sensitivity will be non-uniform, resulting in uneven images when used in a copying machine or the like.

従って、特性良好な感光体を得るためにはCGL、 C
TI、の塗膜ムラをなくすことが極めて重要な課題とな
る。
Therefore, in order to obtain a photoreceptor with good characteristics, CGL, C
Eliminating uneven coating of TI is an extremely important issue.

そこで本発明は塗布ピッチを大きくしても膜厚ムラのな
い塗布条件において塗布する塗布方法を提供することを
目的とする。
Therefore, it is an object of the present invention to provide a coating method that performs coating under coating conditions that do not cause unevenness in film thickness even when the coating pitch is increased.

[問題点を解決するための手段J 本発明者は」二記目的を達成すべく鋭意検討の結果、本
発明に至った。
[Means for Solving the Problems J] The inventors of the present invention have conducted intensive studies to achieve the above objects and have arrived at the present invention.

即ち本発明の塗布方法は、エンドレスに形成された連続
周面を有する基体を一定速度で回転させ、該基体表面に
近接して設けられた塗布ヘッドを前記基体の回転軸方向
に相対的に所定塗布ピッチで移動させ、前記基体表面に
スパイラル状に塗布液を塗布する塗布方法において、前
記塗布液の粘度をη(cp)、塗布後のウェット膜厚を
hH(am)、前記塗布ピッチをλ(cm)としたとS
That is, in the coating method of the present invention, a substrate having an endlessly formed continuous peripheral surface is rotated at a constant speed, and a coating head provided close to the surface of the substrate is rotated at a predetermined position relative to the rotation axis direction of the substrate. In a coating method in which the coating liquid is applied spirally to the substrate surface by moving at a coating pitch, the viscosity of the coating liquid is η (cp), the wet film thickness after coating is hH (am), and the coating pitch is λ (cm) and S
.

下記[I]及び[11]の条件で塗布することを特徴と
する。
It is characterized by coating under the following conditions [I] and [11].

[1] I XIO3≦入4η / hW’  ≦ I
X ](17[11]h、  がドライ換算で0.1〜
40gm、好ましくはlO〜30ルmであること。
[1] I XIO3≦in4η / hW'≦I
X] (17[11]h, is 0.1~ in dry conversion
40 gm, preferably lO to 30 lm.

以下、本発明を実施するための装置を添付図面に基づき
説明する。
Hereinafter, an apparatus for carrying out the present invention will be explained based on the accompanying drawings.

第1図はスパイラル塗布装置の一例を示す平面図であり
、同図においてlはエンドレスに形成された連続周面を
有する基体であり、本実施例ではロール状のものが用い
られている。基体1を電子写真感光体として用いる場合
には、材質として例えばアルミニウムが用いられる。
FIG. 1 is a plan view showing an example of a spiral coating device, and in the same figure, l is a base body having an endless continuous circumferential surface, and in this embodiment, a roll-shaped base body is used. When the substrate 1 is used as an electrophotographic photoreceptor, aluminum is used as the material, for example.

該基体lは駆動用モーター2で回転可能な回転軸3に固
定されている。
The base 1 is fixed to a rotating shaft 3 that can be rotated by a driving motor 2.

4は基体lの表面(特に−1一方向が好ましい)に近接
して設けられた塗布ヘッドで図示しない塗布機の取付部
材4Aに固定されている。塗布液タンク5に貯められた
塗布液はポンプ6(例えばギアポンプ等の定量ポンプ)
によりフィルター7を介し又は介さずに塗布ヘッド4に
供給される。
Reference numeral 4 denotes a coating head provided close to the surface of the substrate 1 (particularly preferably in the -1 direction), and is fixed to a mounting member 4A of a coating machine (not shown). The coating liquid stored in the coating liquid tank 5 is pumped by a pump 6 (for example, a metering pump such as a gear pump).
is supplied to the coating head 4 with or without filter 7.

塗布ヘッド4と基体1の位置関係は第2図に示す如く、
塗布ヘッド4より流出する塗布液の流線方向Xと基体1
」二の塗布液接点Pにおける回転方向への接線Yとの間
で形成される角度θが90゜≦θ≦1800になるよう
にすることが好ましい。
The positional relationship between the coating head 4 and the substrate 1 is as shown in FIG.
Streamline direction X of the coating liquid flowing out from the coating head 4 and the substrate 1
It is preferable that the angle θ formed between the second coating liquid contact point P and the tangent Y to the rotation direction satisfies 90°≦θ≦1800.

