JPS62240647A - Isophthalic acid derivative - Google Patents

Isophthalic acid derivative

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JPS62240647A
JPS62240647A JP8406786A JP8406786A JPS62240647A JP S62240647 A JPS62240647 A JP S62240647A JP 8406786 A JP8406786 A JP 8406786A JP 8406786 A JP8406786 A JP 8406786A JP S62240647 A JPS62240647 A JP S62240647A
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JP
Japan
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formula
compound
radiation
acid
ray
Prior art date
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Pending
Application number
JP8406786A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Nobuo Ishikawa
延男 石川
Tomoyuki Watanabe
智之 渡辺
Toyoji Ikehara
池原 豊治
Kichihei Narita
成田 吉平
Haruaki Ito
晴明 伊藤
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SANNOPUKO KK
SDS Biotech Corp
San Nopco Ltd
Original Assignee
SANNOPUKO KK
SDS Biotech Corp
San Nopco Ltd
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Publication date
Application filed by SANNOPUKO KK, SDS Biotech Corp, San Nopco Ltd filed Critical SANNOPUKO KK
Priority to JP8406786A priority Critical patent/JPS62240647A/en
Publication of JPS62240647A publication Critical patent/JPS62240647A/en
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
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Abstract

NEW MATERIAL:An isophthalic acid derivative of formula I (R is H or methyl; A is -OCH2CH2-, group of formula II or formula III; n is 1-4). EXAMPLE:5-Chloro-2,4,6-trifluoro-bis(acryloyloxyethyl)isophthalate. USE:Useful as a material for a solventless radiation polymerization. The com pound effectively reduces the viscosity of viscous radiation-curable resin. A radiation-curable composition containing the compound can be wholly cured by high-energy radiation (e.g. ultraviolet ray, electron ray, X-ray, gamma-ray, etc.) without emitting volatile component and is suitable as a coating agent for wood, paper, card board, etc., impregnation agent, offset ink, adhesive and electronic raw material such as photo-resist, etc. PREPARATION:The compound of formula I can be produced e.g. by reacting the compound of formula IV with 5-chloro-trifluoroisophthalic acid.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は下記の一般式を有する文献等に未記載の新規化
合物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Field of Application) The present invention relates to a novel compound having the following general formula that has not been described in any literature.

ROO (式中、Rは水素またはメチル基、Aはnは1〜4の整
数をそれぞれ表わす。)(従来技術) 光重合反応等放射線重合反応を利用して、木材、紙、プ
ラスチック、金属等各種の材料の表面にポリマー薄膜を
形成して被覆剤、塗料、接着剤等とすることは公知であ
シ、従来は薄膜形成材料として放射線重合可能な物質ま
たは組成物を適尚な揮発生溶剤に溶解して対象物に塗布
または噴霧等していた。
ROO (In the formula, R represents hydrogen or a methyl group, and n represents an integer from 1 to 4.) (Prior art) Using radiation polymerization reactions such as photopolymerization reactions, wood, paper, plastics, metals, etc. It is well known to form polymer thin films on the surfaces of various materials to produce coatings, paints, adhesives, etc. Conventionally, radiation-polymerizable substances or compositions have been used as thin film-forming materials using suitable volatile solvents. It was dissolved in water and applied or sprayed onto the object.

しかし、近年大気中への溶剤放出による環境汚染を回避
する為揮発性成分を含まないものが望まれ、かかる目的
に用いる無溶剤タイプの放射線重合材料の例として、例
えば、被膜形成用の活性二重結合を有するオリゴマーま
たはポリマーと単官能性及び多官能性アクリル酸エステ
ル、例えばエチレングリコールジアクリレート、トリエ
チレングリコールジアクリレートやグリセリン、トリメ
チロールプロパン、ペンタエリスリトールナトノ多価ア
ルコールのポリアクリレートなどとを組合せて塗布可能
なように低粘度液体化したものが試みられている。無溶
剤タイプの放射線重合用材料におけるこれらアクリル基
の含有割合は、当然反応性、粘度及びかたさ、接着性、
硬化したフィルムの弾力性、人体に対する有害性などの
諸物性に影響を及ぼすが、従来提案されているアクリレ
ート類は性能上必ずしも充分なものとは言い難く、更に
優れた物性を有する放射線重合用材料が望まれている。
However, in recent years, materials that do not contain volatile components have been desired in order to avoid environmental pollution caused by solvent release into the atmosphere. A combination of an oligomer or polymer having a double bond and a monofunctional or polyfunctional acrylic ester, such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, glycerin, trimethylolpropane, or polyacrylate of pentaerythritol natono-polyhydric alcohol. Attempts are being made to make it into a low-viscosity liquid so that it can be applied over a wide range of applications. The content of these acrylic groups in solvent-free radiation polymerization materials naturally depends on reactivity, viscosity and hardness, adhesiveness,
This affects various physical properties such as the elasticity of the cured film and its toxicity to the human body, but the acrylates that have been proposed so far cannot necessarily be said to have sufficient performance, so radiation polymerization materials with even better physical properties are needed. is desired.

