JPS62251743A - Photosensitive compositions and photosensitive lithographic plate - Google Patents

Photosensitive compositions and photosensitive lithographic plate

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JPS62251743A
JPS62251743A JP9460386A JP9460386A JPS62251743A JP S62251743 A JPS62251743 A JP S62251743A JP 9460386 A JP9460386 A JP 9460386A JP 9460386 A JP9460386 A JP 9460386A JP S62251743 A JPS62251743 A JP S62251743A
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JP
Japan
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acid
compound
photosensitive
photosensitive composition
present
Prior art date
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Application number
JP9460386A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideyuki Nakai
英之 中井
Sei Goto
聖 後藤
Nobumasa Sasa
信正 左々
Toshiyoshi Urano
年由 浦野
Yoshihiro Maeda
佳宏 前田
Hiroshi Tomiyasu
冨安 寛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enhance sensitivity and to enlarge development allowance by incorporating a compound to be allowed to produce an acid by radiation of actinic rays and a compound having in the main chain at least one carbonate ester group decomposable with an acid. CONSTITUTION:The photosensitive composition contains the compound to be allowed to produce an acid by radiation of actinic rays in a proper amount of 0.1-50wt%, preferably, 0.2-10wt% of the total solids of the photosensitive composition, and the compound having in the main chain at least one carbonate ester group represented by formula I decomposable with an acid, preferably, in an amount of 5-70wt%, especially, 10-50wt% of the total solids of the photosensitive composition.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は感光性平版印刷版及び該印刷版に用いられる感
光性組成物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate and a photosensitive composition used in the printing plate.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

感光性平版印刷版に用いられる感光性組成物の感光性物
質としては、従来、オルトキノンジアジド化合物が知ら
れている。該組成物は平版印刷版やフォトエツチング加
工のフォトレジスト等に広く利用されて来た。このより
なオルトキノンジアジド化合物としては、例えば、特開
昭47−5303号、同4B−63802号、同4B−
63803号、同49−3870j号、同56−104
4号、同56−1045号、特公昭4j−11222号
、同43−28403号、同45−9610号、同49
−17481号の各公報、米国特許第2,797,21
5号、同第3,046,120号、同!1,188.2
10号、同3.454,400号、同3,544,32
3号、同3.573,917号、同第5,674,49
5号、同第3,785,825号、英国特許第1,27
7,602号、同第1,2色1,345号、同第1,2
67,005号、同第1,529,888号、同第1,
550,932号、ドイツ特許第854,890号など
の各明細書中に記載されているものを挙げることができ
る。
BACKGROUND ART Orthoquinonediazide compounds are conventionally known as photosensitive substances in photosensitive compositions used in photosensitive lithographic printing plates. The composition has been widely used for lithographic printing plates, photoresists for photoetching, and the like. Examples of this stronger orthoquinone diazide compound include JP-A Nos. 47-5303, 4B-63802, and 4B-
No. 63803, No. 49-3870j, No. 56-104
No. 4, No. 56-1045, Special Publication No. 4J-11222, No. 43-28403, No. 45-9610, No. 49
-17481 publications, U.S. Patent No. 2,797,21
No. 5, No. 3,046,120, Same! 1,188.2
No. 10, No. 3.454,400, No. 3,544,32
No. 3, No. 3.573,917, No. 5,674,49
No. 5, No. 3,785,825, British Patent No. 1,27
No. 7,602, No. 1 and 2 color No. 1,345, No. 1 and 2
No. 67,005, No. 1,529,888, No. 1,
Examples include those described in various specifications such as No. 550,932 and German Patent No. 854,890.

前記のオルトキノンジアジド化合物は、活性光線の照射
によ部分解を起こし、感光性平版印刷版用の現像液に可
溶化することを利用したものであるが、いずれも感度が
低いという欠点があった。
The above-mentioned orthoquinone diazide compounds are partially decomposed by irradiation with actinic rays and made soluble in a developer for photosensitive planographic printing plates, but all of them have the drawback of low sensitivity. .

感光性組成物に用いる感光性物質の感度を高める方法と
して、光分解で生成する酸によって、第2段の反応を起
こさせるものがあシ、その結果、活性光線によって露光
された部分を可溶化するというポジチブに作用する系の
感光性物質が用いられている。具体的には、光分解によ
りat−発生する化合物と核酸により分解し得る化合物
との組合せから成る感光性組成物であり、前記酸により
分解し得る化合物の例として、例えば、特開昭60,5
625号公報に記載のカルボン酸エステル基を有する化
合物がある。
As a method of increasing the sensitivity of photosensitive substances used in photosensitive compositions, there is a method of causing a second reaction using the acid generated by photolysis, and as a result, the area exposed to actinic rays is solubilized. A photosensitive substance is used that has a positive effect. Specifically, it is a photosensitive composition consisting of a combination of an at-generated compound by photolysis and a compound decomposable by a nucleic acid. 5
There is a compound having a carboxylic acid ester group described in Japanese Patent No. 625.

しかしながら、これらの化合物では、前記のオルトキノ
ンジアジド化合物よシも一般に高い感度を示すものの感
度及び現像時の現像許容性が十分とは言えず、実際の使
用に対して満足のいくものではなかった。
However, although these compounds generally exhibit high sensitivity as well as the above-mentioned orthoquinonediazide compounds, the sensitivity and development tolerance during development are not sufficient, and they are not satisfactory for actual use.

また、側鎖に酸により開裂し得る炭酸エステル基を有す
る化合物が特開昭59−45459号公報に記載されて
いる。この化合物を感光性層に用いた感光性平版印刷版
においても、感度及び現像時の現像許容性が十分とは言
えず実際の使用に対して満足のいくものではなかった。
Further, a compound having a carbonate group in a side chain that can be cleaved by an acid is described in JP-A-59-45459. Even in photosensitive lithographic printing plates using this compound in the photosensitive layer, the sensitivity and development tolerance during development were not satisfactory for actual use.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

したがって感光性平版印刷版の感光性層に用いる感光性
組成物として、総合性能の向上した高性能な感光性組成
物が要請されていた。
Therefore, there has been a demand for a high-performance photosensitive composition with improved overall performance as a photosensitive composition for use in a photosensitive layer of a photosensitive lithographic printing plate.

本発明の目的は、感度が高く、かつ現像許容性の広い新
規な感光性組成物を提供することにある。また、感度が
高く、かつ現像許容性の広い感光性組成物により形成さ
れる感光性層を有する感光性平版印刷版を提供すること
にある。
An object of the present invention is to provide a novel photosensitive composition that has high sensitivity and wide development tolerance. Another object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer formed from a photosensitive composition having high sensitivity and wide development tolerance.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明を概説すれば、本発明の第1の発明は感光性組成
物に関する発明であって、活性光線の照射により酸を発
生し得る化合物及び主鎖中に酸によ部分解し得る少なく
とも1つの炭酸エステル基を有する化合物を含有するこ
とを特徴とする。
To summarize the present invention, the first invention of the present invention relates to a photosensitive composition, which comprises a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays and at least one component in the main chain capable of being decomposed by the acid. It is characterized by containing a compound having two carbonate ester groups.

そして、本発明の第2の発明は感光性平版印刷版に関す
る発明であって、支持体上に、第1の発明の感光性組成
物から形成される感光性層を有することを特徴とする。
The second invention of the present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate, and is characterized by having a photosensitive layer formed from the photosensitive composition of the first invention on a support.

