JPS62234118A - Optical beam scanner and production thereof - Google Patents
Optical beam scanner and production thereofInfo
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Landscapes
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
本発明は、走査ビームの収差が全走査領域で均等に低減
する最適入射波を発生する収差補正用ホログラムレンズ
を有する光ビーム走査装置、および該ホログラムレンズ
の作成方法において、収差補正用ホログラムレンズの作
成波の波長は再生波である半導体レーザ光より短かくし
、球面収差波、もしくは非点収差波を参照波とし、コマ
収差波を物体波として、収差補正用ホログラムレンズを
作成する方法である。Detailed Description of the Invention [Summary] The present invention provides a light beam scanning device having an aberration correction hologram lens that generates an optimal incident wave in which the aberration of a scanning beam is uniformly reduced in the entire scanning area, and the hologram lens. In the production method, the wavelength of the wave created for the aberration correction hologram lens is made shorter than that of the semiconductor laser light that is the reproduced wave, the spherical aberration wave or astigmatism wave is used as the reference wave, and the coma aberration wave is used as the object wave to correct the aberration. This is a method of creating a correction hologram lens.
本発明は、最適入射波を発生する収差補正用ホログラム
レンズを有する光ビーム走査装置、および該ホログラム
レンズの作成方法に関する。The present invention relates to a light beam scanning device having an aberration-correcting hologram lens that generates an optimal incident wave, and a method for producing the hologram lens.
レーザプリンタのような高精度直線走査スキャナの低価
格化を実現するものとして、ホログラムを用いた光ビー
ム走査装置が注目されている。本出願人らは既出側の特
願昭６０−１６８８３０において、半導体レーザと走査
用ホログラムレンズ、及び収差補正用ホログラムレンズ
を用いた簡素な高精度直線走査を行う光ビーム走査装置
を提案した。これは、半導体レーザ光を位置的に空間周
波数分布が異なり高速に回転する走査用ホログラムレン
ズに入射することにより、走査ビームとしてフォトコン
ドラム上に走査させるものであり、その際半導体レーザ
光源と走査用ホログラムレンズの間に収差補正用ホログ
ラムレンズを配置することにより走査用ホログラムレン
ズで発生する非点及びコマ収差を該収差補正用ホログラ
ムレンズで補正し、また上記３素子を適切に配置して、
半導体レーザ光源のモードホップによる影響を最小限に
抑えることを可能にしている。この時、フォトコンドラ
ム上で走査ビームが最も小さく絞り込まれるように収差
補正を行うことを可能にする走査用水ログラムレンズ及
び収差補正用ホログラムレンズを作成する。2. Description of the Related Art Optical beam scanning devices using holograms are attracting attention as a means of reducing the cost of high-precision linear scanning scanners such as laser printers. In an already filed Japanese Patent Application No. 168830/1983, the present applicants proposed a light beam scanning device that performs simple, high-precision linear scanning using a semiconductor laser, a scanning hologram lens, and an aberration correction hologram lens. This is a method in which a semiconductor laser beam is incident on a scanning hologram lens that rotates at high speed and has a spatial frequency distribution that differs depending on the position, thereby scanning the photoconductor drum as a scanning beam. At this time, the semiconductor laser light source and the scanning By arranging an aberration correcting hologram lens between the scanning hologram lenses, astigmatism and coma aberration occurring in the scanning hologram lens are corrected by the aberration correcting hologram lens, and the above three elements are appropriately arranged,
This makes it possible to minimize the effects of mode hops in the semiconductor laser light source. At this time, a scanning hydrogram lens and an aberration correction hologram lens are created, which make it possible to perform aberration correction so that the scanning beam is narrowed down to the smallest size on the photocondrum.