(発明が解決しようとする課題) 本発明者らは無溶剤タイプの放射線重合用材料として優
れた物性を有する化合物を開発すべく種種検討した結果
、前記一般式で示される化合物が所期の目的に適うもの
であることを見出した。
(Problems to be Solved by the Invention) The present inventors have conducted various studies in order to develop a compound with excellent physical properties as a solvent-free radiation polymerization material. I found that it was suitable for

(問題点を解決するための手段) 即ち、本発明は式 %式% (式中、Rは水素またはメチル基、Aはnは1〜4の整
数をそれぞれ表わす。)にて表わされるイソフタル酸銹
導体を提供せんとするものである。
(Means for Solving the Problems) That is, the present invention provides isophthalic acid represented by the formula % (wherein R represents hydrogen or a methyl group, and A represents an integer of 1 to 4, respectively). The purpose is to provide rust conductors.

以下に本発明の化合物について更に詳細に説明する。The compounds of the present invention will be explained in more detail below.

本発明の化合物は文献等に未記載の新規化合物であるが
、その製造法としては有機化合物の合成法として種々の
方法を応用することができる。代表的な方法としては、
例えば、 上記の通り。)にて表わされる化合物と5−クロロ−ト
リフルオロイソフタル酸或いはその酸ハライドとを反応
させる方法。
Although the compound of the present invention is a new compound that has not been described in any literature, various methods can be applied to its production as methods for synthesizing organic compounds. A typical method is
For example, as above. ) and 5-chloro-trifluoroisophthalic acid or its acid halide.

b)式HO(CH2CHO)nH(式中R及びnは上記
の通シ。)にて表わされる化合物と5−クロロ−トリフ
ルオロイソフタル酸或いはその酸ハライドとを反応させ
た後、生成物をアクリル酸もしくはメタアクリル酸また
はその酸ハライドと反応させる方法・ C)5−クロロ−トリフルオロイソフタル酸にエチレン
オキシドまたはプロピレンオキシドラ付たはその酸ハラ
イドと反応させる方法。
b) After reacting a compound represented by the formula HO(CH2CHO)nH (wherein R and n are as defined above) with 5-chloro-trifluoroisophthalic acid or its acid halide, the product is converted into acrylic A method of reacting with acid or methacrylic acid or its acid halide. C) A method of reacting 5-chloro-trifluoroisophthalic acid with ethylene oxide or propylene oxide or with its acid halide.

d)5−クロロトリフルオロイソフタル酸とグリシジル
(メタ)アクリレートを反応させる方法。
d) A method of reacting 5-chlorotrifluoroisophthalic acid and glycidyl (meth)acrylate.

等が挙げられる。etc.

方法(a)および方法(b)における5−クロロトリフ
ルオロイソフタル酸あるいはその酸ハライドと(メタ)
アクリル酸エステルまたはジオール類との反応は無溶媒
または溶媒の存在下に混合することによシ行うことがで
きる。溶媒としては非プロトン性の溶媒が使用量1例、
tば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサンなどの
炭化水素類、塩化メチレラグロロホルム、四塩化炭素、
等の塩素化炭化水素類、エチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエ
チレンクリコールジエチルエーテル、ジオキサン等のエ
ーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類
、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニト
リル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなど
が挙げられる。
5-chlorotrifluoroisophthalic acid or its acid halide in method (a) and method (b) and (meth)
The reaction with the acrylic ester or diol can be carried out without a solvent or by mixing in the presence of a solvent. As a solvent, an aprotic solvent is used in one example,
hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, hexane, methylera chloroform chloride, carbon tetrachloride,
Chlorinated hydrocarbons such as ethyl ether, tetrahydrofuran, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, dioxane and other ethers, acetone, ketones such as methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, acetonitrile, propio Examples include nitriles such as nitrile and benzonitrile, dimethylformamide, and dimethyl sulfoxide.

方法(、)及び(b)において、5−クロロトリフルオ
ロインフタル酸を用いる場合=5−クロロトリフルオロ
イソフタル酸に対する(メタ)アクリル酸エステルまた
はジオール類のモル比は必ずしも制限はないが、通常1
.5〜10.0、好ましくは2.0〜3.0である。(
メタ)アクリル酸エステルまたはジオール類のモル比が
1.5よシ少い場合および10.0よシ多い場合、未反
応原料が残るかあるいは副生物が生じ精製工程が必要と
なシ好ましくない。エステル化反応する方法としては、
通常の方法を用いることができる。すなわち、ベンゼン
、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、塩化メチ
レン等の溶媒の存在下または非存在下に、硫酸、パラト
ルエンスルホン酸、スルホン酸型イオン交換樹脂等の触
媒の存在下、通常70℃〜180℃、好ましくは80℃
〜160℃にてエステル化を行う。
In methods (,) and (b), when using 5-chlorotrifluoroisophthalic acid = the molar ratio of (meth)acrylic acid ester or diol to 5-chlorotrifluoroisophthalic acid is not necessarily limited, but is usually 1
.. 5 to 10.0, preferably 2.0 to 3.0. (
If the molar ratio of the meth)acrylic acid ester or diol is less than 1.5 or more than 10.0, unreacted raw materials remain or by-products are generated, which is not preferable because a purification step is required. As a method for esterification reaction,
Conventional methods can be used. That is, in the presence or absence of a solvent such as benzene, toluene, xylene, tetrahydrofuran, or methylene chloride, and in the presence of a catalyst such as sulfuric acid, para-toluenesulfonic acid, or a sulfonic acid type ion exchange resin, usually at 70°C to 180°C. , preferably 80°C
Esterification is carried out at ~160°C.