本発明者等は鋭意研究の結果、酸によ部分解し得る炭酸
エステル基を主鎖中に有する化合物により感度が高く更
に、現像許容性の広い感光性組成物が得られること、及
び該感光性組成物を感光性層に用いた感光性平版印刷版
は十分に実用に供されるものとなることを見出し、本発
明の成すに至った。
As a result of intensive research, the present inventors have discovered that a photosensitive composition having high sensitivity and wide development tolerance can be obtained by using a compound having a carbonate group in the main chain that can be partially decomposed by an acid, and The present inventors have discovered that a photosensitive lithographic printing plate using a photosensitive composition in a photosensitive layer can be put to practical use, and has accomplished the present invention.

本発明の感光性組成物は活性光線の照射により酸を発生
し得る化合物(以下、酸発生化合物という)と酸によ部
分解し得る炭酸エステル基含有化合物(以下、酸分解性
化合物という)とを含有する。
The photosensitive composition of the present invention comprises a compound that can generate an acid upon irradiation with actinic rays (hereinafter referred to as an acid-generating compound) and a carbonate group-containing compound that can be partially decomposed by an acid (hereinafter referred to as an acid-decomposable compound). Contains.

上記酸分解性化合物は、主鎖中に下記一般式: %式%(1) で示される酸によって分解し得る炭酸エステル基を少な
くとも1個含有する化合物である。
The acid-decomposable compound is a compound containing in its main chain at least one carbonate group that can be decomposed by an acid represented by the following general formula: % formula % (1).

更に前記炭酸エステル基Iが下記一般式■:(式中R1
及びR1は置換又は未置換のアルキレン基、アリーレン
基、アルケニレン基、アルアルキレン基、アルキレンオ
キシ基を表す。
Further, the carbonate ester group I has the following general formula (1): (in the formula R1
and R1 represents a substituted or unsubstituted alkylene group, arylene group, alkenylene group, aralkylene group, or alkyleneoxy group.

R3、式は同一でも、異なっていてもよく、それぞれ水
素原子、置換又は未置換のアルキル基、アリール基、ア
ルケニル基、アルアルキル基を表し、上記アルキル基と
しては直鎖、分枝、環状のものが含まれ、その炭素数は
1〜12、より好ましくは1〜6のものでおる。
R3, the formulas may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an aralkyl group, and the above alkyl group includes a straight chain, branched, or cyclic group. The number of carbon atoms is 1 to 12, more preferably 1 to 6.

また、現とR4はお互いに結合して環を形成していても
よい。更に上記子り−ル基とじてはフェニル基のよりな
単環のものが適しており、置換基を有していてもよい。
Furthermore, R and R4 may be bonded to each other to form a ring. Further, as the above-mentioned substituent group, a monocyclic one such as a phenyl group is suitable, and it may have a substituent.

島及び&は同時に水素原子とはならないことが好ましく
、更に好ましくは烏及び山は置換基を有していてもよい
アルキル基又はアリール基である。
It is preferable that Shima and & do not become hydrogen atoms at the same time, and more preferably Karasu and Yama are alkyl groups or aryl groups that may have substituents.

xl及びXIは同一でも異なっていてもよく、それぞれ
結合手又は水素原子を表す) で表される構造である場合、特に優れた性能を示し好ま
しい。
xl and XI may be the same or different and each represents a bond or a hydrogen atom) A structure represented by the following is preferable because it shows particularly excellent performance.

上記の炭酸エステル基を含む化合物はXi % XIが
水素である低分子化合物、あるいはxi 、 X、が結
合手であシ一般式lを繰返し単位として含有する高分子
化合物のいずれでもよいが、好ましくは、主鎖中に上記
炭酸エステル基t−3つ以上含む化合物である。
The above-mentioned compound containing a carbonate ester group may be a low-molecular compound in which Xi%XI is hydrogen, or a high-molecular compound in which xi and X are bonds and contain general formula l as a repeating unit, but preferably is a compound containing three or more of the above carbonate ester groups t- in its main chain.

高分子化合物の場合、その分子量は数平均分子量で約5
00〜12万の範囲が適当であシ、好ましくは1000
〜5万の範囲である。
In the case of polymer compounds, the number average molecular weight is approximately 5.
A range of 00 to 120,000 is appropriate, preferably 1000
~50,000.

分子量の測定はゲルパーミェーションクロマトグラフィ
ー(以下GPCと略記する)法によって行う。
The molecular weight is measured by gel permeation chromatography (hereinafter abbreviated as GPC).

数平均分子量の算出は拓植盛男、宮林達也、田中誠之”
日本化学会誌”800頁〜805頁(1972年)に記
載の方法により、オリゴマー領域のピークを平均する(
ピークの山と谷の中心を結ぶ)方法にて行うものとする
。また高分子化合物の場合、前記一般式■で示される炭
酸エステル基の含有tは、全炭酸エステル基の10%以
上が好ましく、より好ましくは25%以上である。
Calculation of number average molecular weight was done by Morio Takuue, Tatsuya Miyabayashi, and Masayuki Tanaka.”
The peaks of the oligomer region are averaged by the method described in "Journal of the Chemical Society of Japan," pages 800 to 805 (1972).
This method shall be used to connect the center of the peak and the center of the valley. Further, in the case of a polymer compound, the content t of the carbonate ester groups represented by the general formula (2) is preferably 10% or more, more preferably 25% or more of the total carbonate ester groups.

これらの酸分解性化合物は、炭酸銀に対応するヨウ化ア
ルキルなどヨウ化物を既知の方法にて反応させる方法、
あるいは対応するクロロギ散エステルに対応するアルコ
ール性OH基及び/又はフェノール性OH基を有する化
合物(以下、OH基含有化合物とい5)を既知の方法に
て反応させる方法、炭酸ジフェニルや炭酸ジエチルなど
の低分子炭酸エステル化合物とOH基含有化合物とを既
知の方法にてエステル変換反応させる方法、あるいはホ
スゲンに対応するOH基含有化合物を既知の方法にて反
応させる方法などにより合成することができる。炭酸エ
ステル基を3個以上有する化合物の合成にはエステル交
換反応させる方法あるいは、ホスゲンに対応するOH基
含有化合物を反応させる方法が好ましい。
These acid-decomposable compounds can be prepared by reacting iodides such as alkyl iodides corresponding to silver carbonate using known methods;
Alternatively, a method in which a compound having an alcoholic OH group and/or a phenolic OH group (hereinafter referred to as an OH group-containing compound 5) corresponding to the corresponding chloroformide ester is reacted by a known method, diphenyl carbonate, diethyl carbonate, etc. It can be synthesized by subjecting a low-molecular carbonate compound and an OH group-containing compound to an ester conversion reaction using a known method, or by reacting an OH group-containing compound corresponding to phosgene using a known method. For the synthesis of a compound having three or more carbonate ester groups, a method of transesterification or a method of reacting an OH group-containing compound corresponding to phosgene is preferred.

前記のホスゲンを利用する反応は、例えば、大津随行、
木下雅悦著1高分子合成の実験法”(化学同人)323
頁〜324頁等に記載されている方法と同様あるいは朔
似の方法を用いることができる。
The above reaction using phosgene is, for example, Otsu-related,
“Experimental Methods of Polymer Synthesis” by Masayoshi Kinoshita (Kagaku Doujin) 323
A method similar to or similar to the method described on pages 324 to 324 can be used.