塗布ヘッド4を基体lの回転軸方向に相対的に移動させ
る手段は特に限定されないが、例えばポールネジ式移動
機構8が用いられる。該移動機構8は駆動用モーター9
に連結されたポールネジ10を基体の回転軸3に平行に
設け、該ネジ8に塗布ヘッドの取付部材11を螺動可能
に固定し、該取イ・1部材11に塗布へラド4を固定し
て成るものである。取イ1部材11は通常ポールネジl
Oに平行に設けられるガイド棒12を設けて固定されて
いる。塗布ヘッド4の先端は自由度があるため基体lの
表面に接触した状態にある。
Although the means for relatively moving the coating head 4 in the direction of the rotation axis of the base 1 is not particularly limited, for example, a pole screw type moving mechanism 8 is used. The moving mechanism 8 includes a drive motor 9
A pole screw 10 connected to is provided parallel to the rotating shaft 3 of the base body, a mounting member 11 of the coating head is screwably fixed to the screw 8, and a coating head 4 is fixed to the handle 1 member 11. It consists of Takeaway 1 member 11 is usually a pole screw l
A guide rod 12 provided parallel to O is provided and fixed. Since the tip of the coating head 4 has a degree of freedom, it is in contact with the surface of the substrate l.

θの調整は塗布ヘッド取付部材11の取付箇所にZ型デ
ィスクスタンドのような自由度を有する機構を設けるこ
とにより行うことができるが、限定されない。
Adjustment of θ can be performed by providing a mechanism having a degree of freedom such as a Z-shaped disk stand at the attachment location of the coating head attachment member 11, but is not limited thereto.

以」二のように構成されているので、基体lが所定の回
転数で回転している状態にあるとき、ポールネジ10を
所定の回転数で回転すれば、塗布ヘッドは回転軸3と平
行に移動するので、塗布液が塗布ヘッドに供給されると
スパイラル塗布がなされる。
Since the configuration is as described below, when the base l is rotating at a predetermined rotation speed, if the pole screw 10 is rotated at a predetermined rotation speed, the coating head will be aligned parallel to the rotation axis 3. Since it moves, spiral coating is performed when the coating liquid is supplied to the coating head.

以上の実施例で、基体1はロール状のもの以外にシート
状のものであってもよく、またエンドレスであればよい
のでシームレスである必要はない。さらに基体1と塗布
ヘッド4が相対的に移動すればよいから基体lが移動し
てもよい。
In the above embodiments, the substrate 1 may be in the form of a sheet other than a roll, and does not need to be seamless as it only needs to be endless. Furthermore, since the base 1 and the coating head 4 only need to move relative to each other, the base 1 may also move.

次に本発明の塗布条件について説明する。Next, the coating conditions of the present invention will be explained.

本発明における塗布条件は、 塗布液粘度 :η(cp) ウェット膜厚: hy (Cm) 塗布ピッチ :入(cm) としたとき、下記[I]及び[IT]の条件を満たすこ
とである。
The coating conditions in the present invention are as follows: Coating liquid viscosity: η (cp) Wet film thickness: hy (Cm) Coating pitch: On (cm) The following conditions [I] and [IT] are satisfied.

[I] I X105≦入4η / hw’  ≦IX
 107[11]h賀 がドライ換算で0.1〜40I
i、ffl、好ましくは10〜30JLIDであること
[I] I X105≦In 4η / hw'≦IX
107[11]hga is 0.1 to 40I in dry conversion
i, ffl, preferably 10 to 30 JLID.

本発明においてλ4η / hw ’ <I XIO3
のときには、塗布液粘度が小さすぎて液ブレを生じるか
、もしくは入が小さすぎて乾燥中のウェット膜上をある
程度の1】を有する塗布ヘッドが何度も通過することに
なり、ピッチに応じたスジを生じる。他方入4η / 
hw ’ > lX107のときは、液ダレは生じない
が、レベリングが不充分となり、ピッチに応じて膜厚が
不均一になる。
In the present invention, λ4η/hw'<I XIO3
In this case, the viscosity of the coating liquid is too low, causing liquid sway, or the coating head is too small to pass over the drying wet film over and over again. Causes streaks. Other input 4η /
When hw'> lX107, no liquid drips, but leveling becomes insufficient and the film thickness becomes non-uniform depending on the pitch.