しかし前記従来技術では、走査ビームの収差が結像面の
走査中心で最も小さくなるように設定を行っていた。し
かし、高品位のレーザプリンタにおける印字では、少な
（とも３００ｄｐｉ （ドツト／インチ）以上の解像度
が要求されており、そのためには走査ビームの収差を走
査中心だけでなく走査端でも均等に低減する必要がある
。However, in the prior art, settings are made so that the aberration of the scanning beam is minimized at the scanning center of the imaging plane. However, printing with high-quality laser printers requires a resolution of at least 300 dpi (dots/inch), and to achieve this, it is necessary to reduce the aberration of the scanning beam evenly not only at the center of the scan but also at the edge of the scan. There is.
そこで本出願人らは昭和６１年３月２０日出願の特許側
（／Ｌ）で走査ビームの収差が全走査領域で均等に低減
するように走査用ホログラムレンズへの最適入射波の決
定方法について提案した。しかし、上記最適入射波を発
生するための収差補正用ホログラムレンズの作成方法に
ついては述べていなかった。Therefore, the present applicants have proposed a method for determining the optimal incident wave to a scanning hologram lens in order to reduce the aberration of the scanning beam evenly in the entire scanning area in a patent filed on March 20, 1986 (/L). Proposed. However, there is no mention of a method for creating an aberration-correcting hologram lens for generating the above-mentioned optimal incident wave.
本発明は上記問題点を除くために、最適入射波を発生す
る収差補正用ホログラムレンズを有する光ビーム走査装
置、および該収差補正用ホログラムレンズの実用的な作
成方法を提供することを目的とする。In order to eliminate the above-mentioned problems, it is an object of the present invention to provide a light beam scanning device having an aberration-correcting hologram lens that generates an optimal incident wave, and a practical method for producing the aberration-correcting hologram lens. .
本発明は上記問題点を解決するために、位置的に空間周
波数の分布が異なり、半導体レーザ光である入射波を回
折させてビーム走査を行う走査用ホログラムレンズ（２
２）と、半導体レーザから出射される発散波該ホログラ
ムレンズからの走査ビームの全走査領域での複数の集束
点における収差を均等に低減する波面を有する前記入射
波に変換する収差補正用ホログラムレンズ（１２）とを
有することを特徴とする光ビーム走査装置、及び、その
製造方法を提供するものである。In order to solve the above-mentioned problems, the present invention has developed a scanning hologram lens (2) in which the distribution of spatial frequencies differs depending on the position and the beam is scanned by diffracting an incident wave, which is a semiconductor laser beam.
2) and an aberration correction hologram lens that converts the diverging wave emitted from the semiconductor laser into the incident wave having a wavefront that uniformly reduces aberrations at a plurality of focal points in the entire scanning area of the scanning beam from the hologram lens. (12) A light beam scanning device and a method for manufacturing the same are provided.
上記手段おいて、まず、再生時の入射波（２６）の波長
（λ２）より短い波長（λ１）を有する波面を補助光学
系を通してコマ収差波とし、これを再生時の走査用ホロ
グラムレンズ（２２）への最適入射波（２６）の波面に
対応する波面と、再生時の波長（λ２）と作成時の波長
（λ１）の波長の差によって生ずる収差を補正する波面
とを有する収差波（１４）に代用する。これをホログラ
ムレンズ（１２）の作成波として用いることにより、再
生波長（λ２）において最適入射波（２６）を発生する
ホログラムレンズを作成することが可能となる。また、
収差補正用ホログラムレンズの作成方法も与えている。In the above means, first, a wavefront having a wavelength (λ1) shorter than the wavelength (λ2) of the incident wave (26) during reproduction is passed through the auxiliary optical system to become a coma aberration wave, and this is converted into a coma aberration wave by the scanning hologram lens (22) during reproduction. ), the aberrated wave (14 ) instead. By using this as a wave for creating the hologram lens (12), it is possible to create a hologram lens that generates the optimum incident wave (26) at the reproduction wavelength (λ2). Also,
It also provides a method for creating a hologram lens for aberration correction.