また前記OH基含有化合物としては例えば1価のアルコ
ール、2価のアルコール、3価以上のアルコール、1価
のフェノール系化合物、2価のフェノール系化合物、5
価以上のフェノール系化合物、あるいはフェノール性O
H基及びアルコール性OH基を同時に有する化合物など
を挙げることができる。
Examples of the OH group-containing compounds include monohydric alcohols, dihydric alcohols, trihydric or higher alcohols, monohydric phenolic compounds, divalent phenolic compounds,
Phenolic compounds with a higher value or phenolic O
Examples include compounds having both an H group and an alcoholic OH group.

これらのOE(基含有化合物は市販品を使用することが
できるが、場合によっては通常の合成法により合成する
こともできる。例えば実験化学講座 19巻 91頁〜
176頁に記載の方法と同様の方法又は類似の方法によ
って合成することができる。
Commercial products can be used for these OE (group-containing compounds), but in some cases they can also be synthesized by ordinary synthesis methods. For example, Jikken Kagaku Koza, Vol. 19, p.
It can be synthesized by a method similar to or similar to the method described on page 176.

以下に、少なくとも1つの炭酸エステル基を有する本発
明の酸分解性化合物の具体例を示す。
Specific examples of the acid-decomposable compound of the present invention having at least one carbonate ester group are shown below.

噂           !           噴
           くg          ;z
;           z;          乙
h         の        へ     
   04           4        
   A           4本発明の酸分解性化
合物の含有量は、本発明の感光性組成物の全固形分に対
し、5〜70重量%が好ましく、特に好ましくは10〜
50重量%である。
Rumor! Spray g ;z
; z; to Otsuh's
04 4
A4 The content of the acid-decomposable compound of the present invention is preferably 5 to 70% by weight, particularly preferably 10 to 70% by weight, based on the total solid content of the photosensitive composition of the present invention.
It is 50% by weight.

また、前記本発明の酸分解性化合物は単独で用いても良
いし、2株以上を混合して用いても良い。本発明の酸分
解性化合物の合成物がいくつかの混合物として得られる
場合は、混合物のまま用いても良いし、分離生成して用
いてもよい0 本発明の感光性組成物には、更に酸発生化合物を含有す
ることが必須である。
Further, the acid-decomposable compounds of the present invention may be used alone or in combination of two or more. When the composite of acid-decomposable compounds of the present invention is obtained as a mixture of several, the mixture may be used as it is or may be used after being separated. The photosensitive composition of the present invention further includes: It is essential to contain an acid generating compound.

本発明の酸発生化合物としては、各種の公知化合物及び
混合物が挙げられる。例えば、ジアゾニウム塩、ホスホ
ニウム塩、スルホニウム塩、及びヨードニウムのBF4
″″、PF、−1Sl)F、″″、5IF6−″″、c
to4−などの塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン
−ジアジドスルホン酸クロライド、及び有機金属/有機
ハロゲン化合物も活性光線の照射の際に酸を形成又は分
離する活性元線感受注成分であシ、本発明の酸発生化合
物として使用することができる。原理的には遊離基形成
性の光開始剤として知られるすべての有機ハロゲン化合
物は、ハロゲン化水素酸を形成する化合物で、本発明の
酸発生化合物として使用することができる。
The acid generating compound of the present invention includes various known compounds and mixtures. For example, diazonium salts, phosphonium salts, sulfonium salts, and iodonium BF4
″″, PF, -1Sl)F, ″″, 5IF6-″″, c
Salts such as to4-, organohalogen compounds, orthoquinone-diazide sulfonic acid chloride, and organometallic/organohalogen compounds are also active element radiation-sensitive components that form or separate acids upon irradiation with actinic light. It can be used as an acid generating compound of the invention. All organic halogen compounds, which are known in principle as free-radical-forming photoinitiators, are compounds which form hydrohalic acids and can be used as acid-generating compounds according to the invention.

前記のハロゲン化水素酸を形成する化合物の例は米国特
許第3,515,552号、同第5.556,489号
及び同第5,779,778記載明細書及び西ドイツ国
特許公開公報第 2.243,621号に記載されているものが挙けられ
、また、例えば西ドイツ国特許公開公報第2.610,
842号に記載の光分解により酸を発生させる化合物も
使用することができる。
Examples of compounds forming the aforementioned hydrohalic acids are described in U.S. Pat. No. 3,515,552, U.S. Pat. .243,621, and for example, West German Patent Publication No. 2.610,
Compounds that generate acids upon photolysis as described in No. 842 can also be used.

また更に特開昭54−74728号、同55−2411
5号、同55−77742号、同6cm5626号、同
60−1 !18539号各公報に記載の2−ハロメチ
ル−i、 3.4−オキサジアゾール系化合物なども使
用することができる。
Furthermore, JP-A-54-74728 and JP-A-55-2411
No. 5, No. 55-77742, No. 6cm 5626, No. 60-1! 2-halomethyl-i, 3,4-oxadiazole compounds described in each publication No. 18539 can also be used.

本発明の酸発生化合物の具体例としては、特開昭56−
17345号公報に記載のある以下のもの゛を挙げるこ
とができる。
Specific examples of the acid generating compound of the present invention include JP-A-56-
The following can be mentioned as described in Japanese Patent No. 17345.

4− (シー n −フロビルアミノ)−ベンゼンジア
ゾニウムテトラフルオロボレー)、’−p−トリルーメ
ルカプトー2,5−ジエトキシーベンゼンジアゾニクム
へキサフルオロホスフェート及びテトラフルオロボレー
ト、ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムサルフェート
、4−メチル−6−ドリクロロメチルー2−ピロン、4
−(3,4,5−トリメトキシ−ステリル)−6−ドリ
クロロメチルー2−ピロン、4−(4−メトキシ−スチ
リル)−6−(5,3,5−トリクロロ−プロペニル)
−2−?ニア0ン、2−トリクロロメチル−ベンズイミ
ダゾール、2−トリブロモメチル−キノロン、2,4−
ジメチル−1−トリブロモアセチル−ベンゼン、6−ニ
トロ−1−トリブロモアセチル−ベンゼン、4−ジブロ
モアセチル−安息香酸、1,4−ビスージブロモメテル
ーベンゼ/、トリス−ジブロモメチル−θ−トリアジン
、2−(6−メトキシーナフチ−2−イル)−12−(
ナフチ−1−イル)−12−(ナフチ−2−イル)−1
2−(4−エトキシエチル−ナフチ−1−イル)−12
−(ベンゾピラニー3−イル)−12−(4−メトキシ
−アントラシー1−イル)−及び2−(フエナンチー9
−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチルー8−トリ
アジン、また、更に特開昭50−56209号公報に記
載されている0−ナフトキノンジアジド−4−スルホン
酸ハロゲニドも用いることができる。
4-(n-flobylamino)-benzenediazonium tetrafluoroboret), '-p-tolylumercapto 2,5-diethoxybenzenediazonicum hexafluorophosphate and tetrafluoroborate, diphenylamine-4-diazonium sulfate , 4-methyl-6-dolichloromethyl-2-pyrone, 4
-(3,4,5-trimethoxy-steryl)-6-dolichloromethyl-2-pyrone, 4-(4-methoxy-styryl)-6-(5,3,5-trichloro-propenyl)
-2-? quinolone, 2-trichloromethyl-benzimidazole, 2-tribromomethyl-quinolone, 2,4-
Dimethyl-1-tribromoacetyl-benzene, 6-nitro-1-tribromoacetyl-benzene, 4-dibromoacetyl-benzoic acid, 1,4-bis-dibromomethylbenze/, tris-dibromomethyl-θ-triazine, 2-(6-methoxynaphth-2-yl)-12-(
naphth-1-yl)-12-(naphth-2-yl)-1
2-(4-ethoxyethyl-naphth-1-yl)-12
-(benzopyrani-3-yl)-12-(4-methoxy-anthracy-1-yl)- and 2-(phenanthi-9
-yl)-4,6-bis-trichloromethyl-8-triazine, and also 0-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halide described in JP-A-50-56209 can also be used.