本発明において塗布液粘度とは、東京計器社製B型粘度
計を用いて、塗布液温度25°Cで測定した値をいう。
In the present invention, the coating liquid viscosity refers to a value measured at a coating liquid temperature of 25° C. using a B-type viscometer manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd.

また、ウェット膜厚とは乾燥前の湿潤状態での膜厚であ
り、塗布液供給量を塗布面積で割った値をいう。更に塗
布ピッチとは基体が一回転する間に軸方向に塗布ヘッド
が移動する距離をいう。
Further, the wet film thickness is the film thickness in a wet state before drying, and is the value obtained by dividing the amount of coating liquid supplied by the coating area. Furthermore, the coating pitch refers to the distance that the coating head moves in the axial direction during one rotation of the base.

本発明の塗布法は種々の基体塗布に適用可能であるが、
好ましくはCTLの塗布に適用することである。CTL
は電荷輸送物質とバインダーとを適当な溶媒に溶解して
得られる塗布液を塗布することにより形成される。
Although the coating method of the present invention is applicable to coating various substrates,
Preferably, it is applied to CTL coating. C.T.L.
is formed by dissolving a charge transport material and a binder in a suitable solvent and applying a coating solution.

電荷輸送物質としては1例えば(特公昭34−5467
号)、オキサゾール誘導体(例えば同35−1125号
)、オキサジアゾール誘導体(例えば同34−5466
号)、ピラゾリン誘導体(例えば同34−10366号
)、イミダゾール誘導体(例えば同35−11215号
、同37−16096号)、フルオレノン誘導体(特開
昭52−128373号、同54−110837号)、
カルバゾール誘導体(例えば同54−59142号)更
に同58−134642号、同58−65440号等に
記載の物質が挙げられる。
For example, 1 as a charge transport substance (Japanese Patent Publication No. 34-5467
), oxazole derivatives (e.g. No. 35-1125), oxadiazole derivatives (e.g. No. 34-5466),
), pyrazoline derivatives (e.g. No. 34-10366), imidazole derivatives (e.g. No. 35-11215, No. 37-16096), fluorenone derivatives (Japanese Patent Laid-open Nos. 128373-1983 and 110837-1983),
Examples include carbazole derivatives (for example, No. 54-59142), as well as substances described in No. 58-134642, No. 58-65440, and the like.

バインダーとしては、電荷輸送物質との相溶性が高く、
さらに透明性及び絶縁性の高いものがよく、一般に電子
写真感光体に用いられているものはすべて用いることが
でき1例えばポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポ
リアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、
ポリビニルブチラール樹脂、ポリメチルメタクリレート
樹脂等が挙げられる。
As a binder, it has high compatibility with charge transport substances,
Furthermore, materials with high transparency and insulation properties are preferred, and all materials commonly used in electrophotographic photoreceptors can be used. For example, polyester resins, polyethylene resins, polyamide resins, polycarbonate resins, epoxy resins,
Examples include polyvinyl butyral resin and polymethyl methacrylate resin.

適当な溶媒としては、情意が低すぎるとレベリング不足
となりやすく、高すぎると塗膜が固化するまで時間がか
かりすぎるため沸点(bp)が80℃〜150°Cのも
のが好ましく、より好ましくは90℃〜120℃のもの
である。具体的には、l、2−ジクロロエタン(bp=
83.5℃)、 1,1.2−)ジクロロエタン(bp
=+13.5℃)、 1.4−ジオキサン(bp=10
1.3℃)、ベンゼン(bp=80.1’C)、 トル
エン(bp=110.8°C)、 o、m、p、−キシ
レン(bp=138〜1440C)等が挙げられる。ま
た沸点が80〜150°Cではない溶媒でも混合溶媒に
して沸点調整を行い使用することができる。
As a suitable solvent, one with a boiling point (bp) of 80°C to 150°C is preferable, and more preferably one with a boiling point (bp) of 80°C to 150°C, because if the temperature is too low, leveling will likely be insufficient, and if it is too high, it will take too long for the coating film to solidify. ℃~120℃. Specifically, l,2-dichloroethane (bp=
83.5°C), 1,1.2-)dichloroethane (bp
= +13.5°C), 1,4-dioxane (bp = 10
1.3°C), benzene (bp=80.1'C), toluene (bp=110.8°C), o,m,p,-xylene (bp=138-1440C), and the like. Further, even a solvent whose boiling point is not 80 to 150°C can be used by adjusting the boiling point by making a mixed solvent.