5−クロロトリフルオロイソフタル酸ハライドを用いる
場合=5−クロロトリフルオロイソフタル酸ハライドに
対する(メタ)アクリル酸エステルまたはジオール類の
モル比は前記と同じく必ずしも制限はないが、通常0.
5〜5.0、好ましくは0.7〜3.0である。エステ
ル化反応の方法としては、通常の方法、例えば、前記の
溶媒の存在下または非存在下に通常−10℃〜80℃、
好ましくは一5℃〜60℃にて反応を行う。この際苛性
カリ、苛性ソーダのようなアルカリ、炭酸カリ、炭酸ソ
ーダなどのアルカリ性塩、ピリジン、トリエチルアミン
、DBU等の3級アミン類≧〒リエチルベンジルアンモ
ニウムクロライド等の第4級アンモニウム塩の存在下に
反応を行うことができる。
When using 5-chlorotrifluoroisophthalic acid halide = The molar ratio of (meth)acrylic acid ester or diol to 5-chlorotrifluoroisophthalic acid halide is not necessarily limited as described above, but is usually 0.
5 to 5.0, preferably 0.7 to 3.0. The esterification reaction can be carried out by a conventional method, for example, usually at -10°C to 80°C in the presence or absence of the above-mentioned solvent.
Preferably, the reaction is carried out at -5°C to 60°C. At this time, alkalis such as caustic potash and caustic soda, alkaline salts such as potassium carbonate and soda carbonate, tertiary amines such as pyridine, triethylamine, and DBU ≧〒 React in the presence of quaternary ammonium salts such as ethylbenzylammonium chloride. It can be performed.

これらアルカリ、アルカリ性塩、3級アミン類の使用量
は酸ハライド1モルに対し通常0.5〜3.5モル、好
ましくは1.0〜3.0モル使用される。
The amount of these alkalis, alkaline salts, and tertiary amines to be used is usually 0.5 to 3.5 mol, preferably 1.0 to 3.0 mol, per 1 mol of acid halide.

5−クロロトリフルオロイソフタル酸するいはその酸ハ
ライドとジオール類との反応生成物に対する(メタ)ア
クリル酸またはその酸ハライドの使用量は前者1モルに
対し、通常1.0〜3.0モル、好ましくは1.5〜2
.5モルである。エステル化反応する方法としては、通
常の方法を用いることができる。すなわち、5−クロロ
トリフルオロイソフタル酸ハライドを使用する場合には
、上記の溶媒の存在下または非存在下に通常−10℃〜
80℃、好ましくは一5℃〜60℃にて反応を行う。
The amount of (meth)acrylic acid or its acid halide used in the reaction product of 5-chlorotrifluoroisophthalic acid or its acid halide with diols is usually 1.0 to 3.0 mol per 1 mol of the former. , preferably 1.5-2
.. It is 5 moles. A conventional method can be used for the esterification reaction. That is, when using 5-chlorotrifluoroisophthalic acid halide, the temperature is usually -10°C in the presence or absence of the above-mentioned solvent.
The reaction is carried out at 80°C, preferably -5°C to 60°C.

この際苛性カリ、苛性ソーダのようなアルカリ、炭酸カ
リ、炭酸ソーダなどのアルカリ性塩、ピリジン、トリエ
チルアミン、DBU等の3級アミン類の存在下に反応を
行うことができる。これらアルカリ、アルカリ性塩、3
級アミン類の使用量は酸ハライド1モルに対し通常0.
5〜3.5モル、好ましくは1.0〜3.0そル使用さ
れる。
At this time, the reaction can be carried out in the presence of an alkali such as caustic potash or caustic soda, an alkaline salt such as potassium carbonate or sodium carbonate, or a tertiary amine such as pyridine, triethylamine, or DBU. These alkalis, alkaline salts, 3
The amount of grade amines used is usually 0.00% per mole of acid halide.
5 to 3.5 moles, preferably 1.0 to 3.0 moles are used.