また、適当な染料と組合せて前記のハロメチル基を有す
る化合物に加えて、更に0−ナフトキノンジアジド−4
−スルホン酸ハロゲニドあるいは特開昭55−6244
号公報や特開昭59−218442号公報などに記載の
0−す7トキノンジアジド系の化合物を併用すると露光
の際、未露光部と、露光部の間に経時安定性のよい明瞭
な可視的コントラストが得られる。
Furthermore, in addition to the compound having a halomethyl group described above in combination with a suitable dye, 0-naphthoquinonediazide-4
-Sulfonic acid halide or JP-A-55-6244
When used in combination with the 0-su7toquinone diazide compound described in Japanese Patent Application Laid-open No. 59-218442, a clear visible light with good stability over time is created between the unexposed area and the exposed area. Provides contrast.

本発明の酸発生化合物は、その化学的性質及び本発明の
感光性組成物の組成あるいは物性によって広範囲に変え
ることができるが、本発明の感光性組成物の固形分の全
重量に対して約[L1〜約50重量%の範囲が適当であ
り、好ましくは12〜10重量−の範囲である。
The acid-generating compound of the present invention can vary widely depending on its chemical properties and the composition or physical properties of the photosensitive composition of the present invention, but is approximately [A range of L1 to about 50% by weight is suitable, preferably a range of 12 to 10% by weight.

本発明の感光性組成物には、前記の本発明の酸発生化合
物と前記の本発明の酸分解性化合物とに加えて、更に水
可溶性樹脂、アルカリ可溶性樹脂、あるいは有機溶媒可
溶性樹脂を混合して用いることが好ましい。これらの中
では特にアルカリ可溶性樹脂が好ましく、好適なアルカ
リ可溶性樹脂としては、フェノール、0−クレゾール、
m−クレゾール、p−クレゾールのうちの少なくとも1
1111類とホルムアルデヒドとから成るノボラック樹
脂などが挙けられる。
In addition to the acid-generating compound of the present invention and the acid-decomposable compound of the present invention, the photosensitive composition of the present invention further contains a water-soluble resin, an alkali-soluble resin, or an organic solvent-soluble resin. It is preferable to use it. Among these, alkali-soluble resins are particularly preferred, and suitable alkali-soluble resins include phenol, 0-cresol,
At least one of m-cresol and p-cresol
Examples include novolak resin consisting of 1111 class and formaldehyde.

具体的には、例えばm−クレゾール・p−クレゾール・
ホルムアルデヒド・ノボラック樹脂あるいはフェノール
・m−クレゾール・p−/レゾール・ホルムアルデヒド
・ノボラック樹脂などが挙けられる。
Specifically, for example, m-cresol, p-cresol,
Formaldehyde/novolak resin or phenol/m-cresol/p-/resol/formaldehyde/novolak resin may be used.

前記のノボラック樹脂は単独で用いてもよいし、また2
種以上を混合して用いても良い。
The above novolac resin may be used alone, or two
A mixture of more than one species may be used.

前記ノボラック樹脂の分子量は(ポリスチレン標準測定
)数平均分子量Mnがxoox1os〜Z 50×1”
 % 重量平均分子11Mw1)E 1. OOX10
m〜五0OX104が適当であり、好ましくはMn  
が5.0OX10”〜4.0OX10”SMyが五〇〇
X 103 S2.00 X 104テ6ル。
The molecular weight of the novolac resin is (polystyrene standard measurement) number average molecular weight Mn xoox1os~Z50x1''
% Weight average molecule 11Mw1)E 1. OOX10
m~50OX104 is suitable, preferably Mn
is 5.0OX10"~4.0OX10"SMy is 500X 103 S2.00 X 104T6.

該ノボラック樹脂の分子量の測定は、GPC法によって
行う。Mn及びMwの算出は、前記1日本化学会誌”8
00頁〜805頁(1972年)に記載の方法により、
行うものとする。
The molecular weight of the novolak resin is measured by GPC method. Calculation of Mn and Mw is based on the above-mentioned 1 Journal of the Chemical Society of Japan” 8.
By the method described on pages 00 to 805 (1972),
Assumed to be performed.

またこれらのノボラック樹脂が本発明の感光性組成物中
に含まれる含有量は30〜95重量%が好ましく、よシ
好ましくは50〜90重量%である。
Further, the content of these novolac resins in the photosensitive composition of the present invention is preferably 30 to 95% by weight, more preferably 50 to 90% by weight.

本発明の感光性組成物には前記の本発明の酸発生化合物
、本発明の酸分解性化合物、可溶性樹脂等の各々の素材
の他、必要に応じて更に染料、顔料等の色素、可塑剤な
どを添加することができ、また更に、使用目的に応じて
必要であれば、増感剤(前記本発明の酸発生化合物の酸
発生効率を増大させる化合物)などを添加することもで
きる。
The photosensitive composition of the present invention contains the above-mentioned acid-generating compound of the present invention, acid-decomposable compound of the present invention, soluble resin, etc., as well as pigments such as dyes and pigments, and plasticizers as necessary. Furthermore, if necessary depending on the purpose of use, a sensitizer (a compound that increases the acid generation efficiency of the acid generation compound of the present invention) and the like may be added.

本発明の感光性組成物に用いられる染料、顔料等の色素
としては、例えばビクトリアピュアーブルーBOH(採
土ケ谷化学〕、オイルブルーφ6OS(オリエント化学
〕、パテントピュアーブルー〔住友三国化学〕、クリス
タルバイオレット、ブリリアントグリーン、エチルバイ
オレット、メチルグリーン、−エリスロシンB1ベイシ
ックツクシン、マラカイトグリーン、オイルレッド、m
−クレゾールパープル、ローダミンB1オーラミン、4
−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、シ
アノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリド、等
に代表されルトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンチン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系又はアントラキノン系等が挙げられる
Examples of pigments such as dyes and pigments used in the photosensitive composition of the present invention include Victoria Pure Blue BOH (Odugaya Chemical Co., Ltd.), Oil Blue φ6OS (Orient Chemical Co., Ltd.), Patent Pure Blue [Sumitomo Mikuni Chemical Co., Ltd.], Crystal Violet, Brilliant green, ethyl violet, methyl green, -erythrosin B1 basic tsuksin, malachite green, oil red, m
-Cresol Purple, Rhodamine B1 Auramine, 4
Examples include -p-diethylaminophenylimino naphthoquinone, cyano-p-diethylaminophenyl acetanilide, etc., and examples include lutriphenylmethane type, diphenylmethane type, oxazine type, xanthine type, iminonaphthoquinone type, azomethine type, and anthraquinone type.