本発明に用いられる塗布液は、上記以外に他の物質を含
有せしめることができる。例えばシロキサン系化合物を
含有せしめば、塗布表面が平滑化するという効果がある
The coating liquid used in the present invention may contain other substances in addition to those mentioned above. For example, the inclusion of a siloxane compound has the effect of smoothing the coating surface.

シロキサン系化合物としては、ジメチルポリシロキサン
、メチルフェニルポリシロキサン等が挙げられる。
Examples of the siloxane compounds include dimethylpolysiloxane, methylphenylpolysiloxane, and the like.

添加層は塗布液全量に対し1〜110000ppが好ま
しく、より好ましくはlO〜1000ppn+である。
The additive layer preferably has an amount of 1 to 110,000 ppn+, more preferably 10 to 1,000 ppn+, based on the total amount of the coating solution.

本発明に用いられる塗布液の温度は10〜30°Cが好
ましく、より好ましくは15〜25°Cである。
The temperature of the coating liquid used in the present invention is preferably 10 to 30°C, more preferably 15 to 25°C.

以上説明した本発明の塗布方法は、感光体だけでなく、
絶縁層(NP) 、静電記録等の記録層、磁気記録材料
等の塗布にも適用可能である。
The coating method of the present invention explained above applies not only to photoreceptors but also to
It is also applicable to coating insulating layers (NP), recording layers for electrostatic recording, magnetic recording materials, etc.

[発明の効果] 本発明によれば、塗布ピッチを大きくしても膜厚ムラの
ない塗布条件において塗布することができる。
[Effects of the Invention] According to the present invention, even if the coating pitch is increased, coating can be performed under coating conditions with no unevenness in film thickness.

[実施例] 以下本発明の実施例を挙げ、更に具体的に説明する。[Example] EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to Examples.

実施例1 ド記組成の塗布液を調製した。粘度は+2cpであった
Example 1 A coating solution having the following composition was prepared. The viscosity was +2 cp.

ジクロロエタン         5oII1文1.1
.2−トリクロロエタン    50m文ポリカーポネ
ー) (L−1250,奇人化成社製)g 1.1−ビス(4−N、 N−ジベンジルアミノ−2−
メチルフェニル)ノルマルブタン   5g次いで第1
図に示す装置を用い以下のようにして塗布を行った。
Dichloroethane 5oII1 Sentence 1.1
.. 2-Trichloroethane 50m polycarbonate) (L-1250, manufactured by Kijin Kasei Co., Ltd.) g 1.1-bis(4-N, N-dibenzylamino-2-
Methylphenyl) normal butane 5g then the first
Coating was carried out in the following manner using the apparatus shown in the figure.

基体として100n++oφX 350mmのアルミニ
ウムシリンダーを用いた。この基体を 1100rpで
回転させながら、塗布ヘッドにギヤポンプを利用して3
8mJ1 /minの割合で上記の塗布液を送り込み、
塗布ヘッドを10ff110ff1の速さで移動させた
。塗布ヘッドはrll15mmのものを用いた。塗布ピ
ッチ(入)は6mmとした。
An aluminum cylinder of 100n++oφX 350mm was used as a substrate. While rotating this substrate at 1100 rpm, a gear pump was used in the coating head to
Pour the above coating liquid at a rate of 8mJ1/min,
The coating head was moved at a speed of 10ff110ff1. A coating head with a rll of 15 mm was used. The coating pitch (on) was 6 mm.

塗布ヘッドは、塗布液を介して基体にθ=135°で接
触しており、塗布ヘッドから基体」二に供給された塗布
液によりスパイラル塗布を行い、ウェット膜厚202川
mの塗膜を形成した。
The coating head contacts the substrate at θ=135° via the coating liquid, and performs spiral coating with the coating liquid supplied from the coating head to the substrate, forming a coating film with a wet film thickness of 202 m. did.

この塗膜は基体上でレベリングしていた。次いで基体を
回転させながら、常温で約10分乾燥した後、基体を軸
からとりはずし、100°Cに保たれたオーブンで約3
0分乾燥した。
This coating was leveling on the substrate. Next, after drying the base for about 10 minutes at room temperature while rotating, the base was removed from the shaft and dried in an oven kept at 100°C for about 3 minutes.
Dry for 0 minutes.