以下、本発明の実施例につき詳細に説明を行う。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
（本発明の詳細な説明（第２図））
上記実施例の説明を詳細に行う。まず、収差補正用ホロ
グラムレンズ１２を用いた光ビーム走査装置の構成を第
２図に示す。再生波である半導体レーザ２１からの波長
λ２の発散波２５は、収差補正用ホログラムレンズ１２
により走査ビーム２７の最適な収差補正をする入射波２
６に変換される。そしてこの入射波２６がモータ２３に
よって回転する走査用ホログラムレンズ２２に入射し、
それにより得られる走査ビーム２７はフォトコンドラム
２４上の集束点２８に集束し走査される。(Detailed Description of the Present Invention (FIG. 2)) The above embodiment will be described in detail. First, FIG. 2 shows the configuration of a light beam scanning device using an aberration correcting hologram lens 12. A diverging wave 25 of wavelength λ2 from the semiconductor laser 21, which is a reproduced wave, is transmitted to the aberration correction hologram lens 12.
The incident wave 2 provides optimal aberration correction of the scanning beam 27 by
6. This incident wave 26 then enters the scanning hologram lens 22 rotated by the motor 23,
The resulting scanning beam 27 is focused on a focal point 28 on the photocondrum 24 and scanned.
そして走査ビーム２７は、全走査領域で収差が均等に低
減される。走査ビーム２７の収差が全走査領域で均等に
低減する最適な入射波２６の決定方法については、昭和
６１年３月２０日出願の特許願（１２）で述べたが、そ
の決定手順につき簡単に述べる。The aberrations of the scanning beam 27 are uniformly reduced over the entire scanning area. The method for determining the optimal incident wave 26 that reduces the aberration of the scanning beam 27 uniformly over the entire scanning area was described in Patent Application (12) filed on March 20, 1985, but the determination procedure will be briefly described below. state
今、フォトコンドラム２４上で走査される２ｎ＋１点で
の実際の走査ビーム２７の位相をφふ（ｘ、ｙ）、
（ｉ＝ｏ、 ±１．・・・±ｎ）とする。ただし、ｘ
ｙ平面上に走査用ホログラムレンズ２２が配置されてい
るとしく第２図）、この位相はＸｒ ｙ方向の関数と
する。そして必要な波面である無収差となる２ｎ＋１点
での位相をφ比’ｒ （ｘ＋ ｙ）とすると、
Ｅ”＝、、斜ｙ ＋ｌ＜ｌ’ｏｕｙ （ｘ、 ｙ）
ａｉｒ （ｘ、ｙ））ｄｓ・ ・ ・（１）
が最小となるような入射波２６の位相φ、Ｎを決定すれ
ばよい。但し、（ｘ、 ｙ）は、走査用ホログラムレ
ンズ２２に入射する入射波の再生領域Ｓ内の座標である
。（１１を最小とするようなφ、Ｎと無収差位相φ客（
ｘ、 ｙ）との関係は、で決定される。ただし、ＷＩ
は走査領域の各点での重みであり、またφ（、＋ （ｘ
、 ｙ）は走査用ホログラムレンズ２２の位相伝達関
数であり、作成時に物体波と参照波の位相差として予め
決定されている。Now, the phase of the actual scanning beam 27 at 2n+1 points scanned on the photoconductor drum 24 is expressed as φ(x, y).
(i=o, ±1...±n). However, x
Assume that the scanning hologram lens 22 is arranged on the y plane (Fig. 2), and this phase is a function of the Xr and y directions. Then, if the phase at the 2n+1 point, which is the necessary wavefront and has no aberration, is φ ratio 'r (x+ y), then E''=,, slope y +l<l'ouy (x, y)
What is necessary is to determine the phases φ and N of the incident wave 26 such that air (x, y)) ds (1) is minimized. However, (x, y) are the coordinates within the reproduction area S of the incident wave that enters the scanning hologram lens 22. (φ, N and aberration-free phase φ that minimize 11 (
The relationship with x, y) is determined by: However, W.I.
is the weight at each point in the scanning area, and φ(, + (x
, y) is the phase transfer function of the scanning hologram lens 22, and is predetermined as the phase difference between the object wave and the reference wave at the time of creation.