また、可塑剤としては、例えばフタル酸エスチル類、ト
リフェニルホスフェート類、マレイン酸エステル類、塗
布性向上剤として界面活性剤、例えばフッ素系界面活性
剤、エチルセルロースポリアルキレンエーテル等に代表
されるノニオン活性剤等を挙げることができる。
In addition, examples of plasticizers include phthalate esters, triphenyl phosphates, and maleate esters, and coating properties improvers include surfactants such as fluorine-based surfactants, nonionic active agents such as ethylcellulose polyalkylene ether, etc. Agents, etc. can be mentioned.

更に、本発明の感光性組成物には、該感光性組成物の感
脂性を向上するために親油性の樹脂全添加することがで
きる。
Furthermore, a lipophilic resin can be completely added to the photosensitive composition of the present invention in order to improve the oil sensitivity of the photosensitive composition.

前記親油性の樹脂(以下、感脂化剤という。)としては
、例えば、特開昭50−125806号公報に記載され
ているような、炭素数5〜15のアルキル基で置換され
たフェノール類とアルデヒドとの縮合物、具体的にはt
−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂などを添加す
ることができる。また、親油性の置換フェノールホルム
アルデヒド樹脂と0−キノンジアジドのスルホン酸クロ
ライドを縮合させて得られる感光性樹脂を添加すること
もできる。これらの感脂化剤は本発明の感光性組成物に
rl、1〜5重量%含まれることが好ましい0 本命間の感光性組成物においては、前記各成分を溶解す
る下記の溶媒に溶解させて、これらを適当な支持体の表
面に塗布乾燥させることによ)、感光性層を設けて、本
発明の感光性組成物による感光性平版印刷版(以下、本
発明の感光性平版印刷版という。)t−形成することが
できる0 本発明の感光性組成物の各成分を溶解する際に使用し得
る溶媒としては、メテルセロンルブ、メチルセロソルブ
アセテート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセ
テート等のセロソルブ類、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、ジオキサン、アセトン、シクロヘキ
サノン、トリクロロエチレン、メチルエチルケトン等が
挙げられる。これら溶媒は、単独であるいは2種以上混
合して使用する。
Examples of the lipophilic resin (hereinafter referred to as a liposensitizing agent) include phenols substituted with an alkyl group having 5 to 15 carbon atoms, as described in JP-A-50-125806. and an aldehyde condensate, specifically t
- Butylphenol formaldehyde resin etc. can be added. Furthermore, a photosensitive resin obtained by condensing a lipophilic substituted phenol formaldehyde resin with a sulfonic acid chloride of 0-quinonediazide can also be added. These sensitizers are preferably contained in the photosensitive composition of the present invention in an amount of 1 to 5% by weight. A photosensitive layer is provided by coating and drying these on the surface of a suitable support, and a photosensitive lithographic printing plate made of the photosensitive composition of the present invention (hereinafter referred to as a photosensitive lithographic printing plate of the present invention) is prepared. Solvents that can be used to dissolve each component of the photosensitive composition of the present invention include cellosolves such as metelcerone rub, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve, and ethyl cellosolve acetate; Examples include dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, dioxane, acetone, cyclohexanone, trichloroethylene, methyl ethyl ketone, and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

塗布方法は、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイ
ヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロー
ル塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可能である
。塗布量は用途によυ異なるが、例えば、感光性平版印
刷版についていえば固形分として05〜5.017m”
が好ましい。
As the coating method, conventionally known methods such as spin coating, wire bar coating, dip coating, air knife coating, roll coating, blade coating, and curtain coating can be used. The coating amount varies depending on the application, but for example, for photosensitive planographic printing plates, the solid content is 05 to 5.017 m.
is preferred.

本発明の感光性組成物を用いた感光性層を設ける支持体
は、アルミニウム、亜鉛、鋼、銅等の金属板、並びにク
ロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄等がメッ
キ又は蒸着された金属板、紙、プラスチックフィルム及
びガラス板、樹脂が塗布された紙、アルミニウム等の金
属箔が張られた紙、親水化処理したプラスチックフィル
ム等が挙げられる。このうち好ましいのはアルミニウム
板である。本発明の感光性平版印刷版の支持体として砂
目立て処理、陽極酸化処理及び必要に応じて封孔処理等
の表面処理が施されているアルミニウム板を用いること
がより好ましい。
The support provided with the photosensitive layer using the photosensitive composition of the present invention may be a metal plate made of aluminum, zinc, steel, copper, etc., or a support plate plated or vapor-deposited with chromium, zinc, copper, nickel, aluminum, iron, etc. Examples include metal plates, paper, plastic films, glass plates, paper coated with resin, paper covered with metal foil such as aluminum, and plastic films treated to make them hydrophilic. Among these, aluminum plates are preferred. As the support for the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, it is more preferable to use an aluminum plate that has been subjected to surface treatments such as graining, anodizing, and, if necessary, sealing.

これらの処理には公知の方法を適用することができる。Known methods can be applied to these treatments.

砂目立て処理の方法としては、例えば機械的方法、電解
によりエツチングする方法が挙げられる。機械的方法と
しては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨法、液体ホー
ニングによる研磨法、バフ研磨法等が挙けられる。アル
ミニウム材の組成等に応じて上述の各種方法を単独ある
いは組合せて用いることができる。
Examples of the graining treatment include a mechanical method and an electrolytic etching method. Examples of mechanical methods include ball polishing, brush polishing, liquid honing, and buffing. The various methods described above can be used alone or in combination depending on the composition of the aluminum material.

電解によりエッチングするには、リン酸、硫酸、塩酸、
硝酸等の無機の酸を単独ないし2種以上混合した浴を用
いて行われる。砂目立て処理の後、必要に応じてアルカ
リあるいは酸の水溶液によってデスマット処理を行い中
和して水洗する。
To perform electrolytic etching, use phosphoric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid,
This is carried out using a bath containing one or a mixture of two or more inorganic acids such as nitric acid. After the graining process, desmutting is performed using an alkali or acid aqueous solution as necessary to neutralize the material, followed by washing with water.

陽極酸化処理は、電解液として、硫酸、クロム酸、シュ
ク酸、リン酸、マロン酸等を1m又は2種以上含む溶液
を用い、アルミニウム板を陽極として電解して行われる
。形成された陽極酸化被膜量は1〜5(19/d−が適
当であシ、好ましくは10〜4011M1/ dm”で
あシ、特に好ましくは25〜40η/dmzである。陽
極酸化被膜量は、例えばアルミニウム板をリン酸クロム
酸溶液(リン酸85%液:55m1、酸化クロム(Vl
):・209を1tの水に溶解して作製)に浸漬し、酸
化被膜を溶解し、板の被膜溶解前後の重量変化測定等か
ら求められる。
The anodic oxidation treatment is performed by electrolyzing using an aluminum plate as an anode using a solution containing 1 m or more of sulfuric acid, chromic acid, succinic acid, phosphoric acid, malonic acid, etc. as an electrolytic solution. The amount of the anodic oxide film formed is suitably 1 to 5 (19/d-), preferably 10 to 4011 M1/dm", particularly preferably 25 to 40 η/dmz. The amount of the anodic oxide film is For example, an aluminum plate is heated in a phosphoric acid chromic acid solution (phosphoric acid 85% solution: 55 ml, chromium oxide (Vl
): 209 is dissolved in 1 ton of water) to dissolve the oxide film, and it is determined by measuring the change in weight of the plate before and after the film is dissolved.