膜厚を測定したところ、15gmの均一な塗膜が得られ
た。
When the film thickness was measured, a uniform coating film of 15 gm was obtained.

上記の塗布方法における入4η /bW4の値は!1.
3 Xl06であった。
What is the value of 4η/bW4 in the above coating method? 1.
3Xl06.

実施例2 実施例1において塗布条件を塗布ピッチ(入)を3.6
■としてλ4η/ hW 4 =1.2 X106とし
た以外は同様にして塗布を行った。その結果ウェット膜
もレベリングし、乾燥時の塗膜も15μmで均一であっ
た。
Example 2 In Example 1, the coating conditions were changed to coating pitch (on) of 3.6.
Coating was carried out in the same manner except that λ4η/hW 4 =1.2X106 was used as (2). As a result, the wet film was also leveled, and the dry coating had a uniform thickness of 15 μm.

実施例3 下記組成の塗布液を調製した。粘度は13.5cpであ
った。
Example 3 A coating liquid having the following composition was prepared. The viscosity was 13.5 cp.

ジクロロエタン         50m文1.1.2
−トリクロロエタン     50II1文ポリカーポ
ネー) (L−1250,奇人化成社製)g 1.1−ビス(4−N、 N−ジベンジルアミノ−2−
メチルフェニル)ノルマルブタン   6g上記塗布液
を用い、実施例1と同じ条件で塗布した。
Dichloroethane 50m sentence 1.1.2
-Trichloroethane 50II 1-mon polycarbonate) (L-1250, manufactured by Kijin Kasei Co., Ltd.) g 1.1-bis(4-N, N-dibenzylamino-2-
Methylphenyl) normal butane (6 g) Coating was carried out under the same conditions as in Example 1 using the above coating solution.

その結果ウェット膜厚20Bgm 、乾燥時の膜厚18
μmであった。
As a result, the wet film thickness was 20 Bgm, and the dry film thickness was 18 Bgm.
It was μm.

なお、入4η / hw ’ =L?5X106であっ
た。
In addition, input 4η/hw' = L? It was 5×106.

以」二の塗布により、実施例1と同様ウェット時にレベ
リングし、乾燥時にも均一塗膜であった。
As a result of the second application, leveling occurred when wet as in Example 1, and a uniform coating film was obtained when dry.

実施例4 実施例1において用いた塗布液にメチルフェニルポリシ
ロキサンを微量添加した。
Example 4 A small amount of methylphenylpolysiloxane was added to the coating solution used in Example 1.

この塗布液を用い実施例1と全く同様に塗布を行ったと
ころ、実施例1においてレベリングされたウェット膜が
更に平滑化し、ゆず肌のない塗膜が得られた。
When this coating liquid was applied in exactly the same manner as in Example 1, the wet film leveled in Example 1 was further smoothed, and a coating film without orange skin was obtained.

比較例1 下記組成の塗布液を調製した。粘度は6cpであった。Comparative example 1 A coating solution having the following composition was prepared. The viscosity was 6 cp.

ジクロロエタン         50m文1.1.2
−)ジクロロエタン     50m文ポリカーポネー
) (L−1250,音大化成社製)2.5g 1.1−ビス(4−N、 N−ジベンジルアミノ−2−
メチルフェニル)ノルマルブタン  2.5g次いで、
下記条件以外は実施例1と同様に塗布を行った。
Dichloroethane 50m sentence 1.1.2
-) Dichloroethane 50m polycarbonate) (L-1250, manufactured by Ondai Kasei Co., Ltd.) 2.5 g 1.1-bis(4-N, N-dibenzylamino-2-
2.5 g of (methylphenyl) normal butane, then
Coating was carried out in the same manner as in Example 1 except for the following conditions.

塗布ヘッドへの塗布液供給量 37m文/lin塗布ヘ
ッドの移動速度    5 mm/sec塗布ピッチ(
入)       3mm以上の条件でウェット膜厚3
93 ILmの塗膜を得たが、液ブレを生じ、うまく塗
布できなかった。
Amount of coating liquid supplied to the coating head: 37 m/lin Moving speed of the coating head: 5 mm/sec Coating pitch (
) Wet film thickness 3 under conditions of 3 mm or more
Although a coating film of No. 93 ILm was obtained, liquid blurring occurred and it could not be applied successfully.

