JPS62264637A - 集積回路処理用インタ−フエ−ス - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は集積回路処理インターフェース、特に集積回路
ウェハを外部環境にさらすことなく処理する集積回路処
理用インターフェースに関する。

〔従来の技術〕

従来の技術としては、例えば、特公昭６０−２２７４３
７号公報に示されているように集積回路処理用インター
フェースがある。従来の集積回路処理用インターフェー
スは、集積回路（ＩＣ）ウェハを収納するカセットを覆
う封入体の開口部を封止する第１ドアと、第２封入体の
開口部を封止する第２ドアと、前記第１．第２ドアを対
向させて前記第１．第２封入体とを結合する手段と、前
記第１．第２ドアを一体化して前記カセットを第１、第
２封入体間で移動させる手段とを含んで構成される。

次に従来の集積回路処理用インターフェースについて、
図面を参照して詳細に説明する。第３図は従来の集積回
路処理用インターフェースの一例を示す断面図である。

第４図は第３図に示したインターフェース１１０の部分
拡大図である。

第３図だ示す集積回路処理用インターフェースは、・天
蓋１０と、カセットポート２０とを含んで構成されてい
る。天蓋１０は各ウェハ処理機構（たとえば、フォトレ
ジスト塗布機、マスク合わせ器、検査機器など）を覆う
取シ外しし易いシールドである。カセットポート２０は
ポートエレベータ−機構７０と、箱９０とを含んで構成
されている。このエレベータ−機構７０はＩＣウェハが
入っているカセット８０を天蓋１０の内部に運び込む。

箱９０はカセット８０を処理機器の一つの処理機構から
他へ輸送するのに使用するが、ボート２０を介して天蓋
１０と連結している。箱９０はボート２０のドア６０と
連動するドア１００を含んで構成されている。ドア６０
と１００は微粒子を侵入させないドブキング可能なイン
ターフェース１１０を構成している。

インターフェース１１０はボート２Ｑに箱９゜をラッチ
する手段ともなっており、したがってエレベータ−機構
７０ｒｉ箱９０と天蓋１０との間でカセット８０を自由
に輸送することができる。ドア６０と１００とはこれら
の外面の微粒子の大部分がドア６０と１００との間に捕
えられるように作られている。このように、カセット８
０に保管されているウェハはインターフェース１１０ｔ
−１１４いたときに汚染されることはなく、インターフ
ェースｌｌ０Ｋよって天蓋１０および箱９０のような独
立した二つの清浄環境装置を清浄に微粒子の存在なしに
結合できる。

インターフェース１１０を開くまでドア１００は気密軸
受けすなわちブッシング２１５で空間９゜の壁を貫通す
るラッチ２１０によって所定の位置に保持されている。

天蓋１０と箱９０とはリップ９５においてクランプ２２
０で結合されている。

インターフェース１１０を開くにはラッチ２１０を開放
し、ピストン２３０を伸ばしそしてエレベータ−機構７
０によシトアロ０と１００とを一体として空間１０’内
に移す。それによシカセット８０ｒ１案内リツプ２７５
の助けで整列されて空間１０’の中に運び込まれる。同
時に二つのドア６゜と１００との間の表面微粒子は捕え
られ、微粒子を含んだ周囲の空気が侵入しないようにさ
れる。

ドア６０と１００との間の表面微粒子を捕えるためには
、これらのドアを互いに一様に且つ密接にそれぞれの外
周２８０と２８５との周で接触するだけでよい。ドア６
０と１００との間には外周２８０と２８５との内側に空
隙２９０が残っている。空［！１２９０はドア６０と１
００との間で空間を作りその結果ドア６０と１００との
間に捕えられた微粒子を含んだ空気の一部が空間１０′
と９０’七に流入することがない。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上述した従来の集積回路処理用インターフェースは、ウ
ェハを収納するカセットと、箱とを必要とするために構
造が複雑で高価であシ、カセットを天蓋の中にウェハと
一緒に持ち込み、カセットに付着している微粒子をも天
蓋の中に一緒に持ち込むためにウェハに微粒子が付着し
やすいので。

ＩＣプロセス処理の歩留まりが低いという欠点があった
。

〔問題点を解決するだめの手段〕

本発明の集積回路処理用インターフェースは、集積回路
ウェハを収納する第１封入体の開口部を封止する第１ド
アと、第２封入体の開口部を封止する第２ドアと、前記
第１．第２ドアを対向させて前記第１．第２封入体とを
結合する手段と、前記第１．第２ドアを一体にして前記
第１．第２封入体間で移動させる手段と、前記第１封入
体内のウェハを前記第１．第２封入体間で移動させる手
段とを含んで構成される。

〔実施例〕

次に、本発明の実施例について、図面を参照して詳細に
説明する。

第１図は本発明の一実施例でカセットポート１を天蓋２
に取り付けた場合の断面図であシ、第２図は第１図に示
すインターフェース８の部分拡大図である。

第１図に示すとおシ本ンステムはカセットポート１と、
天蓋２と、ウェハ操作機構１１とを含んで構成される。

天蓋２はウェハ処理機器の各ウェハ処理機構を覆う取υ
外しし易いシールドである。

一般に天蓋２はレフサンのような透明なプラスチックで
構成され後で必要となる天蓋２の内部検査あるいは保守
を行ない易くなっている。

カセットボート１は箱６と、固定器１７と、インターフ
ェース８と、インターフェース開閉ｐｓ４とを含んで構
成される。箱６はウェハ９を一つの処理機器から他へ輸
送するのに使用するが、カセットボート１を介して天蓋
２と連絡している。