方法(c)において、5−クロロトリフルオロイソフタ
ル酸にエチレンオキシドまたはプロピレンオキシドを付
加する方法としては、苛性ソーダ、苛性カリ、ナトリウ
ムメチラート等のアルカリ触媒、トリエチルアミン、D
BU、)リエチレンジアミンなどのアミン触媒、テトラ
メチルアンモニウムクロライドのような第4級アンモニ
ウム塩触媒等の存在下、通常50℃〜170℃の温度で
常圧〜10 Wc4の加圧下に行う方法を用いることが
できる。この反応においてベンゼン、トルエン、塩化メ
チレン、エチレンジクロライド、アセトニトリル、ジグ
ライム、その他の溶媒を使用することができる。
In method (c), the method for adding ethylene oxide or propylene oxide to 5-chlorotrifluoroisophthalic acid includes an alkali catalyst such as caustic soda, caustic potash, sodium methylate, triethylamine, D
BU,) in the presence of an amine catalyst such as lyethylenediamine, a quaternary ammonium salt catalyst such as tetramethylammonium chloride, etc., at a temperature of usually 50°C to 170°C and under a pressure of normal pressure to 10 Wc4. be able to. Benzene, toluene, methylene chloride, ethylene dichloride, acetonitrile, diglyme, and other solvents can be used in this reaction.

方法(d)において5−クロロトリフルオロイソフタル
酸とグリシジル(メタ)アクリレートとを反応させる方
法としては、方法(、)において使用できる溶媒の存在
下又は非存在下、方法(c)において使用できる触媒の
存在下に通常50〜150℃、好ましくは60〜130
℃にて反応させる方法が挙げられる。
In method (d), 5-chlorotrifluoroisophthalic acid and glycidyl (meth)acrylate are reacted in the presence or absence of a solvent that can be used in method (,), and a catalyst that can be used in method (c). Usually 50 to 150°C, preferably 60 to 130°C in the presence of
An example is a method of reacting at °C.

本発明の化合物を製造する際、(メタ)アクリル酸およ
びその誘導体が使用される工程においては通常重合禁止
剤を使用することが好ましい。重合禁止剤としてはハイ
ドロキノン、メチルノ・イドロキノン、ベンゾキノン、
ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノール、フェ
ノチアジン、ニトロベンゼン、イオウ、各種の銅塩及び
アミン類など通常使用されるものを用いることができる
When producing the compound of the present invention, it is usually preferable to use a polymerization inhibitor in the process in which (meth)acrylic acid and its derivatives are used. Polymerization inhibitors include hydroquinone, methylhydroquinone, benzoquinone,
Commonly used materials such as hydroquinone monomethyl ether, phenol, phenothiazine, nitrobenzene, sulfur, various copper salts, and amines can be used.

以下に本発明化合物の製造法として代表的な例を示し、
更に具体的に説明するが、これらは単なる例示であシ、
従って製造法としてはこれらのみに限定されないことは
言うまでもない。
Typical examples of methods for producing the compounds of the present invention are shown below.
We will explain more specifically, but these are just examples.
Therefore, it goes without saying that the manufacturing method is not limited to these.

合成例1 5−クロロ−2,4,6−)リフルオロ−ビス(アクリ
ロイルオキシエチル)インフタレート5−クロロ−2,
4,6−)リフルオロイソフタル酸25.51 (10
0mmol )及び触媒量のジメチルホルムアミドを塩
化チオニル50−に加え2時間還流する。減圧下で塩化
チオニルを留去し、減圧蒸留によシ、5−クロロ−2,
4,6−)リフルオロイソフタル酸クロライドを26.
2 g得た。(収率90%)。テトラフルオロイソフタ
ル酸クロライド2.92.!9(10mmol)を乾燥
塩化メチレン2〇−に溶解させ、窒素気流下で重合禁止
剤としてメチルヒドロキノン2000 ppmを含ムヒ
ドロキシエチルアクリレート2.55 、li’ (2
2mmol )を加える。水冷後ピリジン1.741 
(22mmol )を滴下する。室温でさらに2時間攪
拌後水を加え、塩化メチレンで抽出し、水洗後硫酸マグ
ネシウムにて乾燥する。溶媒を留去し、酸化アルミニウ
ムカラムクロマトグラフィーにて精製しく展開液n−ヘ
キサン/酢酸エチル= 171 ) 、表記の化合物を
2.88g得た。(純度94%、収率60チ)19Fn
mr (CDCty/DMSO−d o ):δ28.
5 (d 、 2F 、 Jrr=4.3 Hz)31
.5(d、IP、Jrr=4.3Hz )IR(nea
t)       :1735 (C=0 ) 、 1
640 (C=C) 。
Synthesis Example 1 5-chloro-2,4,6-)lifluoro-bis(acryloyloxyethyl)inphthalate 5-chloro-2,
4,6-)lifluoroisophthalic acid 25.51 (10
0 mmol) and a catalytic amount of dimethylformamide were added to thionyl chloride 50- and refluxed for 2 hours. Thionyl chloride was distilled off under reduced pressure, and 5-chloro-2,
4,6-)lifluoroisophthalic acid chloride in 26.
I got 2g. (Yield 90%). Tetrafluoroisophthalic acid chloride 2.92. ! 9 (10 mmol) was dissolved in 20 mmol of dry methylene chloride, and 2.55 mmol of hydroxyethyl acrylate containing 2000 ppm of methylhydroquinone as a polymerization inhibitor was prepared under a nitrogen stream.
2 mmol). Pyridine after water cooling 1.741
(22 mmol) was added dropwise. After further stirring for 2 hours at room temperature, water was added, extracted with methylene chloride, washed with water, and dried over magnesium sulfate. The solvent was distilled off, and the residue was purified by aluminum oxide column chromatography using a developing solution (n-hexane/ethyl acetate = 171) to obtain 2.88 g of the title compound. (Purity 94%, yield 60%) 19Fn
mr (CDCty/DMSO-do): δ28.
5 (d, 2F, Jrr=4.3 Hz) 31
.. 5(d,IP,Jrr=4.3Hz)IR(nea
t): 1735 (C=0), 1
640 (C=C).