封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケイ酸ソーダ処
理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例として挙げられ
る。この他にアルミニウム板支持体に対して、水溶性高
分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属塩の水溶液に
よる下引き処理を施すこともできる。
Specific examples of the sealing treatment include boiling water treatment, steam treatment, sodium silicate treatment, and dichromate aqueous solution treatment. In addition, the aluminum plate support may be subjected to subbing treatment using an aqueous solution of a water-soluble polymer compound or a metal salt such as fluorinated zirconate.

その他、一般に感光性平版印刷版にフィルム厘稿を密着
焼付する際、焼枠を真空にして行うが、この真空密着性
を改良する方法も本発明の感光性組成物を用いた感光性
平版印刷版に適用することができる。真空密着性を改良
する方法としては、感光層表面に機械的に凸凹を施す方
法、感光層表面に固体粉末を散布させる方法、特開昭5
0−125805号公報に記載されているような感光層
表面にiット層を設ける方法、及び特開昭55−129
74号公報に記載されているような感光層表面に固体粉
末を熱融着させる方法等が挙げられる。
In addition, the printing frame is generally vacuumed when contact-baking a film roll onto a photosensitive lithographic printing plate, and a method for improving this vacuum adhesion is also applicable to photosensitive lithographic printing using the photosensitive composition of the present invention. Can be applied to any version. Methods for improving vacuum adhesion include a method of mechanically creating unevenness on the surface of the photosensitive layer, a method of scattering solid powder on the surface of the photosensitive layer, and a method of spreading solid powder on the surface of the photosensitive layer.
A method of providing an i-t layer on the surface of a photosensitive layer as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 125-129-1982
Examples include a method of heat-sealing a solid powder onto the surface of a photosensitive layer as described in Japanese Patent No. 74.

本発明の感光性平版印刷版は、従来慣用のものと同じ方
法で露光焼付することができる。露光手段としては、例
えば、透明陽画フィルムを通して超高圧水銀灯、メタル
ハライドランプ、キセノンランプ、タングステンランプ
等の光源により露光し、あるいはレーザービームにより
走査露光し、次いで現像液にて現像され、未露光部分の
みが°支持体表面に残フ、ポジーポジ型レリーフ像がで
きる。
The photosensitive lithographic printing plate of the present invention can be exposed and baked in the same manner as conventionally used ones. As an exposure means, for example, a transparent positive film is exposed to light using a light source such as an ultra-high pressure mercury lamp, metal halide lamp, xenon lamp, or tungsten lamp, or scanning exposure is performed using a laser beam, and then the film is developed with a developer, and only the unexposed areas are exposed. However, a positive-positive relief image is formed on the surface of the support.

本発明の感光性平版印刷版の現像に用いられる現像液と
しては、水系アルカリ現像液が好適である◇前記の水系
アルカリ現像液(以下、本発明の現像液という。)は例
えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ
散カリウム、第ニリン酸ナトリウム、第三リン散ナトリ
ウム等のアルカリ金属塩の水溶液が挙げられる。前記の
アルカリ金属塩の濃度は105〜20重量−の範囲で用
いるのが好適であシ、より好ましくはCL1〜10重量
%である。
As the developer used for developing the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, an aqueous alkaline developer is suitable. Examples include aqueous solutions of alkali metal salts such as potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium metasilicate, potassium metasilicate, sodium diphosphate, and sodium tertiary phosphate. The concentration of the alkali metal salt is preferably 105 to 20% by weight, more preferably 1 to 10% by weight CL.

本発明の現像液には、必要に応じアニオン性界面活性剤
、両性界面活性剤やアルコール等の有機溶剤を加えるこ
とができる。
Anionic surfactants, amphoteric surfactants, and organic solvents such as alcohols can be added to the developer of the present invention, if necessary.

有機溶剤としてはエチレングリコールモノフェニルエー
テル、ベンジルアルコール、n−プロピルアルコール等
が有用である。前記有機溶剤の現像液中における含有量
としては、15〜15重量%が好適であシ、より好まし
い範囲としては、1〜5重量%である。
Ethylene glycol monophenyl ether, benzyl alcohol, n-propyl alcohol, etc. are useful as organic solvents. The content of the organic solvent in the developer is preferably 15 to 15% by weight, and more preferably 1 to 5% by weight.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の感光性組成物及び本発明の感光性平版印
刷版を実施例により説明するが本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
Hereinafter, the photosensitive composition of the present invention and the photosensitive lithographic printing plate of the present invention will be explained with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例1 (例示化合物No、 2の合成) ヒドロキノン〔東京化成工業(株)裂、東京化成規格−
級)5.5f(CLO5モル)、a、a’−ジヒドロキ
シ−p−ジインプロピルベンゼン〔東京化成工業((社
)製、東京化成規格−級〕29t((Ll、、5モル入
炭酸ジフェニル〔東京化成工業(株)裂、東京化成規格
特級342.8?((L2モル)及びp−トルエンスル
ホン酸30岬ヲカ<はんしながら180℃まで徐々に加
熱する。
Example 1 (Synthesis of Exemplary Compounds No. 2) Hydroquinone [Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd., Tokyo Kasei Standards]
grade) 5.5f (5 moles of CLO), a,a'-dihydroxy-p-diinpropylbenzene [manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Tokyo Chemical Standards grade] 29t ((Ll,, 5 moles of diphenyl carbonate [ Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Tokyo Chemical Standard Special Grade 342.8? ((L2 mol) and p-toluenesulfonic acid 30 mol) Gradually heat to 180° C. while stirring.

180℃で5時間かくはんした後、その温度で生成する
フェノールを減圧下に留去する。フェノールの生成が終
ってから更に1時間、180℃に加熱する。冷却後反応
生成物に、テトラヒドロフラン350−を加え、更に無
水炭酸カリウム1.5fを加えてかくはんしその後濾過
した。
After stirring at 180° C. for 5 hours, the phenol produced at that temperature is distilled off under reduced pressure. After the formation of phenol is complete, the mixture is heated to 180° C. for an additional hour. After cooling, 350 g of tetrahydrofuran was added to the reaction product, followed by 1.5 f of anhydrous potassium carbonate, stirred, and then filtered.

r液から溶媒を減圧留去し、白色のやや粘性のある固体
20fを得た。
The solvent was distilled off from the r liquid under reduced pressure to obtain a white, slightly viscous solid 20f.

分子量をGPCを用いて測定した。GPC測定条件は、
以下の通夛である。装置:日立裂作所裏635型、分離
カラム:昭和電工(株)Mショデツクス(5hodex
 )  A 802、A 805及びA304の3本を
直接に接続、温度:室温、溶媒:テトラヒドロフラン、
流速: 1.5 d/min、ポリスチレンを標準とし
て検量線を作製した。
Molecular weight was measured using GPC. GPC measurement conditions are:
The following is a common practice. Equipment: Hitachi Risakusho Ura 635 model, separation column: Showa Denko M Shodex (5hodex)
) A 802, A 805 and A304 are connected directly, temperature: room temperature, solvent: tetrahydrofuran,
Flow rate: 1.5 d/min. A calibration curve was prepared using polystyrene as a standard.

数平均分子i1Mn及び重量平均分子量Myの算出を、
既述の方法にて行ったところMw=3,300、Mn=
 1,100 、分散度Mw/Mn = I Oであっ
た。
Calculation of number average molecule i1Mn and weight average molecular weight My,
When carried out using the method described above, Mw=3,300, Mn=
1,100, and the degree of dispersion Mw/Mn = IO.