上記関係式から、第２図の実施例においては半導体レー
ザ２１からの発散波２５を（２）式で表わされる入射位
相φ、Ｎを有する最適な入射波２６に変換するホログラ
ムレンズ１２を作成すればよい。From the above relational expression, in the embodiment shown in FIG. 2, it is necessary to create the hologram lens 12 that converts the diverging wave 25 from the semiconductor laser 21 into the optimal incident wave 26 having the incident phase φ, N expressed by equation (2). Bye.
次に、走査用ホログラムレンズ２２の一実施例として本
出願人らが、既特許出願した方法（特開昭６０−１９４
４１９ ）を用いることとする。なお、この方法ではホ
ログラムディスクの偏心、および、面ぶれによる走査位
置変動の影響が小さく、ブラッグ角条件を満足し、先便
用効率が高いという利点を有している。この走査用ホロ
グラムレンズ２２に対して、収差補正用のホログラムレ
ンズ１２の再生波は半導体レーザ光であり、その波長λ
２は平均して７８７ｎｍ程度である。これに対してホロ
グラム作成時においては、再生波長より短い波長λ１を
有するレーザ光を作成波長とする。このようなレーザ光
としては例えばλＩ＝ ４８８ｎｍのＡｒレーザ光が
ある。これは、基板１２上のホログラム作成材料１２１
として、半導体レーザ光の波長で感光する高回折効率の
材料がなく、そのためにそれより短い波長のレーザ光で
ホログラムを作成する必要があるためである。Next, as an example of the scanning hologram lens 22, the present applicant et al. applied a method (Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-194
419) will be used. Note that this method has the advantage of being less affected by eccentricity of the hologram disk and variations in scanning position due to surface wobbling, satisfying the Bragg angle condition, and having high efficiency for first use. In contrast to this scanning hologram lens 22, the reproduced wave of the aberration correction hologram lens 12 is a semiconductor laser beam, and its wavelength λ
2 is about 787 nm on average. On the other hand, when creating a hologram, a laser beam having a wavelength λ1 shorter than the reproduction wavelength is used as the creation wavelength. As such a laser beam, for example, there is an Ar laser beam with λI=488 nm. This is the hologram creation material 121 on the substrate 12.
This is because there is no material with high diffraction efficiency that is sensitive to the wavelength of semiconductor laser light, and therefore it is necessary to create holograms with laser light of a shorter wavelength.
そして（２）式で示される波面は、非点及びコマ収差を
示す複雑な波面であり、さらに前記のように作成時の波
長λ１は再生時の波長λ２より低いため、さらに収差が
助Ｈされる。しかし、このような波面は波長λ１の収束
球面波１３を第１図のように凹レンズに斜めに入射する
ことで発生できることが光線追跡によりわかった。そこ
で、再生時の波長λ２の入射波２６ （第２図）の位相
がφ、Ｈに最も近くなるように、減衰最小自乗法（ＤＬ
Ｓ法）による自動設計で最適化した。The wavefront expressed by equation (2) is a complex wavefront that exhibits astigmatism and coma aberration, and as mentioned above, the wavelength λ1 at the time of creation is lower than the wavelength λ2 at the time of reproduction, so the aberrations are further increased. Ru. However, it has been found through ray tracing that such a wavefront can be generated by making a convergent spherical wave 13 of wavelength λ1 obliquely incident on a concave lens as shown in FIG. Therefore, the attenuated least squares method (DL
Optimized by automatic design using S method).