1780(C=C) なお、合成例の中で”F’nmrは19pの核磁気共鳴
(NMR)分光法による分析を示し、δは外部標準とし
てトリフルオロ酢酸を使用して測定した化合物分子内の
 Fの化学シフト値(ppm)、dは該化学シフト値に
おける吸収ピークが二重線であることを、Sは一重線で
あることを夫々示す。
1780 (C=C) In the synthesis example, "F'nmr" indicates the analysis by nuclear magnetic resonance (NMR) spectroscopy of 19p, and δ indicates the intramolecular content of the compound measured using trifluoroacetic acid as an external standard. In the chemical shift value (ppm) of F, d indicates that the absorption peak at the chemical shift value is a doublet, and S indicates that it is a singlet.

JFFは分子内のF原子同士のスピン結合にもとづくカ
ップリング定数を示し、Hzは周波数ヘルツを示す。
JFF represents a coupling constant based on spin coupling between F atoms in a molecule, and Hz represents a frequency in Hertz.

IRはKBr錠剤法による赤外分光分析の結果のうち主
要吸収帯の波数(cIn−1)を示す。
IR indicates the wave number (cIn-1) of the main absorption band among the results of infrared spectroscopic analysis using the KBr tablet method.

合成例2 5−クロロ−2,4,6−)リフルオロ−ビス(アクリ
ロイルオキシエトキシエチル)イソフタレート 合成例1に於いて、ハイドロオキシエチルアクリレート
の代りに、ハイドロオキシエトキシエチルアクリレート
3.521 (22mmol )を用い合成例1と同様
にして表記化合物を3.46 #得た。
Synthesis Example 2 5-Chloro-2,4,6-)lifluoro-bis(acryloyloxyethoxyethyl)isophthalate In Synthesis Example 1, 3.521 (22 mmol) of hydroxyethoxyethyl acrylate was used instead of hydroxyethyl acrylate. ) to obtain 3.46 # of the title compound in the same manner as in Synthesis Example 1.

(純度95%、収率61チ) 19Fnmr(CDCl2)   :δ29.0 (d
 、 2F 、 JFF=4.3Hz )32.0 (
d 、 I F 、 JFF= 4.3H2)IR(n
eat)     : 1735(C=C)、1640
(C=C)。
(Purity 95%, yield 61cm) 19Fnmr (CDCl2): δ29.0 (d
, 2F, JFF=4.3Hz) 32.0 (
d, I F, JFF=4.3H2)IR(n
eat): 1735 (C=C), 1640
(C=C).

1780(C=C) 合成例3 5−クロロ−2,4,6−トリフルオロービス(メタク
リロイルオキシイソプロピル)イソフタレート 合成例1に於いてハイドロオキシエチルアクリレートの
代シにハイドロオキシイソゾロビルメタアクリレート3
.48.9を用い、合成例1と同様にして表記化合物を
3.279得た。(純度93チ。
1780 (C=C) Synthesis Example 3 5-Chloro-2,4,6-trifluorobis(methacryloyloxyisopropyl)isophthalate In Synthesis Example 1, hydroxyisozorobyl methacrylate was substituted for hydroxyethyl acrylate. 3
.. Using 48.9, the title compound 3.279 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1. (Purity 93chi.

収率60%) 19Fnmr(CDCl2)  :δ28.8(d 、
2F、JFF=4.5Hz)31.8 (d 、 I 
F 、 JPIP=4.5Hz )IR(neat) 
   :1740(C=C) 、1650(C=C) 
Yield 60%) 19Fnmr (CDCl2): δ28.8 (d,
2F, JFF=4.5Hz) 31.8 (d, I
F, JPIP=4.5Hz)IR(neat)
:1740(C=C), 1650(C=C)
.