箱６はカセットボート１のドア５と連動するドア７を含
んで構成される。固定器１７ｒｔ天蓋２と箱６とを結合
する。

インターフェース８は更にカセットボートｌのドア５と
、ドア５と連動する箱６のドア７と、ドア５と７とを結
合するラッチ２９と、開放ケーブル３１とを含んで構成
される。ドア５と７１−１：これらの外面の微粒子の大
部分がドア５と７の間に捕えられるように作られている
ので、箱６に保持されているウェハ９はインターフェー
ス８を開いた時汚染されることはない。インターフェー
ス８を開くまでドア７は磁石２５で箱６の所定の位置に
保持されている。

インターフェース開閉機構４はピストン１８と、ロッド
１９と、ベローズ２１と、通気孔２２とを含んで構成さ
れるが、インターフェース８を天蓋２の内部に運びこむ
。第１図に示す特定の実施例において、インターフェー
ス開閉機構４のピストン１８ｒｉ空間２′の外側に置か
れている。ピストン１８はロッド１９とドア５と結合し
ている。ロッド１９は天蓋２の壁を貫通し、そして微粒
子を含んだ周囲の空気が侵入しないようにベローズ２１
で囲まれている。通気孔２２はインターフェース開閉機
構４が動きベローズ２１が伸び縮みするときベローズ２
１の内側の空気圧を等しくするために設けられている。

インターフェース８を開くにハピストン１８を縮め、そ
してインターフェース開閉機構４によりドア５と７とを
一体として空間２′内に移す。これによりウェハ操作機
構１１でウェハ９を空間２′に運び込むことができる。

同時に二つのドア５と７との間の表面微粒子は捕えられ
、微粒子を含んだ周囲の空気が侵入しないようにされる
。

ドア５と７との間の表面微粒子を捕えるためには、これ
らのドアが互いに一様に且つ密接にそれぞれの外周２２
と２３の周シで接触するだけでよい。ドア５と７との間
には外周２２と２３との内側に空隙２４があシ空隙２４
はドア５と７との間で空気空間を作シ、その結果ドア５
と７との間に微粒子を含んだ空気が捕えられ空間２′と
６′に流入することがない。ドア５と７の結合は第２図
に示すように正のばね負荷ラッチ２９と開放ケーブル３
１を設ける。

−Ｈインターフェース８が天蓋２の中に入ると、箱６に
保持しであるウェハ９はウェハ操作機構１１で箱６と天
蓋２との間で操作できる。ウェハ操作機構１１ｒｉ腕１
２とウェハ把持器１３と、腕側アクチュエータ１４と、
把持器移動用アクチュエータ１５と、ベローズ１６と、
通気孔１７とを含んで構成される。腕側アクチュエータ
１４は腕１２を腕１２の軸方向（上下）に運動させ、把
持器移動用アクチュエータ１５はウェハ把持器１３をウ
ェハ把持器１３の軸方向（左右）Ｋ運動させる。

そのためウェハ操作機構１１を使うことで箱６に保持さ
れているウェハ９を天蓋２と箱６との中で自白に移動さ
せることができる。把持器移動用アクテュエータは非接
触の磁気軸受けと、リニアモータとを含んで構成されて
いるので、天蓋２の中に微粒子を放出しない。腕１２ｒ
ｉ天蓋２の壁を貫通し、そして微粒子を含んだ周囲の空
気が侵入しないようにベローズ１６によって囲まれてい
る通気孔１７はベローズ１６の内側の空気圧を等しくす
るために設けられている。

〔発明の効果〕

本発明の集積回路処理用インターフェースは第１封入体
に収納されている集積回路ウェハを直接、第１．第２封
入体間で移動できることにより容器を二重構造にする必
要が無いため、構造を簡単にできるので、安価であると
いう効果がある。また、ウェハを収納するカセットを第
１．第２封入体内に持ち込まないので、カセットに付着
した微粒子を第１．第２封入体内に持ち込まないため、
ＩＣプロセス処理の歩留まりを向上できるという効果が
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す断面図、第２図は第１
図に示すインターフェースの部分拡大図、第３図は従来
の一例を示す断面図、第４図は第３図に示すインターフ
ェースの部分拡大図である。 ■・・・・・・カセットポート、２・・・・・・天蓋、
４・山・・インターフェース開閉機構、６・・・・・・
箱、５．６・・川・ドア、８・・・・・・インターフェ
ース、９・・・・・・ウェハ、１１・・・・・ウェハ操
作機構、１２・・・・・・腕、１３・・川・ウェハ把持
器。 溶１図 １３゛ウニ八ｔｅ潜器 第２図 ｓ：ドア 第３図 ｑＯ：箱 ｌθ　天ｆＬｆｌθ　イ、ター７エース矛４−図 どＯ，ドア

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 集積回路ウェハを収納する第１封入体の開口部を封止す
   る第１ドアと、第２封入体の開口部を封止する第２ドア
   と、前記第１、第２ドアを対向させて前記第１、第２封
   入体とを結合する手段と、前記第１、第２ドアを一体に
   して前記第１、第２封入体間で移動させる手段と、前記
   第１封入体内のウェハを前記第１、第２封入体間で移動
   させる手段とを含むことを特徴とする集積回路処理用イ
   ンターフェース。