（光ビーム走査装置の具体的な設計パラメータ（第３図
））
第２図のような光ビーム走査装置に用いた場合の具体的
な設計パラメータを第３図に従い以下に示す。まず、再
生用光源の半導体レーザの波長は７８７ｎｍとする。ま
た、ホログラムディスク２２の作成波３１．３２は波長
３２５ｎｍのＨｅ−Ｃｄレーザ光とし、出射点ＡＩ、Ａ
２からディスク面までの距離ｆＭ＋−ｆＨ２−１２５，
７Ｎとする。次に、このようにして作成されたホログラ
ムディスク２２の有効半径Ｒ’＝４０ｎ、入射波２６の
入射角または走査ビーム２７の出射角θｏ −４７，２
５°とする。さらに、第３図でａ−１０龍、ａ ｖ＝
５０．８２ ｍ。(Specific Design Parameters of Light Beam Scanning Device (FIG. 3)) Specific design parameters when used in the light beam scanning device as shown in FIG. 2 are shown below according to FIG. First, it is assumed that the wavelength of a semiconductor laser serving as a reproduction light source is 787 nm. Further, the waves 31 and 32 created for the hologram disk 22 are He-Cd laser beams with a wavelength of 325 nm, and the emission points AI, A
2 to the disk surface fM+-fH2-125,
7N. Next, the effective radius R' of the hologram disk 22 created in this way = 40n, the incident angle of the incident wave 26 or the exit angle of the scanning beam 27 θo -47,2
Set to 5°. Furthermore, in Figure 3, a-10 dragon, av=
50.82 m.
（嘆は角θ＝ １７．０３°、ホログラムレンズ１２の
回折波２６の出射角θｄ −６４，２８°と設定する。(The angle θ is set to 17.03°, and the output angle θd of the diffracted wave 26 of the hologram lens 12 is set to −64,28°.
この設定法は、特願昭６０−１６８８３０において述べ
たように、半導体レーザの波長のばらつきによる走査特
性の劣化を防止するためのものである。This setting method, as described in Japanese Patent Application No. 60-168830, is intended to prevent deterioration of the scanning characteristics due to variations in the wavelength of the semiconductor laser.
（本発明による実施例の具体的な設計パラメータ（第１
図）
次に、この光ビーム走査装置における収差補正用ホログ
ラムレンズ１２の設計パラメータについて述べる。(Specific design parameters of the embodiment according to the present invention (first
(Figure) Next, the design parameters of the aberration correction hologram lens 12 in this light beam scanning device will be described.
上記最適化による第１図の各パラメータの具体的な値を
以下に示す。まず、収束球面波１３及び参照波１６は、
波長λ＋ −４８８ｎｍのＡｒレーザ光とした。そして
、凹レンズ１１の材質はＢＫ７、屈折率は波圏λ１にお
いてＮ −１，５２２、中心厚みＤ ＝ ２０．９９龍
、曲率Ｒ−６５龍であり、ホログラム基板１２からの傾
ける角α＝ １６．９５ °、１２＝１４０鶴、β３
＝ ８３．０８ ｗｒである。また、収束球面波１３は
光軸位置Ｙ ２ ＝ １４．９４３鰭、焦点距離「−１
１１１■、入射角θ＝ ２１．６９°である。一方、参
照波１６は垂直平行波とする。Specific values of each parameter in FIG. 1 obtained through the above optimization are shown below. First, the convergent spherical wave 13 and the reference wave 16 are
An Ar laser beam with a wavelength λ+ of -488 nm was used. The material of the concave lens 11 is BK7, the refractive index is N - 1,522 in the wave sphere λ1, the center thickness D = 20.99 mm, the curvature R - 65 mm, and the tilt angle from the hologram substrate 12 is α = 16. 95°, 12=140 cranes, β3
= 83.08 wr. In addition, the convergent spherical wave 13 has an optical axis position Y 2 = 14.943 fins and a focal length of “-1
111■, and the incident angle θ=21.69°. On the other hand, the reference wave 16 is a vertical parallel wave.
（本発明による走査ビームのスポット
ダイアグラム（第４図、第５図））
上記のようにして構成される光ビーム走査装置（第２図
、第３図）によって得られる走査ビーム２７のスポット
ダイアグラムを第４図に示す。但し、第１図において、
参照波１６は垂直平行波としているため、第２図におい
て収差補正用ホログラムレンズ１２に入射する波面は、
半導体レーザの垂直平行波とする。ここでは、走査ビー
ムは、回折像で１００μｍとなるように、入射ビーム径
を決定した。一方、前記（２）式によって得られる走査
ビーム２７の理論上のスポットダイアグラムを第５図に
示す。これより、各走査領域においてほとんど理想のも
のと同一の高度な収差補正結果が得られていることがわ
かる。このようにして、３００ｄｐｉ以上の高解像度の
光ビーム走査装置を得ることができる。(Spot diagram of the scanning beam according to the present invention (FIGS. 4 and 5)) A spot diagram of the scanning beam 27 obtained by the light beam scanning device (FIGS. 2 and 3) configured as described above is shown below. It is shown in Figure 4. However, in Figure 1,
Since the reference wave 16 is a vertical parallel wave, the wavefront incident on the aberration correction hologram lens 12 in FIG.