1780(C=C) 合成例4 5−クロロ−2,4,6−トリフルオロ−ビス(メタク
リロイルオキシ−2−ハイドロオキシゾロビル)インフ
タレート 5−クロロ−2,4,6−)リフルオロイソフタル酸2
5.4 fi (100mmol )をアセトニトリ#
 200−に溶解させ、窒素気流下で重合禁止剤として
メチルハイドロキノン2000 ppm を含itグリ
シジルメタクリレート31.2JF (220mmol
 )及び触媒としてトリエチルベンジルアンモニウムク
ロライド0.45 g(2mmol )を加える。リフ
ラックス下で8時間攪拌後水を加え、塩化メチレンで抽
出し、水洗後、硫酸マグネシウムにて乾燥する。溶媒を
留去し、酸化アルミニウムカラムクロマトグラフィーに
て精製しく展開液:n−ヘキサン/酢酸エチル=1/1
 )表記化合物を27.1.9得た。
1780 (C=C) Synthesis Example 4 5-chloro-2,4,6-trifluoro-bis(methacryloyloxy-2-hydroxyzolobyl) inphthalate 5-chloro-2,4,6-)lifluoroisophthalate acid 2
5.4 fi (100 mmol) in acetonitrile #
Glycidyl methacrylate 31.2JF (220 mmol) containing 2000 ppm of methylhydroquinone as a polymerization inhibitor was dissolved in 200-glycidyl methacrylate under a nitrogen stream.
) and 0.45 g (2 mmol) of triethylbenzylammonium chloride as a catalyst. After stirring for 8 hours under reflux, water was added, extracted with methylene chloride, washed with water, and dried over magnesium sulfate. The solvent was distilled off and purified by aluminum oxide column chromatography.Developing solution: n-hexane/ethyl acetate = 1/1
) The title compound 27.1.9 was obtained.

(純度95チ、収率48チ) 19Fnmr(CDC43)  :δ47.1 (d 
、JFF=18.55Hz )81.6 (d a d
 # Jyv=9.93Hz +18.55Hz) IR(neat)    :1730(C=C)−16
40(C=C) 。
(Purity 95cm, yield 48cm) 19Fnmr (CDC43): δ47.1 (d
, JFF=18.55Hz )81.6 (d a d
# Jyv=9.93Hz +18.55Hz) IR (neat): 1730 (C=C)-16
40 (C=C).

1770(C=C) 、3450(0−H)上記の製造
法に従って合成できる化合物の具体的な例としては表−
1の如くであるが、これは単なる例示であシ、従って化
合物例としてはこれのみに限定されないことは言うまで
もない。なお、以後の説明では表−1の化合物番号を使
用することがある。
1770 (C=C), 3450 (0-H) Specific examples of compounds that can be synthesized according to the above production method are shown in Table-
1, but this is merely an example, and it goes without saying that the compound examples are not limited to this. In addition, in the subsequent explanation, the compound numbers in Table 1 may be used.

本発明化合物は単独で硬化被覆剤とすることもできるが
、通常は被膜形成樹脂である接合剤と併用し、該樹脂の
粘度を低下させて用いる。
Although the compound of the present invention can be used alone as a cured coating material, it is usually used in combination with a binder, which is a film-forming resin, to lower the viscosity of the resin.

本発明で用いる接合剤としては、分子中に(メタ)アク
リロイル基など重合性反応基を少なくとも1つを含む高
分子量の化合物であシ、エポキシ系、エステル系、ウレ
タン系、エーテル系の(メタ)アクリレート、およびこ
れらの油脂変性物、ポリブタジェンの(メタ)アクリレ
ート変性物。
The bonding agent used in the present invention is a high molecular weight compound containing at least one polymerizable reactive group such as (meth)acryloyl group in the molecule, epoxy type, ester type, urethane type, or ether type (meth). ) acrylates, and oil- and fat-modified products thereof, (meth)acrylate-modified products of polybutadiene.

不飽和ポリエステルなどが挙げられる。例えばエステル
系(メタ)アクリレートとしては、多塩基性酸と多価ア
ルコールとから得られるポリエステルの(メタ)アクリ
レートがあシ、代表的なものとして下記のものが挙げら
れる。
Examples include unsaturated polyester. For example, ester-based (meth)acrylates include polyester (meth)acrylates obtained from polybasic acids and polyhydric alcohols, and representative examples include the following.

本発明の化合物は1〜100重量%、好ましくは5〜7
0重量%の割合で放射線硬化可能な組成物中に存在する
ことができる。
The compounds of the invention may be 1 to 100% by weight, preferably 5 to 7% by weight.
It can be present in the radiation-curable composition in a proportion of 0% by weight.

本発明の化合物は粘稠な放射線硬化可能樹脂の粘度を効
果的に減少させる。また本発明化合物を用いた放射線重
合可能な組成物は高エネルギー放射線、例えば紫外線、
電子線、X線、γ線など好ましくは紫外線によって全体
が硬化し、揮発性成分を放出しない。
The compounds of this invention effectively reduce the viscosity of viscous radiation curable resins. Furthermore, radiation-polymerizable compositions using the compounds of the present invention may be treated with high-energy radiation, such as ultraviolet radiation,
The entire body is cured by electron beams, X-rays, gamma rays, etc., preferably ultraviolet rays, and volatile components are not released.