(感光性平版印刷版試料1の作成) 厚さa24m+のアルミニウム板(材質1050、調質
H16)を5チ苛性ソーダ水溶液中で60℃で1分間脱
脂処理を行った後、(lL5モル1tの塩酸水溶液中で
温度:250%を流密度;60A/am”、処理時間;
30秒間の条件で電解エツチング処理を行つ念。次いで
、5%苛性ソーダ水溶液中で60℃、10秒間のデスマ
ット処理を施した後、20%硫酸溶液中で温度;20℃
、電流密度: 3 k/dm2、処理時間;1分間の条
件で陽極酸化処理を行った。更にまた、50℃の熱水で
20秒間、熱水封孔処理を行い、平版印刷版材料用支持
体のアルミニウム板を作製した。
(Preparation of Photosensitive Planographic Printing Plate Sample 1) After degreasing an aluminum plate (material: 1050, tempering: H16) with a thickness of A24 m+ in 5 ml of caustic soda aqueous solution at 60°C for 1 minute, Temperature: 250% in aqueous solution, flow density: 60A/am'', processing time;
Make sure to perform the electrolytic etching process for 30 seconds. Next, after desmutting in a 5% caustic soda aqueous solution at 60°C for 10 seconds, the temperature was reduced to 20°C in a 20% sulfuric acid solution.
The anodic oxidation treatment was performed under the following conditions: current density: 3 k/dm2, treatment time: 1 minute. Furthermore, a hot water sealing treatment was performed with hot water at 50° C. for 20 seconds to produce an aluminum plate as a support for a lithographic printing plate material.

次にこのアルミニウム板に下記組成の感光性組成物塗布
液を回転塗布機を用いて塗布し、90℃で4分間乾燥し
、ポジ型感光性平版印刷版試料1を得た。
Next, a photosensitive composition coating solution having the following composition was applied to this aluminum plate using a rotary coater and dried at 90° C. for 4 minutes to obtain positive photosensitive lithographic printing plate sample 1.

く感光性組成物塗布液組成〉 O例示化合物NO12の合成により得た化合物    
              2−149感度測定用ス
テップタブレット(イーストマン・コダック社gNo、
2、濃度差(L15ずつで21段階のグレー・スケール
)、を密着して2 kWメタルハライドランプ〔岩崎電
気((転)表アイドルフィン20001を光源として6
0のの距離から50秒間露光した試料を作製した。次に
この試料をSDP −1(小西六写真工業((社)〕を
水で9倍に希釈し九現像液で25℃にて60秒間現現像
た。
Photosensitive composition coating liquid composition> Compound obtained by synthesis of exemplified compound NO12
2-149 Sensitivity measurement step tablet (Eastman Kodak gNo.
2. Density difference (gray scale of 21 steps in each L15), 2 kW metal halide lamp [Iwasaki Electric ((translated)) Idol Fin 20001 as a light source 6
A sample was prepared that was exposed for 50 seconds from a distance of 0. Next, this sample was developed by diluting SDP-1 (Konishi Roku Photo Industry Co., Ltd.) nine times with water and using a developer solution for 60 seconds at 25°C.

感度を前記ステップタブレットのグレースケールで測定
したところ、5段目が完全に現像されて(クリアーとな
る)いた。
When the sensitivity was measured using the gray scale of the step tablet, it was found that the fifth stage was completely developed (became clear).

比較例1 実施例1で作製したアルミニウム支持体に、実施例1の
感光性組成物塗布液における、例示化合物N092の代
シにポリエステル(特開昭60−3625号公報の合成
例1に記載の方法によりα、α′−ジヒドロキシーp−
ジイソプロピルベンゼンとテレフタル酸を脱水縮合した
もの、Mn=1,200)を用いた以外は実施例1と同
様にし感光性平版印刷版試料3を得た。
Comparative Example 1 The aluminum support prepared in Example 1 was coated with polyester (described in Synthesis Example 1 of JP-A-60-3625) in place of Exemplified Compound N092 in the photosensitive composition coating solution of Example 1. α,α′-dihydroxy-p-
Photosensitive lithographic printing plate sample 3 was obtained in the same manner as in Example 1, except that a dehydration condensation product of diisopropylbenzene and terephthalic acid (Mn=1,200) was used.

乾燥後の塗布型tは約20 M9/dm2であった。The coating type t after drying was approximately 20 M9/dm2.

次に、この感光性平版印刷版試料3を用いて、実施例1
と同様に露光、現像し、感度を求めたところステップタ
ブレットのグレースケールで21/2段目が完全に現像
されて(クリアーとなる)いた。
Next, using this photosensitive lithographic printing plate sample 3, Example 1
When exposure and development were carried out in the same manner as above, and the sensitivity was determined, it was found that the 21/2 step was completely developed (clear) on the gray scale of the step tablet.

比較例2 実施例1で作製したアルミニウム支持体に、実施例1の
感光性組成物塗布液における、例示化合物NO12の代
9に、ポリ(p −tert−ブトキシカルボニルオキ
シ−α−メチルスチレン)(特開昭59−45459号
公報の実施例に記載の方法により合成したもの、Mn=
2QOOO)を用いた以外は実施例1と同様にしg光性
平版印刷版試料5を得た。
Comparative Example 2 Poly(p-tert-butoxycarbonyloxy-α-methylstyrene) ( Synthesized by the method described in the Examples of JP-A No. 59-45459, Mn=
A photolithographic printing plate sample 5 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 2QOOO) was used.

乾燥後の塗布重量は約20 M?/am”であった。The coating weight after drying is about 20M? /am”.

次に、この感光性平版印刷版試料5を用いて、実施例1
と同様にN元、現像し、感度を求めたところステップタ
ブレットのグレースケールで2段目が完全に現像されて
(クリアーとなる)いた。
Next, using this photosensitive lithographic printing plate sample 5, Example 1
When I developed it in the same manner as above and determined the sensitivity, it was found that the second stage was completely developed (clear) in the gray scale of the step tablet.

実施例2 (例示化合物NO63の合成) 実施例1の例示化合物N002の合成におけるヒドロキ
ノン5.5f(105モル)、α、α′−ジヒドロキシ
ーp−ジイソプロピルベンゼン29f(Q、15モル)
の代夛にテトラメチレングリコール〔東京化成工業(株
)製、東京化成規格特級19.0f(CL1モル)、α
、α′−シヒトロキシ−p−ジイソプロピルベンゼン(
実施例1で使用)19.4f(cL1モル)を使用した
以外は、同様に合成、後処理を行った。
Example 2 (Synthesis of Exemplified Compound NO63) Hydroquinone 5.5f (105 mol), α,α'-dihydroxy-p-diisopropylbenzene 29f (Q, 15 mol) in the synthesis of Exemplified Compound N002 of Example 1
As a substitute, tetramethylene glycol [manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd., Tokyo Kasei Standard Special Grade 19.0f (CL 1 mol), α
, α′-cyhitroxy-p-diisopropylbenzene (
The synthesis and post-treatment were carried out in the same manner, except that 19.4f (used in Example 1) (1 mol of cL) was used.

白色のやや粘性のある固体21Fを得た。A white, slightly viscous solid 21F was obtained.

()PCにより同様にして分子量を測定したところ、M
y = 4.200、Mn == 1,500、My/
Mn=2.8であった。
() When the molecular weight was measured in the same manner by PC, M
y = 4.200, Mn == 1,500, My/
Mn=2.8.