It is assumed to be a vertical parallel wave of a semiconductor laser. Here, the incident beam diameter of the scanning beam was determined so that the diffraction image was 100 μm. On the other hand, FIG. 5 shows a theoretical spot diagram of the scanning beam 27 obtained by the above equation (2). From this, it can be seen that high aberration correction results almost identical to the ideal ones are obtained in each scanning region. In this way, a light beam scanning device with a high resolution of 300 dpi or more can be obtained.
ここで、第２図において半導体レーザの垂直平行波では
な（て、半導体レーザ２１からの発散波２５をホログラ
ムレンズ１２によって今述べた収差補正波２６に変換す
るためには、特願昭６０−１６８８３０の既出間で示し
たように、第１図における参照波１６を垂直平行波から
凸レンズを用いた球面収差波にすればよい。こうして半
導体レーザの発散ｅは、このホログラムレンズ１２によ
って仮想的に垂直平行波に変換され、この平行波は、収
差補正波２６に変換されるのである。Here, in order to convert the diverging wave 25 from the semiconductor laser 21 into the aberration correction wave 26 mentioned above by the hologram lens 12, instead of the vertical parallel wave of the semiconductor laser in FIG. 168830, the reference wave 16 in FIG. It is converted into a vertical parallel wave, and this parallel wave is converted into an aberration correction wave 26.
さらに、半導体レーザ２１の非点隔差が大きい場合には
、昭和６１年３月２０日出願の特許［（６）で本出願人
らが示したように、シリンドリカルレンズを介して得た
非点収差波面を参照波にすればよい。Furthermore, when the astigmatism difference of the semiconductor laser 21 is large, the astigmatism obtained through a cylindrical lens can be The wavefront can be used as a reference wave.
なお、第２図におけるホログラムレンズ１２及びホログ
ラムディスク２２の配置は、特願昭６０−１６８８３０
で示したように半導体レーザ２１のモードホップによる
影響及びロフトのばらつきによる発振波長の変動の影響
を防止するように設定され、ビーム整形も同時に行うよ
うに設定されている。The arrangement of the hologram lens 12 and hologram disk 22 in FIG.
As shown in FIG. 2, it is set to prevent the influence of the mode hop of the semiconductor laser 21 and the influence of fluctuations in the oscillation wavelength due to variations in loft, and is also set to perform beam shaping at the same time.
さらに、ホログラムレンズ１２としては昭和６１年３月
２０日出願の特許１１ＪＩ（２Ｓ）で作成されるホログ
ラムを用いたハイブリッドホログラムレンズを用いるこ
とも可能である。この時、昭和６１年３月２０日出願の
特許１ｆｌｉ（２！５）での参照波を、本特許の作成収
差波１４とすれば、上記同様の議論により所定の特性が
得られる。Further, as the hologram lens 12, it is also possible to use a hybrid hologram lens using a hologram created in Patent No. 11JI (2S) filed on March 20, 1985. At this time, if the reference wave in patent 1fli (2!5) filed on March 20, 1985 is made into the created aberration wave 14 of this patent, predetermined characteristics can be obtained by the same argument as above.
本発明によれば、走査ビームの収差を全走査領域で均等
に低減し、高解像度の光ビーム走査を実現することがで
きる光ビーム走査装置、およびホログラムレンズの実用
的な作成方法を提供することが可能となる。According to the present invention, it is an object of the present invention to provide a light beam scanning device capable of uniformly reducing the aberration of a scanning beam over the entire scanning area and realizing high-resolution light beam scanning, and a practical method for creating a hologram lens. becomes possible.