紫外線を用いて重合を行なう場合には通常光重合開始剤
を使用するが、この目的に普通に用いられる任意の化合
物でよい。例えばアセトフェノン類(アセトフェノン、
p−t−ブチルトリクロロアセトフェノン、2.2−ソ
エトキシアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、
2,2−ジメトキシ−2−7エニルアセトフエノンなど
)、チオキサントン類(チオキサントン、2−クロロチ
オキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソブ
チルチオキサントンなど)、ミヒラーケトン類(4,4
’−ビスジメチルアミノベンゾフェノンなど)、ベンツ
インエーテル類(ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンブチルエーテルなど)、ベンジルジメチルケタールな
どが使用可能である。
When polymerization is carried out using ultraviolet light, a photopolymerization initiator is usually used, but any compound commonly used for this purpose may be used. For example, acetophenones (acetophenone,
pt-butyltrichloroacetophenone, 2,2-soethoxyacetophenone, trichloroacetophenone,
2,2-dimethoxy-2-7enylacetophenone, etc.), thioxanthone (thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isobutylthioxanthone, etc.), Michler ketones (4,4
'-bisdimethylaminobenzophenone, etc.), benzine ethers (benzoin methyl ether, benzoin butyl ether, etc.), benzyl dimethyl ketal, etc. can be used.

上述の光重合開始剤は、本発明の化合物を用いた放射線
重合可能な組成物の使用目的によシ該組成物に対して0
.2〜20好ましくは1〜8重量%で用いることができ
、これは単独でも成るいは相剰効果のために互いに組み
合わせて使用することができる。重合反応性をさらに増
加させる有効な添加剤は三級アミン(例えばトリエチル
アミンなどである)、フォスフイン又はチオエーテルな
どがある。これらの物質は本発明の組成物に対し、0〜
5重量%の量で用いることが好ましい。
The above-mentioned photoinitiators may be used in a radiation-polymerizable composition using a compound of the present invention, depending on the intended use of the composition.
.. It can be used in amounts of 2 to 20%, preferably 1 to 8% by weight, which can be used alone or in combination with each other for synergistic effect. Useful additives to further increase polymerization reactivity include tertiary amines (such as triethylamine), phosphine or thioethers. These substances are added to the composition of the present invention in a range of 0 to
Preferably, it is used in an amount of 5% by weight.

本発明の化合物は他のビニル重合を行いうる任意の系と
同様に高度の貯蔵安定性を得るため重合禁止剤を添加す
る方が好ましい。ここで用いられる重合禁止剤としては
、例えばp−メトキシフェノール、ヒドロキノン、ジ−
t−ブチル−p−ルゾール、ヒドロキノンモノメチルエ
ーテルナトのフェノール化合物またはフェノチアジンな
どがあげられる。添加量は、必要な安定度及び安定剤の
添加によって生じる反応性の損失の許容度によって決定
される。安定剤の種類及び最適量は、安定剤の濃度を変
えて時に応じて行なわれる濃度試験によって決定すれば
よい。一般に安定剤は放射線硬化可能組成物に対しo、
ooi〜1.0重量%の量で加えられる。
In order to obtain a high degree of storage stability of the compounds of the present invention, as with any other system capable of carrying out vinyl polymerization, it is preferable to add a polymerization inhibitor. Examples of the polymerization inhibitor used here include p-methoxyphenol, hydroquinone, di-
Examples include phenolic compounds such as t-butyl-p-luzole, hydroquinone monomethyl ether, and phenothiazine. The amount added is determined by the required stability and the tolerance for loss of reactivity caused by the addition of the stabilizer. The type and optimum amount of stabilizer may be determined by occasional concentration tests at varying concentrations of stabilizer. Stabilizers are generally used in radiation curable compositions.
It is added in an amount of ooi to 1.0% by weight.

本発明の化合物を用いてつくられる放射線硬化可能組成
物は木材、紙、カードデート、プラスチックス、レザー
、金属、織物、セラミックス、電子部品、プリント基板
などに対する被覆剤、含浸剤、オフセットインキ、グラ
ビアインキなどのインキ及び接着剤、フォトレジストな
どのエレクトロニクス素材として用いるのに適している
。又、これらの用途において必要によシスリップ剤、つ
や消し剤、消泡剤、レベリング剤なども併用することが
できる。
Radiation-curable compositions prepared using the compounds of the present invention can be used as coatings, impregnation agents, offset inks, gravure inks for wood, paper, card dates, plastics, leather, metals, textiles, ceramics, electronic components, printed circuit boards, etc. Suitable for use as inks and adhesives, photoresists, and other electronic materials. In addition, in these applications, a slip agent, a matting agent, an antifoaming agent, a leveling agent, etc. can also be used in combination, if necessary.

(発明の効果) 以下本発明化合物の効果を具体的に説明するため代表的
な試験例を示す。但しこれらは単なる例示であシ本発明
の適用例はこれらのみに限られないことは言うまでもな
い。
(Effects of the Invention) Representative test examples will be shown below to specifically explain the effects of the compounds of the present invention. However, these are merely examples, and it goes without saying that the application examples of the present invention are not limited to these.