実施例1の感光性平版印刷版試料1の作成において、例
示化合物No、 2の代りに、上記で得た例示化合物N
o、 3を用い更にフェノールとm−クレゾールとp−
クレゾールとホルムアルデヒドとの共重縮合樹脂の代り
に、m−クレゾールとp−クレゾールとホルムアルデヒ
ドとの共重縮合樹脂を用いる以外は同様の方法で感光性
平版印刷版試料2を作成し、実施例1と同様にして露光
、現像し、感度を求めたところ、ステップタブレットの
グレースケールで5段目が完全に現像されて(クリアー
となる)いた。
In the preparation of photosensitive lithographic printing plate sample 1 of Example 1, exemplified compound No. 2 was replaced with exemplified compound N obtained above.
Using o, 3, phenol, m-cresol and p-
A photosensitive lithographic printing plate sample 2 was prepared in the same manner as Example 1 except that a copolycondensation resin of m-cresol, p-cresol, and formaldehyde was used instead of a copolycondensation resin of cresol and formaldehyde. When exposure and development were carried out in the same manner as above, and the sensitivity was determined, it was found that the fifth stage of the step tablet's gray scale was completely developed (clear).

比較例3 実施例2で作製したアルミ+ウム支持体に、実施例2の
感光性組成物塗布液における例示化合物No、 5の代
りにポリエステル(特開昭60−3625号公報の合成
例2に記載の方法により、α、α′−ジヒドロキシーp
−ジイソプロピルベンゼンとアジピンrIlを脱水縮合
したもの、Mn=1,200)t−用いた以外は実施例
2と同様にし感光性平版印刷版試料4を得た。
Comparative Example 3 Polyester (as described in Synthesis Example 2 of JP-A-60-3625) was added to the aluminum support prepared in Example 2 in place of Exemplified Compound No. 5 in the photosensitive composition coating solution of Example 2. By the method described, α,α′-dihydroxy-p
A photosensitive lithographic printing plate sample 4 was obtained in the same manner as in Example 2 except that a dehydration condensation product of diisopropylbenzene and adipine rIl, Mn=1,200)t- was used.

乾燥後の塗布重量は約20 M’l/dm”であつ念。The coating weight after drying is approximately 20 M'l/dm".

次に、この感光性平版印刷版試料4t−用いて、実施例
2と同様に露光、現像し、感度を求めたところステップ
タブレットのグレースケールで3段目が完全に現像され
て(クリアーとなる)いた。
Next, using this photosensitive lithographic printing plate sample 4t, it was exposed and developed in the same manner as in Example 2, and the sensitivity was determined.The third stage was completely developed (clear) on the gray scale of the step tablet. )there was.

実施例3 実施例1.2及び比較例1.2.3で得られた感光性平
版印刷版試料1.2.3.5及び4を用いて現像許容性
を検討した。
Example 3 Development acceptability was examined using photosensitive lithographic printing plate samples 1.2.3.5 and 4 obtained in Example 1.2 and Comparative Example 1.2.3.

現像許容性を検討する方法としては、そのアルカリ濃度
が希釈された現像液、そしてそのアルカリ濃度が濃くな
つ九現像液を各々用意し、前記感光性平版印刷版試料1
〜5上にポジ原稿フィルムを密着し30秒間露光し九試
料を使って、現像能力が低下した現像液で現像した時の
クリア一段数及び現像能力が過剰になった現像液で現像
した時のクリア一段数の差を求めた。
As a method for examining development acceptability, a developer solution with a diluted alkali concentration and a developer solution with a higher alkali concentration are prepared respectively, and the photosensitive lithographic printing plate sample 1 is prepared.
A positive original film was placed on ~5 and exposed for 30 seconds. Using 9 samples, the number of clear stages when developed with a developer with reduced developing ability and the number of clear stages when developed with a developer with excessive developing ability. We calculated the difference in the number of steps cleared.

その結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.

現像能力が低下した現像液で現像した時のクリア一段数
及び現像能力が過剰になった現像液で現像した時のクリ
ア一段数の差が小さい程、現像許容性は良いことを意味
する。
The smaller the difference between the number of clear stages when developed with a developer with reduced developing ability and the number of clear stages when developed with a developer with excessive developing ability, the better the development acceptability is.

表  1 以上の結果から本発明の感光性組成物を支持体上に有す
る本発明の感光性平版印刷版は、実施例1及び2の試料
1及び2と比較例1.2及び3の試料3.5及び4との
比較にみられるよりに、高い感度を有し、充分に実用に
供する現像が行われるものであると共に、表−1の結果
から本発明の感光性平版印刷版試料1及び2は、比較例
1.2及び3の試料5.5及び4との比較にみられるよ
りに用いる現像液の幅広い希釈率範囲において充分実用
に適合した現像の行えることから、現像許容性が極めて
良好であることが判る。
Table 1 From the above results, the photosensitive lithographic printing plates of the present invention having the photosensitive composition of the present invention on the support were Samples 1 and 2 of Examples 1 and 2 and Sample 3 of Comparative Examples 1.2 and 3. The photosensitive planographic printing plate samples 1 and 4 of the present invention have higher sensitivity than those seen in the comparison with .5 and 4, and can be sufficiently developed for practical use. Comparative Examples 1.2 and 3 show that Comparative Examples 1.2 and 3, Samples 5.5 and 4, show that development can be carried out in a wide range of dilution ratios of the developer used, and that development tolerance is extremely high. It turns out that it is in good condition.

以上総合して、本発明の感光性平版印刷版は、総合的性
能が向上した感光性平版印刷版であることが明らかであ
る。
Overall, it is clear that the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is a photosensitive lithographic printing plate with improved overall performance.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明の感光性組成物は感度が高
く、かつ現像許容性の広いものであシ、これを感光性層
として有する本発明の感光性平版印刷版は、総合的性能
が向上した高性能なものであるという顕著な効果全奏す
るものである。
As explained above, the photosensitive composition of the present invention has high sensitivity and wide development tolerance, and the photosensitive lithographic printing plate of the present invention having the composition as a photosensitive layer has a high overall performance. It has all the remarkable effects of improved high performance.

特許出願人 小西六写真工業株式会社 同   三菱化成工業株式会社Patent applicant Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. Same Mitsubishi Chemical Industries, Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、活性光線の照射により酸を発生し得る化合物及び主
鎖中に酸により分解し得る少なくとも1つの炭酸エステ
ル基を有する化合物を含有することを特徴とする感光性
組成物。 2、支持体上に、活性光線の照射により酸を発生し得る
化合物及び主鎖中に酸により分解し得る少なくとも1つ
の炭酸エステル基を有する化合物とを含有する感光性組
成物から形成される感光性層を有することを特徴とする
感光性平版印刷版。
[Scope of Claims] 1. A photosensitive composition containing a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays and a compound having at least one carbonate ester group in its main chain that can be decomposed by an acid. . 2. A photosensitive composition formed from a photosensitive composition containing, on a support, a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays and a compound having at least one carbonate ester group in its main chain that can be decomposed by an acid. 1. A photosensitive lithographic printing plate characterized by having a transparent layer.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03206458A (en) * 1989-03-14 1991-09-09 Internatl Business Mach Corp <Ibm> Chemically enlarged photoresist
EP1627736A1 (en) 2004-08-18 2006-02-22 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Method of manufacturing light sensitive planographic printing plates and method of using the same

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