なお、この塗布時においては、入4η / hw ’=
2.0 X104であった。
In addition, at the time of this application, input 4η / hw '=
It was 2.0×104.

比較例2 下記組成の塗布液を調製した。粘度は45cpであった
Comparative Example 2 A coating liquid having the following composition was prepared. The viscosity was 45 cp.

ジクロロエタン         5011文1.1.
2−)ジクロロエタン     50Il!lボリカー
ポネー) (L−1250,音大化成社製)0 g 1.1−ビス(4−N、 N−ジベンジルアミノ−2−
メチルフェニル)ノルマルブタン   10 g次いで
、下記条件以外は実施例1と同様に塗布を行った。
Dichloroethane 5011 sentence 1.1.
2-) Dichloroethane 50Il! 1-bis(4-N, N-dibenzylamino-2-
(methylphenyl) normal butane (10 g) Then, coating was carried out in the same manner as in Example 1 except for the following conditions.

塗布ヘッドへの塗布液供給量 21 ttr文/win
塗布ヘッドの移動速度     10mm/sec塗布
ピッチ(λ)       6mm以上の条件でウェッ
ト膜厚111pLmの塗膜を得たが、塗布ピッチ6+*
mで塗膜に膜厚ムラを生じた。
Amount of coating liquid supplied to the coating head 21 ttr sentences/win
Coating head moving speed 10 mm/sec Coating pitch (λ) A coating film with a wet film thickness of 111 pLm was obtained under conditions of 6 mm or more, but the coating pitch was 6+*
At m, unevenness in film thickness occurred in the coating film.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、第1図はスパイラル塗布装置の一例を示す平
面図、第2図は塗布ヘッドからの塗布液供給方向と基体
上の塗布液流れ方向の接線との角度θを示す要部拡大断
面図である。 1・・・基体 2・・・駆動用モーター 3・・・回転軸 4・・・塗布ヘッド 5・・・塗布液タンク 6・・・ポンプ 7・・・フィルター 8・・・ポールネジ式移動機構 9・・・駆動用モーター lO・・・ポールネジ 11・・・取付部材 12・・・ガイド棒
Figure 1 is a plan view showing an example of a spiral coating device, and Figure 2 is an enlarged view of the main part showing the angle θ between the coating liquid supply direction from the coating head and the tangent to the coating liquid flow direction on the substrate. FIG. 1... Base 2... Drive motor 3... Rotating shaft 4... Coating head 5... Coating liquid tank 6... Pump 7... Filter 8... Pole screw type moving mechanism 9 ...Drive motor lO...Pole screw 11...Mounting member 12...Guide rod

Claims (1)

【特許請求の範囲】 エンドレスに形成された連続周面を有する基体を一定速
度で回転させ、該基体表面に近接して設けられた塗布ヘ
ッドを前記基体の回転軸方向に相対的に所定塗布ピッチ
で移動させ、前記基体表面にスパイラル状に塗布液を塗
布する塗布方法において、前記塗布液の粘度をη(cp
)、塗布後のウェット膜厚をh_w(Cll)、前記塗
布ピッチをλ(cm)としたとき、下記[ I ]及び[
II]の条件で塗布することを特徴とする。 [ I ]1×10^5≦λ^4η/h_w^4≦1×1
0^7[II]h_wがドライ換算で0.1〜40μmで
あること。
[Claims] A base body having an endlessly formed continuous peripheral surface is rotated at a constant speed, and a coating head provided close to the base surface is applied at a predetermined coating pitch relative to the rotation axis direction of the base body. In the coating method in which the coating liquid is applied to the surface of the substrate in a spiral manner, the viscosity of the coating liquid is set to η(cp
), the wet film thickness after coating is h_w (Cll), and the coating pitch is λ (cm), the following [I] and [
II]. [I] 1×10^5≦λ^4η/h_w^4≦1×1
0^7 [II] h_w is 0.1 to 40 μm in dry terms.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5534307A (en) * 1993-10-15 1996-07-09 Fuji Electric Co., Ltd. Resin impregnating method for fibrous substrate

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US5534307A (en) * 1993-10-15 1996-07-09 Fuji Electric Co., Ltd. Resin impregnating method for fibrous substrate

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