試験例1 各モノマーに光重合開始剤としてダロキュア−1173
(メルク社製2−ヒドロキシ−2−メチ#−1−フェニ
ルゾロノ臂ンー1−オン)4.8重fチおよびベンゾフ
ェノン1.2重量%を加え均一に溶解させたのち、その
溶液を3ミルのアプリケーターでガラス板上に塗布し、
紫外線照射を行いタック(指触乾燥)がなくなるまでの
照射回数を測定しその硬化性を試験した。その結果を下
表に示す。
Test Example 1 Darocure-1173 was added to each monomer as a photopolymerization initiator.
(Merck & Co., Ltd. 2-hydroxy-2-methyl #-1-phenylzoronone-1-one) 4.8 weight percent and 1.2 weight percent of benzophenone were added and dissolved uniformly, and the solution was mixed with 3 mil. Apply it on the glass plate with an applicator,
The curing properties were tested by irradiating ultraviolet rays and measuring the number of irradiations until the tackiness (dryness to the touch) disappeared. The results are shown in the table below.

照射条件二うンプ出カニ80W/l−m(オゾン有ラン
プ)ラング高さ:1255m コンベアスピード:15m/min 〔使用装置:ユニキエアシステムUVC−183(ウシ
オ電機社製)〕 試験例−2 試験例−1と同様な配合、処理を行い、同様な試験を行
った。但し、試験例−1の照射条件のうち、ランプ出カ
ニ160W/crn(オゾン有ランプ)とした。
Irradiation conditions Two pump output crabs 80W/l-m (lamp with ozone) Rung height: 1255m Conveyor speed: 15m/min [Equipment used: Uniqui Air System UVC-183 (manufactured by Ushio Inc.)] Test example-2 The same formulation and treatment as in Test Example 1 were performed, and the same test was conducted. However, among the irradiation conditions of Test Example-1, the lamp output was 160 W/crn (lamp with ozone).

試験例−3 ウレタン系オリゴマーのフォトマー6008(ダイヤモ
ンドジャムロックケミカルス社製品)40部に本発明化
合物60部または比較化合物トリエチレングリコールジ
アクリレート60部およびベンゾフェノン3部およびダ
ロキエア−1173(3部)を均一配合した。各々の混
合物の粘度はB型粘度計によシ20℃で測定した。耐摩
耗性は脱脂処理したブリキ板上に3ミルアプリケーター
で混合物を塗布しその直後160 W/cmの強度を有
する高圧水銀灯の下12.53のところで10m/Se
eで通過させた後、その塗面をメチルエチルケトンを浸
した脱脂綿でこすシ表面に変化が生じるまでのこすシ回
数でもって示した。耐水性は、得られた塗膜について沸
とう水中に10時間浸漬後の表面状態の変化の有無で示
した。その結果を下表に示す。
Test Example 3 60 parts of the compound of the present invention or 60 parts of the comparative compound triethylene glycol diacrylate, 3 parts of benzophenone, and Dalochea-1173 (3 parts) were uniformly added to 40 parts of urethane oligomer Photomer 6008 (product of Diamond Jamrock Chemicals). It was blended. The viscosity of each mixture was measured at 20° C. using a B-type viscometer. Abrasion resistance was measured by applying the mixture on a degreased tin plate with a 3 mil applicator and immediately applying it under a high-pressure mercury lamp with an intensity of 160 W/cm at 10 m/Se at 12.53 m/Se.
After the coating was passed through the test tube, the coated surface was rubbed with absorbent cotton soaked in methyl ethyl ketone.The number of times of rubbing until a change occurred on the surface was measured. Water resistance was indicated by the presence or absence of a change in the surface condition of the resulting coating film after it was immersed in boiling water for 10 hours. The results are shown in the table below.

試験例−4 試験例−3と同様な配合を行い、同様な試験を行った。Test example-4 The same formulation as in Test Example 3 was used, and the same test was conducted.

但し、試験例−3の照射条件のうち、照射回数を4回と
した。その結果を下表に示す。
However, among the irradiation conditions of Test Example-3, the number of irradiations was 4 times. The results are shown in the table below.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは水素またはメチル基、Aは −OCH_2CH_2−基、▲数式、化学式、表等があ
ります▼基または▲数式、化学式、表等があります▼基
、nは1〜4の整数をそれぞれ表わす。) にて表わされるイソフタル酸誘導体。
(1) Formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R is hydrogen or methyl group, A is -OCH_2CH_2- group, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ groups or ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. isophthalic acid derivatives represented by ▼ group, n each represents an integer from 1 to 4).
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016031829A1 (en) * 2014-08-26 2016-03-03 株式会社トクヤマデンタル Polymerizable monomer, curable composition and resin member
JP2017105770A (en) * 2015-12-09 2017-06-15 住友化学株式会社 Compound, resin, resist composition, and method for producing resist pattern

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