第１図は、本発明による光ビーム走査装置におけるホロ
グラムレンズの作成方法の実施例の構成図、
第２図は、光ビーノ、走査装置の構成図、第３図は、光
ビーム走査装置の具体的な設計例を示した図、
第４図（ａ）、 （ｂ）、 （Ｃ）は、本発明により作
成されたホログラムレンズによる走査ビームのスポット
ダイアグラム、
第５図＋ｉｌｌ、 （ｂｌ、 （Ｃ）は、最適入射波φ
、Ｎ（（２）式）による走査ビームのスポットダイアグ
ラムである。
１１・・・凹レンズ、
１２・・・収差補正用ホログラムレンズ（基板）、１３
・・・収束球面波、
１４・・・収差波、
２２・・・走査用ホログラムレンズ、
２６・・・入射波、
２７・・・走査ビーム、
２８・・・簗束点。FIG. 1 is a block diagram of an embodiment of the method for creating a hologram lens in a light beam scanning device according to the present invention. FIG. 2 is a block diagram of an optical beacon and a scanning device. FIG. 3 is a specific diagram of the light beam scanning device. Figures 4(a), 4(b), and 4(C) are diagrams showing a design example of the scanning beam created by the hologram lens according to the present invention. ) is the optimal incident wave φ
, N (formula (2)) is a spot diagram of a scanning beam. 11... Concave lens, 12... Hologram lens for aberration correction (substrate), 13
... Convergent spherical wave, 14 ... Aberration wave, 22 ... Scanning hologram lens, 26 ... Incident wave, 27 ... Scanning beam, 28 ... Glans bundle point.
Claims (1)
光である入射波（２６）を回折させてビーム走査を行う
走査用ホログラムレンズ（２２）と、半導体レーザから
出射される発散波（２５）を該ホログラムレンズ（２２
）からの走査ビーム（２７）の全走査領域での複数の集
束点（２８）における収差を均等に低減する波面を有す
る前記入射波（２６）に変換する収差補正用ホログラム
レンズ（１２）とを有することを特徴とする光ビーム走
査装置。 ２）光ビーム走査装置の製造方法において、レーザ光で
ある再生波の波長λ＿２よりも短い波長λ＿１のレーザ
光を用い、球面収差波もしくは非点収差波を参照波とし
、コマ収差波を物体波として、収差補正用ホログラムレ
ンズを作成することを特徴とする光ビーム走査装置の製
造方法。[Claims] 1) A scanning hologram lens (22) that has a spatial frequency distribution that differs depending on the position and performs beam scanning by diffracting an incident wave (26) that is a semiconductor laser beam; The diverging wave (25) is transmitted through the hologram lens (22
) for converting the scanning beam (27) from the scanning beam (27) into the incident wave (26) having a wavefront that uniformly reduces aberrations at a plurality of focal points (28) in the entire scanning area. A light beam scanning device comprising: 2) In a method for manufacturing a light beam scanning device, a laser beam having a wavelength λ_1 shorter than the wavelength λ_2 of a reproduced wave, which is a laser beam, is used, a spherical aberration wave or an astigmatism wave is used as a reference wave, and a coma aberration wave is used as an object wave. 1. A method of manufacturing a light beam scanning device, the method comprising: producing a hologram lens for aberration correction.
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6084686A JPS62234118A (en) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | Optical beam scanner and production thereof |
| CA000515003A CA1320855C (en) | 1985-07-31 | 1986-07-30 | Laser beam scanner and its fabricating method |
| DE86401720T DE3689344T2 (en) | 1985-07-31 | 1986-07-31 | Laser beam scanner and manufacturing process. |
| EP86401720A EP0214018B1 (en) | 1985-07-31 | 1986-07-31 | Laser beam scanner and its fabricating method |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6084686A JPS62234118A (en) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | Optical beam scanner and production thereof |
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| Publication Number | Publication Date |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0524490B2 (en) | 1993-04-08 |
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